TW201809151A - 組成物、及包含該組成物之光學薄膜 - Google Patents

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Abstract

本發明的課題係提供一種即使於預定期間保管後，亦可使用在高品質，且二色比高之光學薄膜的形成之組成物。
本發明的解決手段為一種組成物，其係包含一般式(A)表示之化合物與一般式(B)表示之化合物，一般式(A)及一般式(B)中之R1a與R1b為彼此相異之基。

Description

組成物、及包含該組成物之光學薄膜
本發明係關於組成物及包含該組成物之光學薄膜。
作為液晶顯示裝置等所使用之偏光膜(光學薄膜)，已知有從包含二色性色素之組成物形成之偏光膜。將該組成物以預定時間保管時，有降低所得之偏光膜的品質的情況，作為解決該情況者，正嘗試特定之構造使用彼此相異之複數種的二色性色素(專利文獻1)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2013-227532號公報(2013年11月7日公開)
然而，如專利文獻1所記載之特定的構造，從包含彼此相異之複數種的二色性色素之組成物形成之以往 的光學薄膜，有其二色比無法充分高的問題。
發明者們努力研究的結果，發現在包含複數種二色性色素之組成物，包含特定組合之二色性色素的組成物，即使以預定時間進行保管，亦不會降低所得之偏光膜的品質，且所得之偏光膜的二色比充分提高，而想到本發明。
本發明係包含以下之<1>~<10>所記載之發明。
<1>一種組成物，其係包含一般式(A)表示之化合物，與一般式(B)表示之化合物。
【化1】R1a-Ar1a-N=N-Ar2a-N=N-Ar3a-R10a (A) R1b-Ar1b-N=N-Ar2b-N=N-Ar3b-R10a (B)
[一般式(A)及一般式(B)中，R10a係表示以一般式(S-1)~一般式(S-7)之任一者表示之基。
一般式(S-2)中，R2a及R3a係分別獨立表示氫原子或烷基。R2a及R3a表示之上述烷基可彼此鍵結形成環。m係表示0~10之整數。
Ar1a、Ar1b、Ar2a、Ar2b、Ar3a及Ar3b係分別獨立表示以一般式(Ar-1)~一般式(Ar-3)之任一者表示之基。
(上述一般式(Ar-1)~一般式(Ar-3)中，P1及P2係分別獨立表示-S-、-O-或-N(R12)-，R12係表示氫原子或碳數1~4之烷基，Q1、Q2、Q3、Q4及Q5係分別獨立表示=N-或=CH-；R8~R9為氫原子以外之取代基，分別獨立表示碳數1~4之烷基、碳數1~4之烷氧基、鹵素原子或氰基，構成上述烷基及上述烷氧基之一個以上的氫原子可被鹵素 原子或羥基取代；q及r係表示0~2之整數)，R1a係分別獨立表示碳數2~5之烷基、碳數2~5之烷氧基、碳數2~5之醯基、碳數2~5之烷氧基羰基、碳數2~5之氧羰基、鹵素原子或氰基，構成上述烷基、烷氧基、醯基、烷氧基羰基及氧羰基之一個以上的氫原子可被鹵素原子或羥基取代；R1b係分別獨立表示碳數3~20之烷基、碳數3~20之烷氧基、碳數3~20之醯基、碳數3~20之烷氧基羰基、碳數3~20之氧羰基、鹵素原子或氰基，構成上述烷基、烷氧基、醯基、烷氧基羰基及氧羰基之一個以上的氫原子可被鹵素原子或羥基取代；惟，R1a與R1b為彼此相異之基]。
<2>如<1>所記載之組成物，其中，在上述一般式(A)及上述一般式(B)，R10a為上述一般式(S-2)表示之基。
<3>如<1>或<2>所記載之組成物，其中，上述Ar1a與上述Ar1b為相同之基，上述Ar2a與上述Ar2a為相同之基，上述Ar3a與上述Ar3b為相同之基。
<4>如<1>~<3>中之任一項記載之組成物，其係進一步包含聚合性液晶化合物。
<5>如<4>所記載之組成物，其中，上述聚合性液晶化合物係表示層列(Smectic)液晶相之化合物。
<6>一種光學薄膜，其係包含如<1>~<5>中之任一項記載之組成物。
<7>一種光學薄膜，其係聚合如<4>或<5>所記載之 組成物所包含之聚合性成分而形成。
<8>一種圓偏光板，其係具備如<6>或<7>所記載之光學薄膜。
<9>一種液晶顯示裝置，其係具備如<6>或<7>所記載之光學薄膜。
<10>一種顯示裝置，其係具備如<8>所記載之圓偏光板。
根據本發明之組成物，發揮即使將該組成物以預定之期間保管後，亦可形成高品質之光學薄膜，且達成該光學薄膜之二色比充分高的效果。
以下，關於本發明之一實施的形態進行詳細說明。尚，在本發明，所謂「A~B」係表示「A以上、B以下」。
[實施形態1：組成物]
有關本發明之實施形態1之組成物，其特徵為包含一般式(A)表示之化合物(以下稱為化合物(A))，與一般式(B)表示之化合物(以下稱為化合物(B))。
【化4】R1a-Ar1a-N=N-Ar2a-N=N-Ar3a-R10a (A) R1b-Ar1b-N=N-Ar2b-N=N-Ar3b-R10a (B)
[一般式(A)及一般式(B)中，R10a係表示以一般式(S-1)~一般式(S-7)之任一者表示之基。
一般式(S-2)中，R2a及R3a係分別獨立表示氫原子或烷基。R2a及R3a表示之上述烷基可彼此鍵結形成環。m係表示0~10之整數。
(上述一般式(Ar-1)~一般式(Ar-3)中，P1及P2係分別獨立表示-S-、-O-或-N(R12)-，R12係表示氫原子或碳數1~4之烷基，Q1、Q2、Q3、Q4及Q5係分別獨立表示 =N-或=CH-。
R8~R9為氫原子以外之取代基，分別獨立表示碳數1~4之烷基、碳數1~4之烷氧基、鹵素原子或氰基，構成上述烷基及上述烷氧基之一個以上的氫原子可被鹵素原子或羥基取代。q及r係表示0~2之整數)。
R1a係分別獨立表示碳數2~5之烷基、碳數2~5之烷氧基、碳數2~5之醯基、碳數2~5之烷氧基羰基、碳數2~5之氧羰基、鹵素原子或氰基，構成上述烷基、烷氧基、醯基、烷氧基羰基及氧羰基之一個以上的氫原子可被鹵素原子或羥基取代。
R1b係分別獨立表示碳數3~20之烷基、碳數3~20之烷氧基、碳數3~20之醯基、碳數3~20之烷氧基羰基、碳數3~20之氧羰基、鹵素原子或氰基，構成上述烷基、烷氧基、醯基、烷氧基羰基及氧羰基之一個以上的氫原子可被鹵素原子或羥基取代。
惟，R1a與R1b為彼此相異之基]。
本發明之組成物藉由含有具有彼此相異之構造的化合物(A)及化合物(B)，可提昇其安定性，且可作為具有高二色比之光學薄膜的原料使用。
作為提昇本發明之組成物的安定性的理由，在本發明之組成物中，化合物(A)及化合物(B)進行結晶化變困難，據此，提昇化合物(A)及化合物(B)之相溶性(溶解性)，作為其結果，推測係因為提昇本發明之組成物的安定性。
本發明之組成物較佳為進一步包含聚合性液晶化合物。藉由從進一步包含上述聚合性液晶化合物之組成物，聚合該組成物中之聚合性液晶化合物(聚合性成分)，可適合形成含有作為二色性色素機能之化合物(A)及化合物(B)的光學薄膜(偏光膜)。
針對本發明之組成物所包含之各成分，於以下進行說明。
<二色性色素>
在本發明之化合物(A)、化合物(B)係作為二色性色素發揮機能，通常於波長400~800nm的範圍內具有吸收。
化合物(A)、化合物(B)之偶氮苯部位的位置異構體較佳為反式。
化合物(A)與化合物(B)所具有之R10a係彼此為相同之基。化合物(A)、化合物(B)之R10a較佳為上述一般式(S-2)表示之基。
上述一般式(S-2)表示之基中，較佳為以R2a及R3a表示之基為烷基，又，較佳為該烷基為碳數1~3之烷基、或以下述一般式(R-8)~(R-9)表示之基。
化合物(A)、化合物(B)之Ar1a、Ar1b、Ar2a、 Ar2b、Ar3a及Ar3b係分別獨立表示以一般式(Ar-1)~一般式(Ar-3)之任一者表示之基。
上述一般式(Ar-1)~一般式(Ar-3)中，P1及P2係分別獨立表示-S-、-O-或-N(R12)-，R12係表示氫原子或碳數1~4之烷基，Q1、Q2、Q3、Q4及Q5係分別獨立表示=N-或=CH-。又，R8~R9為氫原子以外之取代基，分別獨立表示碳數1~4之烷基、碳數1~4之烷氧基、鹵素原子或氰基，構成上述烷基及上述烷氧基之一個以上的氫原子可被鹵素原子或羥基取代。q及r係表示0~2之整數。
上述一般式(Ar-1)~一般式(Ar-3)表示之基雖並未特別限定，但例如可列舉以下之式(R-1)~式(R-10)表示之基。
上述基當中，Ar1a、Ar1b、Ar3a及Ar3b較佳為式(R-1)表示之基，Ar2a及Ar2b較佳為式(R-5)表示之基。
較佳為本發明之組成物所包含之化合物(A)所具有之Ar1a、與化合物(B)所具有之Ar1b為相同之基。又，較佳為化合物(A)所具有之Ar2a、與化合物(B)所具有之Ar2b為相同之基，較佳為化合物(A)所具有之Ar3a、與化合物(B)所具有之Ar3b為相同之基。尤其是以化合物(A)所具有之Ar1a、Ar2a、Ar3a、與對應該等之化合物(B)所具有之Ar1b、Ar2b、Ar3b為相同之基較佳。
亦即，在本發明之組成物，化合物(A)與化合物(B)較佳為R1a與R1b為彼此相異之基之外，具有相同之構造。化合物(A)與化合物(B)，R1a與R1b為彼此相異之基之外，藉由具有相同之構造，有提昇所得之光學薄膜的二色比的傾向，又，如後述，在組成物之生產性的面較佳。
化合物(A)之R1a係表示碳數2~5之烷基、碳數2~5之烷氧基、碳數2~5之醯基、碳數2~5之烷氧基羰 基、碳數2~5之氧羰基、鹵素原子或氰基，構成上述烷基、烷氧基、醯基、烷氧基羰基及氧羰基之一個以上的氫原子可被鹵素原子或羥基取代。
作為R1a，較佳為碳數2~5之烷基、碳數2~5之烷氧基、碳數2~5之醯基、碳數2~5之烷氧基羰基或碳數2~5之氧羰基。
化合物(B)之R1b係與R1a不同之基。R1b係表示碳數3~20之烷基、碳數3~20之烷氧基、碳數3~20之醯基、碳數3~20之烷氧基羰基、碳數3~20之氧羰基、鹵素原子或氰基，構成上述烷基、烷氧基、醯基、烷氧基羰基及氧羰基之一個以上的氫原子可被鹵素原子或羥基取代。
作為R1b，較佳為碳數2~5之烷基、碳數2~5之烷氧基、碳數2~5之醯基、碳數2~5之烷氧基羰基或碳數2~5之氧羰基。
R1a及R1b分別獨立為碳數2~5之烷基、碳數2~5之烷氧基、碳數2~5之醯基、碳數2~5之烷氧基羰基或碳數2~5之氧羰基時，以滿足R1a之碳數<R1b之碳數的關係較佳。
又，較佳為R1a及R1b一同為相同種類之基。於此，所謂「R1a及R1b一同為相同種類之基」，係意指R1a及R1b一同為屬於選自由上述烷基、烷氧基、醯基、烷氧基羰基、氧羰基及鹵素原子所構成之群組中之相同類別之基。
在本發明之化合物(A)若滿足上述之條件，雖 並未特別限定，但例如可列舉分別在下述式(A-1)~式(A-19)表示之化合物(以下稱為化合物(A-N)(N：1~19之整數))。
作為在本發明之化合物(A)，於上述之化合物當中，較佳為化合物(A-1)、化合物(A-4)、化合物(A-7)、化合物(A-9)、化合物(A-10)、化合物(A-17)或化合物(A-19)，更佳為化合物(A-1)、化合物(A-17)或(A-19)。
又，在本發明之化合物(A)可為1種類之化合物，R1a可為相同之基之複數種的化合物之混合物。
在本發明之化合物(B)若滿足上述之條件，雖並未特別限定，但例如可列舉分別在以下述式(B-1)~式(B-19)表示之化合物(以下稱為化合物(B-M)(M：1~19之整數))。
作為在本發明之化合物(B)，於上述之化合物當中，較佳為化合物(B-1)、化合物(B-4)、化合物(B-7)、化合物(B-9)、化合物(B-10)、化合物(B-17)或化合物(B-19)，更佳為化合物(B-1)、化合物(B-17)或(B-19)。
又，在本發明之化合物(B)可為1種類之化合物，R1b可為相同之基之複數種的化合物之混合物。
作為在本發明之化合物(A)與化合物(B)之組合，較佳為化合物(A-1)與化合物(B-1)、化合物(A-4)與化合物(B-4)、化合物(A-7)與化合物(B-7)、化合物(A-9)與化合物(B-9)、化合物(A-10)與化合物(B-10)、化合物(A-17)與化合物(B-17)，或化合物(A-19)與化合物(B-19)；更佳 為化合物(A-1)與化合物(B-1)、化合物(A-17)與化合物(B-17)，或(A-19)與化合物(B-19)。尚，即使在化合物(A)及/或化合物(B)為複數種之化合物的混合物的情況下，在上述組成物所包含之化合物(A)及化合物(B)中，若為包含上述之較佳組合的化合物即可。
在本發明之組成物，於化合物(A)與化合物(B)，除了R1a與R1b為彼此相異之基之外，具有相同構造，由於可將化合物(A)與化合物(B)由同一原料製得，故在組成物之生產性的面上有優勢。列舉具體例進行說明時，例如，可藉由依日本特開平1-146960號公報所揭示之方法，製造化合物(A)及化合物(B)。
作為化合物(A)及化合物(B)之具體製造方法，例如可列舉以下所示之方法。
將以下之一般式(C-1)表示之化合物(以下稱為化合物(C-1))、與以下之一般式(C-2)表示之化合物(以下稱為化合物(C-2))，分別以適當之方法進行重氮化，【化12】R1a-Ar1-NH2 (C-1) R1b-Ar1-NH2 (C-2)
[一般式(C-1)及一般式(C-2)中之各符號皆表示與在上述一般式(A)、上述一般式(B)之各符號相同之基]。
依據日本特開平1-146960號公報所記載之方法，可分別得到以下之以一般式(D-1)表示之化合物(以下稱為化合 物(D-1))、與以下之以一般式(D-2)表示之化合物(以下稱為化合物(D-2))。
【化13】R1a-Ar1-N=N-Ar2-NH2 (D-1) R1b-Ar1-N=N-Ar2-NH2 (D-2)
[一般式(D-1)及一般式(D-2)中之各符號皆表示與在上述一般式(A)、上述一般式(B)之各符號相同之基]。
接著，藉由使化合物(D-1)與化合物(D-2)與以下之以一般式(E-1)表示之化合物(以下稱為化合物(E-1))進行重氮偶合反應，製造化合物(A)與化合物(B)。
[一般式(E-1)中之各符號皆表示與在上述一般式(A)、上述一般式(B)之各符號相同之基]
如上述之方法，在分別製造化合物(A)及化合物(B)，可藉由混合此等，調製本發明之組成物。
另一方面，例如若將化合物(C-1)與化合物(C-2)之混合物於一個反應容器中同時進行重氮偶合反應，可以一次之反應得到化合物(D-1)與化合物(D-2)之混合物，藉由將此混合物進一步與化合物(E-1)進行重氮偶合反應，亦可將化合物(A)及化合物(B)同時，且簡便合成。
如上述可將化合物(A)及化合物(B)同時以一次之反應製得。又，化合物(A)及化合物(B)可藉由其他以往周知之方法製得。例如，藉由使用依日本特開平1-146960號公報所揭示之方法的方法，該業者可輕易以高純度製造化合物(A)及化合物(B)。
在本發明之組成物，將化合物(A)之含量與化合物(B)之含量的合計定為100質量%時之化合物(A)之含量，較佳為2質量%~98質量%，更佳為33質量%~66質量%。尚，上述含量係意指化合物(A)及/或化合物(B)為複數種之化合物的混合物的情況下，該複數種之化合物的合計量。
<聚合性液晶化合物>
所謂聚合性液晶化合物，係於分子內具有聚合性基，藉由配向可顯示液晶相之化合物，較佳為以單獨藉由配向可顯示液晶相之化合物。
所謂聚合性基，係意指與聚合反應相關聯之基，較佳為光聚合性基。於此，所謂聚合性基，係指藉由從後述之聚合起始劑產生之活性自由基或酸等與聚合反應相關聯之基。作為聚合性基，可列舉乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、氧雜環丙烷基(oxiranyl)及氧雜環丁烷基(Oxetanyl)。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、氧雜環丙烷基及氧雜環丁烷基，更佳為丙 烯醯氧基。
聚合性液晶化合物可為熱向性(Thermotropic)液晶型，亦可為向液性(Lyotropic)液晶型。
在本發明之聚合性液晶化合物較佳為顯示層列液晶相之層列液晶性化合物，更佳為顯示高次層列液晶相之高次層列液晶化合物。包含顯示層列液晶相之聚合性液晶化合物的本發明之組成物，藉由偏光性能可提供優異之偏光膜(光學薄膜)。本發明之組成物可包含2種類以上之聚合性液晶化合物。
化合物(A)及化合物(B)即使為分散於由顯示層列液晶相之聚合性液晶化合物所形成之緊密之分子鏈間的狀態，亦可顯示高二色性。
據此，本發明之組成物藉由包含聚合性液晶化合物，可適合使用在二色比高之偏光膜(光學薄膜)的形成。又，藉由聚合聚合性成分之聚合性液晶化合物而形成之光學薄膜，由於成為安定性更為優異之偏光膜(光學薄膜)故適合。
作為高次層列液晶相，可列舉層列B相、層列D相、層列E相、層列F相、層列G相、層列H相、層列I相、層列J相、層列K相及層列L相。其中，較佳為層列B相、層列F相及層列I相，更佳為層列B相。聚合性液晶化合物所顯示之層列液晶相為此等高次層列相時，得到配向有序度更高之偏光膜(光學薄膜)。從包含顯示配向有序度高之高次層列液晶相之聚合性液晶化合物的組成物所得之 偏光膜(光學薄膜)，在X光繞射測定，顯示所謂六角相或結晶相之源自高次構造的布拉格峰(Bragg peak)。所謂布拉格峰，係源自分子配向之面周期構造之峰值。從本發明之組成物所得之偏光膜(光學薄膜)所具有之周期間隔(秩序周期)較佳為0.30~0.50nm。
聚合性液晶化合物所顯示之液晶相的種類，例如可用以下所示之方法確認。即，準備適當之基材，藉由於該基材塗佈包含聚合性液晶化合物與溶劑之溶液，而形成塗佈膜後，進行加熱處理或減壓處理，去除於該塗佈膜所含有之溶劑。接著，藉由將基材上所形成之塗佈膜加熱至各向同性相溫度後，慢慢冷卻，將表現之液晶相藉由由偏光顯微鏡之紋理觀察、X光繞射測定或差示掃描熱量測定進行檢査。在此檢査，例如可確認藉由冷卻至第一溫度，顯示向列(Nematic)液晶相，進而藉由慢慢冷卻至第二溫度，顯示層列液晶相。
聚合性液晶組成物較佳為以式(4)表示之化合物(以下亦稱為「化合物(4)」)。
U1-V1-W1-X1-Y1-X2-Y2-X3-W2-V2-U2 (4)
(式中，X1、X2及X3係分別獨立表示可具有取代基之1,4-伸苯基，或可具有取代基之環己烷-1,4-二基。惟，X1、X2及X3當中之至少一個為可具有取代基之1,4-伸苯基。構成環己烷-1,4-二基之-CH2-可被-O-、-S-或-NR-取代。R係表示碳數1~6之烷基或苯基。
Y1及Y2係分別獨立表示單鍵、-CH2CH2-、-CH2O-、-COO-、-OCOO-、-N=N-、-CRa=CRb-、-C≡C-或-CRa=N-。Ra及Rb係分別獨立表示氫原子或碳數1~4之烷基。
U1係表示氫原子或聚合性基。
U2係表示聚合性基。
W1及W2係分別獨立表示單鍵、-O-、-S-、-COO-或-OCOO-。
V1及V2係分別獨立表示可具有取代基之碳數1~20之烷烴二基，構成該烷烴二基之-CH2-可被-O-、-S-或-NH-取代)
在化合物(4)，X1、X2及X3當中之至少一個，較佳為可具有取代基之1,4-伸苯基。
可具有取代基之1,4-伸苯基較佳為不具有取代基之1,4-伸苯基。可具有取代基之環己烷-1,4-二基較佳為可具有取代基之反式-環己烷-1,4-二基。可具有取代基之反式-環己烷-1,4-二基較佳為不具有取代基之反式-環己烷-1,4-二基。
作為可具有取代基之1,4-伸苯基，或可具有取代基之環己烷-1,4-二基為任意具有之取代基，可列舉甲基、乙基、n-丁基等之碳數1~4之烷基、氰基及鹵素原子。
Y1較佳為單鍵、-CH2CH2-或-COO-，Y2較佳為-CH2CH2-或-CH2O-。
U1為氫原子或聚合性基，較佳為聚合性基。U2為聚合性基。U1及U2較佳為皆為聚合性基，更佳為皆為光 聚合性基。具有光聚合性基之聚合性液晶化合物，可用更低溫條件下進行聚合的點為有利。
U1及U2表示之聚合性基雖可彼此相異，但較佳為彼此相同。作為聚合性基，可列舉乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、氧雜環丙烷基及氧雜環丁烷基。其中，較佳為乙烯氧基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、氧雜環丙烷基及氧雜環丁烷基，更佳為丙烯醯氧基。
作為V1及V2表示之烷烴二基，可列舉亞甲基、伸乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、癸烷-1,10-二基、十四烷-1,14-二基及二十烷-1,20-二基。V1及V2較佳為碳數2~12之烷烴二基，更佳為碳數6~12之烷烴二基。
作為可具有取代基之碳數1~20之烷烴二基為任意具有之取代基，可列舉氰基及鹵素原子。該烷烴二基較佳為不具有取代基之烷烴二基，更佳為不具有取代基，且為直鏈狀之烷烴二基。
以W1及W2係分別獨立表示單鍵或-O-較佳。
作為化合物(4)之具體例，可列舉下述以式(4-1)~式(4-43)表示之化合物。化合物(4)為具有環己烷-1,4-二基的情況下，其環己烷-1,4-二基較佳為反式型。
上述之聚合性液晶化合物的具體例當中，較佳為選自由以式(4-5)、式(4-6)、式(4-7)、式(4-8)、式(4-9)、式(4-10)、式(4-11)、式(4-12)、式(4-13)、式(4-14)、式(4-15)、式(4-22)、式(4-24)、式(4-25)、式(4-26)、式 (4-27)、式(4-28)及式(4-29)表示之化合物所構成之群組中之至少1種類的化合物(4)。
本發明之組成物可包含2種類以上之化合物(4)。組合2種類以上之聚合性液晶化合物時，其中，較佳為至少1種類為化合物(4)，更佳為其中之2種類以上為化合物(4)。藉由組合2種類以上之聚合性液晶化合物，有即使為液晶-結晶相轉移溫度以下之溫度，亦可暫時性保持液晶相的情況。作為組合2種類之聚合性液晶化合物時之混合比，通常為1：99~50：50，較佳為5：95~50：50，更佳為10：90~50：50。
化合物(4)例如可藉由Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)、日本專利第4719156號等之周知文獻所記載之方法製得。
在本發明之組成物的聚合性液晶化合物之含有比例，從提高聚合性液晶化合物之配向性的觀點來看，相對於本發明之組成物的固形分100質量份，較佳為70~99.5質量份，更佳為80~99質量份，再更佳為80~94質量份，特佳為80~90質量份。於此，所謂固形分，係指本發明之組成物中之溶劑以外之成分的合計量。
本發明之光學薄膜及本發明之組成物較佳為包含聚合起始劑及溶劑，如有必要可進一步包含光增感劑、阻聚劑及整平劑。
<聚合起始劑>
聚合起始劑係可開始聚合性液晶化合物之聚合反應之化合物。作為聚合起始劑，較佳為藉由光之作用產生活性自由基之光聚合起始劑。
作為聚合起始劑，可列舉安息香化合物、二苯基酮化合物、烷基苯酮化合物、醯基氧化膦化合物、三嗪化合物、碘鎓鹽及鋶鹽。
作為安息香化合物，可列舉安息香、安息香甲基醚、安息香乙基醚、安息香異丙基醚及安息香異丁基醚。
作為二苯基酮化合物，可列舉二苯基酮、o-苯甲醯基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯基酮、4-苯甲醯基-4'-甲基二苯基硫醚、3,3',4,4'-四(tert-丁基過氧羰基)二苯基酮及2,4,6-三甲基二苯基酮。
作為烷基苯酮化合物，可列舉二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-嗎啉基-1-(4-甲基硫苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基乙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-〔4-(2-羥基乙氧基)苯基〕丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮及2-羥基-2-甲基-1-〔4-(1-甲基乙烯基)苯基〕丙烷-1-酮之寡聚物。
作為醯基氧化膦化合物，可列舉2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦及雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基氧化膦。
作為三嗪化合物，可列舉2,4-雙(三氯甲基)-6- (4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(呋喃-2-基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(4-二乙基胺基-2-甲基苯基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪及2,4-雙(三氯甲基)-6-〔2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪。
作為碘鎓鹽及鋶鹽，例如可列舉下述式表示之鹽。
聚合起始劑可僅使用1種類，亦可組合2種類以上使用。
作為聚合起始劑，亦可使用市售品。作為市售之聚合起始劑，可列舉Irgacure(註冊商標)907、184、651、819、250及369(汽巴精化股份有限公司製)；SEIKUOL(註冊商標)BZ、Z及BEE(精工化學股份有限公司製)；kayacure(註冊商標)BP100及UVI-6992(陶氏化學股份有限公司製)；Adeka Optomer SP-152及SP-170(ADEKA股份有限公司製)；TAZ-A及TAZ-PP(日本Siber Hegner股份有限公司製)；以及TAZ-104(三和化工股份有限公司製)。
本發明之組成物在包含聚合起始劑的情況，在本發明之組成物的聚合起始劑的含量，從難以擾亂聚合性液晶化合物之配向的觀點來看，相對於聚合性液晶化合物100質量份，通常為0.1~30質量份，較佳為0.5~10質量份，更佳為0.5~8質量份。
<溶劑>
溶劑較佳為可完全溶解在化合物(A)及化合物(B)以及上述聚合性液晶化合物之溶劑。又，較佳為對聚合性液晶化合物之聚合反應惰性之溶劑。
作為溶劑，例如可列舉甲醇、乙醇、乙二醇、異丙基醇、丙二醇、乙二醇甲基醚、乙二醇丁基醚及丙二醇單甲基醚等之醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁內酯、丙二醇甲基醚乙酸酯及乳酸乙酯等之酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮及甲基異丁基酮等之酮溶劑；戊烷、己烷及庚烷等之脂肪族烴溶劑；甲苯及二甲苯等之芳香族烴溶劑；乙腈等之腈溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等之醚溶劑；氯仿及氯苯等之含有氯之溶劑；等。此等溶劑可僅1種類使用，亦可組合2種類以上使用。
組成物100質量份所佔有之溶劑的含量較佳為50質量份~98質量份。據此，組成物100質量份所佔有之固形分較佳為2質量份~50質量份。組成物的固形分為50質量份以下時，由於降低組成物的黏度，所得之光學薄膜 的厚度成略均一，有光學薄膜難以產生不均的傾向。上述固形分可考量欲製造之光學薄膜的厚度適當決定。
<增感劑>
藉由使用增感劑，可更加促進聚合性液晶化合物的聚合反應。
作為增感劑，尤其是於本發明之組成物在含有光聚合起始劑的情況下，較佳為光增感劑。作為增感劑，例如可列舉呫噸及噻噸酮等之呫噸化合物(2,4-二乙基噻噸酮、2-異丙基噻噸酮等)；蔥及含有烷氧基之蔥(二丁氧基蔥等)等之蔥化合物；吩噻嗪及紅熒烯等。
在組成物之增感劑的含量，相對於聚合性液晶化合物100質量份，較佳為0.1質量份~30質量份，更佳為0.5質量份~10質量份，再更佳為0.5質量份~8質量份。
<阻聚劑>
藉由使用阻聚劑，可控制聚合性液晶化合物之聚合反應的進度。
作為阻聚劑，可列舉2,6-二-tert-丁基-4-甲基酚等之酚系化合物、二月桂基硫代二丙酸酯等之硫系化合物、亞磷酸三辛酯等之磷系化合物及包含2,2,6,6-四甲基哌啶所代表之受阻胺構造的胺系化合物等之自由基捕獲劑。
以液晶硬化膜之光學薄膜的著色少的點來 看，作為阻聚劑，較佳為酚系化合物。
在組成物之阻聚劑的含量，相對於聚合性液晶化合物100質量份，較佳為0.1質量份~30質量份，佳為0.5質量份~10質量份，再更佳為0.5質量份~8質量份。若為上述範圍內，可不紊亂聚合性液晶化合物的配向進行聚合。阻聚劑可僅1種類使用，亦可併用2種類以上。
<整平劑>
所謂整平劑，係調整組成物之流動性，使塗佈組成物所得之膜具有更能平坦之機能的添加劑，可列舉界面活性劑。作為較佳之整平劑，可列舉“BYK-361N”(BYK Chemie公司製)等之將聚丙烯酸酯化合物作為主成分之整平劑及Sarfron(註冊商標)“S-381”(清美化學股份有限公司製)等之將含有氟原子之化合物作為主成分之整平劑。
在組成物之整平劑的含量，相對於聚合性液晶化合物100質量份，較佳0.01質量份~5質量份，更佳為0.1質量份~3質量份。為上述範圍內時，有使聚合性液晶化合物水平配向容易，且所得之光學薄膜變更平滑的傾向。組成物可具有2種類以上之整平劑。
[實施形態2：光學薄膜]
有關本發明之實施形態2的光學薄膜，係包含有關本發明之實施形態1的組成物。
又，本發明之光學薄膜較佳為由含有聚合性液晶化合 物之本發明的組成物形成。更詳細而言，本發明之光學薄膜在含有聚合性液晶化合物之本發明的組成物，可藉由使該聚合性液晶化合物(聚合性成分)聚合，由硬化該組成物而成之液晶硬化膜所構成。據此，本發明之光學薄膜可包含上述聚合性液晶化合物之聚合物。
本發明之光學薄膜通常係以配向聚合性液晶化合物的狀態硬化之厚度為5μm以下之膜，較佳為聚合性液晶化合物係相對於基材面以水平方向或垂直方向配向的狀態硬化之液晶硬化膜。
本發明之光學薄膜的厚度較佳為0.5μm~5μm，更佳為1μm~3μm。偏光膜的厚度可藉由干涉膜厚計、雷射顯微鏡或觸針式膜厚計測定。
本發明之光學薄膜係藉由含有用作二色性色素之化合物(A)及化合物(B)，來顯示高二色比。
<光學薄膜之構件>
本發明之光學薄膜通常於基材上、或於基材上所形成之配向膜上，塗佈包含聚合性液晶化合物之本發明的組成物，可藉由聚合該組成物中之聚合性液晶化合物而得到。
構成本發明之光學薄膜的構件，具體而言，係針對本發明之光學薄膜的製造所使用之基材及配向膜於以下進行說明。
<基材>
作為基材，可列舉玻璃基材及塑膠基材，較佳為塑膠基材。作為構成塑膠基材之塑膠，例如可列舉聚乙烯、聚丙烯、降莰烯系聚合物等之聚烯烴；環狀烯烴系樹脂；聚乙烯醇；聚對苯二甲酸乙二酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素及纖維素乙酸酯丙酸酯等之纖維素酯；聚萘二甲酸乙二酯；聚碳酸酯；聚碸；聚醚碸；聚醚酮；聚苯硫醚及聚苯醚；等之塑膠。
作為市售之纖維素酯基材，可列舉“Fujitac薄膜”(富士照相膠片股份有限公司製)；“KC8UX2M”、“KC8UY”及“KC4UY”(以上為柯尼卡美能達精密光學股份有限公司製)等。
作為市售之環狀烯烴系樹脂，可列舉“Topas”(註冊商標)(Ticona公司(德)製)、“ARTON”(註冊商標)(JSR股份有限公司製)、“ZEONOR”(註冊商標)、“ZEONEX”(註冊商標)(以上為日本Zeon股份有限公司製)及“Apel”(註冊商標)(三井化學股份有限公司製)。將如此之環狀烯烴系樹脂藉由溶劑鑄造法、熔融擠出法等周知之手段進行製膜，可成為基材。亦可使用市售之環狀烯烴系樹脂基材。作為市售之環狀烯烴系樹脂基材，可列舉“Esyna”(註冊商標)、“SCA40”(註冊商標)(以上為積水化學工業股份有限公司製)、“Zeonor薄膜”(註冊商標)(Optes股份有限公司製)及“ARTON薄膜”(註冊商標)(JSR股份有限公司製)。
基材的厚度於有可實用性操作程度之質量的 點來看，雖以較薄者較佳，但過薄時有降低強度，加工性劣化的傾向。基材的厚度通常為5μm~300μm，較佳為20μm~200μm。
<配向膜>
配向膜係厚度為500nm以下之膜，將聚合性液晶化合物往所期望方向進行液晶配向之具有配向控制力之膜。作為配向膜，可列舉從配向性聚合物形成而成之配向膜、光配向膜及凹溝(groove)配向膜。
配向膜使聚合性液晶化合物的液晶配向變容易。水平配向、垂直配向、混合配向、傾斜配向等之液晶配向的狀態係因配向膜及聚合性液晶化合物的性質進行變化，其組合可任意選擇。配向膜若為作為配向控制力，使水平配向表現之材料，聚合性液晶化合物可形成水平配向或混合配向，若為表現垂直配向之材料，聚合性液晶化合物可形成垂直配向或傾斜配向。於此所謂「水平」、「垂直」等之表現，係將光學薄膜(偏光膜)平面作為基準的情況下，表示經配向之聚合性液晶化合物的長軸方向。所謂垂直配向，係指相對於光學薄膜(偏光膜)平面具有往垂直方向配向之聚合性液晶化合物的長軸之配向。於此所謂「垂直」，係意指相對於光學薄膜(偏光膜)平面為90°±20°之角度。
配向控制力係配向膜由配向性聚合物形成的情況下，可因該聚合物的表面狀態或摩擦條件任意調整， 由光配向性聚合物形成的情況下，可因對於該聚合物之偏光照射條件等任意調整。亦可藉由選擇聚合性液晶化合物的表面張力或液晶性等之物性，來調控聚合性液晶化合物之液晶配向。
作為基材與光學薄膜(偏光膜)之間所形成之配向膜，較佳為不溶於配向膜上形成光學薄膜(偏光膜)時所使用之溶劑，具有在用以溶劑之去除或液晶的配向之加熱處理的耐熱性之膜。作為配向膜，可列舉由配向性聚合物所構成之配向膜、光配向膜及凹溝配向膜等。
配向膜的厚度通常為10nm~500nm，較佳為10nm~200nm。
<由配向性聚合物所構成之配向膜>
由配向性聚合物所構成之配向膜，通常係以將配向性聚合物溶解在溶劑之組成物(以下有時稱為配向性聚合物組成物)塗佈在基材，去除溶劑；或將配向性聚合物組成物塗佈在基材，去除溶劑，進行摩擦(摩擦法)而得到。
配向性聚合物組成物中之配向性聚合物的濃度，配向性聚合物材料雖若為可完全溶解在溶劑的範圍內即可，但較佳為相對於溶液以固形分換算為0.1質量%~20質量%，更佳為0.1質量%~10質量%。
作為市售之配向性聚合物組成物，可列舉SUNEVER(註冊商標)(日產化學工業股份有限公司製)或Optomer(註冊商標)(JSR股份有限公司製)等。
<光配向膜>
光配向膜通常係藉由將包含具有光反應性基之聚合物或單體(光配向性材料)與溶劑之組成物(以下有時稱為光配向膜形成用組成物)塗佈在基材，照射偏光(較佳為偏光UV)而得到。光配向膜以藉由選擇照射之偏光的偏光方向，可任意調控配向控制力之方向的點來看更佳。
所謂光反應性基，係指藉由照射光而產生液晶配向能之基。具體而言，光反應性基係藉由照射光產生之分子的配向誘發或產生異構化反應、二聚化反應、光交聯反應、或如光分解反應之成為液晶配向能的起源之光反應之基。該光反應性基當中，引起二聚化反應或光交聯反應之基，以配向性優異的點來看較佳。作為可產生上述反應之光反應性基，以不飽和鍵，尤其是以具有雙鍵之基較佳，特佳為具有選自由碳-碳雙鍵(C=C鍵結)、碳-氮雙鍵(C=N鍵結)、氮-氮雙鍵(N=N鍵結)及碳-氧雙鍵(C=O鍵結)所構成之群組中之至少一個不飽和鍵之基。
相對於光配向膜形成用組成物之具有光反應性基之聚合物或單體的含量，較佳為0.2質量%以上，特佳為0.3質量%~10質量%。光配向膜形成用組成物於不顯著損害光配向膜特性的範圍內，可包含聚乙烯醇或聚醯亞胺等之高分子材料或光增感劑。
照射偏光中，可為於從塗佈在基板上之光配向膜形成用組成物去除溶劑之組成物直接照射偏光的形 式，亦可為從基材側照射偏光，透過偏光照射在組成物的形式。該偏光特佳為實質上為平行光。照射之偏光的波長為具有光反應性基之聚合物或單體之光反應性基可吸收光能量之波長區域的波長即可。具體而言，特佳為波長250nm~400nm之UV(紫外線)。
尚，進行摩擦或偏光照射時，若進行掩蔽，亦可形成液晶配向的方向不同之複數區域(圖型)。
<凹溝(groove)配向膜>
凹溝配向膜係於膜表面具有凹凸圖型或複數凹溝(溝)之膜。於具有等間隔並列之複數直線狀的凹溝之膜塗佈聚合性液晶化合物的情況下，沿著其溝之方向配向液晶分子。
作為得到凹溝配向膜之方法，可列舉於感光性聚醯亞胺膜表面透過具有圖型形狀之裂縫的曝光用遮罩進行曝光後，進行顯像及清洗處理形成凹凸圖型之方法、於表面具有溝之板狀的原盤，形成硬化前之UV硬化樹脂之層，將樹脂層對基材移動後進行硬化之方法及於基材上所形成之硬化前之UV硬化樹脂之膜，壓制具有複數之溝之輥狀的原盤形成凹凸，然後進行硬化之方法等。具體而言，可列舉日本特開平6-34976號公報及日本特開2011-242743號公報所記載之方法等。
作為塗佈本發明之組成物之方法，可列舉與作為將配向性聚合物組成物塗佈在基材之方法所例示之與 上述的方法相同之方法。
本發明之組成物包含溶劑的情況下，通常係從經形成之塗佈膜去除溶劑。
作為溶劑之去除方法，可列舉自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥法及減壓乾燥法等。
經形成之塗佈膜所包含之聚合性液晶化合物，通常藉由加熱到轉移至溶液狀態之溫度以上，接著冷卻至進行液晶配向之溫度進行配向，形成液晶相。
配向經形成之塗佈膜所包含之聚合性液晶化合物的溫度，可藉由預先使用包含該聚合性液晶化合物之組成物的紋理觀察等求得即可。又，可同時進行溶劑的去除與液晶配向。作為此時之溫度，雖因去除之溶劑或聚合性液晶化合物的種類而異，但較佳為50~200℃的範圍，基材為樹脂基材的情況下，更佳為80~130℃的範圍。
使用1/4波長板之基材，得到具有本發明之光學薄膜與該1/4波長板之圓偏光板的情況下，聚合性液晶化合物之配向方向只要所得之光學薄膜的透射軸與該基材的慢軸(光軸)實質上成為45°的方式進行即可。
藉由於經配向之聚合性液晶化合物照射活性能量線，聚合聚合性液晶化合物。
藉由聚合經配向之聚合性液晶化合物，而得到包含以經配向的狀態聚合之聚合性液晶化合物，與和該聚合性液晶化合物一起配向之化合物(A)及化合物(B)的光學薄膜。
包含保持層列液晶相直接聚合之聚合性液晶化合物之光學薄膜(偏光膜)，與以往之主客體型偏光膜，即保持向列液晶相直接聚合聚合性液晶化合物等所得之偏光膜進行比較，偏光性能較高，又，與僅塗佈二色性色素或向液性(Lyotropic)液晶型之液晶化合物的偏光膜進行比較，偏光性能及強度優異。
作為活性能量線之光源，若為產生紫外線、電子束、X光等之光源即可。較佳為低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等之於波長400nm以下具有發光分布之光源。
活性能量線之照射能量，較佳為對聚合起始劑之活性化，以有效之波長區域的照射強度成為10~5000mJ/cm2的方式設定，更佳為成為100~2000mJ/cm2的方式設定。照射能量較10mJ/cm2更低時，有聚合性液晶化合物的硬化變不夠充分的傾向。
如此形成之本發明之光學薄膜的厚度較佳為0.5μm以上、10μm以下的範圍，更佳為1μm以上、5μm以下的範圍。本發明之光學薄膜的厚度可用干涉膜厚計或雷射顯微鏡或觸針式膜厚計的測定求得。
本發明之光學薄膜特佳為在X光繞射測定得到布拉格峰之光學薄膜。作為得到如此之布拉格峰之本發明的光學薄膜，例如可列舉顯示源自六角相或結晶相之繞射峰值的偏光膜。
本發明之光學薄膜的極大吸收(λmax1)較佳為存在於400nm~800nm的範圍，更佳為存在於500nm~680nm的範圍。
表示本發明之光學薄膜之二色比為65以上，較佳為70以上，更佳為75以上。
經使用之基材並非1/4波長板的情況下，可藉由層合所得之本發明之光學薄膜(偏光膜)、與1/4波長板，得到圓偏光板。此時，較佳為本發明之光學薄膜的透射軸，與1/4波長板之慢軸(光軸)實質上成為45°的方式進行層合。又，藉由使本發明之光學薄膜(偏光膜)之透射軸，與1/4波長板等之相位差薄膜的光軸一致或垂直，亦可得到用作光學補償薄膜之圓偏光板。
本發明之光學薄膜與1/4波長板的層合，可與形成本發明之光學薄膜之基材或形成配向膜之基材一起進行，亦可去除基材，或基材及配向膜來進行。基材或形成配向膜之基材的表面所形成之本發明之光學薄膜，與1/4波長板的層合，例如可將形成本發明之偏光膜的面與1/4波長板使用接著劑進行貼合後，可藉由去除該基材或形成光學薄膜之基材來進行。在此情況下，接著劑可塗佈在本發明之光學薄膜，亦可塗佈在1/4波長板。
<光學薄膜之用途>
光學薄膜(偏光膜)及圓偏光板可使用在各式各樣的顯示裝置。
所謂顯示裝置，係具有顯示元件之裝置，作為發光源，係包含發光元件或發光裝置。作為顯示裝置，可列舉液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置、無機電致發光(EL)顯示裝置、觸控面板顯示裝置、電子發射顯示裝置(電場發射顯示裝置(FED等)、表面電場發射顯示裝置(SED))、電子紙(使用電子墨水和電泳元件之顯示裝置)、電漿顯示裝置、投射型顯示裝置(具有柵狀光閥(Grating light valve,GLV)顯示裝置、數位微鏡裝置(DMD)之顯示裝置等)及壓電陶瓷顯示器等。
液晶顯示裝置亦包含透過型液晶顯示裝置、半透過型液晶顯示裝置、反射型液晶顯示裝置、直視型液晶顯示裝置及投影型液晶顯示裝置等之任一種。此等顯示裝置可為顯示二維圖像之顯示裝置，亦可為顯示三維圖像之立體顯示裝置。尤其是圓偏光板可有效使用在有機EL顯示裝置及無機EL顯示裝置，光學補償偏光板可有效使用在液晶顯示裝置及觸控面板顯示裝置。
[實施例]
<使用藥品>
[二色性色素]
將在實施例及比較例使用之二色性色素示於以下。
[聚合性液晶化合物]
將在實施例及比較例使用之聚合性液晶化合物示於以下。
[其他]
將在實施例及比較例使用之其他藥品示於以下。
聚合性非液晶化合物A：二季戊四醇六丙烯酸酯(Daicel Cytec股份有限公司製)
聚合起始劑A：2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(Irgacure369；汽巴精化公司製)
聚合起始劑B：1-羥基 環己基 苯基 酮(Irgacure184；汽巴精化公司製)
整平劑A：聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie公司製)
溶劑A：二甲苯-異佛爾酮(質量比：95：5)
[實施例1]
[光學薄膜形成用組成物的調製]
混合化合物(F-1)；2.5質量份、化合物(G-1)；3.0質量份、化合物(H-1)；2.2質量份、化合物(A-1)；1.9質量份及化合物(B-1)；1.1質量份以及作為聚合性液晶化合物之化合物(4-6)；90質量份及化合物(4-8)；10質量份以及聚合性非液晶化合物A；5質量份以及聚合起始劑A；1質量份及聚合起始劑B；6質量份以及整平劑A；0.5質量份以及溶劑A；400質量份所得之混合物在80℃攪拌1小時。在目視確認上述混合物中之可溶成分完全溶解後，藉由使用孔徑為0.2微米之過濾器，過濾完全溶解上述可溶物之混合物，而得到光學薄膜形成用組成物(1)。將上述組成物中之二色性色素的含量示於表1。
[光學薄膜的製造以及組成物及光學薄膜的評估]
1.配向膜的形成
使用玻璃基材作為基材。
於該玻璃基材上，將聚乙烯醇(聚乙烯醇1000完全皂化型、和光純藥工業股份有限公司製)之2質量%水溶液(配向膜聚合物組成物)藉由旋塗法塗佈，乾燥後形成厚度100nm之膜。接著，藉由於所得之膜的表面實施摩擦處理形成配向層。摩擦處理係使用半自動摩擦裝置(商品 名：LQ-008型、常陽工學股份有限公司製)，藉由布(商品名：YA-20-RW、吉川化工股份有限公司製)以擠入量0.15mm、回轉數500rpm、16.7mm/s的條件進行。藉由該摩擦處理，得到於玻璃基材上形成配向膜之層合體(1)。
2.光學薄膜的形成
於層合體(1)之配向膜上，將上述光學薄膜形成用組成物(1)藉由旋塗進行塗佈，於120℃之加熱板上加熱乾燥1分鐘後，迅速冷卻至室溫，於上述配向層上形成乾燥被膜。其次，藉由使用UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；牛尾電機股份有限公司製)，照射曝光量1500mJ/cm2(313nm基準)之紫外線，使該乾燥被膜所包含之聚合性液晶化合物聚合，從該乾燥被膜形成光學薄膜(偏光膜)，而得到層合體(2)。此時之光學薄膜(偏光膜)的厚度藉由雷射顯微鏡(奧林巴斯股份有限公司製：OLS3000)測定時為1.8μm。
3.二色比之測定
為了確認所得之光學薄膜(偏光膜)的有用性，如以下般進行測出層合體(2)之二色比。
使用設定附偏光子之疊縫器於分光光度計(島津製作所股份有限公司製：UV-3150)之裝置，以雙光束法測定在極大吸收波長之透射軸方向的吸光度(A1)及吸收軸方向的吸光度(A2)。該疊縫器係於參考側設置將光量切50%之網孔。從經測定之透射軸方向的吸光度(A1)及吸收 軸方向的吸光度(A2)之值，算出比(A2/A1)，而成為二色比。將結果示於表。可說二色比越高，作為偏光薄膜(光學薄膜)越有用。將吸收軸方向之吸光度(A2)之極大吸收波長以及於該波長之二色比的測定結果示於表2。
4.偏光膜之外觀評估
將光學薄膜形成用組成物(1)以20℃靜置90小時後，以同樣之手法製作偏光膜，將因結晶析出導致配向缺陷之有無在目視以及顯微鏡觀察評估。將評估結果示於表1。產生配向缺陷者評估為「×」，將保持無配向缺陷之良好配向性者以成為「○」之二階段評估。將上述評估結果示於表2。
5.組成物之色素析出評估
將剛調液之光學薄膜形成用組成物(1)及於20℃靜置保管90小時之光學薄膜形成用組成物(1)以孔徑0.2微米之過濾器進行過濾，將所得之溶液以液體層析分析，算出化合物(A)及化合物(B)之保持率。保持率定為於保管前後之[(色素之峰值面積(580nm))/(異佛爾酮之峰值面積(254nm))]×100之值。將上述評估結果示於表2。
尚，上述液體層析(LC)係在以下所示之測定條件實施。
管柱：Kinetex 2.6u C18 100A(4.6mm×100mm)
移動相：A液 0.1% TFA/水
B液 0.1% TFA/乙腈
烤箱溫度：40℃
B液 初期濃度：2%
LC程序：時間/單位/處理指令/數值
0.01/泵/B.Conc/2
30.00/泵/B.Conc/100
40.00/泵/B.Conc/100
40.01/泵/B.Conc/2
50.00/泵/B.Conc/2
50.00/調節器/stop
[實施例2]
除了將化合物(A-1)之使用量變更為1.5質量份，化合物(B-1)之使用量變更為1.6質量份之外，其他與實施例1同樣進行，而得到光學薄膜形成用組成物(2)。又，使用光學薄膜形成用組成物(2)，在與實施例1相同之方法製作光學薄膜。進而，在與實施例1相同之方法，實施所得之光學薄膜形成用組成物(2)及從光學薄膜形成用組成物(2)形成之光學薄膜的評估。將上述組成物中之二色性色素的含量示於表1，將上述評估的結果示於表2。
[實施例3]
除了將化合物(A-1)之使用量變更為1.0質量份，化合 物(B-1)之使用量變更為2.2質量份之外，其他與實施例1同樣進行，而得到光學薄膜形成用組成物(3)。又，使用光學薄膜形成用組成物(3)，在與實施例1相同之方法製作光學薄膜。進而，在與實施例1相同之方法，實施所得之光學薄膜形成用組成物(3)及從光學薄膜形成用組成物(3)形成之光學薄膜的評估。將上述組成物中之二色性色素的含量示於表1，將上述評估的結果示於表2。
[實施例4]
除了將化合物(A-1)之使用量變更為0.7質量份，化合物(B-1)之使用量變更為2.4質量份之外，其他與實施例1同樣進行，而得到光學薄膜形成用組成物(4)。又，使用光學薄膜形成用組成物(4)，在與實施例1相同之方法製作光學薄膜。進而，在與實施例1相同之方法，實施所得之光學薄膜形成用組成物(4)及從光學薄膜形成用組成物(4)形成之光學薄膜的評估。將上述組成物中之二色性色素的含量示於表1，將上述評估的結果示於表2。
[比較例1]
除了將化合物(A-1)的使用量變更為2.9質量份，未使用化合物(B-1)之外，其他與實施例1同樣進行，而得到比較用光學薄膜形成用組成物(1)。又，使用比較用光學薄膜形成用組成物(1)，在與實施例1相同之方法製作光學薄膜。進而，在與實施例1相同之方法，實施所得之比較用 光學薄膜形成用組成物(1)及從比較用光學薄膜形成用組成物(1)形成之光學薄膜的評估。將上述組成物中之二色性色素的含量示於表1，將上述評估的結果示於表2。
[比較例2]
除了未使用化合物(A-1)，將化合物(B-1)之使用量變更為3.2質量份之外，其他與實施例1同樣進行，而得到比較用光學薄膜形成用組成物(2)。又，使用比較用光學薄膜形成用組成物(2)，在與實施例1相同之方法製作光學薄膜。進而，在與實施例1相同之方法，實施所得之比較用光學薄膜形成用組成物(2)及從比較用光學薄膜形成用組成物(2)形成之光學薄膜的評估。將上述組成物中之二色性色素的含量示於表1，將上述評估的結果示於表2。
[比較例3]
除了取代化合物(B-1)改使用化合物(B-20)1.0質量份之外，其他與實施例1同樣進行，而得到比較用光學薄膜形成用組成物(3)。又，使用比較用光學薄膜形成用組成物(3)，在與實施例1相同之方法製作光學薄膜。進而，在與實施例1相同之方法，實施所得之比較用光學薄膜形成用組成物(3)及從比較用光學薄膜形成用組成物(3)形成之光學薄膜的評估。將上述組成物中之二色性色素的含量示於表1，將上述評估的結果示於表2。
[結論]
根據表1、2之記載，比較實施例1~4與比較例1、2之 結果，瞭解到藉由使用包含化合物(A)及化合物(B)雙方之組成物，即使於預定期間保管後，亦可形成無配向缺陷，且外觀品質優異之之光學薄膜。
又，比較實施例1~4與比較例3之結果，瞭解到藉由使用包含在上述一般式(A)、一般式(B)之R1a與R1b為彼此相異之基之化合物(A)及化合物(B)雙方之組成物，可形成二色比充分高之光學薄膜。
[產業上之可利用性]
從本發明之組成物形成之光學薄膜可在具備該光學薄膜(偏光膜)之液晶顯示裝置、液晶單元、圓偏光板及有機EL顯示裝置的製造領域被廣泛利用。

Claims (10)

  1. 一種組成物，其係包含一般式(A)表示之化合物、與一般式(B)表示之化合物，【化19】R1a-Ar1a-N=N-Ar2a-N=N-Ar3a-R10a (A) R1b-Ar1b-N=N-Ar2b-N=N-Ar3b-R10a (B)[一般式(A)及一般式(B)中，R10a係表示以一般式(S-1)~一般式(S-7)之任一者表示之基； 一般式(S-2)中，R2a及R3a係分別獨立表示氫原子或烷基；R2a及R3a表示之上述烷基可彼此鍵結形成環；m係表示0~10之整數；Ar1a、Ar1b、Ar2a、Ar2b、Ar3a及Ar3b係分別獨立表示以一般式(Ar-1)~一般式(Ar-3)之任一者表示之基； (上述一般式(Ar-1)~一般式(Ar-3)中，P1及P2係分別獨立表示-S-、-O-或-N(R12)-，R12係表示氫原子或碳數1~4之烷基，Q1、Q2、Q3、Q4及Q5係分別獨立表示=N-或=CH-；R8~R9為氫原子以外之取代基，分別獨立表示碳數1~4之烷基、碳數1~4之烷氧基、鹵素原子或氰基，構成上述烷基及上述烷氧基之一個以上的氫原子可被鹵素原子或羥基取代；q及r係表示0~2之整數)，R1a係分別獨立表示碳數2~5之烷基、碳數2~5之烷氧基、碳數2~5之醯基、碳數2~5之烷氧基羰基、碳數2~5之氧羰基、鹵素原子或氰基，構成上述烷基、烷氧基、醯基、烷氧基羰基及氧羰基之一個以上的氫原子可被鹵素原子或羥基取代；R1b係分別獨立表示碳數3~20之烷基、碳數3~20之烷氧基、碳數3~20之醯基、碳數3~20之烷氧基羰基、碳數3~20之氧羰基、鹵素原子或氰基，構成上述烷基、烷氧基、醯基、烷氧基羰基及氧羰基之一個以上的氫原子可被鹵素原子或羥基取代；惟，R1a與R1b為彼此相異之基]。
  2. 如請求項1所記載之組成物，其中，在上述一般式(A)及上述一般式(B)，R10a為上述一般式(S-2)表示之基。
  3. 如請求項1或2所記載之組成物，其中，上述Ar1a與上述Ar1b為相同之基，上述Ar2a與上述Ar2a為相同之基，上述Ar3a與上述Ar3b為相同之基。
  4. 如請求項1~3中任一項所記載之組成物，其係進一步包含聚合性液晶化合物。
  5. 如請求項4所記載之組成物，其中，上述聚合性液晶化合物係表示層列(Smectic)液晶相。
  6. 一種光學薄膜，其係包含如請求項1~5中任一項所記載之組成物。
  7. 一種光學薄膜，其係聚合如請求項4或5所記載之組成物所包含之聚合性成分而形成。
  8. 一種圓偏光板，其係具備如請求項6或7所記載之光學薄膜。
  9. 一種液晶顯示裝置，其係具備如請求項6或7所記載之 光學薄膜。
  10. 一種顯示裝置，其係具備如請求項8所記載之圓偏光板。
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