TW201937216A - 液晶顯示裝置與用於該液晶顯示裝置之光學構件及光學構件之套組 - Google Patents

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日商日東電工股份有限公司
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    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
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    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors

Abstract

本發明提供一種對比度較高且實用性優異之液晶顯示裝置與用於該液晶顯示裝置之光學構件及光學構件之套組。本發明之液晶顯示裝置具備：液晶單元；視認側光學構件，其配置於液晶單元之視認側；及背面側光學構件，其配置於液晶單元之與視認側相反之側。視認側光學構件包含視認側偏光元件及折射率為1.20以下之防漏光層。背面側光學構件包含背面側偏光元件。

Description

液晶顯示裝置與用於該液晶顯示裝置之光學構件及光學構件之套組
本發明係關於一種液晶顯示裝置與用於該液晶顯示裝置之光學構件及光學構件之套組。
於作為代表性之圖像顯示裝置之液晶顯示裝置中，提昇對比度(實質上為防止黑顯示時之漏光)係長久以來之課題。尤其由於近年來伴隨高精細化，背光亮度增加，故而黑顯示時之斜向之漏光引起之對比度降低變得顯著。為抑制此種漏光，已提出多種技術(例如，專利文獻1～3)。然而，先前提出之技術皆在成本、通用性及工業上之實用性等方面尚有改善之餘地。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2015-092262號公報
專利文獻2：日本專利特開2015-111236號公報
專利文獻3：日本專利特開2010-237317號公報
[發明所欲解決之問題]
本發明係為了解決上述先前之問題而完成者，其目的在於提供一種對比度較高且實用性優異之液晶顯示裝置與用於該液晶顯示裝置之光學構件及光學構件之套組。
[解決問題之技術手段]
本發明之液晶顯示裝置具備：液晶單元；視認側光學構件，其配置於該液晶單元之視認側；及背面側光學構件，其配置於該液晶單元之與視認側相反之側。該視認側光學構件包含視認側偏光元件及折射率為1.20以下之防漏光層。該背面側光學構件包含背面側偏光元件。
於一實施形態中，上述視認側光學構件自上述液晶單元側起依序包含上述防漏光層、上述視認側偏光元件及保護層。上述視認側光學構件亦可於上述防漏光層與上述視認側偏光元件之間進而包含其他保護層。或者，上述視認側光學構件亦可於上述防漏光層之與上述視認側偏光元件相反之側進而包含其他保護層。
於另一實施形態中，上述視認側光學構件自上述液晶單元側起依序包含上述視認側偏光元件、保護層及上述防漏光層。上述視認側光學構件亦可於上述視認側偏光元件之與上述保護層相反之側進而包含其他保護層。
於一實施形態中，上述視認側光學構件亦可於較上述防漏光層靠視認側進而包含抗反射層。
於一實施形態中，上述背面側光學構件進而包含光擴散層。
於一實施形態中，上述液晶顯示裝置為IPS(In-Plane Switching，橫向電場效應)模式或VA(Vertical Alignment，垂直配向)模式。
根據本發明之另一態樣，提供一種光學構件。該光學構件係包括偏光元件及折射率為1.20以下之防漏光層，且配置於液晶顯示裝置之視認側的視認側光學構件。
於一實施形態中，上述光學構件亦可於較上述防漏光層靠視認側進而包含抗反射層。
根據本發明之進而另一態樣，提供一種光學構件之套組。該光學構件之套組包括：視認側光學構件，其包含視認側偏光元件及折射率為1.20以下之防漏光層；及背面側光學構件，其包含背面側偏光元件。
於一實施形態中，上述背面側光學構件進而包含光擴散層。
[發明之效果]
根據本發明，藉由於液晶顯示裝置之視認側光學構件設置折射率為1.20以下之防漏光層，能夠實現顯著防止黑顯示時之斜向之漏光，且正面方向之對比度較高的液晶顯示裝置。進而，此種防漏光層無需特別之製造裝置、昂貴之材料及複雜之製造製程即可製作，因此本發明之液晶顯示裝置之實用性亦極為優異。
A.液晶顯示裝置之整體構成
首先，對於液晶顯示裝置之整體構成，參照圖式對代表性之實施形態進行說明。為易於觀看，圖式中各層及構成要素之厚度之比率與實際不同。
圖1係說明本發明之一實施形態之液晶顯示裝置之概略剖視圖。圖示例之液晶顯示裝置100具備：液晶單元10；視認側光學構件20，其配置於液晶單元10之視認側；背面側光學構件30，其配置於液晶單元10之與視認側相反之側；及背光單元(未圖示)，其配置於背面側光學構件30之與液晶單元10相反之側。
視認側光學構件20包含視認側偏光元件21及防漏光層25。防漏光層25之折射率為1.20以下。藉由將具有此種折射率之防漏光層設置於視認側光學構件，能夠實現顯著防止黑顯示時之斜向之漏光，且正面方向之對比度較高的液晶顯示裝置。更詳細而言，能夠藉由如下機制實現此種效果：根據先前之構成，自背光單元出射並通過背面側偏光板而偏光之光由於液晶單元內之相位差及散射等，於一部分之偏光潰散之狀態下入射至視認側之偏光板。此種一部分之偏光潰散之狀態之光於視認側之偏光板未被充分吸收，尤其會顯著發生斜向之漏光。另一方面，根據本發明之實施形態，藉由將折射率為1.20以下之防漏光層設置於較液晶單元靠視認側，從而基於斯奈爾定律，傾斜(尤其是45°以上)之光於防漏光層進行全反射而返回至背面側，因此能有效率地減少成為漏光之原因之傾斜之光。再者，藉由設置此種防漏光層，雖存在白顯示中之亮度降低之情形，但黑顯示中之亮度抑制之改善效果更大，因此結果，能實現高對比度之液晶顯示裝置。於圖示例中，於視認側偏光元件21之兩側配置有保護層(以下亦稱為外側保護層)22及其他保護層(以下亦稱為內側保護層)23。即，圖示例之視認側光學構件20自液晶單元10側起依序包含防漏光層25、內側保護層23、視認側偏光元件21及外側保護層22。視目的及液晶顯示裝置之構成等，亦可省略外側保護層22及內側保護層23之至少一方。例如，視認側光學構件20可自液晶單元10側起依序包含防漏光層25、視認側偏光元件21及外側保護層22；亦可自液晶單元10側起依序包含防漏光層25、內側保護層23及視認側偏光元件21。視認側光學構件20視需要亦可進而包含表面保護層(未圖示)作為視認側最外層。表面保護層不僅具有表面保護功能，例如亦可具有抗反射功能、硬塗功能、防沾黏功能、防眩功能。
背面側光學構件30包含背面側偏光元件31。於圖示例中，於背面側偏光元件31之兩側配置有保護層(以下亦稱為外側保護層)32及其他保護層(以下亦稱為內側保護層)33。即，圖示例之背面側光學構件30自液晶單元10側起依序包含內側保護層33、背面側偏光元件31及外側保護層32。與視認側光學構件之情形同樣地，視目的及液晶顯示裝置之構成等，亦可省略外側保護層32及內側保護層33之至少一方。背面側光學構件30亦可於外側保護層32之與背面側偏光元件31相反之側進而包含光擴散層(未圖示)。
視認側偏光元件21及背面側偏光元件31代表性地係以相互之吸收軸實質上正交之方式配置。
圖2係說明本發明另一實施形態之液晶顯示裝置之概略剖視圖。於圖示例之液晶顯示裝置101中，視認側光學構件20'自液晶單元10側起依序包含內側保護層23、防漏光層25、視認側偏光元件21及外側保護層22。與圖1之實施形態同樣地，視目的及液晶顯示裝置之構成等，亦可省略外側保護層22及內側保護層23之至少一方。又，視認側光學構件20'視需要亦可進而包含表面保護層(未圖示)作為視認側最外層。
圖3係說明本發明之進而另一實施形態之液晶顯示裝置之概略剖視圖。於圖示例之液晶顯示裝置102中，視認側光學構件20''自液晶單元10側起依序包含內側保護層23、視認側偏光元件21、外側保護層22及防漏光層25。與圖1之實施形態同樣地，視目的及液晶顯示裝置之構成等，亦可省略外側保護層22及內側保護層23之至少一方。於本實施形態中，視認側光學構件20''進而包含表面保護層27作為視認側最外層。即，於本發明中，防漏光層25不會成為視認側最外層。表面保護層27如上所述，不僅具有表面保護功能，例如亦可具有抗反射功能、硬塗功能、防沾黏功能、防眩功能。
液晶顯示裝置之各構成要素可經由任意適當之接著層(例如接著劑層、黏著劑層：未圖示)而積層。
本發明之實施形態之液晶顯示裝置例如亦可於背面側光學構件與背光單元之間進而具備任意適當之光學構件及/或功能層。作為設置於背面側光學構件與背光單元之間之光學構件或功能層，例如可列舉反射型偏光元件、角柱薄片、波長轉換層。又，例如，液晶顯示裝置視目的亦可進而具備任意適當之光學補償層(相位差層)。光學補償層之光學特性(例如折射率橢球、面內相位差、厚度方向相位差、Nz係數、波長相依性)、數量、組合、配置位置等可視目的適當地設定。
上述實施形態可適當組合，可對上述實施形態中之構成要素施加本行業顯而易見之修飾，亦可用光學上等價之構成置換該構成要素。
以下，關於液晶顯示裝置之構成要素，用B項～D項具體進行說明。再者，背光單元不屬於本發明之特徵部分，且可採用業界周知之構成，因此省略詳細說明。
B.液晶單元
如圖1～圖3所示，液晶單元10具有一對基板11、12及夾持於該基板間之作為顯示介質之液晶層13。於一般之構成中，於一基板11上設置有彩色濾光片及黑矩陣，於另一基板12上設置有控制液晶之光電特性之開關元件、對該開關元件賦予閘信號之掃描線及賦予源信號之信號線、以及像素電極。基板11、12之間隔(單元間隙)係由間隔件控制。於基板11、12之與液晶層13相接之側例如可設置包含聚醯亞胺之配向膜等。
於一實施形態中，液晶層13包含不存在電場之狀態下配向成沿面排列之液晶分子。作為使用不存在電場之狀態下配向成沿面排列之液晶分子的驅動模式之代表例，可列舉橫向電場效應(IPS)模式、邊緣電場切換(FFS，Fringe-field Switching)模式等。於另一實施形態中，液晶層13包含不存在電場之狀態下配向成垂直排列之液晶分子。作為使用不存在電場之狀態下配向成垂直排列之液晶分子的驅動模式，例如可列舉垂直配向(VA)模式。VA模式包含多域VA(MVA，Multi-Domain Vertical Alignment)模式。
IPS模式係利用電控雙折射(ECB：Electrically Controlled Birefringence)效應，使不存在電場之狀態下配向成沿面排列之液晶分子例如利用由金屬形成之對向電極與像素電極所產生之平行於基板之電場(亦稱為橫向電場)進行響應。更具體而言，例如，如Technotimes公司出版之「月刊Display 7月號」p.83～p.88(1997年版)或日本液晶學會出版之「液晶vol.2No.4」p.303～p.316(1998年版)中所記載，於常黑模式中，若使液晶單元之未施加電場時之配向方向與一側之偏光元件之吸收軸一致，使上下偏光板正交配置，則於無電場之狀態下成為黑顯示。當有電場時，液晶分子保持平行於基板並且進行旋轉動作，藉此可獲得對應於旋轉角之透過率。再者，上述IPS模式包含採用V字型電極或鋸齒狀電極等之超級橫向電場效應(S-IPS，Super In Plane Switching)模式或超高級橫向電場效應(AS-IPS，Advanced Super In Plane Switching)模式。
C.視認側光學構件
如圖1～圖3所示，視認側光學構件代表性地包含偏光元件(吸收型偏光元件)、內側保護層、外側保護層及防漏光層。換言之，視認側光學構件可作為附防漏光層之偏光板提供。如上所述，防漏光層25之折射率為1.20以下。又，如上所述，亦可省略外側保護層及內側保護層之至少一方。
C-1.偏光元件
作為偏光元件(吸收型偏光元件)21，可採用任意適當之偏光元件。例如，形成偏光元件之樹脂膜可為單層樹脂膜，亦可為兩層以上之積層體。
作為包含單層樹脂膜之偏光元件之具體例，可列舉對聚乙烯醇(PVA，Polyvinyl Alcohol)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施利用碘或二色性染料等二色性物質所進行之染色處理及延伸處理而得者、以及PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。就光學特性優異而言，較佳為使用將PVA系膜利用碘進行染色且進行單軸延伸而得之偏光元件。
上述利用碘之染色例如係藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3～7倍。延伸可於染色處理後進行，亦可一面染色一面進行。又，亦可延伸後進行染色。視需要對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，藉由於染色前將PVA系膜浸漬於水中進行水洗，不僅可洗淨PVA系膜表面之污垢或抗黏連劑，亦可使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。
作為使用積層體而得之偏光元件之具體例，可列舉使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而得的偏光元件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而得的偏光元件例如可藉由如下方式製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，加以乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；對該積層體進行延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光元件。於本實施形態中，延伸代表性地包括將積層體浸漬於硼酸水溶液中進行延伸。進而，延伸視需要可進而包括於在硼酸水溶液中進行延伸之前，將積層體於高溫(例如，95℃以上)下進行空中延伸。所得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材作為偏光元件之保護層)，亦可自樹脂基材/偏光元件之積層體剝離樹脂基材，於該剝離面上積層視目的而定之任意適當之保護層使用。此種偏光元件之製造方法之詳情例如記載於日本專利特開2012-73580號公報。本說明書引用該公報之所有記載作為參考。
偏光元件之厚度例如為30 μm以下，較佳為15 μm以下，更佳為1 μm～12 μm，進而較佳為3 μm～12 μm，特佳為3 μm～8 μm。若偏光元件之厚度為此種範圍內，則能良好地抑制加熱時之捲曲，並且能獲得良好之加熱時之外觀耐久性。
偏光元件較佳為於波長380 nm～780 nm之任意波長下顯示吸收二色性。偏光元件之單體透過率例如為43.0%～46.0%，較佳為44.5%～46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。
上述單體透過率及偏光度可使用分光光度計進行測定。作為上述偏光度之具體測定方法，可測定上述偏光元件之平行透過率(H0 )及正交透過率(H90 )，並利用式：偏光度(%)＝{(H0 －H90 )/(H0 ＋H90 )}1/2 ×100求得。上述平行透過率(H0 )係將2片相同偏光元件以相互之吸收軸平行之方式重疊而製作的平行型積層偏光元件之透過率之值。又，上述正交透過率(H90 )係將2片相同偏光元件以相互之吸收軸正交之方式重疊而製作的正交型積層偏光元件之透過率之值。再者，該等透過率係根據JIS Z 8701-1982之2度視野(C光源)進行視感度補正而得之Y值。
C-2.外側保護層及內側保護層
外側保護層及內側保護層分別係由可用作偏光板之保護膜之任意適當之膜形成。作為成為該膜之主要成分之材料之具體例，可列舉三乙醯纖維素(TAC，Triacetyl Cellulose)等纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降𦯉烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又，亦可列舉(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。此外，例如亦可列舉矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中所記載之聚合物膜。作為該膜之材料，例如可使用含有側鏈具有經取代或未經取代之醯亞胺基之熱塑性樹脂及側鏈具有經取代或未經取代之苯基與腈基之熱塑性樹脂的樹脂組合物，例如可列舉具有包含異丁烯與N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物的樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。各保護層可相同，亦可不同。
保護層之厚度較佳為20 μm～100 μm。保護層可經由接著層(具體而言為接著劑層、黏著劑層)積層於偏光元件，亦可密接(不經由接著層)積層於偏光元件。接著劑層係由任意適當之接著劑形成。作為接著劑，例如可列舉以聚乙烯醇系樹脂為主要成分之水溶性接著劑。以聚乙烯醇系樹脂為主要成分之水溶性接著劑較佳為可進而含有金屬化合物膠體。金屬化合物膠體可為金屬化合物微粒子分散於分散介質中而得者，可為因微粒子之同種電荷之相互排斥引起靜電穩定化而持久具有穩定性者。形成金屬化合物膠體之微粒子之平均粒徑只要不會對偏光特性等光學特性造成不良影響，則可為任意適當之值。較佳為1 nm～100 nm，進而較佳為1 nm～50 nm。其原因在於能使微粒子均勻分散於接著劑層中，確保接著性，且能抑制裂點。再者，所謂「裂點」係指於偏光元件與保護層之界面產生之局部凹凸缺陷。
對於外側保護層22，亦可視需要實施硬塗處理、抗反射處理、防沾黏處理、防眩處理等表面處理。進而/或者對於保護層，亦可視需要實施改善隔著偏光太陽眼鏡視認之情形時之視認性的處理(代表性地為賦予(橢)圓偏光功能、賦予超高相位差)。藉由實施此種處理，即便於隔著偏光太陽眼鏡等偏光透鏡視認顯示畫面之情形時，亦可實現優異之視認性。因此，液晶顯示裝置於室外亦能良好地使用。
內側保護層23於一實施形態中具有光學各向同性。本說明書中所謂「具有光學各向同性」係指面內相位差Re(550)為0 nm～10 nm，厚度方向之相位差Rth(550)為-10 nm～+10 nm。可形成具有光學各向同性之保護層之膜之詳情已記載於日本專利特開2008-180961號公報，本說明書引用其記載作為參考。內側保護層23於另一實施形態中，可為具有特定相位差之相位差膜。相位差膜之光學特性(例如折射率橢球、面內相位差、厚度方向相位差、Nz係數、波長相依性)可視目的、液晶單元之驅動模式等適當地進行設定。
C-3.防漏光層
防漏光層之折射率較佳為儘可能接近空氣之折射率(1.00)。如上所述，防漏光層之折射率為1.20以下，較佳為1.15以下，更佳為1.10以下。防漏光層之折射率之下限例如為1.01。若防漏光層之折射率為此種範圍，則能實現具有高對比度之液晶顯示裝置。
防漏光層代表性地於內部具有空隙。防漏光層之空隙率可取任意適當之值。上述空隙率例如為5%～99%，較佳為25%～95%。藉由使空隙率為上述範圍內，能充分降低防漏光層之折射率，且能獲得較高之機械強度。
作為上述於內部具有空隙之防漏光層，例如可包含具有粒子狀、纖維狀、平板狀之至少一種形狀之結構。形成粒子狀之結構體(構成單元)可為實心粒子，亦可為中空粒子，具體而言，可列舉矽酮粒子或具有微細孔之矽酮粒子、矽土中空奈米粒子或矽土中空奈米球等。纖維狀之構成單元例如係直徑為奈米尺寸之奈米纖維，具體而言，可列舉纖維素奈米纖維或氧化鋁奈米纖維等。平板狀之構成單元例如可列舉奈米黏土，具體而言，可列舉奈米尺寸之膨潤土(例如Kunipia F[商品名])等。又，於防漏光層之空隙結構中，包含形成空隙結構之由單一或一種或複數種所構成之構成單元彼此經由觸媒作用而例如直接或間接進行化學結合的部分。再者，於本發明中，所謂構成單元彼此「間接結合」係指構成單元彼此經由構成單元量以下之少量黏合劑成分結合。所謂構成單元彼此「直接結合」係指構成單元彼此不經由黏合劑成分等而直接結合。
作為構成防漏光層之材料，可採用任意適當之材料。作為上述材料，例如可採用國際公開第2004/113966號說明書、日本專利特開2013-254183號公報及日本專利特開2012-189802號公報中記載之材料。具體而言，例如可列舉：二氧化矽系化合物；水解性矽烷類與其部分水解物及脫水縮合物；有機聚合物；含有矽烷醇基之矽化合物；藉由使矽酸鹽接觸酸或離子交換樹脂而獲得之活性二氧化矽；聚合性單體(例如，(甲基)丙烯酸系單體及苯乙烯系單體)；硬化性樹脂(例如，(甲基)丙烯酸系樹脂、含氟樹脂及胺基甲酸酯樹脂)；及該等之組合。
作為上述有機聚合物，例如可列舉聚烯烴類(例如，聚乙烯及聚丙烯)、聚胺基甲酸酯類、含氟聚合物(例如，以含氟單體單元與用於賦予交聯反應性之結構單元作為構成成分之含氟共聚物)、聚酯類(例如，聚(甲基)丙烯酸衍生物(本說明書中所謂(甲基)丙烯酸係意指丙烯酸及/或甲基丙烯酸，所有「(甲基)」均以此種含義使用))、聚醚類、聚醯胺類、聚醯亞胺類、聚脲類及聚碳酸酯類。
上述材料較佳為包含：二氧化矽系化合物；水解性矽烷類與其部分水解物及脫水縮合物。
作為上述二氧化矽系化合物，例如可列舉：SiO2 (無水矽酸)；包含SiO2 與選自由Na2 O-B2 O3 (硼矽酸)、Al2 O3 (氧化鋁)、B2 O3 、TiO2 、ZrO2 、SnO2 、Ce2 O3 、P2 O5 、Sb2 O3 、MoO3 、ZnO2 、WO3 、TiO2 -Al2 O3 、TiO2 -ZrO2 、In2 O3 -SnO2 及Sb2 O3 -SnO2 所組成之群中之至少一種化合物的化合物(上述「-」表示係複合氧化物)。
作為上述水解性矽烷類，例如可列舉含有可具有取代基(例如氟)之烷基之水解性矽烷類。上述水解性矽烷類與其部分水解物及脫水縮合物較佳為烷氧基矽烷及倍半矽氧烷。
烷氧基矽烷可為單體，亦可為低聚物。烷氧基矽烷單體較佳為具有3個以上之烷氧基。作為烷氧基矽烷單體，例如可列舉甲基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷、四丁氧基矽烷、四丙氧基矽烷、二乙氧基二甲氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷及二甲基二乙氧基矽烷。作為烷氧基矽烷低聚物，較佳為藉由上述單體之水解及縮聚而得之縮聚物。藉由使用烷氧基矽烷作為上述材料，可獲得具有優異之均一性之防漏光層。
倍半矽氧烷係由通式RSiO1.5 (其中，R表示有機官能基)表示之網狀聚矽氧烷之總稱。作為R，例如可列舉烷基(可為直鏈，亦可為支鏈，碳數為1～6)、苯基及烷氧基(例如，甲氧基及乙氧基)。作為倍半矽氧烷之結構，例如可列舉梯型及籠型。藉由使用倍半矽氧烷作為上述材料，可獲得具有優異之均一性、耐候性、透明性及硬度之防漏光層。
作為上述粒子，可採用任意適當之粒子。上述粒子代表性地包含二氧化矽系化合物。
二氧化矽粒子之形狀例如可藉由用穿透式電子顯微鏡觀察而進行確認。上述粒子之平均粒徑例如為5 nm～200 nm，較佳為10 nm～200 nm。藉由具有上述構成，可獲得折射率充分低之防漏光層，且可維持防漏光層之透明性。再者，於本說明書中，所謂平均粒徑意指利用藉由氮吸附法(BET(Brunauer-Emmett-Teller，布厄特)法)測得之比表面積(m2 /g)，由平均粒徑＝(2720/比表面積)之式所得出之值(參照日本專利特開平1-317115號)。
作為獲得防漏光層之方法，例如可列舉：日本專利特開2010-189212號公報、日本專利特開2008-040171號公報、日本專利特開2006-011175號公報、國際公開第2004/113966號說明書及該等參考文獻中記載之方法。具體而言，可列舉：將二氧化矽系化合物，水解性矽烷類與其部分水解物及脫水縮合物之至少任一者水解及縮聚之方法；使用多孔質粒子及/或中空微粒子之方法；利用回彈現象生成氣凝膠層之方法；及使用粉碎利用溶膠凝膠而獲得之凝膠，且使上述粉碎液中之微細孔粒子彼此藉由觸媒等化學結合而成之粉碎凝膠的方法等。但防漏光層不限於此製造方法，可藉由任意之製造方法製造。
防漏光層之霧度例如為0.1%～30%，較佳為0.2～10%。
防漏光層之機械強度例如理想為由BEMCOT(註冊商標)測得之耐擦傷性為60%～100%。
防漏光層與相鄰層之間之抓固力例如為0.01 N/25 mm以上，較佳為0.1 N/25 mm以上，更佳為1 N/25 mm以上。再者，為了提昇上述機械強度或抓固力，可於塗膜形成前後或與任意適當之接著層或其他構件貼合前後之步驟中，實施底塗處理、加熱處理、加濕處理、UV(ultraviolet，紫外線)處理、電暈處理、電漿處理等。
防漏光層之厚度較佳為100 nm～5000 nm，更佳為200 nm～4000 nm，進而較佳為300 nm～3000 nm，特佳為500 nm～2000 nm。只要防漏光層之厚度為此種範圍內，則能夠實現對可見光區域之光充分發揮光學功能，並且具有優異之耐久性之防漏光層。
C-4.表面保護層
表面保護層如上所述，不限於表面保護功能，例如亦可具有抗反射功能、硬塗功能、防沾黏功能、防眩功能。即，表面保護層例如可為抗反射層、硬塗層、防沾黏層、防眩層。作為一例，對抗反射層進行說明。表面保護層之其他例因可採用業界周知之構成，故省略詳細說明。當然，表面保護層亦可為僅有表面保護功能之保護膜(代表性地為透明樹脂膜)。
抗反射層可藉由乾式製程(例如濺鍍)形成，可藉由濕式製程(例如塗佈)形成，亦可組合乾式製程與濕式製程而形成。以下說明以乾式製程形成之抗反射層之一例。
抗反射層例如可為抗反射層用基材(以下簡稱為基材)與抗反射層之積層體。該積層體代表性地係以抗反射層成為視認側之方式貼合於視認側光學構件。基材係用於形成抗反射層。於基材上形成抗反射層，將基材/抗反射層之積層體貼合於視認側光學構件，藉此無需將視認側光學構件供至抗反射層形成製程(代表性地為濺鍍)。其結果，因視認側光學構件不會暴露於高溫中，故可將視認側光學構件之光學特性維持於特定範圍。
作為基材，可使用任意適當之樹脂膜。作為樹脂膜之形成材料，例如可列舉聚對苯二甲酸乙二酯(PET，Polyethylene Terephthalate)等聚酯系樹脂、降𦯉烯系樹脂等環烯烴系樹脂、利用環烯烴(例如降𦯉烯)與α-烯烴(例如乙烯)之加成聚合而得之樹脂(COC，cyclic olefin copolymer，環烯烴共聚物)、三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂。
基材之厚度可視目的適當地設定。基材之厚度代表性地為20 μm～200 μm，較佳為25 μm～100 μm。
於基材之抗反射層側之表面亦可形成硬塗層。藉由形成硬塗層，有可提昇基材與抗反射層之密接性之優點。進而，藉由適當調整硬塗層與抗反射層之折射率差，可進而降低反射率。
硬塗層較佳為具有充分之表面硬度、優異之機械強度及優異之光透過性。硬塗層只要具有此種所期望之特性即可，可由任意適當之樹脂形成。作為樹脂之具體例，可列舉熱硬化型樹脂、熱塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子束硬化型樹脂、二液混合型樹脂。較佳為紫外線硬化型樹脂。其原因在於操作簡便且能高效率地形成硬塗層。
作為紫外線硬化型樹脂之具體例，可列舉聚酯系、丙烯酸系、胺基甲酸酯系、醯胺系、矽酮系、環氧系之紫外線硬化型樹脂。紫外線硬化型樹脂包括紫外線硬化型單體、低聚物、聚合物。作為較佳之紫外線硬化型樹脂，可列舉包含較佳為具有2個以上、更佳為具有3～6個紫外線聚合性官能基之丙烯酸系單體成分或低聚物成分的樹脂組合物。代表性地於紫外線硬化型樹脂中調配有光聚合起始劑。
硬塗層可藉由任意適當之方法而形成。例如，硬塗層可藉由於基材上塗佈硬塗層形成用樹脂組合物，使其乾燥，對乾燥後之塗佈膜照射紫外線使其硬化而形成。
硬塗層之厚度例如為0.5 μm～20 μm，較佳為1 μm～15 μm。
關於硬塗層、及硬塗層與抗反射層之密接結構之詳情，例如已記載於日本專利特開2016-224443號公報。本說明書引用該公報之記載作為參考。
作為抗反射層之構成，可採用任意適當之構成。作為抗反射層之代表性構成，可列舉：(1)光學膜厚為120 nm～140 nm，折射率為1.35～1.55左右之低折射率層之單一層；(2)自基材側起依序具有中折射率層、高折射率層及低折射率層之積層體；(3)高折射率層與低折射率層之交替多層積層體。
作為可形成低折射率層之材料，例如可列舉氧化矽(SiO2 )、氟化鎂(MgF2 )。低折射率層之折射率代表性地為1.35～1.55左右。作為可形成高折射率層之材料，例如可列舉氧化鈦(TiO2 )、氧化鈮(Nb2 O3 或Nb2 O5 )、摻錫氧化銦(ITO，Indium Tin Oxides)、摻銻氧化錫(ATO，Antimony Tin Oxide)、ZrO2 -TiO2 。高折射率層之折射率代表性地為1.60～2.20左右。作為可形成中折射率層之材料，例如可列舉氧化鈦(TiO2 )、可形成低折射率層之材料與可形成高折射率層之材料之混合物(例如氧化鈦與氧化矽之混合物)。中折射率層之折射率代表性地為1.50～1.85左右。低折射率層、中折射率層及高折射率層之厚度可以實現與抗反射層之層結構及所期望之抗反射性能等對應之適當之光學膜厚的方式進行設定。
抗反射層代表性地係藉由乾式製程而形成。作為乾式製程之具體例，可列舉PVD(Physical Vapor Deposition，物理氣相沈積)法、CVD(Chemical Vapor Deposition，化學氣相沈積)法。作為PVD法，可列舉真空蒸鍍法、反應性蒸鍍法、離子束輔助法、濺鍍法、離子鍍覆法。作為CVD法，可列舉電漿CVD法。較佳為濺鍍法。其原因在於能夠實現膜厚不均較小之更均一之成膜。
抗反射層之厚度例如為20 nm～300 nm左右。
D.背面側光學構件
如圖1～圖3所示，背面側光學構件代表性地包含偏光元件(吸收型偏光元件)、內側保護層及外側保護層。換言之，背面側光學構件可作為偏光板提供。如上所述，背面側光學構件亦可進而包含光擴散層。又，亦可省略外側保護層及內側保護層之至少一方。對於偏光元件、外側保護層及內側保護層之具體構成，如關於視認側光學構件而於上述C-1項及C-2項所述(但背面側光學構件之外側保護層32無需表面處理)。再者，視認側偏光元件與背面側偏光元件可為同一構成，亦可為不同構成。同樣地，視認側光學構件之外側保護層與背面側光學構件之外側保護層可為同一構成，亦可為不同構成；視認側光學構件之內側保護層與背面側光學構件之內側保護層可為同一構成，亦可為不同構成。
D-1.光擴散層
光擴散層可由光擴散元件構成，亦可由光擴散黏著劑構成。光擴散元件包含基質及分散於該基質中之光擴散性微粒子。光擴散黏著劑之基質由黏著劑構成。
光擴散層之光擴散性能例如可用霧度值及/或光擴散半值角表示。光擴散層之霧度值較佳為50%～95%，更佳為60%～95%，進而較佳為70%～95%。藉由使霧度值為上述範圍內，能獲得所期望之擴散性能，並且能良好地抑制水波紋之產生。光擴散層之光擴散半值角較佳為5°～50°，更佳為10°～30°。光擴散層之光擴散性能可藉由調整基質(於光擴散黏著劑之情形時為黏著劑)之構成材料與光擴散性微粒子之構成材料、體積平均粒徑及調配量等而進行控制。
光擴散層之全光線透過率較佳為75%以上，更佳為80%以上，進而較佳為85%以上。
光擴散層之厚度可視構成及擴散性能等適當地調整。例如，於光擴散層由光擴散元件構成之情形時，厚度較佳為5 μm～200 μm。又例如，於光擴散層由光擴散黏著劑構成之情形時，厚度較佳為5 μm～100 μm。
如上所述，光擴散層可由光擴散元件構成，亦可由光擴散黏著劑構成。於光擴散層由光擴散元件構成之情形時，光擴散層包含基質與分散於該基質中之光擴散性微粒子。基質例如由輻射硬化型樹脂構成。作為輻射，例如可列舉紫外線、可見光、紅外線、電子束。較佳為紫外線，因此，基質較佳為由紫外線硬化型樹脂構成。作為紫外線硬化型樹脂，例如可列舉丙烯酸系樹脂、脂肪族系(例如聚烯烴)樹脂、胺基甲酸酯系樹脂。關於光擴散性微粒子，如對光擴散層由光擴散黏著劑構成之形態於後文所述。
較佳為光擴散層由光擴散黏著劑構成。藉由採用此種構成，無需於光擴散層由光擴散元件構成之情形時必要之接著層(接著劑層或黏著劑層)，因此有助於液晶顯示裝置之薄型化，且可排除接著層對液晶顯示裝置之顯示特性之不良影響。於此情形時，光擴散層包含黏著劑及分散於該黏著劑中之光擴散性微粒子。作為黏著劑，可使用任意適當者。作為具體例，可列舉橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、矽酮系黏著劑、環氧系黏著劑、纖維素系黏著劑等，較佳為丙烯酸系黏著劑。藉由使用丙烯酸系黏著劑，可獲得耐熱性及透明性優異之光擴散層。黏著劑可單獨使用，亦可組合2種以上使用。
作為丙烯酸系黏著劑，可使用任意適當者。丙烯酸系黏著劑之玻璃轉移溫度較佳為-60℃～-10℃，更佳為-55℃～-15℃。丙烯酸系黏著劑之重均分子量較佳為20萬～200萬，更佳為25萬～180萬。藉由使用具有此種特性之丙烯酸系黏著劑，可獲得適當之黏著性。丙烯酸系黏著劑之折射率較佳為1.40～1.65，更佳為1.45～1.60。
上述丙烯酸系黏著劑通常係使賦予黏著性之主單體、賦予凝集性之共聚單體、賦予黏著性且成為交聯點之含官能基之單體進行聚合而獲得。具有上述特性之丙烯酸系黏著劑可利用任意適當之方法合成，例如可參考大日本圖書(股)發行、中前勝彥著之「接著、黏著之化學與應用」進行合成。
光擴散層中之黏著劑之含量較佳為50重量%～99.7重量%，更佳為52重量%～97重量%。
作為光擴散性微粒子，可使用任意適當者。作為具體例，可列舉無機微粒子、高分子微粒子等。光擴散性微粒子較佳為高分子微粒子。作為高分子微粒子之材質，例如可列舉矽酮樹脂、甲基丙烯酸系樹脂(例如，聚甲基丙烯酸甲酯)、聚苯乙烯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂。該等樹脂具有對黏著劑之優異之分散性及與黏著劑之適當之折射率差，因此能獲得擴散性能優異之光擴散層。較佳為矽酮樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯。光擴散性微粒子之形狀例如可為真球狀、扁平狀、不定形狀。光擴散性微粒子可單獨使用，亦可組合兩種以上使用。
光擴散性微粒子之體積平均粒徑較佳為1 μm～10 μm，更佳為1.5 μm～6 μm。藉由使體積平均粒徑為上述範圍內，能獲得具有優異之光擴散性能之光擴散層。體積平均粒徑例如可使用超離心式自動粒度分佈測定裝置測定。
光擴散性微粒子之折射率較佳為1.30～1.70，更佳為1.40～1.65。
光擴散性微粒子與基質(代表性地為輻射硬化型樹脂或黏著劑)之折射率差之絕對值較佳為超過0且為0.2以下，更佳為超過0且為0.15以下，進而較佳為0.01～0.13。
光擴散層中之光擴散性微粒子之含量較佳為0.3重量%～50重量%，更佳為3重量%～48重量%。藉由使光擴散性微粒子之調配量為上述範圍內，能獲得具有優異之光擴散性能之光擴散層。
E.光學構件及光學構件之套組
由本說明書可知：本發明之主要特徵之一在於採用折射率為1.20以下之防漏光層。因此，本發明之實施形態不僅包含液晶顯示裝置，亦包含具有此種防漏光層之視認側光學構件。進而，本發明之實施形態亦包含此種視認側光學構件與背面側光學構件之套組。
實施例
以下利用實施例具體說明本發明，但本發明並不限於該等實施例。實施例中之試驗及評價方法如下所述。又，若無特別說明，則實施例中之「份」及「%」係重量基準。
(1)防漏光層之折射率
將實施例中所使用之視認側光學構件切割為50 mm×50 mm之尺寸，製成測定試樣。將此測定試樣經由黏著劑而貼合於玻璃板(厚度：3 mm)之表面。用黑色標記油墨塗抹上述玻璃板之背面中央部(直徑20 mm左右)，製成不於該玻璃板之背面反射之試樣。於橢圓偏光計(J.A.Woollam Japan公司製造：VASE)中放置上述試樣，於波長500 nm、入射角50～80度之條件下測定防漏光層之折射率。
(2)斜向之漏光及正面對比度
使實施例及比較例中所得之液晶顯示裝置顯示白圖像及黑圖像，使用AUTRONIC MELCHERS公司製造之錐光偏振儀測定極角0°～80°方向及方位角0°～359°方向之亮度。關於漏光，係使用漏光容易顯眼之視認方向之角度(極角60°、方位角225°)之黑亮度之值作為代表值。關於對比度，係根據正面(極角0°及方位角0°)之(白顯示之正面亮度)/(黑顯示之正面亮度)算出。
[製造例1]偏光板之製作
將以聚乙烯醇為主要成分之高分子膜[可樂麗製造，商品名「9P75R(厚度：75 μm，平均聚合度：2,400，皂化度99.9莫耳%)」]一面於水浴中浸漬1分鐘一面朝搬送方向延伸至1.2倍後，於碘濃度0.3重量%之水溶液中浸漬1分鐘，藉此一面染色一面朝搬送方向以完全未延伸之膜(原長)為基準延伸至3倍。繼而，將該延伸膜一面浸漬於硼酸濃度4重量%、碘化鉀濃度5重量%之水溶液中，一面朝搬送方向進而以原長為基準延伸至6倍，且於70℃下乾燥2分鐘，藉此獲得偏光元件。
另一方面，於三乙醯纖維素(TAC)膜(柯尼卡美能達公司製造，商品名「KC4UYW」，厚度：40 μm)之單面塗佈含氧化鋁膠體之接著劑，將其於上述所得之偏光元件之單面以兩者之搬送方向平行之方式利用卷對卷進行積層。再者，含氧化鋁膠體之接著劑係以如下方式製備：相對於100重量份之具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂(平均聚合度1200、皂化度98.5莫耳%、乙醯乙醯化度5莫耳%)，將50重量份之羥甲基三聚氰胺溶解於純水中，製備固形物成分濃度為3.7重量%之水溶液，且相對於100重量份之該水溶液，添加18重量份之以固形物成分濃度10重量%含有具有正電荷之氧化鋁膠體(平均粒徑15 nm)之水溶液。繼而，於偏光元件之相反側塗佈相同之含氧化鋁膠體之接著劑，貼合經皂化處理之40 μm厚之丙烯酸系樹脂膜，獲得偏光板1。
[製造例2]偏光板之製作
除使用環烯烴系樹脂之相位差膜(日本瑞翁公司製造，商品名「ZB-12」，面內相位差Re(550)＝50 nm，厚度40 μm)代替製造例1之丙烯酸系樹脂膜外，以與製造例1相同之方式獲得偏光板2。
[製造例3]防漏光層形成用塗佈液之製備
3-1.矽化合物之凝膠化
於2.2 g之DMSO(dimethyl sulfoxide，二甲亞碸)中溶解0.95 g之作為矽化合物之前驅物的MTMS(Methyltrimethoxysilane，甲基三甲氧基矽烷)而製備混合液A。於該混合液A中添加0.01 mol/L之草酸水溶液0.5 g，並於室溫下攪拌30分鐘，藉此水解MTMS而生成含三(羥基)甲基矽烷之混合液B。
向5.5 g之DMSO中添加28重量%之氨水0.38 g及純水0.2 g後，進而追加添加上述混合液B，於室溫下攪拌15分鐘，藉此進行三(羥基)甲基矽烷之凝膠化，獲得含有凝膠狀矽化合物之混合液C。
3-2.熟化處理
將以上述方式製備之含有凝膠狀矽化合物之混合液C直接於40℃下保溫20小時而進行熟化處理。
3-3.粉碎處理
繼而，使用刮勺將以上述方式經熟化處理之凝膠狀矽化合物粉碎為數mm～數cm尺寸之顆粒狀。繼而，向混合液C中添加IPA(isopropylamine，異丙胺)40 g，輕輕攪拌後，於室溫下靜置6小時，傾析凝膠中之溶劑及觸媒。藉由進行3次同樣之傾析處理，而置換溶劑，獲得混合液D。繼而，對混合液D中之凝膠狀矽化合物進行粉碎處理(高壓無介質粉碎)。粉碎處理(高壓無介質粉碎)係使用均質機(SMT公司製造，商品名「UH-50」)，向5 cc之螺旋口瓶中稱取混合液D'中之凝膠狀化合物1.85 g及IPA 1.15 g後，於50 W、20 kHz之條件下粉碎2分鐘。
藉由該粉碎處理，上述混合液D中之凝膠狀矽化合物被粉碎，藉此該混合液D'成為粉碎物之溶膠液。用動態光散射式NANOTRAC粒度分析儀(日機裝公司製造，UPA-EX150型)對表示混合液D'中所含之粉碎物之粒度偏差的體積平均粒徑進行確認，結果為0.50～0.70。進而，相對於0.75 g之該溶膠液(混合液D')，以0.062 g之比率添加光鹼產生劑(和光純藥工業股份有限公司：商品名WPBG266)之1.5重量%濃度MEK(methyl ethyl ketone，甲基乙基酮)溶液，以0.036 g之比率添加雙(三甲氧基矽烷基)乙烷之5%濃度MEK溶液，獲得防漏光層形成用塗佈液。
[實施例1]
1-1.視認側光學構件及背面側光學構件之製作
於製造例1中製作之偏光板1之丙烯酸系樹脂膜之表面塗佈製造例3中製備之防漏光層形成用塗佈液。此時，所形成之塗佈層之濕厚度(乾燥前之厚度)為約27 μm。將該塗佈層於100℃之溫度下處理1分鐘進行乾燥，進而，對乾燥後之塗佈層使用波長360 nm之光以300 mJ/cm2 之光照射量(能量)進行UV照射，而於偏光板1上形成防漏光層，獲得視認側光學構件。防漏光層之折射率為1.15。另一方面，直接使用偏光板1作為背面側光學構件。
1-2.液晶顯示裝置之製作及評價
自IPS模式之液晶顯示裝置(Apple公司製造，商品名「iPad(註冊商標)2」)取出液晶單元。卸除貼附於該液晶單元之兩面之光學構件，洗淨去除面(基板之外側表面)。繼而，於該液晶單元之視認側，以防漏光層成為液晶單元側之方式，經由丙烯酸系黏著劑貼合上述1-1中所得之視認側光學構件。進而，於該液晶單元之與視認側相反之側，以丙烯酸系樹脂膜成為液晶單元側之方式，經由丙烯酸系黏著劑貼合上述1-1中所得之背面側光學構件。此處，視認側光學構件及背面側光學構件係以視認側偏光元件之吸收軸與背面側偏光元件之吸收軸實質上正交之方式貼合於液晶單元。最後，再次組裝原本之液晶顯示裝置中配備之背光單元，獲得本實施例之液晶顯示裝置。將所得之液晶顯示裝置供於上述(2)之評價。將結果示於表1。
[比較例1]
除於視認側光學構件未設置防漏光層外，以與實施例1相同之方式獲得液晶顯示裝置。將所得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[實施例2]
除使用偏光板2代替偏光板1，且於TAC膜之表面形成防漏光層外，以與實施例1相同之方式獲得視認側光學構件。又，直接使用偏光板2作為背面側光學構件。另一方面，自VA模式之液晶顯示裝置(BenQ公司製造，商品名「GW2265」)取出液晶單元。使用該等視認側光學構件、背面側光學構件及液晶單元，以防漏光層成為視認側之方式將視認側光學構件貼合於液晶單元之視認側，且於防漏光層之視認側貼合丙烯酸系樹脂膜(厚度40 μm)作為表面保護層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得液晶顯示裝置。將所得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[比較例2]
除於視認側光學構件未設置防漏光層外，以與實施例2相同之方式獲得液晶顯示裝置。將所得之液晶顯示裝置供於與實施例1相同之評價。將結果示於表1。
[表1]
[評價]
由表1可知：本發明之實施例之液晶顯示裝置藉由於視認側光學構件設置防漏光層，能夠實現與比較例相比斜向之漏光顯著減少，且與比較例相比具有明顯高之正面對比度的液晶顯示裝置。
[產業上之可利用性]
本發明之液晶顯示裝置可用於攜帶型資訊終端(PDA，portable information terminal)、行動電話、時鐘、數位相機、攜帶型遊戲機等行動裝置，電腦顯示器、筆記型電腦、影印機等OA(Office Automation，辦公自動化)設備，攝錄影機、液晶電視、微波爐等家用電器，後部監視器、汽車導航系統用監視器、汽車音響等車載設備，商業店鋪用資訊用監視器等展示設備，監視用監視器等安保設備，護理用監視器、醫療用監視器等護理/醫療設備等各種用途。
10‧‧‧液晶單元
11‧‧‧基板
12‧‧‧基板
13‧‧‧液晶層
20‧‧‧視認側光學構件
20'‧‧‧視認側光學構件
20''‧‧‧視認側光學構件
21‧‧‧視認側偏光元件
22‧‧‧外側保護層
23‧‧‧內側保護層
25‧‧‧防漏光層
27‧‧‧表面保護層
30‧‧‧背面側光學構件
31‧‧‧背面側偏光元件
32‧‧‧外側保護層
33‧‧‧內側保護層
100‧‧‧液晶顯示裝置
101‧‧‧液晶顯示裝置
102‧‧‧液晶顯示裝置
圖1係說明本發明之一實施形態之液晶顯示裝置之概略剖視圖。
圖2係說明本發明之另一實施形態之液晶顯示裝置之概略剖視圖。
圖3係說明本發明之進而另一實施形態之液晶顯示裝置之概略剖視圖。

Claims (13)

  1. 一種液晶顯示裝置，其具備： 液晶單元；視認側光學構件，其配置於該液晶單元之視認側；及背面側光學構件，其配置於該液晶單元之與視認側相反之側； 該視認側光學構件包含視認側偏光元件及折射率為1.20以下之防漏光層；且 該背面側光學構件包含背面側偏光元件。
  2. 如請求項1之液晶顯示裝置，其中上述視認側光學構件自上述液晶單元側起依序包含上述防漏光層、上述視認側偏光元件及保護層。
  3. 如請求項2之液晶顯示裝置，其中上述視認側光學構件於上述防漏光層與上述視認側偏光元件之間進而包含其他保護層。
  4. 如請求項2之液晶顯示裝置，其中上述視認側光學構件於上述防漏光層之與上述視認側偏光元件相反之側進而包含其他保護層。
  5. 如請求項1之液晶顯示裝置，其中上述視認側光學構件自上述液晶單元側起依序包含上述視認側偏光元件、保護層及上述防漏光層。
  6. 如請求項5之液晶顯示裝置，其中上述視認側光學構件於上述視認側偏光元件之與上述保護層相反之側進而包含其他保護層。
  7. 如請求項1至6中任一項之液晶顯示裝置，其中上述視認側光學構件於較上述防漏光層靠視認側進而包含抗反射層。
  8. 如請求項1至7中任一項之液晶顯示裝置，其中上述背面側光學構件進而包含光擴散層。
  9. 如請求項1至8中任一項之液晶顯示裝置，其為IPS模式或VA模式。
  10. 一種光學構件，其包含偏光元件及折射率為1.20以下之防漏光層，且配置於液晶顯示裝置之視認側。
  11. 如請求項10之光學構件，其於較上述防漏光層靠視認側進而包含抗反射層。
  12. 一種光學構件之套組，其包括： 視認側光學構件，其包含視認側偏光元件及折射率為1.20以下之防漏光層；及 背面側光學構件，其包含背面側偏光元件。
  13. 如請求項12之光學構件之套組，其中上述背面側光學構件進而包含光擴散層。
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