TW201814379A - 液晶裝置及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

液晶裝置10包括：一對基板，包括經對向配置的第1基板11及第2基板12；以及液晶層14，配置於第1基板11及第2基板12之間。於液晶裝置10的第1基板11及第2基板12中，於第1基板11的液晶層14側的表面上形成有液晶配向膜13，於第2基板12的液晶層14側的表面上未形成液晶配向膜。

Description

液晶裝置及其製造方法
本揭示是有關於一種液晶裝置及其製造方法。
作為液晶裝置，除以扭轉向列（Twisted Nematic，TN）型、超扭轉向列（Super Twisted Nematic，STN）型等為代表的、使用具有正的介電各向異性的向列液晶的水平配向模式以外，亦已知有使用具有負的介電各向異性的向列液晶的垂直（homeotropic）配向模式的垂直配向（Vertical Alignment，VA）型液晶裝置等各種液晶裝置。該些液晶裝置通常具備液晶配向膜，所述液晶配向膜具有使液晶分子於一定的方向上配向的功能。作為構成該液晶配向膜的材料，已知有聚醯胺酸、聚醯亞胺、聚醯胺酸酯、聚醯胺、聚酯、聚有機矽氧烷等，尤其是包含聚醯胺酸或聚醯亞胺的液晶配向膜因耐熱性、機械強度、與液晶分子的親和性優異等，自先前以來便被較佳地使用。
另外，作為配向處理方式之一，已知有聚合物穩定配向（Polymer Sustained Alignment，PSA）方式（例如，參照專利文獻1）。PSA方式為如下技術：在設置於一對基板的空隙中的液晶層中預先混入光聚合性單體，於對基板間施加電壓的狀態下照射紫外線而使光聚合性單體聚合，藉此顯現出預傾角特性，以對液晶的初始配向進行控制。藉由該技術，可實現視場角的擴大及液晶分子響應的高速化，從而可消除多域垂直配向（Multi-domain Vertical Alignment，MVA）型面板中不可避免的、透射率及對比度不足的問題。另外，近年來，亦藉由在液晶配向膜中添加聚合性化合物，並於對基板間施加電壓的狀態下對液晶單元照射紫外線而對液晶的初始配向進行控制（例如，參照非專利文獻1）。
於PSA方式的液晶裝置中，近年來提出了不在一對基板中的各基板的表面設置液晶配向膜（例如，參照專利文獻2）。於專利文獻2中揭示了：於未設置液晶配向膜的PSA方式的液晶裝置中，使兩種以上的聚合性單體混入液晶組成物中，並且將其中的至少一種設為具有藉由光照射所引起的脫氫反應而生成羰自由基（ketyl radical）的結構的單體。藉此，可獲得難以發生顯示不良、電壓保持率的降低的液晶顯示裝置。
另外，近年來，伴隨液晶面板的用途擴大，正在推進如顯示面為彎曲的曲面顯示器般的複雜形狀的液晶面板的開發。曲面顯示器一般是藉由如下方式來製造：將一對基板以成為液晶層配置於基板間的狀態的方式貼合而製作液晶單元，其後使液晶單元彎曲。然而，若為了製造曲面顯示器而使液晶單元彎曲，則有時會因在基板的左右方向施加的外部應力而產生在一對基板中的其中一個基板與另一基板之間出現預傾角的偏差的區域。該情況下，有導致畫質降低的擔憂。
考慮到該方面，提出了使用使其中一個基板的液晶配向膜與另一基板的液晶配向膜中的預傾角不同並將該些基板貼合而構築的液晶單元來製造曲面顯示器，藉此抑制使液晶單元彎曲時基板間的預傾角的偏差（例如，參照專利文獻3）。於該專利文獻3中，作為使預傾角於基板間不同的方法而揭示了如下方法：於形成於一對基板的各自的基板面上的液晶配向膜中，僅對其中一個基板的液晶配向膜照射紫外線照射的方法；及使膜形成時的烘烤溫度於基板間不同的方法。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2003-149647號公報 [專利文獻2]日本專利特開2015-99170號公報 [專利文獻3]日本專利特開2005-26074號公報
[非專利文獻1]Y.-J.李等人（Y.-J.Lee et.al.）國際資訊顯示學會 09 文摘（Society for Information Display（SID） 09 DIGEST ）p.666（2009）
[發明所欲解決之課題] 於使預傾角在基板間不同而製造液晶裝置的情況下，若其中一個基板與另一基板之間的預傾角的差（傾斜差）小，則有無法充分確保畫質的擔憂。另外，為顯示出良好的顯示特性，需要保證穩定的液晶配向性。
本揭示是鑒於所述課題而成者，其目的之一在於提供一種可於一對基板中的其中一個基板與另一基板之間產生充分的預傾角的差異、且液晶配向性良好的液晶裝置。 [解決課題之手段]
本揭示為解決所述課題而採用了以下手段。
第1構成為一種液晶裝置，包括：一對基板，包括經對向配置的第1基板及第2基板；以及液晶層，配置於所述第1基板及所述第2基板之間，且所述第1基板及所述第2基板中，於所述第1基板形成有液晶配向膜，於所述第2基板未形成液晶配向膜。
根據所述構成，藉由於一對基板中的僅單側的基板形成液晶配向膜，可於一對基板間非對稱地形成預傾角。藉此，可充分增大基板間的傾斜差。因此，即便於例如因使基板彎曲等而在基板的左右方向上作用了外部應力的情況下，亦可抑制起因於上下基板的位置偏差的配向偏差的產生，從而可抑制顯示品質的降低。另外，可以形成於其中一個基板的液晶配向膜為核心來進行液晶分子的初始配向的控制，因此可獲得充分增大了基板間的傾斜差、同時顯示出良好的液晶配向性的液晶裝置。
第2構成如第1構成所述，其中形成於所述第1基板的所述液晶層側的表面上的液晶配向膜為包含如下聚合體組成物的配向膜：所述聚合體組成物含有具有一個或多個聚合性基的化合物。根據此種構成，就進一步增大基板間的傾斜差的方面而言較佳。
第3構成如第1構成或第2構成所述，其中於所述第2基板的所述液晶層側形成有包含水溶性化合物[B]的層，所述水溶性化合物[B]具有碳數3以上的直鏈烷基結構及脂環式結構中的至少一者。藉由於未設置液晶配向膜的基板的液晶層側配置由水溶性化合物[B]形成的層，可進一步增大一對基板間的傾斜差，另外，就顯示出良好的液晶配向性及電壓保持率的方面而言較佳。
第4構成如第3構成所述，其中所述水溶性化合物[B]包括具有選自由乙烯基、環氧基、胺基、(甲基)丙烯醯基、巰基及異氰酸酯基所組成的群組中的至少一種官能基的化合物。藉由具有該些官能基的至少任一種，可使液晶配向性及電壓保持率更良好，從而較佳。
第5構成如第1構成～第4構成所述，其中於所述第2基板形成有沿朝向所述第1基板的方向延伸的間隔物。液晶裝置中，通常藉由於一對基板中的其中一個基板表面形成間隔物並使該間隔物的前端部與另一基板的最表面接觸來確保單元間隙。此時，藉由如本構成般於未形成液晶配向膜之側形成間隔物，可顯示出更穩定的液晶配向性。
第6構成如第5構成所述，其中於所述第1基板設置有抑制部，所述抑制部抑制由所述間隔物的前端部移動而造成的所述液晶層的配向混亂。根據該構成，即便於應力作用於上下基板而沿寬度方向在基板間產生偏移的狀況下，亦可抑制於基板與液晶層的邊界部分產生液晶的配向混亂。藉此，可抑制配向不良的產生，進而可使顯示品質良好。
尤其可較佳地應用於如下的PSA方式的液晶裝置：所述PSA方式的液晶裝置是於藉由含有光聚合性單體的液晶組成物形成液晶層並構築液晶單元後，使液晶成為初始配向狀態而對液晶單元進行光照射而成。即，PSA方式的液晶裝置於液晶層與基板的邊界部分具有由光聚合性單體形成的對液晶賦予初始配向的層（以下亦稱為「PSA層」）。此處，PSA層為於構築液晶單元後藉由光聚合而形成的層，與使用使聚醯胺酸或聚醯亞胺等聚合體分散或溶解於溶劑中而成的聚合體組成物來形成的液晶配向膜相比，在物理上較為脆弱。因此，於應力作用於上下基板的情況下，有因形成於對向基板表面的間隔物的前端部在左右方向上偏移而PSA層局部地剝離並導致配向不良的擔憂。鑒於該方面，藉由應用於PSA方式的液晶裝置，可抑制因間隔物的前端部移動而PSA層剝離的情況。藉此，可抑制配向不良的產生。
關於第6構成，具體而言可如第7構成般，所述間隔物形成為較所述間隔物的配置區域中的所述第1基板與所述第2基板的間隔更短、或者更長，所述抑制部設置於所述第1基板中與所述間隔物對向的位置，且與所述間隔物的前端部接觸。
第8構成如第1構成～第7構成所述，其中所述液晶層具有負的介電各向異性。藉由將液晶層設為具有負的介電各向異性者，可獲得基板間的傾斜差充分大的垂直配向型的液晶裝置。
第9構成如第1構成～第8構成所述，其中所述液晶層是使用含有光聚合性單體的液晶組成物而形成，且在與所述一對基板的各基板的邊界部具有所述光聚合性單體聚合而成的聚合物層。藉由應用於PSA方式，可獲得基板間的傾斜差充分大、且液晶配向性的改善效果高的液晶裝置。
第10構成如第1構成～第10構成所述，其具有所述第1基板及所述第2基板彎曲形成的曲面面板結構。如上所述，曲面顯示器一般藉由使平面狀的面板彎曲而製造，因此，容易因製造時的上下基板的位置偏差所造成的配向偏差而產生透射率的降低或不均、顯示粗糙等。因此，藉由於曲面顯示器中應用本發明，可抑制由上下基板的位置偏差而造成的配向偏差，從而可實現製品良率的提高或顯示特性的改善。
第11構成於所述第2基板形成有彩色化層，所述彩色化層含有選自由量子點、螢光體及染料所組成的群組中的至少一種。因無需對第2基板進行用以形成配向膜的加熱，故即便於第2基板設置含有選自由量子點、螢光體及染料所組成的群組中的至少一種的彩色化層，亦可抑制由熱引起的褪色。
第12構成為一種液晶裝置的製造方法，所述液晶裝置包括：一對基板，包括經對向配置的第1基板及第2基板；以及液晶層，配置於所述第1基板及所述第2基板之間，所述液晶裝置的製造方法包括以下步驟：於所述第1基板及所述第2基板中的僅所述第1基板中，於基板表面上使用聚合體組成物形成液晶配向膜；以所述第1基板的膜形成面與所述第2基板的基板面對向的方式，介隔包含光聚合性單體的液晶組成物的層配置所述第1基板及所述第2基板，以構築液晶單元；以及對所述液晶單元進行光照射。
根據所述構成，藉由於一對基板中的僅單側的基板形成液晶配向膜，可以液晶配向膜為核心來進行液晶分子的初始配向的控制。藉此，於所謂PSA方式的液晶裝置中，可顯示出穩定的配向性。另外，因於一對基板間充分產生預傾角的差異，故可避免上下基板中由左右方向的位置偏差造成的配向偏差，藉此可改善顯示特性。
第13構成如第12構成所述，其中所述聚合體組成物含有具有一個或多個聚合性基的化合物。另外，第14構成更包括以下步驟：於所述第2基板的表面上配置由水溶性化合物[B]形成的層。 第15構成如第12構成～第14構成的任一構成所述，其更包括以下步驟：於所述第1基板及所述第2基板中的其中一個基板上，使用噴墨塗佈裝置滴注所述液晶組成物。第16構成更包括以下步驟：於所述第1基板及所述第2基板中的其中一個基板上，使用液晶滴注裝置，以液滴的滴注點間距離成為1 mm以下的方式滴注所述液晶組成物。
（第1實施方式） 以下，一邊參照圖式一邊對液晶裝置及其製造方法的第1實施方式進行說明。再者，於以下的各實施方式中，對於彼此相同或均等的部分，於圖中附注彼此相同的符號，且關於符號相同的部分彼此引用各自的說明。
（液晶裝置10的構成） 本實施方式的液晶裝置10為聚合物穩定配向（Polymer Sustained Alignment）模式型，且為具有基板彎曲形成的曲面面板結構的曲面顯示器。於液晶裝置10所具有的顯示部中，多個畫素被配置成矩陣狀。如圖1所示，液晶裝置10具備：一對基板，包括第1基板11及第2基板12；以及液晶層14，配置於所述一對基板間。
第1基板11為薄膜電晶體（TFT）基板，於玻璃基板上設置有：掃描訊號線或圖像訊號線等各種配線、作為開關元件的薄膜電晶體（TFT：Thin Film Transistor）、包含氧化銦錫（Indium Tin Oxide，ITO）等透明導電體的畫素電極、及平坦化膜（保護層（passivation layer））。另外，第2基板12為對向基板，於玻璃基板上設置有：作為彩色化層的彩色濾光片、作為遮光層的黑色矩陣、包含ITO等透明導電體的共用電極、及外塗層。彩色濾光片是使用顏料、量子點、螢光體、染料等著色劑而形成。基板的厚度任意，例如為0.001 mm～1.5 mm。再者，亦可代替玻璃基板而使用例如透明塑膠基板等。
於第1基板11的電極形成面中形成有用以限制液晶的配向的液晶配向膜13。液晶配向膜13是使用配向膜形成用的聚合體組成物（以下亦稱為「液晶配向劑」）而形成。液晶配向膜13的膜厚例如為0.001 μm～1 μm左右。另一方面，於第2基板12的表面上未形成液晶配向膜。
第1基板11及第2基板12以第1基板11的液晶配向膜13的形成面與第2基板12的電極形成面對向的方式，隔開既定的空隙（單元間隙）而配置。單元間隙例如為1 μm～5 μm。經對向配置的一對基板的周緣部經由密封材16而貼合。作為密封材16的材料，可使用作為液晶裝置用的密封材而公知的材料（例如，熱硬化性樹脂或光硬化性樹脂）。於由第1基板11、第2基板12及密封材16圍成的空間中填充有液晶組成物，藉此，以與液晶配向膜13接觸的狀態配置有液晶層14。本實施方式中，使用含有光聚合性單體的液晶組成物來形成液晶層14。
液晶層14具有負的介電各向異性。再者，亦可設為液晶層14具有正的介電各向異性的構成。液晶層14在與第1基板11及第2基板12的各個基板的邊界部分具有PSA層21，所述PSA層21為液晶組成物中的光聚合性單體聚合而成的聚合物層。PSA層21藉由使預先混入至液晶層14中的光聚合性單體，在液晶單元的構築後使液晶分子預傾配向的狀態下進行光聚合而形成。液晶裝置10中，藉由PSA層21來控制液晶層14中的液晶分子的初始配向。
於第2基板12的電極形成面中形成有多個朝向第1基板11延伸的間隔物15。間隔物15為柱狀的光阻間隔物（photo spacer），且在沿著基板面的方向上隔開既定間隔地排列配置。再者，作為柱狀，有圓柱狀、稜柱狀、錐狀等，於圖1中示出錐狀的例子。間隔物15的前端部與第1基板11接觸，藉此將第1基板11與第2基板12的空隙（單元間隙）保持為一定。
於曲面顯示器的情況下，作為間隔物15，較佳為使用藉由炭黑等遮光劑而賦予了遮光性的所謂的黑柱間隔物（black column spacer）。如曲面顯示器般的複雜形狀的液晶面板中，於彎曲的端部容易發生起因於基板的位置偏差的漏光，但藉由黑柱間隔物，可充分抑制此種漏光，從而較佳。再者，本實施方式中將間隔物15設為柱狀的光阻間隔物，但並不限定於此，例如亦可設為珠粒間隔物（beads spacer）。
於液晶裝置10中，於第1基板11及第2基板12各自的外側配置有偏光板17。於第1基板11的外緣部中設置有端子區域18，藉由將用以驅動液晶的驅動器積體電路（Integrated Circuit，IC）19等連接於端子區域18以驅動液晶裝置10。
（液晶裝置10的製造方法） 接著，使用圖2（a）～圖2（e）對本實施方式的液晶裝置10的製造方法進行說明。本製造方法包括以下的步驟A～步驟C。 步驟A：於第1基板11及第2基板12中的僅其中一個基板（本實施方式中為第1基板11）中，於基板表面上使用液晶配向劑形成液晶配向膜13的步驟。 步驟B：以形成有液晶配向膜13的第1基板11的膜形成面與第2基板12的電極形成面對向的方式，介隔包含光聚合性單體的液晶組成物所形成的層配置第1基板11及第2基板12，以構築液晶單元20的步驟。 步驟C：對液晶單元20進行光照射的步驟。
當製造液晶裝置10時，首先，藉由步驟A於第1基板11上形成液晶配向膜13（參照圖2（a））。具體而言，首先於第1基板11的電極形成面上，例如藉由平版印刷法、噴墨印刷法等而塗佈液晶配向劑來形成塗膜。繼而，為了防止所塗佈的液晶配向劑的滴液等，較佳為實施預加熱（預烘烤（prebake）），並且為了將塗膜中的溶劑完全去除而實施煅燒（後烘烤（post bake））。此時的預烘烤溫度較佳為30℃～200℃，預烘烤時間較佳為0.25分鐘～10分鐘。另外，後烘烤溫度較佳為80℃～300℃，後烘烤時間較佳為5分鐘～200分鐘。
作為液晶配向劑，例如使用使聚醯胺酸或聚醯亞胺、聚醯胺酸酯、聚醯胺、聚有機矽氧烷、聚(甲基)丙烯酸酯等的一種或兩種以上的聚合體成分分散或溶解於有機溶媒中而成的聚合體組成物。作為液晶配向劑，可使用可適用於PSA模式的公知的配向劑，例如可列舉如下的液晶配向劑等：所述液晶配向劑包含可使液晶相對於基板面垂直地配向的聚合體。作為此種聚合體，較佳為具有使液晶垂直配向的側鏈的聚合體，可列舉具有該側鏈的聚醯胺酸或其醯亞胺化聚合體等。
使液晶垂直配向的側鏈只要為可使液晶相對於基板垂直地配向的結構則並無特別限定，例如可列舉：碳數3～30的直鏈烷基、於該直鏈烷基之中具有環結構的基及類固醇基、以及將該些基的氫原子的一部分或全部取代為氟原子而成的基等。使液晶垂直配向的側鏈可直接鍵結於聚醯胺酸或聚醯亞胺等聚合體的主鏈，另外，亦可經由適當的鍵結基而鍵結。 作為此種聚合體的具體例，例如可列舉日本專利特開2015-232109號公報、日本專利特開2014-112192號公報、日本專利第3757514號公報、日本專利第5109371號公報、日本專利特開2010-97188號公報中所記載的聚醯胺酸、聚醯亞胺、聚有機矽氧烷等。再者，液晶配向劑中的聚合體成分可為一種，亦可為兩種以上。
形成液晶配向膜13時使用的液晶配向劑較佳為包含具有一個或多個聚合性基的化合物（以下亦稱為「聚合性化合物（A）」）。藉由液晶配向劑中含有聚合性化合物（A），可進一步增大基板間的傾斜差，且液晶配向劑更加穩定，就所述兩方面而言較佳。
聚合性化合物（A）具有的聚合性基較佳為可藉由光或熱而聚合的基，例如可列舉(甲基)丙烯醯基、乙烯基、烯丙基、苯乙烯基、順丁烯二醯亞胺基、乙烯氧基、乙炔基等。聚合性化合物（A）較佳為多官能，就聚合性高的方面而言，其中較佳為具有合計兩個以上的丙烯醯基及甲基丙烯醯基的至少任一者的化合物。
聚合性化合物（A）可為聚合體成分，亦可為添加劑。作為聚合性化合物（A）為聚合體成分的情況的具體例，例如可列舉日本專利特開2015-232109號公報、日本專利特開2014-112192號公報中所記載的聚醯胺酸、聚醯亞胺等。於聚合性化合物（A）為聚合體成分的情況下，相對於液晶配向劑中的聚合體成分的總量，其調配比例較佳為設為50質量%以上，更佳為設為60質量%以上。
於聚合性化合物（A）為添加劑的情況下，就使液晶分子的響應速度或顯示特性、長期可靠性提高的方面而言，較佳為於分子中具有下述式（B-I）所表示的結構。 -X11 -Y11 -X12 - …（B-I） （式（B-I）中，X11 及X12 分別獨立地為1,4-伸苯基或1,4-伸環己基，Y11 為單鍵、碳數1～4的二價烴基、-COO-Cn H2n -OCO-（n為1～10的整數）、氧原子、硫原子或-COO-；其中，X11 及X12 可經一個或多個碳數1～30的烷基、碳數1～30的氟烷基、碳數1～30的烷氧基、碳數1～30的氟烷氧基、氟原子或氰基取代）
就液晶分子的響應速度及液晶配向性的觀點而言，光聚合性單體較佳為在側鏈具有長鏈烷基結構。作為長鏈烷基結構，較佳為碳數3～30的烷基、碳數3～30的氟烷基、碳數3～30的烷氧基及碳數3～30的氟烷氧基的任一者。其中，較佳為碳數5以上者，更佳為碳數10以上者。於光聚合性單體中，長鏈烷基結構較佳為導入至所述式（B-I）的X11 及X12 的至少任一者中。
作為聚合性化合物（A）為添加劑的情況下的具體例，例如可列舉：具有聯苯基結構的二(甲基)丙烯酸酯、具有苯基-環己基結構的二(甲基)丙烯酸酯、具有2,2-二苯基丙烷結構的二(甲基)丙烯酸酯、具有二苯基甲烷結構的二(甲基)丙烯酸酯、具有二苯基硫醚結構的二-硫代(甲基)丙烯酸酯等。 作為該些的具體例，具有聯苯基結構的二(甲基)丙烯酸酯例如可列舉：4'-(甲基)丙烯醯氧基-聯苯-4-基-(甲基)丙烯酸酯、4'-(甲基)丙烯醯氧基-3'-辛基聯苯-4-基-(甲基)丙烯酸酯、4'-(甲基)丙烯醯氧基-3'-十六基聯苯-4-基-(甲基)丙烯酸酯、2-[4'-(2-(甲基)丙烯醯氧基-乙氧基)-聯苯-4-基氧基]-(甲基)丙烯酸乙酯、[1,1'-聯苯]-4,4'-二基雙(2-(甲基)丙烯酸酯、4-((2-(甲基)丙烯醯基氧基)乙氧基)羰基)苯基4'-((甲基)丙烯醯基氧基)-[1,1'-聯苯]-4-羧酸酯、4-((甲基)丙烯醯基氧基)苯基4'-((4-((甲基)丙烯醯基氧基)苯甲醯基)氧基)-[1,1'-聯苯]-4-羧酸酯、雙羥基乙氧基聯苯二(甲基)丙烯酸酯、2-(2-{4'-[2-(2-(甲基)丙烯醯氧基-乙氧基)-乙氧基]-聯苯-4-基氧基}-乙氧基)-(甲基)丙烯酸乙酯、聯苯的環氧乙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、聯苯的環氧丙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、2-(4'-(甲基)丙烯醯氧基-聯苯-4-基氧基)-(甲基)丙烯酸乙酯等； 具有苯基-環己基結構的二(甲基)丙烯酸酯例如可列舉：4-(4-(甲基)丙烯醯氧基-苯基)-(甲基)丙烯酸環己酯、2-(4-(4-((甲基)丙烯醯基氧基)環己基)苯氧基)(甲基)丙烯酸乙酯、2-{4-[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基-乙氧基)-苯基]-環己氧基}-(甲基)丙烯酸乙酯、2-[2-(4-{4-[2-(2-(甲基)丙烯醯氧基-乙氧基)-乙氧基]-苯基}-環己氧基)-乙氧基]-(甲基)丙烯酸乙酯等；
具有2,2-二苯基丙烷結構的二(甲基)丙烯酸酯例如可列舉：4-[1-(4-(甲基)丙烯醯氧基-苯基)-1-甲基-乙基]-(甲基)丙烯酸苯酯、2-(4-{1-[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基-乙氧基)-苯基]-1-甲基-乙基}-苯氧基)-(甲基)丙烯酸乙酯、雙羥基乙氧基-雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、2-{2-[4-(1-{4-[2-(2-(甲基)丙烯醯氧基-乙氧基)-乙氧基]-苯基}-1-甲基-乙基)-苯氧基]-乙氧基}-乙基(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的環氧乙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的環氧丙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、2-(4-{1-[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基-丙氧基)-苯基]-1-甲基-乙基}-苯氧基)-1-甲基-乙基(甲基)丙烯酸酯等；
具有二苯基甲烷結構的二(甲基)丙烯酸酯例如可列舉：4-(4-(甲基)丙烯醯氧基-苄基)-(甲基)丙烯酸苯酯、2-{4-[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基-乙氧基)-苄基]-苯基}-(甲基)丙烯酸乙酯、雙酚F的環氧乙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、雙酚F的環氧丙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、2-[2-(4-{4-[2-(2-(甲基)丙烯醯氧基-乙氧基)-乙氧基]-苄基}-苯氧基)-乙氧基]-(甲基)丙烯酸乙酯、2-{4-[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基-丙氧基)-苄基-苯氧基}-1-甲基-(甲基)丙烯酸乙酯、2-[2-(4-{4-[2-(2-(甲基)丙烯醯氧基-丙氧基)-丙氧基]-苄基}-苯氧基)-1-甲基-乙氧基]-1-甲基-乙基(甲基)丙烯酸乙酯等； 具有二苯基硫醚結構的二-硫代(甲基)丙烯酸酯例如可列舉：4-(4-硫代(甲基)丙烯醯基硫烷基-苯基硫烷基)-苯基二硫代(甲基)丙烯酸酯、雙(4-甲基丙烯醯基硫代苯基)硫醚等； 其他化合物例如可列舉：戊烷-1,5-二基雙(4-((甲基)丙烯醯基氧基))苯甲酸酯、2,5-雙{4-(3-丙烯醯氧基-丙氧基)-苯甲酸}甲苯等。
於將聚合性化合物（A）設為添加劑的情況下，相對於液晶配向劑中所含的聚合體成分的合計100質量份，聚合性化合物（A）的含有比例較佳為設為1質量份～100質量份，更佳為設為5質量份～50質量份。再者，聚合性化合物（A）可單獨使用一種，亦可組合使用兩種以上。
於第2基板12中，於電極形成面上形成間隔物15（參照圖2（b））。作為間隔物15的形成方法，例如可列舉光微影法、分配器法、網版印刷法等。其中，較佳為設為藉由光微影法的形成方法。間隔物15的高度或寬度、數量可根據基板的大小或單元間隙等而適宜選擇。再者，關於第2基板12，不形成液晶配向膜而進入下一步驟B。關於第1基板11及第2基板12，亦可於液晶配向膜的形成前、或對未形成液晶配向膜的基板表面藉由超純水等清洗液進行清洗。
關於藉由光微影法的間隔物15的形成方法，可使用已知的方法，因此此處省略詳細的說明，通常是藉由包括膜形成步驟、放射線照射步驟及顯影步驟的方法來進行。首先，於膜形成步驟中，將間隔物用感放射線性樹脂組成物塗佈於基板上而形成塗膜。於感放射線性樹脂組成物包含溶媒的情況下，較佳為藉由對塗佈面進行預烘烤而將溶媒去除。作為間隔物用感放射線性樹脂組成物，可使用公知的材料，例如如日本專利特開2015-069181號公報中所記載般，可藉由適宜選擇並混合黏合劑聚合物、光聚合起始劑、遮光劑等來製備。關於間隔物用感放射線性樹脂組成物中所調配的各成分的種類及調配比例，例如可應用日本專利特開2015-069181號公報的記載。
於形成間隔物時的放射線照射步驟中，對塗膜的至少一部分照射放射線而進行曝光。當進行曝光時，介隔具有與間隔物15的形狀對應的既定圖案的光罩來進行。接著，對經放射線照射的塗膜進行顯影（顯影步驟）。藉此將不需要的部分（若為正型，則為放射線照射的部分）去除，從而在沿著基板面的方向上以既定間隔形成多個間隔物15。作為顯影液，較佳為鹼性的水溶液。於顯影後，亦可包括對塗膜進行加熱的加熱步驟。藉由加熱，可將顯影液充分去除，並且可促進視需要的黏合劑聚合物的硬化反應。
於接下來的步驟B中，將第1基板11及第2基板12以形成有液晶配向膜13的第1基板11的膜形成面與第2基板12的間隔物形成面對向的方式配置（參照圖2（b）），並形成為間隔物15的前端部與第1基板11接觸的狀態。藉此構築具有液晶層14的液晶單元20（參照圖2（c））。
液晶層14藉由將液晶組成物滴注或塗佈於塗佈有密封材16的其中一個基板上然後貼合另一基板來形成。此時，就可較佳地抑制液晶配向劑的塗佈不均（液晶滴注（ODF）不均）的方面而言，較佳為藉由以下方法進行：使用液晶滴注裝置（ODF（One Drop Filling）裝置），以液滴的滴注點間距離成為3 mm以下的方式滴注液晶組成物的方法；或使用噴墨塗佈裝置滴注液晶組成物的方法。於前者的情況下，液滴的滴注點間距離更佳為設為1 mm以下，進而佳為設為0.8 mm以下，特佳為設為0.5 mm以下。其中，形成液晶層14的方法並不限定於以上所述，例如亦可採用以下方法：將隔著單元間隙而對向配置的一對基板的周緣部經由密封材16而貼合，於由基板表面及密封材16包圍的單元間隙內注入、填充液晶組成物，然後將注入孔密封。進而，對於如此般製造的液晶單元20，亦可進行如下處理：藉由進行在加熱至所使用的液晶呈現各向同性相的溫度後緩慢冷卻至室溫的退火處理，來去除液晶填充時的流動配向。就於所獲得的液晶裝置10中進一步增大一對基板間的傾斜差的觀點而言，較佳為於對步驟C中所得的液晶單元20進行光照射之前不進行退火處理。
關於液晶層14中所調配的光聚合性單體，就藉由光的聚合性高的方面而言，可較佳地使用具有兩個以上(甲基)丙烯醯基的化合物。作為光聚合性單體的具體例，可應用聚合性化合物（A）為添加劑的情況下的說明。相對於液晶層14的形成中使用的液晶組成物的全體量，光聚合性單體的調配比例較佳為設為0.1質量%～0.5質量%。再者，光聚合性單體可單獨使用一種，亦可組合使用兩種以上。
於接下來的步驟C中，對步驟B中所獲得的液晶單元20進行光照射（參照圖3（c））。對液晶單元20的光照射可於未對電極間施加電壓的狀態下進行，亦可於施加有不會驅動液晶層14中的液晶分子的既定電壓的狀態下進行，或者於對電極間施加有可驅動液晶分子的既定電壓的狀態下進行。較佳為於對一對基板所具有的電極間施加有電壓的狀態下進行光照射。所施加的電壓例如可設為5 V～50 V的直流或交流。作為所照射的光，例如可使用包含150 nm～800 nm波長的光的紫外線及可見光線，較佳為包含300 nm～400 nm波長的光的紫外線。關於光的照射方向，於所使用的放射線為直線偏光或部分偏光的情況下，可自垂直於基板面的方向進行照射，亦可自傾斜方向進行照射，或者可將該些組合來進行照射。於照射非偏光的放射線的情況下，照射方向設為傾斜方向。
作為照射光的光源，例如可使用低壓水銀燈、高壓水銀燈、氘燈、金屬鹵化物燈、氬共振燈、氙燈、準分子雷射等。再者，所述較佳波長區域的紫外線可藉由將光源與例如濾光片繞射光柵等併用的手段等而獲得。作為光的照射量，較佳為1,000 J/m2 ～200,000 J/m2 ，更佳為1,000 J/m2 ～100,000 J/m2 。
然後，將偏光板17貼合於液晶單元20的外側表面，藉此獲得液晶裝置10（參照圖2（e））。作為偏光板17，可列舉：由乙酸纖維素保護膜夾持被稱為「H膜」的偏光膜而成的偏光板、或者包括H膜其本身的偏光板等，所述H膜是一邊使聚乙烯醇延伸配向一邊吸收碘而成。藉由使如此般獲得的平面狀的液晶面板彎曲而獲得具有曲面面板結構的液晶裝置。
根據以上所詳述的第1實施形態，藉由於一對基板中的僅第1基板11形成液晶配向膜13，於第2基板12不形成液晶配向膜，可於基板間非對稱地形成預傾角，從而可於一對基板間充分產生預傾角的差異。因此，於曲面顯示器中，可避免由上下基板的位置偏差而造成的配向偏差，從而可改善顯示特性。
另外，於PSA方式的液晶裝置10中，可以形成於第1基板11的液晶配向膜13為核心來進行液晶分子的初始配向的控制，因此可獲得顯示出穩定的配向性的液晶裝置。
因於作為對向基板的第2基板12中未形成液晶配向膜，故無需對第2基板12進行用以形成配向膜的加熱。因此，即便於第2基板12中形成了含有選自由量子點、螢光體及染料所組成的群組中的至少一種的彩色化層的情況下，亦可抑制彩色化層的褪色。
（第2實施方式） 接著，關於第2實施方式，以與第1實施方式的不同點為中心進行說明。第2實施方式的液晶裝置10於以下方面與第1實施方式不同：於未形成液晶配向膜的第2基板12的電極形成面上，與液晶層14鄰接地（更具體而言，與PSA層21鄰接地）配置有包含水溶性化合物的層（以下稱為「特定結構層31」），所述水溶性化合物具有碳數3以上的直鏈烷基結構及脂環式結構中的至少一者。再者，於本說明書中，所謂水溶性，是指相對於25℃的純水而溶解1質量%以上、較佳為5質量%以上、更佳為10質量%以上的性質。
液晶裝置10與第1實施方式同樣地具有曲面面板結構。如圖3所示，液晶裝置10中，作為間隔物15而分別具備各為多個的形成於第2基板12的表面上的第1間隔物15a、以及形成於第1基板11的表面上的第2間隔物15b。再者，與第1實施方式同樣地，於第1基板11的電極形成面形成有液晶配向膜13，於第2基板12的電極形成面未形成液晶配向膜。
第1間隔物15a及第2間隔物15b為自各自的基板面沿基板的厚度方向突出的柱狀的光阻間隔物，多個間隔物15隔開既定間隔排列配置於自液晶裝置10的厚度方向觀察而與黑色矩陣重合的位置。再者，作為柱狀，有圓柱狀、稜柱狀、錐狀等，於圖2中示出錐狀的例子。第1間隔物15a及第2間隔物15b分別具有至一對基板間的中間位置為止的高度。具體而言，第1間隔物15a具有其前端部自配置於第2基板12上的PSA層21a突出般的充分的高度，第2間隔物15b具有其前端部自配置於第1基板11上的PSA層21b突出般的充分的高度。藉此，第1間隔物15a於較PSA層21a更靠第1基板11側處與第2間隔物15b的前端部接觸，第2間隔物15b於較PSA層21b更靠第2基板12側處與第1間隔物15a的前端部接觸。
第2間隔物15b於第1基板11的電極形成面上形成於與多個第1間隔物15a的各個前端部對向的位置，藉由第1間隔物15a的前端部與第2間隔物15b的前端部接觸而形成了單元間隙。如圖3所示，液晶裝置10中，於以第1基板11為基準而在基板的厚度方向上進行觀察時，第2間隔物15b的前端部的高度位置H1高於液晶層14與第1基板11的邊界的高度位置H2。另外，於以第2基板12為基準進行觀察時，第1間隔物15a的前端部的高度位置H1高於液晶層14與第2基板12的邊界的高度位置H3。更具體而言，第1間隔物15a及第2間隔物15b各自的前端部配置於液晶層14中的較PSA層21更靠內側處。
此處，PSA層21為於液晶單元20的構築後藉由光聚合性單體的聚合而形成的層，因此與液晶配向膜13相比，在物理上較為脆弱。因此，若間隔物15的前端部接觸與該前端部對向的基板的最表面，則應力作用於上下基板而於基板的左右方向上產生偏移，於該情況下，有因間隔物15的前端部在左右方向上偏移而PSA層21局部地剝離並導致配向不良的擔憂。作為此種左右方向的應力作用的狀況，例如設想液晶裝置10搬運時的振動、或曲面顯示器製造時所進行的基板的彎曲等。
此時，根據如上所述般於一對基板的其中一個基板設置第1間隔物15a，於另一基板設置第2間隔物15b，並且使第1間隔物15a的前端部與第2間隔物15b的前端部接觸而形成單元間隙的構成，間隔物15的端面被配置於較液晶層14與基板的邊界的高度位置距基板表面更遠的位置。藉此，於應力作用於上下基板而在左右方向上產生偏移的情況下，藉由間隔物15的端面而抑制PSA層21的刮擦。其結果，可抑制配向不良的產生。再者，第2間隔物15b相當於「抑制由第1間隔物15a的前端部移動而造成的液晶層14的配向混亂的抑制部」。
進而，於本實施方式中，如圖3所示，第1間隔物15a的前端部的寬度W1與第2間隔物15b的前端部的寬度W2不同，第2間隔物15b的前端部的寬度W2更大。藉此，即便於應力作用於上下基板而產生左右方向上的偏移的情況下，亦容易保持彼此的端面相接觸的狀態，相對於剪切應力的耐性高。第1間隔物15a的前端部及第2間隔物15b的前端部未被固定（為自由端），從而可吸收左右方向上的剪切應力。
再者，亦可使寬度W1大於寬度W2。另外，亦可將寬度W1與寬度W2設為相同，且可使第1間隔物15a的前端部與第2間隔物15b的前端部隔著接著劑層而鄰接配置。
於液晶裝置10中，於第2基板12的電極形成面上，與液晶層14鄰接地配置有特定結構層31。藉由配置有特定結構層31，可進一步增大一對基板間的傾斜差，另外，就顯示出良好的液晶配向性及電壓保持率的方面而言較佳。
作為水溶性化合物[B]，較佳為使用具有選自由乙烯基、環氧基、胺基、(甲基)丙烯醯基、巰基及異氰酸酯基所組成的群組中的至少一種官能基的化合物。藉由具有此種官能基，可進一步提高初始配向的穩定性及電壓保持率的改善效果。
於水溶性化合物[B]具有碳數3以上的直鏈烷基結構的情況下，該直鏈烷基結構的碳數較佳為3～40，更佳為5～30。作為直鏈烷基結構的具體例，可列舉：碳數3～40的烷二基；於烷二基的碳-碳鍵間導入-O-、-CO-、-COO-、-NH-、-NHCO-而成的二價基；烷二基的至少一個氫原子經氟原子取代而成的基等。 於水溶性化合物[B]具有脂環式結構的情況下，該脂環式結構可為單環及多環的任一者。作為該脂環式結構的具體例，可列舉：碳數5～20的環烷烴結構、碳數7～20的雙環烷烴結構、固醇（sterol）結構（例如，膽甾烷（cholestanyl）基、膽固醇（cholesteryl）基、植物甾醇基（phytosteryl）等）等。再者，水溶性化合物[B]可具有碳數3以上的直鏈烷基結構、以及單環或多環的脂環式結構。
作為此種水溶性化合物[B]，例如可列舉：矽烷偶合劑、陰離子性界面活性劑、非離子系界面活性劑、兩性界面活性劑、非離子性界面活性劑等。作為該些的具體例，矽烷偶合劑例如可列舉：3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、2-胺基丙基三甲氧基矽烷、2-胺基丙基三乙氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-脲基丙基三甲氧基矽烷、3-脲基丙基三乙氧基矽烷、N-乙氧基羰基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-三乙氧基矽烷基丙基三乙三胺、10-三甲氧基矽烷基-1,4,7-三偶氮癸烷、9-三甲氧基矽烷基-3,6-二偶氮壬基乙酸酯、9-三甲氧基矽烷基-3,6-二偶氮壬酸甲酯、N-苄基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-苯基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、縮水甘油氧基甲基三甲氧基矽烷、2-縮水甘油氧基乙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、二甲基十八烷基[3-(三甲氧基矽烷基)丙基]氯化銨、甲基丙烯酸3-(三羥基矽烷基)丙酯、1,6-雙(三甲氧基矽烷基)己烷、苯甲酸3-(三甲氧基矽烷基)丙酯等；
陰離子性界面活性劑例如可列舉：高級醇的硫酸酯、烷基苯磺酸鹽、脂肪族磺酸鹽、聚乙二醇烷基醚的硫酸酯等； 非離子性界面活性劑例如可列舉：聚乙二醇的烷基酯型、烷基醚型、烷基苯基醚型的化合物等； 兩性界面活性劑可列舉具有羧酸鹽、硫酸酯鹽、磺酸鹽、磷酸酯鹽作為陰離子部分，且具有胺鹽、四級銨鹽作為陽離子部分者，具體而言，例如可列舉：月桂基甜菜鹼、硬脂基甜菜鹼等甜菜鹼類；月桂基-β-丙胺酸、硬脂基-β-丙胺酸、月桂基二(胺基乙基)甘胺酸、辛基二(胺基乙基)甘胺酸等胺基酸類型的化合物等； 非離子性界面活性劑可列舉：POE膽固醇醚、POE/POP膽固醇醚、POE/POP/POB膽固醇醚、POE/POB膽固醇醚、POE植物甾醇醚、POE/POP植物甾醇醚、POE植物甾烷醇醚、POE/POP植物甾烷醇醚（其中，POE表示聚氧乙烯基，POP表示聚氧丙烯基，POB表示聚氧丁烯基）等。再者，水溶性化合物[B]可單獨使用一種，亦可組合使用兩種以上。 作為水溶性化合物[B]，於該些中，較佳為使用選自由矽烷偶合劑、陰離子性界面活性劑及非離子性界面活性劑所組成的群組中的至少一種，就可使液晶配向性更良好的方面而言，特佳為使用非離子性界面活性劑或矽烷偶合劑。
形成特定結構層31的方法並無特別限定，較佳為藉由以下方法而形成：製備使水溶性化合物[B]溶解於水等溶媒中而成的溶液，將該製備液塗佈於基板上並使其乾燥。塗佈方法並無特別限制，例如可列舉：浸漬法、浸塗法、旋塗法、毛刷塗佈法、噴淋法等。藉由以目的在於去除基板上的雜質的清洗步驟的一環的形式來進行此種形成特定結構層31的處理，可簡化步驟，從而較佳。
具體而言，首先，於基板的清洗液（例如超純水）中調配水溶性化合物[B]，將該清洗液塗佈於未形成液晶配向膜的第2基板12的至少電極形成面而形成塗膜。再者，基板的清洗處理（特定結構層31的形成處理）可於間隔物形成步驟之前進行，亦可於間隔物形成步驟之後進行。清洗液中的水溶性化合物[B]的調配比例較佳為設為5質量%以下，較佳為設為0.1質量%～2.5質量%，進而佳為設為0.5質量%～1質量%。就清洗效率的觀點而言，較佳為將第2基板12浸漬於清洗液中的方法。浸漬時間例如為5分鐘～2小時。其後，視需要藉由加熱或風乾進行乾燥，藉此獲得形成有包含水溶性化合物[B]的薄膜的第2基板12。
再者，於第2實施方式中，可亦於形成有液晶配向膜13的第1基板11的表面形成特定結構層31。該情況下，較佳為將特定結構層31配置於第1基板11與液晶配向膜13之間。於第1實施方式的液晶裝置10中，亦可於第2基板12的電極形成面形成特定結構層31。
第1間隔物15a與第2間隔物15b的接觸面可為如圖3所示的平坦狀，但接觸面的形狀並無特別限定，例如亦可形成有凹凸形狀。
（第3實施方式） 接著，關於第3實施方式，以與第2實施方式的不同點為中心進行說明。第2實施方式中，作為間隔物15而設置第1間隔物15a及第2間隔物15b，並將第2間隔物15b設為抑制部。相對於此，本實施方式中，於第1基板11形成不具有液晶配向能力的樹脂層，並使第2基板12中所形成的間隔物15的前端部與樹脂層中所設置的凹部接觸，藉此使第2基板12中所形成的間隔物15的各個前端部的高度位置不同於液晶層14與第1基板11的邊界的高度位置。藉此，抑制了由間隔物15的前端部移動而造成的液晶層14的配向混亂。
具體而言，如圖4所示，於第2基板12的電極形成面，例如藉由光微影法而形成了柱狀的間隔物15。再者，與第1實施方式及第2實施方式同樣地，第2基板12不具有液晶配向膜。於第1基板11配置有作為絕緣性平坦化膜的樹脂層32、以及液晶配向膜13，且液晶配向膜13為與液晶層14鄰接的狀態。樹脂層32的厚度例如為0.01 μm～1 μm。
於樹脂層32中，於與第2基板12上所形成的多個間隔物15的各個前端部對向的位置形成有凹部33。間隔物15形成為較間隔物15的配置區域中的第1基板11與第2基板12的間隔更長。各間隔物15的前端部嵌入至對向位置處的凹部33中，並與凹部33的底面34接觸。藉此，間隔物15的前端部的端面與底面34抵接，一對基板間的單元間隙得到保持。如圖4所示，於以第1基板11為基準時，各間隔物15的前端部相對於基準的高度位置H4低於液晶層14與第1基板11的邊界的高度位置H5。藉此，於間隔物15的前端部在左右方向上移動的情況下，相向的基板表面的PSA層21不會被剝離。再者，凹部33相當於「抑制由間隔物15的前端部移動而造成的液晶層14的配向混亂的抑制部」。
再者，考慮到若於樹脂層32的表面上塗佈液晶配向劑，則液晶配向劑會滯留於凹部33，於凹部33中液晶配向膜13的膜厚變厚，因此，本實施方式中，當將液晶配向劑塗佈於基板上時，較佳為使用旋塗法，或者將凹部33遮蔽而塗佈液晶配向劑。
樹脂層32較佳為藉由使用了包含感光性樹脂的感放射線性樹脂組成物的光微影法而形成。樹脂層32的凹部33例如可藉由利用半色調遮罩的光微影法而形成。半色調遮罩利用半透射的膜來進行中等曝光。於一次曝光中會呈現出「曝光部分」、「中等曝光部分」及「未曝光部分」三個曝光水準，且可於顯影後形成具有多種厚度的樹脂層。「中等曝光部分」可藉由調整光通過或透射的量來進行多個層次的曝光，因此，於一次曝光中可呈現出三種以上的曝光水準。
例如，於對正型的感光性樹脂進行曝光的情況下，藉由對使用半色調遮罩進行了曝光的樹脂層進行顯影處理，可將相對於顯影液而可溶性發生了變化的曝光部分去除，而未曝光部分殘留。此處，與半透射區域對應的樹脂層32中僅上層部經曝光，因此藉由顯影處理而僅將上層部去除，以形成凹部33。作為用以形成樹脂層32的感放射線性樹脂組成物，可使用用於形成平坦化膜或層間絕緣膜的組成物，例如可使用日本專利特開2013-029862號公報、日本專利特開2010-217306號公報、日本專利特開2016-151744號公報中所記載的感放射線性樹脂組成物等。再者，樹脂層32並不限定於正型，亦可對負型應用利用半色調遮罩的光微影法來形成凹部33。
根據本實施方式，藉由以間隔物15的前端部嵌入至凹部33的方式進行配置，可使間隔物15的前端部不會與PSA層21發生接觸。另外，藉由將間隔物15的前端部嵌入至凹部33，即便於應力作用於上下基板而在左右方向上產生偏移的情況下，亦容易保持間隔物15的前端部嵌入至凹部33的狀態，可提高相對於剪切應力的耐性，就該方面而言較佳。
於第3實施方式中，亦可並非於基板面全體中設置樹脂層32，而僅在包括與形成於第2基板12的多個間隔物15的各個前端部對向的位置的一部分區域中設置樹脂層32。另外，亦可設為於液晶裝置10中不設置特定結構層31的構成。或者，可亦於形成有液晶配向膜13的第1基板11側形成特定結構層31。
（其他實施方式） 第3實施方式中，於樹脂層32中，在與形成於第2基板12的液晶層14側的表面上的多個間隔物15的各個前端部對向的位置處設置有凹部33，但亦可代替凹部33而設置沿朝向第2基板的方向突出的突部。該情況下，亦可使第2基板12中所形成的間隔物15的各個前端部的高度位置不同於液晶層14與第1基板11的邊界的高度位置。
抑制部的構成並不限定於上述第2實施方式及第3實施方式的構成。例如，於上述第1實施方式中，亦可於第1基板11形成包圍間隔物15的前端部的外周的環狀的突部，並將間隔物15的前端部嵌入至該突部的內周側，藉此限制間隔物15的移動。突部可於TFT製造步驟中藉由與TFT的半導體層或源極電極、汲極電極相同的材料而形成。
第1實施方式～第3實施方式中，對應用於如下的PSA模式的情況進行了說明，即，所述PSA模式是使用含有光聚合性單體的液晶組成物來形成液晶層14，並使液晶成為既定的初始配向狀態而對液晶單元進行光照射，但亦可應用於如下模式：將光聚合性單體混入至液晶配向膜中而非混入至液晶層14中，使液晶成為既定的初始配向狀態而對液晶單元進行光照射（SS-VA模式）。
第1實施方式～第3實施方式中，對應用於曲面顯示器的情況進行了說明，但第1基板11及第2基板12亦可應用於具有平面狀的平面面板結構的液晶裝置。
以上所詳述的本發明的液晶裝置10可有效地應用於各種用途，例如可用作時鐘、可攜式遊戲機、文字處理機、筆記型個人電腦、導航系統、攝錄機、個人數位助理（Personal Digital Assistant，PDA）、數字相機、行動電話、智慧型手機、各種監視器、液晶電視、資訊顯示器等的各種顯示裝置、或調光裝置等。 [實施例]
以下，藉由實施例對本發明進一步進行具體說明，但本發明並不限定於該些實施例。
於本實施例中，聚合體的聚醯亞胺的醯亞胺化率是藉由以下方法而測定。 [聚醯亞胺的醯亞胺化率]：將聚醯亞胺的溶液投入至純水中，並於室溫下對所獲得的沈澱充分進行減壓乾燥，然後溶解於氘化二甲基亞碸中，將四甲基矽烷作為基準物質而於室溫下測定氫譜核磁共振（1 H-Nuclear Magnetic Resonance，1 H-NMR）。根據所獲得的1 H-NMR頻譜，藉由下述數式（1）所示的式子而求出醯亞胺化率[%]。 醯亞胺化率[%]=（1-A1 /A2 ×α）×100 …（1） （數式（1）中，A1 為於化學位移10 ppn附近出現的源自NH基的質子的波峰面積，A2 為源自其他質子的波峰面積，α為聚合體的前驅物（聚醯胺酸）中的其他質子相對於NH基的一個質子的個數比例）
＜聚合體的合成＞ [合成例1] 使作為四羧酸二酐的2,3,5-三羧基環戊基乙酸二酐100莫耳份、以及作為二胺的4,4'-二胺基二苯基醚70莫耳份及3,5-二胺基苯甲酸膽甾烷基酯30莫耳份溶解於N-甲基-2-吡咯啶酮（N-methyl-2-pyrrolidone，NMP）中，於60℃下反應6小時，獲得含有10質量%的聚醯胺酸（將其設為聚合體（PA-1））的溶液。
[合成例2] 使作為四羧酸二酐的2,3,5-三羧基環戊基乙酸二酐100莫耳份、以及作為二胺的3,5-二胺基苯甲酸80莫耳份及膽甾烷基氧基-2,4-二胺基苯20莫耳份溶解於NMP中，於60℃下反應6小時，獲得含有20質量%的聚醯胺酸的溶液。於所獲得的聚醯胺酸溶液中追加NMP而製成聚醯胺酸濃度為7質量%的溶液，並分別添加相對於四羧酸二酐的總使用量而各為0.1倍莫耳的吡啶及乙酸酐，於110℃下進行4小時脫水閉環反應。於脫水閉環反應後，利用新的NMP對系統內的溶劑進行溶媒置換，藉此獲得含有15質量%的、醯亞胺化率約為60%的聚醯亞胺（將其設為聚合體（PI-1））的溶液。
＜液晶配向劑的製備＞ [製備例1] 於含有聚合體（PA-1）的溶液中加入作為有機溶媒的N-甲基-2-吡咯啶酮（NMP）及丁基溶纖劑（Butyl Cellosolve，BC），製成溶媒組成為NMP/BC=42/58（質量比）、固體成分濃度為3.5質量%的溶液。利用孔徑為1 μm的過濾器對該溶液進行過濾，藉此製備液晶配向劑（AL-1）。 [製備例2] 除將所使用的聚合體變更為聚合體（PI-1）以外，與製備例1同樣地製備液晶配向劑（AL-2）。 [製備例3] 於含有聚合體（PA-1）的溶液中添加下述式（L1-1）所表示的光聚合性化合物，並加入作為有機溶媒的N-甲基-2-吡咯啶酮（NMP）及丁基溶纖劑（BC），製成溶媒組成為NMP/BC=42/58（質量比）、光聚合性化合物的含有比例為30質量%、固體成分濃度為3.5質量%的溶液。利用孔徑為1 μm的過濾器對該溶液進行過濾，藉此製備液晶配向劑（AL-3）。 [化1]
＜液晶組成物的製備＞ 相對於具有負的介電各向異性的向列液晶（默克（Merck）公司製造，MLC-6608）10 g，添加0.3質量%的所述式（L1-1）所表示的光聚合性化合物並混合，藉此獲得液晶組成物LC1。
＜液晶元件的製造及評價＞ [實施例1] （1）PSA模式液晶顯示裝置的製造 準備於兩片玻璃基板的各個表面具有包含ITO電極的導電膜的一對基板。於所述一對基板中的其中一個基板的電極形成面，藉由光微影法形成圖1所示的柱狀的間隔物。接著，利用超純水對一對基板的基板表面進行清洗。繼而，於不具有光阻間隔物的基板的電極面上，使用旋轉機塗佈上述中所製備的液晶配向劑（AL-1）。將塗佈了配向劑的基板（設為「基板A」）於80℃的加熱板上加熱2分鐘（預烘烤）而將溶媒去除後，於對箱內進行了氮氣置換的200℃的烘箱中進行30分鐘加熱（後烘烤），形成平均膜厚為0.08 μm的塗膜。藉由該操作，獲得包括具有液晶配向膜的基板A、以及不具有液晶配向膜的基板B的一對基板。再者，所使用的電極的圖案與PSA模式中的電極圖案為同一種圖案。
接著，將所述一對基板中的具有液晶配向膜的基板A當作TFT基板，將不具有液晶配向膜的基板B當作對向基板，並於基板A的具有液晶配向膜的面的外緣塗佈加入了直徑3.5 μm的氧化鋁球的環氧樹脂接著劑後，使用ODF裝置將液晶組成物LC1滴注至基板A。再者，液晶滴注物的液滴彼此的鄰接間距離D為約3 mm，此為通常的ODF中的液滴的滴注點間距離。接著，以基板A的配向膜形成面與基板B的導電膜形成面對向的方式進行重疊壓接，並進行退火處理，藉此使接著劑硬化而製造液晶單元。其後，對液晶單元的導電膜間施加頻率為60 Hz的交流10 V，在液晶受到驅動的狀態下，使用將金屬鹵化物燈用作光源的紫外線照射裝置，以5,000 J/m2 的照射量照射紫外線。再者，該照射量為使用在波長365 nm基準下進行量測的光量計進行測定而得的值。
（2）液晶配向性的評價 藉由目視來觀察當對上述（1）中所獲得的液晶顯示裝置接通･斷開（ON･OFF）（施加･解除）5 V的電壓時的明暗變化下的異常區的有無。此時，將於電壓OFF時未觀察到漏光、且電壓施加時驅動區域進行白色顯示、自此以外的區域未漏光的情況設為垂直配向性「優（◎）」，將稍微觀察到漏光的情況設為「良（○）」，將明顯觀察到漏光的情況設為「可（△）」。其結果，該實施例中，液晶配向性被評價為「良（○）」。
（3）預傾角的測定 分別測定上述（1）中所獲得的液晶顯示裝置的基板A及基板B的預傾角。預傾角的測定中，依據非專利文獻「T.J.謝弗等人（T.J. Scheffer et. al.）應用物理雜誌第19卷（J. Appl. Phys. vo. 19）, p. 2013（1980）」中記載的方法，藉由使用He-Ne雷射光的結晶旋轉法來測定液晶分子相對於基板面的傾斜角的值，將其設為預傾角[°]。其結果，基板A的預傾角為84.9°，基板B的預傾角為89.0°。另外，基板A與基板B的傾斜差為4.1°。
（4）PSA剝落（扭力（Torsion））的測定 作為上述（1）中所獲得的液晶顯示裝置的PSA層的耐剝離性的評價，觀察賦予外部應力後的配向缺陷。具體而言，將5 mm直徑的棒狀壓頭於加重2.0 Kgf、旋轉速度200 rpm的條件下按壓10分鐘後，對正交尼科爾下產生了畫素內的光漏出的配向缺陷部位的個數進行統計。於配向缺陷的個數為0的情況下評價為「優（◎）」，於配向缺陷的個數為1個～2個的情況下評價為「良（○）」，於配向缺陷的個數為3個以上的情況下評價為「可（△）」，結果，該實施例中為「良（○）」。
（5）電壓保持率（VHR）的測定 對上述（1）中所獲得的液晶顯示裝置，於70℃下以60微秒的施加時間、16.67毫秒的跨距施加1 V的電壓後，測定自施加解除起16.67毫秒後的VHR。其結果，該實施例中為99%。再者，測定裝置是使用東陽特克尼卡（股）製造的「VHR-1」。
（6）ODF不均的評價 對上述（1）中所獲得的液晶顯示裝置施加2.5 V的60 Hz的交流電壓，觀察液晶顯示裝置全體中產生的不均（ODF不均）。將未產生不均的情況評價為「優（◎）」，將於液晶滴注位置及液晶滴注位置中間的至少任一者中輕微地觀察到不均的情況評價為「良（○）」，將於液晶滴注位置及液晶滴注位置中間的至少任一者中明顯地觀察到不均的情況評價為「不良（△）」，結果，該實施例中為「良（○）」。
[實施例2、實施例7] 除如下述表1所記載般變更所使用的液晶配向劑以外，與實施例1同樣地製造PSA模式液晶顯示裝置，並進行液晶配向性的評價、預傾角的測定、PSA剝落的測定及VHR的測定。測定結果示於下述表2中。再者，表1中，「對向PS」表示於對向基板中具有光阻間隔物且於TFT基板中不具有光阻間隔物（相當於圖1）。
[實施例3] 準備於兩片玻璃基板的各個表面具有包含ITO電極的導電膜的一對基板。於所述一對基板中的其中一個基板（TFT基板）及另一基板（對向基板）各自的電極形成面，藉由光微影法形成圖3所示結構（於下述表1中表述為「凹凸結構」）的間隔物（第1間隔物15a及第2間隔物15b）。間隔物是以如下所述般的配置而形成：當將兩片基板貼合時，TFT基板上的第2間隔物15b的位置與對向基板上的第1間隔物15a的位置吻合。將如上所述者用作一對基板，且關於基板B，代替超純水而使用作為陰離子性的界面活性劑的烷基三甲基溴化銨（烷基鏈碳數為5）3質量%水溶液來進行基板清洗，除上述兩方面以外，與實施例1同樣地製造PSA模式液晶顯示裝置，並進行液晶配向性的評價、預傾角的測定、PSA剝落的測定及VHR的測定。測定結果示於下述表2中。另外，除代替圖3所示的單元結構而使用圖4所示的單元結構以外，與上述同樣地製造PSA模式液晶顯示裝置，並進行各種評價，結果可獲得相同的結果。
[實施例4] 除使用二甲基十八烷基[3-(三甲氧基矽烷基)丙基]氯化銨（烷基鏈碳數為18）1質量%水溶液來進行基板B的清洗以外，與實施例3同樣地製造具有圖3所示結構的間隔物的PSA模式液晶顯示裝置，並進行液晶配向性的評價、預傾角的測定、PSA剝落的測定及VHR的測定。測定結果示於下述表2中。另外，除與實施例3同樣地製成圖4所示的單元結構以外，與上述同樣地製造PSA模式液晶顯示裝置，並進行各種評價，結果可獲得相同的結果。
[實施例5] 除使用作為非離子系的界面活性劑的聚氧乙烯月桂基醚（碳數為18）0.05質量%濃度的水溶液來進行基板B的清洗以外，與實施例3同樣地製造具有圖3所示結構的間隔物的PSA模式液晶顯示裝置，並進行液晶配向性的評價、預傾角的測定、PSA剝落的測定及VHR的測定。測定結果示於下述表2中。另外，除與實施例3同樣地製成圖4所示的單元結構以外，與上述同樣地製造PSA模式液晶顯示裝置，並進行各種評價，結果可獲得相同的結果。
[實施例6] 除使用甲基丙烯酸3-(三羥基矽烷基)丙酯（矽烷偶合劑）0.05質量%濃度的水溶液來進行基板B的清洗以外，與實施例3同樣地製造具有圖3所示結構的間隔物的PSA模式液晶顯示裝置，並進行液晶配向性的評價、預傾角的測定、PSA剝落的測定及VHR的測定。測定結果示於下述表2中。另外，除與實施例3同樣地製成圖4所示的單元結構以外，與上述同樣地製造PSA模式液晶顯示裝置，並進行各種評價，結果可獲得相同的結果。
[實施例8] 將所使用的液晶配向劑變更為（AL-3），且未實施退火處理，除上述兩方面以外進行與實施例1同樣的操作，藉此製造SS-VA模式液晶顯示裝置，並進行液晶配向性的評價、預傾角的測定、PSA剝落的測定及VHR的測定。測定結果示於下述表2中。
[實施例9] 於基板A的外緣部塗佈接著劑後，使用噴墨裝置（芝浦電子機械（Shibaura Mechatronics）公司製造，IJ-6021）以等間隔將液晶組成物LC1滴注至基板A上，且其後以基板A的配向膜形成面與基板B的導電膜形成面對向的方式進行重疊壓接並使接著劑硬化，除上述兩方面以外進行與實施例1相同的操作，藉此製造液晶顯示裝置，並進行ODF不均的評價。其結果，該實施例中為「優（◎）」。
[實施例10] 於基板A的外緣部塗佈接著劑後，使用ODF裝置，以液晶滴注物的液滴彼此的鄰接間距離D成為0.5 mm以下的方式，以等間隔將液晶組成物LC1滴注至基板A上，且其後以基板A的配向膜形成面與基板B的導電膜形成面對向的方式進行重疊壓接並使接著劑硬化，除上述兩方面以外進行與實施例1相同的操作，藉此製造液晶顯示裝置，並進行ODF不均的評價。其結果，該實施例中為「優（◎）」。
[實施例11] 將依據國際公開第2006/103908號的實施例7中記載的方法而獲得的著色基板設為基板B，然後塗佈液晶配向劑（AL-1），除此以外，與實施例1同樣地製造液晶顯示裝置。
[實施例12] 將依據日本專利特開2017-037299號公報的實施例1中記載的方法而獲得的著色基板設為基板B，然後塗佈液晶配向劑（AL-1），除此以外，與實施例1同樣地製造液晶顯示裝置。
[比較例1] 除與基板A同樣地亦於基板B上塗佈液晶配向劑（AL-1）以外，與實施例1同樣地製造PSA模式液晶顯示裝置，並進行液晶配向性的評價、預傾角的測定、PSA剝落的測定及VHR的測定。測定結果示於下述表2中。
[表1]
[表2]
根據以上結果確認到，藉由於一對基板中的僅單個基板形成液晶配向膜，可於基板間產生充分的傾斜差。進而確認到，將利用水溶性化合物[B]的水溶液進行了清洗的基板與具有液晶配向膜的基板組合而製造的液晶顯示裝置（實施例3～實施例6）中，上下基板的傾斜角差更大，而且顯示出高電壓保持率。尤其於作為清洗液而使用包含非離子性界面活性劑的水溶液的情況下（實施例5）、及使用包含矽烷偶合劑的水溶液的情況下（實施例6），就液晶配向性的方面而言更佳。另外確認到，藉由使用具有圖3及圖4的間隔物結構的一對基板，可較佳地抑制PSA剝落。另外確認到，於使用噴墨裝置、或者利用ODF裝置以液晶滴注物的鄰接間距離成為0.5 mm以下的方式進行製造的情況下（實施例9、實施例10），可充分抑制ODF不均。進而，因不需要進行液晶配向膜的熱硬化，故可抑制於一對基板中的未形成液晶配向膜的基板上形成有彩色化層的液晶顯示裝置（實施例11、實施例12）的彩色濾光片的褪色。
＜殘像特性（燒痕特性）的評價＞ 各準備兩個實施例3～實施例6、比較例1的液晶單元，並與「（4）PSA剝落（扭力（Torsion））的測定」相同地對液晶單元賦予外部應力。其後，將兩個液晶單元置於25℃、一個大氣壓的環境下，對其中一個（另一個為參照）施加2小時的交流電壓3.5 V與直流電壓5 V的合成電壓。之後立即施加交流4 V的電壓。對自開始施加交流4 V的電壓的時間點起至藉由目視無法確認到與參照的透光性的差為止的時間進行測定。將該時間未滿50秒的情況評價為「優良（◎）」，將該時間為50秒以上且未滿100秒的情況評價為殘像特性「良好（○）」，將該時間為100秒以上且未滿150秒的情況評價為殘像特性「可（△）」，並且將該時間超過150秒的情況下的殘像特性評價為「不良（×）」。其結果，比較例1的評價為「不良」，相對於此，實施例3～實施例6中的評價均為「良好」。
本揭示以實施方式為依據進行了敘述，但可理解，本揭示並不限定於上述實施方式或結構。本揭示亦包括各種變形例或均等範圍內的變形。此外，各種組合或形態、以及於該些中包含僅一個要素、一個以上的要素或者一個以下要素的其他組合或形態亦屬於本揭示的範疇或思想範圍。
10‧‧‧液晶裝置
11‧‧‧第1基板
12‧‧‧第2基板
13‧‧‧液晶配向膜
14‧‧‧液晶層
15‧‧‧間隔物
15a‧‧‧第1間隔物
15b‧‧‧第2間隔物
16‧‧‧密封材
17‧‧‧偏光板
18‧‧‧端子區域
19‧‧‧驅動器IC
20‧‧‧液晶單元
21、21a、21b‧‧‧PSA層
31‧‧‧特定結構層
32‧‧‧樹脂層
33‧‧‧凹部
34‧‧‧底面
H1、H2、H3、H4、H5‧‧‧高度位置
W1、W2‧‧‧寬度
關於本揭示的上述目的及其他目的、特徵以及優點將根據參照隨附圖式進行的下述詳細敘述而變得更加明確。 圖1為第1實施方式的液晶裝置的剖面圖。 圖2（a）～圖2（e）為表示第1實施方式的液晶裝置的製造方法的剖面圖。 圖3為第2實施方式的液晶裝置的間隔物部分的放大剖面圖。 圖4為第3實施方式的液晶裝置的間隔物部分的放大剖面圖。

Claims (16)

  1. 一種液晶裝置，包括：一對基板，包括經對向配置的第1基板及第2基板；以及液晶層，配置於所述第1基板及所述第2基板之間，所述液晶裝置的特徵在於： 所述第1基板及所述第2基板中，於所述第1基板形成有液晶配向膜，於所述第2基板未形成液晶配向膜。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的液晶裝置，其中形成於所述第1基板的液晶配向膜為包含如下聚合體組成物的配向膜：所述聚合體組成物含有具有一個或多個聚合性基的化合物。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的液晶裝置，其中於所述第2基板的所述液晶層側形成有包含水溶性化合物[B]的層，所述水溶性化合物[B]具有碳數3以上的直鏈烷基結構及脂環式結構中的至少一者。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的液晶裝置，其中所述水溶性化合物[B]包括具有選自由乙烯基、環氧基、胺基、(甲基)丙烯醯基、巰基及異氰酸酯基所組成的群組中的至少一種官能基的化合物。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的液晶裝置，其中於所述第2基板形成有沿朝向所述第1基板的方向延伸的間隔物。
  6. 如申請專利範圍第5項所述的液晶裝置，其中於所述第1基板設置有抑制部，所述抑制部抑制由所述間隔物的前端部移動而造成的所述液晶層的配向混亂。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的液晶裝置，其中所述間隔物形成為較所述間隔物的非配置區域中的所述第1基板與所述第2基板的間隔更短、或者更長， 所述抑制部設置於所述第1基板中與所述間隔物對向的位置，且與所述間隔物的前端部接觸。
  8. 如申請專利範圍第1項至第7項中任一項所述的液晶裝置，其中所述液晶層具有負的介電各向異性。
  9. 如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述的液晶裝置，其中所述液晶層是使用含有光聚合性單體的液晶組成物而形成，且在與所述一對基板的各基板的邊界部具有所述光聚合性單體聚合而成的聚合物層。
  10. 如申請專利範圍第1項至第9項中任一項所述的液晶裝置，其具有所述第1基板及所述第2基板彎曲形成的曲面面板結構。
  11. 如申請專利範圍第1項至第10項中任一項所述的液晶裝置，其中於所述第2基板形成有彩色化層，所述彩色化層含有選自由量子點、螢光體及染料所組成的群組中的至少一種。
  12. 一種液晶裝置的製造方法，所述液晶裝置包括：一對基板，包括經對向配置的第1基板及第2基板；以及液晶層，配置於所述第1基板及所述第2基板之間，所述液晶裝置的製造方法包括以下步驟： 於所述第1基板及所述第2基板中的僅所述第1基板中，於基板表面上使用聚合體組成物形成液晶配向膜； 以所述第1基板的膜形成面與所述第2基板的基板面對向的方式，介隔包含光聚合性單體的液晶組成物的層配置所述第1基板及所述第2基板，以構築液晶單元；以及 對所述液晶單元進行光照射。
  13. 如申請專利範圍第12項所述的液晶裝置的製造方法，其中所述聚合體組成物含有具有一個或多個聚合性基的化合物。
  14. 如申請專利範圍第12項或第13項所述的液晶裝置的製造方法，其更包括以下步驟：於所述第2基板形成包含水溶性化合物[B]的層，所述水溶性化合物[B]具有碳數3以上的直鏈烷基結構及脂環式結構中的至少一者。
  15. 如申請專利範圍第12項至第14項中任一項所述的液晶裝置的製造方法，其更包括以下步驟：於所述第1基板及所述第2基板中的其中一個基板上，使用噴墨塗佈裝置滴注所述液晶組成物。
  16. 如申請專利範圍第12項至第14項中任一項所述的液晶裝置的製造方法，其更包括以下步驟：於所述第1基板及所述第2基板中的其中一個基板上，使用液晶滴注裝置，以液滴的滴注點間距離成為3 mm以下的方式滴注所述液晶組成物。
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