TW202014606A - 壓縮機的渦卷結構 - Google Patents

Abstract

本發明涉及一種壓縮機的渦卷結構，其包含固定與繞動渦卷。固定渦卷包含固定渦卷基座與固定渦卷葉片，固定渦卷基座具有流體吐出口。繞動渦卷包含繞動渦卷基座與繞動渦卷葉片。渦卷結構具有至少一預切部，定義固定渦卷葉片之固定渦卷尖端部與繞動渦卷葉片之繞動渦卷尖端部在壓縮機排氣階段而相互接觸時，固定渦卷尖端部之外表面、繞動渦卷尖端部之外表面、固定渦卷基座之外表面以及繞動渦卷基座之外表面共同圍繞出中心區域。流體吐出口位於中心區域中。預切部亦位於中心區域中，且位於固定渦卷與繞動渦卷相鄰之表面至少其中一者。

Description

壓縮機的渦卷結構

本發明係關於一種壓縮機的渦卷結構，特別是一種具有至少一預切部的渦卷結構。

壓縮機，是一種將工作流體導入密閉空間中，透過壓縮原有工作流體所散佈的空間體積而使其內部壓力上升，進而將機械能轉換為壓力能的裝置，常見的應用領域包含空調、冷凍循環、提供工業驅動動力等。依據其壓縮工作流體的方式，又可分為往復式、回轉式、螺旋式、渦卷式壓縮機等。其中，由於渦卷式壓縮機(scroll compressor)具有高效率、節能與低噪音等優勢，故其應用日漸增加。

渦卷式壓縮機的壓縮方式是由兩個渦卷體相互交錯設置而成，其中一者為固定的固定渦卷(Fixed Scroll)，另一者為可相對固定渦卷做軌道式繞轉的繞動渦卷(Orbiting Scroll)，藉由繞動渦卷對固定渦卷的繞轉運動，使得二者之間的壓縮腔室產生容積變化，從而導引、壓縮並排出工作流體。

但，傳統的渦卷式壓縮機仍有需要改進的問題。在於，壓縮工作流體的過程中，工作流體會逐漸被壓縮成高溫高壓的狀態，這個現象在壓縮力最大的流體吐出口處最為明顯，即工作流體至此處時的溫升幅度最為劇烈，這會導致固定渦卷與繞動渦卷靠近此處的部分產生明顯的熱膨脹現象，進而使得兩個渦卷之間產生非預期的干涉、摩擦。結果，這樣的干涉、摩擦會產生摩擦噪音以及摩擦熱而使內部溫度再度提升，不僅損耗整體的運轉動能、還會降低運轉效率，更甚者，還會磨損或破壞固定渦卷與繞動渦卷。

有鑑於此，本發明提供一種壓縮機的渦卷結構，可藉以解決傳統上渦卷式壓縮機的渦卷於運轉時會產生干涉、摩擦及其所衍伸的問題。

根據本發明所揭露的一種壓縮機的渦卷結構，包含一固定渦卷與一繞動渦卷。固定渦卷包含一固定渦卷基座與豎立於固定渦卷基座之一側的固定渦卷葉片，其中固定渦卷基座具有一流體吐出口。繞動渦卷包含一繞動渦卷基座與豎立於該繞動渦卷基座的一繞動渦卷葉片，繞動渦卷可相對固定渦卷繞轉。其中渦卷結構具有至少一預切部，並定義固定渦卷葉片之一固定渦卷尖端部與繞動渦卷葉片之一繞動渦卷尖端部在壓縮機排氣階段而相互接觸時，固定渦卷尖端部之外表面、繞動渦卷尖端部之外表面、固定渦卷基座之外表面以及繞動渦卷基座之外表面共同圍繞出一中心區域，其中，流體吐出口均位於中心區域中，而至少一預切部位位於中心區域中且位於固定渦卷與繞動渦卷之相鄰表面的至少其中一者上。

本發明所揭露的渦卷結構，由於至少一預切部位於固定渦卷基座、固定渦卷尖端部、繞動渦卷基座、繞動渦卷尖端部等結構的外表面所圍繞的中心區域內，且該預切部位於固定渦卷與繞動渦卷之相鄰表面的至少其中一者上，即是在壓縮機運轉時內部溫度較高的區域中設計預切部，因此有助於避免固定渦卷尖端部與繞動渦卷尖端部因運轉的高溫而熱膨脹時產生干涉與摩擦的問題，從而可避免固定渦卷與繞動渦卷因摩擦產生噪音與升溫的問題，而有助於維持渦卷結構的低噪音與高運轉效率特性，並有助於延長使用壽命。

以上之關於本發明揭露內容之說明及以下之實施方式之說明，係用以示範與解釋本發明之精神與原理，並且提供本發明之專利申請範圍更進一步之解釋。

以下在實施方式中詳細敘述本發明之詳細特徵以及優點，其內容足以使任何熟知相關技藝者，瞭解本發明之技術內容並據以實施，且根據本說明書所揭露之內容、申請專利範圍及圖式，任何熟知相關技藝者可輕易地理解本發明相關之目的及優點。以下之實施例係進一步詳細說明本發明之觀點，但非以任何觀點限制本發明之範疇。

此外，以下將以圖式揭露本發明之實施例，為明確說明起見，許多實務上的細節將在以下敘述中一併說明。然而，應瞭解到的是，這些實務上的細節非用以限制本發明。

並且，為達圖面整潔之目的，一些習知慣用的結構與元件在圖式可能會以簡單示意的方式繪示之。另外，本案之圖式中部份的特徵可能會略為放大或改變其比例或尺寸，以達到便於理解與觀看本發明之技術特徵的目的，但這並非用於限定本發明。依照本發明所揭露之內容所製造之產品的實際尺寸與規格應是可依據生產時的需求、產品本身的特性、及搭配本發明如下所揭露之內容據以調整，於此先聲明之。同時，為便於觀看圖式，圖式中還附有參考座標軸。

另外，以下文中可能會使用「端」、「部」、「部分」、「區域」、「處」等術語來描述特定元件與結構或是其上或其之間的特定技術特徵，但這些元件與結構並不受這些術語所限制。在下文中，也可能會使用「及/或(and/or)」之術語，其是指包含了一或多個所列相關元件或結構之其中一者或全部的組合。以下文中也可能使用「實質上」、「基本上」及「大約」等術語，其與尺寸、濃度、溫度或其他物理或化學性質或特性之範圍結合使用時，為意欲涵蓋可能存在於該等性質或特性之範圍之上限及/或下限中之偏差、或表示容許製造公差或分析過程中所造成的可接受偏離，但仍可達到所預期的效果。

再者，除非另有定義，本文所使用的所有詞彙或術語，包括技術和科學上的詞彙與術語等具有其通常的意涵，其意涵能夠被熟悉此技術領域者所理解。更進一步的說，上述之詞彙或術語的定義，在本說明書中應被解讀為與本發明相關技術領域具有一致的意涵。除非有特別明確的定義，這些詞彙或術語將不被解釋為過於理想化的或正式的意涵。

請參照圖1~4，圖1係為渦卷式壓縮機與依據本發明之第一實施例的渦卷結構的分解圖，圖2係為圖1之固定渦卷的立體示意圖，圖3係為圖1之繞動渦卷的立體示意圖，而圖4係為本發明之第一實施例之渦卷結構的組裝側剖示意圖。

本實施例提出一種渦卷結構1a，適於裝設於如圖所示之殼體(未標號)而與其共同構成一壓縮機9。所述的壓縮機9為一種渦卷式壓縮機(Scroll Compressor)，其可以但不限於是無油或有油的渦卷式壓縮機。但需先聲明的是，本發明後續其他實施例之渦卷結構也亦適於裝設於前述之殼體而構成渦卷式壓縮機，但本發明並非以渦卷結構裝設於前述壓縮機9或其他壓縮機之殼體的方式為限。並且，可理解的是，壓縮機9之殼體中可含有其他可實現驅動渦卷結構1a以及完備壓縮操作所需的元件與結構，但本發明並非以此為限。另外，渦卷結構1a或本發明其他實施例之渦卷結構可依據壓縮機9或其他壓縮機之規格如尺寸或組裝方式等做適應性的調整，本發明亦非以此為限。以下，將先針對渦卷結構1a進行說明。

於本實施例中，渦卷結構1a包含一固定渦卷10a與一繞動渦卷20a。繞動渦卷20a可活動地設置於固定渦卷10a之一側而得以相對固定渦卷10a繞轉，例如繞動渦卷20a可以偏心的方式相對固定渦卷10a繞轉。

固定渦卷10a包含一固定渦卷基座110a與一固定渦卷葉片120a。固定渦卷基座110a具有彼此相背向的一固定渦卷基座內表面1101a與一固定渦卷基座外表面1102a。固定渦卷葉片120a的外形呈螺旋狀板體，豎立於該固定渦卷基座110a之一側，如圖所示，固定渦卷葉片120a豎立於該固定渦卷基座110a之固定渦卷基座內表面1101a。

此外，固定渦卷基座110a還具有至少一流體吸入口1103與一流體吐出口1104。流體吸入口1103位於固定渦卷基座110a上較靠近固定渦卷葉片120a的外圈的位置，其數量可以但不限於是一個或多個，且可與工作流體(未繪示，但不限於是具有流動特性的氣態、液態或氣液混合態)的來源相連通而得以讓工作流體注入渦卷結構1a的內部。流體吐出口1104則位於固定渦卷基座110a上較靠近固定渦卷葉片120a的中心處的位置，適於讓進入渦卷結構1a內部的工作流體排出於外。

進一步來看，固定渦卷葉片120a具有一固定渦卷尖端部121a，是指固定渦卷葉片120a上較靠近其中心處的部分(或是指固定渦卷葉片120a上較靠近或圍繞部分的流體吐出口1104之一端的部分)。此外，固定渦卷葉片120a還具有一固定渦卷葉片內表面1201a、一固定渦卷葉片外表面1202a與一固定渦卷葉片頂面1203a。固定渦卷葉片內表面1201a是指固定渦卷葉片120a上朝向流體吐出口1104的一側表面，固定渦卷葉片外表面1202a是指固定渦卷葉片120a上背向流體吐出口1104的另一側表面，而固定渦卷葉片頂面1203a是指固定渦卷葉片120a上介於固定渦卷葉片內表面1201a與固定渦卷葉片外表面1202a之間並背向固定渦卷基座110a的表面(或朝向繞動渦卷20a的表面)。其中，於其他實施例中，固定渦卷葉片120a之固定渦卷葉片頂面1203a可設計用於填充耐磨材料的一溝槽(未繪示)，但本發明並非以此為限。

另外，固定渦卷基座110a還具有一固定渦卷根部111a，位於固定渦卷基座110a之固定渦卷基座內表面1101a上，是指固定渦卷基座110a上靠近固定渦卷葉片120a之中心處的部分(或是指位於固定渦卷基座110a上圍繞流體吐出口1104的部分)。於本實施例或其他實施例中，固定渦卷基座110a之固定渦卷根部111a是指固定渦卷基座110a上靠近固定渦卷葉片120a之中心處且被固定渦卷葉片120a之固定渦卷葉片內表面1201a圍繞的部分，而流體吐出口1104位於固定渦卷根部111a的範圍之中。

另一方面，繞動渦卷20a包含一繞動渦卷基座210a與一繞動渦卷葉片220a。繞動渦卷基座210a具有彼此相背向的一繞動渦卷基座內表面2101a與一繞動渦卷基座外表面2102a。從圖1~3可看出，繞動渦卷基座210a之繞動渦卷基座內表面2101a與固定渦卷基座110a之固定渦卷基座內表面1101a彼此相面對。繞動渦卷葉片220a的外形呈螺旋狀板體，豎立於繞動渦卷基座210a之一側，如圖所示，繞動渦卷葉片220a豎立於該繞動渦卷基座210a之繞動渦卷基座內表面2101a，且對應設置於固定渦卷葉片120a所圍繞的螺旋空間中。在此配置下，固定渦卷基座110a之固定渦卷基座內表面1101a、固定渦卷葉片120a、繞動渦卷基座210a之繞動渦卷基座內表面2101a及繞動渦卷葉片220a共同圍繞出一壓縮腔室S(如圖4所示)。在運轉上，繞動渦卷20a可相對固定渦卷10a繞轉，以使得繞動渦卷葉片220a相對固定渦卷葉片120a繞轉而不斷地改變壓縮腔室S的形狀，進而不斷地擠壓從流體吸入口1103進入壓縮腔室S的工作流體並將其導引、推擠至流體吐出口1104而排出。

此外，繞動渦卷葉片220a具有一繞動渦卷尖端部221a，是指繞動渦卷葉片220a上較靠近其中心處的部分(或是指繞動渦卷葉片220a上較靠近流體吐出口1104之一端或較靠近固定渦卷尖端部121a之一端的部分)。此外，繞動渦卷葉片220a還具有一繞動渦卷葉片內表面2201a、一繞動渦卷葉片外表面2202a與一繞動渦卷葉片頂面2203a。繞動渦卷葉片內表面2201a是指繞動渦卷葉片220a上朝向流體吐出口1104的一側表面，繞動渦卷葉片外表面2202a是指繞動渦卷葉片220a上背向流體吐出口1104的另一側表面，而繞動渦卷葉片頂面2203a是指繞動渦卷葉片220a上介於繞動渦卷葉片內表面2201a與繞動渦卷葉片外表面2202a之間並背向繞動渦卷基座210a的表面(或朝向固定渦卷10a的表面)。其中，於其他實施例中，繞動渦卷葉片220a之繞動渦卷葉片頂面2203a可設計用於填充耐磨材料的一溝槽，但本發明並非以此為限。

另外，繞動渦卷基座210a還具有一繞動渦卷根部211a，位於繞動渦卷基座210a之繞動渦卷基座內表面2101a上，是指繞動渦卷基座210a上靠近繞動渦卷葉片220a之中心處的部分(或是指繞動渦卷基座210a在軸向方向上對應流體吐出口1104或對應固定渦卷基座110a之固定渦卷根部111a的部分)。

於此，請參閱圖5~6，分別為本發明之第一實施例之固定渦卷10a與繞動渦卷20a的熱膨脹變形量的模擬數據圖，表示指應用本實施例之渦卷結構1a的渦卷式壓縮機9於運轉時固定渦卷10a與繞動渦卷20a於軸向方向的熱膨脹變形的情況。由圖可看到，固定渦卷10a之固定渦卷葉片120a與繞動渦卷20a之繞動渦卷葉片220a在靠近內部(即靠近流體吐出口1104的中心處)處產生急遽的軸向變形，其原因即如前所述是因為在繞動渦卷20a相對固定渦卷10a繞轉至排氣階段以將工作流體從流體吐出口1104排出時，會產生非常高的壓力從而使工作流體的溫度驟升，導致固定渦卷葉片120a與繞動渦卷葉片220a靠近此處的部分產生非常明顯的熱膨脹。所述的排氣階段，是指繞動渦卷相對固定渦卷繞轉至使得工作流體在流體吐出口處被壓縮最為劇烈的階段，此時繞動渦卷之繞動渦卷尖端部會以其前緣接觸固定渦卷的固定渦卷內表面，固定渦卷之固定渦卷尖端部會以其前緣接觸繞動渦卷的繞動渦卷內表面，而工作流體會被高壓地擠壓於繞動渦卷尖端部與固定渦卷尖端部之間而從流體吐出口被排出。由此，可理解的是，本實施例與其他實施例中所述之固定渦卷尖端部與繞動渦卷尖端部即是指固定渦卷與繞動渦卷上會在運轉過程中產生如前述明顯的熱膨脹現象的部分。

因應於此現象，於本實施例與其他實施例中，渦卷結構上可設計至少一預切部，位於固定渦卷與繞動渦卷至少其中一者上。所述的預切部，是指在固定渦卷與繞動渦卷至少其中一者上用於補償因高溫產生熱膨脹變形而預先除去的部分，且預切部可透過切削或蝕刻等各種可移除部分的固定渦卷及/或繞動渦卷或可使固定渦卷及/或繞動渦卷上加工出實質上相同的結構的其他方式所獲得，本發明並非以設計預切部的方式為限。於本實施例中，渦卷結構1a內具有預切部Da1(如圖2)與預切部Da2(如圖3)，分別位於固定渦卷葉片120a與繞動渦卷葉片220a上。但需先聲明的是，本實施例僅為預切部的位置的其中之一示例，本發明並非以此為限。

詳細來說，如圖7(為圖4的局部放大圖所示)，預切部Da1與Da2位於一中心區域C1。所述的中心區域C1，是指在壓縮機於排氣階段下而讓固定渦卷尖端部121a與繞動渦卷尖端部221a以前緣相接觸時，由固定渦卷基座110a之固定渦卷基座外表面1102a、固定渦卷尖端部121a處的固定渦卷葉片外表面1202a(即指固定渦卷尖端部121a之外表面)、繞動渦卷尖端部221a處的繞動渦卷葉片外表面2202a(即指繞動渦卷尖端部221a之外表面)、以及繞動渦卷基座210a之繞動渦卷基座外表面2102a所圍繞而成的區域。可理解的是，中心區域C1意欲涵蓋壓縮機運轉時內部溫度較高的區域。而前述的預切部Da1與Da2即位於所定義的中心區域C1中，而流體吐出口1104也位於該中心區域C1中。

進一步來看，預切部Da1位於固定渦卷葉片120a之固定渦卷尖端部121a處的固定渦卷葉片頂面1203a上(即指固定渦卷尖端部121a之頂面)，使得固定渦卷尖端部121a從側面視角來看呈現一階梯狀。

固定渦卷尖端部121a上之預切部Da1的軸向深度，是有關於固定渦卷尖端部121a受熱後於高度方向上的熱膨脹變形量。這裡所述的「軸向」與「高度方向」，是指與繞動渦卷20a之繞轉軸呈水平的方向。為此，先取得固定渦卷10a的材料熱膨脹係數(Coefficient of thermal expansion，CTE)為αf，固定渦卷10a具有一固定渦卷高為Lf，渦卷結構1a之內部環境(或指固定渦卷10a與繞動渦卷20a之間所圍繞的壓縮腔室S)於渦卷結構1a自靜止至運轉一預定時間後的溫升為ΔT(即指溫度差)。於本實施例中，固定渦卷尖端部121a上之預切部Da1的軸向深度實質上正比於Lf×αf×ΔT，即固定渦卷尖端部121a上之預切部Da1的軸向深度是由固定渦卷尖端部121a受熱後於高度方向上的熱膨脹變形量所決定，但本發明並非以預切部之軸向深度與Lf×αf×ΔT之間實際的比例為限，該比例應可依據實際需求進行調整。

需補充解釋的是，前述的材料熱膨脹係數是指物質在熱漲冷縮效應作用下，幾何特性隨著溫度的變化而發生改變的規律性係數，而材料熱膨脹係數αf可依照固定渦卷10a的材質不同而有所不同，本發明並非以此為限；固定渦卷高Lf是指固定渦卷葉片120a之固定渦卷葉片頂面1203a與固定渦卷基座110a之固定渦卷基座內表面1101a的最大軸向距離，即非指固定渦卷葉片120a具有預切部Da1之固定渦卷尖端部121a處的固定渦卷葉片頂面1203a與固定渦卷基座110a之固定渦卷基座內表面1101a的軸向距離；而溫升ΔT，大致上是指壓縮機運轉前與開始運轉一預定時間後至工作溫度而產生的溫度差，因此，溫升ΔT與其所需的預定時間均非用於限制本發明，只要是有助於獲得適當的預切部的軸向深度，均可依照實際狀況進行調整。另外，前述的工作溫度是指壓縮機常態運轉時內部環境(或壓縮腔室S)的溫度，可以但不限於是指靠近流體吐出口處的溫度，但本發明並非以工作溫度為限。

另一方面，從8圖來看，圖8為圖2之固定渦卷10a的上視圖，但為了理解本實施例之內容，圖8中額外將繞動渦卷20a之繞動渦卷葉片220a以虛線表示。如圖所示，在固定渦卷葉片頂面1203a上，固定渦卷尖端部121a之預切部Da1的延伸範圍是自固定渦卷尖端部121a的前緣(未標號)延伸至固定渦卷尖端部121a與繞動渦卷尖端部221a於壓縮機9排氣階段時相互接觸之一接觸點。具體來說，於壓縮機9排氣階段時，固定渦卷尖端部121a的前緣以接觸點P1接觸繞動渦卷尖端部221a的繞動渦卷葉片內表面2201a(即指繞動渦卷尖端部221a的內表面)，繞動渦卷尖端部221a的前緣以接觸點P2接觸固定渦卷尖端部121a的固定渦卷葉片內表面1201a(即指固定渦卷尖端部121a的內表面)，而固定渦卷尖端部121a之預切部Da1的延伸範圍是自固定渦卷尖端部121a的前緣延伸至繞動渦卷尖端部221a與固定渦卷尖端部121a相互接觸之接觸點P2。

復參圖7，另一預切部Da2則是位於繞動渦卷葉片220a之繞動渦卷尖端部221a處的繞動渦卷葉片頂面2203a上(即指繞動渦卷尖端部221a之頂面)，使得繞動渦卷尖端部221a從側面視角來看呈現一階梯狀。

繞動渦卷尖端部221a上之預切部Da2的軸向深度，是有關於繞動渦卷尖端部221a受熱後於高度方向上的熱膨脹變形量。同理地，這裡所述的「軸向」與「高度方向」，是指與繞動渦卷20a之繞轉軸呈水平的方向。為此，先取得繞動渦卷20a的材料熱膨脹係數為αo，繞動渦卷20a具有一繞動渦卷高為Lo，渦卷結構1a之內部環境(或指固定渦卷10a與繞動渦卷20a之間所圍繞的壓縮腔室S)於渦卷結構1a自靜止至運轉該預定時間後的溫升為ΔT。於本實施例中，繞動渦卷尖端部221a上之預切部Da2的軸向深度實質上正比於Lo×αo×ΔT。即繞動渦卷尖端部221a上之預切部Da2的軸向深度是由繞動渦卷尖端部221a受熱後於其高度的方向上的熱膨脹變形量所決定，但本發明亦非以預切部之軸向深度與Lo×αo×ΔT之間實際的比例為限，該比例應可依據實際需求進行調整。

需補充解釋的是，前述的材料熱膨脹係數αo可依照繞動渦卷20a的材質不同而有所不同，本發明並非以此為限；繞動渦卷高Lo是指繞動渦卷葉片220a之繞動渦卷葉片頂面2203a與繞動渦卷基座210a之繞動渦卷基座內表面2101a的最大軸向距離，即非指繞動渦卷葉片220a具有預切部Da2之繞動渦卷尖端部221a處的繞動渦卷葉片頂面2203a與繞動渦卷基座210a之繞動渦卷基座內表面2101a的軸向距離；而溫升ΔT與其所需的預定時間則同前所述，只要是有助於獲得適當的預切部Da2的軸向深度，均可依照實際狀況進行調整，本發明並非以此為限。

另一方面，從圖8來看，在繞動渦卷葉片頂面2203a上，繞動渦卷尖端部221a之預切部Da2的延伸範圍是自繞動渦卷尖端部221a的前緣(未標號)延伸至固定渦卷尖端部121a與繞動渦卷尖端部221a於壓縮機9排氣階段時相互接觸之接觸點P1。

藉由前述在中心區域C1中分別在固定渦卷尖端部121a處的固定渦卷葉片頂面1203a與繞動渦卷尖端部221a處的繞動渦卷葉片頂面2203a上設計預切部Da1與Da2，即在中心區域C1中且固定渦卷10a與繞動渦卷20a之相鄰表面的至少其中一者設計預切部Da1與Da2，且預切部Da1與Da2的軸向深度分別是由固定渦卷尖端部121a與繞動渦卷尖端部221a於工作溫度時受熱膨脹的變形量所決定(即實質上分別正比於Lf×αf×ΔT與Lo×αo×ΔT)，因此壓縮機9在後續開始運轉而使內部環境(即壓縮腔室S)達到工作溫度時，固定渦卷葉片120a之固定渦卷尖端部121a雖會因高溫而熱膨脹變形，但由於其上具有預切部Da1，因而即使熱膨脹變形後也不致於會與繞動渦卷20a產生干涉、摩擦等問題，即固定渦卷葉片120a之固定渦卷尖端部121a可利用預切部Da1補償其因高溫而產生的熱膨脹，避免固定渦卷葉片120a在靠近較高溫的流體吐出口1104處產生較大的熱膨脹而與繞動渦卷20a產生干涉、摩擦等問題；同理，可利用預切部Da2補償繞動渦卷葉片220a之繞動渦卷尖端部221a因高溫而產生的熱膨脹，即可避免繞動渦卷葉片220a在靠近較高溫的流體吐出口1104處產生較大的熱膨脹而與固定渦卷10a產生干涉、摩擦等問題。簡言之，藉由在中心區域C1的預切部Da1與Da2的設計，有助於避免固定渦卷10a與繞動渦卷20a因熱膨脹而在靠近流體吐出口1104處產生相互干涉、摩擦的問題，進而有助於維持低噪音與高運轉效率特性。

接著，將介紹預切部位於不同位置的其他實施例。提醒的是，以下之實施例與前述實施例的主要差異在於預切部的位置，因此相似之處請容不再贅述。

例如請參閱9~11，圖9係為依據本發明之第二實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖，圖10係為圖9之固定渦卷的正視圖，而圖11係為圖9之繞動渦卷的正視圖。

如圖所示，固定渦卷10b之固定渦卷根部111b與繞動渦卷20b之繞動渦卷根部211b分別具有預切部Db1與Db2，但固定渦卷10b之固定渦卷尖端部121b與繞動渦卷20b之繞動渦卷尖端部221b並沒有預切部。

類似地，固定渦卷10b之固定渦卷根部111b與繞動渦卷20b之繞動渦卷根部211b上的預切部Db1與Db2是位於由固定渦卷基座110b之固定渦卷基座外表面1102b、固定渦卷尖端部121b處的固定渦卷葉片外表面1202b(即指固定渦卷尖端部121b的外表面)、繞動渦卷尖端部221b處的繞動渦卷葉片外表面2202b(即指繞動渦卷尖端部221b的外表面)、以及繞動渦卷基座210b之繞動渦卷基座外表面2102b所圍繞而成的一中心區域C2中，而流體吐出口1104也位於該中心區域C2中。

其中，於固定渦卷10b之固定渦卷根部111b上的預切部Db1，其軸向深度則是由繞動渦卷尖端部221b受熱升溫至工作溫度的熱膨脹變形量所決定(即實質上正比於Lo×αo×ΔT)，至於其在固定渦卷基座110b之固定渦卷基座內表面1101b的延伸範圍實質上正比於固定渦卷尖端部121b與繞動渦卷尖端部221b於壓縮機排氣階段下以各自的前緣相互接觸時，固定渦卷尖端部121b處之固定渦卷葉片內表面1201b(即指固定渦卷尖端部121b之內表面)與繞動渦卷尖端部221b處之繞動渦卷葉片外表面2202b(即指繞動渦卷尖端部221b之外表面)所圍繞之區域投影於固定渦卷基座110b之固定渦卷基座內表面1101b的投影範圍，因而預切部Db1可圍繞流體吐出口1104。

另一方面，於繞動渦卷20b之繞動渦卷根部211b上的預切部Db2，其軸向深度則是由固定渦卷尖端部121b受熱升溫至工作溫度的熱膨脹變形量所決定(即實質上正比於Lf×αf×ΔT)，至於其在繞動渦卷基座210b之繞動渦卷基座內表面2101b的延伸範圍實質上正比於固定渦卷尖端部121b與繞動渦卷尖端部221b於壓縮機排氣階段下以各自的前緣相互接觸時，繞動渦卷尖端部221b處之繞動渦卷葉片內表面2201b(即指繞動渦卷尖端部221b之內表面)與固定渦卷尖端部121b處之固定渦卷葉片外表面1202b(即指固定渦卷尖端部121b之外表面)所圍繞之區域投影於繞動渦卷基座210b之繞動渦卷基座內表面2101b的投影範圍。可理解的是，繞動渦卷20b之繞動渦卷根部211b上的預切部Db2投影於固定渦卷基座110b之固定渦卷基座內表面1101b的投影範圍與固定渦卷10b之固定渦卷根部111b上的預切部Db1至少部分相重疊。

藉此，前述在中心區域C2中分別在固定渦卷10b之固定渦卷根部111b與繞動渦卷20b之繞動渦卷根部211b上所設計的預切部Db1與Db2，且預切部Db1與Db2的軸向深度分別是由繞動渦卷葉片220b與固定渦卷葉片120b受熱升溫至工作溫度的熱膨脹變形量所決定(即實質上分別正比於Lo×αo×ΔT與Lf×αf×ΔT)。因此，在壓縮機後續開始運轉而使內部環境升溫至工作溫度時，固定渦卷葉片120b之固定渦卷尖端部121b雖會因高溫而熱膨脹變形，但由於繞動渦卷20b之繞動渦卷根部211b具有預切部Db2，因而固定渦卷尖端部121b即使膨脹變形也不致於與繞動渦卷20b產生干涉、摩擦等問題，即可利用預切部Db2補償固定渦卷葉片120b之固定渦卷尖端部121b因高溫而產生的熱膨脹，以避免固定渦卷葉片120b在靠近較高溫的流體吐出口1104處產生較大的熱膨脹而與繞動渦卷20b產生干涉、摩擦等問題；同理，可利用預切部Db1補償繞動渦卷葉片220b之繞動渦卷尖端部221b因高溫而產生的熱膨脹，即可避免繞動渦卷尖端部221b在靠近較高溫的流體吐出口1104處產生較大的熱膨脹而與固定渦卷10b產生干涉、摩擦等問題。簡言之，本實施例之預切部Db1與Db2的位置同樣有助於避免固定渦卷10b與繞動渦卷20b因熱膨脹而在靠近流體吐出口1104處產生相互干涉、摩擦的問題，進而有助於維持低噪音與高運轉效率特性。

又例如請參閱圖12，係為依據本發明之第三實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖。如圖所示，固定渦卷10c之固定渦卷尖端部121c、固定渦卷10c之固定渦卷根部111c、繞動渦卷20c之繞動渦卷尖端部221c與繞動渦卷20c之繞動渦卷根部211c分別具有預切部Dc1、Dc2、Dc3與Dc4。

類似地，預切部Dc1、Dc2、Dc3與Dc4都是位於由固定渦卷基座110c之固定渦卷基座外表面1102c、固定渦卷尖端部121c處的固定渦卷葉片外表面1202c(即指固定渦卷尖端部121c之外表面)、繞動渦卷尖端部221c處的繞動渦卷葉片外表面2202c(即指繞動渦卷尖端部221c之外表面)、以及繞動渦卷基座210c之繞動渦卷基座外表面2102c所圍繞而成的一中心區域C3中，而流體吐出口1104也位於該中心區域C3中。並且，固定渦卷尖端部121c、固定渦卷根部111c、繞動渦卷尖端部221c與繞動渦卷根部211c上的預切部Dc1、Dc2、Dc3與Dc4的延伸範圍皆可參照前述實施例所述的內容而獲得，於此不再贅述，而這些預切部Dc1、Dc2、Dc3與Dc4在軸向方向的深度，如固定渦卷根部111c上的預切部Dc2與繞動渦卷尖端部221c上的預切部Dc3的總軸向深度實質上是由繞動渦卷尖端部221c受熱升溫至工作溫度的熱膨脹變形量所決定(即實質上正比於Lo×αo×ΔT)，但預切部Dc2與預切部Dc3個別的軸向深度可依據實際需求調整，只要其軸向深度的總合是對應前述的熱膨脹變形量，均屬於本發明之範疇；而固定渦卷尖端部121c上的預切部Dc1與繞動渦卷根部211c上的預切部Dc4的總軸向深度實質上則是由固定渦卷尖端部121c受熱升溫至工作溫度的熱膨脹變形量所決定(即實質上正比於Lf×αf×ΔT)，同樣地，預切部Dc1與預切部Dc4個別的軸向深度亦可依據實際需求調整，只要其軸向深度的總合是對應前述的熱膨脹變形量，均屬於本發明之範疇。

從先前所介紹的實施例可理解的是，於本實施例中，壓縮機在後續開始運轉時，同樣可利用預切部Dc1、Dc2、Dc3與Dc4補償固定渦卷10c與繞動渦卷20c在靠近流體吐出口處的固定渦卷尖端部121c與繞動渦卷尖端部221c因高溫而產生的熱膨脹變形量，進而可避免固定渦卷10c與繞動渦卷20c於此處產生相互干涉、摩擦的問題，從而有助於維持低噪音與高運轉效率特性。

也就是說，只要是在固定渦卷與繞動渦卷前述所定義的中心區域中據以設計預切部，而有助於達到或減緩固定渦卷與繞動渦卷之間因溫升的熱變形而產生的摩擦熱與摩擦噪音等問題的態樣，均屬於本發明之範疇。以下將舉多個實施例來說明之，但需先聲明的是，後續實施例中所提及之預切部同樣也都位於如前述實施例所述之中心區域中，為達圖式簡潔之目的，後續圖式將不再繪示中心區域。

舉例來說，如圖13，係為依據本發明之第四實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖。於本實施例中，固定渦卷尖端部121d、固定渦卷10d之固定渦卷根部111d與繞動渦卷20d之繞動渦卷尖端部221d分別設有預切部Dd1、Dd2與Dd3，但繞動渦卷20d之繞動渦卷根部211d沒有預切部。類似的，於本實施例中，前述各部位上的預切部Dd1、Dd2與Dd3的延伸範圍同前述實施例所介紹，可參照前述實施例的內容而獲得，於此不再贅述。另一方面，類似的，在軸向方向上，固定渦卷根部111d上的預切部Dd2與繞動渦卷尖端部221d上的預切部Dd3的總軸向深度實質上正比於Lo×αo×ΔT，而固定渦卷尖端部121d上的預切部Dd1的軸向深度則實質上正比於Lf×αf×ΔT。

再例如請參閱圖14，係為依據本發明之第五實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖。於本實施例中，固定渦卷10e之固定渦卷尖端部121e及繞動渦卷20e之繞動渦卷尖端部221e與繞動渦卷根部211e分別設有預切部De1、De2與De3，而固定渦卷10e之固定渦卷根部111e沒有預切部。類似地，於本實施例中，各部位上的預切部De1、De2與De3的延伸範圍同前述實施例所介紹，可參照前述實施例的規則而獲得，於此不再贅述。另一方面，可理解的是，在軸向方向上，固定渦卷尖端部121e上的預切部De1與繞動渦卷根部211e上的預切部De3的總軸向深度實質上正比於Lf×αf×ΔT，而繞動渦卷尖端部221e上的預切部De2的軸向深度則實質上正比於Lo×αo×ΔT。

再例如請參閱圖15，係為依據本發明之第六實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖。於本實施例中，固定渦卷10f之固定渦卷尖端部121f與固定渦卷根部111f及繞動渦卷20f之繞動渦卷根部211f分別設有預切部Df1、Df2與Df3，而繞動渦卷20f之繞動渦卷尖端部221f沒有預切部。類似地，於本實施例中，各部位上的預切部Df1、Df2與Df3的延伸範圍同前述實施例所介紹，可參照前述實施例的規則而獲得，於此不再贅述。另一方面，可理解的是，在軸向方向上，固定渦卷尖端部121f上的預切部Df1與繞動渦卷根部211f上的預切部Df3的總軸向深度實質上正比於Lf×αf×ΔT，而固定渦卷根部111f上的預切部Df2的軸向深度則實質上正比於Lo×αo×ΔT。

接著，再例如請參閱圖16，係為依據本發明之第七實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖。於本實施例中，固定渦卷10g之固定渦卷根部111g及繞動渦卷20g之繞動渦卷尖端部221g與繞動渦卷根部211g分別設有預切部Dg1、Dg2與Dg3，而固定渦卷10g之固定渦卷尖端部121g沒有預切部。類似地，於本實施例中，各部位上的預切部Dg1、Dg2與Dg3的延伸範圍同前述實施例所介紹，可參照前述實施例的規則而獲得，於此不再贅述。另一方面，可理解的是，在軸向方向上，固定渦卷根部111g上的預切部Dg1與繞動渦卷尖端部221g上的預切部Dg2的總軸向深度實質上正比於Lo×αo×ΔT，而繞動渦卷根部211g上的預切部Dg3的軸向深度則實質上正比於Lf×αf×ΔT。

另外，渦卷結構也可僅於固定渦卷或繞動渦卷其中一者上設計預切部，這仍有助於減緩前述固定渦卷與繞動渦卷之間因高溫熱變形而產生的摩擦噪音與高溫等問題。例如圖17所示，係為依據本發明之第八實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖，該實施例僅在固定渦卷10h之固定渦卷尖端部121h與固定渦卷根部111f分別設計預切部Dh1與Dh2，而預切部Dh1與Dh2可避免固定渦卷10h靠近流體吐出口1104處因高溫膨脹而與繞動渦卷20h發生干涉、摩擦的問題。也就是說，雖然固定渦卷與繞動渦卷僅其中一者具有預切部，仍有助於減緩固定渦卷與繞動渦卷之間因高溫熱變形而產生的摩擦噪音與高溫等問題。然而，該實施例僅是其中一示例，於其他實施例中，也可僅在繞動渦卷設計預切部，本發明並非以此為限。

又例如於其他實施例中，也可僅於繞動渦卷尖端部、繞動渦卷根部、固定渦卷尖端部與固定渦卷根部其中一者選擇設計預切部，同樣可減緩固定渦卷與繞動渦卷前述的問題。例如請參閱圖18，係為依據本發明之第九實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖。於該實施例中，固定渦卷10i僅於其固定渦卷尖端部121i上具有預切部Di1，但仍然可以減緩固定渦卷與繞動渦卷之間因高溫熱變形而產生的摩擦噪音與高溫等問題。

最後，還需補充的是，雖然前述將預切部設計在固定渦卷尖端部及/或繞動渦卷尖端部之頂面的實施例中，預切部的範圍佈滿整個固定渦卷尖端部及/或繞動渦卷尖端部處的頂面，但本發明並非以此為限。例如請參閱圖19，係為依據本發明之第十實施例之固定渦卷的局部放大示意圖。於該實施例中，固定渦卷10j僅於其固定渦卷尖端部121j上具有預切部Dj1，但與前述實施例不同的是，預切部Dj1並未完全佈滿固定渦卷尖端部121j頂部的範圍，而是於固定渦卷尖端部121j的頂部保留有一部分的結構未作預切。但可理解的是，由於本實施例之固定渦卷尖端部121j仍具有一定比例的預切部Dj1，因而還是有助於減緩前述固定渦卷與繞動渦卷之間因高溫熱變形而產生的摩擦噪音與高溫等問題。

由本發明前述的渦卷結構，由於至少一預切部位於固定渦卷基座、固定渦卷尖端部、繞動渦卷基座、繞動渦卷尖端部等結構的外表面所圍繞的中心區域內，且該預切部位於固定渦卷與繞動渦卷之相鄰表面的至少其中一者上，即是在壓縮機運轉時內部溫度較高的區域中設計預切部，因此有助於避免固定渦卷尖端部與繞動渦卷尖端部因運轉的高溫而熱膨脹時產生干涉與摩擦的問題，從而可避免固定渦卷與繞動渦卷因摩擦產生噪音與升溫的問題，從而可避免固定渦卷與繞動渦卷因摩擦產生噪音與升溫的問題，而有助於維持渦卷結構的低噪音與高運轉效率特性，並有助於延長使用壽命。

雖然本發明以前述之實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。在不脫離本發明之精神和範圍內，所為之更動與潤飾，均屬本發明之專利保護範圍。關於本發明所界定之保護範圍請參考所附之申請專利範圍。

1a:渦卷結構9:渦卷式壓縮機、壓縮機10a、10b、10c、10d、10e、10f、10g、10h、10i、10j:固定渦卷20a、20b、20c、20d、20e、20f、20g、20h:繞動渦卷110a、110b、110c:固定渦卷基座111a、111b、111c、111d、111e、111f、111g:固定渦卷根部120a、120b:固定渦卷葉片121a、121b、121c、121d、121e、121f、121g、121h、121i、121j:固定渦卷尖端部210a、210b:繞動渦卷基座211a、211b、211c、211d、211e、211f、211g:繞動渦卷根部220a、220b:繞動渦卷葉片221a、221b、211c、221d、221e、221f、221g:繞動渦卷尖端部1101a、1101b:固定渦卷基座內表面1102a、1102b、1102c:固定渦卷基座外表面1103:流體吸入口1104:流體吐出口1201a、1201b:固定渦卷葉片內表面1202a、1202b、1202c:固定渦卷葉片外表面1203a:固定渦卷葉片頂面2101a、2101b:繞動渦卷基座內表面2102a、2102b、2102c:繞動渦卷基座外表面2201a、2201b:繞動渦卷葉片內表面2202a、2202b、2202c:繞動渦卷葉片外表面2203a:繞動渦卷葉片頂面C1、C2、C3:中心區域Da1、Da2、Db1、Db2、Dc1、Dc2、Dc3、Dc4、Dd1、Dd2、Dd3、De1、De2、De3、Df1、Df2、Df3、Dg1、Dg2、Dg3、Dh1、Dh2、Di1、Dj1:預切部αf:固定渦卷的材料熱膨脹係數αo:繞動渦卷的材料熱膨脹係數Lf:固定渦卷高Lo:繞動渦卷高P1、P2:接觸點S:壓縮腔室ΔT:溫升、溫度差

圖1係為渦卷式壓縮機與依據本發明之第一實施例的渦卷結構的分解圖。 圖2係為圖1之固定渦卷的立體示意圖。 圖3係為圖1之繞動渦卷的立體示意圖。 圖4係為本發明之第一實施例之渦卷結構的組裝側剖示意圖。 圖5係為本發明之第一實施例之固定渦卷的熱膨脹變形量的模擬數據圖。 圖6係為本發明之第一實施例之繞動渦卷的熱膨脹變形量的模擬數據圖。 圖7係為圖4之局部放大圖。 圖8係為圖2之固定渦卷的正視圖。 圖9係為依據本發明之第二實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖。 圖10係為圖9之固定渦卷的正視圖。 圖11係為圖9之繞動渦卷的正視圖。 圖12係為依據本發明之第三實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖。 圖13係為依據本發明之第四實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖。 圖14係為依據本發明之第五實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖。 圖15係為依據本發明之第六實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖。 圖16係為依據本發明之第七實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖。 圖17係為依據本發明之第八實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖。 圖18係為依據本發明之第九實施例之渦卷結構的側剖局部放大示意圖。 圖19係為依據本發明之第十實施例之固定渦卷的局部放大示意圖。

10a:固定渦卷

20a:繞動渦卷

110a:固定渦卷基座

121a:固定渦卷尖端部

210a:繞動渦卷基座

221a:繞動渦卷尖端部

1101a:固定渦卷基座內表面

1102a:固定渦卷基座外表面

1104:流體吐出口

1202a:固定渦卷葉片外表面

1203a:固定渦卷葉片頂面

2101a:繞動渦卷基座內表面

2102a:繞動渦卷基座外表面

2202a:繞動渦卷葉片外表面

2203a:繞動渦卷葉片頂面

C1:中心區域

Da1、Da2:預切部

Lf:固定渦卷高

Lo:繞動渦卷高

S:壓縮腔室

Claims (16)

1. 一種壓縮機的渦卷結構，包含：一固定渦卷，包含一固定渦卷基座與豎立於該固定渦卷基座的一固定渦卷葉片，其中該固定渦卷基座具有一流體吐出口；一繞動渦卷，包含一繞動渦卷基座與豎立於該繞動渦卷基座的一繞動渦卷葉片，該繞動渦卷可相對該固定渦卷繞轉；其中該渦卷結構具有至少一預切部，並定義該固定渦卷葉片之一固定渦卷尖端部與該繞動渦卷葉片之一繞動渦卷尖端部在該壓縮機排氣階段而相互接觸時，該固定渦卷尖端部之外表面、該繞動渦卷尖端部之外表面、該固定渦卷基座之外表面以及該繞動渦卷基座之外表面共同圍繞出一中心區域，其中，該流體吐出口位於該中心區域中，而該至少一預切部位於該中心區域中且位於該固定渦卷與該繞動渦卷之相鄰表面的至少其中一者上。
2. 如請求項1所述之渦卷結構，其中該至少一預切部位於該固定渦卷尖端部之頂面與該繞動渦卷尖端部之頂面至少其中一者上。
3. 如請求項2所述之渦卷結構，其中該固定渦卷尖端部之頂面上之該至少一預切部的延伸範圍自該固定渦卷尖端部的前緣延伸至該固定渦卷尖端部與該繞動渦卷尖端部於該壓縮機排氣階段而相互接觸時的一接觸點。
4. 如請求項3所述之渦卷結構，其中該固定渦卷的材料熱膨脹係數為αf，該固定渦卷之一固定渦卷高為Lf，該渦卷結構之內部環境於該渦卷結構自靜止至運轉一預定時間後的溫升為ΔT，該固定渦卷尖端部上的該至少一預切部的軸向深度實質上正比於Lf×αf×ΔT。
5. 如請求項2所述之渦卷結構，其中該繞動渦卷尖端部之頂面上之該至少一預切部的延伸範圍自該繞動渦卷尖端部的前緣延伸至該固定渦卷尖端部與該繞動渦卷尖端部於該壓縮機排氣階段而相互接觸時的一接觸點。
6. 如請求項5所述之渦卷結構，其中該繞動渦卷的材料熱膨脹係數為αo，該繞動渦卷之一繞動渦卷高為Lo，該渦卷結構之內部環境於該渦卷結構自靜止至運轉一預定時間後的溫升為ΔT，該繞動渦卷尖端部時上的該至少一預切部的軸向深度實質上正比於Lo×αo×ΔT。
7. 如請求項1所述之渦卷結構，其中該至少一預切部位於該固定渦卷之一固定渦卷根部與該繞動渦卷之一繞動渦卷根部至少其中一者上。
8. 如請求項7所述之渦卷結構，其中該固定渦卷基座具有一固定渦卷基座內表面朝向該繞動渦卷，該固定渦卷之該固定渦卷根部上的該至少一預切部位於該固定渦卷基座內表面上，且該至少一預切部於該固定渦卷基座內表面上的範圍實質上正比於該固定渦卷尖端部之前緣與該繞動渦卷尖端部之前緣於該壓縮機排氣階段下而相互接觸時，該固定渦卷尖端部之內表面與該繞動渦卷尖端部之外表面所圍繞之區域投影於該固定渦卷基座內表面的投影範圍。
9. 如請求項8所述之渦卷結構，其中該繞動渦卷的材料熱膨脹係數為αo，該繞動渦卷之一繞動渦卷高為Lo，該渦卷結構之內部環境於該渦卷結構自靜止至運轉一預定時間後的溫升為ΔT，該固定渦卷之該固定渦卷根部上的該至少一預切部的軸向深度實質上正比於Lo×αo×ΔT。
10. 如請求項7所述之渦卷結構，其中該繞動渦卷基座具有一繞動渦卷基座內表面朝向該固定渦卷，該繞動渦卷之該繞動渦卷根部上的該至少一預切部位於該繞動渦卷基座內表面上，且該至少一預切部於該繞動渦卷基座內表面上的範圍實質上正比於該固定渦卷尖端部之前緣與該繞動渦卷尖端部之前緣於該壓縮機排氣階段下而相互接觸時，該繞動渦卷尖端部之內表面與該固定渦卷尖端部之外表面所圍繞之區域投影於該繞動渦卷基座內表面上的投影範圍。
11. 如請求項10所述之渦卷結構，其中該固定渦卷的材料熱膨脹係數為αf，該固定渦卷之一固定渦卷高為Lf，該渦卷結構之內部環境於該渦卷結構自靜止至運轉一預定時間後的溫升為ΔT，該繞動渦卷之該繞動渦卷根部上的該至少一預切部的軸向深度實質上正比於Lf×αf×ΔT。
12. 如請求項1所述之渦卷結構，其中該至少一預切部的數量為多個，分別位於該固定渦卷尖端部之一頂面與該繞動渦卷尖端部之一頂面。
13. 如請求項1所述之渦卷結構，其中該至少一預切部的數量為多個，分別位於該固定渦卷之一固定渦卷根部與該繞動渦卷之一繞動渦卷根部。
14. 如請求項1所述之渦卷結構，其中該至少一預切部的數量為多個，分別位於該固定渦卷尖端部之一頂面與該繞動渦卷之一繞動渦卷根部其中一者以及該繞動渦卷尖端部之一頂面與該固定渦卷之一固定渦卷根部。
15. 如請求項1所述之渦卷結構，其中該至少一預切部的數量為多個，分別位於該繞動渦卷尖端部之一頂面與該固定渦卷之一固定渦卷根部其中一者以及該固定渦卷尖端部之一頂面與該繞動渦卷之一繞動渦卷根部。
16. 如請求項1所述之渦卷結構，其中該至少一預切部的數量為多個，分別位於該固定渦卷之一固定渦卷根部、該固定渦卷尖端部之一頂面、該繞動渦卷尖端部之一頂面以及該繞動渦卷之一繞動渦卷根部。

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