TW201913864A - 檢測晶圓載具的設備、方法及系統 - Google Patents

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Abstract

本揭露公開了一種晶圓載具檢測設備。在一實例中，設備包括：在外壁上具有開口的殼體；在殼體外的加載埠；在殼體內的機械手臂；以及處理器。加載埠耦接於外壁，且配置以加載晶圓載具從而進行檢測。機械手臂配置以移動連接到機械手臂的第一相機。第一相機配置以拍攝晶圓載具的多個影像。處理器配置以處理所述多個影像，以檢測晶圓載具。

Description

檢測晶圓載具的設備、方法及系統
在半導體元件的製造期間，通常在許多工作站或加工機器上對元件進行處理。部分完成的元件或在製（work-in-process，WIP）部件（例如半導體晶圓）的運輸或輸送是整個製造製程中的要點。必須在各個製程站點之間儲存或運輸半導體晶圓，以進行各種製造製程。
在半導體製造製程中，通常晶圓載具在不同晶圓加工裝置或其他工具的加載埠（load port）之間一次儲存和運輸多個晶圓。晶圓載具包括可承載多個晶圓（例如是尺寸為200 mm或8 inch的晶圓）的標準機械介面（standard mechanical interface，SMIF）盒，或可承載尺寸為300 mm（12 inch）或450 mm（18 inch）的較大晶圓的前開式一體晶圓傳送盒（front opening unified pod，FOUP）。一般來說，晶圓載具設計為最少可承載單一晶圓。更具體地說，晶圓載具可以包括多個槽位（slot），每個槽位可以容納一晶圓。典型地，晶圓載具承載約25個晶圓。
通常使用空中懸吊式傳輸（overhead hoist transfer，OHT）系統以在處理程序中將晶圓載具（例如FOUP或SMIF）從一個工具的加載埠運輸到下一個工具的加載埠。由OHT傳輸系統運輸的晶圓載具通常具有門，以在傳輸過程中控制生產品質。舉例而言，晶圓載具的門能夠密封晶圓載具以防外部污染物的進入，從而保持晶圓載具內的晶圓之潔淨度，及/或保護晶圓以免於從晶圓載具脫落。
由於重複使用和運輸，晶圓載具可能存在品質缺陷（quality defect）或甚至是災難性故障（catastrophic failure），此會影響被承載於晶圓載具內的晶圓的品質。舉例而言，晶圓載具可能具有破損的榫（tenon）、磨損的微型接點、栓鎖鑰匙槽（latch key groove）上或過濾器上的缺陷。目前還沒有檢測晶圓載具的工具來檢測這些晶圓載具上的缺陷。因此，期望開發出用於檢測晶圓載具的設備和方法。
以下公開內容提供用於實作本發明的不同特徵的許多不同的實施例或實例。以下闡述組件及排列的具體實例以簡化本公開內容。當然，這些僅爲實例且不旨在進行限制。舉例來說，以下說明中將第一特徵形成在第二特徵“之上”或第二特徵“上”可包括其中第一特徵及第二特徵被形成爲直接接觸的實施例，且也可包括其中第一特徵與第二特徵之間可形成有附加特徵、進而使得所述第一特徵與所述第二特徵可能不直接接觸的實施例。另外，本公開內容可能在各種實例中重複使用參考編號及/或字母。這種重複使用是出於簡潔及清晰的目的，而不是自身表示所論述的各種實施例及/或配置之間的關係。
此外，爲易於說明，本文中可能使用例如“之下（beneath）”、“下面（below）”、“下部的（lower）”、“上方（above）”、“上部的（upper）”等空間相對性術語來闡述圖中所示的一個元件或特徵與另一（其他）元件或特徵的關係。所述空間相對性術語旨在除圖中所繪示的取向外還囊括裝置在使用或操作中的不同取向。設備可具有其他取向（旋轉90度或處於其他取向），且本文中所用的空間相對性描述語可同樣相應地進行解釋。除非另有明確地說明，則諸如“附接（attached）”、“附著（affixed）”、“連接（connected）”和“互連（interconnected）”等術語是指一結構直接地或經由中間結構而間接地固定（secured）或附接至另一結構的關係，或指兩者均為可移動的或固定的附著或相對關係。
除非另外定義，否則本文的所有術語（包括技術和科學術語）具有與所屬領域中具有通常知識者所通常理解之涵義相同的涵義。將進一步理解，術語（諸如常用詞典中所定義之術語）應被解釋為具有與其在相關技術之上下文中之涵義一致的涵義，且不會以理想化或過於正式的意義來解釋，除非本文明確如此限定。
現將詳細地參考本發明的示例性實施例，示例性實施例的實例說明於圖式中。只要有可能，相同元件符號在圖式和描述中用來表示相同或相似的部分。
晶圓載具是用於儲存、運輸和處理半導體晶圓的典型元件。在半導體製造製程中，通常晶圓載具在不同晶圓加工裝置或其他工具的加載埠（load port）之間一次儲存和運輸多個晶圓。晶圓載具包括可承載多個晶圓（例如是尺寸為200 mm或8 inch的晶圓）的標準機械介面（standard mechanical interface，SMIF）盒，或可承載尺寸為300 mm（12 inch）或450 mm（18 inch）的較大晶圓的前開式一體晶圓傳送盒（front opening unified pod，FOUP）。一般來說，晶圓載具設計為最少可承載單一晶圓。更具體地說，晶圓載具可以包括多個槽位（slot），每個槽位可以容納一晶圓。典型地，晶圓載具承載約25個晶圓。
通常使用空中懸吊式傳輸（overhead hoist transfer，OHT）系統以在處理程序中將晶圓載具（例如FOUP或SMIF）從一個工具的加載埠運輸到下一個工具的加載埠。由於重複使用和運輸，晶圓載具可能存在品質缺陷（quality defect）或甚至是災難性故障（catastrophic failure），例如是破損的榫（tenon）、磨損的微型接點、栓鎖鑰匙槽（latch key groove）上或過濾器上的缺陷，其將會對承載於晶圓載具內的晶圓之品質造成影響。
為了及時檢測晶圓載具的缺陷，本揭露介紹了用於自動地與系統性地檢測晶圓載具的設備和方法。在一些實施例中，設備整合了6軸機械手臂、一或多個相機以及加載/卸載機構，以共同地實現自動晶圓載具檢測。
在一實施例中，設備包括在其外壁上具有開口的殼體、在殼體外的加載埠、在殼體內的機械手臂以及處理器。加載埠耦接至所述外壁，並配置成經由所述開口加載晶圓載具，以供檢測。機械手臂可以有6個旋轉軸以用於移動連接到機械手臂的第一相機。第一相機可以是電荷耦接元件（charge coupled device，CCD）相機，配置以拍攝晶圓載具的多個影像。處理器可以處理所述多個影像，以藉由例如是在所述多個影像上應用自動光學檢測（automated optical inspection，AOI）演算法檢測晶圓載具是否存在品質缺陷和災難性故障。
在一些實施例中，加載埠包括輸入檯（input table），配置以接收晶圓載具。該晶圓載具具有面向位於所述外壁上的開口的門。輸入檯可以沿著垂直於所述外壁的第一方向而相對於殼體移動。設備更可包括殼體內的開啟機構（opening mechanism），用於將晶圓載具的門沿第一方向打開，並在檢測晶圓載具時將門沿與第一方向不同的第二方向移動到殼體內的停留區域（rest area）。
機械手臂上的CCD相機可以在門打開之前拍攝晶圓載具的門之外側的第一影像，且在打開門之後拍攝晶圓載具內的一或多個影像。根據這些影像，處理器可以判斷門的栓鎖鑰匙凹槽是否存在缺陷、過濾器是否存在缺陷、榫是否有缺陷或斷裂以及晶圓載具中的微型接點是否磨損。
設備更可包括第二相機。第二相機位於殼體內以及開啟機構的上方。相較於一般的門開啟機構，所述門沿第一方向開啟更遠的距離，例如至少距離晶圓載具15 cm，以使第二相機可拍攝到門的頂側的第二影像。處理器被配置為根據第二影像來判斷門上的密封條（sealing strip）是否磨損。
設備更可包括第三相機。第三相機位於殼體內部，並且面向停留區域。在門移到停留區域後，第三相機可以拍攝到門的內側的第三影像。處理器被配置為根據第三影像來判斷門的內側上是否存在缺陷。
設備可以進一步包括第四相機。第四相機位於殼體外，並耦接到外壁。第四相機可拍攝晶圓載具的冠部（top head）的影像。冠部配置為空中運輸工具，例如是OHT系統，以拾取和運輸晶圓載具。處理器配置成根據影像判斷冠部是否存在疏鬆或遺失的螺絲，以及判斷冠部是否彎曲。
設備更可包括關閉機構（closing mechanism）。關閉機構被配置以用於在檢測之後將門沿著第二方向從停留區域移回；並將門沿著第一方向關回晶圓載具上。在一些實施例中，關閉機構與開啟機構相同。在其他實施例中，關閉機構與開啟機構為不同的裝置。
在一些實施例中，加載埠包括感測器。感測器被配置以產生晶圓載具的底板（bottom plate）的影像。處理器被配置為進行以下操作的至少一者：根據影像判斷在底板上的入口和出口的氣流是否順暢；根據影像判斷底板上的螺絲是否疏鬆或遺失；以及根據影像校驗底板上的資訊接墊（information pad）的狀態。
在接收一或多個指令時，處理器也可以進行以下操作的至少一者：切換設備的遠端（remote）和近端（local）的操作模式；切換加載埠的自動和手動的加載模式；調整機械手臂以判斷第一相機的位置和方向；以及調整第一相機的一或多個光學參數。
據了解，本揭露適用於各種晶圓載具的自動檢測。適用的晶圓載具包括，但不限於，SMIF、FOUP以及前開式傳送盒（front opening shipping box，FOSB）。所公開的設備可以監測晶圓載具的品質/缺陷狀態，並將狀態即時（例如是在幾秒鐘內）報告至上級系統（upper level system）。所公開的設備可以對檢測結果應用自動量化標準（automatic quantified standard）來判斷晶圓載具的狀態，而不是依靠人為的手動判斷。由於晶圓載具的缺陷會對半導體晶圓的品質造成影響，所公開的自動晶圓載具檢測方法可藉由及時檢測晶圓載具的缺陷來提高半導體的製造良率、減少使用具有缺陷的晶圓載具及/或即時對晶圓載具的缺陷進行處理。
圖1A根據本揭露的一些實施例示出包括各種構件的示例性晶圓載具檢測元件100。圖1B根據本揭露的一些實施例示出在圖1A中所示的示例性晶圓載具檢測元件100的詳細的側透視圖。如圖1A和圖1B所示，示例性的晶圓載具檢測元件100包括機械手臂110、機械手臂上的相機120、固定的相機130、加載埠140、開啟機構150以及處理器170，其可進行自動光學檢測演算法160來進行自動晶圓載檢測。
本實例中的晶圓載具檢測元件100包括殼體102。殼體102的外壁104上具有開口106。加載埠140位於殼體102外，且耦接至外壁104。加載埠140包括輸入檯142，其被配置為接收具有面向外壁104上的開口106的門的晶圓載具（圖1A或圖1B中未示出）。在檢測過程中，晶圓載具內部不含晶圓。輸入檯142在至少沿著垂直於外壁104的第一方向（亦即沿圖1B所示的-X方向）上可相對於殼體102移動。
在一些實施例中，加載埠140可被客製化為包括感測器，其被配置以產生放置在檯（輸入檯）142上的晶圓載件的底板的影像。可使用影像來判斷底板上的入口氣流和出口氣流是否順暢、底板上的螺絲是否疏鬆或遺失、以及校驗底板上的資訊接墊的狀態。
當晶圓載具放置於輸入檯142上時，位於殼體102外且耦接至外壁104的相機132可拍攝晶圓載具的冠部的影像。當載具被放置在檯（輸入檯）142上時，相機132位於載具上方。冠部配置為空中運輸工具（例如OHT），以拾取和運輸晶圓載具。根據這個影像，處理器170可以判斷冠部的螺絲是否疏鬆或遺失，以及判斷冠部是否彎曲。
加載埠140可以加載晶圓載具，以進行檢測。當被加載時，晶圓載具的門可以沿-X方向移動進入殼體102內部，使得開啟機構150可以打開晶圓載具的門。機械手臂110上的相機120可以在門打開前拍攝晶圓載具的門之外側的影像。根據該影像，處理器170可以根據第一影像判斷門的栓鎖凹槽上是否存在缺陷。
開啟機構150位於殼體102的內部，並且可相對於殼體102沿著Z / -Z（上下）和X / -X（前後）方向移動。在本實例中，為了打開晶圓載具的門，開啟機構150可以沿著Z方向朝上移動，以在同一高度上與門對齊。然後，開啟機構150可以沿著X方向向前移動，以便耦接到門，並且例如使用栓鎖鑰匙打開門。在開啟門之後，開啟機構150可沿-X方向向後移動以將門從晶圓載具分離，然後將門沿-Z方向朝下移動到殼體102內的停留區域152。門被保持在停留區域152中，而此時機械手臂110上的相機120對晶圓載具的內部進行檢測。
可以理解的是，一旦門可裝入開口106中，則固定門在Y方向上之位置，使得開啟機構150可被預先配置為配合在Y方向上的相同位置，並且開啟機構150不需依照每一載入的晶圓載具調整自身的Y軸位置。在一實施例中，一旦接收到指令，處理器170就可以調整開啟機構150的Y軸位置。
載具檢測元件100更可包括相機130。相機130位於殼體102內和開啟機構150上方。固定的相機130耦接至殼體102，且當載具被放置在檯（輸入檯）142上並裝配到開口106中時，相機130位於載具的門的上方。當開啟機構150打開門時，相機130可以從門的上方拍攝門的影像。為了清楚地看到門的上視圖，開啟機構150可以將門沿著-X方向向後移動，而距離晶圓載具的距離D155比一般的門開啟機構更遠。舉例而言，距離D155可能至少為15 cm。根據該影像，處理器170可以判斷門上的密封條是否磨損。
載具檢測元件100更可包括相機134。相機134位於殼體102內，並且面向停留區域152。當載具被放置在檯（輸入檯）142上並且裝配到開口106中時，相機134被耦接到殼體102並且位於載體的門的下方。相機134面向停留區域152，而門將被移動到停留區域152，以進行檢測。相機134被配置為在門被移動到停留區域152之後拍攝門內側的影像。根據該影像，處理器170可以判斷在門的內側上是否存在缺陷。
該實例中的機械手臂110位於殼體102內，並具有用於移動相機120的6個旋轉軸。如圖1B所示，機械手臂110可稱為“6軸機械手臂”，其可以沿著X、-X、Y、-Y、Z和-Z方向移動相機120。在門打開並移動到停留區域152後，機械手臂110可以將連接到機械手臂110的相機120沿6個方向中的任何一個方向移動，以在不同的位置與不同的角度拍攝晶圓載具內部的影像。根據這些影像，處理器170可以判斷過濾器是否存在缺陷、榫是否有缺陷或斷裂以及晶圓載具中的微型接點是否磨損。在一些實施例中，相機120可以包括3個閃光燈122。3個閃光燈122位於透鏡124的周圍，以在不同位置進行影像拍攝時提供良好的光線。
本實例中的處理器170位於殼體102內，並位於機械手臂110的下方。可以理解的是，以便於設計的考量，處理器170可以位於晶圓載具檢測元件100的其他位置。處理器170可以電連接到晶圓載具檢測元件100的相機，以接收相機所拍攝的影像。處理器170可以對所拍攝的影像進行自動光學檢測演算法160，以進行自動晶圓載具檢測。
在檢測之後，開啟機構150可以通過以下方式將門關閉至晶圓載具上：將門從停留區域152沿著Z方向朝上移動，以使門與晶圓載具在同一高度上對齊；沿著X方向向前移動門；以及藉由使用例如是栓鎖鑰匙以將門關閉至晶圓載具上。
處理器170可自動地將晶圓載具的檢測結果報告至上級系統，例如是向管理者或向資訊（information technology，IT）部門報告。上級系統可以判斷該將晶圓載具傳送到何處。
在一實施例中，根據檢測結果，處理器170可以自動判斷是否該傳送晶圓載具。舉例而言，當晶圓載具未通過檢測時（亦即即檢測結果未通過預定標准或閾值時），可將晶圓載具送至廠房以對缺陷進行處理。當通過檢測時（亦即通過預定標准或閾值的檢測結果），可將晶圓載具送到晶圓室，以攜載和運輸晶圓。
在另一實施例中，如果晶圓載具通過檢測，處理器170會自動將晶圓載具傳送至晶圓室，以攜載並運輸晶圓。另一方面，如果晶圓載具未通過檢測時，則會報告上級並等待進一步的指令。
圖2根據本揭露的一些實施例示出包含在示例性晶圓載具檢測元件100中的加載埠140以及加載埠140進行的一些晶圓載具檢測。如上所述，加載埠140可以包括一個感測器，以在Z方向上由底部向上拍攝晶圓載具的底板210的影像。如圖2所示，底板210包括氣流入口/出口212。感測器可以例如是根據影像212-1或根據氣流壓力感測來檢測在底板210上通過入口/出口212的氣流是否順暢。舉例而言，如影像212-1所示，氣流入口/出口存在不平坦且未適當地裝配的缺陷。
根據感測器所拍攝的影像214-1與影像214-2，處理器170可以校驗底板210上的螺絲214的狀態，以查看底板210上的螺絲是否疏鬆或遺失。舉例而言，如影像214-1所示，底板210上缺少螺絲。
根據底板210上墊的影像216，處理器170可以校驗晶圓載具是否在墊上被正確地標記。在這個實施例中，墊是資訊接墊，且包括4個孔217，分別編號為A、B、C、D。藉由不插入4個孔217或插入4個孔217中的一或多者，可以根據晶圓載具中的晶圓在半導體製程中所在的不同階段而對晶圓載具進行不同的標記。晶圓載具中的所有晶圓應處於半導體製程中的同一階段，亦即皆具有相同的已沈積的層以及皆等待相同的層形成於其上。由墊上的孔217（A、B、C、D）的插拔組合所代表的晶圓載具上的墊的狀態應對應到晶圓載具內的晶圓的正確階段。基於預配置的表格的資訊，處理器170可根據對影像216的分析來判斷墊的狀態是否正確。如果墊的狀態與預配置表中晶圓載具的識別碼（identification，ID）不匹配，則處理器170將報告此錯誤。接著，可以校驗此錯誤是由於晶圓的錯誤安裝，還是由於錯誤地插拔墊上的孔217（A、B、C、D），並相應地修正此錯誤。
圖3根據本揭露的一些實施例示出包含在示例性晶圓載具檢測元件100中的固定相機130、固定相機132、固定相機134，以及所述固定相機進行的一些晶圓載具檢測。如上所述，固定相機130位於殼體102的內部且位於開啟機構150的上方，以在門被開啟機構150打開時，從門的上方以從頂側沿著-Z方向朝下拍攝門的影像310。圖3中影像310的子影像312經放大以顯示門上的密封條。根據子影像312，處理器170可以判斷在密封條或榫318上是否存在缺陷。
在一實施例中，處理器170可以根據自動光學檢測演算法對拍攝的影像（例如是子影像312）進行影像處理。舉例而言，藉由使用參考點及/或參考線測量子影像312上的密封條的厚度，而可檢測到某些突出部分或不平整（unevenness）處316。
相機132位於殼體102外並位於加載埠的檯上，以用於沿-Z方向由上朝下拍攝晶圓載具的冠部（top head）的影像320。冠部被配置為空中運輸工具（例如OHT），以拾取和運輸晶圓載具。因此，如果冠部的螺絲疏鬆或遺失及/或如果冠部彎曲，則在運輸過程中晶圓載具有從OHT掉落的風險。處理器170可以基於自動光學檢測演算法對影像320進行影像處理。舉例而言，藉由使用參考點及/或參考線，處理器170可以判斷具有正方形形狀的冠部是筆直地沿著參考線324，還是相對於晶圓載具彎曲或扭曲。處理器170還可以根據對影像320的測量來檢測冠部上的任何螺絲322是否疏鬆或遺失。為了檢測缺陷，處理器170可以將測量結果與預設閥值進行比較，或者將拍攝的影像與儲存為對於無缺陷情況之參考（reference）的控制影像進行比較。
圖4根據本揭露的一些實施例示出包含在示例性晶圓載具檢測元件100中的固定相機130、固定相機132、固定相機，以及所述固定相機進行的其他晶圓載具檢測。如上所述，相機134固定在殼體102內並面向停留區域152，以在門沿著-X方向移動到停留區域152之後拍攝門的內側的影像430與影像440。藉由比較測量結果與預設閥值，或者將每一拍攝的影像與儲存為對於無缺陷情況的參考（reference）的控制影像進行比較，處理器170可以利用參考線450檢測門的內側的缺陷。
圖5根據本揭露的一些實施例示出了包含在示例性晶圓載具檢測元件中100的機械手臂110以及以其上具有相機的機械手臂進行的一些晶圓載具檢測。如上所述，機械手臂110位於殼體102內，並具有6個旋轉軸，以移動相機120而在不同位置及/或從不同角度拍攝晶圓載具的影像。
在門打開之前，相機120可拍攝門的外側上的栓鎖鑰匙（或所述栓鎖鑰匙凹槽）的影像510。根據影像510，處理器170可以藉由將測量結果與預設閥值進行比較，或者將每一拍攝的影像與儲存為對於無缺陷情況的參考的控制影像進行比較，以檢測栓鎖鑰匙凹槽上的缺陷（例如是不平整或刮痕512）。
相機120可拍攝晶圓載具的榫之影像520與影像520’。根據影像520與影像520’，處理器170可以利用參考線522與參考線522’檢測榫上的缺陷（例如破裂或刮痕）。相機120可拍攝位於晶圓載具底部和內部的過濾器的影像530。根據影像530，處理器170可利用參考線532檢測過濾器上的缺陷（例如聚積（stock）或堵塞（clog））。
圖6根據本揭露的一些實施例示出包含在示例性晶圓載具檢測元件100中的機械手臂110以及其上具有相機的機械手臂進行的其他晶圓載具檢測。如圖6所示，相機120可拍攝晶圓載具中微型接點的影像610與影像620。根據影像610與影像620，處理器170可利用參考線612與參考線622檢測微型接點上的缺陷（例如，磨損或熔化）。
在處理器170檢測到任何上述缺陷後，處理器170可以向上級系統報告以使晶圓載具在一段時間內不攜載任何晶圓，直到經檢測的缺陷被解決為止。
圖7A-7I根據本揭露的一些實施例示出在各個檢測階段中以示例性晶圓載具檢測元件700進行的晶圓載具檢測。在一些實施例中，晶圓載具檢測元件700可能與晶圓載具檢測元件100具有類似的結構，如圖1-6所示。
如圖7A和圖7B所示，例如藉由OHT將晶圓載具710放置在晶圓載具檢測元件700的檯720上。晶圓載具710具有位於底部的底板712以及門714。門714面向晶圓載具檢測元件700的外壁740上的開口730。晶圓載具檢測元件700具有耦接到檯720並配置成檢測底板712的感測器。晶圓載具檢測元件700還具有位於外壁740外側的相機132，以拍攝晶圓載具710的冠部716的影像，以檢測冠部716。
在圖7A所示的階段，藉由感測器檢測底板712、打開指示燈722並且關閉指示燈724。在圖7B所示的階段，檢測底板712、將晶圓載具710沿著-X方向朝著開口730移動、藉由外部相機132檢測冠部716、關閉指示燈722並且打開指示燈724。
圖7C-7I示出了晶圓載具檢測元件700的殼體的內部視圖。如圖7C所示，在門714’的外側上有兩個栓鎖鑰匙凹槽718，其中門714’已裝配於開口730中。在圖7C所示的階段，機械手臂110將連接到機械手臂110的相機120朝X方向移動以拍攝門714’的外側的影像，例如是用於檢測栓鎖鑰匙凹槽718。
如圖7D所示，最初位於門714’下方的開啟機構150沿Z方向朝上移動以與門714’對齊。在圖7E所示的階段，開啟機構150沿著X方向向前移動以耦接到門714’。在一實施例中，開啟機構150包括與一對栓鎖凹槽718對應的一對栓鎖鑰匙，並包括對應於門714’上的一對吸孔（suction hole）的一對真空引腳（vacuum pin）。當開啟機構150沿X方向朝門714’方向移動時，將一對栓鎖鑰匙插入一對栓鎖凹槽718內，且將一對真空引腳插入一對吸孔。當真空引腳插入門714’上的相應吸孔中時，每個真空引腳可以包括真空穿孔，通過該真空穿孔施加真空壓力。基於真空壓力，門714’被吸附並由開啟機構150固持，使得開啟機構150可在門714’解鎖或打開後與門714’一起移動。在將門714’拉向開啟機構150之前或之後，一對栓鎖鑰匙可用於旋轉門714’上的鎖（例如旋轉90°），以將門714’解鎖。
在圖7F所示的階段，開啟機構150與附接的門714’沿著-X方向向後移動。在圖7G所示的階段，開啟機構150沿著-Z方向將門714’向下移動，而開啟機構150上的固定相機130拍攝門714’的影像，以例如是檢測密封條。為了得到密封條的上視圖的清晰影像，開啟機構150可以將門沿著-X方向向後移動距離晶圓載具更遠的距離D155，而非如一般門開啟機構所移動的距離。舉例而言，距離D155至少為15 cm。
如圖7H所示，相機134嵌入於加載埠中，並在門714’打開後面向門714’所在的停留區域。在圖7H所示的階段，相機134朝向-X方向拍攝門714’的內側的影像，以例如是檢測門714’的內側。
在圖7I所示的階段，機械手臂110利用其高運動靈活性移動連接到機械手臂110的相機120，以拍攝晶圓載具710內各部分的影像。晶圓載具檢測元件700可以包括處理器，以例如是藉由自動光學檢測演算法對相機拍攝的所有影像進行影像處理。在一實施例中，晶圓載具檢測元件700對FOUP載具進行檢測的時間約為3.5分鐘。檢測結束後，晶圓載具檢測元件700可以自動報告檢測結果。
圖8根據本揭露的一些實施例示出檢測晶圓載具的不同構件。如圖8所示，元件840包括機械手臂842、一或多個相機844和加載埠846。元件840可用於進行如上所述的晶圓載具檢測。元件840可以具有與圖1-6中所示的晶圓載具檢測元件100類似的結構，或者俱有與圖7A-7I中所示的晶圓載具檢測元件700類似的結構。
包括使用者852、數據庫854和資料856的上級系統850可以經由介面810監視和控制元件840的操作。舉例而言，上級系統850可以經由介面810產生或更新由元件840實作的演算法830。舉例而言，使用者852可以經由介面810對元件840下指令，以切換設備的遠端和近端的操作模式；切換加載埠的自動和手動的加載模式；調整機械手臂以判斷連接到機械手臂的相機的位置和方向；或調整相機的一或多個光學參數。
如果檢測結果指示檢測到晶圓載具的缺陷或故障，則元件840可以經由介面810向上級系統850或向IT部門報告缺陷或故障，並且等待進一步的指令（例如是將晶圓載具送修）。
圖9根據本揭露的一些實施例示出用於檢測晶圓載具的示例性方法900的流程圖。如圖9所示，在操作902處，接收具有門的晶圓載具。在操作904處，加載晶圓載具以供檢測。在操作906處，由機械手臂移動的相機拍攝晶圓載具的多個影像。在操作908處，沿第一方向打開晶圓載具的門。在操作910處，將門沿著與第一方向不同的第二方向移動到停留區域。在操作912處，對所述多個影像進行處理，以檢測晶圓載具。如果在操作914處檢測到任何缺陷，則在操作916處將晶圓載具發送到工廠以處理缺陷。如果在操作914處沒有檢測到缺陷，則在操作918處發送晶圓載具以承載和運輸晶圓。
圖10根據本揭露的一些實施例示出用於檢測晶圓載具的另一個示例性方法1000的流程圖。如圖10所示，在操作1002處，接收具有門的晶圓載具。在操作1004處，加載晶圓載具以供檢測。在操作1006處，產生晶圓載具的底板的影像。在操作1008處，拍攝晶圓載具的冠部的影像。在操作1010處，拍攝晶圓載具的門的外側的影像。在操作1012處，沿第一方向打開晶圓載具的門。在操作1014處，當門被打開時，從門的上方拍攝門的影像。在操作1016處，將門沿著與第一方向不同的第二方向移動到停留區域。在操作1018處，在門移動到停留區域之後，拍攝門的內側的影像。在操作1020處，以自動光學檢測演算法對影像進行處理，以檢測晶圓載具。在操作1022處，在檢測之後，將門沿著第二方向從停留區域移回。在操作1024處，將晶圓載具的門沿著第一方向關閉到晶圓載具上。
可以理解圖9和圖10所示步驟（操作）的順序可根據本揭露的不同實施例而改變。
圖11根據本揭露的一些實施例示出包括晶圓載具運輸工具1140和用於檢測晶圓載具的晶圓載具檢測元件100的半導體廠FAB的一部分。圖11中所示的FAB的部分可以是自動物料搬運系統（automatic material handling system，AMHS）1100的示意性透視圖。如圖11所示，AMHS 1100包括晶圓載具運輸工具1140（例如是OHT系統）和晶圓載具檢測元件100。晶圓載具檢測元件100可以是以上根據圖1-10公開的任何檢測元件。
在一實例中，OHT系統（晶圓載具運輸工具）1140包括靜止道路（track）或可操作以引導具有滾輪（wheel）的OHT運載工具1150的移動之軌道的網路。上述軌道支撐且懸吊（suspend）具有滾輪的OHT運載工具1150。在一些實施例中，軌道是安裝到FAB的天花板1180及/或壁上並從天花板1180及/或壁懸吊的單軌（monorail）。本領域中具有通常知識者將會理解軌道可具有任何適合的橫截面配置（cross-sectional configuration），只要軌道能夠適當地支撐OHT車輛1150以使OHT車輛（OHT運載工具）1150進行滾動（rolling motion）。
OHT車輛（OHT運載工具）1150可操作以運送晶圓載具1110通過FAB，而用於製程內（intra-bay）或製程間（inter-bay）的移動。OHT車輛（OHT運載工具）1150被配置和構造成承載儲存多個晶圓的晶圓載具1110，並且在實質上水平或側向的方向上將晶圓載具1110從FAB內的一位置傳輸至另一位置。
OHT車輛1150被配置且可操作以拾取、升起/下降、承載、鉸接（articulate）和釋放晶圓載具1110。在一實施例中，OHT車輛（OHT運載工具）1150包括電機驅動（motor-driven）或氣動起重（pneumatic hoisting）機構1152。機構1152通常由夾具組件構成，該夾具組件包括一或多個可伸縮和可伸展的夾臂，夾臂在其端部上具有夾持器，該夾持器被配置以用於鎖定到在晶圓載具1110上的配合鉤（mating hook）或凸緣（flange）。起重機構1152可操作以垂直升高和下降夾具和附著於夾具的晶圓載具1110。
如圖11所示，OHT車輛（OHT運載工具）1150可以承載晶圓載具1110、沿著軌道輸輸晶圓載具1110、並且將晶圓載具1110釋放到晶圓載具檢測元件100的檯上。藉由拍攝晶圓載具1110的影像並在影像上應用自動光學檢測演算法，晶圓載具檢測元件100可以自動檢測晶圓載具1110的外部和內部是否存在缺陷或故障，其方式類似於已經參照圖1-10所進行的描述。晶圓載具檢測元件100可以位於FAB的地板1190上。
檢測晶圓載具之後，晶圓載具檢測元件100可以將包括任何檢測到的缺陷或故障的檢測結果報告給上級系統，並卸載晶圓載具1110。一旦從上級系統（例如，管理者）接收到指令，晶圓載具檢測元件100可通知OHT車輛（OHT運載工具）1150，以從晶圓載具檢測元件100中拾取晶圓載具1110並傳輸晶圓載具1110，從而修復檢測到的缺陷。或者，假如晶圓載具1110上的晶圓載具檢測元件100沒有檢測到缺陷，則攜載晶圓。
在一實施例中，公開了一種晶圓載具的檢測設備。該設備包括：殼體，在所述殼體的外壁上具有開口；加載埠，位於所述殼體外，其中所述加載埠耦接於所述外壁，且配置以加載晶圓載具從而進行檢測；機械手臂，位於所述殼體內，其中所述機械手臂配置以移動連接於所述機械手臂的第一相機，其中所述第一相機配置以拍攝所述晶圓載具的多個影像；以及處理器，配置以處理所述多個影像，以檢測所述晶圓載具。
在另一實施例中，公開了一種檢測晶圓載具的方法。該方法包括：接收具有門的晶圓載具；加載所述晶圓載具，以進行檢測；藉由被機械手臂移動的第一相機拍攝所述晶圓載具的多個影像；沿第一方向打開所述晶圓載具的所述門；將所述門沿著與所述第一方向不同的第二方向移動到停留區域；以及對所述多個影像進行處理，以檢測所述晶圓載具。
在又一些實施例中，公開了一種晶圓載具檢測系統。該系統包括：空中運輸工具，用於運輸晶圓載具；以及檢測元件。檢測元件包括：外壁具有開口的殼體、在所述殼體外的加載埠、在所述殼體內的機械手臂以及處理器。所述加載埠耦接至所述外壁且包括輸入檯。所述輸入檯配置以接收由所述空中運輸工具運輸的所述晶圓載具且加載所述晶圓載具，以進行檢測。所述機械手臂配置以移動連接於所述機械手臂的第一相機。所述第一相機配置以拍攝所述晶圓載具的多個影像。處理器配置以對所述多個影像進行處理，以檢測所述晶圓載具。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
100、700‧‧‧晶圓載具檢測元件
102‧‧‧殼體
104‧‧‧外壁
106、730‧‧‧開口
110、842‧‧‧機械手臂
120、130、132、134、844‧‧‧相機
122‧‧‧閃光燈
124‧‧‧透鏡
140、846‧‧‧加載埠
142‧‧‧輸入檯
150‧‧‧開啟機構
152‧‧‧停留區域
160‧‧‧自動光學檢測演算法
170‧‧‧處理器
210、712‧‧‧底板
212‧‧‧入口/出口
212-1、214-2、214-1、216、310、430、440、510、520、520’、530、610、620‧‧‧影像
214‧‧‧螺絲
217‧‧‧孔
312‧‧‧子影像
316‧‧‧突出部分或不平整處
318‧‧‧密封條/榫
320‧‧‧影像
322‧‧‧螺絲
324‧‧‧參考點及/或參考線
450、522、522’、532、612、622‧‧‧參考線
512‧‧‧不平整或刮痕
710‧‧‧晶圓載具
714、714’‧‧‧門
716‧‧‧冠部
718‧‧‧栓鎖鑰匙凹槽
720‧‧‧檯
722、724‧‧‧指示燈
740‧‧‧外壁
810‧‧‧介面
830‧‧‧演算法
840‧‧‧元件
850‧‧‧上級系統
852‧‧‧使用者
854‧‧‧數據庫
856‧‧‧資料
900、1000‧‧‧方法
902、904、906、908、910、912、914、916、918、1002、1004、1006、1008、1010、1012、1014、1016、1018、1020、1022、1024‧‧‧操作
1100‧‧‧自動物料搬運系統
1110‧‧‧晶圓載具
1140‧‧‧晶圓載具運輸工具
1150‧‧‧運載工具
1152‧‧‧機構
1180‧‧‧天花板
1190‧‧‧地板
D155‧‧‧距離
X、Y、Z‧‧‧方向
合附圖閱讀以下詳細說明，會最好地理解本發明的各個方面。應注意，根據本行業中的標準慣例，各種特徵並非按比例繪製。事實上，爲論述清晰起見，可任意增大或減小各種特徵的尺寸。在全文與附圖中，相似的元件符號標示相似的特徵。 圖1A根據本揭露的一些實施例示出包括各種構件的示例性晶圓載具檢測元件。 圖1B根據本揭露的一些實施例示出在圖1A中所示的示例性晶圓載具檢測元件的詳細的側透視圖。 圖2根據本揭露的一些實施例示出包含在示例性晶圓載具檢測元件中的加載埠以及加載埠進行的一些晶圓載具檢測。 圖3根據本揭露的一些實施例示出包含在示例性晶圓載具檢測元件中的固定相機以及固定相機進行的一些晶圓載具檢測。 圖4根據本揭露的一些實施例示出包含在示例性晶圓載具檢測元件中的固定相機以及固定相機進行的其他晶圓載具檢測。 圖5根據本揭露的一些實施例示出了包含在示例性晶圓載具檢測元件中的機械手臂以及以其上具有相機的機械手臂進行的一些晶圓載具檢測。 圖6根據本揭露的一些實施例示出包含在示例性晶圓載具檢測元件中的機械手臂以及其上具有相機的機械手臂進行的其他晶圓載具檢測。 圖7A-7I根據本揭露的一些實施例示出在各個檢測階段中以示例性晶圓載具檢測元件進行的晶圓載具檢測。 圖8根據本揭露的一些實施例示出檢測晶圓載具的不同構件。 圖9根據本揭露的一些實施例示出用於檢測晶圓載具的示例性方法的流程圖。 圖10根據本揭露的一些實施例示出用於檢測晶圓載具的另一個示例性方法的流程圖。 圖11根據本揭露的一些實施例示出包括晶圓載具運輸工具和用於檢測晶圓載具的晶圓載具檢測元件的半導體廠的一部分。

Claims (20)

  1. 一種晶圓載具檢測設備，包括： 殼體，在所述殼體的外壁上具有開口； 加載埠，位於所述殼體外，其中所述加載埠耦接於所述外壁，且配置以加載晶圓載具從而進行檢測； 機械手臂，位於所述殼體內，其中所述機械手臂配置以移動連接於所述機械手臂的第一相機，其中所述第一相機配置以拍攝所述晶圓載具的多個影像；以及 處理器，配置以處理所述多個影像，以檢測所述晶圓載具。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的晶圓載具檢測設備，其中： 所述加載埠包括輸入檯，配置以接收所述晶圓載具，所述晶圓載具在所述外壁上具有面向所述開口的門，所述輸入檯在垂直於所述外壁的第一方向上相對於所述殼體為可移動的；以及 所述晶圓載具檢測設備更包括開啟機構，位於所述殼體內，其中所述開啟機構配置以： 沿所述第一方向打開所述晶圓載具的所述門，以及 沿著第二方向將所述門移動到所述殼體內的停留區域，所述第二方向與所述第一方向不同。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的晶圓載具檢測設備，其中： 所述多個影像包括在打開所述門之前所述晶圓載具的所述門的外側的第一影像以及在打開所述門之後在所述晶圓載具內的一或多個拍攝到的影像；以及 所述處理器配置以進行以下至少一者： 根據所述第一影像判斷所述門的栓鎖凹槽是否有缺陷， 根據所述一或多個影像判斷過濾器是否存在缺陷， 根據所述一或多個影像判斷榫是否存在缺陷或斷裂，以及 根據所述一或多個影像判斷所述晶圓載具中的微型接點是否磨損。
  4. 如申請專利範圍第2項所述的晶圓載具檢測設備，其中： 所述晶圓載具檢測設備更包括第二相機，所述第二相機位於所述殼體內； 所述第二相機耦接至所述殼體並位於所述開啟機構上方，且配置以在沿所述第一方向打開所述門時從所述門的上方拍攝所述門的第二影像，所述打開的門至所述晶圓載具的距離最短為15 cm；以及 所述處理器配置以根據所述第二影像來判斷所述門上的密封條是否磨損。
  5. 如申請專利範圍第2項所述的晶圓載具檢測設備，其中： 所述晶圓載具檢測設備更包括第三相機，位於所述殼體內； 所述第三相機耦接於所述殼體並位於面向所述停留區域處，且配置以在所述門移動到所述停留區域後拍攝所述門的內側的第三影像；以及 所述處理器配置以根據所述第三影像來判斷所述門的所述內側是否存在缺陷。
  6. 如申請專利範圍第2項所述的晶圓載具檢測設備，更包括關閉機構，配置以用於： 在檢測後沿著所述第二方向將所述門從所述停留區域移回；以及 沿所述第一方向關閉所述晶圓載具的所述門。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的晶圓載具檢測設備，其中： 所述晶圓載具檢測設備更包括第四相機，位於所述殼體外； 所述第四相機耦接於所述外壁，以拍攝所述晶圓載具的冠部的影像； 所述冠部配置成空中運輸工具，以拾取和運輸所述晶圓載具；以及 所述處理器配置以根據所述影像判斷所述冠部的螺絲是否疏鬆或遺失，以及判斷所述冠部是否彎曲。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的晶圓載具檢測設備，其中： 所述加載埠包括感測器，所述感測器配置以產生所述晶圓載具的底板的影像；以及 所述處理器配置以進行以下至少一者： 根據所述影像判斷所述底板上的入口和出口的氣流是否順暢； 根據所述影像判斷所述底板上的螺絲是否疏鬆或遺失；以及 根據所述影像校驗在所述底板上的資訊接墊的狀態。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的晶圓載具檢測設備，其中： 所述機械手臂具有6個旋轉軸，用於移動所述第一相機；以及 所述第一相機是電荷耦接元件相機。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的晶圓載具檢測設備，其中所述處理器被配置為藉由對所述多個影像應用自動光學檢測演算法來檢測所述晶圓載具的災難性故障和品質缺陷。
  11. 如申請專利範圍第1項所述的晶圓載具檢測設備，其中所述處理器進一步配置為進行以下至少一者： 切換所述晶圓載具檢測設備的遠端與近端的操作模式； 切換所述加載埠的自動和手動的加載模式； 調整所述機械手臂以判斷所述第一相機的位置和方向；以及 調整所述第一相機的一或多個光學參數。
  12. 一種檢測晶圓載具的方法，包括： 接收具有門的晶圓載具； 加載所述晶圓載具，以進行檢測； 藉由被機械手臂移動的第一相機拍攝所述晶圓載具的多個影像； 沿第一方向打開所述晶圓載具的所述門； 將所述門沿著與所述第一方向不同的第二方向移動到停留區域；以及 對所述多個影像進行處理，以檢測所述晶圓載具。
  13. 如申請專利範圍第12項所述的檢測晶圓載具的方法，其中： 所述多個影像包括在打開所述門之前所述晶圓載具的所述門的外側的第一影像以及在打開所述門之後所述晶圓載具內的一或多個拍攝的影像；以及 所述檢測晶圓載具的方法進一步包括以下最少一者： 根據所述第一影像判斷所述門的栓鎖凹槽是否有缺陷， 根據所述一或多個影像判斷過濾器是否存在缺陷， 根據所述一或多個影像判斷榫是否存在的缺陷或斷裂，以及 根據所述一或多個影像判斷所述晶圓載具中的微型接點是否磨損。
  14. 如申請專利範圍第12項所述的檢測晶圓載具的方法，更包括： 在沿所述第一方向打開所述門時，從所述門的上方拍攝所述門的第二影像，所述打開的門至所述晶圓載具的距離最短為15 cm；以及 根據所述第二影像判斷所述門上的密封條是否磨損。
  15. 如申請專利範圍第12項所述的檢測晶圓載具的方法，更包括： 在所述門移動到所述停留區域後，拍攝所述門的內側的第三影像；以及 根據所述第三影像判斷所述門的所述內側是否有缺陷。
  16. 如申請專利範圍第12項所述的檢測晶圓載具的方法，更包括： 拍攝所述晶圓載具的冠部的影像，其中所述冠部配置為空中運輸工具以拾取並運輸所述晶圓載具；以及 根據所述影像判斷所述冠部的螺絲是否疏鬆或遺失，以及判斷所述冠部是否彎曲。
  17. 如申請專利範圍第12項所述的檢測晶圓載具的方法，更包括： 產生所述晶圓載具的底板的影像；以及 進行以下至少一者： 根據所述影像判斷所述底板上的入口和出口之氣流是否順暢； 根據感測器判斷所述底板上的螺絲是否疏鬆或遺失；以及 根據所述感測器檢測所述底板上的資訊接墊的狀態。
  18. 如申請專利範圍第12項所述的檢測晶圓載具的方法，其中： 所述機械手臂具有6個旋轉軸，用於移動所述第一相機；以及 所述第一相機是電荷耦接元件相機。
  19. 如申請專利範圍第12項所述的檢測晶圓載具的方法，更包括： 在檢測後沿著所述第二方向將所述門從所述停留區域移回； 沿所述第一方向關閉所述晶圓載具的所述門；以及 對所述多個影像應用自動光學檢測演算法，以檢測所述晶圓載具是否具有災難性故障和品質缺陷。
  20. 一種晶圓載具檢測系統，包括： 空中運輸工具，用於運輸晶圓載具；以及 檢測元件，包括： 殼體，在所述殼體的外壁上具有開口， 加載埠，位於所述殼體外，其中所述加載埠耦接至所述外壁且包括輸入檯，所述輸入檯配置以接收由所述空中運輸工具運輸的所述晶圓載具且加載所述晶圓載具，以進行檢測， 機械手臂，位於所述殼體內，其中所述機械手臂配置以移動連接於所述機械手臂的第一相機，其中所述第一相機配置以拍攝所述晶圓載具的多個影像，以及 處理器，配置以對所述多個影像進行處理，以檢測所述晶圓載具。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI815192B (zh) * 2021-10-01 2023-09-11 樂華科技股份有限公司 晶圓載具運載裝置

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI642902B (zh) * 2017-11-28 2018-12-01 寶成工業股份有限公司 鞋面打粗的視覺檢測裝置
US11152238B2 (en) * 2017-11-30 2021-10-19 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Semiconductor processing stage profiler jig
JP7319162B2 (ja) * 2019-10-02 2023-08-01 株式会社荏原製作所 搬送異常予測システム
TWI779329B (zh) * 2019-12-31 2022-10-01 旺矽科技股份有限公司 物料移載狀態偵測系統及方法
TW202139060A (zh) * 2020-04-01 2021-10-16 政美應用股份有限公司 晶圓影像擷取裝置及其影像擷取之方法
CN112492870A (zh) * 2020-10-27 2021-03-12 上海凯思尔电子有限公司 一种基于机器人技术应用于pcb行业aoi工序的自动化设备
US11741686B2 (en) * 2020-12-01 2023-08-29 Raytheon Company System and method for processing facility image data
TWI806013B (zh) * 2021-03-12 2023-06-21 旭東機械工業股份有限公司 取像設備
US11752582B1 (en) 2022-02-15 2023-09-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Methods for removing a fastener from a wafer carrier
CN117569702B (zh) * 2024-01-16 2024-03-12 沈阳元创半导体有限公司 一种基于晶圆装载机的门组件

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3791065B2 (ja) * 1996-10-08 2006-06-28 株式会社ニコン ウエハ検査装置
JP2001315718A (ja) * 2000-02-23 2001-11-13 Toyo Jidoki Co Ltd 包装容器のシール部のシール方法、該シール方法に使用する熱処理板及びシール部の検査方法
US6473169B1 (en) * 2000-05-03 2002-10-29 Air Logic Power Systems, Inc. Integrated leak and vision inspection system
CN1592948A (zh) * 2000-09-06 2005-03-09 株式会社尼康 曝光装置以及器件制造方法
US6591161B2 (en) * 2001-01-31 2003-07-08 Wafermasters, Inc. Method for determining robot alignment
US7891935B2 (en) * 2002-05-09 2011-02-22 Brooks Automation, Inc. Dual arm robot
US7129694B2 (en) * 2002-05-23 2006-10-31 Applied Materials, Inc. Large substrate test system
JP3816426B2 (ja) * 2002-09-09 2006-08-30 株式会社ルネサステクノロジ プロセス処理装置
KR20040056637A (ko) * 2002-12-24 2004-07-01 삼성전자주식회사 웨이퍼 뒷면 검사장치
WO2004093147A2 (en) * 2003-04-10 2004-10-28 Entegris, Inc. Wafer carrier cleaning system
WO2005008737A2 (en) * 2003-07-14 2005-01-27 August Technology Corporation Inspection and metrology module cluster tool with multi-tool manager
JP4413562B2 (ja) * 2003-09-05 2010-02-10 東京エレクトロン株式会社 処理システム及び処理方法
US7486878B2 (en) 2006-09-29 2009-02-03 Lam Research Corporation Offset correction methods and arrangement for positioning and inspecting substrates
JP5450391B2 (ja) * 2007-05-15 2014-03-26 ロナルド・シー・シューバート ウェーハプローブ試験および検査システム
JP5120017B2 (ja) * 2007-05-15 2013-01-16 東京エレクトロン株式会社 プローブ装置
KR100989930B1 (ko) * 2008-06-16 2010-10-29 김은환 웨이퍼 홀딩장치 및 웨이퍼 검사를 위한 구동장치 그리고이의 구동방법
KR101160888B1 (ko) * 2010-09-17 2012-06-29 한미반도체 주식회사 웨이퍼 마킹 장치, 웨이퍼 마킹 시스템 및 웨이퍼 마킹 방법
US8944739B2 (en) * 2012-06-01 2015-02-03 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Loadport bridge for semiconductor fabrication tools
US9442482B2 (en) 2013-04-29 2016-09-13 GlobalFoundries, Inc. System and method for monitoring wafer handling and a wafer handling machine
JP6414134B2 (ja) * 2016-05-09 2018-10-31 村田機械株式会社 搬送装置
WO2018074622A1 (ko) * 2016-10-19 2018-04-26 (주)코글릭스 검사 방법 및 장치
AU2016426890B2 (en) * 2016-10-19 2020-10-29 Coglix Co.Ltd. Inspection method and apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI815192B (zh) * 2021-10-01 2023-09-11 樂華科技股份有限公司 晶圓載具運載裝置

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Publication number Publication date
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