TW201741483A - 真空裝置 - Google Patents

Abstract

以小的力來支撐大氣壓。在藉由內部蓋構件(17)來將內部搬入搬出口(13)氣密地作閉塞時，藉由將移動側連桿構件(41)和固定側連桿構件(42)設為一直線，來對起因於被施加於內部蓋構件(17)處之大氣壓所致之欲使移動側連桿構件(41)沿著導引軸(28)來朝向固定構件(30)側移動之力作支撐。當將移動側連桿構件(41)和固定側連桿構件(42)作連接之共通旋轉軸線(33)為從移動側旋轉軸線(31)和固定側旋轉軸線(32)所位置的滑動構件側平面(46)而些許地分離的情況時，係能夠以小的力來維持由內部蓋構件(17)所致之內部搬入搬出口(13)之閉塞。

Description

真空裝置

本發明，係有關於真空裝置之技術領域，特別是有關於使處理對象物在大氣氛圍中和真空氛圍中移動的真空裝置。

在真空氛圍中而於處理對象基板表面上形成薄膜或者是對於處理對象基板表面進行蝕刻的真空裝置，係被廣泛作使用，因此，在維持真空裝置之真空槽中之真空氛圍的同時亦使處理對象基板在大氣中和真空氛圍中之間移動的技術係為重要。

圖24(a)之元件符號100，係為進行處理對象基板104之搬入搬出的真空裝置，並藉由真空排氣裝置108來作真空排氣，在被設為真空氛圍之主真空槽101之內部，係被配置有內部蓋構件103。在內部蓋構件103之上部，係在使真空閥110作了關閉的狀態下而被配置有處理對象基板104，藉由被設置在主真空槽101之底面下的 動力源(致動器)111來使升降軸109上升，並將處理對象基板104乘載於被設置在升降軸109之上端處的內部蓋構件103上，而使其移動至被設置在主真空槽101之開口107的周圍之搬入搬出槽102內。

之後，藉由內部蓋構件103，來將開口107作氣密閉塞，並從氣體導入裝置106來將氣體導入至搬入搬出槽102之內部，而在搬入搬出槽102之內部氛圍成為了大氣壓力時，將外部蓋構件105開啟(圖24(b))，並將處理對象基板104從內部蓋構件103上除去。

此時，在內部蓋構件103處係被施加有大氣壓，動力源111係有必要以較大的力來支撐升降軸109。

一般而言，當將致動器作為動力源111來使用的情況時，在使內部蓋構件103將處理對象基板104作升降驅動的全部區間中，係成為使用超標規格(over spec)的致動器。

另一方面，例如，假設在將0.5MPa之空壓汽缸作為動力源111來使用的情況時，若是去除風箱之大氣作用和自身重量的影響，則空壓汽缸之作用剖面積，係至少需要成為內部蓋構件103之大氣壓作用面積的5分之1，依存於內部蓋構件103之面積，係會需要使用大口徑的空壓汽缸，而導致成本提高並造成大幅度的能量損失。

又，當在動力源111處使用空壓汽缸的情況時，係並無法將內部蓋構件103之在中間位置處的停止精確度提高或者是將動作回應性提高，而並不實用。

雖然亦可使用將伺服馬達和滾珠螺桿作了組合的直動機構來作為動力源111，但是，伺服馬達係會成為需要數十kW以上之電力，又，依存於情況，也會成為需要數百kW之超大型尺寸的裝置，而使成本變得非常高。

〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕

[專利文獻1]日本特開2006-156762號公報

[專利文獻2]日本特開2008-146909號公報

[專利文獻3]日本實開平7-41959號公報

本發明，係為了解決上述先前技術之問題而創作者，其目的，係在於提供一種能夠以較小的力來支撐大氣壓之真空裝置。

為了解決上述課題，本發明，係為一種真空裝置，係具備有：搬入搬出槽和主真空槽，係藉由內部搬入搬出口而使內部氛圍相互被作連接，並藉由真空排氣裝置而使內部氛圍分別被作真空排氣；和內部蓋構件，係將前述內部搬入搬出口氣密地作閉塞；和主移動裝置，係使前述內部蓋構件，朝向身為接近前述內部搬入搬出口之方 向的近接方向或者是身為從前述內部搬入搬出口而分離的方向之分離方向作移動，在前述內部蓋構件處，係被設置有較前述內部搬入搬出口而更大之環狀之內部密著部、和被形成為較前述內部搬入搬出口而更小並被前述內部密著部所包圍並且被配置有處理對象物之配置部，若是從前述配置部為位置於前述主真空槽之內部氛圍中的狀態起而使前述內部蓋構件朝向前述近接方向移動並使前述內部密著部與身為前述內部搬入搬出口之周圍的部份之周圍部作氣密接觸，則前述內部搬入搬出口係藉由前述內部蓋構件而被氣密地作閉塞，前述配置部係與前述搬入搬出槽之內部氛圍相接觸，前述主移動裝置，係具備有被設置在前述內部蓋構件處之從動側移動構件、和藉由動力源而被移動的驅動側移動構件、和將前述驅動側移動構件之移動傳導至前述從動側移動構件處並使前述從動側移動構件朝向前述近接方向和前述分離方向移動之連桿機構，該真空裝置，其特徵為：前述連桿機構，係具備有：導引軸，係相對於前述主真空槽而靜止；和滑動構件，係可沿著前述導引軸來直線移動地而被安裝在前述導引軸處；和移動側連桿構件，係以能夠以使相對於前述滑動構件之相對性的位置被作了固定的移動側旋轉軸線作為中心並使其中一端側進行旋轉的方式，而被設置在前述滑動構件處；和固定構件，相對於前述主真空槽而為靜止；和固定側連桿構件，係以能夠以通過前述固定構件並與前述移動側旋轉軸線相平行的固定側旋轉軸線作為中心並使其中一端側進行旋轉的方 式，而被設置在前述固定構件處；和驅動側連桿構件，係以能夠以通過前述驅動側移動構件並與前述移動側旋轉軸線相平行之驅動側旋轉軸線作為中心並使其中一端側進行旋轉的方式，而被設置在前述驅動側移動構件處，前述移動側連桿構件之另外一端側與前述固定側連桿構件之另外一端側，係使相對於前述移動側連桿構件之另外一端側和前述固定側連桿構件之另外一端側的相對性之位置被作固定，並以能夠以與前述移動側旋轉軸線相平行之共通旋轉軸線作為中心來旋轉的方式而被相互作安裝，前述驅動側連桿構件，係使相對於前述移動側連桿構件和前述固定側連桿構件中之其中一者的相對性之位置被作固定，並且被設為能夠以身為與前述移動側旋轉軸線相平行之軸線和與前述共通旋轉軸線相互一致地而作配置之軸線的其中一者之軸線之推壓旋轉軸線作為中心來旋轉，並且被安裝在前述推壓旋轉軸線之位置為相對性地被作了固定的前述移動側連桿構件和前述固定側連桿構件之其中一方或者是雙方處，前述動力源所輸出之力，係藉由前述驅動側連桿構件，而被傳導至前述移動側連桿構件和前述固定側連桿構件中之被安裝有前述驅動側連桿構件之構件處，在使前述移動側旋轉軸線和前述固定側旋轉軸線所位置之滑動構件側平面、和前述共通旋轉軸線，此兩者間之距離，為被設為前述移動側旋轉軸線與前述共通旋轉軸線之間之距離和前述固定側旋轉軸線與前述共通旋轉軸線之間之距離中的較大之距離之10%以下之值的狀態下，前述內部密著部係 與前述周圍部氣密地作接觸並被設為使前述內部蓋構件將前述內部搬入搬出口氣密地作閉塞的氣密狀態。

進而，本發明，係為一種真空裝置，其中，係在前述共通旋轉軸線被包含於前述滑動構件側平面中的狀態下，被設為前述氣密狀態。

本發明，係為一種真空裝置，其中，前述共通旋轉軸線與前述推壓旋轉軸線係相互一致。

本發明，係為一種真空裝置，其中，在前述搬入搬出槽處，係被連接有將氣體導入至前述搬入搬出槽之內部的氣體導入裝置。

本發明，係為一種真空裝置，其中，前述搬入搬出槽，係被設為能夠相對於前述主真空槽而作氣密接觸及分離，被配置在將前述內部搬入搬出口氣密地作閉塞的前述內部蓋構件之前述配置部上之前述處理對象物，係露出於當使前述搬入搬出槽與前述主真空槽作了氣密接觸時所形成之前述搬入搬出槽之內部氛圍中。

本發明，係為一種真空裝置，其中，係具有複數之前述連桿機構。

若依據本發明，則在藉由內部蓋構件而將內部搬入搬出口氣密地作了閉塞的狀態下，由大氣壓所致之力的被施加於驅動側連桿構件處之分力係成為極微量。

故而，由於內部蓋構件係能夠以小的力來支撐大氣 壓，因此在用以使內部蓋構件移動的主移動裝置處所設置之動力源係可為小。

2~6‧‧‧真空裝置

10‧‧‧主移動裝置

11、81‧‧‧搬入搬出槽

13‧‧‧內部搬入搬出口

16‧‧‧搬入搬出槽之內部氛圍

17‧‧‧內部蓋構件

18a~18d‧‧‧連桿機構

19a‧‧‧內部密著部

19b‧‧‧周圍部

20‧‧‧配置部

21、22‧‧‧處理對象物

23‧‧‧滑動構件

26‧‧‧驅動側移動構件

28‧‧‧導引軸

29‧‧‧副移動裝置

30‧‧‧固定構件

31‧‧‧移動側旋轉軸線

32‧‧‧固定側旋轉軸線

33‧‧‧共通旋轉軸線

34‧‧‧推壓旋轉軸線

35‧‧‧驅動側旋轉軸線

36‧‧‧從動側移動構件

40‧‧‧主真空槽之內部氛圍

41‧‧‧移動側連桿構件

42‧‧‧固定側連桿構件

43‧‧‧驅動側連桿構件

46‧‧‧滑動構件側平面

47‧‧‧驅動側平面

48‧‧‧導引軸中心軸線

49‧‧‧連桿平面

50‧‧‧氣體導入裝置

54‧‧‧控制裝置

55‧‧‧主真空槽

[圖1]係為用以對於真空裝置之動作作說明的部分性之內部正面圖(1)。

[圖2]係為用以對於真空裝置之動作作說明的部分性之內部正面圖(2)。

[圖3]係為用以對於真空裝置之動作作說明的部分性之內部正面圖(3)。

[圖4]係為用以對於真空裝置之動作作說明的部分性之內部正面圖(4)。

[圖5]係為用以對於真空裝置之動作作說明的部分性之內部正面圖(5)。

[圖6]係為用以對於真空裝置之動作作說明的部分性之內部正面圖(6)。

[圖7]係為用以對於真空裝置之動作作說明的部分性之內部正面圖(7)。

[圖8]係為用以對於真空裝置之動作作說明的部分性之內部正面圖(8)。

[圖9]係為用以對於真空裝置之動作作說明的內部側面圖(1)。

[圖10]係為用以對於真空裝置之動作作說明的內部側 面圖(2)。

[圖11]係為用以對於真空裝置之動作作說明的內部側面圖(3)。

[圖12]係為用以對於真空裝置之動作作說明的內部側面圖(4)。

[圖13]係為用以對於真空裝置之動作作說明的內部側面圖(5)。

[圖14]係為用以對於真空裝置之動作作說明的內部側面圖(6)。

[圖15]係為用以對於真空裝置之動作作說明的內部側面圖(7)。

[圖16]係為用以對於真空裝置之動作作說明的內部側面圖(8)。

[圖17]係為用以對於真空裝置作說明的概略立體圖。

[圖18]係為用以對於真空裝置之內部作說明的概略立體圖。

[圖19]係為用以對於真空裝置之真空處理作說明的部分性之內部正面圖。

[圖20]係為用以對於真空裝置之其他例作說明之圖(1)。

[圖21]係為用以對於真空裝置之其他例作說明之圖(2)。

[圖22]係為本發明之其他例之真空處理裝置(1)。

[圖23]係為本發明之其他例之真空處理裝置(2)。

[圖24](a)、(b)：係為用以對於先前技術之真空裝置作說明之圖。

〈真空處理〉

圖1~圖8，係為本發明之真空裝置2的部分性之內部正面圖，圖9~16係為內部側面圖。

參考圖1、圖9，本發明之真空裝置2，係具備有搬入搬出槽11和主真空槽55。

搬入搬出槽11，係被配置在主真空槽55之外部。於此，搬入搬出槽11，係被配置在主真空槽55之上方。

搬入搬出槽11，係為藉由開口38和直方體之6壁中的5壁所構成之容器形之形狀，身為除了底面以外的4壁之邊並身為容器形狀之開口38之邊緣的外部密著部51b，係朝向主真空槽55而被作配置。

搬入搬出槽11，係被安裝於外部移動裝置59處，若是外部移動裝置59動作，則搬入搬出槽11係相對於主真空槽55而移動，並被設為外部密著部51b與主真空槽55氣密地作了接觸的狀態和外部密著部51b從主真空槽55而分離了的狀態之其中一個狀態。

在主真空槽55處，係被設置有貫通主真空槽55之壁的內部搬入搬出口13，內部搬入搬出口13，係被 形成為較外部密著部51b之內周而更小。在外部密著部51b與主真空槽55氣密地作了接觸的狀態下，內部搬入搬出口13，係成為位置在主真空槽55中之身為與外部密著部51b氣密地作了接觸的部份之外周密著部51a之內側。

在外部密著部51b與主真空槽55氣密地作了接觸的狀態下，主真空槽55之內部氛圍40和搬入搬出槽11之內部氛圍16，係從主真空槽55和搬入搬出槽11之外部的氛圍而氣密地分離。另外，在外部密著部51b或者是外部密著部51b所氣密地作了接觸的主真空槽55之外周密著部51a處，係被配置有O型環等之密封構件，密封構件係成為與外部密著部51b和主真空槽55之雙方氣密地作接觸。

主真空槽55，係被與真空排氣裝置53作連接，若是在外部密著部51b與主真空槽55氣密地作接觸並藉由內部搬入搬出口13而使主真空槽55之內部氛圍40和搬入搬出槽11之內部氛圍16被作了連接的狀態下而使真空排氣裝置53動作，則主真空槽55之內部氛圍40和搬入搬出槽11之內部氛圍16係被作真空排氣，搬入搬出槽11之內部氛圍16和主真空槽55之內部氛圍40係被設為真空氛圍。

在主真空槽55之內部氛圍40之中，係被配置有內部蓋構件17。

在內部蓋構件17之外周附近的表面部分處，係被配 置有由O型環所成之內部密著部19a。

此真空裝置2，係具備有主移動裝置10和控制裝置54。主移動裝置10之動作和後述之副移動裝置29之動作，係藉由控制裝置54而被作控制。

內部蓋構件17係被與主移動裝置10作連接，若是藉由控制裝置54而使主移動裝置10動作，則內部蓋構件17，係朝向身為接近內部搬入搬出口13之接近方向和身為從內部搬入搬出口13而分離之分離方向的其中一個方向移動。於此，接近方向和分離方向係相互被設為反方向，但是，係亦可構成為具備有相同方向之成分並相對於內部搬入搬出口13而傾斜地移動。

在內部蓋構件17之朝向搬入搬出槽11所位置的方向之面處，係被配置有環形形狀之內部密著部19a。

內部密著部19a，係被形成為較內部搬入搬出口13而更大。搬入搬出槽11中之身為內部搬入搬出口13之周圍之部分的周圍部19b，係位置於一個平面上，內部密著部19a所位置的內部蓋構件17之邊緣附近之部分，係被設為與周圍部19b所位置的平面相平行之平面。

若是與周圍部19b相分離之內部蓋構件17藉由主移動裝置10而朝向接近方向移動，則內部密著部19a係包圍內部搬入搬出口13而與周圍部19b相接觸。

內部密著部19a，係藉由會起因於推壓而變形並且若是推壓被解除則變形係會回復的橡膠性之材料所構成，內 部密著部19a與周圍部19b所作了接觸的部份，係成為環形形狀。在內部密著部19a處，係可使用橡膠性的身為環形形狀之O型環。

若是內部密著部19a被進而朝向周圍部19b作推壓，則內部密著部19a係起因於推壓而變形，內部蓋構件17和周圍部19b係氣密地作接觸，內部蓋構件17係成為將內部搬入搬出口13氣密地作了閉塞的狀態。在此狀態下，搬入搬出槽11之內部氛圍16和主真空槽55之內部氛圍40係相互分離。搬入搬出槽11之內部氛圍16和主真空槽55之內部氛圍40，係身為真空氛圍。

在內部蓋構件17之內部密著部19a的內側處，係被設置有被配置有處理對象物21之配置部20。

在配置部20與內部搬入搬出口13相對面的狀態下，配置部20之表面，係構成為位置在相較於內部密著部19a而更接近內部搬入搬出口13，在內部密著部19a和內部蓋構件17以及周圍部19b氣密地作了接觸的狀態下，配置部20，係如同圖2、10中所示一般，而露出於搬入搬出槽11之內部氛圍16中，被配置在配置部20處之處理對象物21，係被配置在搬入搬出槽11之內部氛圍16之中。此狀態下之配置部20上的處理對象物21，係與搬入搬出槽11之底面成為非接觸，而被形成有空隙。

在主真空槽55處，係被設置有被與氣體導入裝置50作了連接的導入口39。又，在主真空槽55處，係被連接有真空排氣裝置53，並與將主真空槽55作真空 排氣的主排氣口74相互獨立地，而設置有被與真空排氣裝置53作了連接的副排氣口37。

副排氣口37和導入口39，係被配置在當內部搬入搬出口13係身為藉由內部蓋構件17而被作了閉塞的狀態時而露出於在內部蓋構件17與搬入搬出槽11之底面之間所形成的空間中之主真空槽55之部分處。故而，副排氣口37和導入口39，係成為位置於在內部蓋構件17與搬入搬出槽11之底面之間所形成的空間中。

若是藉由氣體導入裝置50而從導入口39來將氣體導入至在內部蓋構件17與搬入搬出槽11之底面之間所形成的空間中，則被設為了真空氛圍之搬入搬出槽11之內部氛圍16，係被所導入的氣體而充滿。

若是搬入搬出槽11之內部氛圍16成為大氣壓，則係停止氣體之導入，並藉由外部移動裝置59來使搬入搬出槽11朝向從主真空槽55而分離的方向移動，並在搬入搬出槽11與主真空槽55之間形成空隙，而通過該空隙來將處理對象物21從配置部20上來搬出至搬入搬出槽11之外部，並且如同圖3、圖11中所示一般，將未處理之處理對象物22通過空隙來作搬入，並配置在配置部20處。於此期間中，主真空槽55之內部氛圍40係被維持於真空氛圍。圖17、18，係為此狀態下之內部立體圖。

接著，使外部移動裝置59動作，並使外部密著部51b氣密地與主真空槽55之外周密著部51a作接觸。

在此狀態下，搬入搬出槽11之內部氛圍16，係被從主真空槽55之內部氛圍40與搬入搬出槽11之外側的氛圍而氣密地作閉塞，藉由真空排氣裝置53，來將搬入搬出槽11之內部氛圍16從副排氣口37而作真空排氣。

除了為了進行維修而將主真空槽55之內部設為大氣氛圍的情況之外，主真空槽55之內部氛圍40，係藉由真空排氣裝置53而被從主排氣口74作真空排氣，並被設為真空氛圍。若是搬入搬出槽11之內部氛圍16被設為真空氛圍，則藉由主移動裝置10，如同圖4、12中所示一般，內部蓋構件17係被朝向分離方向移動，內部密著部19a係從周圍部19b而分離，搬入搬出槽11之內部氛圍16和主真空槽55之內部氛圍40係被作連接。內部密著部19a之變形係回復。

若是內部蓋構件17藉由主移動裝置10而更進而被朝向分離方向移動，則配置部20和被配置於配置部20處之處理對象物22，係與內部蓋構件17一同地被朝向分離方向移動，如同圖5、圖13中所示一般，在配置部20到達了特定之到達場所處時，內部蓋構件17和配置部20以及處理對象物22係靜止。

在主真空槽55處，係被設置有副移動裝置29。於各圖中，副移動裝置29係作為主真空槽55之內部的部份而被記載有正方形之圖形，副移動裝置29之形狀和內部構造之說明係省略。

被配置在到達了到達場所處之配置部20處的 處理對象物22，係藉由副移動裝置29而被移動至位置於主真空槽55之內部的真空處理區域處。圖6、圖14，係對該狀態作展示，於此，若是作為以由濺鍍法所致之薄膜形成為例來作為真空處理而進行說明，則圖19之元件符號60，係代表濺鍍所被進行之真空處理區域。

在真空處理區域60處，係被配置有台63，在與台63相對面之位置處，係被配置有真空處理裝置68。於此，真空處理裝置68，係藉由陰極電極61和被設置在陰極電極61處之濺鍍靶材62所構成，從氣體導入裝置50來將Ar氣體等之濺鍍氣體導入至主真空槽55之內部氛圍40中，而形成特定壓力之真空氛圍，之後，在將主真空槽55與接地電位作了連接的狀態下，對於陰極電極61施加濺鍍電壓，而對於濺鍍靶材62進行濺鍍，並從濺鍍靶材62而產生濺鍍粒子。

處理對象物22，係藉由身為真空處理之對象的玻璃基板或半導體晶圓等之處理對象基板25、和被保持有處理對象基板25之基板支持器24，而構成之，除了將處理對象物22水平地配置在配置部20上的情況以外，像是使配置部20將處理對象物22作保持並將處理對象物22作水平或鉛直之保持的情況，亦係被包含在本發明中。處理對象基板25和基板支持器24係一同移動。

在台63上，處理對象基板25之表面係被朝向濺鍍靶材62，濺鍍粒子係在主真空槽55之內部飛行並到達處理對象基板25之表面，薄膜27係在處理對象基板 25之表面上成長。

若是在處理對象基板25之表面上形成了特定膜之薄膜27，則係使真空處理結束，台63上之處理對象物22，係藉由副移動裝置29而被朝向內部蓋構件17移動，並被配置在位置於到達場所處之配置部20處。圖7、15，係對於該狀態作展示。

接著，藉由主移動裝置10而使內部蓋構件17朝向接近方向移動，內部密著部19a係與周圍部19b氣密地作接觸，身為真空氛圍之搬入搬出槽11之內部氛圍16和身為真空氛圍之主真空槽55之內部氛圍40係被氣密地作分離。將此狀態，稱為使內部蓋構件17將內部搬入搬出口13氣密地作了閉塞的狀態。

圖8、16，係對於該狀態作展示，將被形成有薄膜27之配置部20上的處理對象物22，藉由與上述之說明相同的程序來與未處理之處理對象物作交換，並反覆進行真空處理。

〈主移動裝置〉

接著，針對主移動裝置10作說明。

參照圖1~圖8、圖9~圖16，主真空槽55，係具備有1個或複數個的貫通主真空槽55之壁(於此係為底面之壁)之軸用孔44，主移動裝置10，係具備有與軸用孔44相同數量之可伸縮之蛇腹管57、和被配置在蛇腹管57之內部並使其中一端分別被固定在蛇腹管57之底面處的 移動軸56。移動軸56係較蛇腹管57更長，其之上端係從蛇腹管57之開口而突出。在此例中，軸用孔44係被設置有複數個。

蛇腹管57，係被配置在主真空槽55之外部，移動軸56之上端，係成為露出於主真空槽55之內部氛圍40之中，各蛇腹管57之開口，係分別被氣密地安裝在軸用孔44之周圍。故而，身為蛇腹管57之外周之氛圍的大氣，係不會有通過軸用孔44而侵入至主真空槽55之內部氛圍40中的情形。

內部蓋構件17，係被安裝在各移動軸56之位置於主真空槽55之內部氛圍40中的上端處。

各蛇腹管57之底面，係被安裝在從動側移動構件36處，若是從動側移動構件36朝向近接方向移動，則係藉由朝向近接方向移動之移動軸56，而一面使蛇腹管57收縮一面推壓內部蓋構件17，內部蓋構件17係朝向近接方向移動。

若是從動側移動構件36朝向分離方向移動，則係藉由朝向分離方向移動之移動軸56，而一面使蛇腹管57伸長一面牽引內部蓋構件17，內部蓋構件17係朝向分離方向移動。接下來，針對使從動側移動構件36移動之構件作說明。

主移動裝置10，係具備有產生力的動力源58、和被安裝於動力源58處並藉由動力源58所產生的力來進行直線移動之驅動軸66。於此，動力源58，係身為 被稱作致動器的裝置，但是，係亦可使用產生直線力之馬達等的裝置。

在驅動軸66處，係被固定有驅動側移動構件26。若是動力源58動作，則驅動軸66和驅動側移動構件26，係朝向與驅動軸66之驅動軸中心軸線67所延伸的方向相平行之方向而一同作直線移動。此直線移動，係為使驅動側移動構件26接近動力源58之方向或者是遠離的方向之其中一者。驅動軸66和從動側移動構件36係並未被作連接，就算是驅動軸66移動，也不會有驅動軸66與從動側移動構件36相互碰觸抵接的情形。

又，主移動裝置10，係具備有將藉由驅動側移動構件26之移動所產生的力傳導至從動側移動構件36處並使從動側移動構件36朝向近接方向和分離方向之其中一個方向移動的連桿裝置18。

連桿裝置18，係具備有1或複數個的連桿機構18a~18d，藉由驅動側移動構件26之直線移動所產生的力，係藉由各連桿機構18a~18d之動作而被傳導至從動側移動構件36處，從動側移動構件36係被朝向近接方向或分離方向之其中一個方向移動。於此，朝向動力源58而接近之方向，係成為分離方向，從動力源58而遠離之方向，係成為近接方向，在此例中，藉由動力源58，若是驅動側移動構件26係被朝向近接方向移動，則其結果，從動側移動構件36亦係被朝向近接方向移動，若是驅動側移動構件26係被朝向分離方向移動，則其結果， 從動側移動構件36亦係被朝向分離方向移動，但是，係亦可採用與此相反之構成。

各連桿機構18a~18d，係分別具備有導引軸28。導引軸28，係分別被配置在主真空槽55之外部，其之其中一端側係被固定在主真空槽55處，導引軸28係相對於主真空槽55而為靜止。各連桿機構18a~18d，係具備有相同的構件，並成為相同的構造，針對複數之連桿機構18a~18d中之1台的連桿機構作說明。

在導引軸28處，係可沿著導引軸28而直線移動地來安裝有滑動構件23。

若是將使相對於滑動構件23之相對性的位置被作固定並且朝向與身為導引軸28之中心軸線的導引軸中心軸線48所延伸之方向相垂直的方向而延伸之軸線，作為移動側旋轉軸線31，則在各滑動構件23處，細長平板狀之移動側連桿構件41的其中一端側，係以能夠以移動側旋轉軸線31作為中心並以特定範圍之角度來相對性地作旋轉的方式，而被作安裝。

此種能夠進行相對性之旋轉的構造，例如，係可藉由在將以同一之旋轉軸線作為中心並相對性的旋轉之2個的構件中之其中一方的構件處而固定軸，並以其之中心軸線作為旋轉軸線，來使旋轉軸線之位置固定，並在另外一方之構件處設置以旋轉軸線作為中心之孔，並且將軸可旋轉地插通於孔中，來得到之，但是，本發明係並不被限定於此種構造。

另外，被包含於真空裝置2中之此導引軸中心軸線48和其他的軸線，係除了相對於被可旋轉地而被作了安裝的構件而進行旋轉移動以外，相對性地為靜止。

另一方面，若是滑動構件23進行直線移動，而移動側旋轉軸線31進行直線移動，則移動側連桿構件41之其中一端側亦係與移動側旋轉軸線31一同作直線移動。

關於此移動側旋轉軸線31和後述之其他之旋轉軸線，以該些之旋轉軸線作為中心而旋轉的構件，係設為在與作為中心之旋轉軸線相垂直的平面內而進行旋轉者。

連桿機構18a~18d，係具備有相對於主真空槽55而為靜止的固定構件30。於此，固定構件30，係被固定於導引軸28之下端處，並相對於主真空槽55而為靜止。

若是將使相對於固定構件30之相對性的位置被作固定並且與移動側旋轉軸線31相平行之軸線作為固定側旋轉軸線32，則在固定構件30處，細長平板狀之固定側連桿構件42的其中一端側，係以能夠以固定側旋轉軸線32作為中心並旋轉的方式，而被作安裝。

若是將使相對於驅動側移動構件26之相對性的位置被作固定並且與移動側旋轉軸線31相平行之軸線作為驅動側旋轉軸線35，則在驅動側移動構件26處，細長平板狀之驅動側連桿構件43的其中一端側，係以能夠以驅動側旋轉軸線35作為中心並旋轉的方式，而被作安 裝，驅動側連桿構件43之其中一端側，係若是驅動側旋轉軸線35移動則會一同移動。

若是將使相對於固定側連桿構件42之另外一端側和移動側連桿構件41之另外一端側之相對性的位置被作固定並且與移動側旋轉軸線31相平行之軸線作為共通旋轉軸線33，則固定側連桿構件42和移動側連桿構件41，係以能夠分別以共通旋轉軸線33作為中心並旋轉的方式，而使固定側連桿構件42之另外一端側和移動側連桿構件41之另外一端側相互被作安裝。若是共通旋轉軸線33進行移動，則固定側連桿構件42之另外一端側和移動側連桿構件41之另外一端側亦係與共通旋轉軸線33一同作移動。

驅動側連桿構件43，係成為能夠以推壓旋轉軸線34作為中心而旋轉，該推壓旋轉軸線34，係身為與相對於移動側連桿構件41及固定側連桿構件42中之其中一方而使相對性的位置被作固定並與移動側旋轉軸線31相平行之軸線、和以會與共通旋轉軸線33相互一致的方式而被作配置並作為其結果而成為使相對於移動側連桿構件41以及固定側連桿構件42之雙方之相對性的位置被作固定之軸線，此些中之其中一者的軸線。

又，驅動側連桿構件43之另外一端側，係被安裝在移動側連桿構件41和固定側連桿構件42中之推壓旋轉軸線34之位置被相對性地作了固定的構件處，動力源58所輸出之力，係藉由驅動側連桿構件43而被傳導至移動側 連桿構件41和固定側連桿構件42中之被安裝有驅動側連桿構件43的構件處。

推壓旋轉軸線34，於此，係以與共通旋轉軸線33相互一致的方式而被作配置，移動側連桿構件41和固定側連桿構件42以及驅動側連桿構件43，係成為以身為推壓旋轉軸線34並且亦身為共通旋轉軸線33之軸線作為中心而旋轉。

滑動構件23和移動側連桿構件41之間之相對性的位置關係，係除了以移動側旋轉軸線31作為中心的相對性之旋轉以外，為成為相對性靜止之關係，同樣的，固定構件30和固定側連桿構件42之間之相對性的關係，係除了以固定側旋轉軸線32作為中心的相對性之旋轉以外，為成為相對性靜止的關係，又，移動側連桿構件41和固定側連桿構件42之間之相對性的位置關係，係除了以共通旋轉軸線33作為中心的相對性之旋轉以外，為成為相對性靜止之關係，又，驅動側連桿構件43和驅動側移動構件26之間之相對性的關係，係除了以驅動側旋轉軸線35作為中心的相對性之旋轉以外，為成為相對性靜止的關係。

又，當共通旋轉軸線33和推壓旋轉軸線34為相互一致的情況時，驅動側連桿構件43和移動側連桿構件41之間之位置關係，係除了以相互一致之共通旋轉軸線33和推壓旋轉軸線34作為中心的相對性之旋轉以外，為成為相對性靜止之關係，並且，關於驅動側連桿構 件43和固定側連桿構件42之間之位置關係，亦同樣的，係除了以相互一致之共通旋轉軸線33和推壓旋轉軸線34作為中心的相對性之旋轉以外，為成為相對性靜止之關係。

另一方面，當共通旋轉軸線33和推壓旋轉軸線34係並未相互一致的情況時，若是將推壓旋轉軸線34以通過移動側連桿構件41的方式來作設置，則驅動側連桿構件43和移動側連桿構件41之間之位置關係，係除了以推壓旋轉軸線34作為中心的相對性之旋轉以外，為成為相對性靜止之關係，驅動側連桿構件43和固定側連桿構件42之間之相對性的位置關係，係成為亦包含有亦具備著以推壓旋轉軸線34作為中心的相對性之旋轉之移動成分以外的其他之移動成分之移動的關係。

又，當共通旋轉軸線33和推壓旋轉軸線34係並未相互一致的情況時，若是將推壓旋轉軸線34以通過固定側連桿構件42的方式來作設置，則驅動側連桿構件43和固定側連桿構件42之間之位置關係，係除了以推壓旋轉軸線34作為中心的相對性之旋轉以外，為成為相對性靜止之關係，驅動側連桿構件43和移動側連桿構件41之間之相對性的位置關係，係成為亦包含有亦具備著以推壓旋轉軸線34作為中心的相對性之旋轉之移動成分以外的其他之移動成分之移動的關係。

若是將內部蓋構件17中之被配置有內部密著部19a的內部蓋構件17之表面作為基準平面45，則在移 動側旋轉軸線31和固定側旋轉軸線32和共通旋轉軸線33和推壓旋轉軸線34以及驅動側旋轉軸線35中，移動側旋轉軸線31係被配置為最為接近基準平面45，接著，係以使推壓旋轉軸線34和共通旋轉軸線33之其中一者成為第2接近並使另外一者成為第3接近的方式而作配置。當推壓旋轉軸線34和共通旋轉軸線33係為相互一致之同一之軸線的情況時，係成為將雙方以相較於移動側旋轉軸線31而成為第2接近的方式來作配置。緊接於推壓旋轉軸線34和共通旋轉軸線33之後，以使固定側旋轉軸線32成為第4接近並使驅動側旋轉軸線35成為距離基準平面45而最遠處的方式來作配置。

被可旋轉地安裝於各軸線31~35處的連桿構件41~43之其中一端或另外一端與基準平面45之間之距離的大小，係和各軸線31~35與基準平面45之間的距離之大小相同。

在使滑動構件23沿著導引軸28而移動時的移動方向，係為與導引軸28之導引軸中心軸線48相平行之方向，於此，基準平面45，係被設為相對於導引軸28之導引軸中心軸線48而為垂直，但是，就算是並非為垂直的情況，亦係被包含在本發明中。

若是將包含移動側旋轉軸線31與固定側旋轉軸線32之雙方的軸線之平面，設為滑動構件側平面46，並將與滑動構件側平面46相平行並且包含有驅動側旋轉軸線35之平面，設為驅動側平面47，則推壓旋轉軸線 34，係位置在滑動構件側平面46與驅動側平面47之間，故而，身為包含有推壓旋轉軸線34和驅動側旋轉軸線35之平面的連桿平面49，係被設為不會與驅動側平面47相互一致。

根據以上所說明了的軸線31~35之位置關係，若是動力源58使驅動軸66和驅動側移動構件26移動，則藉由驅動側移動構件26之移動，驅動側連桿構件43係一面以推壓旋轉軸線34作為中心而旋轉，一面進行移動。

驅動側連桿構件43，係以對於固定側連桿構件42或者是移動側連桿構件41中之推壓旋轉軸線34所通過的固定側連桿構件42或者是移動側連桿構件41而賦予力的方式，而被作安裝，推壓旋轉軸線34所通過之部分，係藉由驅動側連桿構件43，而當驅動側連桿構件43朝向近接方向移動時會被朝向接近滑動構件側平面46的方向作推壓，並當驅動側連桿構件43朝向分離方向移動時會被朝向從滑動構件側平面46而離開的方向作牽引。

藉由此驅動側連桿構件43之旋轉和移動，移動側連桿構件41和固定側連桿構件42之共通旋轉軸線33所位置的另外一端，係以固定側旋轉軸線32作為中心而朝向接近導引軸28之方向作旋轉，滑動構件23，係藉由以移動側旋轉軸線31作為中心而旋轉之移動側連桿構件41，而被朝向近接方向作移動。

藉由滑動構件23之朝向近接方向的移動，從動側移 動構件36和移動軸56以及內部蓋構件17係朝向近接方向移動。

如此這般，在共通旋轉軸線33為位置於滑動構件側平面46與驅動側平面47之間的狀態下，若是驅動側移動構件26朝向近接方向移動，則移動側連桿構件41和固定側連桿構件42之共通旋轉軸線33所位置的另外一端，係朝向接近導引軸28之方向作旋轉移動。

內部密著部19a與周圍部19b之間的距離，係與共通旋轉軸線33和滑動構件側平面46之間的距離相關，若是共通旋轉軸線33和滑動構件側平面46之間的距離變小，則內部密著部19a與周圍部19b之間的距離也會變小。

若是將驅動側連桿構件43之長度設為其之其中一端的驅動側旋轉軸線35與另外一端的推壓旋轉軸線34之間之距離，則驅動側連桿構件43之長度，係被設為能夠使通過移動側連桿構件41之另外一端和固定側連桿構件42之另外一端的共通旋轉軸線33到達被包含於滑動構件側平面46中的位置處之長度以上的長度。

當共通旋轉軸線33移動並接近至了成為與滑動構件側平面46之間分離有特定距離之程度時，內部密著部19a係與周圍部19b相接觸，當更進而作該特定距離之接近而使共通旋轉軸線33到達被包含於滑動構件側平面46中之位置處時，內部密著部19a係被內部蓋構件17所推壓而變形，並成為使內部蓋構件17將內部搬入搬出 口13氣密地作了閉塞的狀態。

此時，搬入搬出槽11之內部氛圍16係身為真空氛圍，在內部蓋構件17處係並未被施加有大氣壓力，但是，若是從導入口39而將氣體導入至搬入搬出槽11之內部氛圍16中，搬入搬出槽11之內部氛圍16被設為大氣壓力，則在內部蓋構件17處係被施加有大氣壓力。此大氣壓力，係成為欲使內部蓋構件17朝向分離方向移動之力，被施加於內部蓋構件17處之大氣壓力，係經由移動軸56和從動側移動構件36而成為具有想要朝向固定構件30接近之成分的力並被施壓於滑動構件23處。

滑動構件23之移動方向係被導引軸28所限制，被施加於滑動構件23處之力，係成為欲使移動側連桿構件41之移動側旋轉軸線31所通過的其中一端朝向固定構件30側來移動的推壓力。

此推壓力，係經由移動側連桿構件41，而被施加於共通旋轉軸線33所通過的移動側連桿構件41之另外一端和固定側連桿構件42之另外一端處。

在本實施例中，共通旋轉軸線33和移動側旋轉軸線31以及固定側旋轉軸線32係相互平行，共通旋轉軸線33和移動側旋轉軸線31以及固定側旋轉軸線32係被包含於同一平面中。當將從滑動構件23而經由移動側連桿構件41所施加至共通旋轉軸線33所通過的移動側連桿構件41之另外一端和固定側連桿構件42之另外一端處的力，分解為與滑動構件側平面46相垂直之成分和與滑 動構件側平面46相平行之成分的情況時，則由於在該力中，與滑動構件側平面46相垂直之成分係成為0，從滑動構件23所施加至移動側連桿構件41處之力，係藉由移動側連桿構件41和固定側連桿構件42而被傳導至固定構件30處，並被固定構件30所支持，因此，在移動側連桿構件41和固定側連桿構件42處，係並未從滑動構件23而被施加有從滑動構件側平面46而分離之方向的力，為了使移動側連桿構件41和固定側連桿構件42靜止而施加於驅動側連桿構件43處之力，係僅需要較小的力即可。

另外，此時，共通旋轉軸線33，係成為相對於與移動側旋轉軸線31以及固定側旋轉軸線32相垂直地交叉之直線，而垂直地交叉。

也就是說，若是忽略各連桿構件41~43之在與各軸線31~35相平行之方向上的位置之差異，則移動側連桿構件41和固定側連桿構件42，係成為與導引軸中心軸線48相平行地而被配置在一直線上，並支撐大氣壓力。另外，於此，共通旋轉軸線33，係位置在固定側旋轉軸線32和移動側旋轉軸線31之間。

當從滑動構件23而對於移動側旋轉軸線31所通過的移動側連桿構件41之其中一端施加有推壓力時，若是共通旋轉軸線33為位置於滑動構件側平面46與驅動側平面47之間，則在藉由推壓力而經由移動側連桿構件41所施加於移動側連桿構件41之另外一端和固定側連桿構件42之另外一端處的力中，係成為包含有身為與 滑動構件側平面46相垂直之方向並且為使共通旋轉軸線33從滑動構件側平面46而分離的方向之力的成分。

故而，在藉由內部蓋構件17而將內部搬入搬出口13氣密地作閉塞時，當共通旋轉軸線33為位置於滑動構件側平面46與驅動側平面47之間的情況時，係有必要藉由動力源58來經由驅動側移動構件26和驅動側連桿構件43而對於共通旋轉軸線33所通過的部分施加將從滑動構件側平面46而分離的方向之力的成分抵消之方向的對抗力。

若是並未施加有此對抗力，則共通旋轉軸線33所通過的移動側連桿構件41之部分和固定側連桿構件42之部分，由於係會成為朝向從滑動構件側平面46而遠離之方向移動，因此，其結果，滑動構件23係朝向接近固定構件30之方向移動，從動側移動構件36和移動軸56以及內部蓋構件17係朝向分離方向移動，內部密著部19a係從周圍部19b而分離，氣密之閉塞會被解除。

此對抗力，當共通旋轉軸線33和移動側旋轉軸線31以及固定側旋轉軸線32係被包含於同一之滑動構件側平面46中的情況時，係成為0，但是，若是共通旋轉軸線33之從滑動構件側平面46所分離的距離變大，則所需要的對抗力係會作幾何級數之增大。

另一方面，就算是當共通旋轉軸線33並未被包含於滑動構件側平面46中的情況時，亦由於若是共通旋轉軸線33越接近滑動構件側平面46則為了使共通旋轉 軸線33靜止所需要的對抗力會變得越小，因此，就算是共通旋轉軸線33從滑動構件側平面46而分離了身為小的值之極限誤差距離以下的距離，動力源58也成為僅需要產生小的力便能夠維持氣密之閉塞。

若是將能夠以小的力來維持氣密之閉塞的滑動構件側平面46與共通旋轉軸線33之間之距離，稱作極限誤差距離，則極限誤差距離，係有必要身為移動側旋轉軸線31和共通旋轉軸線33之間的距離以及固定側旋轉軸線32和共通旋轉軸線33之間的距離中之較大者的距離之10%以下之值，又以身為1%以下之值為理想。

另外，在上述例中，雖係將被設為水平之處理對象物21配置在配置部20之上，而分離方向係身為鉛直下方，近接方向係身為鉛直上方，但是，係亦可將上下逆轉，進而，係亦可將被設為鉛直之處理對象物21，以不會從配置部20而脫落的方式來配置在配置部20處，並將分離方向設為水平之一個方向，並將近接方向設為與分離方向相反方向的水平之一個方向。

係亦可構成為：在被形成於從動側移動構件36處之貫通孔中，係被插入有驅動軸66，驅動軸66係成為從動側移動構件36之導引軸。

在上述例中，在動力源58處雖係使用了致動器，但是，係亦可使用步進馬達和螺旋軸之組合或者是空壓汽缸等，而可廣泛使用能夠使驅動軸66作直線移動之動力源。

在上述例中，移動側連桿構件41和固定側連桿構件42以及驅動側連桿構件43，係對於該些之連桿構件41~43之厚度作考慮，並以在相異之平面中旋轉一事作為前提，而對於為了以小的力來支撐大氣壓力的條件作了說明，但是，假設在忽視厚度的情況時，移動側連桿構件41和固定側連桿構件42以及驅動側連桿構件43係可位置於同一平面中並配置為一直線。

在上述例中，雖係將內部密著部19a配置在內部蓋構件17處，但是，係亦可配置在周圍部19b處。

(其他例)

上述真空裝置2，雖係身為濺鍍裝置，但是，亦可如同圖20中所示之真空裝置3一般，身為在被配置在真空處理區域70中之台73處，配置處理對象物22，並將被設置在主真空槽55處之離子產生裝置71作為真空處理裝置，而將離子產生裝置71所產生的離子經由照射孔72來照射至處理對象基板25處之離子照射裝置。

又，係亦可身為並不在主真空槽55之內部進行真空處理並將大氣中之處理對象物或者是處理對象基板導入至真空氛圍中之搬入搬出裝置。

又，如同圖21中所示一般之使搬入搬出槽81相對於主真空槽55而被作固定並且若是藉由外部側蓋構件82來將被設置在搬入搬出槽81處之外部搬入搬出口84作氣密閉塞則搬入搬出槽81之內部氛圍16和主真空 槽55之內部氛圍40係藉由真空排氣而被設為真空氛圍的真空裝置4，亦係被包含於本發明中。

在此真空裝置4中，係只要在使搬入搬出槽81之內部氛圍16和主真空槽55之內部氛圍40被設為真空氛圍的狀態下，將內部搬入搬出口13藉由內部蓋構件17來氣密地作閉塞，並將氣體導入至搬入搬出槽81之內部氛圍16中而將搬入搬出槽81之內部氛圍16升壓至大氣壓力，之後將外部側蓋構件82開啟，並通過外部搬入搬出口84來對於被配置在搬入搬出槽81之內部氛圍16中的處理對象物22作交換即可。

在上述真空裝置2~4中，雖係將推壓旋轉軸線34和共通旋轉軸線33設為相互一致，但是，就算是並不一致，亦係被包含於本發明中。在圖22中，係對於推壓旋轉軸線34為被設置在從共通旋轉軸線33而分離了的位置之固定側連桿構件42處的真空裝置5作展示。

又，在上述真空裝置2~5中，雖係構成為藉由蛇腹管57而成為就算是移動軸56作移動大氣也不會進入至主真空槽55之內部，但是，係亦可藉由構成為在軸用孔44內設置使外周與軸用孔44之內壁面氣密地作了接觸的O型環並將移動軸56插通於該O型環中而使移動軸56能夠在與O型環之內周氣密地作了接觸的狀態下來移動，而成為就算是移動軸56作移動大氣也不會進入至主真空槽55之內部。

又，在上述例中，連桿裝置18，雖係具備有 複數個的連桿機構18a~18d，但是，具備有1個的連桿機構之真空裝置，亦係被包含於本發明中。於此情況，由於導引軸係成為1根，因此，導引軸之中心軸線，若是設置在會使從從動側移動構件所施加於滑動構件處之動量力變小的位置處，則為理想。

又，在上述真空裝置2~5中，雖係在主真空槽55之內部，設置有1個的當配置部20為位置於該場所處時配置部20上之處理對象物22會藉由副移動裝置29而被移動至真空處理區域60、70中並且位置於真空處理區域60、70中之處理對象物22會藉由副移動裝置29而被移動至配置部20上的到達場所，但是，控制裝置54，由於係能夠使配置部20在主真空槽55之內部之複數的場所處而靜止，並且主移動裝置10係能夠使用可為了成為僅需要輸出較小之力即可而進行高精確度之定位的馬達，因此，應使配置部20作靜止之到達場所，係亦可沿著配置部20之移動方向而在主真空槽55之內部作複數場所之設置。

圖23，係對於沿著配置部20之移動方向而在主真空槽55之內部設置有複數場所(於此係為2個場所)之真空處理區域60a、60b並且在與複數之真空處理區域60a、60b相對應的位置處分別設置有到達場所的真空裝置6作展示。

主移動裝置10，由於係能夠使配置部20以高精確度而靜止於預先所決定了的到達場所處，因此，在此 主真空槽55之內部，當配置部20於任一之到達場所處而靜止時，副移動裝置29a、29b，係成為能夠使各配置部20上之處理對象物22移動至複數之真空處理區域60a、60b中的與配置部20所位置之到達場所相對應的真空處理區域60a、60b處，並且使位置在各真空處理區域60a、60b處的處理對象物22移動至位置於與處理對象物22所位置之真空處理區域60a、60b相對應的到達場所處之配置部20上。

另外，在上述例中，雖係從氣體導入裝置50而將濺鍍氣體導入至主真空槽55之內部氛圍40中，但是，將濺鍍氣體導入至主真空槽55之內部氛圍40中的裝置，係並不被限定於氣體導入裝置50。例如，係亦可身為與氣體導入裝置50相獨立地而另外設置之濺鍍氣體導入裝置。

2‧‧‧真空裝置

10‧‧‧主移動裝置

11‧‧‧搬入搬出槽

13‧‧‧內部搬入搬出口

16‧‧‧搬入搬出槽之內部氛圍

17‧‧‧內部蓋構件

18‧‧‧連桿裝置

18a、18b‧‧‧連桿機構

19a‧‧‧內部密著部

19b‧‧‧周圍部

20‧‧‧配置部

21‧‧‧處理對象物

23‧‧‧滑動構件

26‧‧‧驅動側移動構件

28‧‧‧導引軸

29‧‧‧副移動裝置

30‧‧‧固定構件

31‧‧‧移動側旋轉軸線

32‧‧‧固定側旋轉軸線

33‧‧‧共通旋轉軸線

34‧‧‧推壓旋轉軸線

35‧‧‧驅動側旋轉軸線

36‧‧‧從動側移動構件

37‧‧‧副排氣口

38‧‧‧開口

39‧‧‧導入口

40‧‧‧主真空槽之內部氛圍

41‧‧‧移動側連桿構件

42‧‧‧固定側連桿構件

43‧‧‧驅動側連桿構件

44‧‧‧軸用孔

45‧‧‧基準平面

46‧‧‧滑動構件側平面

47‧‧‧驅動側平面

48‧‧‧導引軸中心軸線

49‧‧‧連桿平面

50‧‧‧氣體導入裝置

51a‧‧‧外周密著部

51b‧‧‧外部密著部

53‧‧‧真空排氣裝置

54‧‧‧控制裝置

55‧‧‧主真空槽

56‧‧‧移動軸

57‧‧‧蛇腹管

58‧‧‧動力源

59‧‧‧外部移動裝置

66‧‧‧驅動軸

67‧‧‧驅動軸中心軸線

74‧‧‧主排氣口

Claims (6)

1. 一種真空裝置，係具備有：搬入搬出槽和主真空槽，係藉由內部搬入搬出口而使內部氛圍相互被作連接，並藉由真空排氣裝置而使內部氛圍分別被作真空排氣；和內部蓋構件，係將前述內部搬入搬出口氣密地作閉塞；和主移動裝置，係使前述內部蓋構件，朝向身為接近前述內部搬入搬出口之方向的近接方向或者是身為從前述內部搬入搬出口而分離的方向之分離方向作移動，在前述內部蓋構件處，係被設置有較前述內部搬入搬出口而更大之環狀之內部密著部、和被形成為較前述內部搬入搬出口而更小並被前述內部密著部所包圍並且被配置有處理對象物之配置部，若是從前述配置部為位置於前述主真空槽之內部氛圍中的狀態起而使前述內部蓋構件朝向前述近接方向移動並使前述內部密著部與身為前述內部搬入搬出口之周圍的部份之周圍部作氣密接觸，則前述內部搬入搬出口係藉由前述內部蓋構件而被氣密地作閉塞，前述配置部係與前述搬入搬出槽之內部氛圍相接觸，前述主移動裝置，係具備有：被設置在前述內部蓋構件處之從動側移動構件；和藉由動力源而被移動的驅動側移動構件；和 將前述驅動側移動構件之移動傳導至前述從動側移動構件處並使前述從動側移動構件朝向前述近接方向和前述分離方向移動之連桿機構，該真空裝置，其特徵為：前述連桿機構，係具備有：導引軸，係相對於前述主真空槽而靜止；和滑動構件，係可沿著前述導引軸來直線移動地而被安裝在前述導引軸處；和移動側連桿構件，係以能夠以使相對於前述滑動構件之相對性的位置被作了固定的移動側旋轉軸線作為中心並使其中一端側進行旋轉的方式，而被設置在前述滑動構件處；和固定構件，相對於前述主真空槽而為靜止；和固定側連桿構件，係以能夠以通過前述固定構件並與前述移動側旋轉軸線相平行的固定側旋轉軸線作為中心並使其中一端側進行旋轉的方式，而被設置在前述固定構件處；和驅動側連桿構件，係以能夠以通過前述驅動側移動構件並與前述移動側旋轉軸線相平行之驅動側旋轉軸線作為中心並使其中一端側進行旋轉的方式，而被設置在前述驅動側移動構件處，前述移動側連桿構件之另外一端側與前述固定側連桿構件之另外一端側，係使相對於前述移動側連桿構件之另外一端側和前述固定側連桿構件之另外一端側的相對性之 位置被作固定，並以能夠以與前述移動側旋轉軸線相平行之共通旋轉軸線作為中心來旋轉的方式而被相互作安裝，前述驅動側連桿構件，係使相對於前述移動側連桿構件和前述固定側連桿構件中之其中一者的相對性之位置被作固定，並且被設為能夠以身為與前述移動側旋轉軸線相平行之軸線和與前述共通旋轉軸線相互一致地而作配置之軸線的其中一者之軸線之推壓旋轉軸線作為中心來旋轉，並且被安裝在前述推壓旋轉軸線之位置為相對性地被作了固定的前述移動側連桿構件和前述固定側連桿構件之其中一方或者是雙方處，前述動力源所輸出之力，係藉由前述驅動側連桿構件，而被傳導至前述移動側連桿構件和前述固定側連桿構件中之被安裝有前述驅動側連桿構件之構件處，在使前述移動側旋轉軸線和前述固定側旋轉軸線所位置之滑動構件側平面、和前述共通旋轉軸線，此兩者間之距離，為被設為前述移動側旋轉軸線與前述共通旋轉軸線之間之距離和前述固定側旋轉軸線與前述共通旋轉軸線之間之距離中的較大之距離之10%以下之值的狀態下，前述內部密著部係與前述周圍部氣密地作接觸並被設為使前述內部蓋構件將前述內部搬入搬出口氣密地作閉塞的氣密狀態。
2. 如申請專利範圍第1項所記載之真空裝置，其中，係在前述共通旋轉軸線被包含於前述滑動構件側平面中的狀 態下，被設為前述氣密狀態。
3. 如申請專利範圍第1項所記載之真空裝置，其中，前述共通旋轉軸線與前述推壓旋轉軸線係相互一致。
4. 如申請專利範圍第1項所記載之真空裝置，其中，在前述搬入搬出槽處，係被連接有將氣體導入至前述搬入搬出槽之內部的氣體導入裝置。
5. 如申請專利範圍第1項所記載之真空裝置，其中，前述搬入搬出槽，係被設為能夠相對於前述主真空槽而作氣密接觸及分離，被配置在將前述內部搬入搬出口氣密地作閉塞的前述內部蓋構件之前述配置部上之前述處理對象物，係露出於當使前述搬入搬出槽與前述主真空槽作了氣密接觸時所形成之前述搬入搬出槽之內部氛圍中。
6. 如申請專利範圍第1項所記載之真空裝置，其中，係具有複數之前述連桿機構。