TW202019708A - 偏光板及包含其之顯示裝置、偏光板的製造方法、以及顯示裝置的製造方法 - Google Patents

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Abstract

本揭露內容的實施例提供一種偏光板及包含其之顯示裝置、偏光板的製造方法、以及顯示裝置的製造方法。偏光板包含第一保護膜以及偏光膜，偏光膜貼合至第一保護膜上。第一保護膜具有第一表面和第二表面，第一表面相對於第二表面，第一表面和第二表面上的酸性離子濃度的總和係為等於或大於5ppm。

Description

偏光板及包含其之顯示裝置、偏光板的製造方法、以及顯示裝置的製造方法
本揭露內容是有關於一種偏光板及包含其之顯示裝置、偏光板的製造方法、以及顯示裝置的製造方法。
為了使觸控顯示裝置能夠具有更輕薄的尺寸，並且降低顯示面板與觸控元件之間的光折射所產生的疊影情況，業界目前普遍將顯示面板與觸控元件進行完全密合的貼合，這使得顯示面板的背光可以更順利穿透觸控元件的表面，降低光折射，呈現出高輝度的高品質，同時還可以縮減觸控顯示裝置的整體厚度。
為了達到上述的目的，業界均致力於發展觸控元件與顯示面板之結構設計與貼合製程的改良。
本揭露內容是有關於一種偏光板及包含其之顯示裝置、偏光板的製造方法、以及顯示裝置的製造方法。實施例中，第一保護膜的兩個表面上的酸性離子濃度的總和係為等於或大於5ppm，當偏光膜是經由紫外線固化型膠層貼合至第一保護膜的酸化的表面上時，可以避免固化反應中產生的光酸與任何鹼性物質發生酸鹼中和反應、而導致紫外線固化型膠層在接合面處發生固化不完全造成的接著力不足，因此可以提升偏光膜與第一保護膜的貼合強度，並且增進偏光板的結構的可靠性。
根據本揭露內容之一實施例，提出一種偏光板。偏光板包含第一保護膜以及偏光膜，偏光膜貼合至第一保護膜上。第一保護膜具有第一表面和第二表面，第一表面相對於第二表面，第一表面和第二表面上的酸性離子濃度的總和係為等於或大於5ppm。
根據本揭露內容之另一實施例，提出一種顯示裝置。顯示裝置包含顯示面板、偏光板以及玻璃保護層。偏光板設置於顯示面板上。偏光板包含第一保護膜以及偏光膜，偏光膜貼合至第一保護膜的第二表面上。第一保護膜具有第一表面和第二表面，第一表面相對於第二表面，第一表面和第二表面上的酸性離子濃度的總和係為等於或大於5ppm。玻璃保護層貼合至第一保護膜的第一表面上。
根據本揭露內容之更一實施例，提出一種偏光板的製造方法。偏光板的製造方法包含以下步驟：提供第一保護膜；對第一保護膜進行鹼化製程；在進行鹼化製程之後，對第一保護膜進行酸化製程；以及將偏光膜貼合至第一保護膜上。
根據本揭露內容之再一實施例，提出一種顯示裝置的製造方法。顯示裝置的製造方法包含以下步驟：形成偏光板；以及設置偏光板於顯示面板上。形成偏光板包含以下步驟：提供第一保護膜；對第一保護膜進行鹼化製程；在進行鹼化製程之後，對第一保護膜進行酸化製程；以及將偏光膜貼合至第一保護膜上。
本揭露內容之實施例中，第一保護膜的兩個表面上的酸性離子濃度的總和係為等於或大於5ppm，當偏光膜是經由紫外線固化型膠層貼合至第一保護膜的酸化的表面上時，可以避免固化反應中產生的光酸與任何鹼性物質發生酸鹼中和反應、而導致紫外線固化型膠層在接合面處發生固化不完全造成的接著力不足，因此可以提升偏光膜與第一保護膜的貼合強度，並且增進偏光板的結構的可靠性。
以下提出各種實施方法或是範例來實行本揭露內容之不同特徵，其中描述具體的元件及其排列方式以闡述本揭露內容，當然這些僅是範例，且不該以此限定本揭露內容的範圍。例如，在描述中提及第一個元件形成在第二個元件上時，其可以包含第一個元件與第二個元件直接接觸的實施例，也可以包含有其他元件形成於第一個元件與第二個元件之間的實施例，其中第一個元件與第二個元件並未直接接觸。在不同實施例與圖式之中，相同或類似的元件符號用以表示相同或類似的元件，但這些相同或類似的元件符號標示僅為了簡單清楚地敘述本揭露內容，不代表所討論的不同實施例及/或結構之間有特定的關係。值得注意的是，實施例的提出，僅用以例示本揭露內容的技術特徵，並非用以限定本揭露內容的申請專利範圍。所屬技術領域中具有通常知識者，將可根據以下的描述，在不脫離本揭露內容的精神範圍內，作均等的修飾與變化。一些實施例中之圖式省略部份元件，以清楚顯示本揭露內容之技術特點。
此外，其中可能用到與空間相關的用詞，像是「在…之下」、「下方」、「在…之上」、「在…之間」及類似的用詞，這些關係詞係為了便於描述圖式中一個(些)元件或特徵與另一個(些)元件或特徵之間的關係，這些空間關係詞包含使用中或操作中的裝置之不同方位，以及圖式中所描述的方位。裝置可能被轉向不同方位(旋轉90度或其他方位)，則其中使用的空間相關形容詞也可相同地照著解釋。應理解的是，在一些製程步驟進行之前、當中或之後可能包含進行額外的製程步驟，且一些實施例中所敘述的某些製程步驟可能在另一些實施例之方法中被其他製程步驟所取代或刪除。
第1圖繪示根據本揭露內容之實施例的一種偏光板的剖面示意圖。如第1圖所示，偏光板10包含第一保護膜100以及偏光膜200。第一保護膜100具有第一表面100a和第二表面100b，第一表面100a相對於第二表面100b，第一表面100a和第二表面100b上的酸性離子濃度的總和例如是等於或大於5ppm。偏光膜200貼合至第一保護膜100上。舉例而言，一些實施例中，如第1圖所示，偏光膜200貼合至第一保護膜100的第二表面100b上。一些其他實施例中，偏光膜200可貼合至第一保護膜100的第一表面100a上(未繪示)。
一些實施例中，第一保護膜100的第一表面100a和第二表面100b上的酸性離子濃度的總和例如是約5ppm至約100ppm。
一些實施例中，第一保護膜100的第一表面100a和第二表面100b上具有均勻分散的酸性離子，第一保護膜100的第一表面100a和第二表面100b上的酸性離子濃度分別例如是約2.5ppm至約50ppm。
一些實施例中，第一保護膜100的第一表面100a和第二表面100b上不具有或僅殘留有極小量的鹼性離子，保護膜100的兩個表面上之鹼性離子濃度係例如是等於或小於10ppm。一些實施例中，鹼性離子可包含鹼金屬(alkali metal)離子、鹼土金屬(alkaline earth metal)離子、或其組合。舉例而言，一些實施例中，鹼性離子可包含鉀離子、鈉離子、或其組合。
一些實施例中，第一保護膜100可具有單層或多層之結構。一些實施例中，第一保護膜100可包含具有良好透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性等之熱固化型樹脂或紫外線固化型樹脂。舉例而言，一些實施例中，第一保護膜100可包含三醋酸纖維素(triacetate cellulose，TAC)、二醋酸纖維素(diacetate cellulose，DAC)、聚甲基丙烯酸甲酯(poly(methyl methacrylate)，PMMA)、聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)、聚萘二甲酸乙二酯、烯烴樹脂、聚碳酸酯樹脂(polycarbonate，PC)、環烯烴樹脂、定向拉伸性聚丙烯(oriented-polypropylene，OPP)、聚乙烯(polyethylene，PE)、聚丙烯(polypropylene，PP)、環烯烴聚合物(cyclic olefin polymer，COP)、環烯烴共聚合物(cyclic olefin copolymer，COC)、胺基甲酸酯(polyurethane，PU)、丙烯酸胺基甲酸酯、環氧樹脂、聚矽氧樹脂、或上述之任意組合。
一些實施例中，偏光膜200的材料可為聚乙烯醇(PVA)樹脂膜，其可藉由皂化聚醋酸乙烯樹脂製得。聚醋酸乙烯樹脂的例子包含醋酸乙烯之單聚合物，即聚醋酸乙烯，以及醋酸乙烯之共聚合物和其他能與醋酸乙烯進行共聚合之單體。
一些實施例中，如第1圖所示，偏光板10可更包含第二保護膜300。第二保護膜300具有彼此相對的兩個表面300a和300b，且兩個表面300a和300b上的酸性離子濃度的總和實質上例如為0ppm，其中第二保護膜300的兩個表面300a和300b的其中一者貼合至偏光膜200上。一些實施例中，如第1圖所示，第二保護膜300的表面300b貼合至偏光膜200上。
一些實施例中，如第1圖所示，偏光板10可更包含紫外線固化型膠層400，紫外線固化型膠層400設置於偏光膜200與第一保護膜100之間，偏光膜200經由紫外線固化型膠層400貼合至第一保護膜100上。舉例而言，一些實施例中，如第1圖所示，偏光膜200經由紫外線固化型膠層400貼合至第一保護膜100的酸化的第二表面100b上。一些其他實施例中，偏光膜200可經由紫外線固化型膠層400貼合至第一保護膜100的酸化的第一表面100a上(未繪示)。
一些實施例中，紫外線固化型膠層400可包含紫外線固化型環氧樹脂及陽離子光起始劑，換言之，紫外線固化型膠層400是透過陽離子光聚合反應而固化，以將偏光膜200與第一保護膜100彼此接合。
陽離子光聚合反應的主要原理是透過陽離子光起始劑吸收紫外線後產生光酸(photo-acid)，光酸會與環氧樹脂上的環氧基進行開環反應聚合而進行固化，若產生的光酸遇到鹼性環境則可能會與鹼性物質產生酸鹼中和反應，造成產生的光酸被酸鹼中和反應所消耗，而無法提供足夠的光酸與環氧樹脂上的環氧基進行開環反應聚合，進而導致聚合反應不完全。
相對而言，根據本揭露內容之實施例，第一保護膜100的第一表面100a及第二表面100b上具有酸性離子，當偏光膜200經由紫外線固化型膠層400貼合至第一保護膜100的酸化的表面(例如是第一表面100a或第二表面100b)上時，可以避免光酸與任何鹼性物質發生酸鹼中和反應而導致紫外線固化型膠層400在與第一保護膜100的接合面處發生固化不完全造成的接著力不足，進而可以避免在加工過程中發生第一保護膜100從偏光膜200上剝離的問題。換言之，根據本揭露內容之實施例，當偏光膜200是經由紫外線固化型膠層400貼合至第一保護膜100的酸化的表面(例如是第一表面100a或第二表面100b)上時，可以提升偏光膜200與第一保護膜100的貼合強度，並且增進偏光板10的結構的可靠性。
一些實施例中，如第1圖所示，偏光板10可更包含紫外線固化型膠層500，紫外線固化型膠層500設置於偏光膜200與第二保護膜300之間，偏光膜200經由紫外線固化型膠層500貼合至第二保護膜300的表面300b上。
一些實施例中，第二保護膜300例如可包含類似於前述之第一保護膜100所包含的材料。一些實施例中，紫外線固化型膠層500例如可包含類似於前述之紫外線固化型膠層400所包含的材料。相關細節如前所述，在此不再贅述。
第2圖繪示根據本揭露內容之實施例的一種顯示裝置的剖面示意圖。本實施例中與前述實施例相同或相似的元件係沿用同樣或相似的元件標號，且相同或相似元件的相關說明請參考前述，在此不再贅述。
如第2圖所示，顯示裝置1包含顯示面板20、偏光板10以及玻璃保護層30。偏光板10設置於顯示面板20上。偏光板10包含第一保護膜100以及偏光膜200。第一保護膜100具有第一表面100a和第二表面100b，第一表面100a相對於第二表面100b，其中第一表面100a和第二表面100b上的酸性離子濃度的總和例如是等於或大於5ppm。偏光膜200貼合至第一保護膜100的第二表面100b上，玻璃保護層30貼合至第一保護膜100的第一表面100a上。
根據本揭露內容之實施例，第一保護膜100的第二表面100b上具有酸性離子，因而幾乎不具有可與光酸反應而破壞紫外線固化反應的鹼性物質，因此可以經由紫外線固化型膠層400而良好地貼合至偏光膜200，不會發生膜層剝離的狀況。換言之，根據本揭露內容之實施例，第一保護膜100具有酸化的表面(例如是第二表面100b)，因此提升了偏光膜200與第一保護膜100之間的接合強度，並且增進顯示裝置1的整體結構的穩定與可靠性。
一些實施例中，保護膜100的兩個表面上不具有或僅殘留有極小量的鹼性離子。一些實施例中，保護膜100的兩個表面上之鹼性離子濃度的總和係例如是等於或小於10ppm。一些實施例中，如第2圖所示，顯示裝置1可更包含膠層40，膠層40設置於玻璃保護層30與偏光板10之間，玻璃保護層30經由膠層40貼合至第一保護膜100的第一表面100a上。
一些實施例中，膠層40例如是感壓膠(pressure sensitive adhesive，PSA)、固態透明光學膠(optically clear adhesive，OCA)、液態透明光學膠 (optically clear resin，OCR)、或上述的任意組合。一些實施例中，膠層40的結構例如可包含親水性官能基，例如-OH基及/或-COOH基，換言之，膠層40例如是具有親水性的膠層。
一些實施例中，如第2圖所示，顯示裝置1可更包含外掛式觸控元件50，玻璃保護層30設置於外掛式觸控元件50與偏光板10之間。一些實施例中，玻璃保護層30例如是外掛式觸控元件50的保護層，玻璃保護層30與外掛式觸控元件50組裝在一起，使得外掛式觸控元件50經由玻璃保護層30設置於顯示面板20上。一些實施例中，外掛式觸控元件50與玻璃保護層30亦可合併為同一元件。
一些實施例中，如第2圖所示，顯示裝置1可更包含偏光板60，顯示面板20設置於偏光板10和偏光板60之間。
一些實施例中，如第2圖所示，偏光板60可包含保護層610和630、偏光膜620、以及膠層640和650，偏光膜620設置於保護層610和保護層630之間，保護層610和保護層630分別經由膠層640和膠層650貼合至偏光膜620。一些實施例中，膠層640和膠層650可為紫外線固化型接著劑或水性接著劑。一些實施例中，水性接著劑可使用例如聚乙烯醇系樹脂、胺甲酸乙酯樹脂等作為其主成分，為了提高接合性，可使用調配有異氰酸酯系化合物、環氧化合物等之組成物。
一些實施例中，保護層610和保護層630例如可包含類似於前述之第一保護膜100所包含的材料。一些實施例中，保護層610和保護層630例如均具有未酸化、及/或鹼化的表面。一些實施例中，膠層640和膠層650例如可包含類似於前述之紫外線固化型膠層400所包含的材料。一些實施例中，偏光膜620例如可包含類似於前述之偏光膜200所包含的材料。相關細節如前所述，在此不再贅述。
第3圖繪示根據本揭露內容之實施例的一種偏光板的製造方法示意圖，第4圖～第5圖繪示根據本揭露內容之實施例的一種顯示裝置的製造方法示意圖。本實施例中與前述實施例相同或相似的元件係沿用同樣或相似的元件標號，且相同或相似元件的相關說明請參考前述，在此不再贅述。
請參照第3圖，其描述本揭露內容之實施例的一種偏光板的製造方法的卷對卷製程。
如第3圖所示，提供第一保護膜100，其中第一保護膜100具有第一表面100a和第二表面100b，第一表面100a相對於第二表面100b。
接著，如第3圖所示，對第一保護膜100進行鹼化製程。一些實施例中，如第3圖所示，對第一保護膜100進行鹼化製程例如可包含將第一保護膜100浸入鹼液槽920，以鹼化第一保護膜100的第一表面100a和第二表面100b。
根據本揭露內容之實施例，第一表面100a和第二表面100b與鹼液槽920中的鹼液發生反應，使得第一保護膜100的表面的化學結構發生斷鍵，而形成親水性官能基鍵結至第一保護膜100的既有結構上，因此使得鹼化的第一表面100a和第二表面100b具有較佳濕潤性、高親水性及低水接觸角的表面特性，有利於良好地在後續製程步驟中將需要濕潤性接合面的功能性膜層進行進一步貼合，降低貼合面的氣泡或剝離之缺陷的產生。
一些實施例中，用於鹼化製程的鹼液例如包含鹼金屬(alkali metal)離子、鹼土金屬(alkaline earth metal)離子、或其組合。一些實施例中，用於鹼化製程的鹼液可包含鉀離子、鈉離子、或其組合。舉例而言，一些實施例中，用於鹼化製程的鹼液例如可包含氫氧化鉀(KOH)水溶液及/或氫氧化鈉(NaOH)水溶液。一些實施例中，在此鹼化製程後，第一保護膜100的第一表面100a或第二表面100b上的鹼性離子濃度係例如是約5ppm至約100ppm。接著，一些實施例中，如第3圖所示，進行鹼化製程之後，對第一保護膜100進行酸化製程。一些實施例中，如第3圖所示，對第一保護膜100進行酸化製程例如可包含將第一保護膜100浸入酸液槽940，以酸化第一保護膜100的第一表面100a和第二表面100b。
一些實施例中，用於酸化製程的酸液例如包含硫酸根(SO4 2- )離子、氯離子(Cl- )、硝酸根離子(NO3- )、氟離子(F- )、硼酸根離子(B(OH)4- )，甲酸根離子(HCOO− )、草酸根離子(C2 O4 2 − )、醋酸根離子(C2 H3 O2 - )或其組合。舉例而言，一些實施例中，用於酸化製程的酸液例如可包含硫酸(H2 SO4 )水溶液、鹽酸水溶液、硝酸水溶液、氫氟酸水溶液、硼酸水溶液等無機酸水溶液、及/或甲酸水溶液、草酸水溶液、醋酸水溶液等有機酸水溶液。
一些實施例中，酸化製程的製程溫度例如是低於50°C。一些實施例中，酸化製程的製程溫度例如是約25°C至約50°C之間。根據本揭露內容之一些實施例，當酸化製程的製程溫度太高，例如高於50°C，則可能會對第一保護膜100的表面產生不良的影響，例如表面的過度腐蝕、粗糙度提升、白化…等。
當第一保護膜100的表面(例如是第一表面100a和第二表面100b)經過鹼化製程而具有親水性官能基，有利於後續的親水性貼合，但大量殘留在表面的鹼液很可能會破壞偏光板的製程中的其他步驟的進行。舉例而言，陽離子光聚合反應所產生的光酸可能會與大量殘留的鹼液發生酸鹼中和反應而被消耗，導致第一保護膜100的酸化的表面上的聚合反應不完全。因此，通常會在鹼化製程之後以水洗製程將大量殘留的鹼液清洗移除。然而，水洗製程經常無法將鹼液完全清洗乾淨，導致對後續的製程仍有不良的影響。
根據本揭露內容之實施例，與水洗製程相比，使用酸液而透過酸鹼中和反應的方式可以清洗第一保護膜100的表面上所殘留的鹼液，可以避免光酸與殘留的鹼液發生反應而導致紫外線固化型膠層400在與第一保護膜100的接合面處發生固化不完全造成的接著力不足，進而可以避免在加工過程中發生第一保護膜100從偏光膜200上剝離的問題。並且，酸液僅能與表面上的殘留的鹼液發生酸鹼中和反應，並不會與第一保護膜100的鹼化表面結構上的親水性官能基發生反應，也就是不會導致鹼化表面結構上的親水性官能基發生斷鍵或是官能基的取代反應，因此不會影響第一保護膜100的鹼化表面的較佳濕潤性、高親水性及低水接觸角的表面特性。
換言之，根據本揭露內容之實施例，對第一保護膜100先進行鹼化製程接著進行酸化製程，則第一保護膜100的兩個相對表面先經鹼化後均具有較佳濕潤性、高親水性及低水接觸角之適於親水性膠層貼合的表面特性，且再經酸化後可有效移除殘留的鹼液，可以避免光酸與任何鹼性物質發生反應而導致紫外線固化型膠層在接合面處發生固化不完全造成的接著力不足，使得第一保護膜100的兩個相對表面具有同時適於親水性膠層貼合以及紫外線固化型膠層貼合的表面特性，因而第一保護膜100可以在後續製程中與多種具有不同貼合特性的功能性膜層及/或膠層進行貼合，進而可以提高偏光板的製程的彈性。
接著，一些實施例中，如第3圖所示，進行酸化製程之後，可對第一保護膜100進行水洗製程。一些實施例中，如第3圖所示，第一保護膜100例如可沿輸送方向D1依序通過鹼液槽920和酸液槽940之後，進入水洗槽930而進行水洗製程。
接著，一些實施例中，如第3圖所示，進行酸化製程及水洗製程之後，第一保護膜100例如可沿輸送方向D1經過乾燥室950而進行乾燥步驟。
同時，一些實施例中，如第3圖所示，可對第二保護膜300進行水洗製程。一些實施例中，如第3圖所示，第二保護膜300例如可通過水洗槽960而進行水洗製程。
接著，一些實施例中，如第3圖所示，第二保護膜300可經過乾燥室970而進行乾燥步驟。
一些實施例中，對第一保護膜100進行鹼化、酸化、水洗與乾燥製程之後，第一表面和第二表面上的酸性離子濃度的總和係為等於或大於5ppm。一些實施例中，第一表面和第二表面上的酸性離子濃度的總和例如是約5ppm至約100ppm。一些實施例中，第一表面100a或第二表面100b上的酸性離子濃度分別例如是約2.5ppm至約50ppm。
一些實施例中，對第一保護膜100進行酸化製程之後，保護膜100的第一表面100a或第二表面100b上不具有或僅殘留有極小量的鹼性離子。一些實施例中，保護膜100的兩個表面上之鹼性離子濃度的總和係例如是等於或小於10ppm。一些實施例中，鹼性離子可包含鹼金屬(alkali metal)離子、鹼土金屬(alkaline earth metal)離子、或其組合。舉例而言，一些實施例中，鹼性離子可包含鉀離子、鈉離子、或其組合。
一些實施例中，第一保護膜100及/或第二保護膜300在進行前述的鹼化製程、酸化製程和/或水洗製程之後，亦可選擇性地先進行收卷步驟，則鹼化、酸化和/或水洗之後的第一保護膜100及/或第二保護膜300可以先作為儲備材料，待需要時再進行後續與偏光膜的貼合步驟。
接著，如第3圖所示，將第一保護膜100的第二表面100b以及第二保護膜300同時貼合至偏光膜200上，其中第一保護膜100和第二保護膜300分別貼合至偏光膜200的相對兩個表面上。
需注意的是，為了更簡化與清楚的目的，如第3圖所示的製程中省略了紫外線固化型膠層400和500的塗佈步驟及塗佈設備。本揭露內容的一些實施例中，在如第3圖所示的製程中，偏光板的製造方法可更包含將紫外線固化型膠層400和500分別塗佈在第一保護膜100和第二保護膜300上之後，再進行保護膜與偏光膜的貼合步驟。
一些實施例中，在進行保護膜與偏光膜的貼合步驟之前，偏光板的製造方法可更包含對第一保護膜100的第二表面100b及第二保護膜300的後續貼合面進行電暈(corona)處理(未繪示)。根據本揭露的一些實施例，電暈處理有利於增進第二表面100b及第二保護膜300的後續貼合面的貼合特性。
本揭露內容的一些實施例中，在進行完如第3圖所示的製程之後，可將貼合的第一保護膜100、紫外線固化型膠層400、偏光膜200、紫外線固化型膠層500和第二保護膜300之結構進行收卷。
一些實施例中，可選擇性地進一步貼合一外表面保護層(未繪示)於第一保護膜100的第一表面100a之上，及/或選擇性地貼合一離型層(未繪示)於第二保護膜300之上後，再進行收卷。
一些實施例中，可接續進行一裁切製程，以形成裁切完成的片狀的偏光板10。
接著，一些實施例中，請參照第4圖～第5圖，其描述本揭露內容之實施例的一種顯示裝置的製造方法示意圖。顯示裝置的製造方法包含前述的形成偏光板10的步驟以及設置偏光板10於顯示面板20上。
一些實施例中，如第4圖所示，顯示裝置的製造方法可更包含將偏光板60設置至顯示面板20上。一些實施例中，如第4圖所示，偏光板10與偏光板60分別貼合於顯示面板20的兩個相對表面上。
一些實施例中，如第5圖所示，顯示裝置的製造方法可更包含施加膠層40於第一保護膜100的第一表面100a上。實施例之膠層40例如可以是具有親水性的膠層，其材質特性的細節如前所述，在此不再贅述。
一些實施例中，如第5圖所示，顯示裝置的製造方法可更包含將玻璃保護層30貼合至第一保護膜100的第一表面100a上。一些實施例中，如第5圖所示，貼合玻璃保護層30的步驟是在將偏光膜200貼合至第一保護膜100的第二表面100b上之後進行，也就是在製作完偏光板10之後進行。
一些實施例中，如第5圖所示，玻璃保護層30經由膠層40貼合至第一保護膜100的第一表面100a上。
根據本揭露內容之實施例，對第一保護膜100先進行鹼化製程接著進行酸化製程，使得第一保護膜100的兩個相對表面具有同時適於親水性膠層貼合以及紫外線固化型膠層貼合的表面特性，因此第一保護膜100不僅可透過紫外線固化型膠層而與偏光膜200之間具有優異的貼合強度，第一保護膜100也可透過親水性的膠層40與玻璃保護層30之間具有良好的貼合強度。
以下就實施例作進一步說明。以下列出數個實施例與比較例之偏光板的第一保護膜的製程條件與特性量測結果，以說明應用本揭露內容所製得之偏光板的第一保護膜的特性。然而以下之實施例僅為例示說明之用，而不應被解釋為本揭露內容實施之限制。
表1中列出實施例1～3(E1～E3)與比較例1～3(C1～C3)的製程條件與表面特性量測結果，實施例1～3與比較例1～3均採用三醋酸纖維素(TAC)作為第一保護膜，實施例1～3與比較例1～3的第一保護膜均先在鹼液槽(濃度為4N的氫氧化鉀(KOH)鹼性水溶液)中以50°C的溫度進行30秒的鹼化步驟。實施例1～3的第一保護膜在鹼化製程之後接著進行酸化製程以及水洗製程，比較例1～3的第一保護膜在鹼化製程之後並未進行酸化製程而直接進行水洗製程。酸化製程使用的酸液均為濃度為2N的硫酸(H2 SO4 )水溶液，並均在25°C的溫度進行。
表1中，「酸化時間」表示浸泡在酸液槽中的時間 (實施例1～3)，「水洗時間」表示浸泡在水洗槽中的時間 (E1～E3、C1～C3)。表1中，針對經過鹼化、酸化和水洗處理之後的第一保護膜的表面(E1～E3)或經過鹼化和水洗處理之後的第一保護膜的表面(C1～C3)，「鹼性離子濃度」是指第一保護膜的整個表面上的鉀離子的濃度，「酸性離子濃度」是指第一保護膜的整個表面上的硫酸離子的濃度，「密著力」表示紫外線固化型膠層與第一保護膜的第一表面之間的接合強度，密著力越高表示接合強度越強，「水接觸角」表示第一保護膜的第二表面的水接觸角。表1中的離子濃度的測定方式是將保護膜採用微波消化進行前處理後，接著以感應耦合電漿放射光譜儀(ICP-OES)分析鉀元素(鹼性離子濃度)及硫元素(酸性離子濃度)的含量而得。
表1
Figure 107141132-A0304-0001
由表1的結果可看出，鹼化的表面經過酸化後，實施例1～3的第一保護膜的兩個表面上的鹼性離子濃度的總和均在10ppm以下，因而與紫外線固化型膠層具有相當高的密著力。而比較例1～3的第一保護膜的表面經鹼化後並未進行酸化，即使經過水洗之後，表面上均仍殘留大量的鹼性離子，因此與紫外線固化型膠層之間的密著力均在0.31 N/25mm以下，可看出未經酸化而殘留的大量鹼性離子會破壞紫外線固化型膠層在接合面處的聚合反應，使得紫外線固化型膠層容易從比較例1～3的第一保護膜的鹼化表面剝離。
再者，由表1的結果可看出，經過鹼化的表面即使經過酸化製程，由於酸化製程僅清洗掉大量的表面殘留的鹼液，並未破壞鹼化表面的表面型態，因此實施例1～3的第一保護膜的表面均具有相當低的水接觸角，顯示本揭露內容之實施例的第一保護膜的表面均具有高親水性及低水接觸角的表面特性，有利於良好地在後續製程步驟中將需要濕潤性接合面的功能性膜層的進一步貼合，降低貼合面的氣泡或剝離之缺陷的產生。
並且，由表1的結果可看出，若第一保護膜的表面在鹼化步驟之後並未進行酸化製程，即使在鹼化步驟之後經過長時間的水洗，即使拉長水洗時間至例如兩倍或三倍，其密著力僅0.23 N/25mm與0.31 N/25mm，比較例的第一保護膜的表面依然殘留洗不掉的鹼性離子，殘留的鹼性離子大幅降低第一保護膜與紫外線固化型膠層之間的密著力。
雖然本揭露內容以前述之實施例揭露如上，然其並非用以限定本揭露內容。本揭露內容所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本揭露內容之精神和範圍內，當可做些許之更動與潤飾。因此本揭露內容之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
1:顯示裝置10、60:偏光板20:顯示面板30:玻璃保護層40、640、650:膠層50:外掛式觸控元件100:第一保護膜100a:第一表面100b:第二表面200、620:偏光膜300:第二保護膜300a、300b:表面400、500:紫外線固化型膠層610、630:保護層920:鹼液槽930、960:水洗槽940:酸液槽950、970:乾燥室D1:輸送方向
為讓本揭露內容之特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉不同實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下： 第1圖繪示根據本揭露內容之實施例的一種偏光板的剖面示意圖。 第2圖繪示根據本揭露內容之實施例的一種顯示裝置的剖面示意圖。 第3圖繪示根據本揭露內容之實施例的一種偏光板的製造方法示意圖。 第4圖～第5圖繪示根據本揭露內容之實施例的一種顯示裝置的製造方法示意圖。
10:偏光板
100:第一保護膜
100a:第一表面
100b:第二表面
200:偏光膜
300:第二保護膜
920:鹼液槽
930、960:水洗槽
940:酸液槽
950、970:乾燥室
D1:輸送方向

Claims (20)

  1. 一種偏光板，包括： 一第一保護膜，其中該第一保護膜具有一第一表面和一第二表面，該第一表面相對於該第二表面，該第一表面和該第二表面上的酸性離子濃度的總和係為等於或大於5ppm；以及 一偏光膜，貼合至該第一保護膜上。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中該第一表面和該第二表面上的酸性離子濃度的總和係為5ppm至100ppm。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中該第一表面和該第二表面上的鹼性離子濃度的總和係等於或小於10ppm。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中該第一保護膜包括三醋酸纖維素(TAC)、二醋酸纖維素(DAC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯、烯烴樹脂、聚碳酸酯樹脂(PC)、環烯烴樹脂、定向拉伸性聚丙烯(OPP)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、環烯烴聚合物(COP)、環烯烴共聚合物(COC)、胺基甲酸酯(PU)、丙烯酸胺基甲酸酯、環氧樹脂、聚矽氧樹脂、或上述之任意組合。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，更包括： 一第二保護膜，具有彼此相對的兩個表面，且該兩個表面上的酸性離子濃度的總和實質上係為0ppm，其中該第二保護膜的該兩個表面的其中一者貼合至該偏光膜上。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，更包括： 一紫外線固化型膠層，設置於該偏光膜與該第一保護膜之間，其中該偏光膜經由該紫外線固化型膠層貼合至該第一保護膜上。
  7. 如申請專利範圍第5項所述之偏光板，其中該紫外線固化型膠層包括紫外線固化型環氧樹脂及陽離子光起始劑。
  8. 一種顯示裝置，包括： 一顯示面板； 一偏光板，設置於該顯示面板上，該偏光板包括： 一第一保護膜，其中該第一保護膜具有一第一表面和一第二表面，該第一表面相對於該第二表面，該第一表面和該第二表面上的酸性離子濃度的總和係為等於或大於5ppm；及 一偏光膜，貼合至該第一保護膜的該第二表面上；以及 一玻璃保護層，貼合至該第一保護膜的該第一表面上。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之顯示裝置，其中該第一表面和該第二表面上的鹼性離子濃度的總和係等於或小於10ppm。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之顯示裝置，更包括： 一膠層，設置於該玻璃保護層與該偏光板之間，其中該玻璃保護層經由該膠層貼合至該第一保護膜的該第一表面上。
  11. 如申請專利範圍第8項所述之顯示裝置，更包括： 一外掛式觸控元件，其中該玻璃保護層設置於該外掛式觸控元件與該偏光板之間。
  12. 一種偏光板的製造方法，包括： 提供一第一保護膜； 對該第一保護膜進行一鹼化製程； 在進行該鹼化製程之後，對該第一保護膜進行一酸化製程；以及 將一偏光膜貼合至該第一保護膜上。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之偏光板的製造方法，其中該第一保護膜具有一第一表面和一第二表面，該第一表面相對於該第二表面，對該第一保護膜進行該酸化製程之後，該第一表面和該第二表面上的酸性離子濃度的總和係為等於或大於5ppm。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之偏光板的製造方法，其中對該第一保護膜進行該酸化製程之後，該第一表面和該第二表面上的酸性離子濃度的總和係為5ppm至100ppm。
  15. 如申請專利範圍第13項所述之偏光板的製造方法，其中對該第一保護膜進行該酸化製程之後，該第一表面和該第二表面上的鹼性離子濃度的總和係等於或小於10ppm。
  16. 如申請專利範圍第12項所述之偏光板的製造方法，更包括： 將一第二保護膜貼合至該偏光膜上，其中該第一保護膜和該第二保護膜貼合至該偏光膜的相對兩個表面上。
  17. 一種顯示裝置的製造方法，包括： 形成一偏光板，包括： 提供一第一保護膜； 對該第一保護膜進行一鹼化製程； 在進行該鹼化製程之後，對該第一保護膜進行一酸化製程；及 將一偏光膜貼合至該第一保護膜上；以及 設置該偏光板於一顯示面板上。
  18. 如申請專利範圍第17項所述之顯示裝置的製造方法，其中該第一保護膜具有一第一表面和一第二表面，該第一表面相對於該第二表面，對該第一保護膜進行該酸化製程之後，該第一表面和該第二表面上的酸性離子濃度的總和係為等於或大於5ppm，及/或該第一表面和該第二表面上的鹼性離子濃度的總和係等於或小於10ppm。
  19. 如申請專利範圍第17項所述之顯示裝置的製造方法，其中該第一保護膜具有一第一表面和一第二表面，該第一表面相對於該第二表面，該顯示裝置的製造方法更包括： 將該偏光膜貼合至該第一保護膜的該第二表面上之後，將一玻璃保護層貼合至該第一保護膜的該第一表面上。
  20. 如申請專利範圍第19項所述之顯示裝置的製造方法，更包括： 將該玻璃保護層貼合至該第一保護膜的該第一表面上之前，施加一膠層於該第一保護膜的該第一表面上，其中該玻璃保護層經由該膠層貼合至該第一保護膜的該第一表面上。
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