TW202021660A - 用於溼式清潔氣流之裝置及方法 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於一種用於濕式清潔一氣流之裝置及方法，該裝置包含具有一氣體入口及一氣體出口之一外殼，其中在該外殼中，至少存在一第一洗滌區段，其用以用一洗滌液清潔該氣流且配置於該氣流之流動路徑中。在該裝置之該外殼內部，存在至少一個風扇，其用以調節沿著該氣流之該流動路徑的氣壓。用於繞過經由該至少一個洗滌區段之該流動路徑的一旁路通道以及配置於該旁路中且用以排放經由該旁路通道輸送的該氣流之一調節器配置於該外殼內部。

Description

用於溼式清潔氣流之裝置及方法
本發明係關於一種根據如請求項1之屬類部分的用於濕式清潔一氣流之裝置以及一種根據如請求項12之屬類部分的用於濕式清潔一氣流之方法。
當提到在半導體工業中清潔晶圓時，通常使用所謂的濕式台架，其中將含有若干晶圓的載體箱浸入一個接一個地配置的液浴(liquid bath)中。每一液浴之廢空氣被饋送至廢空氣系統中，在此過程中，要區分含有酸性化合物、鹼性化合物、揮發性有機化合物(VOC)的廢空氣與普通廢空氣。
同樣已知所謂的單晶圓濕法清潔系統，其由若干處理腔室組成，該等處理腔室允許同時單獨地處理若干晶圓，或者允許執行各種處理步驟以便清潔不同腔室中之個別晶圓。在清潔過程期間，用各種液態化學品一個接一個地噴射晶圓，接著藉由使晶圓晶圓而將其移除。除超純水外，其他典型的洗滌液包括氨溶液、硫酸、過氧化氫、臭氧處理水、氫氟酸或異丙醇。在晶圓之噴射及自旋期間，液體汽化或最終以小液滴的形式進入廢空氣通道。
若蒸氣或液滴彼此接觸，則由於鹽晶體的形成，含有氨、氫氟酸或硫酸的廢空氣流可能會在廢空氣通道中引起問題。
此等問題可藉助於用於氣流的濕式清潔之通用類型的裝置，即所謂的濕式洗滌器，來解決。原則上，濕式洗滌器非常適合自廢空氣流移除水溶性氣體。藉助於用鹼性或酸性洗滌液進行化學吸收，可將酸性及鹼性氣體減少至低含量。
濕式洗滌器用來自氣體移除固態、液態或氣態雜質，在該過程中，雜質與引入至氣流中之洗滌液結合，且接著與之一起分離出來。
普通濕式洗滌器或濕式分離器之操作模式係使得來自載有氣體或顆粒之氣流的氣體或顆粒轉移至液體中。為此目的，必須在氣體與液體之間形成適當之相界面，且必須在此等兩個相之間產生相對移動。一種達成相界面之方法(其中要儘可能充分地混合氣體與液體)由將一相分散至另一相中組成。換言之，例如，氣泡群在液體中產生，或液滴叢集在氣體中產生，或者產生其中液體以或多或少分散之射流形式存在的系統。使氣體與液體彼此接觸之另一基本方法由允許其在以液體潤濕之元件周圍循環組成。
因此，濕式洗滌器構成用於清潔廢空氣或廢氣之簡單方法，在該過程中，使待清潔之氣體與精細分散之水滴或與某一其他洗滌液以平行流(parallel current)或逆流接觸，藉此清潔載氣流。
氣體洗滌器藉由在形成相平衡之同時反覆混合及分離液相與氣相而起作用。眾所周知，液相與氣相可以平行流、交叉流或逆流進行輸送，例如可自以下獲悉：德國工程師協會(Verein Deutscher Ingenieure)之出版物VDI 3679 Blatt (Sheet) 2：2014-07，標題為「Nassabscheider; Abgasreinigung durch Absorption (Wäscher)」[Wet Separators; Waste Gas Cleaning by Absorption (Scrubbers)]，Beuth Verlag出版，第29頁。
當提到用於自氣流分離出顆粒之濕式洗滌器時，所產生之液滴通常顯著大於待分離之顆粒，且因此顆粒可藉助於液滴或液體分離器相對容易地分離出來。
濕式洗滌器可直接在形成待清潔之氣體之處使用。出於此原因，濕式洗滌器通常必須在佔據面積及高度方面遵守限制，亦即，其必須經組態以儘可能緊湊。
通用類型之濕式洗滌器具有兩個洗滌階段，其相互緊靠地配置且基於逆流原理起作用。由於氣相向液相之轉變取決於液體之有效表面，因此此等洗滌階段通常以填充塔之形式設計。填充塔通常組態成合適填料材料在穿孔篩盤上之填充物的形式，或者組態成所謂的結構化填充物之形式，其中大塊結構化材料安裝在塔中。
安裝在濕式洗滌器外部之旁路管線在半導體工業中係眾所周知的。此等旁路管線允許氣流圍繞濕式洗滌器輸送，以便在出於維護目的而必須打開濕式洗滌器時不會中斷廢空氣流。
實體尺寸構成此類系統之缺點，因為其大小有時使得難以將其運輸至其目的地或安裝地點及/或將其安裝在彼處。上述旁路管線需要額外安裝空間，且增加了安裝所涉及之作業。
在上述缺點之背景下，本發明基於以下目標：提出一種用於濕式清潔氣流之裝置及方法，其在關於大小、效率及壓力下降之特定限制方面得以最佳化。
此目標係藉由如請求項1之用於濕式清潔氣流之裝置及如請求項12之用於濕式清潔氣流之方法來達成。
根據本發明，提出一種用於濕式清潔一氣流之裝置，其包含具有一氣體入口及一氣體出口之一外殼。在該外殼中，至少存在一第一洗滌區段，其用以用一洗滌液清潔該氣流且配置於該氣流之流動路徑中。在該裝置之該外殼內部，存在至少一個風扇，其用以調節沿著該氣流之該流動路徑的氣壓。
根據本發明，用於繞過經由該至少一個洗滌區段之該流動路徑的一旁路通道以及配置於該旁路中且用以排放經由該旁路通道輸送的該氣流之一調節器配置於該外殼內部。
為了改良該濕式洗滌器之緊湊大小，該旁路通道配置在該外殼內部。以此方式，與旁路位於外殼外部的裝置相比，該裝置之總高度可大幅度減小。例如，此允許先前技術系統中所見的約2.60 m之總高度減小至根據本發明之裝置的約1.70 m之總高度。
該旁路通道可以如下方式配置在該外殼內部：其位於緊靠經提供用於該洗滌液之收集儲槽的下部區域中。
由於該旁路通道在兩個洗滌區段下方延行，因此廢空氣可自底部至頂部輸送至調節器中，且因此可平行於至該兩個洗滌區段之廢空氣管線而通向在系統之上端處的連接。
由於此設計，空氣可流過非常緊湊外殼內部的旁路通道以及洗滌區段。換言之，外殼有利地含有洗滌區段及旁路通道以及風扇及用於該等洗滌區段及該旁路通道之調節器。不再需要如同先前技術濕式洗滌器之情況一樣添加外部結構。此不僅減少空間要求，且亦減少安裝時間。
自裝置遠離之廢空氣管線可以節省空間之方式直接連接至裝置之外殼的頂部。由於裝置中空氣(在洗滌區段之後的經清潔氣流及在旁路通道中之未經清潔氣流)之不同品質，能夠連接兩個不同排放系統係有利的。然而，亦可設想例如經由Y形件合併兩個路徑。
用於調節沿著經由洗滌區段之氣流之流動路徑的氣壓之至少一個風扇可組態為軸向風扇或徑向風扇。詳言之，可使得空氣經由安裝有風扇的底板中之開口自下方在中心流動至水平葉輪。該葉輪使空氣加速向外遠離軸線，如同徑向風扇之情況。此允許達成比軸向風扇中更高之壓力。接著，空氣平行於驅動軸沿著圍繞風扇之馬達的整個圓周向上轉向。
此外，安裝有葉輪之通道可經成形以便不為圓形的，而實際上為矩形。此導致最佳地利用系統外殼中可用之空間。
可使用兩個風扇以便達成冗餘。若在經由洗滌區段之流動路徑上的風扇出故障，則第二風扇可維持在經由旁路通道之流動路徑上的上游處理設施中之經調節氣流。由於洗滌區段與旁路通道中的壓力損失不同，可對於經由裝置之兩個路徑使用極為不同之風扇。
如上所述，用於該至少一個洗滌區段之風扇可為徑向風扇，然而，其入口可在底部，且其出口可在頂部，亦即，沿著單一軸線。用以排放經由旁路通道輸送之氣流的調節器可為軸向風扇。由於兩個風扇之組態，有可能達成非常緊湊之構造，亦即，佔據面積及安裝空間可得以減小。
根據本發明之第一有利實施例，調節器組態為旁路泵或為可自動調整，尤其可調節之節流閥。調節器之使用允許在氣體出口處維持恆定壓力，即使在可變壓力流的情況下亦如此。在連接至旁路通道的廢空氣管線處存在足夠高的負壓時，較佳使用節流閥。在無法於廢空氣系統中提供必需的吸入容量時，可使用旁路泵。
根據本發明之另一有利實施例，提供擋扳元件以用於使氣體饋送在經由旁路通道之流動路徑與經由至少一個洗滌區段之流動路徑之間切換。該擋扳元件可例如藉助於驅動器而移動，尤其是轉動。此外，擋扳元件可配置於氣體入口附近。廢空氣流可自側面在第一填料材料填充物下方饋入。在擋扳元件切換時，用於洗滌區段之流動路徑或用於旁路通道之流動路徑在入口側上關閉。以此方式，僅一個單一擋扳元件即可打開用於氣流之不同流動路徑。
該擋扳元件可定位於第一洗滌區段下方，以使得洗滌液自頂部經由至少一個洗滌區段涓流至擋扳元件上，在該過程中，其藉由擋扳元件偏轉至用於洗滌液之第一收集儲槽中，而不論其位置如何。
相比之下，在先前技術裝置之情況下，例如，廢空氣首先饋送至腔室中，其接著自該腔室經由該腔室之上端輸送至旁路中或經由下端輸送至濕式洗滌器中。為此目的，有必要將閥定位在上端及下端處。兩個閥必須同步地工作，且出於此原因，其經由一桿彼此連接。可藉由根據本發明使用單一擋扳元件來避免此缺點。
在本發明之一改進中，在流動路徑中存在至少兩個較佳一個接一個地配置之洗滌區段。如同二階段濕式洗滌器之慣例，兩個洗滌區段可各自連接至用於洗滌液之收集儲槽，洗滌液可藉助於泵自該收集儲槽返回至相關洗滌區段。此類二階段組態較之於具有單一洗滌區段之情況產生對可溶氣體之顯著較高之分離能力。
根據另一實施例，旁路通道基本上在洗滌區段下方延行。旁路通道之此組態有利地出於切換空氣流之目的而僅需要單一擋扳元件。在先前技術裝置中，始終需要若干閥來導引氣流。此外，旁路通道在收集儲槽之高度處在裝置之下部區段中之佈局在頂部處提供用於經由洗滌區段之廢空氣流動路徑的更多空間。
在本發明之另一變體中，不論其位置如何，擋扳元件經組態以將洗滌液自第一洗滌區段輸送至收集儲槽中。此外，擋扳元件防止洗滌液流入旁路通道中。如所提及，擋扳元件可位於第一洗滌區段下方，以使得來自該第一洗滌區段之洗滌液經由擋扳元件饋送至收集儲槽中。用於液體之開口可設置於擋扳元件下方，且此等開口係以如下方式配置：不論擋扳元件之位置如何，存在自第一洗滌區段至收集儲槽之連接。此等開口在收集儲槽中的液位下方之結束深度可使得防止氣流通過開口。由於此配置，來自第一洗滌區段之洗滌液可自由地排出至收集儲槽中，即使在經由旁路通道輸送氣流時亦如此。
根據一有利改進，至少兩個洗滌區段並排配置於外殼中，其中氣流在相反方向上流動。由於氣流在相反方向上流動(亦即，首先與洗滌液以逆流向上流動，且隨後以平行流向下流動)之配置，氣流可自第一洗滌區段之上端直接輸送至第二洗滌區段之上端。與在兩個洗滌區段中皆具有自底部至頂部之平行流動方向的配置相比，此免除了對於連接通道及額外偏轉之需要，因此消除與此相關聯之壓力損失。換言之，兩個洗滌區段可緊鄰於彼此而建置。因此，該裝置比在兩個洗滌區段中皆具有平行流動方向的氣流之情況需要較少的安裝空間。
在另一有利變體中，至少一個液體分離器或液滴分離器設置於洗滌區段下游。液體分離器可接著設置於經由洗滌區段之流動路徑的偏轉區域中。在第一洗滌區段之下游，氣流流過液體分離器以便防止洗滌液之任何夾帶。通常，在第二洗滌區段中使用不同洗滌液。因此，未在第一洗滌區段中反應的有毒氣體之組分可更好地在第二洗滌區段中吸收。
在本發明之另一有利實施例中，洗滌區段可組態為填充塔。為此目的，穿孔篩盤可設置在洗滌區段內部，且可藉助於噴霧嘴自上方用洗滌液沖洗之填料材料填充物置放至穿孔篩盤上。
在本發明之有利改進中，可拆卸連接在第一洗滌區段與第二洗滌區段之間設置於裝置上，以使得經組裝裝置可分解為至少兩個模組。以此方式，裝置可分解為模組，以使得其可在具有窄進出路線之地點運送，甚至安裝。
根據本發明之自主構思，提出一種用於濕式清潔氣體之方法，其中將待清潔之氣流饋送至用於濕式清潔氣體之裝置中，其中該氣流至少流過第一洗滌區段及第二洗滌區段，因此用至少一種水性洗滌液清潔，且其中提供用於繞過經由該等洗滌區段之流動路徑的旁路通道，且該氣流選擇性地流過經由該等洗滌區段之流動路徑或者經由該旁路通道之流動路徑。
在本發明之方法之一有利實施例中，能夠獨立地調節兩個流動路徑中之壓力損失，以使得在兩個路徑之間切換時，氣體入口處之壓力波動可得以最小化。
該方法之一有利變體提供液體自氣流的分離，該氣流較佳攜帶有液體以減小氣流排氣濃度。
自以下參考圖式進行之實施例之描述可得出本發明之額外目的、優點、特徵及應用可能性。在此上下文中，獨立地或以任何有意義的組合所描述及/或描繪的所有特徵構成本發明之標的物，亦不論其在申請專利範圍中之編譯或其所參閱的申請專利範圍如何。
圖1展示用於濕式清潔氣流之裝置10，即所謂的濕式洗滌器。此為用於例如在半導體工業中清潔來自濕式化學製程之廢空氣的系統。在此上下文中，必須棄置生產設施中的異丙醇(IPA)、氨及氟化氫。
待清潔之廢空氣經由配置於裝置10之外殼1中的氣體入口2饋送至裝置10之清潔區段中，以使得有毒氣體可藉助於化學吸收自廢空氣移除，且可接著經由同樣配置於外殼1中的氣體出口3排放。
裝置10可在氣體入口2處配備有具有用於饋送管線的高達十二個單獨連接之合適配接器。若系統經設定尺寸以處理1000 m3 /h與4500 m3 /h之間的氣流，則在本發明實施例中，裝置之佔據面積僅僅相當於2.5 m2 ，高度大致為1.7米。
含有有毒氣體之氣流可首先饋送至預洗滌器中，且藉助於噴霧嘴9進行預洗滌。
隨後，氣流到達配置於氣流之流動路徑15中的第一洗滌區段4，以使得氣流可用洗滌液清潔。在本發明實施例中，第一洗滌區段4具有填料材料填充物或填充塔23，其中氣流自底部至頂部流過洗滌區段4。可經由安裝於填料材料填充物23上方之額外噴霧嘴21向洗滌區段4供應第一洗滌液。
如圖1中所展示，第一洗滌液經由填料材料填充物23自頂部涓流至底部。填料材料填充物23可以置放至穿孔篩盤上的合適填料材料之填充物的形式加以實施。氣流自下方饋送穿過第一洗滌區段4。以此方式，填料材料之大表面積及逆流原理確保有毒氣體自氣流之最佳吸收。
在氣流已流過第一洗滌區段4之後，其接著流過在第一偏轉區域19中位於第一洗滌區段4下游的液滴分離器或液體分離器17，以便防止洗滌液之任何夾帶。
隨後，氣流到達第二洗滌區段5，且通常，其用不同洗滌液進行洗滌。作為替代，可使用與第一洗滌區段4之洗滌液相同的洗滌液。因此，未在第一洗滌區段4中反應的有毒氣體之組分可更好地在第二洗滌區段5中吸收。在本發明實施例中，第二洗滌區段5同樣具有填料材料填充物24或填充塔，其藉助於用於第二洗滌液之額外噴霧嘴22進行噴射。氣流在與洗滌液相同之方向上自頂部至底部流過第二洗滌區段5。
在氣流已流過第二洗滌區段5之後，其接著饋送至在裝置10之第二偏轉區域20中位於第二洗滌區段5下游的第二液體分離器18中。
在本發明實施例中，兩個洗滌區段4、5一個接一個地配置在流動路徑15中，如圖1至圖3中可見。此外，洗滌區段4、5並排配置於外殼1中，其中氣流在相反方向上流動。
在本發明實施例中，為了確保裝置10之緊湊設計，第一洗滌區段4中之氣流相對於洗滌液逆流向上延行，且接著在第二洗滌區段5中，氣流向下與液體同向延行。以此方式，可免除先前技術裝置中所見之偏轉，且兩個洗滌階段4、5可以緊湊配置相互緊靠地安裝。
如亦可在圖1中所見，裝置10具有至少一個風扇6以調節裝置10之外殼1內部的沿著氣流之流動路徑15的氣壓。以此方式，系統壓力藉由風扇6調節且保持恆定。頻率較佳可調之風扇6可在整個清潔過程期間達成±10 Pa之壓力穩定性。
用於至少一個洗滌區段4之風扇6可為徑向風扇，然而其中，入口可在底部且出口可在頂部，換言之，沿著單一軸線。詳言之，可經由安裝有風扇的底板中之開口將氣流自下方集中輸送至水平葉輪。該葉輪使氣體加速向外遠離軸線，氣體自此處向上排放。風扇之驅動器配置在流動通道中的中心處且由氣流包圍。亦可使得安裝有葉輪之流動通道的形狀不為圓形而是矩形。
此外，用於繞過經由洗滌區段4、5之流動路徑15的旁路通道7以及位於旁路通道7中之調節器8配置於外殼1中以便排放經由旁路通道7輸送的氣流。流過旁路通道7中的流動路徑16之氣流經由旁路通道7之氣體出口14自裝置10排放。
調節器8可組態為可自動調整之節流閥。在本發明實施例中，調節器組態為旁路泵8。
用以排放經由旁路通道7輸送之氣流的旁路泵8可為例如軸向風扇。正由於旁路泵8以及風扇6之形狀，裝置10才有可能具有非常緊湊之設計。
由於旁路通道7，甚至在例如維護工作期間或在裝置10發生故障的情況下亦可維持氣體入口側上之壓力，以使得由裝置10之靜止造成的上游處理系統中之雜質實際上被排除。在維護工作或功能失常的情況下，氣流可經由旁路通道7繞開兩個洗滌區段4、5。
在本發明實施例中，旁路通道7基本上在洗滌區段4、5下方延行，以使得裝置10之緊湊設計得以更進一步改良。
在圖1中所示之實施例中，用於洗滌區段4、5之氣體出口3與旁路通道7之氣體出口14相互緊靠地配置在外殼1中；詳言之，風扇6與旁路泵8配置於裝置10之鄰近通道中。
作為替代，此等通道亦可一個接一個地配置在裝置中，如圖2及圖3中可見。
如亦可在圖1至圖3中所見，提供擋扳元件11以用於使氣體流動在經由旁路通道7之氣流的流動路徑16與經由至少一個洗滌區段4之流動路徑15之間切換。
此外，擋扳元件11可配置於氣體入口2附近。氣流可自側面在第一填料材料填充物23下方饋入。
不論其位置如何，擋扳元件11經組態以使得其將第一洗滌區段4之洗滌液輸送至用於第一洗滌液之收集儲槽12中。此外，第二收集儲槽13可經設置以用於第二洗滌液。亦可設想將第一洗滌液及第二洗滌液饋送至單一收集儲槽12、13中。
擋扳元件11可藉助於驅動器(此處未展示)在旁路位置與用於洗滌區段4、5之位置之間移動。
圖1以實線展示處於經由洗滌區段4、5輸送氣流之位置的擋扳元件11。圖1中之擋扳元件11之點劃線說明擋扳元件11之旁路通道位置。
圖2中之箭頭展示經由洗滌區段4、5之氣流流動路徑。擋扳元件11處於流入至氣體入口2中之氣流被輸送至第一洗滌區段4中的位置。如已經在上文詳述，氣流接著流過位於第一偏轉區域19中的液體分離器17，且進入第二洗滌區段5。隨後，氣流流過第二液體分離器18，且在風扇6的作用下經過氣體出口3自裝置10排放。
在圖2中的裝置10之描繪中未展示旁路通道7，此係因為其將阻擋具有氣體出口3之出口通道及兩個收集貯槽12、13之視圖。
經由旁路通道7之氣流之流動路徑16由圖3中之箭頭指示。亦在此情況下，氣流經由氣體入口2進入裝置10，且接著依據擋扳元件11之位置，其不輸送至第一洗滌區段4中而實際上輸送至旁路通道7中，換言之，其繞著洗滌區段4、5流動。氣流接著經由旁路通道7之氣體出口14自裝置10排放。調節器8供應使氣流流過旁路通道7所需要的壓力。
風扇6及氣體出口3之收集貯槽12、13在圖3中未描繪，此係因為其位於旁路通道7後方。
可拆卸連接可在第一洗滌區段4與第二洗滌區段5之間設置於裝置10上，以使得經組裝裝置10可分解為至少兩個模組。以此方式，組件可預組裝，其允許簡單的運輸以及裝置10在安裝地點處之快速組裝。
由於此裝置，空氣可經由緊湊外殼1內部的旁路通道7以及洗滌區段4、5輸送。不再如同用於濕式清潔氣流之先前技術裝置之情況一樣需要外部結構。此不僅減少安裝空間，且亦減少安裝時間。
1:外殼 2:氣體入口 3:氣體出口 4:第一洗滌區段 5:第二洗滌區段 6:風扇 7:旁路通道 8:調節器 9:噴霧嘴 10:裝置 11:擋扳元件 12:用於第一洗滌液之收集儲槽 13:用於第二洗滌液之收集儲槽 14:旁路通道之氣體出口 15:洗滌區段之流動路徑 16:旁路通道之流動路徑 17:液體分離器 18:液體分離器 19:偏轉區域 20:偏轉區域 21:用於第一洗滌液之噴霧嘴 22:用於第二洗滌液之噴霧嘴 23:填料材料填充物 24:填料材料填充物
在此上下文中，有時示意性地展示以下內容：
圖1為用於濕式清潔氣流之裝置，其包含兩個洗滌區段及一旁路通道；
圖2為經由洗滌區段之氣流的第一流動路徑之視圖；以及
圖3為經由旁路通道之氣流的第二流動路徑之視圖。
為清楚起見，參考實施例，相同組件或具有相同效果之組件在下圖中具備相同附圖標號。
1:外殼
2:氣體入口
3:氣體出口
4:第一洗滌區段
5:第二洗滌區段
6:風扇
7:旁路通道
8:調節器
9:噴霧嘴
10:裝置
11:擋扳元件
14:旁路通道之氣體出口
17:液體分離器
18:液體分離器
23:填料材料填充物
24:填料材料填充物

Claims (14)

  1. 一種用於濕式清潔一氣流之裝置(10)，其包含具有一氣體入口(2)及一氣體出口(3)之一外殼(1)，其中在該外殼(1)中，至少存在一第一洗滌區段(4)，其用以用一洗滌液清潔該氣流且配置於該氣流之流動路徑(15)中，且在該裝置(10)之該外殼(1)內部，存在至少一個風扇(6)，其用以調節沿著該氣流之該流動路徑(15)的氣壓，其特徵在於，用於繞過經由該至少一個洗滌區段(4)之該流動路徑(15)的一旁路通道(7)以及配置於該旁路(7)中且用以排放經由該旁路通道(7)輸送的該氣流之一調節器(8)配置於該外殼(1)內部。
  2. 如請求項1之裝置(10)，其中該調節器(8)係組態為一旁路泵。
  3. 如請求項1或2之裝置(10)，其中一擋扳元件(11)經設置以使氣體饋送在經由該旁路通道(7)之流動路徑(16)與經由該至少一個洗滌區段(4)之該流動路徑(15)之間切換。
  4. 如請求項1至3中任一項之裝置(10)，其中在該流動路徑(15)中存在至少兩個較佳一個接一個地配置之洗滌區段(4、5)。
  5. 如請求項1至4中任一項之裝置(10)，其中該旁路通道(7)基本上在該等洗滌區段(4、5)下方延行。
  6. 如請求項3至5中任一項之裝置(10)，其中不論其位置如何，該擋扳元件(11)經組態以將該洗滌液自該第一洗滌區段(4)輸送至一收集儲槽(12)中。
  7. 如請求項4至6中任一項之裝置(10)，其中該至少兩個洗滌區段(4、5)並排配置於該外殼(1)中，其中該氣流在相反方向上流動。
  8. 如請求項1至7中任一項之裝置(10)，其中至少一個液體分離器(17、18)設置於每一洗滌區段(4、5)下游。
  9. 如請求項8之裝置(10)，其中該(等)液體分離器(17、18)設置於經由該等洗滌區段(4、5)之該流動路徑(15)的偏轉區域(19、20)中。
  10. 如請求項1至9中任一項之裝置(10)，其中該等洗滌區段(4、5)各自具有一填充塔(23、24)。
  11. 如請求項3至9中任一項之裝置(10)，其中可拆卸連接設置於該第一洗滌區段(4)與該第二洗滌區段(5)之間，以使得經組裝裝置(10)可分解為至少兩個模組。
  12. 一種用於濕式清潔一氣流之方法，其中待清潔之該氣流饋送至用於濕式清潔氣體之一裝置(10)，尤其是如前述請求項中任一項之裝置，其中該氣流至少流過一第一洗滌區段(4)及一第二洗滌區段(5)，因此用至少一種水性洗滌液清潔，且其中提供用於繞過經由該等洗滌區段(4、5)之該流動路徑(15)的一旁路通道(7)，且該氣流選擇性地流過經由該等洗滌區段(4、5)之該流動路徑(15)或者經由該旁路通道(7)之該流動路徑(16)。
  13. 如請求項12之方法，其中獨立地調節該等流動路徑(15、16)中之壓力損失，以使得在使該氣流之流動在該等流動路徑(15、16)之間切換時，該氣體入口(2)處之壓力波動得以最小化。
  14. 如請求項12或13之方法，其中自該氣流分離出液體，該氣流攜帶有一液體以減小該氣流之排氣濃度。
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