TW201841067A - 具有輸送止動器的光學配置，尤其是微影系統 - Google Patents

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Abstract

本發明關於一光學配置，例如一微影系統，其包含：一第一組件(19)，特別是一承載框；一第二組件(13)，其可相對第一組件(19)移動，特別是一反射鏡；以及至少一止擋件(20)，其具有至少一止擋面(20a、20b)用以限制第二組件(13)相對第一組件(19)的移動。在本發明一態樣中，光學配置(較佳為止擋件(20))具有用以固定第二組件(13)的一固定裝置(23)，其至少包含可相對止擋件(20)的止擋面(21a、21b)移動的一固定元件(24)。本發明的其他態樣同樣關於具有固定裝置或具有輸送止動器的光學配置。

Description

具有輸送止動器的光學配置，尤其是微影系統 【相關專利參照】
本申請案主張2017年1月17日申請的德國專利申請案10 2017 200 636.6的優先權，其整體公開內容視為本申請案公開內容的一部分並以引用的方式併入本文。
本發明的一態樣關於一裝置，例如一微影系統，特別是一EUV微影系統，其包含：一第一組件(特別是一承載框)、可相對第一組件移動的一第二組件(特別是一反射鏡)、及具有用以限制第二組件相對第一組件的移動的至少一止擋面的至少一止擋件。
針對本申請案的目的，微影系統係理解為可用於微影領域的光學系統或光學配置。除了用於生產半導體組件的微影裝置外，光學系統也可例如為用以檢查在微影裝置中所使用的光學遮罩(以下也稱為光罩)、用以檢查待結構化的半導體基板(在下文中也稱為晶圓)的一檢查系統，或為用以量測微影裝置或其部分(例如用以量測投射系統)的一計量系統。光學配置或微影系統可特別為一EUV微影系統，其設計用於波長在約5nm及約30nm之間的EUV波長範圍的使用輻射。
在下文中經常提到可移動(第二)組件或形式為反射鏡的移動/可移動物體(特別是EUV反射鏡)。然而，原則上，可移動組件也可為任何其他物體或任何其他組件或子組件，例如光學元件，如透鏡或棱鏡、晶圓台、機床的零件、用於光學或非光學組件的其他承載框架或承載結構等。
第一組件可例如為光學配置的承載框(稱作「力框」)，其實質地吸收作用在光學配置上的所有力。可移動組件通常相對承載框作彈簧式安裝、或與其機械地解耦，使得理想上沒有力或振動從承載框傳輸到可移動組件。然而，第一組件也可為某些其他組件，例如載體組件，其相對光學配置的承載框作彈簧式安裝或與其機械地解耦。
在EUV微影裝置的情況下，特別是在用以將光罩的影像投射到光敏感基板上的EUV透鏡的情況下，成像品質相對於EUV反射鏡的光學表面的變形的敏感度將特別好。假設這種透鏡的光學設計被校正到約10mλ，其中λ表示工作波長，則在約13.5nm的工作波長λ處存在約135pm的最大允許波前誤差。這表示約50pm的EUV反射鏡的表面變形已經導致顯著的波前像差。因此，在EUV微影裝置或EUV透鏡的操作期間，EUV反射鏡被設定為暫停狀態，使得作用於EUV反射鏡的力和力矩盡可能小。這種暫停狀態或與周圍環境機械地解耦的狀態所具有的結果為，EUV反射鏡實際上可在其端部位置之間自由地移動，這些端部位置通常由端部止擋件所限定，且可能與端部止擋件碰撞。特別是在輸送EUV微影裝置時，還有在發生地震時，這可能導致對EUV反射鏡或其他組件的損壞。
在傳統EUV透鏡的情況下，這個問題藉由在輸送期間將其反轉來解決。在此情況下，造成重量補償及導致EUV反射鏡在EUV透鏡或EUV微影裝置的操作位置處的暫停狀態的力、以及反射鏡重量的力，相加在一起而形成總體力或總體加速度，其大致對應於由重力引起的加速度的兩倍(2g)。以此方式，反射鏡通常保持固定在其垂直端部位置，直到2g數量級的加速度。在更大加速度的情況下，EUV反射鏡可能離開端部位置並再 次自由地落於端部位置之間，即EUV反射鏡的固定在可承受的衝擊負載方面受到限制。就未來的EUV透鏡而言，EUV反射鏡有可能變得太大太重，而使得EUV透鏡的反轉不再是適當的或可能的。
DE 10 2012 212 503 A1揭露了一種微影裝置，其具有第一組件及第二組件以及用以將第一組件與第二組件彼此耦合的耦合裝置。微影裝置具有用以感測微影裝置所站立的基座的移動的一感測裝置以及設計以根據所感測的基座移動來啟動耦合裝置的一控制裝置，以限制第二組件相對第一組件的移動。為此目的，耦合裝置可具有至少一個可調式端部止擋件。可調式端部止擋件可與形式為反射鏡的第二組件緊靠，以實現反射鏡相對形式為承載框的第一組件的形狀配合固定。這是為了藉由固定來避免在發生衝擊的情況下或因地震而發生搖晃的情況下對反射鏡造成損壞。
DE 10 2014 215 159 A1描述了具有至少一個光學元件及具有一載體的光學配置，其中光學元件在載體上配置為可相對於載體移動。可將光學元件相對於載體固定在適當位置的固定裝置具有一形狀記憶合金的至少一致動器。固定裝置設計為一輸送止動器，其在光學元件未被使用時將光學元件相對於載體固定在適當位置。
DE 10 2011 087 389 A1描述了一種定位系統，其具有用於一組件(例如用於一光學元件)的止擋件，該止擋件限制組件的移動路徑並且被可調整地設計。止擋件可被調整使得組件與止擋件的止擋面之間的距離保持在預定範圍內。
【本發明的目的】
本發明的目的為提供一光學配置，特別是一微影系統，其設計以在光學配置的輸送期間盡可能地最小化對可移動組件的損害。
【本發明的標的】
此目的根據第一態樣由開頭所述類型的裝置來實現，其中光學配置(較佳為止擋件(stop))具有用以固定第二組件的固定裝置，其至少包含可相對止擋件的止擋面(stop face)移動的一固定元件。
在固定裝置的協助下進行第二組件(其可相對於第一組件移動)的固定，使得第二組件實際上無法(再)相對於第一組件移動。止擋面或止擋件可牢固地連接到第一組件；然而，止擋件或止擋面也可能架設在第二組件上或與其牢固地連接。為了第二組件相對第一組件的移動(在下文中假設為適當地固定)，光學配置可具有一或多個致動器，其作用在第二組件上以使其移動，例如為了使其位移或轉動或傾斜。
一般來說，在下文中將假設第二組件可例如在致動器的協助下相對(固定的)第一組件移動，使得第二組件也被稱作可移動組件。然而，不必然是這種情況，亦即有可能是第一組件在致動器的協助下移動，而不是第二組件移動。也有可能兩個組件架設為可相對於固定的坐標系統移動，例如假設兩個組件為兩個承載結構，例如光學配置的兩個承載框。
固定裝置或固定元件較佳為止擋件的零件，即固定元件及止擋件通常實質地在相同的位置處或在(實質上)連續的表面區域中作用在可移動第二組件上。(端部)止擋件與固定裝置或固定元件(其固定可移動組件用以輸送光學配置)的組合提供了許多優點：一方面，與固定裝置與止擋件在空間上分開配置的解決方案的情況相比，在少得多的位置處需要光學配置的可及性；另一方面，結果為在可移動組件上的界面或表面區域的數量也可被最小化、限制或用於兩種功能。
在光學配置的正常操作期間，可移動組件通常不與止擋件接觸，即不與止擋面接觸或不與止擋件的固定元件接觸。在輸送期間，輸送安全功能可藉由整合在(端部)止擋件中的固定裝置(更精確地說為藉由固定元件)來確保，其在輸送的情況下將可移動組件(其例如為反射鏡的形式)固定。這可能包含將可移動組件夾靠在固定組件上，例如抵靠在承載框上， 或可能抵靠其他(端部)止擋件上，或可能以形狀配合(form-fitting)的方式固定。
作為固定元件或固定裝置與止擋件的組合的替代方案，也有可能在空間上分離止擋件及固定元件或固定裝置。在此情況下，固定裝置可例如具有用以將固定元件移動到固定位置的致動器，其中固定元件在第一表面區域中壓靠可移動組件，其中第一表面區域與第二表面區域在空間上分離，止擋器的止擋面在該處壓靠可移動組件，例如在發生衝擊的情況下。在此情況下，可移動組件的固定可例如藉由固定裝置將可移動組件壓靠在(固定的)止擋件上或壓靠其在固定位置中的止擋面上並牢固地夾緊它們來實現。藉由適當地選擇固定元件施加在可移動組件上的力的方向，單一固定元件有可能足以在整體上固定或牢固地夾持可移動組件。
壓力筒可藉由改變到壓力筒的供給管線中的壓力而移動，其可例如作為用以移動固定元件的致動器。可移動壓力筒可例如以固定螺栓的方式作用在固定元件上，以固定可移動組件。可移動組件可藉由相同的機構(即藉由壓力筒)再次釋放。代替氣動致動器，機電致動器(例如電動機或繼電器(電磁體))也可以作用在固定元件上，以將固定元件從固定位置移動到操作位置，反之亦然。形狀記憶合金也可用以形成簡單且低成本的「電動機」，其可作為用於機械固定元件的致動器或可能其本身作為固定元件。舉例來說，為此目的，電流可經由形狀記憶合金的導線傳導，其效果為導線試圖恢復其原來的形狀。
固定元件可以直接或間接的力效應作用在可移動的第二組件上。在直接力效應的情況下，饋送或固定方向與待吸收的衝擊力的方向在用於固定的機構中平行延伸。另一方面，在間接力吸收的情況下，待吸收的衝擊力垂直於饋送或固定方向。
作為輸送止動器的上述組態的替代方案，以其將組件壓入或夾持在預定位置且永久地施加一定的壓力在(固定)組件上，也有可能使用 只有嚴格限制可移動組件的移動範圍的輸送止動器或固定件，以最小化可移動組件的移動，然而在「靜止」時(即在固定位置)沒有力施加到可移動組件上。在此情況下，固定元件在固定位置中可能不完全以固定面抵靠可移動組件，而是在固定位置處與可移動組件保持一小距離，例如小於約10μm。以此方式，藉由在固定位置的固定元件將可移動組件的移動可能性限制到最小，這可能足以避免在輸送期間損壞第二組件。在操作位置中，固定元件通常比在固定位置中與可移動組件保持更遠的距離，以不要不必要地限制第二組件的移動可能性。
在一發展中，固定元件可在一固定位置及一操作位置之間移動，特別是手動地移動，其中固定元件在固定位置處(以一固定面)緊靠(abut against)第二組件，且固定元件在操作位置處與第二組件隔開(進一步的)距離。就本申請案的目的而言，固定元件緊靠第二組件係理解為表示固定元件和第二組件之間的接觸(即通常為表面面積上的接觸)、或固定元件或其固定面在可移動組件前小於約10μm的小距離的配置(見上文)。在這兩種情況下，固定元件移動到固定位置使得止擋件能夠被使用作為輸送止動器。為此目的，固定元件從操作位置移動到固定位置。固定元件從操作位置(其中組件可相對承載框移動)進入固定位置(反之亦然)的移動可例如手動地發生，例如可能藉由使用固定螺釘或借助於工具(例如借助於桿或類似物)使固定元件移動或位移。
在一發展中，光學配置或止擋件具有至少一致動器，用以在固定位置及操作位置之間移動固定元件。用以移動固定元件的致動器可例如為壓電致動器，但其他的驅動概念(例如使用電動驅動器等)也是可能的。
在一具體實施例中，止擋件具有含一頭部區域的一桿狀部分，其中至少一止擋面形成於頭部區域上，且固定元件在桿狀部分的縱向方向上可被移動地導引。止擋件的止擋面可例如架設在頭部區域的端面上 或圍繞頭部區域。頭部區域可具有阻尼裝置，例如形式為一個或多個彈性體元件，其形成在通常為金屬桿狀部分上的頭部區域中。止擋面在此情況下形成在阻尼彈性體元件上，以在發生突然震動的情況下(例如在發生地震的情況下)，減緩可移動組件對止擋面的撞擊。
在一發展中，固定元件(特別是至少其固定面)以一環狀方式(特別是圓形環的形式)環繞止擋件的桿狀部分。以此方式，可實現具有整合輸送安全功能的特別緊湊的止擋件。
在另一具體實施例中，可移動組件具有一凹部，其中止擋件在凹部處與頭部區域接合，凹部的周圍較佳具有用以在固定元件的固定位置處鄰接接觸固定元件的斜面(更準確地說為固定元件的固定面)。凹部可例如形成為圓柱形孔，其中止擋件的頭部區域接合到圓柱形孔中。頭部區域的止擋面(例如以(圓形)環的形式環繞)在此情況下可例如在XY方向上限制組件的移動，而當組件在凹部或孔底部撞擊止擋面時，形成在止擋件或頭部區域的端面上的另一止擋面限制其例如在Z方向上移動。固定面(其一般以環的形式環繞)可例如形成為漸細的錐形並接合於形成在凹部周圍上的斜面。以此方式，固定裝置可限制可移動組件在所有三個空間方向上的移動，並在固定位置處將其固定在所有三個空間方向上。
在一發展中，固定元件係設計以將止擋件的頭部區域展開抵靠凹部或孔的側表面。在這種情況下，頭部區域或可能是整個止擋件可由在固定元件的協助下展開的一或多個組件所構成，使得其緊靠凹部的側表面或壓靠在凹部的側表面上。頭部區域的展開也可用於設定止擋件與凹部的側表面之間的間隙寬度，且以此方式可適用以限制組件的移動範圍。
在一發展中，止擋件的頭部區域具有可相對彼此移動的至少兩個頭部部分，固定元件在至少兩個頭部部分之間接合於固定位置。在此發展中，止擋件通常形成為兩或更多部分。在操作期間，止擋件的形式基本上對應傳統止端部止擋件的形式。在輸送的情況下(其中固定元件處於 固定位置)，可相對彼此移動的頭部部分由固定元件壓靠在凹部的側表面上並夾持可移動組件。若頭部部分與可移動組件的側表面之間的摩擦足夠大，則止擋件在XY方向及Z方向上都作用為輸送止動器。在此處，兩個頭部部分可分別架設在止擋件的自身桿狀部分上，其遠離頭部部分的端部可透過接點而架設在承載框上，以能夠藉由固定元件來展開。
同樣可能的是，兩或更多個止擋件具有至少一個致動器，以相對於可移動組件或承載框移動或移位止擋面，使得其在固定位置處壓靠可移動組件，以由此方式將可移動組件夾持在止擋件的止擋面之間，如在例如開頭所引用的DE 10 2012 212 503 A1所述。在兩或更多端部止擋件的端面彼此不直接相對的情況下(如在DE 10 2012 212 503 A1)，可能有利的是不僅能夠由致動器實現在桿狀部分的縱向方向上的位移，且能夠實現橫向於其縱向方向的位移，以由此方式在止擋件之間或在止擋件的止擋面之間牢固地夾持可移動組件。
在另一具體實施例中，固定元件在固定位置將第二組件壓靠在一止擋件的至少一止擋面上。在此具體實施例中，固定元件不形成止擋件的一部分，即其不在表面區域處作用在可移動組件上或不作用在表面區域附近，其中止擋件(更準確地說為止擋面)在表面區域處也作用在可移動組件上。藉由適當地選擇固定元件作用在可移動組件上的方向，單一固定元件可能足以固定整個組件。
本發明的另一態樣關於在開頭所提及類型的光學配置，特別是如前文所述，更包含：一致動器，具有一驅動器以在一固定位置及一操作位置之間移動止擋件，其中止擋面在固定位置處緊靠第二組件，且止擋面在操作位置處與第二組件隔開一距離，致動器係設計以在(即使)驅動器關閉(亦即，去能)時保持止擋件於固定位置。驅動器可例如為主軸驅動器、直接線性驅動器、電動驅動器等，或可能為非電性操作的驅動器或馬達。
作用在止擋件上的電動或驅動操作的致動器可解決光學配 置中的止擋件通常僅能困難地以手動致動來使用的問題。止擋件的電動致動的可能性使其能夠也架設在難以達到但有利於作為端部止擋件的位置處，並特別地相對接觸力以及相對組件在發生碰撞時所涵蓋距離而最佳化。為此目的僅需要將用於連接致動器的調整電子件的電纜或類似物設置在易於接近的位置。來自致動器的電纜連接可路由至這個易於接近的位置，亦即在致動器與其餘的光學配置之間不是絕對必要存在一電連接，即使這樣的連接也是可能的。在控制信號的協助下適當的啟動將能夠驅動致動器，並因此驅動止擋件被移動到期望的位置，例如移動到固定位置。藉由致動器或驅動器的自鎖動作，處於固定位置的止擋件可以保持在固定位置，並且可能在去能狀態下保持在其它位置(參考下文)。
致動器較佳也設計為在去能狀態下(即驅動器關閉時)將止擋件保持在操作位置處，亦即，在操作位置處，驅動器或馬達也有可能與電源斷開而不會讓止擋件離開操作位置。在操作位置中，止擋件的止擋面理想上與可移動組件相距一預定距離。在致動器的協助下，若需要的話，可移動組件與止擋面之間的距離在操作期間可在一定的範圍內被修正或改變。
在傳統止擋件的情況下，目的為在傳輸期間使用止擋件來固定形式為承載結構(例如承載框(「力框架」)和感測器框(「感測器框」))的兩個組件，為此目的，在傳輸之前，將接觸部分旋入處於操作位置的止擋件與可移動組件之間，直到其與止擋面接觸。在傳輸後，再次旋開接觸部分。在端部止擋件無法接近的情況下，必須希望在此情況下，間隙的寬度或可移動組件與止擋面之間的距離在傳輸後將被恢復。檢查距離(例如在測徑規(caliper guage)的協助下)只能在可到達止擋件的情況下進行。若止擋件與可移動組件之間的間隙太小，則可能發生機械短路，從而干擾可移動組件或光學配置的動態行為，最差的情況下將導致可移動組件(例如以反射鏡的形式)不再能夠被移動或致動。
在一發展中，止擋件具有一接觸面，其在操作位置緊靠第一組件，接觸面較佳形成於與止擋面相對的止擋件的一側。在止擋件處於操作位置的情況下，可移動的第二組件碰到止擋面，作用在止擋面上的力在接觸面的協助下將直接地傳遞到第一組件上，使得驅動器不需要吸收作用在止擋件上的力。接觸面可以例如形成於止擋件的周邊凸緣或軸環上，在其相對側上形成止擋面。
在另一具體實施例中，致動器具有一齒輪機構，較佳為一槓桿機構(lever mechanism)，用於驅動器到止擋件的力傳輸。齒輪機構或槓桿機構允許傳輸到止擋件的力增加。通過槓桿機構的適當設計，也有可能藉由在固定位置的槓桿機構來產生致動器的自鎖作用，如下文所作的更詳細解釋。其他的齒輪機構(例如平行四邊形齒輪機構)也可具有自鎖作用。
在一發展中，槓桿機構形成一肘節槓桿(toggle lever)，其具有由一共同接點所連接的兩個支腳，止擋件較佳藉由另一接點連接至兩個支腳的其中一者。肘節槓桿可例如藉由以主軸驅動器或類似物的方式的驅動器來驅動。
在止擋件的固定位置中，肘節槓桿較佳處於一延伸位置、一相合位置(congruent position)或一過度延伸位置。若肘節槓桿超出死點或達到死點(如在延伸位置(兩支腳或槓桿臂之間的角度為180°)、相合位置(兩支腳或槓桿臂之間的角度為0°)、或在肘節槓桿的過度伸展位置的情況)，當肘節槓桿將止擋件壓靠在可移動的第二組件上時，可實現自動鎖定效果。即使驅動器的致動力在固定位置下降，肘節槓桿的夾持力也會保持不變，且無法自行鬆動。因此，一旦達到固定位置，驅動器通常可與電源斷開連接。此外，在肘節槓桿伸展或過度伸展的位置，即使在傳輸期間發生衝擊的情況下，作用在驅動器上的力也非常小。代替此處所述的肘節槓桿，也可以使用實現自鎖或自動鎖定的其他電動機構，例如由於適當選擇主軸間距而自鎖的主軸驅動器。
在另一發展中，止擋件在固定位置及操作位置之間移動的過程中被導引而無扭轉。止擋件在此情況下被運動地導引，使得其在固定位置及操作位置之間的移動期間不會繞其縱軸轉動，其通常為線性移動。這是有利的，因為在止擋件的轉動運動期間可能形成會污染止擋件周圍的粒子，特別是當將止擋面壓靠在可移動組件上。當將止擋件放置在可移動組件上時，旋轉運動也可能導致組件損壞。當使用肘節槓桿時，可例如藉由被設計為鉸鏈接點的另一接點來實現不扭轉的導引，其中止擋件架設在肘節槓桿的兩支腳的其中一者上。一般而言，連接肘節槓桿的兩支腳的接點也設計為鉸鏈接點，使得止擋件僅能在一平面中運動地位移，或者在使用線性導引的情況下(例如以軸承套筒的形式)僅在一預定方向上運動地位移。
在另一具體實施例中，光學配置另外包含一屏蔽件或封裝，其至少將致動器的驅動器或馬達相對周圍環境封裝(encapsulate)。屏蔽件可將致動器的驅動器(特別是肘節槓桿)以真空密封的方式與環境隔開，但若屏蔽件或封裝防止或抑制粒子逸出至周圍環境且並非完全真空密封，也可能就足夠了。為此目的，可在用以導引止擋件的線性導引件(例如軸承套筒)與止擋件本身之間設置用以避免粒子逸出至屏蔽件的周圍環境的密封件。密封件可例如設計為摩擦密封件或迷宮式密封件。
本發明的另一態樣關於光學配置，特別是微影系統，包含：一第一組件，特別是一承載框；以及一第二組件，其可相對第一組件移動，特別是一反射鏡；一流體，特別是一磁流變流體(magnetorheological fluid)、一電流變流體(electrorheological fluid)或一觸變流體(thixotropic fluid)，其被引入至第一組件及第二組件之間的一中間空間。
在本發明的此態樣中，將可造成第二組件的運動的減弱且其黏度可較佳地改變的流體引入至第一組件及第二組件之間的中間空間中。若其為電流變流體或磁流變流體，則可在可移動的第二組件及第一組 件之間產生可調整的移動阻尼(參考下文)。
若流體為觸變流體，則其黏度根據負載情況而變化，亦即，當第二組件具有很大的加速度時，觸變流體的黏度將大幅增加，且當第二組件的加速度為小時，觸變流體表現為低黏度流體。適當觸變流體(例如形式為矽基建模材料)的選擇取決於第二組件的預期激發光譜(振動光譜)，例如在傳輸期間、在發生地震衝擊時及在操作期間。此處應可預期到，在兩個第一應用情況中的加速度比光學配置的操作期間大了約10倍。觸變流體應選擇使得在傳輸期間及在地震衝擊的情況下，觸變材料在兩組件之間產生最佳可能的力配合，使所產生的可移動的第二組件的加速力可由第一組件吸收。另一方面，在光學配置的操作期間，觸變流體不應抑制、或僅稍微抑制可移動組件的移動。
在另一具體實施例中，光學配置具有用以保持流體的一容器以及用以將流體從容器供給到間隙中(且可能反之亦然，即從間隙到容器中)的一供給裝置。流體(例如形式為觸變流體)在此情況下僅在當要傳輸光學配置時或如果偵測到即將發生的地震時才被引入到間隙中。在操作之前不久，從中間空間或從用於接收流體的腔室容積中再次移除流體，例如其被泵回至容器中或可能以其他方式從光學配置中移除。以此方式，一方面流體可吸收在傳輸期間或在發生震動時所發生的加速度，另一方面確保在光學配置的操作期間在兩個組件之間沒有不想要的力或振動的傳遞。
為了避免(真空)環境的污染，觸變材料應具有非常低的揮發性及/或位於與周圍真空隔絕的體積中，例如藉由一隔膜。有可能在可移動組件中形成用以接收流體的一或多個凹部，凹部可能由一隔膜密封。
在一發展中，第一組件具有至少一桿狀組件，特別是一止擋件，其具有浸入流體中的一頭部區域。藉由桿狀組件，力可從流體傳輸到第一組件並由第一組件吸收。桿狀組件可為(端部)止擋件，其上形成用於可移動組件的止擋面，但並不一定是這種情況，亦即浸入流體中的組件不 一定必須作為用以限制第二組件的移動範圍或預定調整範圍的止擋件。在此情況下，(觸變)流體作為(衝擊)阻尼元件，而不是作為用於可移動組件的鎖定裝置。若第一組件及第二組件之間的中間空間完全被流體填滿，則有可能省去此一桿狀組件。
在另一具體實施例中，光學配置具有至少一場產生裝置，用以產生一電場或一磁場，以改變磁流變流體或電流變流體的黏度(viscosity)。在此情況下，流體一般也被引入到中間空間中且可用以在光學配置的操作期間減緩可移動組件的移動。流體的黏度可特別地藉由裝置或藉由場強度及也可能是相應電場或磁場排列的選擇來改變。在場產生裝置的協助下，流體的黏度可變得很大而使其作為輸送止動器或作為用以吸收力的阻尼器，例如在衝擊負載的情況下。場產生裝置可例如設計為產生用於運輸的電場，其不需要任何能量來維持。為此目的，例如電荷可被傳輸到導電體(例如電容器板)，在導電體之間引入電流變流體，使得其以電容器的方式作用。
本發明的另一態樣關於一光學配置，特別是微影系統，其包含：一第一組件，特別是一承載框；一第二組件，其可相對第一組件移動，特別是一反射鏡；一殼體，特別是一真空殼體，其具有一內部空間，至少一可移動第二組件配置於其中；以及一固定裝置，用以相對第一組件固定可移動的第二組件，固定裝置具有至少一固定元件，固定元件在一操作位置處與可移動組件隔開一距離且在一固定位置處緊靠可移動組件，藉由改變在殼體中的內部壓力，固定元件可從操作位置移動至固定位置且可從固定位置移動至操作位置。
在本發明的此態樣中，使用這樣的事實：在光學配置的操作期間，殼體的內部空間中的壓力一般不同於在光學配置的傳輸期間的內部空間中的壓力，特別是如果配置在殼體中的組件在真空條件下操作，如一般在EUV微影系統(特別是EUV微影裝置)中的EUV反射鏡的情況。在此情 況下，在操作期間於真空殼體中存在例如不超過約10-3mbar的小壓力，而在傳輸期間於殼體(例如投射系統的殼體)中通常存在約為1bar(即大氣壓力)的整體壓力。使用此處所述的固定裝置，固定元件從操作位置到固定位置的移動可藉由改變殼體中的壓力或第二組件周圍的壓力而完全自動地發生。因此，對於固定元件的移動來說，不需要任何類型的饋送線(其需要複雜管道、引入線、鋪設及/或啟動措施)。
在一發展中，當在殼體的內部空間中的壓力增加時，固定裝置係設計以將固定元件從操作位置移動至固定位置。相應地，當殼體的內部空間中的壓力降低時，固定元件從固定位置移動到操作位置。如上所述，在形式為EUV微影裝置的光學配置中的反射鏡在真空條件下操作，而EUV微影裝置的傳輸發生在環境壓力下，使得當壓力增加時固定元件從操作位置移動到固定位置且當壓力壓力降低時在相反的方向上移動(即從固定位置移動到操作位置)是合理的。
在一發展中，固定裝置具有與殼體的內部空間密封隔絕且可例如形成於另一殼體中的一氣體體積，並具有可根據在殼體中的內部壓力與在氣體體積中的壓力之間的差異而移動的一組件，該組件在移動方面耦合至固定元件或形成固定元件。在密封隔絕的氣體體積中的壓力可例如為約500mbar，但也可更大或更小。氣體體積的大小決定了彈簧常數或固定裝置相對於壓差變化的敏感度。一般來說，較大的彈簧常數是有利的，這可以藉由與周圍環境密封隔絕的盡可能小的氣體體積來實現。密封隔絕的氣體體積可例如在氣動活塞中形成腔室，其活塞桿形成可移動組件且其具有與殼體的內部空間(其中配置有第二組件)連接的另一腔室。固定元件在移動方面與可移動組件的耦合也理解為表示固定元件與可移動組件的剛性耦合。
為估計可用於固定元件的移動而實現的氣動力，假設傳輸期間在殼體的內部空間中的壓力與在氣體體積中的壓力之間的壓力差為約 0.5bar，則對於直徑約4cm的組件(例如反射鏡)將獲得約6kg的質量。儘管此力通常不足以整體地保持可移動組件，但此力絕對足以移動用於固定可移動組件的相對輕的固定元件(例如固定螺栓)，且以此方式用以在空間上固定可移動組件的位置，例如藉由間接力吸收。
在一發展中，可移動組件設計為一可撓性膜，其形成隔絕氣體體積位於其中的另一殼體的一牆區域。固定元件可固定在可撓性膜上，其根據作用在彼此相對的膜的兩側上的壓力差而相應地彎曲，從而將固定元件從固定位置移動到操作位置，且反之亦然。固定元件在固定位置及操作位置之間所涵蓋的距離通常相對較小，使得其可藉由改變膜的曲率來實現。膜可以例如由金屬材料形成，因為這適用於真空，且因此通常不會將任何粒子散發到殼體的內部空間中的周圍真空中。另一殼體通常牢固地連接到固定的第一組件。
本發明的另一態樣關於一光學配置，特別是微影系統，其包含：一第一組件，特別是一承載框；一第二組件，其可相對第一組件移動，特別是一反射鏡；至少一致動器，用以相對第一組件移動可移動的第二組件；以及一固定裝置，用以相對第一組件固定可移動的第二組件，固定裝置具有架設在第一組件上的第一固定元件以及架設在可移動的第二組件上的第二固定元件，致動器係設計以將可移動的第二組件移動至一固定位置，其中第一固定元件及第二固定元件以一形狀配合及/或力配合(force-fitting)的方式相互作用以將第二組件保持在固定位置，特別是在其形成機械鎖定(鎖鑰原理)處。
在此態樣中，提出了用以在操作期間所使用的移動空間(「操作範圍」)內移動可移動的第二組件(例如反射鏡)的至少一個致動器也用於將可移動組件移動到固定位置，該固定位置一般位於在操作期間所使用的移動空間的外部，但在可移動組件的機械可行的移動空間(「機械範圍」)內。可移動的第二組件的機械可能移動空間通常受到前文所進一步描述的 端部止擋件的限制。
固定位置在光學配置的正常操作期間沒有達到，且在發展的情況下只能沿可移動的第二組件的預定路徑曲線移動，且只能由預定(不一定相同)路徑曲線再次離開。所需的路徑曲線通常可由一或多個致動器直接產生，其中致動器也用於第二組件在操作期間所使用的移動空間內的移動，亦即通常不需要額外的致動器來用於此目的。此處有利的是，致動器一般係設計以在三個平移及三個旋轉自由度中移動可移動組件，使得實際上在致動器的協助下可產生任何期望的移動路徑。
勞倫茲致動器可用以例如產生移動路徑，其中藉由通過其線圈的短暫較高電流而在可移動組件上產生如此大的力，使得在操作期間使用的移動空間被留下，並到達固定位置。在固定位置中，兩個固定元件可例如以機械鎖定(鎖鑰原理)的方式彼此接合。
在一發展中，第一固定元件及第二固定元件係以鉤具的形式設計且兩個鉤形固定元件在固定位置彼此接合。鉤形固定元件表示以鎖鑰原理的方式實現機械鎖定的一種可能方式。當然，還有許多其他可能的方式來使兩個固定元件通過形狀配合而形成機械鎖定，使得其不會在沒有重新移動第二組件的的情況下從固定位置釋放。
在一發展中，至少一致動器設計以在至少兩個不同方向上移動第二固定元件以離開固定位置(且通常也用以將固定元件移動到固定位置)。以此方式，通常可避免所不希望發生的可移動第二組件在例如衝擊的情況下從固定位置釋放，因為作用在第二組件上的力僅在一個方向上施加。
在另一具體實施例中，第一固定元件設計以藉由沿一固定方向施加一力而將第二固定元件固定在固定位置，以及藉由沿固定方向重新施加一力而將第二固定元件從固定位置釋放。在此情況下，以類似於圓珠筆的機構或用於SD卡槽的鎖定的方式，第一固定元件具有含雙穩態的鎖定機構。第二固定元件(其可例如以適當組態的銷的形式來設計)以一定的力 沿固定方向以直線運動移動並被壓入機構中，使得第二固定元件(例如形式為銷)被扣在固定位置處，且無法相反於固定方向被釋放。在沿固定方向(即沿相同方向)向第二固定元件重新施加力之後，扣緊件再次釋放。相應的機構可例如藉由凸輪盤或凸輪齒輪機構結合鋸齒形狀而形成，以固定第二固定元件。用於第二組件或第二固定元件的移動的力可藉由致動器(例如形式為勞倫茲致動器)如前文所進一步描述的那樣施加。
光學配置的另一組態具有一固定裝置，其具有用以相對第一組件固定可移動的第二組件的至少一接觸面，第二組件的表面區域在一固定位置緊靠接觸面並藉由黏著將第二組件固定在接觸面上。
第二組件的表面區域及接觸面通常是非常光滑的表面，在此情況下，藉由黏著或藉由所謂的絞合或光學接觸結合進行固定。若第二組件為用於EUV微影的反射鏡，則與接觸面進行接觸的表面區域一般形成在基板材料上，基板材料可例如為Zerodur®或ULE®，其若適當地拋光將具有非常低的表面粗糙度。接觸面可例如由聚合物材料或彈性體材料形成，例如由乙烯-丙烯-二烯橡膠(EPDM)形成，其同樣具有非常光滑的表面。接觸面可例如形成限制第二組件移動的端部止擋件的止擋面。特別地，若光學配置(例如形式為EUV微影裝置)倒置以用於輸送，則重力補償的效應為兩倍重量(2g)作用在端部止擋件上或在形成接觸面的止擋面上。因此，可移動組件以約2g壓靠在接觸面上，由於黏著力，在具有適當尺寸的接觸面的情況下，這足以固定或保持整個組件。接觸面不一定必須形成在止擋件上，而是也可以形成在為此目的而特別在光學配置中設置的組件上。
由下文中基於顯示本發明重要細節之附圖中的圖式而對本發明範例具體實施例的描述以及由申請專利範圍將顯示本發明的其他特徵及優點。個別特徵可在各個情況下分別由自身實現或在本發明一變化形式中以任何組合一同實現。
1‧‧‧EUV微影裝置
2‧‧‧光束產生系統
3‧‧‧照明系統
4‧‧‧投射系統
4a‧‧‧內部空間
5‧‧‧EUV光源
6‧‧‧EUV輻射
7‧‧‧準直器
8‧‧‧單色儀
9‧‧‧反射光學元件
10‧‧‧反射光學元件
11‧‧‧光學遮罩
12‧‧‧晶圓
13‧‧‧反射光學元件
14‧‧‧反射光學元件
15‧‧‧反射鏡模組
16‧‧‧致動器
17‧‧‧感測器
18‧‧‧感測器框
19‧‧‧承載框
20‧‧‧止擋件
20a‧‧‧桿狀部分
20b‧‧‧頭部端
21a‧‧‧止擋面
21b‧‧‧止擋面
22‧‧‧凹部
22a‧‧‧側表面
23‧‧‧固定裝置
24‧‧‧固定元件
25‧‧‧固定面
26‧‧‧斜面
27‧‧‧壓電致動器
28‧‧‧環形板
29‧‧‧彈簧
30‧‧‧凸緣部分
31a‧‧‧頭部部分
31b‧‧‧頭部部分
32a‧‧‧桿
32b‧‧‧桿
33a‧‧‧接點
33b‧‧‧接點
34‧‧‧致動器
35‧‧‧承載框
36‧‧‧驅動器
37‧‧‧肘節槓桿
38a‧‧‧支腳
38b‧‧‧支腳
39‧‧‧接點
40‧‧‧接點
41‧‧‧屏蔽件
42‧‧‧接點
43‧‧‧軸承套筒
45‧‧‧中心軸
46‧‧‧密封元件
47‧‧‧凸緣
48‧‧‧接觸面
50‧‧‧中間空間
51‧‧‧流體
52‧‧‧場產生裝置
53a‧‧‧電容器板
53b‧‧‧電容器板
54‧‧‧可控電壓源
55‧‧‧觸變流體
56‧‧‧進出料裝置
57‧‧‧進出料線路
58‧‧‧泵
59‧‧‧儲存容器
60‧‧‧桿狀組件
61‧‧‧頭部區域
62‧‧‧固定元件
63‧‧‧氣體體積
64‧‧‧隔膜
65‧‧‧殼體
70‧‧‧固定裝置
71‧‧‧固定元件
72‧‧‧固定元件
80‧‧‧固定裝置
81‧‧‧接觸面
82‧‧‧拋光表面區域
η‧‧‧黏度
λB‧‧‧操作波長
B‧‧‧操作位置
E‧‧‧電場
F‧‧‧固定位置
F1-Fn‧‧‧力
K‧‧‧路徑曲線
p1-p2‧‧‧壓力
R‧‧‧固定方向
s‧‧‧距離
Z1-Zn‧‧‧資訊
在示意圖中將描述範例具體實施例，且將於下文中作出解釋。在圖式中：圖1a顯示具有形式為反射鏡的複數個可移動組件的EUV微影裝置的示意圖；圖1b顯示具有圖1a之EUV反射鏡的其中一者以及具有用以限制其移動路徑的兩個(端部)止擋件的反射鏡模組的示意圖；圖2a、2b顯示具有用以固定EUV反射鏡的固定裝置的止擋件的示意圖，其具有可相對止擋件的止擋面移動的固定元件；圖3a-3c顯示具有用以移動固定元件的致動器的三種不同組態的圖2a、2b的止擋件的示意圖；圖4a、4b顯示一固定元件的示意圖，其在固定位置處將多部分止擋件的頭部區域展開並將其壓靠在形成於EUV反射鏡中的凹部的側表面；圖5a、5b顯示一固定元件的示意圖，其在固定位置處將EUV反射鏡壓靠在一止擋件的止擋面或多個止擋件以進行固定；圖6a、6b顯示具有可致動端部止擋件的EUV反射鏡的示意圖，以將EUV反射鏡夾持在端部止擋件的止擋面之間；圖7a、7b分別顯示在由固定元件直接及間接吸收力的情況下的EUV反射鏡的示意圖；圖8a、8b顯示止擋件在操作位置及在用以固定感測器框的固定位置的示意圖，止擋件藉由肘節槓桿而保持在固定位置；圖9顯示EUV反射鏡的示意圖，其中電流變流體被引入到承載框及EUV反射鏡之間的中間空間中；圖10顯示EUV反射鏡的示意圖，其中觸變流體已被引入到承載框及EUV反射鏡之間的中間空間中； 圖11a、11b顯示EUV反射鏡的示意圖，其中根據EUV反射鏡的環境壓力，固定元件可從操作位置移動到固定位置，且反之亦然；圖12a、12b顯示EUV反射鏡的示意圖，其可透過致動器沿彎曲的移動路徑移動，以將EUV反射鏡的鉤形固定元件移動至固定位置，其在固定位置處接合另一鉤形固定元件；圖13a、13b顯示具有固定元件的EUV反射鏡的示意圖，其可透過致動器藉由沿一固定方向施加一力而以線性移動的方式移動至一固定位置，並可藉由沿固定方向重新施加一力而從固定位置釋放；以及圖14a、14b顯示具有拋光表面區域的EUV反射鏡的示意圖，其在一固定位置緊靠固定裝置的接觸面並藉由黏著力而保持在接觸面上。
在以下的圖式描述中，相同或功能上相同的組件使用相同的元件符號。
在圖1a中示意地顯示形式為EUV微影裝置1的EUV微影系統。EUV微影裝置1具有光束產生系統2、照明系統3及投射系統4，其容納於獨立的真空殼體中並在從光束成形系統2的EUV光源5所射出的EUV輻射6的射線路徑中一個接一個地配置。為簡化起見，光束產生系統2、照明系統3及投射系統4在下文中也理解為表示相應的真空殼體2、3及4。電漿源或同步加速器可例如作為EUV光源5。從EUV光源5所射出之波長範圍在約5nm至約20nm之間的輻射首先聚焦於準直器7。在下游單色儀8的協助下，過濾出想要的操作波長λB，其在本範例中為約13.5nm。準直器7及單色儀8形成為反射光學元件。
在光束產生系統2中關於波長及空間分佈進行處理的EUV輻射被引入至照明系統3，其具有第一及第二反射光學元件9、10。兩個反 射光學元件9、10將EUV輻射6導引至作為另一反射光學元件的光學遮罩11上，其具有透過投射系統4以縮小比例成像至形式為晶圓12的光敏感基板上的結構。為此目的，在投射系統4中設置第三及第四反射光學元件13、14。
反射光學元件9、10、11、13、14分別具有光學表面，其暴露在光源5的EUV輻射6下。光學元件9、10、11、13、14在真空條件下於EUV微影裝置1中操作。在投射系統4中，更精確地說為在相應真空殼體4的內部空間4a中，存在例如小於約10-1mbar的壓力p1，亦即遠低於大氣壓力的壓力。
圖1b以範例的方式顯示反射鏡模組15，其具有形式為圖1a的投射系統4的第一EUV反射鏡13的可移動組件。反射鏡模組15具有多個反射鏡致動器16，其用以使EUV反射鏡13移動且分別在EUV反射鏡13上施加力F1,...,Fn，以在三維空間中的所有六個自由度(即在所有三個平移自由度(TX,TY,TZ)及在所有三個旋轉自由度(RX,RY,RZ))中定位或對齊及操縱EUV反射鏡13。此外，感測器17係提供用於偵測有關EUV反射鏡13在空間中的位置及方位的資訊Z1,...,Zn。致動器16及感測器17兩者(更確切地說是其感測器框18(「感測器框」)以機械解耦(彈簧式架設)的方式架設在承載結構或承載框19(「力框」)上。承載框19實質地吸收所有作用在反射鏡模組15上的力。承載框19可在安裝有反射鏡模組15的整個EUV微影裝置1上延伸，但承載框19本身也有可能被固定或彈簧式架設在另一承載結構上。在圖1b所示的範例中，兩個端部止擋件架設在承載框19上，其在下文中也稱作止擋件或端部止擋件20。
致動器及感測器軸的數量取決於所要操縱的自由度的數量。若所有六個自由度都將被操縱，則至少需要六個致動器及感測器軸，並具有相應的配置。致動器16的實際配置或EUV反射鏡13的架設設置在此情況下基本上對應於六足體(hexapod)。
如前文所述，EUV反射鏡13以機械解耦或彈簧方式(「浮動」)架設於承載框19上。基於永久磁鐵的所謂的重量補償器可用於例如EUV反 射鏡13在承載框19上的「浮動」架設，如在US2013/0314681A1中所描述，其以引用的方式併入本申請案的內容。舉例來說，可針對反射鏡13使用勞侖玆致動器作為致動器16，其一般具有可通電線圈及與後者保持一距離的永久磁鐵，如在DE 10 2011 004 607 A1中所述，其以引用的方式併入本申請案的內容。
在EUV反射鏡13的操作期間所使用的行經距離或移動空間通常在平移上僅為數個至數百微米(μm)或在旋轉上僅為幾個毫弧度(mrad)。端部止擋件20用以避免EUV反射鏡13的不希望的及關鍵的碰撞以及限制或限定EUV反射鏡13的最大可能機械移動空間。在EUV反射鏡13撞上EUV微影裝置1中的任何物體之前，將借助端部止擋件20來吸收EUV反射鏡13的移動。特別是當EUV微影裝置1被輸送時，EUV反射鏡13或EUV反射鏡9、10、13、14相對於端部止擋件20的重複、不受控的撞擊可能導致損壞，特別是在加速度很大的情況下(>2g)。
因此有利的是，在輸送EUV微影裝置1之前，固定EUV反射鏡或反射鏡9、10、13、14以及在EUV微影裝置1中可能存在的其他可移動組件(例如感測器框等)，使得它們不再能夠在端部止擋件20之間自由移動。有許多可能的方式來提供這種輸送止動器，下文將對其中的一些進行描述。
圖2a、2b顯示端部止擋件20，其具有桿狀部分20a，其透過一端牢固地固定在承載框19上。在止擋件20的桿狀部分20a的自由端(頭部端20b)形成有第一、略微彎曲的止擋面21a，其用以在當EUV反射鏡在(負)Z方向上相對圖2a的止擋件加速時吸收在重力方向(Z方向)上的衝擊力。在止擋件20或桿狀部分20a的頭部端20b處還形成了第二止擋面21b，其以環狀的形式環繞外圍且EUV反射鏡13在垂直於Z方向上(在X方向或Y方向)加速時將對其撞擊。為了避免EUV反射鏡13在撞擊到止擋面21a、21b時受到損壞，後者分別形成在適用於真空的彈性體元件上，其環繞止擋件20的典型金屬桿狀部分20a的自由端。
在圖2a、2b所示的範例中，端部止擋件20的自由端或頭部端突出至EUV反射鏡13的凹部22中。在EUV微影裝置1的操作期間，在第一止擋面21a及凹部22底部之間以及在外圍第二止擋面21b及環形凹部22的側表面之間形成間隙，使得EUV反射鏡13可相對承載結構19移動。
在所示的範例中，端部止擋件20具有包含固定元件24的固定裝置23作為輸送止動器，其在圖2a中顯示為在操作位置B，其中固定元件24與EUV反射鏡13保持一定距離。固定元件24可移動離開操作位置B而進入固定位置F(其顯示於圖2b)且固定元件24(更精確地說為固定元件的實質圓錐形的外圍固定面25)在固定位置F處緊靠EUV反射鏡13(更精確地說為緊靠凹部22的外圍的實質圓錐形斜面26)。外圍斜面26在配置於固定位置F中的固定元件24的外圍圓錐形固定面25上的緊靠接觸將允許形狀配合，其在所有三個空間方向(即在Z方向以及在X及Y方向)上固定EUV反射鏡13以供輸送。
在圖2a、2b所示的範例中，固定元件24在桿狀部分20a的縱向方向上被可位移地導引且具有在止擋件20的縱向方向上延伸的多個桿狀元件，其牢固地固定在固定面25也形成於其上的固定元件24的環形頭部區域上。在所示的範例中，桿狀元件穿過承載框19中的孔，其類似於止擋件20在Z方向上延伸且其以相對於止擋件20的桿狀部分20a的中心軸在圓周方向上徑向偏移的規則安排來配置。
存在有多種可能方法來以自動的方式(即借助致動器27)進行固定元件24從圖2a所示的操作位置B到圖2b所示的固定位置F的運動，其中三個方法以例示的方式表示於圖3a-c。在圖3a-3c所示的所有三個止擋件20的情況下，固定元件24在其與具有固定面25的頭部部分相對的端部處具有環形板28，其中致動器27作用在環形板28上。在圖3a所示的範例中，壓電致動器27的端面緊靠環形板，該壓電致動器同樣設計成環形且其在止擋件的縱向方向上(即在Z方向上)的長度可藉由施加電壓而改變(在所示範例中為縮短)，以使固定元件24離開圖3a所示的固定位置F而進入操作位置B 中。
在圖3b所示的範例中，在環形板28及承載框19之間嵌入彈簧29，其將固定元件23壓靠在圓柱形組件的徑向向內延伸的凸緣部分30，其中圓柱形組件架設在承載框19遠離止擋件20的頭部區域20b的端部上。為了將固定元件24移動離開如圖3b所示的操作位置B，在面向凸緣部分30的一側上的致動器27(圖3b中未示出)可壓靠在環形板28上，以克服彈簧力的作用將其(並因此將固定元件24)位移到固定位置F。
在圖3c所示的範例中，環形板28在多個壓電致動器27的協助下固定在承載框19遠離止擋件20的頭部區域20b的一側上。壓電致動器27分別具有頭部區域，其在遠離止擋件20的頭部部分20b的一側上緊靠環形板28。如在圖3a所示範例的情況下，藉由施加電壓，壓電致動器27可在Z方向上(即在止擋件20的桿狀部分20a的縱向方向上)改變其長度，以將固定元件24從圖3c所示的操作位置B移出到固定位置F。作為圖3a-3c所示範例的替代方案，可使用以壓電步進驅動方式或所謂「尺蠖(inchworm)」壓電驅動方式(其係基於爬行器式前進原理)的壓電致動器。固定元件24從操作位置B到固定位置F的移動(反之亦然)也可手動地進行，亦即不使用致動器，例如通過收緊或鬆開為此目的而設置的固定螺絲。
圖4a、4b顯示雙部止擋件20的範例，其頭部區域20b具有兩個頭部部分31a、31b，且其桿狀部分20a由兩個桿32a、32b所形成，其藉由相應的接點33a、33b固定至承載框19。止擋件20具有含固定元件24的固定裝置23，其可在操作位置B(顯示於圖4a)及固定位置F(顯示於圖4b)之間移動，以更精確地在Z方向(重力方向)上位移。在所示的範例中，固定元件24設計為一固定銷且在固定位置F處接合於頭部區域20b的兩個頭部部分31a、31b之間，藉此展開頭部部分31a、31b，使得它們或頭部區域20b在徑向方向上壓靠在凹部22的側表面22a，由此將EUV反射鏡13牢固地夾緊。只要兩個頭部部分31a、31b的止擋面21a、21b與凹部22的側表面22a之間的摩 擦夠大，展開的止擋件20不僅可在X方向及Y方向上、也可在Z方向上將EUV反射鏡13固定，亦即EUV反射鏡13可在所有三個空間方向上固定。作為圖4a、4b所示的止擋件20的替代方案，隨著兩個頭部部分31a、31b展開的發生，可使用形成為一部件的止擋件20，在此情況下以例如環形形式設計且至少部分地由彈性材料所形成的頭部區域20b為張開的，其中如圖4a、4b所示範例的情況，固定元件24嵌入至環形頭部區域20b。在這種情況下，桿狀部分20a可例如具有中心孔，固定元件24在其位移期間在中心孔中被導引。
結合圖2a、2b、圖3a-3c及圖4a、4b所示的(端部)止擋件20的範例(其具有帶有可相對止擋面21a、21b移動(更精確地說為位移)的固定元件24的固定裝置23)是有利的，因為相比於固定裝置23與(端部)止擋件20在空間上分開配置的解決方案的情況，在更少的位置需要EUV微影裝置1的可及性。然而，將固定裝置23與止擋件20在空間上分開是適當的，如下文基於圖5a、5b的更詳細描述。
圖5a顯示在固定位置F處的固定元件24，其可在固定裝置23的Z方向上位移，其中固定元件24緊靠EUV反射鏡13並施力於其上，使得EUV反射鏡13被壓靠在端部止擋件20的圓柱形外圍止擋面21b上，即進入其端部止擋位置。圖5b相應地顯示EUV反射鏡13在XY平面中(即垂直於Z方向)的固定，其中固定元件24在其固定位置F處側向地壓靠EUV反射鏡13，使得後者被固定在固定元件24和三個端部止擋件20之間。如圖4a、4b所示範例的情況，可使用致動器(其在圖5a、5b中未作詳細描述)用於固定元件24的位移。
圖6a顯示用於輸送目的而固定EUV反射鏡13的另一可能的方法，其中所有三個端部止擋件20在由箭頭所指示的致動器34的協助下沿其縱向方向從操作位置B移動到固定位置F，如圖6a所示，其中它們緊靠EUV反射鏡13，以將其夾持在端部止擋件20之間。在圖6b所示的範例中，三個端部止擋件20中只有一個可在致動器34的協助下位移，以將EUV反射鏡13 壓靠兩個固定的端部止擋件20並以此方式將其固定以供輸送。
圖7a、7b顯示兩種基本的可能性，其中在EUV反射鏡13上的衝擊效應或力F可被固定元件24吸收，固定元件24借助於致動器而沿饋送或固定方向R移動到固定位置：在圖7a所示的直接力吸收的情況下，固定方向R和力F的方向平行，而在圖7b所示的間接力吸收的情況下，力F的方向和固定方向R彼此垂直。當然，直接力吸收及間接力吸收的混合形式也是可能的，例如在圖6a、6b所示範例中的情況。
圖8a、8b顯示止擋件20，其可在致動器34的協助下在圖8a所示的操作位置B及圖8b所示的固定位置F之間移動，其中止擋件20(更準確地說是其彎曲的止擋面21)在操作位置B處與形式為承載框35的可移動組件保持一距離，且其中止擋件20(更精確地說是其止擋面21)在固定位置F處緊靠承載框35，以相對感測器框19固定承載框35，以例如用於輸送。同樣可在圖8a、8b中看到，承載框35用於EUV反射鏡13的機械解耦或彈簧架設。在EUV微影裝置1的操作期間，承載框35與感測器框19保持一預定距離s(間隙寬度)。
如圖8a、8b所示的用於止擋件20的移動的致動器34具有形式為主軸驅動器的驅動器36，其作用在形式為肘桿槓桿37的槓桿機構上，其中槓桿機構用以將力從主軸驅動器36傳輸到止擋件20。肘節槓桿37具有第一及第二支腳38a、38b，其藉由一共同接點39分別在第一端彼此連接並繞接點39可旋轉地架設。第一支腳38a的第二端藉由另一接點40連接到屏蔽件41(殼體)，其將致動器34(更精確地說是具有驅動器36的肘節槓桿37)密封隔絕配置有EUV反射鏡13於其中的周圍真空，以避免在致動器34的致動期間所產生的粒子(例如由於摩擦力)所引起的污染。
肘桿槓桿37的第一支腳38a的第二端藉由另一接點42連接至止擋件20，其中止擋面21形成止擋件20上。止擋件20在軸承套筒43中可移動地導引。接點39和另外的接點40、42在個情況下為鉸鏈接點，使得止 擋件20在固定位置F及操作位置B之間的移動期間不會扭轉，亦即止擋件20相對其中心軸45不被扭轉地導引。密封元件46嵌入至軸承套筒43和止擋件20之間，其用以避免粒子經由軸承套筒43及止擋件20之間的中間空間逸出。密封元件46也用以架設止擋件20於軸承套筒43中，且可例如設計成摩擦密封件。
在圖8b所示的固定位置F的情況下，致動器34的肘節槓桿37被完全拉直，因此即使當驅動器36關閉，也能夠將止擋件20保持在固定位置F。當然，為此目的，肘節槓桿37也可移動至過度伸展的位置，在該位置同樣已經克服了死點。圖8b所示的肘節槓桿37的完全伸直位置(伸展位置)有可能使在衝擊負載的情況下作用在止擋件20上的力透過肘節槓桿37而傳輸到牢固地連接至承載框19的屏蔽件41並由承載框19所吸收，而沒有很大的力在此處作用在驅動器36的主軸上。在圖8a中，以誇大的方式顯示兩支腳38a、38b在操作位置B處所形成的彼此之間的角度。一般而言，接點39在固定位置F與操作位置B之間所涵蓋的距離在微米範圍內，使得兩支腳38a、38b之間的角度即使在操作位置B處也僅略小於180°。作為圖8b所示的固定位置F(其中肘桿槓桿37處於伸展位置(兩支腳38a、38b之間的180°角度或略微過度伸展))的替代方案，肘節槓槓37的固定位置F也可架設處於相合位置(未顯示)(兩支腳38a、38b之間的0°角度或略微過度伸展)。
為了在輸送前將止擋件20移動到圖8b中所示的固定位置F，驅動器36僅需短暫地連接到電源，且由於止擋件20的自鎖特性而可在到達固定位置F後直接與電源斷開。在沿相反方向的移動期間，即當止擋件20移動到操作位置B時，驅動器36可在到達操作位置B之後直接關閉。除了藉由肘節槓桿37的(過度)延伸的固定作用外，也可藉由適當選擇驅動器36的主軸的螺紋螺距來實現自鎖，即當力作用在止擋面21上時主軸無法轉動，使得肘節槓桿37保持在操作位置B上。驅動器36只需啟動以將止擋件20在兩個位置(B、F)之間移動，但不將其保持在相應的位置B、F。控制電纜(未示出) 可用於驅動器36的啟動。
同樣在圖8a所示的操作位置B的情況下，可能發生作用在止擋件20上的衝擊力，例如在地震的情況下。為了將這些力引入至承載框19，止擋件20具有形成於止擋件20的頭部端的軸環或凸緣47，其包含在遠離止擋面21的一側上的接觸面48。在圖8a所示的止擋件20的操作位置B的情況下，接觸面48緊靠軸承套筒43的端面，其中軸承套筒43吸收衝擊力並將力傳輸到與其牢固地連接的承載框19。
圖9顯示EUV反射鏡13及承載框19的細節，其中止擋件20架設於承載框19上。在所示的範例中，止擋件20以桿狀部分20a的頭部區域20b突出至EUV反射鏡13上的凹部22中。EUV反射鏡13及承載框19之間形成一中間空間50，流體51被引入其中，中間空間50也延伸到凹部22中。引入至中間空間50中的流體51能夠在EUV微影裝置1的操作期間減緩EUV反射鏡13的移動。
在圖9所示的範例中，流體51為電流變流體，例如分散在矽油中的聚氨酯粒子，其黏彈性或黏度η在施加電場E(其在所示範例中由場產生裝置52所產生)時改變。場產生裝置52為此目的具有兩個電容器板53a、53b以及用以在電容器板53a、53b之間產生電壓的可控電壓源54。場產生裝置52能夠在電流變流體51中產生實質均勻的電場E，其電場強度可藉由電容器板53a、53b間電壓的可調整值來改變，由此也改變電流變流體51的黏度η。改變黏度η允許以針對性的方式改變EUV反射鏡13的移動的阻尼，舉例來說，為了使EUV反射鏡13快速地減速而增加黏度η、或若需要EUV反射鏡13的快速移動來校正像差則減少黏度η。為此目的，場產生裝置52可例如由EUV微影裝置1的控制裝置(未圖示)來啟動，其也允許在圖1b中所示的致動器16的協助下移動EUV反射鏡9、10、13、14。
當然，也可以將磁流變流體引入至中間空間50，而不是電流變流體51，以產生EUV反射鏡13的移動的可調節阻尼。在此情況下，場 產生裝置(例如使用可通電線圈)可用以產生具有可調場強度的磁場，以改變磁流變流體的黏度η。磁流變流體可例如為具有羰基鐵粉末的懸浮液。
電流變流體51(及相應地磁流變流體)的黏度η的調整也可特別用以將黏度η選擇為相當大，以至於EUV反射鏡13實際上不再能夠移動，亦即流體51可用於EUV反射鏡13的固定。這尤其有利於實現輸送止動器，使得EUV反射鏡13的位置相對於承載框19保持恆定，以避免EUV反射鏡13對止擋件20的止擋面21a、21b的可能的多次撞擊。以此方式，電流變流體可與場產生裝置52一起使用作為固定裝置，用以相對承載結構19固定EUV反射鏡13。與圖9所示的情況不同，並非一定要將電流變流體51引入至有止擋件20的區域中的中間空間50中。
圖10顯示EUV反射鏡13的一範例，其中流體(在所示範例中為觸變流體55)同樣被引入到承載框19及EUV反射鏡13之間的中間空間50中。觸變流體55具有黏度η，其根據負載情況而變化，亦即取決於作用在觸變流體55上的剪切力。當EUV反射鏡13有很大的加速度時，觸變流體55的黏度將大幅增加，而當加速度小時，其表現為低黏度流體。觸變流體55可由許多不同的流體成分所組成，例如基於硼和矽氧烷的建模材料。觸變流體55或其阻尼光譜在此可特別適用於在傳輸期間、在地震震動的情況下或在EUV微影裝置1的操作期間的EUV反射鏡13的預期激發或振動光譜。
在前兩種應用情況(傳輸及地震衝擊)的情況下，預期的加速度通常比EUV微影裝置1的操作期間大十倍。在前兩種應用情況下，觸變流體55因此應在EUV反射鏡13和承載框19之間實現最佳可能的力配合，以使所產生的加速力可由承載框19所吸收。在操作期間，觸變流體55應盡可能少地抑制EUV反射鏡13的移動。作為觸變流體55的補充或替代，也可能使用流變流體，在此情況下黏度η隨著剪切力的增加而減小，這在EUV微影裝置1的操作期間可能是有利的。
為了避免在EUV微影裝置1的操作期間經由觸變流體55將 振動從承載框19傳送到EUV反射鏡13，觸變流體55可僅在EUV微影裝置1的傳輸前不久引入至中間空間50中，準確地說為經由一進出料裝置56，其具有進出料線路57以及泵58，泵58將觸變流體55泵出儲存容器59進而入中間空間50(更精確地說為進入凹部22)。在傳輸後，觸變流體55可在泵58的協助下從中間空間50或凹部移除，但也有可能以某種其他方式將觸變流體55從中間空間50移除，例如將一外殼(其以實質氣密的方式將中間空間50與周圍真空封閉隔絕)(其例如為隔膜的方式)開啟。若觸變流體55僅具有非常低的揮發性，且(如在圖10中所示範例的情況)中間空間50具有在EUV反射鏡13中的凹部22(其僅在向上的方向上開啟且觸變流體55被引入其中)，則有可能省略此一氣密外殼或屏蔽件。
在圖10所示範例的情況下，凹部22(觸變流體55被引入其中)可能由一隔膜(未示出)封閉，使得觸變流體55在任何情況下都無法從相應的凹部22逸出。為了將EUV反射鏡13的快速移動傳輸到承載框19，在圖10所示範例的情況中提供了兩個桿狀組件60(撞擊器)，這些組件以其各自的頭部區域61浸入相應凹部22內的觸變流體55中，以將力從浸入到觸變流體55中的撞擊器60傳輸到承載框19。
圖10所示的桿狀組件60並不作為端部止擋件，亦即其遠離EUV反射鏡13，使得EUV反射鏡13在其移動期間不會到達桿狀組件60。如前文所進一步描述的範例的情況中，多個端部止擋件用以限制EUV反射鏡13的移動，但是為了簡化起見並未在圖10中示出。
圖11a、11b顯示用以固定EUV反射鏡13的固定裝置70，其具有可在圖11b所示的操作位置B及固定位置F(圖11a、11b中未示出)之間移動的固定元件62，其中固定元件62緊靠EUV反射鏡13並將其壓靠圖11a、11b中未示出的端部止擋件上、或可能壓靠其他組件，並藉此將其固定。在所示的範例中，藉由改變配置有EUV反射鏡13的投射系統的真空殼體4的內部空間4a中的內部壓力p1(參考圖1a)，固定元件62可從操作位置B移動到固定 位置F，反之亦然。為此目的，固定裝置70具有與(真空)殼體4的內部空間4a密封隔絕的氣體體積63，並形成在另一個殼體65中，該殼體65具有包括(金屬)隔膜64的壁區域。隔膜64可根據殼體4中的內部壓力p1與另一殼體65中的氣體體積63中的壓力p2之間的差p1-p2而彈性地變形，並彎曲以將固定元件62(其在所示範例中牢固地連接到隔膜64)從圖11b所示的操作位置B向左移動到固定位置F(未示出)。另外的殼體65藉由圖11a中所示的三個固定螺絲而牢固地連接到承載框19，且EUV反射鏡13可移動地架設在另一殼體65上。如上所述，壓力的變化造成固定元件62相對另一殼體65的相對移動，其向左移動到固定位置F，其中固定元件62在固定位置F處緊靠EUV反射鏡13的後側，以將其固定用於傳輸。
當殼體4中的內部壓力p1施加在隔膜64外側上的力F1大於氣體體積63中的壓力p2施加在隔膜64的內側上的力F2時，圖11a、11b中所示的固定元件62將移動到固定位置F。在所示範例中，在另一殼體65中的氣體體積63中存在約500mbar的永久靜態壓力p2。在所示範例中，在EUV微影裝置1的操作期間的殼體4的內部空間4a中的內部壓力p1約為10-1mbar，因此遠小於氣體體積63中的壓力p2，使得固定元件62在EUV微影裝置1的操作期間處於操作位置B。若EUV微影裝置1正在被傳輸，則通常在其中存在內部壓力p1(其基本上與環境壓力(約1bar)一致)，也因此存在於殼體4中。圖11a、11b中所示的固定裝置70因此有可能提供一輸送止動器，其完全自動地在固定位置F和操作位置B之間來回移動，亦即僅基於EUV微影裝置1的變化環境壓力，並因此基於EUV反射鏡13配置於其中的殼體4中的變化內部壓p1。
圖12a、12b顯示EUV反射鏡13，其具有用以將其固定在承載框19上的固定裝置70。固定裝置70具有牢固地固定在承載框19上的第一鉤形固定元件71。固定裝置70的第二鉤形固定元件72牢固地固定在EUV反射鏡13上。致動器16係設置用以在EUV微影裝置1的操作期間移動EUV反射鏡13。致動器16用以在預定的移動範圍內移動EUV反射鏡13以校正像差。 EUV反射鏡13在致動器16的協助下移動到圖11b所示的固定位置F，其中兩個鉤形固定元件71、72彼此接合，亦即兩個固定元件71、72形成機械鎖定(鎖鑰原理)。
在圖12a、12b所示的範例中，只有當EUV反射鏡13沿圖12a所示的預定路徑曲線K移動時才能達到固定位置F。為此目的，藉由致動器16(其在所示範例中設計為勞倫茲致動器)，有可能藉由短暫地施加較高的電流或電流脈衝來對EUV反射鏡13短暫地施加如此大的力，其中EUV反射鏡會離開實際的移動範圍並在負Z方向上(即向上)加速。在合適的時間點，EUV反射鏡13由在Y方向上(即向右)的另一電流脈衝加速，直到第二鉤形固定元件72部分地配置在第一鉤形固定元件71上方並由於重力作用而與其接合。
如果EUV反射鏡13在相反的方向上通過路徑曲線K，則EUV反射鏡13只能從圖12b所示的固定位置F釋放，其首先藉由致動器16上的電流脈衝來克服重力而向上(即沿負Z方向)加速一小段距離，然後其被加速至左側(即在負Y方向)，並且隨後藉由重力作用而降低到圖12a所示的操作位置B。
圖13a、13b顯示固定裝置70，其與圖12a、12b所示範例的情況一樣具有架設在承載框19上的第一固定元件71以及以銷的方式架設在EUV反射鏡13上的第二固定元件72。銷形第二固定元件72在致動器16的協助下沿固定方向(這裡：負Z方向)移動至圖13b所示的固定位置F，其在該處藉由施加力F而被壓入至第一固定元件71。在固定位置F，第二固定元件72由第一固定元件71緊扣。在相同方向(負Z方向)上向第二固定元件72重新施加力F後，第二固定元件72將從固定位置F釋放並移動到圖13a所示的操作位置B。對第二固定元件72重新施加力同樣是借助於勞倫茲致動器16來實現。為此，以類似於圓珠筆的機構或用於SD卡槽的鎖定的方式，第一固定元件71具有含雙穩態的鎖定機構。相應的機構可例如藉由凸輪盤或凸輪齒輪機構來形成，用於產生與用於固定的鋸齒形狀相結合的非均勻移動。
圖14a、14b顯示用以固定EUV反射鏡13的固定裝置80的另一範例，其具有用以將EUV反射鏡13固定在承載框19上的接觸面81。在所示範例中，接觸面81形成在桿狀組件60上，其具有彈性體材料的頭部區域61，例如具有非常低的表面粗糙度的乙烯-丙烯-二烯橡膠(EPDM)。光學元件13在其後側上(更精確地說為在其反射鏡基板(其可例如為摻雜鈦的石英玻璃(例如ULE®)或玻璃陶瓷(例如Zerodur®))的後側上)具有一拋光表面區域82，其同樣具有低粗糙度。
在圖14a所示的操作位置B中，接觸面81與EUV反射鏡13保持一定距離，而在圖14b所示的範例中，EUV反射鏡13(更準確地說是拋光表面區域82)緊靠接觸面81。若EUV反射鏡13以足夠的力壓靠在接觸面81上，即使不再施加按壓力後，接觸面81和EUV反射鏡13之間的黏著仍會維持，亦即EUV反射鏡13藉由黏著而固定在接觸面81上。EUV反射鏡13對接觸面81的壓靠可在致動器16的協助下實現，致動器16使EUV反射鏡13在負Z方向上移動並將其壓靠接觸面81。加壓也可能發生在當EUV微影裝置1被反轉以用於輸送時，在這種情況下，重力補償具有的效果為EUV反射鏡13以約兩倍的重力加速度2g壓靠接觸面81。
具有頭部區域61的桿狀組件60可為前文所進一步描述的端部止擋件20中的一個，在該情況下適當地選擇止擋面21a、21b形成於其上的彈性體材料。然而，桿狀組件60並不一定必須是限制EUV反射鏡13的移動範圍的端部止擋件；而是，具有接觸面81的桿狀組件60可為空間上與端部止擋件20分開的輸送止動器。
前文所進一步描述的大多數範例已基於形式為EUV反射鏡13的可移動組件進行描述，但不言而喻，可移動組件也可能是任何其他想要的組件，例如感測器框、用於光學或非光學元件的架設件等。再者，在上述範例中假設為固定的組件並不一定必須是承載框19；而是，它可能是可相對基座或相對一固定參考系統移動的另一組件。同樣不言而喻的是， 前文所進一步描述的範例僅以示例的方式結合EUV微影裝置1來進行描述，且也可用於其他光學配置的情況。

Claims (29)

  1. 一種光學配置，特別是微影系統，包含：一第一組件，特別是一承載框；一第二組件，其可相對該第一組件移動，該第二組件特別是一反射鏡；以及至少一止擋件，其具有至少一止擋面用以限制該第二組件相對該第一組件的移動，其特徵在於，該光學配置、較佳為該止擋件，具有用以固定該第二組件的一固定裝置，其至少包含可相對該止擋件的該止擋面移動的一固定元件。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學配置，其中該固定元件可在一固定位置及一操作位置之間移動，特別是手動地移動，其中該固定元件在該固定位置處緊靠該第二組件，且該固定元件在該操作位置處與該第二組件隔開。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之光學配置，更包含至少一致動器，用以在該固定位置及該操作位置之間移動該固定元件。
  4. 如前述申請專利範圍的其中一項所述的光學配置，其中該止擋件具有含一頭部區域的一桿狀部分，至少一止擋面形成於該頭部區域上，且其中該固定元件在該桿狀部分的縱向方向上被可移動地導引。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之光學配置，其中該固定元件以一環狀方式環繞該止擋件的該桿狀部分。
  6. 如申請專利範圍第4項或第5項所述之光學配置，其中該第二組件具有一凹部，該止擋件在該凹部與該頭部區域接合。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之光學配置，其中該固定元件係設計以將該止擋件的該頭部區域展開抵靠該凹部的側表面。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之光學配置，其中該止擋件的該頭部區域具有可相對彼此移動的至少兩個頭部部分，該固定元件在該至少兩個頭部部分之間接合於該固定位置。
  9. 如前述申請專利範圍的其中一項所述的光學配置，其中該固定元件在該固定位置將該第二組件壓靠在一止擋件的至少一止擋面上。
  10. 如申請專利範圍第1項的前言所述的光學配置，特別是如前述申請專利範圍的其中一項所述的光學配置，更包含：一致動器，具有一驅動器以在一固定位置及一操作位置之間移動該止擋件，其中該止擋面在該固定位置處緊靠該第二組件，且該止擋面在該操作位置處與該第二組件隔開，該致動器係設計以在該驅動器關閉時保持該止擋件於該固定位置。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之光學配置，其中該止擋件具有一接觸面，其在該操作位置緊靠該第一組件，該接觸面較佳形成於該止擋件的一側，其與該止擋面相對。
  12. 如申請專利範圍第9項至第11項的其中一項所述之光學配置，其中該致動器具有一齒輪機構，較佳為一槓桿機構，用於該驅動器到該止擋件的力傳輸。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之光學配置，其中該槓桿機構形成一肘節槓桿，該肘節槓桿具有由一共同接點所連接的兩個支腳，該止擋件較佳藉由另一接點連接至該兩個支腳的其中一者。
  14. 如申請專利範圍第12項或第13項所述之光學配置，其中在該止擋件的該固定位置中，該肘節槓桿處於一延伸位置、一相合位置或一過度延伸位置。
  15. 如申請專利範圍第10項至第14項的其中一項所述之光學配置，其中該止擋件在該固定位置及該操作位置之間移動的過程中被導引而無扭轉。
  16. 如申請專利範圍第9項至第14項的其中一項所述之光學配置，更包含：一屏蔽件，其至少將該致動器的該驅動器相對周圍環境封裝。
  17. 一種光學配置，特別是微影系統，包含：一第一組件，特別是一承載框；以及一第二組件，其可相對該第一組件移動，該第二組件特別是一反射鏡；一流體，特別是一磁流變流體、一電流變流體或一觸變流體，其被引入至該第一組件及該第二組件之間的一中間空間。
  18. 如申請專利範圍第17項所述之光學配置，更包含：用於保持該流體的一容器以及用於將該流體從該容器供給到該中間空間中的一供給裝置。
  19. 如申請專利範圍第17項或第18項所述之光學配置，其中該第一組件具有至少一桿狀組件，特別是一止擋件，其具有浸入該流體中的一頭部區域。
  20. 如申請專利範圍第17項至第19項的其中一項所述之光學配置，更包含：至少一場產生裝置，用以產生一電場或一磁場，以改變該磁流變流體或該電流變流體的黏度。
  21. 一種光學配置，特別是微影系統，包含：一第一組件，特別是一承載框；一第二組件，其可相對該第一組件移動，該第二組件特別是一反射鏡；一殼體，特別是一真空殼體，其具有一內部空間，該至少一可移動的第二組件配置於該內部空間中；以及一固定裝置，用以相對該第一組件固定該可移動的第二組件，該固定裝置具有至少一固定元件，該固定元件在一操作位置處與該可移動組件隔開且在一固定位置處緊靠該可移動組件，藉由改變在該殼體中的內部壓力，該固定元件可從該操作位置移動至該固定位置且可從該固定位置移動至該操作位置。
  22. 如申請專利範圍第21項所述之光學配置，其中當在該殼體的該內部空間中的壓力增加時，該固定裝置係設計以將該固定元件從該操作位置移動至該固定位置。
  23. 如申請專利範圍第21項或第22項所述之光學配置，其中該固定裝置具有與該殼體的該內部空間密封隔絕的一氣體體積，並具有可根據在該殼體中的內部壓力與在該氣體體積中的一壓力之間的一差異而移動的一組件，該組件在移動方面耦合至該固定元件或形成該固定元件。
  24. 如申請專利範圍第23項所述之光學配置，其中該可移動組件設計為一可撓性膜，其形成該密封隔絕氣體體積位於其中的另一殼體的一牆區域。
  25. 一種光學配置，特別是微影系統，包含：一第一組件，特別是一承載框；一第二組件，其可相對該第一組件移動，該第二組件特別是一反射鏡；至少一致動器，用以相對該第一組件移動該可移動的第二組件，其特徵在於，一固定裝置，用以相對該第一組件固定該可移動的第二組件，該固定裝置具有架設在該第一組件上的一第一固定元件以及架設在該可移動的第二組件上的一第二固定元件，該致動器係設計以將該可移動的第二組件移動至一固定位置，其中該第一固定元件及該第二固定元件以一形狀配合及/或力配合的方式相互作用以將該第二組件保持在該固定位置。
  26. 如申請專利範圍第25項所述之光學配置，其中該第一固定元件及該第二固定元件係以鉤具的形式設計且在該固定位置彼此接合。
  27. 如申請專利範圍第25項或第26項所述之光學配置，其中該至少一致動器設計以在至少兩個不同方向上移動該第二組件以移動至該固定位置。
  28. 如申請專利範圍第25項所述之光學配置，其中該第一固定元件設計以藉由沿一固定方向施加一力而將該第二固定元件固定在該固定位置，以及藉由沿該固定方向重新施加一力而將該第二固定元件從該固定位置釋放。
  29. 如申請專利範圍第25項的前言所述之光學配置，其特徵在於一固定裝置，其具有用以相對該第一組件固定該可移動的第二組件的至少一接觸面，該第二組件的至少一表面區域在一固定位置緊靠該接觸面並藉由黏著將該第二組件固定在該接觸面上。
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