KR102501002B1 - 운송 잠금 장치를 갖는 광학 장치, 특히 리소그래피 시스템 - Google Patents

Abstract

본 발명은, 제1 구성요소(19), 특히 지지 프레임, 제1 구성요소(19)에 대해 이동 가능한 제2 구성요소(13), 특히 미러, 및 또한 제1 구성요소(19)에 대한 제2 구성요소(13)의 이동을 제한하기 위한 적어도 하나의 정지면(20a, 20b)을 갖는 적어도 하나의 정지부(20)를 포함하는 광학 장치, 예를 들어 리소그래피 시스템에 관한 것이다. 본 발명의 일 양태에서, 광학 장치, 바람직하게는 정지부(20)는 적어도 정지부(20)의 정지면(21a, 21b)에 대해 이동 가능한 고정 요소(24)를 포함하는, 제2 구성요소(13)를 고정하기 위한 고정 디바이스(23)를 갖는다. 본 발명의 다른 양태는 마찬가지로 고정 디바이스 또는 운송 잠금 장치를 갖는 광학 장치에 관한 것이다.

Description

운송 잠금 장치를 갖는 광학 장치, 특히 리소그래피 시스템

관련 출원의 상호 참조

본 출원은 그 전체 개시내용이 본 출원의 개시내용의 부분으로 고려되고 본 명세서에 참조로서 합체되어 있는, 2017년 1월 17일자로 출원된 독일 특허 출원 10 2017 200 636.6호의 우선권을 주장한다.

발명의 배경

본 발명의 일 양태는, 제1 구성요소, 특히 지지 프레임, 제1 구성요소에 대해 이동 가능한 제2 구성요소, 특히 미러, 및 또한 제1 구성요소에 대한 제2 구성요소의 이동을 제한하기 위한 적어도 하나의 정지면을 갖는 적어도 하나의 정지부를 포함하는 디바이스, 예를 들어, 리소그래피 시스템, 특히 EUV 리소그래피 시스템에 관한 것이다.

본 출원의 목적 상, 리소그래피 시스템은 리소그래피의 분야에서 사용될 수 있는 광학 시스템 또는 광학 장치를 의미하는 것으로서 이해된다. 반도체 구성요소의 제조를 위한 역할을 하는 리소그래피 장치 이외에, 광학 시스템은 예를 들어, 구조화될 반도체 기판(이하에 또한 웨이퍼라 칭함)의 검사하기 위해, 리소그래피 장치에 사용되는 포토마스크(이하에 또한 레티클이라 칭함)의 검사를 위한 검사 시스템, 또는 예를 들어 투영 시스템을 측정하기 위해, 리소그래피 장치 또는 그 부분을 측정하기 위해 사용되는 계측 시스템일 수도 있다. 광학 장치 또는 리소그래피 시스템은 특히 약 5 nm 내지 약 30 nm의 EUV 파장 범위의 파장에서 사용된 방사선을 위해 설계되는 EUV 리소그래피 시스템일 수도 있다.

이하, 종종 미러, 특히 EUV 미러의 형태의 2개의 이동 가능한(제2) 구성요소 또는 이동/이동 가능한 물체가 참조된다. 그러나, 원리적으로, 이동 가능한 구성요소는 또한 임의의 다른 물체 또는 임의의 다른 구성요소 또는 서브 조립체, 예를 들어 렌즈 또는 프리즘과 같은 광학 요소, 웨이퍼 스테이지, 공작 기계의 부품, 광학 또는 비광학 구성요소를 위한 다른 지지 프레임 또는 지지 구조체 등일 수도 있다.

제1 구성요소는 예를 들어, 광학 장치 상에 작용하는 모든 힘을 실질적으로 흡수하는 광학 장치의 지지 프레임("힘 프레임"으로서 알려져 있음)일 수도 있다. 이동 가능한 구성요소는 통상적으로 지지 프레임에 대해 스프링-장착되거나 또는 그로부터 기계적으로 결합 해제되어, 이상적으로 어떠한 힘 또는 진동도 지지 프레임으로부터 이동 가능한 구성요소로 전달되지 않게 된다. 그러나, 제1 구성요소는 또한 예를 들어, 광학 장치의 지지 프레임에 대해 스프링-장착되거나 또는 그로부터 기계적으로 결합 해제되는 캐리어 구성요소와 같은, 몇몇 다른 구성요소일 수도 있다.

EUV 리소그래피 장치의 경우에, 특히 마스크의 이미지를 감광성 기판 상에 투영하기 위한 EUV 렌즈의 경우에, EUV 미러의 광학 표면의 변형에 대한 이미징 품질의 민감도가 특히 크다. 이러한 렌즈의 광학 디자인이 약 10 mλ로 보정된다는 가정시에, 여기서 λ는 동작 파장을 나타내고, 결과적으로 약 13.5 nm의 동작 파장(λ)에서 약 135 pm의 최대 허용 파면 에러가 존재한다. 이는 약 50 pm의 EUV 미러의 표면의 변형이 이미 상당한 파면 수차를 야기하는 것을 의미한다. 따라서, EUV 리소그래피 장치 또는 EUV 렌즈의 동작 중에, EUV 미러가 현수 상태로 설치되어, EUV 미러 상에 작용하는 힘 및 모멘트가 가능한 한 작아지게 된다. 현수되거나 또는 주변으로부터 기계적으로 결합 해제되는 이 상태는, EUV 미러가 통상적으로 단부 정지부(end stop)에 의해 규정된 이들의 단부 위치들 사이에서 실제로 자유롭게 이동할 수 있고, 단부 정지부와 충돌할 수도 있는 결과를 갖는다. 특히, EUV 리소그래피 장치를 운송할 때, 또한 지진의 경우에, 이는 EUV 미러 또는 다른 구성요소에 손상을 유도할 수 있다.

종래의 EUV 렌즈의 경우에, 이 문제는 운송 중에 이들 구성요소를 반전함으로써 해결된다. 이 경우에, EUV 렌즈 또는 EUV 리소그래피 장치의 동작 위치에서 중량 보상을 유도하고 EUV 미러의 현수 상태를 야기하는 힘, 및 또한 미러의 중량의 힘이 함께 가산되어 중력에 기인하는 가속도의 대략 2배(2g)에 대응하는 전체 힘 또는 전체 가속도를 형성한다. 이 방식으로, 미러는 일반적으로 2g 정도의 가속도까지 이들의 수직 단부 위치에 고정 유지된다. 더 큰 가속도의 경우에, 그러나, EUV 미러는 단부 위치들을 떠나 다시 단부 위치들 사이에 자유롭게 놓일 수도 있는데, 즉 EUV 미러의 고정은 허용 가능한 충격 부하에 대해 제한된다. 미래의 EUV 렌즈의 경우에, EUV 미러는 가능하게는 너무 크고 무거워져서 EUV 렌즈의 반전이 더 이상 바람직하지 않거나 가능하지 않을 수도 있다.

DE 10 2012 212 503 A1호는 제1 구성요소 및 제2 구성요소, 및 또한 제1 구성요소와 제2 구성요소를 서로 결합하기 위한 커플링 디바이스를 갖는 리소그래피 장치를 개시하고 있다. 리소그래피 장치는 그 위에 리소그래피 장치가 서 있는 기부의 이동을 감지하기 위한 감지 디바이스, 및 또한 제1 구성요소에 대한 제2 구성요소의 이동을 제한하기 위해 기부의 감지된 이동에 따라 커플링 디바이스를 활성화하도록 설계된 제어 디바이스를 갖는다. 이 목적으로, 커플링 디바이스는 적어도 하나의 조정 가능한 단부 정지부를 가질 수도 있다. 조정 가능한 단부 정지부는 지지 프레임의 형태의 제1 구성요소에 대해 미러의 형상 맞춤 고정을 달성하기 위해 미러의 형태의 제2 구성요소와 맞접 접촉하게 될 수도 있다. 충격의 경우에 또는 지진의 결과로서 요동의 경우에 미러의 손상을 회피하는 것이 고정에 의해 의도된다.

DE 10 2014 215 159 A1호는 적어도 하나의 광학 요소를 갖고, 그 위에 광학 요소가 캐리어에 대해 이동 가능하게 배열되어 있는 캐리어를 갖는 광학 장치를 설명하고 있다. 광학 요소가 캐리어에 대해 적소에 고정될 수 있는 고정 디바이스는 형상 기억 합금의 적어도 하나의 액추에이터를 갖는다. 고정 디바이스는 광학 요소가 사용되지 않을 때 캐리어에 대해 광학 요소를 적소에 고정하는 운송 잠금 장치(transport lock)로서 설계된다.

DE 10 2011 087 389 A1호는, 구성요소를 위한, 예를 들어 광학 요소를 위한 정지부를 갖는 위치설정 시스템을 설명하고 있는데, 정지부는 구성요소의 이동의 경로를 제한하고 조정 가능하게 설계된다. 정지부는 정지부의 정지면으로부터의 구성요소의 거리가 미리규정된 범위 내에 유지되도록 하는 이러한 방식으로 조정될 수 있다.

본 발명의 목적은 광학 장치의 운송 중에 이동 가능한 구성요소에 대한 손상을 가능한 한 최소화하도록 설계되는 광학 장치, 특히 리소그래피 시스템을 제공하는 것이다.

이 목적은, 광학 장치, 바람직하게는 정지부가 적어도 정지부의 정지면에 대해 이동 가능한 고정 요소를 포함하는, 제2 구성요소를 고정하기 위한 고정 디바이스를 갖는, 서두에 언급된 유형의 디바이스에 의해 제1 양태에 따라 달성된다.

고정 디바이스의 도움으로, 제1 구성요소에 대해 이동 가능한 제2 구성요소의 고정은 제2 구성요소가 실질적으로 제1 구성요소와 관련하여 (더 이상) 이동할 수 없도록 발생한다. 정지면 또는 정지부는 제1 구성요소에 견고하게 연결될 수도 있지만; 정지부 또는 정지면은 가능하게는 또한 제2 구성요소 상에 장착되거나 또는 이에 견고하게 연결될 수도 있다. 제1 구성요소(이하 적소에 고정된 것으로 가정됨)에 대한 제2 구성요소의 이동을 위해, 광학 장치는 제2 구성요소를 이동시키기 위해, 예를 들어 변위시키거나, 회전시키거나, 경사시키기 위해, 제2 구성요소 상에 작용하는 하나 이상의 액추에이터를 가질 수도 있다.

제2 구성요소가 예를 들어, 액추에이터의 도움으로, (고정된) 제1 구성요소에 대해 이동 가능하여, 제2 구성요소가 또한 이동 가능한 구성요소라 지칭되게 되는 것으로 통상적으로 이하에 가정된다. 그러나 이는 반드시 성립하는 것은 아닌데, 즉, 제1 구성요소가 가능하게는 제2 구성요소에 대신 액추에이터의 도움으로 이동 가능할 수도 있다. 예를 들어 2개의 구성요소가 2개의 지지 구조체, 예를 들어 광학 장치의 2개의 지지 프레임인 경우, 양 구성요소가 고정 좌표계에 대해 이동 가능하게 장착되는 것도 또한 가능하다.

고정 디바이스 또는 고정 요소는 바람직하게는 정지부의 구성요소부인데, 즉, 고정 요소 및 정지부는 통상적으로 실질적으로 동일한 위치에서 또는 (실질적으로) 연속적인 표면 영역에서 이동 가능한 제2 구성요소에 작용한다. 광학 장치를 운송하기 위한 이동 가능한 구성요소를 고정하는 고정 디바이스 또는 고정 요소와 (단부) 정지부의 조합은 많은 장점을 제공하는데: 한편으로는, 광학 장치의 액세스 가능성은 고정 디바이스 및 정지부가 공간적으로 분리되어 배열되어 있는 해결책의 경우에서보다 훨씬 더 적은 위치에서 요구되고; 다른 한편으로, 그 결과 이동 가능한 구성요소 상의 계면 또는 표면 영역의 수는 또한 최소화되거나, 제한되거나 또는 양 기능 모두에 대해 사용될 수 있다.

광학 장치의 정상 동작 중에, 이동 가능한 구성요소는 통상적으로 정지부와 접촉하지 않는데, 즉 정지면 또는 정지부의 고정 요소와 접촉하지 않는다. 운송 중에, 운송 고정 기능은 (단부) 정지부에 일체화된 고정 디바이스에 의해, 더 정확하게는 운송의 경우에 예를 들어 미러의 형태의 이동 가능한 구성요소를 고정하는 고정 요소에 의해 보장될 수 있다. 이는 이동 가능한 구성요소가 고정 구성요소에 대해, 예를 들어 지지 프레임에 대해, 또는 가능하게는 다른 (단부) 정지부에 대해 클램핑되는, 또는 가능하게는 형상 맞춤 방식으로 고정되는 것을 수반할 수도 있다.

정지부와 고정 요소 또는 고정 디바이스의 조합에 대안으로서, 정지부와 고정 요소 또는 고정 디바이스를 공간적으로 분리시키는 것도 또한 가능하다. 이 경우, 고정 디바이스는 예를 들어 고정 요소가 제2 표면 영역으로부터 공간적으로 분리되어 있는 제1 표면 영역에서 이동 가능한 구성요소에 대해 가압하는 고정 위치로 고정 요소를 이동하기 위한 액추에이터를 가질 수도 있는데, 이 제2 표면 영역에서, 정지부의 정지면은 예를 들어 충격의 경우에 이동 가능한 구성요소에 대해 가압한다. 이 경우에, 이동 가능한 구성요소의 고정은 예를 들어 고정 위치에서 (고정된) 정지부에 대해 또는 이들의 정지면에 대해 이동 가능한 구성요소를 가압하여 이들을 확실하게 클램핑하는 고정 디바이스에 의해 발생할 수도 있다. 고정 요소가 이동 가능한 구성요소 상에 인가하는 힘의 방향을 적합하게 선택함으로써, 단일 고정 요소가 가능하게는 이동 가능한 구성요소를 전체로서 고정하거나 확실하게 클램핑하기에 충분할 수도 있다.

압력 실린더로의 공급 라인 내의 압력을 변화시킴으로써 이동될 수 있는 압력 실린더가 예를 들어 고정 요소를 이동시키기 위한 액추에이터로서 역할을 할 수도 있다. 이동 가능한 압력 실린더는 예를 들어 이동 가능한 구성요소를 고정하기 위해, 고정 볼트의 방식으로 고정 요소 상에 작용할 수도 있다. 이동 가능한 구성요소는 동일한 기구에 의해, 즉 압력 실린더에 의해 다시 해제될 수 있다. 공압 액추에이터 대신에, 고정 요소를 고정 위치로부터 동작 위치로 그리고 그 반대로 이동시키기 위해, 전기기계적 액추에이터, 예를 들어 전기 모터 또는 릴레이(전자석)가 또한 고정 요소 상에 작용할 수도 있다. 형상 기억 합금이 또한 기계적 고정 요소를 위한 액추에이터 또는 가능하게는 자체로 고정 요소로서 역할을 할 수 있는 간단하고 저가의 "전기 모터"를 형성하는 데 사용될 수도 있다. 예를 들어, 이 목적으로 전류는 형상 기억 합금의 와이어를 통해 전도될 수도 있는데, 그 결과 와이어가 그 원래의 형상을 복원하려고 시도한다.

고정 요소는 직접 또는 간접적인 힘 효과로 제2 이동 가능한 구성요소에 작용할 수도 있다. 직접적인 힘 효과의 경우에, 이송 또는 고정 방향과 흡수될 충격력의 방향이 고정을 위해 사용되는 기구에서 평행하게 연장한다. 간접적인 힘 흡수의 경우에, 다른 한편으로, 흡수될 충격력은 이송 또는 고정 방향에 수직이다.

구성요소가 미리결정된 위치에서 가압 또는 클램핑되고 특정 압력이 (고정된) 구성요소에 영구적으로 인가되는 운송 잠금 장치의 전술된 구성에 대한 대안으로서, 이동 가능한 구성요소의 이동을 최소화하기 위해, 이동 가능한 구성요소의 이동의 범위의 단지 엄격한 제한이 존재하지만, "휴지시에", 즉 고정 위치에서 이동 가능한 구성요소에 어떠한 힘도 인가하지 않는 운송 잠금 장치 또는 고정부가 또한 가능하다. 이 경우, 고정 요소는 가능하게는 고정 위치에서 이동 가능한 구성요소에 대해 완전하게 고정면과 맞접하지 않고, 대신에 고정 위치에서, 이동 가능한 구성요소로부터 예를 들어 약 10 ㎛ 미만의 작은 거리로 유지된다. 이 방식으로, 이동 가능한 구성요소의 이동의 가능성은 고정 위치에서 고정 요소에 의해 최소로 제한되는데, 이는 가능하게는 운송 중에 제2 구성요소에 대한 손상을 방지하기에 충분하다. 동작 위치에서, 고정 요소는 통상적으로 제2 구성요소의 이동의 가능성을 불필요하게 제한하지 않기 위해 고정 위치에서보다 이동 가능한 구성요소로부터 더 멀리 이격하여 유지된다.

개선예에서, 고정 요소는 특히 고정 요소가 제2 구성요소에 맞접하는(고정면을 갖고) 고정 위치와, 고정 요소가 제2 구성요소로부터 (더 멀리) 이격되어 있는 동작 위치에 사이에서 특히 수동으로 이동 가능하다. 본 출원의 목적 상, 제2 구성요소에 대한 고정 요소의 맞접은 이동 가능한 구성요소의 전방에서 약 10 ㎛ 미만의 작은 거리에서(상기 참조) 고정 요소와 제2 구성요소 또는 고정 요소의 장치 또는 그 고정면 사이의 접촉, 즉 일반적으로 표면 영역에 걸친 접촉으로서 이해된다. 양 경우에, 고정 위치로의 고정 요소의 이동은 정지부가 운송 잠금 장치로서 사용될 수 있게 한다. 이 목적으로, 고정 요소는 동작 위치로부터 고정 위치로 이동된다. 구성요소가 지지 프레임에 대해 이동될 수 있는 동작 위치로부터 고정 위치로의(그리고 그 반대로의) 고정 요소의 이동은, 예를 들어, 고정 요소가 가능하게는 고정 나사의 사용에 의해 또는 도구의 도움으로, 예를 들어 막대 등의 도움으로 이동되거나 변위되는 점에서, 예를 들어 수동으로 발생할 수도 있다.

개선예에서, 광학 장치 또는 정지부는 고정 위치와 동작 위치 사이에서 고정 요소를 이동시키기 위한 적어도 하나의 액추에이터를 갖는다. 고정 요소를 이동시키기 위한 액추에이터는 예를 들어 압전 액추에이터일 수도 있지만, 다른 구동 개념, 예를 들어 전동 드라이브의 사용 등이 또한 가능하다.

일 실시예에서, 정지부는, 적어도 하나의 정지면이 형성되어 있는 헤드 영역을 갖는 막대형 부분을 갖고, 고정 요소는 막대형 부분의 종방향으로 변위 가능하게 안내된다. 정지부 또는 정지부의 정지면은 예를 들어 헤드 영역의 단부면 상에 장착되거나 헤드 영역 주위로 연장될 수도 있다. 헤드 영역은 통상적으로 금속 막대형 부분 상의 헤드 영역에 형성되는, 예를 들어 하나 이상의 엘라스토머 요소의 형태의 감쇠 디바이스를 가질 수도 있다. 정지면은 이 경우에 갑작스러운 충격의 경우에, 예를 들어 지진의 경우에 정지면에 대한 이동 가능한 구성요소의 충격을 감쇠하기 위해, 감쇠 엘라스토머 요소 상에 형성된다.

개선예에서, 고정 요소, 특히 적어도 그 고정면은 링형 방식으로, 특히 원형 링의 형태로 정지부의 막대형 부분을 둘러싼다. 이 방식으로, 통합 운송 안전 기능을 갖는 특히 콤팩트한 정지부가 실현될 수 있다.

다른 실시예에서, 이동 가능한 구성요소는 정지부가 헤드 영역과 결합하는 리세스를 갖고, 리세스의 주연부는 바람직하게는 고정 요소의 고정 위치에서, 고정 요소, 더 정확하게는 고정 요소의 고정면의 맞접 접촉을 위한 경사부를 갖는다. 리세스는 예를 들어 정지부의 헤드 영역이 결합하는 원통형 보어로서 형성될 수도 있다. 예를 들어(원형) 링의 형태로 주위로 연장하는 헤드 영역의 정지면은 이 경우에 예를 들어 XY 방향으로 구성요소의 이동을 제한할 수 있고, 반면 정지부 또는 헤드 영역의 단부면 상에 형성된 다른 정지면은, 구성요소가 리세스 또는 보어의 저부에서 정지면에 대해 타격할 때 예를 들어 Z 방향에서의 이동을 제한한다. 통상적으로 링의 형태로 주위로 연장하는 고정면은 예를 들어 원추형 테이퍼부로서 형성되고 리세스의 주연부에 형성된 경사부에 결합될 수도 있다. 이 방식으로, 고정 디바이스는 모든 3개의 공간 방향에서 이동 가능한 구성요소의 이동을 제한할 수 있고, 고정 위치에서 모든 3개의 모든 공간 방향에서 이를 고정시킬 수 있다.

개선예에서, 고정 요소는 리세스 또는 보어의 측면에 대해 정지부의 헤드 영역을 확산 개방하기 위해 설계된다. 이 경우에, 헤드 영역 또는 가능하게는 전체 정지부는 고정 요소의 도움으로 확산 개방되어 있는 하나 이상의 구성요소로 이루어질 수도 있어, 이들이 리세스의 측면에 맞접하거나 리세스의 측면에 대해 가압되게 된다. 헤드 영역의 확산 개방은 또한 정지부와 리세스의 측면 사이의 간극의 폭을 설정하는 목적을 담당할 수도 있고, 이 방식으로 구성요소의 이동 범위를 제한하기 위해 적합할 수도 있다.

개선예에서, 정지부의 헤드 영역은 서로에 대해 이동 가능한 적어도 2개의 헤드부를 가지며, 이들 헤드부 사이에는 고정 요소가 고정 위치에서 결합되어 있다. 이 개선예에서, 정지부는 통상적으로 2개 이상의 부분으로서 형성된다. 동작 중에, 정지부의 형태는 실질적으로 종래의 단부 정지부의 형태에 대응한다. 고정 요소가 고정 위치에 있는 운송의 경우, 서로에 대해 이동 가능한 헤드부는 고정 요소에 의해 리세스의 측면에 대해 가압되어 이동 가능한 구성요소를 클램핑한다. 헤드부와 이동 가능한 구성요소의 측면 사이에 충분히 큰 마찰이 있으면, 정지부는 XY 방향 및 Z 방향 모두에서 운송 잠금 장치로서 작용한다. 여기서, 2개의 헤드부는 정지부의 자체의 막대형 부분 상에 각각 장착될 수도 있는데, 헤드부로부터 이격되어 있는 그 단부는 고정 요소에 의한 확산 개방을 가능하게 하기 위해 조인트에 의해 지지 프레임 상에 장착될 수 있다.

마찬가지로, 2개 이상의 정지부는 이동 가능한 구성요소 또는 지지 프레임에 대해 정지면을 이동시키거나 변위시키기 위한 적어도 하나의 액추에이터를 가져, 예를 들어 서두에 인용된 DE 10 2012 212 503 A1호에 설명된 바와 같이, 액추에이터가 정지부의 정지면 사이에서 이동 가능한 구성요소를 이 방식으로 클램핑하기 위해 고정 위치에서 이동 가능한 구성요소에 대해 가압되게 한다. DE 10 2012 212 503 A1호에서와 같이 그 단부면들이 서로 직접 대향하여 놓이지 않는 2개 이상의 단부 정지부의 경우에, 가능하게는 이 방식으로 정지부 사이에 또는 정지부의 정지면 사이에 이동 가능한 구성요소를 확실하게 클램핑하기 위해, 액추에이터에 의한 막대형 부분의 종방향에서의 변위 뿐만 아니라 또한 그 종방향에 횡방향의 변위를 가능하게 하는 것이 유리할 수도 있다.

다른 실시예에서, 고정 위치에서, 고정 요소는 정지부의 적어도 하나의 정지면에 대해 제2 구성요소를 가압한다. 본 실시예에서, 고정 요소는 정지부의 부분을 형성하지 않는데, 즉, 표면 영역에서 이동 가능한 구성요소 상에 작용하지 않거나, 정지부, 더 정확하게는 정지면이 또한 이동 가능한 구성요소 상에 작용하는 표면 영역의 부근에서 작용하지 않는다. 고정 요소가 이동 가능한 구성요소에 작용하는 방향을 적합하게 선택함으로써, 단일 고정 요소가 가능하게는 전체 구성요소를 고정하기에 충분할 수도 있다.

본 발명의 다른 양태는, 특히 또한 전술된 바와 같이, 서두에 언급된 유형의 광학 장치에 관한 것으로, 정지면이 제2 구성요소에 맞접하는 고정 위치와, 정지면이 제2 구성요소로부터 이격되어 유지되는 동작 위치 사이에서 정지부를 이동하기 위한 드라이브를 갖는 액추에이터를 더 포함하고, 액추에이터는 드라이브가 스위칭 오프될 때, 즉 탈여기될 때(에도) 정지부를 고정 위치에 유지하도록 설계된다. 드라이브는 예를 들어 스핀들 드라이브, 직접 선형 드라이브, 전동 드라이브 등일 수도 있고, 또는 가능하게는 전기적으로 동작하지 않는 드라이브 또는 모터일 수도 있다.

정지부 상에 작용하는 전동 또는 드라이브-동작식 액추에이터는, 광학 장치 내의 정지부가 일반적으로 수동 작동에 단지 어려움을 갖고서만 액세스 가능한 문제점을 해결할 수 있다. 정지부의 전동 작동의 가능성은 또한 액세스 불가능하지만 단부 정지부로서의 기능을 위해 유리한 위치에 정지부가 장착될 수 있게 하고, 특히 접촉력에 대해 또한 충돌의 경우에 구성요소에 의해 커버된 거리에 대해 최적화된다. 이 목적으로 액추에이터의 조정 전자 기기의 연결을 위한 케이블 등이 쉽게 액세스 가능한 위치에 제공되는 것이 단지 요구된다. 액추에이터로부터의 케이블 접속은 이 쉽게 액세스 가능한 위치로 라우팅될 수도 있는데, 즉 이러한 접속이 마찬가지로 가능하더라도, 액추에이터와 광학 장치의 나머지 사이에 전기 접속이 존재하는 것이 절대적으로 필요한 것은 아니다. 제어 신호의 도움에 의한 적합한 활성화는 액추에이터의 드라이브 및 결과적으로 정지부가 원하는 위치로, 예를 들어 고정 위치로 이동되게 한다. 고정 위치에서의 정지부는 액추에이터 또는 드라이브의 자기-잠금 작용에 의해, 탈여기 상태에서, 고정 위치에, 그리고 가능하게는 다른 위치(이하 참조)에 유지될 수 있다.

액추에이터는 바람직하게는, 정지부를 동작 위치에, 즉 드라이브가 스위칭 오프된 상태에서, 탈여기 상태에서 유지하도록 또한 설계되는데, 즉, 정지부가 동작 위치를 떠나지 않고 동작 위치에서 드라이브 또는 모터가 전원으로부터 분리되게 하는 것이 또한 가능하다. 동작 위치에서, 정지부의 정지면은 이상적으로는 이동 가능한 구성요소로부터 미리결정된 거리에 있다. 액추에이터의 도움으로, 이동 가능한 구성요소와 정지면 사이의 거리는 이와 같이 요구되면, 동작 중에 특정 한계 내에서 보정되거나 변경될 수 있다.

운송 중에 지지 구조체, 예를 들어 지지 프레임("힘 프레임") 및 센서 프레임("센서 프레임")의 형태의 2개의 구성요소를 고정하도록 의도되는 종래의 정지부의 경우에, 이 목적으로, 운송 전에, 접촉부는 정지면과 접촉하게 될 때까지 동작 위치에서의 정지부와 이동 가능한 구성요소 사이에 나사 결합된다. 운송 후에, 접촉부는 다시 나사 결합 해제된다. 액세스 불가능한 단부 정지부의 경우에, 이 경우에 간극의 폭 또는 이동 가능한 구성요소와 정지면 사이의 거리가 운송 후에 복원될 것이 기대되어야 한다. 예를 들어 캘리퍼스 게이지의 도움으로 거리를 확인하는 것은 정지부가 액세스 가능한 경우에만 수행될 수 있다. 정지부와 이동 가능한 구성요소 사이의 간극이 너무 작으면, 이동 가능한 구성요소 또는 광학 장치의 동적 거동을 방해하는 효과와 함께, 기계적 단락이 발생할 수도 있고, 최악의 경우, 예를 들어 미러의 형태의 이동 가능한 구성요소가 더 이상 이동하거나 작동되는 것을 가능하지 않게 한다.

개선예에서, 정지부는 동작 위치에서 제1 구성요소에 맞접하는 접촉면을 갖고, 접촉면은 바람직하게는 정지면에 대향하는 정지부의 측면 상에 형성된다. 그 정지면에 제2 이동 가능한 구성요소가 오게되는 동작 위치에서의 정지부의 경우, 정지면 상에 작용하는 힘은 접촉면의 도움으로 제1 구성요소에 직접 전달되어, 드라이브가 정지부 상에 작용하는 힘을 흡수할 필요가 없게 된다. 접촉면은 예를 들어, 정지면이 형성되어 있는 그 대향 측면 상에서, 정지부의 주연 플랜지 또는 칼라 상에 형성될 수도 있다.

다른 실시예에서, 액추에이터는 정지부로의 드라이브의 힘 전달을 위한 기어 기구, 바람직하게는 레버 기구를 갖는다. 기어 기구 또는 레버 기구는 정지부에 전달되는 힘이 증가되게 한다. 레버 기구의 적합한 디자인에 의해, 더 상세히 후술되는 바와 같이, 고정 위치에서 레버 기구에 의한 액추에이터의 자기-잠금 작용을 생성하는 것이 또한 가능하다. 다른 기어 기구, 예를 들어 평행사변형 기어 기구가 또한 자기-잠금 작용을 가질 수도 있다.

개선예에서, 레버 기구는 공통 조인트에 의해 연결된 2개의 레그를 갖는 토글 레버를 형성하고, 정지부는 바람직하게는 다른 조인트에 의해 2개의 레그 중 하나에 연결된다. 토글 레버는 예를 들어 스핀들 드라이브 등의 방식으로 드라이브에 의해 구동될 수도 있다.

정지부의 고정 위치에서, 토글 레버는 바람직하게는 연장 위치(extended position), 합동 위치(congruent position) 또는 과잉 연장 위치(overextended position)에 있다. 토글 레버가 사점(dead centre)을 지나 진행하거나 사점에 도달하였으면, 연장된 위치(2개 레그 또는 레버 아암 사이의 각도가 180°), 합동 위치(2개의 레그 또는 레버 아암 사이의 각도가 0°), 또는 토글 레버의 과잉 연장 위치에서의 경우와 같이, 토글 레버가 제2 이동 가능한 구성요소에 대해 정지부를 가압할 때 자동 효과가 달성된다. 드라이브의 작동력이 고정 위치에서 저하하더라도, 토글 레버의 클램핑력은 유지되고 이는 저절로 느슨해질 수 없다. 따라서, 드라이브는 통상적으로 고정 위치에 도달하자마자 전원으로부터 분리될 수 있다. 더욱이, 토글 레버의 연장 또는 과잉 연장 위치에서, 운송 중에 충격이 발생하는 경우에도, 드라이브에 작용하는 힘은 매우 작다. 여기에 설명된 토글 레버 대신에, 자기-잠금 또는 자동 잠금을 가능하게 하는 다른 전동 기구, 예를 들어 스핀들의 피치를 적합하게 선택된 피치의 결과로서 자기-잠금형인 스핀들 드라이브가 또한 사용될 수도 있다.

다른 개선예에서, 정지부는 고정 위치와 동작 위치 사이의 이동 중에 비틀림 없이 안내된다. 정지부는 이 경우에 고정 위치와 동작 위치 사이의 통상적으로 선형 이동인 이동 중에, 그 종축 둘레로 회전하지 않는 이러한 방식으로 역학적으로 안내된다. 이는 정지부의 주변을 오염시키는 입자가 정지부의 회전 이동 중에, 특히 이동 가능한 구성요소에 대해 정지면을 가압할 때 형성될 수 있기 때문에 유리하다. 구성요소의 손상은 이동 가능한 구성요소에 대해 정지부를 배치할 때 회전 이동에 의해 또한 유발될 수 있다. 토글 레버를 사용할 때, 비틀림 없는 안내는, 예를 들어 힌지 조인트로서 설계되는, 정지부가 토글 레버의 2개의 레그 중 하나에 장착되는 다른 조인트에 의해 달성될 수 있다. 통상적으로, 토글 레버의 2개의 레그를 연결하는 조인트는 힌지 조인트로서 또한 설계되어, 정지부가 단지 하나의 평면에서만, 또한 예를 들어 베어링 슬립의 형태의 선형 가이드의 사용의 경우에, 단지 하나의 미리결정된 방향으로만 역학적으로 변위될 수 있게 된다.

다른 실시예에서, 광학 장치는 적어도 주연부에 대해 액추에이터의 드라이브 또는 모터를 캡슐화하는 차폐부 또는 캡슐화부를 부가로 포함한다. 차폐부는 액추에이터의 드라이브, 특히 또한 토글 레버를 진공-기밀 방식으로 주변으로부터 분리할 수 있지만, 차폐부 또는 캡슐화부가 입자가 주변으로의 입자의 새어나옴을 방지하거나 억제하고 완전히 진공-기밀이 아니면 가능하게는 충분하다. 차폐물의 주변으로 입자의 새어나옴을 방지하도록 의도된 밀봉부가 정지부를 안내하기 위한, 예를 들어 베어링 슬리브와 같은 선형 가이드와 정지부 자체 사이에 이 목적으로 제공될 수도 있다. 밀봉부는 예를 들어 마찰 밀봉부 또는 미로형 밀봉부로서 설계될 수도 있다.

본 발명의 다른 양태는 제1 구성요소, 특히 지지 프레임, 및 제1 구성요소에 대해 이동 가능한 제2 구성요소, 특히 미러를 포함하고, 유체, 특히 자기 유변성 유체, 전기 유변성 유체 또는 요변성 유체가 제1 구성요소와 제2 구성요소 사이의 중간 공간 내로 도입되는 광학 장치, 특히 리소그래피 시스템에 관한 것이다.

본 발명의 이 양태에 있어서, 제2 구성요소의 이동의 감쇠를 유도할 수 있고 그 점도가 바람직하게 변화될 수 있는 유체가 제1 구성요소와 제2 구성요소 사이의 중간 공간에 도입된다. 유체가 전기 유변성 유체 또는 자기 유변성 유체이면, 제2 이동 가능한 구성요소와 제1 구성요소 사이의 조정 가능한 이동의 감쇠가 생성될 수 있다(이하 참조).

유체가 요변성 유체이면, 그 점도는 부하 사례에 따라 변화하는데, 즉 요변성 유체는 제2 구성요소의 큰 가속도가 있을 때 크게 증가된 점도를 갖고 제2 구성요소의 작은 가속도가 있을 때 저점성 유체와 같이 거동한다. 예를 들어 실리콘계 모델링 재료의 형태의 적합한 요변성 유체의 선택은, 예를 들어 운송 중에, 지진 충격의 경우에 그리고 동작 중에, 제2 구성요소의 예상되는 여기 스펙트럼(진동 스펙트럼)에 의존한다. 2개의 제1 적용 사례에서의 가속도가 광학 장치의 동작 동안보다 약 10배 더 큰 것이 여기서 예상될 것이다. 요변성 유체는, 운송 중에 그리고 지진 충격의 경우에, 생성되는 제2 이동 가능한 구성요소의 가속력이 제1 구성요소에 의해 흡수될 수 있게 하기 위해, 요변성 재료가 2개의 구성요소 사이에서 최선의 가능한 힘을 생성하도록 선택되어야 한다. 다른 한편으로, 요변성 유체는 광학 장치의 동작 중에, 이동 가능한 구성요소의 이동을 억제해서는 안되며, 또는 단지 약간만 억제해야 한다.

다른 실시예에서, 광학 장치는 유체를 유지하기 위한 용기와, 또한 용기로부터 간극 내로(그리고 가능하게는 그 반대로, 즉 간극으로부터 용기 내로) 유체를 이송하기 위한 이송 디바이스를 갖는다. 예를 들어 요변성 유체의 형태의 유체는, 이 경우에 광학 장치가 운송될 때 또는 가능하게는 임박한 지진이 검출되는 경우에만 간극 내로 도입된다. 동작 직전에, 유체는 중간 공간으로부터 또는 유체를 수용하기 위해 제공된 챔버 체적으로부터 다시 제거되고, 예를 들어 용기로 다시 펌핑되거나 가능하게는 일부 다른 방식으로 광학 장치로부터 제거될 수도 있다. 이 방식으로, 한편으로는 유체가 운송 중에 또는 지진 충격의 경우에 발생하는 가속도를 흡수할 수 있고, 다른 한편으로는 광학 장치의 동작 중에 2개의 구성요소 사이에 바람직하지 않은 힘 또는 진동의 전달이 없는 것이 보장된다.

(진공) 환경의 오염을 회피하기 위해, 요변성 재료는 매우 낮은 휘발성을 가져야 하고 그리고/또는 예를 들어, 멤브레인에 의해 주변 진공으로부터 폐쇄된 체적 내에 위치되어야 한다. 유체를 수용하기 위한 하나 이상의 리세스가 가능하게는 이동 가능한 구성요소 내에 형성될 수도 있는데, 리세스는 가능하게는 멤브레인에 의해 밀봉된다.

개선예에서, 제1 구성요소는 유체 내로 침지하는 헤드 영역을 갖는, 적어도 하나의 막대형 구성요소, 특히 정지부를 갖는다. 막대형 구성요소에 의해, 힘은 유체로부터 제1 구성요소로 전달될 수 있고, 제1 구성요소에 의해 흡수될 수 있다. 막대형 구성요소는 이동 가능한 구성요소를 위한 정지면이 형성되는 (단부) 정지부일 수도 있지만, 이는 반드시 성립하는 것은 아니고, 즉, 유체에 침지하는 구성요소가 반드시 제2 구성요소의 이동의 범위 또는 미리결정된 조정 범위를 제한하기 위한 정지부로서 역할을 해야 하는 것은 아니다. 이 경우, (요변성) 유체는 이동 가능한 구성요소를 위한 잠금 디바이스로서가 아니라 (충격) 감쇠 요소로서 역할을 한다. 제1 구성요소와 제2 구성요소 사이의 중간 공간이 유체로 완전히 충전되면, 이러한 막대형 구성요소를 생략하는 것이 가능할 수도 있다.

다른 실시예에서, 광학 장치는 자기 유변성 유체 또는 전기 유변성 유체의 점도를 변화시키기 위한 전기장 또는 자기장을 발생하기 위한 적어도 하나의 장-발생 디바이스를 갖는다. 이 경우, 유체는 통상적으로 또한 중간 공간 내로 도입되고, 광학 장치의 동작 중에 이동 가능한 구성요소의 이동을 감쇠시키는 역할을 할 수 있다. 유체의 점도는 특히 디바이스에 의해 또는 장 강도의 선택 및 또한 가능하게는 각각의 전기장 또는 자기장의 정렬에 의해 변경될 수 있다. 장-발생 디바이스의 도움으로, 유체의 점도는 예를 들어 충격 부하의 경우에 힘을 흡수하기 위한 감쇠기로서 또는 운송 잠금 장치로서 역할을 하도록 커지게 될 수 있다. 장-발생 디바이스는 예를 들어 전기장이 유지되게 하기 위해 어떠한 에너지도 필요로 하지 않는 전기장을 운송을 위해 발생시키도록 설계될 수도 있다. 이 목적으로, 예를 들어 전하가 전기 도전체, 예를 들어 커패시터 플레이트에 전달될 수도 있으며, 이들 도전체 사이에 전기 유변성 유체가 도입되어, 이들 도전체가 커패시터의 방식으로 작용하게 된다.

본 발명의 다른 양태는, 제1 구성요소, 특히 지지 프레임, 제1 구성요소에 대해 이동 가능한 제2 구성요소, 특히 미러, 적어도 하나의 이동 가능한 제2 구성요소가 배열되어 있는 내부 공간을 갖는 하우징, 특히 진공 하우징, 또한 제1 구성요소에 대해 이동 가능한 제2 구성요소를 고정하기 위한 고정 디바이스로서, 고정 디바이스는 동작 위치에서 이동 가능한 구성요소로부터 소정 거리 이격되어 유지되어 있고 고정 위치에서 이동 가능한 구성요소에 맞접하는 적어도 하나의 고정 요소를 갖고, 고정 요소는 하우징 내의 내부 압력을 변경함으로써, 동작 위치로부터 고정 위치로, 그리고 그 반대로 이동 가능한, 고정 디바이스를 포함하는, 광학 장치, 특히 리소그래피 시스템에 관한 것이다.

본 발명의 이 양태에서, 광학 장치의 동작 중에 하우징의 내부 공간 내의 압력은, 특히 하우징 내에 배열된 구성요소가 통상적으로 EUV 리소그래피 시스템, 특히 EUV 리소그래피 장치 내의 EUV 미러의 경우와 같이, 진공 상태 하에서 동작되면, 통상적으로 광학 장치의 운송 중에 내부 공간 내의 압력과는 상이하다는 사실이 사용된다. 이 경우에, 예를 들어 약 10^-3 mbar 이하의 작은 압력이 동작 중에 진공 하우징 내에 퍼져 있고, 반면에 약 1 bar의 전체 압력, 즉 대기압이 일반적으로 운송 중에 하우징, 예를 들어 투영 시스템의 하우징 내에 퍼져 있다. 여기에 설명된 고정 디바이스에 의해, 동작 위치로부터 고정 위치로의 고정 요소의 이동은 하우징 내의 압력 또는 제2 구성요소 주위의 압력을 변화시킴으로써 완전히 자동적으로 발생할 수도 있다. 따라서, 복잡한 배관, 리드스루, 부설 및/또는 활성화 수단을 필요로 하는 - 어떠한 임의의 종류의 - 이송 라인이 고정 요소의 이동을 위해 필요하지 않다.

개선예에서, 고정 디바이스는 하우징의 내부 공간 내에 압력의 증가가 존재할 때 동작 위치로부터 고정 위치로 고정 요소를 이동하도록 설계된다. 대응적으로, 고정 요소는 하우징의 내부 공간 내에 압력의 감소가 존재할 때 고정 위치로부터 동작 위치로 이동된다. 전술된 바와 같이, EUV 리소그래피 장치의 형태인 광학 장치의 미러는 진공 상태 하에서 동작되고, 반면 EUV 리소그래피 장치의 운송은 주위 압력에서 발생하여, 고정 요소는 압력의 증가가 존재할 때 동작 위치로부터 고정 위치로 이동되고 압력의 감소가 존재할 때 반대 방향으로, 즉 고정 위치로부터 동작 위치로 이동되는 것이 적당하게 된다.

개선예에서, 고정 디바이스는 하우징의 내부 공간으로부터 밀봉되고 예를 들어 다른 하우징 내에 형성될 수도 있는 가스 체적과, 또한 하우징의 내부 압력과 가스 체적 내의 압력 사이의 차이에 따라 이동 가능하고 고정 요소에 이동의 견지에서 결합되거나 또는 고정 요소를 형성하는 구성요소를 갖는다. 밀봉된 가스 체적 내의 압력은 예를 들어 약 500 mbar일 수도 있지만, 또한 더 크거나 더 작을 수도 있다. 가스 체적의 크기는 압력차의 변화에 대한 고정 디바이스의 민감도 또는 스프링 상수를 결정한다. 통상적으로, 큰 스프링 상수가 유리하며, 이는 주변으로부터 밀봉된 최소 가능한 가스 체적에 의해 달성될 수 있다. 밀봉된 가스 체적은 예를 들어 공압 피스톤 내에 챔버를 형성할 수도 있고, 그 피스톤 로드는 이동 가능한 구성요소를 형성하고 제2 구성요소가 배열되어 있는 하우징의 내부 공간과 연결되는 다른 챔버를 갖는다. 이동 가능한 구성요소에 대한 이동의 견지에서 고정 요소의 결합은 또한 이동 가능한 구성요소로의 고정 요소의 단단한 결합을 의미하는 것으로서 이해된다.

고정 요소의 이동을 위해 달성될 수 있는 공압력을 추정하기 위해 운송 중에 하우징의 내부 공간의 압력과 가스 체적의 압력이 약 0.5 bar인 것으로 가정되면, 약 6 kg의 질량의 중량이 예를 들어, 약 4 cm의 직경을 갖는 미러와 같은 구성요소에 대해 얻어진다. 이 힘은 일반적으로 전체적으로서 이동 가능한 구성요소를 유지하기에 충분하지 않지만, 이 힘은 이동 가능한 구성요소를 고정하기 위해, 그리고 이 방식으로 예를 들어 간접적인 힘 흡수에 의해 이동 가능한 구성요소의 위치를 공간적으로 고정하기 위해, 예를 들어 고정 볼트와 같은 비교적 가벼운 고정 요소를 이동시키기에 확실히 충분하다.

개선예에서, 이동 가능한 구성요소는 가스 체적이 위치되는 다른 하우징의 벽 영역을 형성하는 가요성 멤브레인으로서 설계된다. 고정 요소는 가요성 멤브레인 상에 체결될 수도 있는데, 멤브레인은 서로 대향하는 멤브레인의 2개의 측면 상에 작용하는 압력차에 의존하여 대응적으로 굴곡하고, 이에 의해 고정 위치로부터 동작 위치로, 그리고 그 반대로 고정 요소를 이동시킨다. 고정 요소가 고정 위치와 동작 위치 사이에서 커버하는 거리는 통상적으로 비교적 작아, 멤브레인의 곡률의 변화에 의해 달성될 수 있게 된다. 멤브레인은 예를 들어, 이것이 진공에 적합하기 때문에 금속 재료로부터 형성될 수도 있고, 따라서 통상적으로 하우징의 내부 공간에서 주변 진공으로 어떠한 입자도 배출하지 않는다. 다른 하우징은 통상적으로 제1 고정 구성요소에 견고하게 연결된다.

본 발명의 다른 양태는, 제1 구성요소, 특히 지지 프레임, 제1 구성요소에 대해 이동 가능한 제2 구성요소, 특히 미러, 제1 구성요소에 대해 제2 이동 가능한 구성요소를 이동시키기 위한 적어도 하나의 액추에이터, 제1 구성요소에 대해 이동 가능한 제2 구성요소를 고정하기 위한 고정 디바이스로서, 고정 디바이스는 제1 구성요소 상에 장착된 제1 고정 요소, 및 제2 구성요소 상에 장착된 제2 고정 요소를 갖고, 액추에이터는 이동 가능한 제2 구성요소를 고정 위치로 이동하도록 설계되고, 제1 고정 요소 및 제2 고정 요소는 통상적으로 이들이 기계적 잠금을 형성하여(자물쇠 및 열쇠 원리) 제2 구성요소를 고정 위치에 유지하도록 형상 맞춤 및/또는 힘 맞춤 방식으로 상호 작용하는, 광학 장치, 특히 리소그래피 시스템에 관한 것이다.

이 양태에서, 동작 중에 사용되는 이동 공간("동작 범위") 내에서, 이동 가능한 제2 구성요소, 예를 들어 미러를 이동시키는데 사용되는 적어도 하나의 액추에이터가 또한 통상적으로 동작 중에 사용되는 이동 공간 외부에 있지만, 이동 가능한 구성요소의 기계적으로 가능한 이동 공간("기계적 범위") 내부에 있는 고정 위치로 이동 가능한 구성요소를 이동하기 위해 또한 사용되는 것이 제안된다. 이동 가능한 제2 구성요소의 기계적으로 가능한 이동 공간은 통상적으로 또한 전술된 단부 정지부에 의해 제한된다.

고정 위치는 광학 장치의 정상 동작 중에 도달되지 않고, 개선예의 경우에, 이동 가능한 제2 구성요소의 미리결정된 경로 곡선을 따라만 이동될 수 있고, 미리결정된 (반드시 동일하지는 않은) 경로 곡선에 의해서만 다시 남겨질 수 있다. 필요한 경로 곡선은 일반적으로 동작 중에 사용되는 이동 공간 내에서 제2 구성요소의 이동을 또한 담당하는 액추에이터 또는 액추에이터에 의해 직접 생성될 수 있는데, 즉 통상적으로 부가의 액추에이터가 이 목적으로 요구되지 않는다. 액추에이터는 통상적으로 3개의 병진 및 3개의 회전 자유도로 이동 가능한 구성요소를 이동시키도록 설계되어, 사실상 임의의 바람직한 이동 경로가 액추에이터의 도움으로 생성될 수 있게 되는 것이 여기서 유리하다.

동작 중에 사용되는 이동 공간이 남아 있고 고정 위치가 도달되는 이들의 코일을 통한 단시간의 더 높은 전류에 의해 이동 가능한 구성요소 상에 이러한 큰 힘이 생성되는 액추에이터인, 로렌츠 액추에이터가 예를 들어 이동의 경로를 생성하기 위해 사용될 수도 있다. 고정 위치에서, 2개의 고정 요소는 예를 들어 기계적 잠금(자물쇠 및 열쇠 원리) 방식으로 서로 결합할 수도 있다.

개선예에서, 제1 고정 요소 및 제2 고정 요소는 후크의 형태로 설계되고, 2개의 후크형 고정 요소는 고정 위치에서 서로 결합한다. 후크형 고정 요소는 자물쇠 및 열쇠 원리의 방식으로 기계적 잠금을 실현하는 일 가능한 방식을 나타낸다. 2개의 고정 요소를 형상 맞춤에 의한 기계적 잠금을 형성하게 하여, 제2 구성요소의 갱신된 이동 없이 고정 위치로부터 해제될 수 없게 하는 다수의 다른 가능한 방식이 존재하는 것은 말할 필요도 없다.

개선예에서, 적어도 하나의 액추에이터는 고정 위치를 떠나기 위해(그리고 통상적으로 또한 고정 요소를 고정 위치로 이동시키기 위해) 적어도 2개의 상이한 방향에서 제2 고정 요소를 이동시키도록 설계된다. 이 방식으로, 제2 구성요소 상에 작용하는 힘이 단지 일 방향으로만 인가되기 때문에, 예를 들어 충격의 경우에, 이동 가능한 제2 구성요소가 원하지 않게 고정 위치로부터 해제되는 것이 통상적으로 방지될 수 있다.

대안 실시예에서, 제1 고정 요소는 고정 방향을 따라 힘을 인가함으로써 고정 위치에 제2 고정 요소를 고정하고 고정 방향을 따른 힘의 갱신된 인가에 의해 고정 위치로부터 제2 고정 요소를 해제하도록 설계된다. 이 경우, 볼펜의 또는 SD 카드 슬롯을 위한 잠금부의 기구와 유사한 방식으로, 제1 고정 요소는 쌍안정성 상태를 갖는 잠금 기구를 갖는다. 예를 들어, 적합하게 구성된 핀의 방식으로 설계될 수도 있는 제2 고정 요소는 고정 방향을 따라 선형 이동으로 특정 힘으로 이동되고 기구 내로 가압되어, 예를 들어 핀의 형태의 제2 고정 요소가 고정 위치에 조임되어 고정 방향과 반대 방향으로 해제될 수 없게 된다. 고정 방향(즉, 동일한 방향)으로 제2 고정 요소로의 힘의 갱신된 인가 후에, 조임이 다시 해제된다. 대응하는 역학은 예를 들어 제2 고정 요소를 고정하기 위한 톱니 형상과 조합하여 캠 디스크 또는 캠 기어 기구에 의해 형성될 수도 있다. 제2 구성요소 또는 제2 고정 요소의 이동을 위한 힘은 예를 들어 로렌츠 액추에이터 형태의 액추에이터에 의해 또한 전술된 바와 같이 적용될 수도 있다.

광학 장치의 다른 구성에서, 제1 구성요소에 대하여 이동 가능한 제2 구성요소를 고정하기 위한 적어도 하나의 접촉면을 갖는 고정 디바이스를 갖고, 제2 구성요소의 표면 영역은 고정 위치에서 접촉면에 맞접하고 접착에 의해 접촉면 상에 제2 구성요소를 고정한다.

제2 구성요소의 표면 영역 및 접촉면은 통상적으로 매우 평활한 표면이고, 이 경우에 고정은 접착에 의해 또는 결착 또는 광학 접촉 접합으로서 공지되어 있는 것에 의해 발생한다. 제2 구성요소가 EUV 리소그래피를 위한 미러이면, 접촉면과 접촉하게 되는 표면 영역은, 적절하게 연마되면 매우 낮은 표면 거칠기를 갖는, 예를 들어 Zerodur® 또는 ULE®일 수도 있는 기판 재료 상에 통상적으로 형성된다. 접촉면은 예를 들어 폴리머 재료 또는 엘라스토머 재료, 예를 들어 에틸렌-프로필렌-디엔 고무(EPDM)로부터 형성될 수도 있는데, 이는 또한 매우 평활한 표면을 갖는다. 접촉면은 예를 들어 제2 구성요소의 이동을 제한하는 단부 정지부의 정지면을 형성할 수도 있다. 특히, 예를 들어 EUV 리소그래피 장치의 형태의 광학 장치가 운송을 위해 반전되면, 중력 보상은 2배의 중량(2g)이 단부 정지부 상에 또는 접촉면을 형성하는 정지면 상에 작용하는 효과를 갖는다. 이동 가능한 구성요소는 따라서 약 2g로 접촉면에 대해 가압되는데, 접촉면의 적합하게 치수 설정된 크기가 접착력에 기인하여 전체 구성요소를 고정하거나 유지하는데 충분하다. 접촉면은 반드시 정지부 상에 형성될 필요는 없고, 광학 장치에서 특히 이 목적으로 제공된 구성요소 상에 또한 형성될 수도 있다.

본 발명의 다른 특징 및 장점은 본 발명에 필수적인 상세를 도시하고 있는 도면을 참조하여, 본 발명의 예시적인 실시예의 이하의 설명으로부터, 그리고 청구범위로부터 나타난다. 개별 특징은 각각의 경우에 자체로 개별적으로 또는 본 발명의 변형예에서 임의의 원하는 조합으로 복수로서 실현될 수도 있다.

예시적인 실시예가 개략도에 도시되어 있고, 이하의 설명에서 설명된다. 도면에서,
도 1a는 미러의 형태의 복수의 이동 가능한 구성요소를 갖는 EUV 리소그래피 장치의 개략도를 도시하고 있다.
도 1b는 도 1a의 EUV 미러 중 하나를 갖고 그 이동 경로를 제한하기 위한 2개의 (단부) 정지부를 또한 갖는 미러 모듈의 개략도를 도시하고 있다.
도 2a 및 도 2b는 정지부의 정지면에 대해 이동 가능한 고정 요소를 갖는 EUV 미러를 고정하기 위한 고정 디바이스를 갖는 정지부의 개략도를 도시하고 있다.
도 3a 내지 도 3c는 고정 요소를 이동하기 위한 액추에이터의 3개의 상이한 구성을 갖는 도 2a 및 도 2b로부터의 정지부의 개략도를 도시하고 있다.
도 4a 및 도 4b는 고정 위치에서 다중 부분 정지부의 헤드 영역을 확산 개방하고 EUV 미러에 형성된 리세스의 측면에 대해 이를 가압하는 고정 요소의 개략도를 도시하고 있다.
도 5a 및 도 5b는 고정 위치에서 정지부의 정지면 또는 고정을 위한 다수의 정지부에 대해 EUV 미러를 가압하는 고정 요소의 개략도를 도시하고 있다.
도 6a 및 도 6b는 단부 정지부의 정지면들 사이에 EUV 미러를 클램프하기 위해, 작동 가능한 단부 정지부를 갖는 EUV 미러의 개략도를 도시하고 있다.
도 7a 및 도 7b는 고정 요소에 의한 직접 및 간접적인 힘 흡수 각각의 경우에 EUV 미러의 개략도를 도시하고 있다.
도 8a 및 도 8b는 동작 위치에서 그리고 센서 프레임을 고정하기 위한 고정 위치에서 정지부의 개략도를 도시하고 있는데, 정지부는 토글 레버에 의해 고정 위치에 유지되어 있다.
도 9는 전기 유변성 유체가 지지 프레임과 EUV 미러 사이의 중간 공간 내로 도입되는 EUV 미러의 개략도를 도시하고 있다.
도 10은 요변성 유체가 지지 프레임과 EUV 미러 사이의 중간 공간 내로 도입되는 EUV 미러의 개략도를 도시하고 있다.
도 11a 및 도 11b는 EUV 미러의 주위 압력에 따라, 고정 요소가 동작 위치로부터 고정 위치로 또는 그 반대로 이동될 수 있는 EUV 미러의 개략도를 도시하고 있다.
도 12a 및 도 12b는 다른 후크형 고정 요소에 결합하는 고정 위치로 EUV 미러의 후크형 고정 요소를 이동시키기 위해, 만곡된 이동 경로를 따라 액추에이터에 의해 이동 가능한 EUV 미러의 개략도를 도시하고 있다.
도 13a 및 도 13b는 고정 방향을 따라 힘을 인가함으로써 선형 이동으로 고정 위치로 액추에이터에 의해 이동될 수 있고 고정 방향을 따라 힘의 갱신된 인가에 의해 고정 위치로부터 해제될 수 있는 고정 요소를 갖는 EUV 미러의 개략도를 도시하고 있다.
도 14a 및 도 14b는 고정 위치에서 고정 디바이스의 접촉면에 맞접하고 접착력에 의해 접촉면 상에 유지되는 연마된 표면 영역을 갖는 EUV 미러의 개략도를 도시하고 있다.

이하의 도면의 설명에서, 동일한 도면 부호가 동일한 또는 기능적으로 동일한 구성요소를 위해 사용된다.

도 1a에는, EUV 리소그래피 장치(1)의 형태의 EUV 리소그래피 시스템이 개략적으로 도시되어 있다. EUV 리소그래피 장치(1)는, 개별 진공 하우징 내에 수용되고 빔 성형 시스템(2)의 EUV 광원(5)으로부터 나오는 EUV 방사선(6)의 광선의 경로에서 전후로 배열되어 있는 빔 발생 시스템(2), 조명 시스템(3) 및 투영 시스템(4)을 갖는다. 간단화를 위해, 빔 발생 시스템(2), 조명 시스템(3) 및 투영 시스템(4)은 대응하는 진공 하우징(2, 3, 4)을 또한 의미하는 것으로서 이하에서 이해된다. 플라즈마 소스 또는 싱크로트론이 예를 들어 EUV 광원(5)으로서 역할을 할 수 있다. 약 5 nm 내지 약 20 nm의 파장 범위에서 EUV 광원(5)으로부터 나오는 방사선은 먼저 시준기(7)에서 포커싱된다. 하류 단색광 분광기(8)의 도움으로, 본 예에서 약 13.5 nm인 원하는 동작 파장(λ_B)이 필터링된다. 시준기(7) 및 단색광 분광기(8)는 반사 광학 요소로서 형성된다.

파장 및 공간 분포와 관련하여 빔 발생 시스템(2)에서 처리된 EUV 방사선은 제1 및 제2 반사 광학 요소(9, 10)를 갖는 조명 시스템(3) 내로 도입된다. 2개의 반사 광학 요소(9, 10)는 웨이퍼(12)의 형태의 감광 기판 상에 축소 스케일로 투영 시스템(4)에 의해 이미징된 구조를 갖는 다른 반사 광학 요소로서 포토마스크(11) 상에 EUV 방사선(6)을 안내한다. 이 목적으로, 제3 및 제4 반사 광학 요소(13, 14)가 투영 시스템(4) 내에 제공된다.

반사 광학 요소(9, 10, 11, 13, 14)는 각각 광원(5)의 EUV 방사선(6)에 노출되는 광학면을 갖는다. 광학 요소(9, 10, 11, 13, 14)는 진공 조건 하에서 EUV 리소그래피 장치(1) 내에서 동작된다. 투영 시스템(4)에서, 더 정확하게는 대응 진공 하우징(4)의 내부 공간(4a)에서, 예를 들어 약 10^-1 mbar 미만의 압력(p₁), 즉 대기압보다 훨씬 낮은 압력이 퍼져 있다.

도 1b는 도 1a로부터의 투영 시스템(4)의 제1 EUV 미러(13)의 형태의 이동 가능한 구성요소를 갖는 미러 모듈(15)을 예로서 도시하고 있다. 미러 모듈(15)은, EUV 미러를 모든 6개의 자유도로, 즉 3차원 공간에서, 모든 3개의 병진 자유도(T_X, T_Y, T_Z)로 그리고 모든 3개의 회전 자유도(R_X, R_Y, R_Z)로 위치시키거나 정렬하고 조작하기 위해, EUV 미러(13)를 이동시키는 역할을 하고 EUV 미러(13) 상에 힘(F₁, ..., F_n)을 각각 인가하는 다수의 미러 액추에이터(16)를 갖는다. 게다가, 공간 내의 EUV 미러(13)의 위치 및 배향에 관한 정보(Z₁, ..., Z_n)의 검출을 위한 센서(17)가 제공된다. 액추에이터(16) 및 센서(17)의 모두, 더 정확하게는 이들의 센서 프레임(18)("센서 프레임")은 기계적으로 결합 해제된(스프링-장착된) 방식으로 지지 구조체 또는 지지 프레임(19)("힘 프레임") 상에 장착된다. 지지 프레임(19)은 미러 모듈(15) 상에 작용하는 실질적으로 모든 힘을 흡수한다. 지지 프레임(19)은 미러 모듈(15)이 설치되어 있는 전체 EUV 리소그래피 장치(1)에 걸쳐 연장될 수도 있지만, 지지 프레임(19) 자체가 다른 지지 구조체 상에 체결되거나 스프링-장착되는 것도 또한 가능할 수도 있다. 도 1b에 도시되어 있는 예에서, 2개의 단부 정지부는 이하에 또한 정지부 또는 단부 정지부(20)라고도 칭하는 지지 프레임(19) 상에 장착된다.

액추에이터 및 센서 축의 수는 조작될 자유도의 수에 좌우된다. 모든 6개의 자유도가 모두 조작되어야 하면, 적어도 6개의 액추에이터 및 센서 축이 대응 배열을 갖고 필요하다. 액추에이터(16)의 실제 배열 또는 EUV 미러(13)의 장착의 셋업은 이 경우에 헥사포드(hexapod)에 실질적으로 대응한다.

또한 전술된 바와 같이, EUV 미러(13)는 기계적으로 결합 해제되거나 스프링 방식("플로팅")으로 지지 프레임(19) 상에 장착된다. 영구 자석에 기초하는 소위 중량 보상기는 예를 들어, 본 출원의 내용에 참조로서 합체되어 있는 US 2013/0314681 A1호에 설명되어 있는 바와 같이, 예를 들어 지지 프레임(19) 상에 EUV 미러(13)의 "플로팅" 장착을 위해 사용될 수도 있다. 예를 들어, 본 출원의 내용에 참조로서 합체되어 있는 DE 10 2011 004 607 A1호에 설명되어 있는 바와 같이, 통상적으로 여기 가능한 코일 및 코일로부터 소정 거리 이격하여 유지되어 있는 영구 자석을 갖는 로렌츠 액추에이터가 예를 들어, 액추에이터(16)로서 미러(13)를 사용될 수도 있다.

EUV 미러(13)의 동작 중에 사용되는 진행 거리 또는 이동 공간은 일반적으로 병진으로 수 내지 수백 마이크로미터(㎛) 또는 회전으로 단지 수 밀리라디안(mrad)이다. 단부 정지부(20)는 EUV 미러(13)의 원하지 않는 치명적인 충돌을 회피하고 EUV 미러(13)의 최대 가능한 기계적 이동 공간을 제한하거나 규정하는 목적을 담당한다. EUV 미러(13)가 EUV 리소그래피 장치(1) 내의 어떤 것에 충돌하기 전에, EUV 미러(13)의 이동은 단부 정지부(20)의 도움으로 흡수된다. 특히 EUV 리소그래피 장치(1)가 운송될 때, 단부 정지부(20)에 대한 EUV 미러(13) 또는 EUV 미러들(9, 10, 13, 14)의 반복적이고 제어되지 않는 타격은 특히 큰 가속도(>2g)의 경우에 손상을 유발할 수 있다.

따라서, EUV 리소그래피 장치(1)가 운송되기 전에, 예를 들어 센서 프레임 등과 같이, EUV 리소그래피 장치(1) 내에 존재하는 EUV 미러 또는 미러들(9, 10, 13, 14) 및 또한 가능하게는 다른 이동 가능한 구성요소를 고정하여, 이들이 단부 정지부(20) 사이에서 더 이상 자유롭게 이동 가능하지 않게 되는 것이 유리하다. 이러한 운송 잠금 장치를 제공하는 다수의 가능한 방식이 존재하는데, 그 중 몇가지가 이하에 설명된다.

도 2a 및 도 2b는 지지 프레임(19) 상에 일 단부에 의해 단단히 체결되어 있는 막대형 부분(20a)을 갖는 단부 정지부(20)를 도시하고 있다. 정지부(20)의 막대형 부분(20a)의 자유 단부(헤드 단부(20b))에는 제1 약간 만곡된 정지면(21a)이 형성되고, 이 정지면은 EUV 미러가 (음의) Z 방향에서 도 2a의 정지부(20)에 대해 가속될 때 중력 방향(Z 방향)에서 충격력을 흡수하는 역할을 한다. 정지부(20)의 또는 막대형 부분(20a)의 헤드 단부(20b)에는 제2 정지면(21b)이 또한 형성되어 있는데, 이 제2 정지면은 링의 형태로 주연으로 연장하고 Z 방향에 수직으로(X 방향 또는 Y 방향)으로 가속될 때 EUV 미러(13)가 타격한다. EUV 미러(13)가 정지면(21a, 21b)에 타격할 때 손상되는 것을 회피하기 위해, 정지면은 정지부(20)의 통상적으로 금속 막대형 부분(20a)의 자유 단부를 둘러싸는 진공에 적합한 엘라스토머 요소 상에 각각 형성된다.

도 2a 및 도 2b에 도시되어 있는 예에서, 단부 정지부(20)의 자유 단부 또는 헤드 단부는 EUV 미러(13)의 리세스(22) 내로 돌출한다. EUV 리소그래피 장치(1)의 동작 중에, 제1 정지면(21a)과 리세스(22)의 저부 사이 및 주연 제2 정지면(21b)과 환형 리세스(22)의 측면 사이의 모두에 간극이 형성되어, EUV 미러(13)는 지지 구조체(19)에 대해 이동될 수 있게 된다.

도시되어 있는 예에서, 단부 정지부(20)는 고정 요소(24)를 갖는 고정 디바이스(23)를 운송 잠금 장치로서 갖는데, 이 고정 디바이스는 고정 요소(24)가 EUV 미러(13)로부터 소정 거리 이격하여 유지되어 있는 동작 위치(B)에서 도 2a에 도시되어 있다. 고정 요소(24)는 동작 위치(B)로부터 도 2b에 도시되어 있는 고정 위치(F)로 이동될 수 있는데, 이 고정 위치에서 고정 요소(24), 더 정확하게는 고정 요소의 실질적으로 원추형 주연 고정면(25)은 EUV 미러(13)에, 더 정확하게는 리세스(22)의 주연의 실질적으로 원추형 경사부(26)에 맞접한다. 고정 위치(F)에 배열된 고정 요소(24)의 주연 원추형 고정면(25) 상의 주연 경사부(26)의 맞접 접촉은 운송을 위해 EUV 미러(13)를 모든 3개의 공간 방향, 즉 Z 방향 및 X 및 Y 방향에서 고정하는 형상 맞춤부를 형성한다.

도 2a 및 도 2b에 도시되어 있는 예에서, 고정 요소(24)는 막대형 부분(20a)의 종방향으로 변위 가능하게 안내되고, 고정면(25)이 또한 형성되어 있는 고정 요소(24)의 환형 헤드 영역 상에 견고하게 체결되어 있는, 정지부(20)의 종방향으로 연장하는 다수의 막대형 요소를 갖는다. 도시되어 있는 예에서, 막대형 요소는 지지 프레임(19)의 보어를 통해 연장하는데, 이들 보어는 정지부(20)와 같이 Z 방향으로 연장하고 정지부(20)의 막대형 부분(20a)의 중심축에 관하여 원주 방향으로 반경방향으로 오프셋된 규칙적인 배열로 배열된다.

도 2a에 도시되어 있는 동작 위치(B)로부터 도 2b에 도시되어 있는 고정 위치(F)로 자동화된 방식으로, 즉 액추에이터(27)의 도움으로 고정 요소(24)의 이동을 유도하는 다수의 가능한 방식이 존재하는데, 이들 중 3개가 도 3a 내지 도 3c에 예로서 도시되어 있다. 도 3a 내지 도 3c에 도시되어 있는 모든 3개의 정지부(20)의 경우에, 고정 요소(24)는 고정면(25)을 갖는 헤드부와 대향하는 그 단부에 액추에이터(27)가 작용하는 환형 플레이트(28)를 갖는다. 도 3a에 도시되어 있는 예에서, 마찬가지로 링의 형태로 설계되고 도 3a에 도시되어 있는 고정 위치(F)로부터 동작 위치(B)로 고정 요소(24)를 이동시키기 위해, 전압을 정지부의 종방향에서의(즉, Z 방향에서의) 그 길이가 변경될 수 있는(도시되어 있는 예에서는 짧아짐) 압전 액추에이터(27)의 단부면이 환형 플레이트에 맞접하고 있다.

도 3b에 도시되어 있는 예에서, 환형 플레이트(28)와 지지 프레임(19) 사이에 스프링(29)이 삽입되어 있고, 이 스프링은 정지부(20)의 헤드 영역(20b)으로부터 이격되어 있는 지지 프레임(19)의 단부 상에 장착된 원통형 구성요소의 반경방향 내향으로 연장하는 플랜지부(30)에 대해 고정 요소(23)를 가압한다. 도 3b에 도시되어 있는 동작 위치(B)로부터 고정 요소(24)를 이동시키기 위해, 플랜지부(30)를 향하는 측면 상의 액추에이터(27)(도 3b에는 나타내지 않음)는, 환형 플레이트, 및 따라서 고정 요소(24)를 스프링 힘의 작용에 반하여 고정 위치(F)로 변위시키기 위해, 환형 플레이트(28)에 대해 가압된다.

도 3c에 도시되어 있는 예에서, 환형 플레이트(28)는 정지부(20)의 헤드 영역(20b)으로부터 이격하여 향하는 지지 프레임(19)의 측면 상의 다수의 압전 액추에이터(27)의 도움으로 체결된다. 압전 액추에이터(27)는 정지부(20)의 헤드부(20b)로부터 이격하여 향하는 측면 상의 환형 플레이트(28)에 맞접하는 헤드 영역을 각각 갖는다. 도 3a에 도시되어 있는 예의 경우에서와 같이, 전압을 인가함으로써, 도 3c에 도시되어 있는 동작 위치(B)로부터 고정 위치(F)로 고정 요소(24)를 이동시키기 위해, 압전 액추에이터(27)는 Z 방향으로, 즉 정지부(20)의 막대형 부분(20a)의 종방향으로 그 길이가 변경될 수 있다. 도 3a 내지 도 3c에 도시되어 있는 예에 대한 대안으로서, 크롤러(crawler)형 전진 원리에 기초하는 압전 스텝핑 드라이브 또는 소위 "인치웜(inchworm)" 압전 드라이브의 방식의 압전 액추에이터가 사용될 수도 있다. 동작 위치(B)로부터 고정 위치(F)로의, 그리고 그 반대로의 고정 요소(24)의 이동은 또한 수동으로, 즉 액추에이터의 사용 없이, 예를 들어 이 목적으로 제공된 고정 나사를 조이거나 풀어서 실행될 수도 있다.

도 4a 및 도 4b는 그 헤드 영역(20b)이 2개의 헤드부(31a, 31b)를 갖고, 그 막대형 부분(20a)이 각각의 조인트(33a, 33b)에 의해 지지 프레임(19) 상에 체결된 2개의 막대(32a, 32b)에 의해 형성되는 2-부분 정지부(20)의 예를 도시하고 있다. 정지부(20)는 도 4a에 도시되어 있는 동작 위치(B)와 도 4b에 도시되어 있는 고정 위치(F) 사이에서 이동 가능한, 더 정확하게는 Z 방향(중력의 방향)으로 변위 가능한 고정 요소(24)를 갖는 고정 디바이스(23)를 갖는다. 도시되어 있는 예에서, 고정 요소(24)는 고정 핀으로서 설계되고 고정 위치(F)에서 헤드 영역(20b)의 2개의 헤드부(31a, 31b) 사이에 결합하고, 이에 의해 이들 헤드부는 확산되어, 헤드부 또는 헤드 영역(20b)이 리세스(22)의 측면(22a)에 대해 반경방향으로 가압되어, 이에 의해 EUV 미러(13)가 확실히 클램핑된다. 2개의 헤드부(31a, 31b)의 정지면(21a, 21b)과 리세스(22)의 측면(22a) 사이의 마찰이 충분히 크기만 하면, 확산 개방된 정지부(20)는 X 방향 및 Y 방향에서, 뿐만 아니라 Z 방향에서의 EUV 미러(13)의 고정을 유도할 수 있는데, 즉 EUV 미러(13)는 모든 3개의 공간 방향에서 고정될 수 있다. 2개의 헤드부(31a, 31b)의 확산 개방이 발생하는 도 4a, 도 4b에 도시되어 있는 정지부(20)에 대한 대안으로서, 하나의 부분으로 형성된 정지부(20)가 사용될 수도 있는데, 이 경우에 예를 들어 링의 형태로 설계되고 적어도 부분적으로 탄성 재료로부터 형성되는 헤드부(20b)는 확산 개방되어, 도 4a, 도 4b에 도시되어 있는 예의 경우에서와 같이, 고정 요소(24)가 환형 헤드 영역(20b) 내로 삽입되게 된다. 이 경우에, 막대형 부분(20a)은 예를 들어 고정 요소(24)가 그 변위 중에 안내되는 중심설정 보어를 가질 수도 있다.

정지면(21a, 21b)에 관련하여 이동 가능한, 더 정확하게는 변위 가능한 고정 요소(24)를 갖는 고정 디바이스(23)를 갖는 (단부) 정지부(20)의 도 2a, 도 2b, 도 3a 내지 도 3c 및 도 4a, 도 4b와 관련하여 도시되어 있는 예는, 고정 디바이스(23)가 (단부) 정지부(20)로부터 공간적으로 분리되어 배열되어 있는 해결책의 경우에서보다 더 적은 수의 위치에서 EUV 리소그래피 장치(1)의 액세스 가능성이 요구되기 때문에 유리하다. 그럼에도 불구하고, 도 5a, 도 5b에 기초하여 이하에 더 상세히 설명되는 바와 같이, 고정 디바이스(23)와 정지부(20)를 공간적으로 분리하는 것이 바람직할 수도 있다.

도 5a는 고정 요소(24)가 EUV 미러(13)에 맞접하여 그에 힘을 인가하는 고정 위치(F)에서 고정 디바이스(23)의 Z 방향으로 변위 가능하여, EUV 미러(13)가 단부 정지부(20)의 원통형 주연 정지면(21b)에 대해, 즉 그 단부 정지부 위치로 가압되게 되는 고정 요소(24)를 도시하고 있다. 도 5b는 그 고정 위치(F)에서 고정 요소(24)가 EUV 미러(13)에 대해 측방향으로 가압되어, EUV 미러가 고정 요소(24)와 3개의 단부 정지부(20) 사이에 고정되게 되는, XY 평면에서, 즉 Z 방향에 수직인 EUV 미러(13)의 고정을 대응적으로 도시하고 있다. 도 4a, 도 4b에 도시되어 있는 예의 경우에서와 같이, 도 5a 및 도 5b에 더 상세하게 설명되어 있지 않은 액추에이터가 고정 요소(24)의 변위를 위해 사용될 수도 있다.

도 6a는 모든 3개의 단부 정지부(20)가 동작 위치(B)로부터, 단부 정지부(20) 사이에 EUV 미러를 클램핑하기 위해, 이들이 EUV 미러(13)에 맞접하는 도 6a에 도시되어 있는 고정 위치(F)로 이들의 종방향을 따라 화살표에 의해 지시된 액추에이터(34)의 도움으로 이동되는 운송 목적을 위한 EUV 미러(13)의 다른 가능한 고정 방식을 도시하고 있다. 도 6b에 도시되어 있는 예에서, 3개의 단부 정지부(20) 중 단지 하나만이 2개의 고정된 단부 정지부(20)에 대해 EUV 미러(13)를 가압하고 이 방식으로 운송을 위해 이들을 고정하기 위해 액추에이터(34)의 도움으로 변위 가능하다.

도 7a 및 도 7b는 EUV 미러(13) 상의 충격 효과 또는 힘(F)이 액추에이터에 의해 이송 또는 고정 방향(R)을 따라 고정 위치로 이동되는 고정 요소(24)에 의해 흡수될 수 있는 2개의 기본적인 가능성을 도시하고 있는데, 도 7a에 도시되어 있는 직접적 힘 흡수의 경우에, 고정 방향(R)과 힘(F)의 방향은 평행하고, 반면에 도 7b에 도시되어 있는 간접적 힘 흡수의 경우에, 힘(F)의 방향과 고정 방향(R)은 서로 수직이다. 예를 들어, 도 6a, 도 6b에 도시되어 있는 예에서와 같이, 직접적 힘 흡수 및 간접적 힘 흡수의 혼합된 형태가 또한 가능하다는 것은 말할 필요도 없다.

도 8a 및 도 8b는 정지부(20), 더 정확하게는 그 만곡된 정지면(21)이 지지 프레임(35)의 형태의 이동 가능한 구성요소로부터 소정 거리 이격하여 유지되어 있는 도 8a에 도시되어 있는 동작 위치(B)와, 예를 들어 운송을 위해 센서 프레임(19)에 관하여 지지 프레임을 고정하기 위해, 정지부(20), 더 정확하게는 그 정지면(21)이 지지 프레임(35)에 맞접하는 도 8b에 도시되어 있는 고정 위치(F) 사이에서 액추에이터(34)의 도움으로 이동될 수 있는 정지부(20)를 도시하고 있다. 마찬가지로 도 8a 및 도 8b에서 알 수 있는 바와 같이, 지지 프레임(35)은 EUV 미러(13)의 기계적 결합 해제 또는 스프링 장착의 역할을 한다. EUV 리소그래피 장치(1)의 동작 중에, 지지 프레임(35)은 센서 프레임(19)으로부터 미리결정된 거리(s)(간극 폭)로 유지된다.

정지부(20)의 이동을 위한 도 8a 및 도 8b에 도시되어 있는 액추에이터(34)는 스핀들 드라이브(36)로부터 정지부(20)로의 힘의 전달의 역할을 하는 토글 레버(37)의 형태의 레버 기구 상에 작용하는 스핀들 드라이브의 형태의 드라이브(36)를 갖는다. 토글 레버(37)는 공통 조인트(39)에 의해 제1 단부에서 각각 서로 연결되고 공통 조인트 둘레로 회전 가능하게 장착되어 있는 제1 및 제2 레그(38a, 38b)를 갖는다. 제1 레그(38a)의 제2 단부는 다른 조인트(40)에 의해 차폐부(41)(하우징)에 연결되는데, 이 차폐부는 예를 들어, 마찰력에 기인하여 액추에이터(34)의 작동 중에 발생하는 입자에 의한 오염을 방지하기 위해, 액추에이터(34), 더 정확하게는 드라이버(36)와 함께 토글 레버(37)를 EUV 미러(13)가 배열되어 있는 주위 진공으로부터 밀봉한다.

토글 레버(37)의 제1 레그(38a)의 제2 단부는 정지면(21)이 형성되어 있는 정지부(20)에 다른 조인트(42)에 의해 연결된다. 정지부(20)는 베어링 슬리브(43) 내에서 변위 가능하게 안내된다. 조인트(39) 및 다른 조인트(40, 42)는 각각의 경우에 힌지 조인트에 있어, 정지부(20)가 고정 위치(F)와 동작 위치(B) 사이의 이동 중에 비틀어지지 않게 되는데, 즉 정지부(20)가 그 중심축(45)에 대해 비틀리지 않고 안내되게 된다. 베어링 슬리브(43)와 정지부(20) 사이에는, 베어링 슬리브(43)와 정지부(20) 사이의 중간 공간을 통한 입자의 새어나옴을 방지하는 역할을 하는 밀봉 요소(46)가 삽입된다. 밀봉 요소(46)는 또한 정지부(20)를 베어링 슬리브(43)에 장착하는 역할을 하며, 예를 들어 마찰 밀봉부로 설계될 수도 있다.

도 8b에 도시되어 있는 고정 위치(F)의 경우, 액추에이터(34)의 토글 레버(37)는 완전히 직선화되고, 따라서 드라이버(36)가 스위칭 오프될 때에도 정지부(20)를 고정 위치(F)에 유지하는 것을 가능하게 한다. 이 목적으로, 토글 레버(37)는 또한 사점이 마찬가지로 이미 극복되어 있는 과잉 연장된 위치로 이동될 수 있다. 도 8b에 도시되어 있는 토글 레버(37)의 완전히 직선화된 위치(연장된 위치)는, 충격 부하의 경우에 정지부(20) 상에 작용하는 힘이 지지 프레임(19)에 견고하게 연결되어 있는 차폐부(41)로 토글 레버(37)에 의해 전달되고, 드라이브(36)의 스핀들 상에 작용하는 큰 힘 없이, 지지 프레임(19)에 의해 흡수되는 것을 가능하게 한다. 도 8a에서, 2개의 레그(38a, 38b)가 동작 위치(B)에서 서로 형성하는 각도는 과장되어 도시되어 있다. 일반적으로, 고정 위치(F)와 동작 위치(B) 사이에서 조인트(39)가 커버하는 거리는 마이크로미터의 범위에 있어, 심지어 동작 위치(B)에서 2개의 레그(38a, 38b) 사이의 각도는 180° 보다 약간 작게 된다. 토글 레버(37)가 연장 위치(2개의 레그(38a, 38b) 사이의 180°의 각도 또는 약간 과잉 연장된 위치)에 있는 도 8b에 도시되어 있는 고정 위치(F)에 대한 대안으로서, 토글 레버(37)의 고정 위치(F)는 또한 합동 위치(도시 생략)(2개의 레그(38a, 38b) 사이의 0°의 각도 또는 약간 과잉 연장된 위치)로 가정될 수도 있다.

운송 전에 도 8b에 도시되어 있는 고정 위치(F)로 정지부(20)를 이동시키기 위해, 드라이브(36)는 단지 전원에 단시간 접속되기만 하면 되고, 정지부(20)의 자기 잠금 특성으로 인해, 고정 위치(F)에 도달한 직후에 전원으로부터 분리될 수 있다. 또한 반대 방향으로 이동 중에, 즉 정지부(20)가 동작 위치(B)로 이동될 때, 드라이브(36)는 동작 위치(B)에 도달한 직후에 스위칭 오프될 수 있다. 토글 레버(37)의 (과잉) 연장에 의한 고정 작용과는 별개로, 자기-잠금은 또한 드라이브(36)의 스핀들 나사산의 나사산 피치의 적합한 선택에 의해 달성될 수 있는데, 즉, 스핀들은 힘이 정지면(21) 상에 작용할 때 회전할 수 없어, 토글 레버(37)가 동작 위치(B)에 남아 있게 된다. 드라이브(36)는 단지 2개의 위치(B, F) 사이에서 정지부(20)를 이동시키지만, 각각의 위치(B, F)에 정지부를 유지하지 않도록 활성화되어야 한다. 제어 케이블(도시 생략)은 드라이브(36)의 활성화를 위해 사용될 수도 있다.

또한 도 8a에 도시되어 있는 동작 위치(B)의 경우에서도, 예를 들어 지진의 경우에 정지부(20) 상에 작용하는 충격력이 발생할 수도 있다. 이들 힘을 지지 프레임(19)에 도입하기 위해, 정지부(20)는 정지면(21)으로부터 이격하여 향하는 측면 상에, 정지부(20)의 헤드 단부에 형성된 접촉면(48)을 갖는 칼라 또는 플랜지(47)를 갖는다. 도 8a에 도시되어 있는 정지부(20)의 동작 위치(B)의 경우에, 접촉면(48)은 충격력을 흡수하여 이를 그에 견고하게 연결된 지지 프레임(19)에 전달하는 베어링 슬리브(43)의 단부면에 맞접한다.

도 9는 EUV 미러(13)와, 정지부(20)가 장착되어 있는 지지 프레임(19)의 상세를 도시하고 있다. 도시되어 있는 예에서, 정지부(20)는 막대형 부분(20a)의 헤드 영역(20b)과 함께 EUV 미러(13) 상의 리세스(22) 내로 돌출한다. 유체(51)가 도입되는 중간 공간(50)은 EUV 미러(13)와 지지 프레임(19) 사이에 형성되고, 중간 공간(50)은 또한 리세스(22) 내로 연장된다. 중간 공간(50)으로 도입된 유체(51)는 EUV 리소그래피 장치(1)의 동작 중에 EUV 미러(13)의 이동의 감쇠를 허용한다.

도 9에 도시되어 있는 예에서, 유체(51)는 도시되어 있는 예에서 장-발생 디바이스(52)에 의해 발생된 전기장(E)이 인가될 때 그 점탄성 또는 점도(η)가 변화하는, 전기 유변성 유체, 예를 들어, 실리콘 오일 중에 분산된 폴리우레탄 입자이다. 장-발생 디바이스(52)는 이 목적으로 2개의 커패시터 플레이트(53a, 53b)와, 또한 커패시터 플레이트(53a, 53b) 사이에 전압을 발생하기 위한 제어 가능한 전압 소스(54)를 갖는다. 장-발생 디바이스(52)는, 그 장 강도가 커패시터 플레이트(53a, 53b) 사이의 전압에 대한 조정 가능한 값에 의해 변화되는 전기 유변성 유체(51) 내의 실질적으로 균질한 전기장(E)의 발생을 허용하는데, 여기서 전기 유변성 유체(51)의 점도(η)가 또한 변화한다. 점도(η)를 변화하는 것은, 예를 들어 EUV 미러(13)를 신속하게 감속하기 위해 점도(η)가 증가되고, 또는 EUV 미러(13)의 신속한 이동이 수차의 보정을 위해 요구되면 점도(η)가 감소되는 점에서, EUV 미러(13)의 이동의 감쇠가 타겟화된 방식으로 변화되게 한다. 이 목적으로, 장-발생 디바이스(52)는 예를 들어, EUV 리소그래피 장치(1)의 제어 디바이스(도시 생략)에 의해 활성화될 수도 있는데, 이는 도 1b에 도시되어 있는 액추에이터(16)의 도움으로 EUV 미러(9, 10, 13, 14)의 이동을 또한 허용한다.

EUV 미러(13)의 이동의 조정 가능한 감쇠를 생성하기 위해, 전기 유변성 유체(51) 대신에 자기 유변성 유체가 또한 중간 공간(50) 내로 도입될 수도 있다는 것은 말할 필요도 없다. 이 경우, 예를 들어 여기 가능한 코일을 사용하는 장-발생 디바이스가 자기 유변성 유체의 점도(η)를 변화시키기 위해 조정 가능한 장 강도를 갖는 자기장을 발생시키기 위해 사용될 수도 있다. 자기 유변성 유체는 예를 들어 카르보닐 철 분말을 갖는 현탁액일 수도 있다.

전기 유변성 유체(51)(및 대응적으로 자기 유변성 유체)의 점도(η)의 조정은 특히 EUV 미러(13)가 실질적으로 더 이상 이동할 수 없도록, 즉 유체(51)가 EUV 미러(13)의 고정을 담당할 수도 있도록 점도(η)를 선택하기 위해 또한 사용될 수도 있다. 이는 정지부(20)의 정지면(21a, 21b)에 대한 EUV 미러(13)의 가능하게는 다중 타격을 방지하기 위해, EUV 미러(13)의 위치가 지지 프레임(19)에 대해 일정하게 유지되는 운송 잠금 장치를 실현하기 위해 특히 유리하다. 이 방식으로, 전기 유변성 유체는 지지 구조체(19)에 대해 EUV 미러(13)를 고정하기 위한 고정 디바이스로서 장-발생 디바이스(52)와 함께 사용될 수 있다. 도 9에 도시되어 있는 상황과는 달리, 전기 유변성 유체(51)가 정지부(20)가 있는 영역에서 중간 공간(50) 내로 도입되는 것이 절대적으로 필요한 것은 아니다.

도 10은 도시되어 있는 예에서 요변성 유체(55)인 유체가 마찬가지로 지지 프레임(19)과 EUV 미러(13) 사이의 중간 공간(50)으로 도입되는 EUV 미러(13)의 예를 도시하고 있다. 요변성 유체(55)는 부하 경우에 따라, 즉 요변성 유체(55)에 작용하는 전단력에 따라 변화하는 점도(η)를 갖는다. EUV 미러(13)의 큰 가속도가 있을 때, 요변성 유체(55)는 상당히 증가된 점도를 갖고, 반면에 작은 가속도가 있을 때 저점도 유체처럼 거동한다. 요변성 유체(55)는 다수의 상이한 유체 성분, 예를 들어 붕소계 및 실리콘계 모델링 재료로 구성될 수도 있다. 요변성 유체(55) 또는 그 감쇠 스펙트럼은 여기서 특히 운송 중에, 지진 충격의 경우에 또는 EUV 리소그래피 장치(1)의 동작 중에 EUV 미러(13)에 예상되는 여기 또는 진동 스펙트럼에 적응될 수도 있다.

처음 2개의 적용 사례(운송 및 지진 충격)의 경우에, 예상되는 가속도는 통상적으로 EUV 리소그래피 장치(1)의 동작 동안보다 10배만큼 더 크다. 처음의 2개의 적용 사례의 경우에, 요변성 유체(55)는 생성되는 가속력이 지지 프레임(19)에 의해 흡수될 수 있게 하기 위해, EUV 미러(13)와 지지 프레임(19) 사이에 최선의 가능한 힘 맞춤을 유도해야 한다. 동작 중에, 요변성 유체(55)는 EUV 미러(13)의 이동을 가능한 한 적게 억제해야 한다. 요변성 유체(55)에 부가하여 또는 대안으로서, 레오펙틱 유체(rheopectic fluid)가 가능하게는 또한 사용될 수도 있고, 이 경우에 점도(η)는 전단력 증가에 따라 감소하는데, 이는 가능하게는 EUV 리소그래피 장치(1)의 동작 중에 유리할 수도 있다.

EUV 리소그래피 장치(1)의 동작 중에 요변성 유체(55)에 의해 진동이 지지 프레임(19)으로부터 EUV 미러(13)로 전달되는 것을 회피하기 위해, 요변성 유체(55)는 단지 EUV 리소그래피 장치(1)의 운송 직전에, 정확하게는 이송 및 배출 라인(57) 및 또한 펌프(58)를 갖는 이송 및 배출 디바이스(56)에 의해 중간 공간(50) 내로 도입될 수도 있고, 펌프는 저장 용기(59)로부터 중간 공간(50) 내로, 더 정확하게는 리세스(22) 내로 요변성 유체(55)를 펌핑한다. 운송 후에, 요변성 유체(55)는 펌프(58)의 도움으로 중간 공간(50)으로부터 또는 리세스로부터 제거될 수도 있지만, 예를 들어, 실질적으로 기밀 방식으로 주위 진공으로부터 중간 공간(50)을 다른 방식으로 폐쇄하는, 예를 들어 멤브레인의 방식의 포위체가 개방되는 것과 같은, 몇몇 다른 방식으로 중간 공간(50)으로부터 요변성 유체(55)를 제거하는 것도 또한 가능할 수도 있다. 요변성 유체(55)가 단지 매우 낮은 휘발성만을 갖고, 도 10에 도시되어 있는 예에서와 같이, 중간 공간(50)이 상향 방향으로만 개방되어 있고 요변성 유체(55)가 도입되는 리세스(22)를 EUV 미러(13) 내에 가지면, 이러한 기밀 포위체 또는 차폐부를 생략하는 것이 가능할 수도 있다.

도 10에 도시되어 있는 예의 경우에, 요변성 유체(55)가 도입되어 있는 리세스(22)는 가능하게는 멤브레인(도시 생략)에 의해 폐쇄될 수도 있어, 요변성 유체(55)가 어느 경우든 각각의 리세스(22)로부터 새어나오지 않을 수 있게 된다. 지지 프레임(19)으로의 EUV 미러(13)의 신속한 이동을 전달하기 위해, 도 10에 도시되어 있는 예의 경우에 2개의 막대형 구성요소(60)(램)가 제공되고, 이들 구성요소는 요변성 유체(55) 내에 침지된 램(60)으로부터 지지 프레임(19)으로 힘을 전달하기 위해, 각각의 리세스(22) 내의 요변성 유체(55) 내로 이들의 각각의 헤드 영역(61)을 침지하고 있다.

도 10에 도시되어 있는 막대형 구성요소(60)는 단부 정지부로서 역할을 하지 않는데, 즉, 이들은 EUV 미러(13)가 그 이동 중에 막대형 구성요소(60)에 도달하지 않게 EUV 미러로부터 멀리 이격되어 있다. 또한 전술된 예의 경우에서와 같이, 다수의 단부 정지부가 EUV 미러(13)의 이동을 제한하는 역할을 하지만, 단순화를 위해 도 10에는 도시되어 있지 않다.

도 11a 및 도 11b는 도 11b에 도시되어 있는 동작 위치(B)와, 고정 요소(62)가 EUV 미러(13)에 맞접하여 도 11a 및 도 11b에 도시되지 않은 단부 정지부에 대해 또는 가능하게는 다른 구성요소에 대해 이를 가압하여 이에 의해 고정시키는 고정 위치(F)(도 11a 및 도 11b에 도시생략) 사이에서 이동 가능한 고정 요소(62)를 갖는 EUV 미러(13)를 고정하기 위한 고정 디바이스(70)를 도시하고 있다. 도시되어 있는 예에서, 고정 요소(62)는 EUV 미러(13)가 배열되어 있는 투영 시스템의 진공 하우징(4)의 내부 공간(4a)(도 1a 참조) 내의 내부 압력(p₁)을 변화시킴으로써, 동작 위치(B)로부터 고정 위치(F)로, 그리고 그 반대로 이동될 수 있다. 이 목적으로, 고정 디바이스(70)는, (진공) 하우징(4)의 내부 공간(4a)으로부터 밀봉되고 (금속) 멤브레인(64)을 포함하는 벽 영역을 갖는 다른 하우징(65) 내에 형성되는 가스 체적(63)을 갖는다. 멤브레인(64)은 하우징(4) 내의 내부 압력(p₁)과 다른 하우징(65) 내의 가스 체적(63) 내의 압력(p₂) 사이의 차이(p₁-p₂)에 따라 탄성 변형 가능하고, 도시되어 있는 예에서, 멤브레인(64)에 단단히 연결되어 있는 고정 요소(62)를 도 11b에 도시되어 있는 동작 위치(B)로부터 고정 위치(F)(도시 생략)로 좌측으로 이동하기 위해 굴곡한다. 다른 하우징(65)은 도 11a에 지시되어 있는 3개의 체결 나사에 의해 지지 프레임(19)에 견고하게 연결되고, EUV 미러(13)는 다른 하우징(65) 상에 이동 가능하게 장착된다. 또한 전술된 바와 같이, 압력의 변화는 고정 요소(62)가 운송을 위해 그를 고정하기 위해, EUV 미러(13)의 후방측에 맞접하는 고정 위치(F)로 좌측으로 다른 하우징(65)에 관련하여 고정 요소(62)의 상대 이동을 유도한다.

하우징(4)의 내부 압력(p₁)이 멤브레인(64)의 외부측에 인가하는 힘(F₁)이 가스 체적(63) 내의 압력(p₂)에 의해 멤브레인(64)의 내부측에 인가되는 힘(F₂)보다 클 때, 고정 위치(F)로의 도 11a 및 도 11b에 도시되어 있는 고정 요소(62)의 이동이 발생한다. 도시되어 있는 예에서, 약 500 mbar의 영구 정압(p₂)이 다른 하우징(65) 내의 가스 체적(63)에 퍼져 있다. 도시되어 있는 예에서, EUV 리소그래피 장치(1)의 동작 중에 하우징(4)의 내부 공간(4a) 내의 내부 압력(p₁)은 약 10^-1 mbar이고, 따라서 가스 체적(63) 내의 압력(p₂)보다 훨씬 작아, 고정 요소(62)가 EUV 리소그래피 장치(1)의 동작 중에 동작 위치(B)에 있게 된다. EUV 리소그래피 장치(1)가 운송되는 경우, 통상적으로 주위 압력(약 1 bar)과 실질적으로 일치하는 내부 압력(p₁)이 그 내에, 그리고 따라서 또한 하우징(4) 내에 퍼져 있다. 따라서, 도 11a 및 도 11b에 도시되어 있는 고정 디바이스(70)는 고정 위치(F)와 동작 위치(B) 사이에서 완전히 자동으로, 즉 EUV 리소그래피 장치(1)의 변화하는 주위 압력, 및 따라서 EUV 미러(13)가 배열되어 있는 하우징(4) 내의 변화하는 내부 압력(p₁)에 기초하여, 전후로 이동하는 운송 잠금 장치를 제공하는 것이 가능하다.

도 12a 및 도 12b는 지지 프레임(19) 상에 고정하기 위한 고정 디바이스(70)를 갖는 EUV 미러(13)를 도시하고 있다. 고정 디바이스(70)는 지지 프레임(19) 상에 견고하게 체결된 제1 후크형 고정 요소(71)를 갖는다. 고정 디바이스(70)의 제2 후크형 고정 요소(72)는 EUV 미러(13) 상에 견고하게 체결된다. 액추에이터(16)는 EUV 리소그래피 장치(1)의 동작 중에 EUV 미러(13)를 이동시키기 위해 제공된다. 액추에이터(16)는 수차를 보정하기 위해 미리결정된 이동 범위 내에서 EUV 미러(13)를 이동시키는 목적을 담당한다. EUV 미러(13)는, 2개의 후크형 고정 요소(71, 72)가 서로 결합하는, 즉 2개의 고정 요소(71, 72)가 기계적 잠금(자물쇠 및 열쇠 원리)을 형성하는, 도 11b에 도시되어 있는 고정 위치(F)로 액추에이터(16)의 도움으로 이동된다.

도 12a 및 도 12b에 도시되어 있는 예에서, 고정 위치(F)는 EUV 미러(13)가 도 12a에 도시되어 있는 미리결정된 경로 곡선(K)을 따라 이동되는 경우에만 도달될 수 있다. 이 목적으로, 도시되어 있는 예에서 로렌츠 액추에이터로서 설계된 액추에이터(16)에 의해, EUV 미러(13) 상에 단시간 인가될 이러한 큰 힘을 위한 더 높은 전류 또는 전류 펄스를 단시간 인가함으로써, 실제 이동 범위를 떠나고 음의 Z 방향(즉, 상향)으로 가속되는 것이 가능하다. 적합한 시점에서, EUV 미러(13)는, 제2 후크형 고정 요소(72)가 제1 후크형 고정 요소(71)의 위에 부분적으로 배열되고 중력의 효과에 의해 그와 결합하게 될 때까지, Y 방향(즉, 우측)에서 다른 전류 펄스에 의해 가속된다.

EUV 미러(13)는 단지 도 12b에 도시되어 있는 고정 위치(F)로부터 해제될 수 있고, 반대 방향으로 경로 곡선(K)을 통과하면, 좌측으로, 즉 음의 Y 방향으로 가속되기 전에, 중력을 극복하기 위해 액추에이터(16) 상의 전류 펄스에 의해, 상향으로, 즉 음의 Z 방향으로 짧은 거리만큼 변위되고, 이후에 중력의 효과에 의해, 도 12a에 도시되어 있는 동작 위치(B)로 하강된다.

도 13a 및 도 13b는 도 12a 및 도 12b에 도시되어 있는 예의 경우에서와 같이, 지지 프레임(19) 상에 장착된 제1 고정 요소(71), 및 핀의 방식으로 EUV 미러(13) 상에 장착된 제2 고정 요소(72)를 갖는 고정 디바이스(70)를 도시하고 있다. 핀형 제2 고정 요소(72)는, 힘(F)을 인가함으로써 제1 고정 요소(71) 내로 가압되어, 도 13b에 도시된 고정 방향(여기서: 음의 Z 방향)에서 액추에이터(16)의 도움으로 고정 위치(F)로 이동된다. 고정 위치(F)에서, 제2 고정 요소(72)는 제1 고정 요소(71)에 의해 조여진다. 동일한 방향(음의 Z 방향)에서 제2 고정 부재(72)로의 힘(F)이 갱신된 인가된 후에, 제2 고정 요소(72)는 고정 위치(F)로부터 해제되어 도 13a에 도시되어 있는 동작 위치(B)로 이동된다. 제2 고정 요소(72)로의 힘의 갱신된 인가는 마찬가지로 로렌츠 액추에이터(16)의 도움으로 발생한다. 이 목적으로, 볼펜의 또는 SD 카드 슬롯을 위한 잠금부의 기구와 유사한 방식으로, 제1 고정 요소(71)는 쌍안정성 상태를 갖는 잠금 기구를 갖는다. 대응하는 역학이 예를 들어 고정을 위한 톱니 형상과 조합하여 불균일한 이동을 생성하기 위한 캠 디스크 또는 캠 기어 기구에 의해 형성될 수도 있다.

도 14a 및 도 14b는 지지 프레임(19) 상에 EUV 미러(13)를 고정하기 위한 접촉면(81)을 갖는, EUV 미러(13)를 고정하기 위한 고정 디바이스(80)의 다른 예를 도시하고 있다. 도시되어 있는 예에서, 접촉면(81)은 엘라스토머 재료, 예를 들어 매우 낮은 표면 거칠기를 갖는 에틸렌-프로필렌-디엔 고무(EPDM)의 헤드 영역(61)을 갖는 막대형 구성요소(60) 상에 형성된다. 광학 요소(13)는 그 후방측에서, 더 정확하게는 예를 들어 ULE®와 같은 티타늄-도핑된 석영 유리 또는 Zerodur®와 같은 유리 세라믹일 수도 있는 그 미러 기판의 후방측에서, 마찬가지로 낮은 거칠기를 갖는 연마된 표면 영역(82)을 갖는다.

도 14a에 도시되어 있는 동작 위치(B)에서, 접촉면(81)은 EUV 미러(13)로부터 소정 거리 이격하여 유지되고, 도 14b에 도시되어 있는 예에서는 EUV 미러(13), 더 정확하게는 연마된 표면 영역(82)이 접촉면(81)에 맞접한다. EUV 미러(13)가 접촉면(81)에 대해 충분한 힘으로 가압되면, 접촉면(81)과 EUV 미러(13) 사이의 접착은, 가압력이 더 이상 인가되지 않은 후에도 유지되는데, 즉, EUV 미러(13)는 접착에 의해 접촉면(81) 상에 고정된다. 접촉면(81)에 대한 EUV 미러(13)의 가압은, EUV 미러(13)를 음의 Z 방향으로 이동시키고 접촉면(81)에 대해 가압하는 액추에이터(16)의 도움으로 발생할 수도 있다. 가압은 가능하게는 EUV 리소그래피 장치(1)가 운송을 위해 반전될 때 또한 발생할 수도 있는데, 이 경우에 중력 보상은 EUV 미러(13)가 대략 2배의 중력 가속도(2g)로 접촉면(81)에 대해 가압되는 효과를 갖는다.

헤드 영역(61)을 갖는 막대형 구성요소(60)는 정지면(21a, 21b)이 그 위에 형성되어 있는 엘라스토머 재료가 적합하게 선택되는 경우에, 또한 전술된 단부 정지부(20) 중 하나일 수도 있다. 그러나, 막대형 구성요소(60)는 반드시 EUV 미러(13)의 이동의 범위를 제한하는 단부 정지부일 필요는 없고; 오히려, 접촉면(81)을 갖는 막대형 구성요소(60)는 단부 정지부(20)로부터 공간적으로 분리된 운송 잠금 장치일 수도 있다.

또한 전술된 대부분의 예는 EUV 미러(13)의 형태의 이동 가능한 구성요소에 기초하여 설명되었지만, 이동 가능한 구성요소는 또한 거의 모든 임의의 다른 원하는 구성요소, 예를 들어 센서 프레임, 광학 또는 비광학 요소용 장착부 등일 수도 있다는 것은 말할 필요도 없다. 또한, 상기 예들에서 고정되는 것으로 가정된 구성요소는 반드시 지지 프레임(19)일 필요는 없고; 오히려, 이는 가능하게는 기부에 관련하여 또는 고정된 기준 시스템과 관련하여 이동 가능한 다른 구성요소일 수도 있다. 마찬가지로, 또한 전술된 예는 단지 EUV 리소그래피 장치(1)와 함께 예로서 설명되었고 또한 다른 광학 장치의 경우에도 사용될 수 있다는 것은 말할 필요도 없다.

Claims (29)

1. 광학 장치이며,
   제1 구성요소(19),
   상기 제1 구성요소(19)에 대해 이동 가능한 제2 구성요소(13), 및
   상기 제1 구성요소(19)에 대한 상기 제2 구성요소(13)의 이동을 제한하기 위한 적어도 하나의 정지면(21a, 21b)을 갖는 적어도 하나의 정지부(20)를 포함하는 광학 장치에 있어서,
   상기 광학 장치는 적어도 상기 정지부(20)의 정지면(21a, 21b)에 대해 이동 가능한 고정 요소(24)를 포함하는, 상기 제2 구성요소(13)를 고정하기 위한 고정 디바이스(23)를 갖고,
   상기 고정 디바이스(23)는 상기 정지부(20)로부터 공간적으로 분리되어 있으며,
   상기 고정 요소(24)는, 상기 고정 요소(24)가 상기 제2 구성요소(13)에 맞접하고 적어도 하나의 상기 정지부(20)의 적어도 하나의 정지면(21a, 21b)에 대해 상기 제2 구성요소(13)를 가압하는 고정 위치(F)와, 상기 고정 요소(24)가 상기 제2 구성요소(13)로부터 이격되는 동작 위치(B)에 사이에서 이동 가능한 것을 특징으로 하는 광학 장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 고정 위치(F)와 상기 동작 위치(B) 사이에서 상기 고정 요소(24)를 이동시키기 위한 적어도 하나의 액추에이터(27)를 더 포함하는, 광학 장치.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 정지부(20)는, 상기 적어도 하나의 정지면(21a, 21b)이 형성되어 있는 헤드 영역(20b)을 갖는 막대형 부분(20a)을 갖고, 상기 고정 요소(24)는 상기 막대형 부분(20a)의 종방향(Z)으로 변위 가능하게 안내되는, 광학 장치.
4. 제3항에 있어서, 상기 고정 요소(24)는 링형 방식으로 상기 정지부(20)의 막대형 부분(20a)을 둘러싸는, 광학 장치.
5. 제3항에 있어서, 상기 제2 구성요소(13)는 상기 정지부(20)가 상기 헤드 영역(20b)과 결합하는 리세스(22)를 갖는, 광학 장치.
6. 제5항에 있어서, 상기 고정 요소(24)는 상기 리세스(22)의 측면(22a)에 대해 상기 정지부(20)의 헤드 영역(20b)을 확산 개방하기 위해 설계되는, 광학 장치.
7. 제6항에 있어서, 상기 정지부(20)의 헤드 영역(20b)은 서로에 대해 이동 가능한 적어도 2개의 헤드부(31a, 31b)를 가지며, 상기 2개의 헤드부 사이에는 상기 고정 요소(24)가 고정 위치(F)에서 결합되어 있는, 광학 장치.
8. 제1항에 있어서, 고정 위치(F)와 동작 위치(B) 사이에서 상기 정지부(20)를 이동하기 위한 드라이브(36)를 갖는 액추에이터(34)를 더 포함하고, 상기 액추에이터(34)는 상기 드라이브(36)가 스위칭 오프될 때 상기 정지부(20)를 고정 위치(F)에 유지하도록 설계되고, 상기 광학 장치는 EUV 리소그래피 시스템인, 광학 장치.
9. 제8항에 있어서, 상기 정지부(20)는 상기 동작 위치(B)에서 상기 제1 구성요소(19)에 맞접하는 접촉면(48)을 갖고, 상기 접촉면(48)은 상기 정지면(21)에 대향하는 정지부(20)의 측면 상에 형성되는, 광학 장치.
10. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 액추에이터(34)는 상기 정지부(20)로의 상기 드라이브(36)의 힘 전달을 위한 레버 기구(37)를 갖는, 광학 장치.
11. 제10항에 있어서, 상기 레버 기구는 공통 조인트(39)에 의해 연결된 2개의 레그(38a, 38b)를 갖는 토글 레버(37)를 형성하고, 상기 정지부(20)는 다른 조인트(42)에 의해 2개의 레그(38a, 38b) 중 하나에 연결되는, 광학 장치.
12. 제11항에 있어서, 상기 정지부(20)의 고정 위치(F)에서, 상기 토글 레버(37)는 연장 위치, 합동 위치 또는 과잉 연장 위치에 있는, 광학 장치.
13. 제8항 또는 제9항에 있어서, 상기 정지부(20)는 상기 고정 위치(F)와 상기 동작 위치(B) 사이의 이동 중에 비틀림 없이 안내되는, 광학 장치.
14. 제8항 또는 제9항에 있어서, 적어도 상기 액추에이터(34)의 드라이브(36)를 주변에 대해 캡슐화하는 차폐부(41)를 더 포함하는, 광학 장치.
15. 삭제
16. 삭제
17. 삭제
18. 삭제
19. 삭제
20. 삭제
21. 삭제
22. 삭제
23. 삭제
24. 삭제
25. 삭제
26. 삭제
27. 삭제
28. 삭제
29. 삭제

Images