TW201805375A - 彈性密封件 - Google Patents

Abstract

一種彈性密封件，其供用於半導體製造設備中，該彈性密封件在其上部表面之至少一部分上包含一油墨，其中該油墨包含一障壁材料，該障壁材料可操作以防止或降低該彈性密封件因紫外線(UV)輻射而降級。本發明亦有關一種形成該彈性密封件的方法以及一種防止或降低該彈性密封件因紫外線(UV)輻射而降級之方法。

Description

彈性密封件

本發明係關於一種彈性密封件。特定言之，本發明係關於一種彈性密封件，其上沈積有油墨，適合用於密封應用，尤其適合用於使用紫外線(UV)輻射之密封應用，諸如用於半導體製造設備中以(例如)提供針對由UV輻射造成之降級的保護。

諸如彈性密封件之密封元件本領域中眾所周知。在許多不同工業中已開發廣泛多種彈性密封件供用於密封應用中。密封件適用於藉由將系統及/或機構接合至一起、藉由阻斷流體或氣體之通過來防止滲漏、在系統內含有壓力及/或排除污染來提供密封特性。此等彈性密封件需要具有某些特性，諸如具有高密封效率、低表面磁導率及高耐久性。另外，密封件必須展現極佳機械特性，例如，高彈性模數、強度及靈活性。當用於某些應用中時，彈性密封件需要具有特定額外特性。舉例而言，在石油及天然氣工業中，除了對某些氣體之耐受性(例如，酸氣)以外，密封件亦需要展現適合於耐受廣泛範圍之溫度的特性。在半導體應用中，密封件必須另外展現對UV輻射及蝕刻程序，諸如涉及電漿及強酸之蝕刻程序的耐受性。

彈性密封件常常作為高效能密封元件用於半導體製造設備 中，以防止空氣或其他處理氣體進入及/或離開設備。此等彈性密封件必須適合於耐受於其中利用之條件。具體言之，密封件用於晶圓處理應用中，諸如將彈性密封件曝露於UV輻射之可交聯材料的UV固化及低電介質層沈積。目前用作此等應用中之密封元件的許多彈性密封件展現對於其中使用之UV輻射的有限保護，使得密封件之經暴露表面由於光吸收遭到破壞且失去其密封特性。因此，用於半導體製造設備中之許多已知彈性密封件展現有限使用期限且迫使頻繁替代，使得設備之操作的效率明顯地降低且成本顯著地增大。

因此，存在製造當曝露於UV輻射時，特定言之當用於半導體製造設備中時展現增大的使用期限之彈性密封件的需要。

根據本發明之一第一態樣，提供一種供用於半導體製造設備中之彈性密封件，該彈性密封件在其上部表面之至少一部分上包含一油墨，其中該油墨包含一障壁材料，該障壁材料可操作以防止或降低該彈性密封件因紫外線(UV)輻射而降級。

較佳地，根據本發明之該彈性密封件為大體上細長的，較佳包含可操作以配合於一通道中的一連續環圈。較佳地，該彈性密封件沿著其長度包含一縱軸。較佳地，該彈性密封件包含一內部邊緣及一外部邊緣。

較佳地，該彈性密封件包含一下部部分及較佳地一上部部分。較佳地，該下部部分可操作以配合於一通道中。較佳地，該下部部分經由摩擦配合而配合於該通道中。較佳地，該彈性密封件之該上部部分自該通道突出，該下部部分可操作以配合於該通道中。較佳地，該上部部分 包含一上部表面。該上部表面在使用中可曝露於UV輻射。

較佳地，該通道之尺寸對應於該彈性密封件之尺寸及形狀。較佳地，該通道之尺寸對應於該彈性密封件之該下部部分的尺寸及形狀。在一個實施例中，該通道可形成大體上對應於該彈性密封件之連續環圈的一連續環圈。

該彈性密封件可為大體上圓柱形的。該彈性密封件可在垂直於該縱軸之橫截面上為大體圓形的。該密封件之垂直於該縱軸之該橫截面可具有大體上對應於該密封件之該下部部分可操作以配合於的該通道之該寬度之一寬度或直徑(若橫截面為圓形的)。該彈性密封件之垂直於該縱軸的該大體圓形橫截面可具有自約0.3mm至28mm，適合地自約1mm至20mm，諸如自約1.5至10mm，(例如)自約1.78mm至6.99mm之一寬度或直徑(若橫截面為圓形的)。

該彈性密封件之該下部部分在垂直於該密封件之該縱軸的橫截面中可大體上為橢圓形或部分橢圓形。該彈性密封件之該下部部分可包含一內部邊緣及一外部邊緣。該彈性密封件之該上部部分在垂直於該密封件之該縱軸的橫截面中可為大體上矩形的，且可操作以擱置於該下部部分之頂部上以大體形成一結合形狀。該上部部分可包含一上部表面。該上部表面可包括該大體上矩形上部部分之拐角中的至少兩者。該密封件的大體上矩形上部部分之至少兩個拐角可為彎曲的。該彈性密封件之該上部部分可包含一內部邊緣及一外部邊緣。該彈性密封件之該上部部分的寬度可寬於該彈性密封件之該下部部分的寬度。該彈性密封件之該下部部分與該上部部分之間的附接點可比該彈性密封件之該下部部分的寬度窄。該彈性 密封件之該下部部分的垂直於該縱軸之橫截面可具有大體上對應於該下部部分可操作以配合於之通道的寬度之寬度。該上部部分之寬度可寬於該彈性密封件之該下部部分可操作以配合於之該通道的寬度。該彈性密封件之該上部部分的該內部及外部邊緣可操作以與該下部部分可操作以配合於之該通道的邊緣重疊。該彈性密封件之垂直於該縱軸之大體上橢圓形或部分橢圓形橫截面可具有自約0.3mm至28mm、適合地自約1mm至20mm、諸如自約1.5至10mm，(例如)自約1.78mm至6.99mm之一寬度。該彈性密封件的該上部部分之垂直於該縱軸之該大體上矩形橫截面可具有自約0.5mm至30mm、適合地自約1mm至20mm，諸如自約1.5至10mm，(例如)自約2mm至7mm、適合地自約0.5mm至2mm，諸如自約7mm至30mm之一寬度，及自約1mm至5mm，適合地自約0.5mm至1mm，諸如自約5mm至20mm之一厚度。

該彈性密封件可為面密封件、唇型密封件、D型密封件、X型密封件、T型密封件、蓋密封件、刮刷密封件、勵磁唇形密封件或彈簧密封件或晶圓處置彈性部件，諸如末端執行器襯墊或吸盤。

彈性密封件可自任何適合之彈性體材料形成。較佳地，此等彈性材料可包含一聚合材料。較佳地，此等聚合材料包含一含氟聚合物材料，包含自包含氟之單體及視情況其他適合之額外單體的組合衍生之一或多種均聚物或共聚物。包含氟之適合單體的實例包括(但不限於)以下各者中之一或多者：偏二氟乙烯(VDF)；六氟丙烯(HFP)；四氟乙烯(TFE)；全氟甲基乙烯醚(PMVE)，或其組合。適合之額外單體的實例包括(但不限於)以下各者中之一或多者：乙烯、丙二醇，或其組合。

較佳地，該聚合材料包含四氟乙烯-全氟甲基乙烯醚(FFKM)或任何其他全氟或完全氟化之彈性體材料。所使用彈性體可為可購自Precision Polymer Engineering之Perlast® G67P、Perlast® G75P、Perlast® G70H、Perlast® G75H、Perlast® G67G、Perlast® G70F、Perlast® G74S、Perlast® G75B、Perlast® G75TP、Perlast® G75TX、Perlast® G76W Perlast® G80A、Perlast® G80D、Perlast® G90DM、Perlast® G90LT、Perlast® G92E、Perlast® G100XT、Perlast® G70A、Perlast® G76G、Perlast® G79G，亦包括其他市售之全氟彈性體。所使用非全氟彈性體材料可為可購自Precision Polymer Engineering之Nanofluor® Y75G、Nanofluor® Y75N、Nanofluor® Y80G、V75SC、V90DM、V75J，亦包括其他市售之全氟彈性體。

該聚合材料可以任何適合之量存在於該彈性體材料中。在某些實施例中，該彈性體材料可基於該彈性體材料之總固體重量而構成該聚合材料之自約40至100wt%、適合地自約80至95wt%或甚至自約90至98wt%。

較佳地，該彈性體材料可進一步包含一或多種交聯材料。適合之交聯材料將對熟習此項技術者熟知。

在某些實施例中，該交聯材料可包含過氧化或腈基固化系統。

該交聯材料可以任何適合之量存在於該彈性體材料中。在某些實施例中，該彈性體材料可基於該彈性體材料之總固體重量而構成該聚合材料之自約0.2至5.0wt%、適合地自約0.5至1.2wt%或甚至自約0.7至2.0wt%。

較佳地，該彈性體材料可進一步包含填充劑及其他處理添加劑。用於該彈性體複合物調配物中之該填充劑可為二氧化矽、二氧化鋁、二氧化鈦及高嶺土。該填充劑之粒徑可自約1nm至5000nm，適合地自10nm至200nm，或甚至5nm至35nm。用於該彈性體複合物調配物中之其他添加劑可為顏料、處理油劑等。各組份可以任何適合之量存在於該彈性體材料中。

該彈性體材料可具有任何適合之硬度。在某些實施例中，該彈性體材料可具有自約30 Shore A至90 Shore A，適合地自60 Shore A至75 Shore A，或甚至75 Shore A至85 Shore A之硬度。

可以任何適合方法量測硬度。用以量測硬度之技術將對熟習此項技術者熟知。在本文中給出之硬度值及範圍係由「ISO 48-Rubber,vulcanized or thermoplastic--Determination of indentation hardness--Part 1：Durometer method(Shore hardness)」或「ASTM D2240 Standard Test Method for Rubber Property--Durometer Hardness」國際標準中所列出之方法而判定。

該彈性體材料可具有任何適合之拉伸強度。在某些實施例中，該彈性體材料可具有自約3至30兆帕斯卡(MPa)、適合地自約10至15MPa、或甚至自約12至20MPa之一拉伸強度。

可以任何適合方法量測拉伸強度。用以量測拉伸強度之技術將對熟習此項技術者熟知。在本文中給出之拉伸強度值及範圍係由「ISO 37-Rubber,vulcanized or thermoplastic--Determination of tensile stress-strain properties」或「ASTM D412 Standard Test Methods for Vulcanized Rubber and Thermoplastic Elastomers--Tension」國際標準判定。

該彈性體材料可具有任何適合之彈性模數。在某些實施例中，該彈性體材料可具有約0.5至15兆帕斯卡(MPa)，適合地自約2至8MPa或甚至自約3至5MPa之按100%伸長率的彈性模數。

可以任何適合方法量測彈性模數。用以量測彈性模數之技術將對熟習此項技術者熟知。在本文中給出之彈性模數值及範圍係由「ISO 37-Rubber,vulcanized or thermoplastic--Determination of tensile stress-strain properties」或「ASTM D412 Standard Test Methods for Vulcanized Rubber and Thermoplastic Elastomers--Tension」國際標準判定。

該彈性體材料可具有任何適合之壓縮變形。在某些實施例中，該彈性體材料在200℃下在24小時之後可具有自約5%至50%，諸如自15%至25%，或甚至自約8%至14%之25%偏轉的一壓縮變形。

可以任何適合方法量測壓縮變形。用以量測壓縮變形之技術將對熟習此項技術者熟知。在本文中給定之壓縮變形值及範圍係由「ISO 815-1-Rubber,vulcanized or thermoplastic--Determination of compression set--Part 1：At ambient or elevated temperatures」或「ASTM D395-Standard Test Methods for Rubber Property--Compression Set」判定。

該彈性體材料可包含市售之彈性材料。適合市售彈性材料之實例包括(但不限於)以下各者中之一或多者：可購自Precision Polymer Engineering之Perlast® G67P、Perlast® G75P、Perlast® G70H、Perlast® G75H、Perlast® G67G、Perlast® G70F、Perlast® G74S、Perlast® G75B、Perlast® G75TP、Perlast® G75TX、Perlast® G76W Perlast® G80A、Perlast® G80D、Perlast® G90DM、Perlast® G90LT、Perlast® G92E、Perlast® G100XT、Perlast® G70A、Perlast® G76G、Perlast® G79G，但不限於市場中可購之其他全氟彈性體。所使用非全氟彈性體材料可為可購自Precision Polyimer Engineering之Nanofluor® Y75G、Nanofluor® Y75N、Nanofluor® Y80G、V75SC、V90DM、V75J，但不限於市場中可購之其他全氟彈性體或其組合。

較佳地，該彈性密封件之該上部表面的至少一部分上之該油墨包含可操作以防止或降低該彈性密封件因UV輻射而降級的障壁材料。較佳地，該油墨包含障壁材料、黏結劑及視情況選用之溶劑。

該障壁材料可包含金屬顆粒。適合金屬顆粒之實例包括(但不限於)以下各者：鋁、銀、鎳、鈦、鋅、金、銅或其組合。該等金屬顆粒以薄片形式併入於該油墨中。較佳地，該等金屬顆粒為鋁。

該等金屬顆粒可具有任何適合之平均粒徑。在某些實施例中，該等金屬顆粒可具有自約0.5至75微米，適合地自約15至40微米之平均粒徑。

可由任何適合之方法量測該平均粒徑。用以量測平均粒徑之技術將對熟習此項技術者熟知。在本文中給出之平均粒徑值及範圍係由掃描電子顯微法所測定。

該障壁材料可包含無機化合物，無機化合物可為顏料。適合無機化合物之實例包括(但不限於)以下各者：二氧化鈦、二氧化鋁、碳黑，或其組合。該等無機化合物可作為粉末併入至該油墨中，且以適合量分散於溶劑中。

該等無機化合物可具有任何適合之平均粒徑。在某些實施例中，該等無機化合物可具有自約0.1至10微米，適合地自約2至8微米， 或甚至自約2至5微米之平均粒徑。

熟習此項技術者將瞭解，用於量測金屬顆粒之平均粒徑的方法亦可用以量測無機化合物之平均粒徑。

較佳地，該黏結劑可包含樹脂載體。適合樹脂載體之實例包括可購自Sartomer® Arkema、Lucite International®或任何其他製造商之熱固化型丙烯酸酯及環氧丙烯酸酯型低及中等黏度樹脂。

視情況，該油墨可進一步包含溶劑。適合溶劑之實例包括甲苯、環己酮、丙酮、甲基乙基酮、四氫呋喃、己烷、二甲苯、二氯甲烷、四氯化碳。較佳地，該油墨為溶液或懸浮液。較佳地，該溶劑為甲苯與丙酮之1：1(wt)混合物。

該障壁材料可以任何適合之量存在於該油墨中。在某些實施例中，該油墨可構成自約10至75wt%，諸如自約10至25%。

該樹脂黏結劑可以任何適合之量存在於該油墨中。在某些實施例中，該油墨可構成樹脂之自約0至25wt%，諸如自約5至20wt%。

在某些實施例中，塗佈組合物之固態組成物內容為至少25%且適合地小於85%。

較佳地，該油墨可塗覆至該彈性密封件上，適合地塗覆至其上部表面之一部分上，塗覆至任何適合之乾燥薄膜厚度。在某些實施例中，該油墨可沈積成自約0.1nm至500μm(微米)，諸如自約1nm至100nm，或甚至自約5μm至50μm之一乾燥薄膜厚度。在某些實施例中，該油墨可沈積成自約5μm至100μm，適合地自約5um至10μm之一乾燥薄膜厚度。

該油墨可以任何適合之方法塗覆至該彈性密封件。塗覆該油 墨之方法將對熟習此項技術者熟知。適合之沈積方法包括(但不限於)以下各者：網版印刷、噴墨印刷、噴霧印刷，或其組合。較佳地，可覆蓋該上部表面之全部或一部分。

該油墨可作為單層或作為一多層系統之部分塗覆至該彈性密封件。在某些實施例中，該油墨可塗覆至底塗劑之頂部上或作為底塗層自身而塗覆。該油墨可形成頂塗層。該油墨可塗覆至該彈性密封件之該上部表面一次或多次。

在某些實施例中，可藉由一熱固化程序使該油墨固化於該彈性密封件上。適合地，可在自約50至250℃，諸如約175至250℃之一溫度下固化該油墨組成物。較佳地，歷時自約15分鐘至24小時之時間段熱固化該油墨組成物。

較佳地，該油墨可操作以防止或降低該密封件因紫外線(UV)輻射而降級。較佳地，該油墨可操作以防止或降低該密封件因短波紫外線(UV)輻射而降級。

較佳地，根據本發明之包含沈積於其上部表面之至少一部分上的油墨之彈性密封件適合用於半導體製造設備及半導體製造程序中。

根據本發明之一第二態樣，提供一種形成供用於半導體製造設備中之一彈性密封件的方法，該方法包含將一油墨沈積於該彈性密封件之一上部表面的至少一部分上，其中該油墨包含一障壁材料，該障壁材料可操作以防止或降低該彈性密封件因紫外線(UV)輻射而降級。

根據本發明之另一態樣，提供一種防止或降低一彈性密封件因紫外線(UV)輻射而降級的方法，該方法包含將一油墨沈積於該彈性密 封件之一上部表面的至少一部分上，其中該油墨包含一障壁材料，該障壁材料可操作以防止或降低該彈性密封件因紫外線(UV)輻射而降級。

在本文中所利用之術語「紫外線(UV)輻射」意謂具有大約10至400nm之一波長的UV輻射。

在本文中所利用之術語「短波紫外線(UV)輻射」意謂具有大約100至280nm及280至315nm之一波長的UV輻射，通常稱為UVC及UVB。

如本文所使用，單數形式包括複數形式且複數形式涵蓋單數形式，除非另外具體陳述。舉例而言，單數形式之使用，亦即「一(a/an)」包括「一或多個」。另外，如本文所使用，「或」之使用意謂「及/或」，除非另外具體陳述，即使「及/或」可明確地用於某些個例中。

在本文中所含有之所有特徵可與上述態樣中之任一者以任何組合加以組合。

為了較佳地理解本發明及展示可如何實施本發明之實施例，現將作為實例參考圖解附圖，其中：

圖1展示在其上部表面上具有油墨之彈性密封件的立體圖。

圖2展示垂直於在其上部表面上具有油墨的彈性密封件之縱軸的圓形橫截面圖。

圖3展示垂直於在其上部部分之上部表面上具有油墨的彈性密封件之縱軸的橫截面圖。

參看圖1，提供為細長的、沿著其長度包含縱軸的彈性密封件102。彈性密封件102包含經由摩擦配合而配合於通道中(未展示)之連續環圈。彈性密封件102包含內部邊緣104及外部邊緣106。彈性密封件102包含下部部分(未展示)及上部部分(未展示)。下部部分經由摩擦配合而配合於通道(未展示)中，且上部部分(未展示)自下部部分配合於之通道突出。通道之尺寸對應於彈性密封件之下部部分(未展示)的尺寸及形狀。

彈性密封件102自FFKM形成，然而，熟習此項技術者應瞭解，用以形成彈性密封件102之彈性體材料可變化。

上部部分(未展示)包含上部表面108，當彈性密封件用於半導體製造設備(未展示)中時，上部表面108曝露於紫外線(UV)輻射。油墨110在彈性密封件102之上部表面108上。

參看圖2，提供垂直於彈性密封件(204)之縱軸(未展示)的彈性密封件204之橫截面202。彈性密封件204經由摩擦配合而配合於通道206中。彈性密封件204包含內部邊緣208及外部邊緣210。彈性密封件204包含下部部分212及上部部分214。下部部分212經由摩擦配合而配合於通道206中，且上部部分214自下部部分212配合於之通道206突出。通道206之尺寸對應於彈性密封件之下部部分212的尺寸及形狀。上部部分214包含上部表面216。當彈性密封件用於半導體製造設備中(未展示)時，上部表面曝露於紫外線(UV)輻射。油墨218在彈性密封件204之上部部分214的上部表面216上。

彈性密封件204之垂直於彈性密封件之縱軸(未展示)的橫 截面202為圓形的。彈性密封件204為圓柱形(未展示)。彈性密封件204之橫截面202具有對應於彈性密封件204之下部部分212配合於之通道206的寬度。

彈性密封件204自FFKM形成，然而，熟習此項技術者應瞭解，用以形成彈性密封件204之彈性體材料可變化。

參看圖3，提供彈性密封件304之垂直於彈性密封件304之縱軸(未展示)的橫截面302。彈性密封件304經由摩擦配合而配合於通道306中。彈性密封件304包含下部部分308及上部部分310。下部部分308經由摩擦配合而配合於通道中，且上部部分310自下部部分308配合於之通道306突出。通道306之尺寸對應於彈性密封件304之下部部分308的尺寸及形狀。上部部分310包含上部表面312。當彈性密封件304用於半導體製造設備(未展示)中時，上部表面312曝露於紫外線(UV)輻射。油墨314在彈性密封件304之上部部分310的上部表面312上。

彈性密封件304之下部部分308在垂直於彈性密封件304之縱軸(未展示)的橫截面中為部分橢圓形的。下部部分308包含內部邊緣316及外部邊緣318。

彈性密封件304之上部部分310在垂直於彈性密封件304之縱軸(未展示)的橫截面中為矩形的。上部表面312包含上部部分310之彎曲的兩個拐角。上部部分310擱置於下部部分308之頂部上以形成結合形狀。上部部分310包含內部邊緣320及外部邊緣322。

彈性密封件304之上部部分310的寬度寬於彈性密封件304之下部部分308的寬度。彈性密封件304之下部部分308與上部部分310之 間的附接點324比彈性密封件304之下部部分308的寬度窄。彈性密封件304之下部部分308具有對應於下部部分308配合於之通道306的寬度之橫截面。上部部分310之寬度寬於下部部分308配合於之通道306的寬度。彈性密封件304之上部部分310的內部邊緣320及外部邊緣322與下部部分308配合於之通道306的邊緣重疊。

彈性密封件304自FFKM形成，然而，熟習此項技術者應瞭解，用以形成彈性密封件304之彈性體材料可變化。

為了較佳地理解本發明及展示可如何實施本發明之實施例，現將藉由實例參考以下實驗資料。

實施例

油墨組成物

根據表1中之配方製備油墨組成物(組成物1及組成物2)

經由以下方法測試具有於其上沈積之油墨組成物(塗層組合物1及2)的彈性密封件及不具有於其上沈積之此等組合物的比較性彈性密封件之特性。

測試基板之製備：

組合物1及2塗覆至50微米厚度之彈性體材料的20×10×2mm薄片，如表2中所展示。

相同彈性材料在於其上未施加油墨組成物1及2之情況下曝露於相同條件，以形成比較實施例1至3。

薄片曝露於UV輻射(185至254nm)，歷時1100小時，在75℃下，距600瓦特UV源(在閉合/通氣腔室中產生185及254nm波長光)下方2cm距離曝露於UV輻射。

在根據以下程序而曝露於UV輻射前後，測試且評估樣本以得到重量、色彩、表面及硬度改變。

重量改變：根據以下公式計算樣本之重量改變：重量改變(%)=((初始重量-最終重量)/初始重量)×100

色彩改變：相對於於其上塗覆有油墨之相同彈性體材料的新製樣本而評估色彩之改變。在螢光白光下分析改變。

表面改變：根據破裂程度評估表面之改變。使用低功率光顯微鏡以30倍及97倍放大率且使用1至5之評定值分析改變，其中5為最少降級。

硬度改變：根據ASTM D2240使用Shore A硬度計評估硬度之改變。

結果展示於下文之表3中。

表面改變：

5 無改變

4 輕微改變

3 中度改變

2 中度/重度改變

1 重度改變

結果表明，根據本發明之彈性密封件(包含列印於其上部表面之至少一部分上的基於鋁之油墨)展示密封件之特徵的較少改變，因此表明在曝光於短波紫外線(UV)輻射之後比非塗佈彈性密封件展現對降級之增大耐受性。根據本發明之彈性密封件因此當用於半導體處理設備及程序中時具有較長使用期限。

將注意力指向與本申請案同時或先於結合本申請案之本說明書申請且對公眾查閱本說明書開放之所有論文及文件，且所有此類論文及文件之內容均以引用之方式併入本文中。

本說明書中所揭示之所有特徵(包括任何隨附申請專利範圍、摘要及圖式)及/或如此揭示之任何方法或製程的所有步驟可以任何組合加以組合，該等特徵及/或步驟中之至少一些相互排斥之組合除外。

除非另外明確說明，否則本說明書(包括任何隨附申請專利範圍、摘要及圖式)中所揭示之各特徵可以起到相同、等效或類似目的之替代特徵置換。因此，除非另外明確說明，否則所揭示之每一特徵僅為一系列通用等效或類似特徵之一個實例。

本發明不限於前述實施例之細節。本發明擴展至本說明書(包括任何隨附申請專利範圍、摘要及圖式)中所揭示之特徵的任何新穎之特徵或任何新穎的組合，或擴展至如此揭示之任何方法或製程的步驟之任何新穎步驟或任何新穎組合。

Claims (15)

1. 一種彈性密封件，其供用於半導體製造設備中，該彈性密封件在其上部表面之至少一部分上包含一油墨，其中該油墨包含一障壁材料，該障壁材料可操作以防止或降低該彈性密封件因紫外線(UV)輻射而降級。
2. 如申請專利範圍第1項之彈性密封件，其中該密封件為大體上細長的，較佳包含可操作以適合一通道中的一連續環圈。
3. 如申請專利範圍第2項之彈性密封件，其中該彈性密封件包含一下部部分及一上部部分，其中該下部部分可操作以經由摩擦配合而適合一通道中。
4. 如申請專利範圍第3項之彈性密封件，其中該彈性密封件之該上部部分自該通道突出，該下部部分可操作以適合該通道中，且該上部表面在使用中可曝露於UV輻射。
5. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之彈性密封件，其中該彈性密封件為一簡單O型環、面密封件、唇型密封件、D型密封件、X型密封件、T型密封件、蓋密封件、刮刷密封件、勵磁唇形密封件或彈簧密封件或晶圓處置彈性部件，諸如末端執行器襯墊或吸盤。
6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項之彈性密封件，其中該彈性密封件係自包含一或多種含氟聚合物材料之一聚合材料形成，包含自包含氟之單體的組合衍生之一或多種均聚物或共聚物。
7. 如申請專利範圍第1至6項中任一項之彈性密封件，其中該障壁材料包含金屬顆粒。
8. 如申請專利範圍第7項之彈性密封件，其中該等金屬顆粒包括以下各者中之一或多者：鋁、銀、鎳、鈦、鋅、金及銅。
9. 如申請專利範圍第1至8項中任一項之彈性密封件，其中該等金屬顆粒以薄片形式併入於該油墨中。
10. 如申請專利範圍第1至9項中任一項之彈性密封件，其中該等金屬顆粒具有自約0.5至75微米之一平均粒徑。
11. 如申請專利範圍第1至10項中任一項之彈性密封件，其中該障壁材料可包含無機化合物。
12. 如申請專利範圍第11項之彈性密封件，其中該等無機化合物包括以下各者中之一或多者：二氧化鈦、二氧化鋁、碳黑。
13. 如申請專利範圍第1至12項中任一項之彈性密封件，其中該等無機化合物具有自約0.1至10微米之一平均粒徑。
14. 一種形成供用於半導體製造設備中之一彈性密封件的方法，該方法包含將一油墨沈積於該彈性密封件之一上部表面之至少一部分上，其中該油墨包含一障壁材料，該障壁材料可操作以防止或降低該密封件因紫外線(UV)輻射而降級。
15. 一種防止或降低一彈性密封件因紫外線(UV)輻射而降級之方法，該方法包含將一油墨沈積於該彈性密封件之一上部表面的至少一部分上，其中該油墨包含一障壁材料，該障壁材料可操作以防止或降低該彈性密封件因紫外線(UV)輻射而降級。