TW202016356A - 框架及框架的表面處理方法 - Google Patents

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戴禎儀
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管俊
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Abstract

一種框架的表面處理方法，包括以下步驟：提供一基材，所述基材是將金屬粉末壓鑄成型所製成，所述基材表面形成有多個納米孔洞；於所述基材的一表面形成第一底漆層、第二底漆層、NCVM(Non-Conductive Curing Coating，真空不導電電鍍)底漆層、NCVM鍍膜層，進一步地形成中漆和色漆層、面漆層，其中採用NCVM技術代替傳統的CNC加工技術，使得縮短製程，減少加工週期，減少原材料用量，從而減少加工成本。

Description

框架及框架的表面處理方法
本發明涉及一種框架及框架的表面處理方法。
目前超薄手機已經成為主流，原來採用的不銹鋼為主框架的方式逐步由鋁材整板進行CNC加工所代替，這種由鋁材所加工的主框架，具有不易變形、重量輕、容易做表面處理等優點，但因其CNC製程用量多、加工週期長、材料用量多，使得這種工藝產品總生產成本偏高。
有鑑於此，有必要提供一種框架及框架的表面處理方法，使得框架製備工藝簡單、加工週期短、材料用量少。
提供一種框架，所述框架包括基材及形成於所述基材表面的塗層，所述基材的表面依次形成第一底漆層、第二底漆層、NCVM (Non-Conductive Curing Coating，真空不導電電鍍)底漆層與NCVM鍍膜層。
進一步地，所述NCVM鍍膜層的表面還設置有中漆和色漆層，所述中漆和色漆層的表面還設置有面漆層。
進一步地，所述NCVM鍍膜層的表面還設置有中漆和色漆層，所述中漆和色漆層的表面還設置有光鍍層，所述光鍍層的表面還設置有面漆層。
進一步地，所述基材為鋁合金、鋅合金、鋁鎂合金或鈦合金，所述基材是將金屬粉末壓鑄成型所製成，所述基材表面形成有多個納米孔洞。
還提供一種框架的表面處理方法，所述方法包括以下步驟：
提供一基材；
於所述基材的一表面形成第一底漆層；
於所述第一底漆層表面形成第二底漆層；
於所述第二底漆層表面形成NCVM底漆層；及
於所述NCVM底漆層形成NCVM鍍膜層。
進一步地，所述NCVM底漆層是採用NCVM技術於所述第二底漆層表面噴塗UV漆，經過800~1000mj/cm2 的紫外光照射，烘烤溫度為50-60℃，烘烤時間為10-15min，固化以形成所述NCVM底漆層。
進一步地，所述NCVM底漆層的厚度為6-10µm。
進一步地，所述NCVM鍍膜層的厚度為50-200nm，材質為銦或錫。
進一步地，還包括步驟：於所述NCVM鍍膜層表面形成中漆和色漆層、面漆層。
進一步地，還包括步驟：對中漆和色漆層進行光鍍處理，以形成光鍍層。
進一步地，還包括步驟：依次於所述NCVM鍍膜層表面形成中漆和色漆層、光鍍層與面漆層，其中所述光鍍層的材料為二氧化矽或二氧化鈦。
相比現有技術，本發明提供的框架的表面處理方法中，採用NCVM方法代替傳統的CNC加工，製程短，加工週期減少，原材料用量少，從而加工成本減少；並且本發明提供的框架具有一體成型的外觀效果，具有金屬質感和光澤。
下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基於本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬於本發明保護的範圍。
需要說明的是，當組件被稱為“固定於”另一個組件，它可以直接在另一個組件上或者也可以存在居中的組件。當一個組件被認為是“連接”另一個組件，它可以是直接連接到另一個組件或者可能同時存在居中組件。當一個組件被認為是“設置於”另一個組件，它可以是直接設置在另一個組件上或者可能同時存在居中組件。
除非另有定義，本文所使用的所有的技術和科學術語與屬於本發明的技術領域的技術人員通常理解的含義相同。本文中在本發明的說明書中所使用的術語只是為了描述具體的實施例的目的，不是旨在於限制本發明。
參閱圖1，本發明較佳實施例提供一種框架10，所述框架10可以為手機、平板電腦、照相機等裝置的外殼、機械設備的外殼或汽車的裝飾件等等。
所述框架10至少包括基材101、第一底漆層102、第二底漆層103、NCVM(Non-Conductive Curing Coating，真空不導電電鍍)底漆層104、NCVM鍍膜層105。
所述基材101包括第一表面1101，所述第一表面1101可以作為所述框架10的外表面。
所述基材101的材質為鋁合金、鋅合金、鋁鎂合金或鈦合金。
在本實施例中，所述基材101是採用金屬粉末壓鑄成型技術所製成，所述基材101表面形成有多個納米孔洞。
所述第一底漆層102形成於所述基材101的第一表面1101，所述第一底漆層102的材質為PU漆，為所述基材101提供良好的附著力，從而克服所述基材101自身表面附著力不佳的問題。
在本實施例中，所述第一底漆層102通過在所述基材101的第一表面1101噴塗底漆而形成。
所述第二底漆層103形成於第一底漆層102的表面，所述第二底漆層103的材質為PU漆，所述第二底漆層103的作用是對基材101表面的缺陷起到遮蔽作用，體現質感。
所述NCVM底漆層104形成於所述第二底漆層103的表面，所述NCVM底漆層104的作用是增強第二底漆層103的附著力。
所述NCVM鍍膜層105形成於所述NCVM底漆層104的表面，所述NCVM鍍膜層105的材質為銦或錫，所述NCVM鍍膜層105的作用是提高鏡面高光裝飾。
進一步地，所述框架10還包括中漆和色漆層106，所述中漆和色漆層106的作用是呈現框架10的外觀顏色，可以根據客戶的需求進行訂製，可以是黑色、白色、紅色等等。
進一步地，所述框架10還包括面漆層107，所述面漆層107起防護作用。
請參閱圖2，在另一實施例中，所述框架10還包括光鍍層108，所述光鍍層108形成於中漆和色漆層106與面漆層107之間。
請參閱圖3，本發明實施例還提供一種框架10的製備方法，包括如下步驟：
步驟S10，提供一基材101，所述基材101包括第一表面1101，所述基材101的材質為鋁合金、鋅合金、鋁鎂合金或鈦合金，在一實施方式中，所述基材101是將金屬粉末壓鑄成型所製成，所述基材101的表面形成有多個納米孔洞。
步驟S20，對所述基材101進行機械加工，以得到框架10的基本結構。
步驟S30，清洗基材101。一實施例中，利用脫脂劑對所述基材101進行脫脂處理後，再利用純水清洗所述基材101，以清潔所述基材101表面的灰塵與油漬。
步驟S40，於所述基材101的第一表面1101形成第一底漆層102，所述第一底漆層102的作用是為所述基材101提供良好的附著力，從而克服所述基材101自身表面附著力不佳的問題。
具體地，一實施例中，於所述基材101的第一表面1101噴塗PU漆以形成第一底漆層102，所述PU漆的烘烤溫度為75℃，烘烤時間為10min，噴塗的PU漆的厚度為8-12µm。
步驟S50，於所述第一底漆層102的表面形成第二底漆層103，以填充所述基材101的表面形成的多個納米孔洞，即第二底漆層103對基材101表面的缺陷起遮蔽作用，體現質感。
具體地，一實施例中，於所述第一底漆層102的表面噴塗PU漆以形成第二底漆層103，所述PU漆烘烤溫度為80℃，烘烤時間為2h，噴塗的PU漆的厚度為25-30µm。
步驟S60，於所述第二底漆層103表面形成NCVM底漆層104，所述NCVM底漆層104是增強第二底漆層103的附著力。
具體地，一實施例中，採用NCVM方法於所述第二底漆層103表面形成NCVM底漆層104，經過800~1000mj/cm2 的紫外光照射，烘烤溫度為50-60℃，烘烤時間為10-15min，固化以形成厚度為6-10µm的NCVM底漆層104，所述NCVM底漆層104為PU漆。
步驟S70，於所述NCVM底漆層104表面形成NCVM鍍膜層105，所述NCVM鍍膜層105的作用是提高鏡面高光裝飾。
具體地，一實施例中，採用NCVM方法於所述NCVM底漆層104表面形成NCVM鍍膜層105，所述NCVM鍍膜層105的厚度為50-200nm，所述NCVM鍍膜層105的材質為銦或錫。
可以理解，為了提高所述框架10的外觀裝飾效果，還可以包括步驟S80，於NCVM鍍膜層105的表面形成中漆和色漆層106，所述中漆和色漆層106的作用是體現框架10外觀顏色，可以根據客戶的需求進行訂製，可以是黑色、白色、紅色等等。
具體地，一實施例中，所述中漆和色漆層106的烘烤溫度為65-70℃，烘烤時間為10-15min，厚度為6-10µm。
進一步地，為了對框架10起到防護作用，還可以包括步驟S90，於所述中漆和色漆層106表面形成面漆層107。
具體地，一實施例中，於所述中漆和色漆層106噴塗UV漆經過800-1200mj/cm2 的紫外光照射，烘烤溫度為60℃，烘烤時間為6min，固化以形成厚度為20-25µm的面漆層107。
當然，為了進一步地提升所述框架10的外觀裝飾效果，在另一實施方式中，請參閱圖4所示，在步驟S80後包括步驟S85與S95，其中，步驟S85為形成光鍍層108於中漆和色漆層106的表面，即對中漆和色漆層106進行光鍍處理，以形成光鍍層108。所述光鍍層108的材料可以為二氧化矽、二氧化鈦。步驟S95為形成面漆層107於光鍍層108表面。
綜上所述，依次於所述基材101的第一表面1101形成第一底漆層102、第二底漆層103、NCVM底漆層104、NCVM鍍膜層105，進而形成框架10，其中採用NCVM方法代替CNC加工，縮短製程，減少加工週期，減少原材料用量，從而減少加工成本。中漆和色漆層106與面漆層107的添加，使框架10具有一體成型的外觀效果。
以上實施例僅用以說明本發明的技術方案而非限制，儘管參照較佳實施例對本發明進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解，可以對本發明的技術方案進行修改或等同替換，而不脫離本發明技術方案的精神和實質。
10:框架 101:基材 1101:第一表面 102:第一底漆層 103:第二底漆層 104:NCVM底漆層 105:NCVM鍍膜層 106:中漆和色漆層 107:面漆層 108:光鍍層
圖1為本發明一較佳實施例的殼體的剖面示意圖。 圖2為本發明另一較佳實施例的殼體的剖面示意圖。 圖3為本發明一框架的表面處理方法的方法流程圖。 圖4為本發明一框架的表面處理方法的另一方法流程圖。
無
10:框架
101:基材
1101:第一表面
102:第一底漆層
103:第二底漆層
104:NCVM底漆層
105:NCVM鍍膜層
106:中漆和色漆層
107:面漆層

Claims (10)

  1. 一種框架，包括基材及形成於所述基材表面的塗層，其改良在於：所述基材的表面依次形成第一底漆層、第二底漆層、真空不導電電鍍底漆層與真空不導電電鍍鍍膜層。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之框架，其中所述真空不導電電鍍鍍膜層的表面還設置有中漆和色漆層，所述中漆和色漆層的表面還設置有面漆層。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之框架，其中所述真空不導電電鍍鍍膜層的表面還設置有中漆和色漆層，所述中漆和色漆層的表面還設置有光鍍層，所述光鍍層的表面還設置有面漆層。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之框架，其中所述基材為鋁合金、鋅合金、鋁鎂合金或鈦合金，所述基材是將金屬粉末壓鑄成型所製成，所述基材表面形成有多個納米孔洞。
  5. 一種框架的表面處理方法，其改良在於，包括步驟： 提供一基材； 於所述基材的一表面形成第一底漆層； 於所述第一底漆層表面形成第二底漆層； 於所述第二底漆層表面形成真空不導電電鍍底漆層；及 於所述真空不導電電鍍底漆層形成真空不導電電鍍鍍膜層。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之框架的表面處理方法，其中所述真空不導電電鍍底漆層是採用真空不導電電鍍技術於所述第二底漆層表面噴塗UV漆，經過800~1000mj/cm2 的紫外光照射，烘烤溫度為50-60℃，烘烤時間為10-15min，固化以形成所述真空不導電電鍍底漆層。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之框架的表面處理方法，其中所述真空不導電電鍍底漆層的厚度為6-10µm。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之框架的表面處理方法，其中所述真空不導電電鍍鍍膜層的厚度為50-200nm，材質為銦或錫。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之框架的表面處理方法，還包括步驟：依次於所述真空不導電電鍍鍍膜層表面形成中漆和色漆層與面漆層。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之框架的表面處理方法，還包括步驟：依次於所述真空不導電電鍍鍍膜層表面形成中漆和色漆層、光鍍層與面漆層，其中所述光鍍層的材料為二氧化矽或二氧化鈦。
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