TW201722899A - 與除草性羧酸之半鹽(half salt)相關的組成物及方法 - Google Patents

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Abstract

提供某些合成植物生長素除草劑之半鹽。此等半鹽係可用於控制不要的植物生長。此等半鹽於水中具有低溶解度,相對於相對應合成植物生長素除草劑的商業組成物之較低揮發性,且當與合成植物生長素除草劑之現存鹽類相比提供可相比擬之除草性能。

Description

與除草性羧酸之半鹽(HALF SALT)相關的組成物及方法
本申請案主張2015年12月14日提申之美國臨時申請序號第62/266814號案的申請日之利益,此案在此被完整併入。
本發明係有關於與除草性羧酸之半鹽(HALF SALT)相關的組成物及方法。
背景 含有除草劑及植物生長改質劑之組成物係於全世界廣泛用於農業、工業、休閒,及居家領域。此等組成物之活性成份經常係羧酸類,更特別地係其等之鹽類或酯類。羧酸鹽類一般具有較高水溶性,導致其等用於想要於藉由噴灑或其它手段施用前稀釋之高強度水性濃縮物。
諸如合成植物生長素除草劑,例如,2,4-二氯苯氧乙酸(2,4-D),之羧酸除草劑已被長期用於控制不要的植物。2,4-D一般係以液體調配物提供,諸如,一水溶性胺鹽或一可乳化之酯。但是,於某些情況,此等型式之2,4-D遭受諸如與其它除草劑不相容或因為揮發性而偏離目標移動之問題。
因此,需要對最終使用者提供改良的性能、安定性/相容性,及彈性之新穎除草劑產物。
概要 合成植物生長素除草劑之半鹽、含有此半鹽除草性組成物,及其等之使用方法於此被描述。
合成植物生長素除草劑之例示半鹽不受限地包括具有下式者:其中,R獨立地係H或CH3 ,n係整數1、2或3,且Ar係以一或多個選自鹵素、C1 -C6 烷基、C1 -C6 鹵烷基、C1 -C6 烷氧基、胺基、C1 -C6 烷基胺基,及二(C1 -C6 烷基)胺基之取代基取代之一苯基或吡啶基團,且M係選自一金屬陽離子或一經四取代之銨陽離子的一陽離子。
例示之合成植物生長素除草劑不受限地包括吡啶氧基乙酸除草劑,諸如,氟氯比(fluroxypyr)及綠草定(triclopyr);;苯氧基乙酸除草劑,諸如,4-CPA、2,4-D、3,4-DA,及MCPA;苯氧基丁酸除草劑,諸如,4-CPB、2,4-DB、3,4-DB,及MCPB;苯氧基丙酸除草劑,諸如,調果酸(cloprop)、4-CPP、滴丙酸(dichlorprop)、3,4-DP、2,4,5-涕丙酸(fenoprop)、甲氯丙酸(mecoprop),及甲氯丙酸-P。於某些實施例,合成植物生長素除草劑包括2,4-D、2,4-DB、綠草定、氟氯比、MCPA、MCPB、甲氯丙酸,及甲氯丙酸-P。
適合陽離子不受限地包括單價金屬陽離子,諸如,鈉、鉀,及鋰。其它適合陽離子不受限地包括經四取代之銨離子,諸如,四甲基銨、四乙基銨,及膽鹼。
所述除草性組成物可以液體或乾燥濃縮物製備,其可含有額外惰性成份,且當與水混合形成噴灑混合物時,可用於控制不要的植物。所述除草性組成物亦包括藉由使液體或乾燥濃縮物添加至水而製造之噴灑溶液。
此等半鹽及含有此等之組成物可用以控制各種農作物之非所欲的植物。此等半鹽及含有此等之組成物可與非所欲的之植物或其所在地接觸,或施用至土壤以避免非所欲的植物出現。此等半鹽及含有此等之組成物以酸當量(AE)為基準展現可與商業上使用之合成植物生長素除草劑胺鹽相比擬或更佳之除草活性。
此處所述之半鹽亦可顯示與一或多種額外除草劑(諸如,草甘膦(glyphosate)及/或固殺草(glufosinate))之改良相容性,與相對應植物生長素除草劑之酸、胺全鹽或酯相比展現降低揮發性,及/或與相對應植物生長素除草劑之全鹽或酯相比提供降低土壤流動性。
詳細說明 I定義 除非作其它特陊限定,術語“烷基”,與諸如“芳基烷基”之衍生術語於此處使用時於其等之範圍內包括直鏈、分支鏈及環狀部份。除非作其它特陊限定,每一者可為未經取代或以一或多個不受限地選自鹵素、羥基、烷氧基,或烷硫基之取代基取代,只要此等取代基係空間上可相容,且化學鍵結及應變能之規則被滿足。術語“芳基”係指一苯基、二氫茚基或萘基基團。芳基基團可為未經取代或以一或多個選自鹵素、羥基、C1 -C6 烷基,或C1 -C6 烷氧基之取代基取代,只要此等取代基係空間上可相容,且化學鍵結及應變之規則被滿足。術語“芳基烷基”係指以一芳基基團取代之諸如C1 -C4 烷基基團的一烷基基團。
術語“半鹽”於此處使用時係指具有通式(Ar-O-(CHR)n COO)2 H1 M1 之一化合物,其中,Ar、R及M係如此處所定義,其係藉由羧酸型式之一合成植物生長素除草劑與一鹼半中和而製造(即,半鹽中之羧酸對陽離子M之莫耳比例係2:1)。
術語“全鹽”於此處使用時係指具有通式(Ar-O-(CHR)n COO)M之一化合物,其中,Ar、R及M係如此處所定義,其係藉由羧酸型式之一合成植物生長素除草劑 與一鹼完全中和而製造(即,全鹽中之羧酸對陽離子M之莫耳比例係1:1)。 II.半鹽
合成植物生長素除草劑之半鹽具有下列通式II 其中,R獨立地係H或CH3 ,n係整數1、2或3,且Ar係以一或多個選自鹵素、C1 -C6 烷基、C1 -C6 鹵烷基、C1 -C6 烷氧基、胺基、C1 -C6 烷基胺基,及二(C1 -C6 烷基)胺基之取代基取代之一苯基或吡啶基團,且M係選自一金屬陽離子或一經四取代之銨陽離子的一陽離子。
適合之金屬陽離子不受限地包括Li+ 、Na+ ,及K+ 。經四取代之銨陽離子不受限地包括具下式之N-((C1 -C16 )烷基或芳基烷基)三((C1 -C16 )烷基)銨陽離子其中,R1 、R2 及R3 獨立地表示(C1 -C16 )烷基,或R1 、R2 及R3 之任二者表示-(CH2 )n -,其中,n係從3-5之整數,且R4 表示((C1 -C16 )烷基或芳基烷基)。於某些實施例,N-((C1 -C16 )烷基或芳基烷基)三((C1 -C16 )烷基)銨陽離子係其中R1 、R2 、R3 及R4 係相同或其中R1 、R2 及R3 係CH3 且R4 係(C2 -C16 )烷基或芳基烷基者。適合的經四取代之銨陽離子不受限地包括四甲基銨、四乙基銨,及膽鹼(即,N,N,N-三甲基乙醇銨)。
用於此處所述之方法及組成物的適合合成植物生長素除草劑不受限地包括吡啶氧基乙酸除草劑,諸如,氟氯比及綠草定;苯氧基乙酸除草劑,諸如,4-CPA、2,4-D、3,4-DA,及MCPA;苯氧基丁酸除草劑,譜如,4-CPB、2,4-DB、3,4-DB,及MCPB;苯氧基丙酸除草劑,諸如,調果酸、4-CPP、滴丙酸、3,4-DP、2,4,5-涕丙酸、甲氯丙酸,及甲氯丙酸-P。於某些實施例,合成植物生長素除草劑包括2,4-D、2,4-DB、綠草定、氟氯比、MCPA、MCPB、甲氯丙酸,及甲氯丙酸-P。
於某些實施例,半鹽係2,4-D之鈉半鹽、2,4-D之鉀半鹽、2,4-D之鋰半鹽,或2,4-D之膽鹼半鹽。
於其它實施例,半鹽係綠草定之鈉半鹽、綠草定之鉀半鹽、綠草定之鋰半鹽,或綠草定之膽鹼半鹽。
於其它實施例,半鹽係氟氯比之鈉半鹽、氟氯比之鉀半鹽、氟氯比之鋰半鹽,或氟氯比之膽鹼半鹽。 A.半鹽之性質
於某些實施例,相關於水及半鹽之總量,半鹽於從約3至約6,從約3至約5.5,從約3.5至約6,從約4至約6之pH範圍內,或從約4.5至約6.5之pH範圍內,具有少於約10重量%,少於約5重量%,少於約4重量%,少於約3重量%,少於約2重量%,少於約1重量%,少於約0.5重量%,或少於約0.1重量%之水溶解度。
於某些實施例,半鹽於低極性之有機溶劑中具有低溶解度,諸如,石油蒸餾物之一或多者,諸如,自苯衍生之芳香族烴,諸如,甲苯、二甲苯、其它經烷基化之苯等,及萘衍生物,脂族烴,諸如,己烷、辛烷、環己烷等,來自脂族或異烷烴系列之礦物油,及芳香族烴與脂族烴之混合物;經鹵化之芳香族烴或脂族烴;蔬菜油、籽油,或礦物油,諸如,黃豆油、菜籽油、橄欖油、蓖麻油、葵花籽油、椰子油、玉米油、棉籽油、亞麻仁油、棕櫚油、花生油、紅花油、芝麻油、桐油等,及自蔬菜油、籽油或動物油衍生之C1 -C6 單酯;C6 -C20 飽和及不飽和脂族羧酸之C1 -C6 二烷基醯胺;芳香族羧酸及二羧酸之C1 -C12 酯,及脂族及環脂族羧酸之C1 -C12 酯。於某些實施例,低溶解度於此處使用時係指相關於溶劑及半鹽之總重量,少於約5重量%,少於約4重量%,少於約3重量%,少於約2重量%,少於約1重量%,少於約0.5重量%,或少於約0.1重量%之溶解度。
於某些實施例,半鹽於質子性溶劑,諸如,如甲醇之醇類、如乙二醇、丙二醇及其等之衍生物、丙三醇之多元醇類,及一或多種質子性溶劑與水之混合物中具有中等至良好之溶解度。於某些實施例,中等至良好之溶解度於此處使用時係指相關於溶劑及半鹽之總重量,不少於約1重量%,不少於約2重量%,不少於約3重量%,不少於約4重量%,不少於約5重量%,不少於約7重量%,不少於約9重量%,不少於約10重量%,不少於約15重量%,或不少於約20重量%之半鹽溶解度。
於某些實施例,半鹽具有比相對應之羧酸、胺鹽或酯型式之合成植物生長素除草劑更低之揮發性。 B.半鹽之分析特徵化
合成植物生長素除草劑之半鹽可,例如,藉由下列方法之一或多種分析特徵化:(1)粉末X-射線繞射(PXRD),藉此,X-射線繞射圖案之主要波峰係以2-θ(2θ)角表示,(2)示差掃瞄量熱術(DSC),(3)離子層析術,(4)反相HPLC,(5)元素分析,及(6)諸如NMR、IR及Raman之光譜方法。 III.除草性組成物
半鹽於水及具有低極性之有機溶劑中的低溶解度使此等溶劑適於製備懸浮濃縮物組成物,其中,半鹽係以小顆粒(即,平均尺寸約0.5-50微米)懸浮於水中(SC組成物)或具低極性之有機溶劑中(OD組成物)。 A.水性懸浮濃縮物(SC)
於某些實施例,所述除草性組成物包舌水性懸浮濃縮物(SC),其相關於總組成物,包含以酸當量(AE)為基準係從約1至約50重量%(wt%)之合成植物生長素除草劑的半鹽,及選擇性之一或多種額外惰性成份。於水中稀釋時,所述水性懸浮濃縮物形成安定均質噴灑混合物,其等可立即用於噴灑施用控制植物生長。
於某些實施例,水性懸浮濃縮物包括2,4-D之鈉半鹽、2,4-D之鉀半鹽、2,4-D之鋰半鹽,或2,4-D之膽鹼半鹽。
於某些實施例,水性懸浮濃縮物包括綠草定之鈉半鹽、綠草定之鉀半鹽、綠草定之鋰半鹽,或綠草定之膽鹼半鹽。
於某些實施例,水性懸浮濃縮物包括氟氯比之鈉半鹽、氟氯比之鉀半鹽、氟氯比之鋰半鹽,或氟氯比之膽鹼半鹽。 B.水性預混合懸浮濃縮物
另外於此處所述係水性預混合懸浮濃縮物,其相關於總組成物,係包括以酸當量(AE)為基準係從約1至約50重量%(wt%)之合成植物生長素除草劑之半鹽,及從約1至約50重量%之選自草甘膦及固殺草,或其等之一農藝上可接受之鹽的一第二除草劑。用於水性預混合懸浮濃縮物之草甘膦及固殺草的適合鹽類不受限地包括草甘膦二甲銨、草甘膦鉀、草甘膦異丙銨,及固殺草銨。於水中稀釋時,所述水性預混合懸浮濃縮物形成安定均質混合物,其等可立即用於噴灑施用控制植物生長。
以酸當量(AE)為基準,所述性預混合懸浮濃縮物可包括從約1:5至5:1,1:4至4:1,1:3至3:1,1:2至2:1,1:1.5至1.5:1,1:2.3至2.3:1,1:2.5至2.5:1,1:3.5至3.5:1,或從約1:4.5至4.5:1的合成植物生長素除草劑之半鹽對草甘膦鹽之重量比例。
以酸當量(AE)為基準,所述水性預混合懸浮濃縮物可包括從約1:5至5:1,1:4至4:1,1:3至3:1,1:2至2:1,或從約1:1.5至1.5:1的合成植物生長素除草劑之半鹽對固殺草鹽之重量比例。
於某些實施例,水性預混合懸浮濃縮物包括一合成植物生長素除草劑之一半鹽及草甘膦之一水溶性鹽。
於其它實施例,水性預混合懸浮濃縮物包括2,4-D之鈉半鹽及草甘膦之二甲銨鹽,2,4-D之鈉半鹽及草甘膦之鉀鹽,2,4-D之鈉半鹽及草甘膦之異丙銨鹽。
於其它實施例,水性預混合懸浮濃縮物包括2,4-D之鉀半鹽及草甘膦之二甲銨鹽,2,4-D之鉀半鹽及草甘膦之鉀鹽,或2,4-D之鉀半鹽及草甘膦之異丙銨鹽。
於其它實施例,水性預混合懸浮濃縮物包括2,4-D之膽鹼半鹽及草甘膦之二甲銨鹽,2,4-D之膽鹼半鹽及草甘膦之鉀鹽,或2,4-D之膽鹼半鹽及草甘膦之異丙銨鹽。
於某些實施例,水性預混合懸浮濃縮物包括一合成植物生長素除草劑之一半鹽及固殺草之一水溶性鹽。
於某些實施例,水性預混合懸浮濃縮物包括2,4-D之鈉半鹽及固殺草之銨鹽,2,4-D之鉀半鹽及固殺草之銨鹽,或2,4-D之膽鹼半鹽及固殺草之銨鹽。 C.乾燥濃縮物
另外於此處所述係乾燥濃縮物,其相關於總組成物,包括以酸當量(AE)為基準係從約1至約90重量%(wt%)的合成植物生長素除草劑之一半鹽,及選擇性之一或多種額外的惰性成份。乾燥濃縮物可為粉末、顆粒,或可分散之顆粒。於水中稀釋時,所述之乾燥濃縮物形成安定均質噴灑混合物,其可立即用於噴灑施用控制植物生長。
於某些實施例,乾燥濃縮物包括2,4-D之鈉半鹽,2,4-D之鉀半鹽,2,4-D之鋰半鹽,或2,4-D之膽鹼半鹽。
於其它實施例,乾燥濃縮物包括綠草定之鈉半鹽,綠草定之鉀半鹽,綠草定之鋰半鹽,或綠草定之膽鹼半鹽。
於其它實施例,乾燥濃縮物包括氟氯比之鈉半鹽,氟氯比之鉀半鹽,氟氯比之鋰半鹽,或氟氯比之膽鹼半鹽。 D.乾燥預混合濃縮物
另外於此處所述係乾燥預混合濃縮物,其相關於總組成物,包括以酸當量(AE)為基準係從約1至約75重量%(wt%)的一合成植物生長素除草劑之半鹽,及從約1至約75重量%之選自草甘膦及固殺草,或其等之一農藝上可接受之鹽的一第二除草劑。用於乾燥預混合濃縮物的草甘膦及固殺草之適合鹽類不受限地包括草甘膦二甲銨、草甘膦鉀、草甘膦異丙銨,及固殺草銨。乾燥預混合濃縮物可為粉末、顆粒,或可分散之顆粒。於水中稀釋時,所述之乾燥預混合濃縮物形成一安定均質噴灑混合物,其可立即用於噴灑施用控制植物生長。
於某些實施例,乾燥預混合濃縮物包括一合成植物生長素除草劑之一半鹽及草甘膦之一水溶性鹽。
於其它實施例,乾燥預混合濃縮物包括2,4-D之鈉半鹽及草甘膦之二甲銨鹽,2,4-D之鈉半鹽及草甘膦之鉀鹽,或2,4-D之鈉半鹽及草甘膦之異丙銨鹽。
於其它實施例,乾燥預混合濃縮物包括2,4-D之鉀半鹽及草甘膦之二甲銨鹽,2,4-D之鉀半鹽及草甘膦之鉀鹽,或2,4-D之鉀半鹽及草甘膦之異丙銨鹽。
於其它實施例,乾燥預混合濃縮物包括2,4-D之膽鹼半鹽及草甘膦之二甲銨鹽,2,4-D之膽鹼半鹽及草甘膦之鉀鹽,或2,4-D之膽鹼半鹽及草甘膦之異丙銨鹽。
於某些實施例,乾燥預混合濃縮物包括一合成植物生長素除草劑之一半鹽及固殺草之一水溶性鹽。
於某些實施例,乾燥預混合濃縮物包括2,4-D之鈉半鹽及固殺草之銨鹽,2,4-D之鉀半鹽及固殺草之銨鹽,或2,4-D之膽鹼半鹽及固殺草之銨鹽。 E.水性除草劑噴灑混合物
另外實施例係關於一水性除草劑噴灑混合物,其含有一合成植物生長素除草劑之一半鹽,及選擇性之一第二除草劑及各種惰性成份。水性除草劑噴灑混合物可藉由於水中稀釋一或多種水性或乾燥除草劑濃縮物或藉由於槽內混合噴灑溶液之組份而製備。相關於總噴灑溶液,此一噴灑混合物可包含從約0.1至約10重量%,或從約0.1至約5重量%之一合成植物生長素除草劑之半鹽 ,選擇性之草甘膦或固殺草之一水溶性鹽,及選擇性之另外惰性成份。 IV.製備方法
此處所述的合成植物生長素除草劑之半鹽係藉由使羧酸型式之合成植物生長素除草劑,其中,Ar、R及n係如先前所定義,與一半莫耳當量之一鹼組合而製備。可用於製備此處所述的合成植物生長素除草劑之半鹽的適合溶劑可不受限地包括水;醇類,諸如甲醇、乙醇、乙二醇及丙二醇、乙二醇及丙二醇之衍生物,諸如, 烷基化乙二醇等;醚類,諸如,四氫呋喃及二烷;腈類,諸如,乙腈及丁腈;N,N-二烷基醯胺類,諸如,N-甲基-2-吡咯烷酮,及N,N-二甲基烷基醯胺類;及其等之混合物。如此處所述般製備之半鹽可使用標準方法隔離。
可用於此處所述的合成植物生長素除草劑之半鹽的鹼包括鹼金屬氫氧化物,諸如,氫氧化鈉、氫氧化鉀,及氫氧化鋰,及經四取代之氫氧化銨,諸如,四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨,及氫氧化膽鹼。 V.使用方法
術語“除草劑”於此處使用係意指殺死、控制,或其它不利方式修改植物生長之一活性成份。一除草有效或植被控制量係造成一不利修改效果及包括偏離自然發展、殺死、調節、乾燥、延遲等之一活性成份量。術語植物及植被包括萌芽種子、發芽苗,及已長成之植被。 A.控制植物生長
除草活性係由此處所述之組成物當此等組成物於任何生長階段或種植或萌發前直接施用於植物或植物所在地而展現。觀察到之效果係依被控制之植物物種、植物生長階段、稀釋及噴灑滴液尺寸之施用參數、固體組份之顆粒尺寸、使用時之環境條件、使用之特別化合物、使用之特別佐劑及載劑、土壤型式等,與使用化學品的量而定。此等及其它因素可如此項技藝所知般 調整以促進非選擇性或選擇性之除草作用。
約1至約2,000克/公頃(g/Ha)之施用率一般被用於萌發後及萌發前之施用。指定較高比率一般 提供非選擇性控制廣泛之各種不同非所欲的植被。較低比率典型上提供選擇性控制且可用於作物所在地。
此處亦描述一種控制非所欲的植被之方法,其係藉由使植被或其所在地與一除草有效量之此處所述半鹽組成物接觸或使其施用於土壤以避免植被萌發。當與現存的合成植物生長素除草劑之烷基胺鹽組成物(諸如,2,4-D二甲胺)相比,以酸當量(AE)為基準,所述組成物提供可相比擬之除草效率。
此處所述之組成物可另外用於控制許多作物之藉由基因操縱或藉由突變及選育而對其等或其它除草劑已具耐受性或抗性的非所欲的植被。此處所述之組成物可進一步與草甘膦、固殺草、麥草畏(dicamba),或咪唑啉酮結合用於對草甘膦具耐受性、對固殺草具耐受性、對麥草畏具耐受性、對咪唑啉酮具耐受性,或對2,4-D具耐受性之作物。此處所述之組成物較佳係與對於欲被處理之作物具選擇性且補足於使用之施用率由此等化合物控制之雜草範圍的除草劑組合使用。此處所述之組成物較佳係與其它互補除草劑以一組合調配物或以一槽混合物同時施用。相似地,此處所述之組成物可與乙醯乳酸合成酶抑制劑結合用於對乙醯乳酸合成酶抑制劑具耐受性之作物。 B.降低揮發性
此處進一步描述係一種藉由使用此處所述的合成植物生長素除草劑之半鹽降低用於控制不要的植物生長之噴灑施用中的一合成植物生長素除草劑之揮發性的方法。當以其等相對應之半鹽化學型式使用時會展現降低揮發性的特別有用之合成植物生長素除草劑係2,4-D、2,4-DB、綠草定、氟氯比、MCPA、MCPB、甲氯丙酸,及甲氯丙酸-P。 C.降低土壤流動性
此處進一步描述係一種藉由使用此處所述的合成植物生長素除草劑之半鹽降低一合成植物生長素除草劑的土壤流動性之方法。當以其等之相對應半鹽化學型式使用會展現降低的土壤流動性之特別有用的合成植物生長素除草劑包括2,4-D、2,4-DB、綠草定、氟氯比、MCPA、MCPB、甲氯丙酸,及甲氯丙酸-P。 VI.與其它農業活性成份使用
此處所述之組成物亦可與其它農業活性成份組合使用,諸如,除草劑、殺蟲劑、殺真菌劑、植物生長調節劑、安全劑、此等之各種混合物及組合物等。此等混合物及組合物可為預先混合濃縮物,或藉由使此一濃縮物稀釋或使噴灑溶液之組合槽內混合而製備之噴灑溶液,或其等可與一或多種其它農業活性成份依序施用。 A.除草劑
可與此處所述之組成物結合使用之除草劑不受限地包括2,4-DEB、2,4-DEP、2,3,6-TBA、乙草胺(acetochlor)、亞喜芬(acifluorfen)、苯草醚(aclonifen)、丙烯醛(acrolein)、拉草(alachlor)、二丙烯草胺(allidochlor)、亞汰草(alloxydim)、烯丙醇、亞羅列克(alorac)、胺酮(ametridione)、草殺淨(ametryn)、胺草酮(amibuzin)、胺唑草酮(amicarbazone)、醯嘧磺隆(amidosulfuron)、環丙嘧啶酸(aminocyclopyrachlor)、氯胺吡啶酸(aminopyralid)、甲基胺草磷(amiprofos-methyl)、殺草強(amitrole)、氨基磺酸銨、莎稗磷(anilofos)、安尼速隆(anisuron)、磺草靈(asulam)、阿特拉通(atraton)、草脫淨(atrazine)、草芬定(azafenidin)、四唑嘧磺隆(azimsulfuron)、滅蘇民(aziprotryne)、燕麥靈(barban)、BCPC、氟丁醯草胺(beflubutamid)、草除靈(benazolin)、醯苯草酮(bencarbazone)、氟草胺(benfluralin)、呋草黃(benfuresate)、免速隆(bensulfuron)、地散磷(bensulide)、本達隆(bentazone)、苯甲醯胺氧乙酸(benzadox)、雙苯嘧草酮(benzfendizone)、苄草胺(benzipram)、苯并雙環酮(benzobicyclon)、吡草酮(benzofenap)、氟草黃(benzofluor)、新燕靈(benzoylprop)、苯噻隆(benzthiazuron)、雙環吡喃酮(bicyclopyrone)、治草醚(bifenox)、畢拉草(bilanafos)、雙草醚(bispyribac)、硼砂、克草(bromacil)、除草溴(bromobonil)、溴丁醯草胺(bromobutide)、溴酚肟(bromofenoxim)、溴苯腈(bromoxynil)、溴莠敏(brompyrazon)、丁基拉草(butachlor)、布芬草(butafenacil)、抑草磷(butamifos)、丁烯草胺(butenachlor)、丁硫咪唑酮(buthidazole)、丁噻隆(buthiuron)、仲丁靈(butralin)、丁苯草酮(butroxydim)、炔草隆(buturon)、丁酸鹽、二甲胂酸、苯酮唑(cafenstrole)、 氯酸鈣、氰胺化鈣、(苯基亞胺基)二-2,1-乙二基雙(3,6-二氯-2-甲氧基苯甲酸酯)(cambendichlor)、除草隆(carbasulam)、草長滅(carbetamide)、5-三級丁基-1,2-唑基-3-基胺甲酸甲基酯(carboxazole)、3-[(甲氧羰基)胺基]苯基N-[1-(氯甲基)丙基]胺甲酸酯(chlorprocarb)、克繁草(carfentrazone)、CDEA、CEPC、甲氧基護谷(chlomethoxyfen)、克攔本(chloramben)、丁醯草胺(chloranocryl)、炔禾靈(chlorazifop)、氯阿淨(chlorazine)、滅落寧(chlorbromuron)、氯草靈(chlorbufam)、1-(3-氯-4-乙氧苯基)-3,3-二甲基脲(chloreturon)、伐草克(chlorfenac)、燕麥酯(chlorfenprop)、氟咪殺(chlorflurazole)、整形醇(chlorflurenol)、氯草敏(chloridazon)、氯嘧磺隆(chlorimuron)、全滅草(chlornitrofen)、三氯丙酸(chloropon)、氯麥隆(chlorotoluron)、枯草龍(chloroxuron)、氯二甲酚(chloroxynil)、克普芬(chlorpropham)、氯磺隆(chlorsulfuron)、大克草(chlorthal)、草克樂(chlorthiamid)、乙基環醯草酯(cinidon-ethyl)、環庚草醚(cinmethylin)、西速隆(cinosulfuron)、落草胺(cisanilide)、剋草同(clethodim)、2-氯-3,5-二碘吡啶-4-基乙酸酯(cliodinate)、可滅蹤(clomazone)、氯丙殺草(cloproxydim)、畢克草(clopyralid)、氯酯磺草胺(cloransulam)、CMA、硫酸銅、CPMF、CPPC、必滅草(credazine)、甲酚、甲酚、草隆(cumyluron)、氰草淨(cyanatryn)、氰乃淨(cyanazine)、環草敵(cycloate)、環磺隆(cyclosulfamuron)、環殺草(cycloxydim)、環莠隆(cycluron)、牧草快(cyperquat)、環丙津(cyprazine)、三環噻草胺(cyprazole)、環草胺(cypromid)、汰草龍(daimuron)、得拉本(dalapon)、邁隆(dazomet)、異丁草胺(delachlor)、甜菜安(desmedipham)、敵草淨(desmetryn)、二醛酯、汰克草(dicamba)、二氯苯腈(dichlobenil)、雙(三氯乙醛基)脲(dichloralurea)、苄胺靈(dichlormate)、雙氯磺草胺(diclosulam)、1,1’-雙[2-(二乙氨基)-2-側氧乙基]-4,4’-聯吡啶(diethamquat)、乙醯甲草胺(diethatyl)、戊味禾草靈(difenopenten)、枯莠隆(difenoxuron)、野燕枯(difenzoquat)、吡氟草胺(diflufenican)、氟吡草腙(diflufenzopyr)、唑隆(dimefuron)、哌草丹(dimepiperate)、二甲草胺(dimethachlor)、愛落殺(dimethametryn)、汰草滅(dimethenamid)、汰草滅-P(dimethenamid-P)、草滅散(dimexano)、草噠酮(dimidazon)、撻乃安(dinitramine)、地樂特(dinofenate)、硝丙酚(dinoprop)、戊硝酚(dinosam)、達諾殺(dinoseb)、特樂酚(dinoterb)、大芬滅(diphenamid)、異丙凈(dipropetryn)、大刈特(diquat)、賽松(disul)、汰硫草(dithiopyr)、達有龍(diuron)、DMPA、DNOC、DSMA、EBEP、甘草津(eglinazine)、草多索(endothal)、三唑磺(epronaz)、EPTC、抑草蓬(erbon)、戊草丹(esprocarb)、乙丁烯氟靈(ethalfluralin)、胺苯磺隆(ethametsulfuron)、磺噻隆(ethidimuron)、硫草敵(ethiolate)、益覆滅(ethofumesate)、氯氟草醚(ethoxyfen)、亞速隆(ethoxysulfuron)、硝草酚(etinofen)、益尼普滅(etnipromid)、乙氧苯草胺(etobenzanid)、EXD、雙氧威(fenasulam)、芬殺草-P、2,5-二氯-4-乙氧苄基4,5-二氫-5,5-二甲基-1,2-唑-3-基碸(fenoxasulfone)、2-(2,4,5-三氯苯氧基)乙醇(fenteracol)、四唑醯草胺(fentrazamide)、非草隆(fenuron)、硫酸亞鐵、麥草氟酯(flamprop)、麥草氟酯-M、伏速隆(flazasulfuron)、雙氟磺草胺(florasulam)、異丙吡草酯(fluazolate)、氟酮磺隆(flucarbazone)、氟吡磺隆(flucetosulfuron)、貝殺寧(fluchloralin)、氟噻草胺(flufenacet)、2-(α,α,α-三氟-間甲苯氧基)煙醯苯胺(flufenican)、氟噠草酯(flufenpyr)、闊草清(flumetsulam)、氟每淨(flumezin)、氟烯草酸(flumiclorac)、丙炔氟草胺(flumioxazin)、炔草胺(flumipropyn)、可奪草(fluometuron)、福泰芬(fluorodifen)、乙羧氟草醚(fluoroglycofen)、唑啶草(fluoromidine)、氟除草醚(fluoronitrofen)、殺克丹(fluothiuron)、氟胺草唑(flupoxam)、氟異丙嘧草酯(flupropacil)、氟丙酸(flupropanate)、氟啶嘧磺隆(flupyrsulfuron)、氟啶草酮(fluridone)、氟咯草酮(flurochloridone)、呋草酮(flurtamone)、氟噻草酯(fluthiacet)、氟磺胺草醚(fomesafen)、甲醯胺磺隆(foramsulfuron)、調節膦(fosamine)、呋氧草醚(furyloxyfen)、5-(2-氯-α,α,α,6-四氟-對甲苯氧基)-N-乙磺醯基-2-硝基苯甲醯胺(halosafen)、合速隆(halosulfuron)、氟啶草(haloxydine)、六氯丙酮、六氟鹽(hexaflurate)、菲殺淨(hexazinone)、咪草酸(imazamethabenz)、咪草啶酸(imazamox)、甲咪唑烟酸(imazapic)、依滅草(imazapyr)、滅草喹(imazaquin)、咪唑乙煙酸(imazethapyr)、依速隆(imazosulfuron)、茚草酮(indanofan)、N-[(1R,2S)-2,3-二氫-2,6-二甲基-1H-茚-1-基]-6-[(1RS)-1-氟乙基]-1,3,5-三-2,4-二胺(indaziflam)、4-氰基-2,6-二碘苯基2-丙烯-1-基碳酸酯(iodobonil)、碘甲烷、碘甲磺隆(iodosulfuron)、艾芬磺隆(iofensulfuron)、碘苯腈(ioxynil)、抑草津(ipazine)、鹵苯胺唑(ipfencarbazone)、抑吡嘧丹(iprymidam)、草特靈(isocarbamid)、異草定(isocil)、丁草酮(isomethiozin)、異草完隆(isonoruron)、異丙林特(isopolinate)、異丙樂靈(isopropalin)、異丙隆(isoproturon)、愛速隆(isouron)、異草胺(isoxaben)、異氯草酮(isoxachlortole)、異唑草酮(isoxaflutole)、特胺靈(karbutilate)、2-[(2,3-二氫-5,8-二甲基-1,1-二氧橋螺[4H-1-苯并噻喃-4,2’--[1,3]二烷]-6’-基)羰基]-1,3-環己二酮(ketospiradox)、乳氟禾草靈(lactofen)、環草定(lenacil)、理有龍(linuron)、MAA、MAMA、地樂施(medinoterb)、滅芬草(mefenacet)、美福泰(mefluidide)、滅莠津(mesoprazine)、磺胺磺隆(mesosulfuron)、硝磺草酮(mesotrione)、斯美地(metam)、苯草酮(metamitron)、滅草胺(metazachlor)、雙醚氯吡嘧磺隆(metazosulfuron)、二甲噠草伏(metflurazon)、甲基苯噻隆(methabenzthiazuron)、甲基丙樂靈(methalpropalin)、滅草唑(methazole)、甲殺丹(methiobencarb)、美西除靈(methiozolin)、滅草恆(methiuron)、醚草通(methometon)、格草净(methoprotryne)、溴甲烷、異硫氰酸甲酯、甲基殺草隆(methyldymron)、吡喃隆(metobenzuron)、撲奪草(metobromuron)、莫多草(metolachlor)、磺草唑胺(metosulam)、甲氧隆(metoxuron)、滅必淨(metribuzin)、磺隆(metsulfuron)、稻得壯(molinate)、庚醯草胺(monalide)、莫尼速隆(monisouron)、單氯乙酸、綠谷龍(monolinuron)、滅草隆(monuron)、伐草快(morfamquat)、MSMA、萘普草(naproanilide)、滅落脫(napropamide)、納得爛(naptalam)、草不龍(neburon)、煙嘧磺隆(nicosulfuron)、吡氯草胺(nipyraclofen)、滅殺草(nitralin)、護谷(nitrofen)、三氟甲草醚(nitrofluorfen)、氟草敏(norflurazon)、草完隆(noruron)、OCH、坪草丹(orbencarb)、鄰二氯苯、嘧苯胺磺隆(orthosulfamuron)、歐拉靈(oryzalin)、丙炔草酮(oxadiargyl)、樂滅草(oxadiazon)、草噠松(oxapyrazon)、環氧嘧磺隆(oxasulfuron)、 草酮(oxaziclomefone)、復祿芬(oxyfluorfen)、對氟隆(parafluron)、巴拉刈(paraquat)、克草猛(pebulate)、壬酸、施得圃(pendimethalin)、平速爛(penoxsulam)、五氟酚、甲氯醯草胺(pentanochlor)、環戊草酮(pentoxazone)、佈福松(perfluidone)、烯草胺(pethoxamid)、棉胺寧(phenisopham)、甜菜寧(phenmedipham)、乙基甜菜寧、醯草隆(phenobenzuron)、苯基乙酸汞、畢克爛(picloram)、氟吡醯草胺(picolinafen)、唑啉草酯(pinoxaden)、哌草磷(piperophos)、普拉草(pretilachlor)、氟嘧磺隆(primisulfuron)、環丙腈津(procyazine)、氨氟樂靈(prodiamine)、氟唑草胺(profluazol)、環丙氟靈(profluralin)、氯苯噻草酮(profoxydim)、甘撲津(proglinazine)、撲滅通(prometon)、佈滅淨(prometryn)、雷蒙得(propachlor)、除草靈(propanil)、普拔根(propazine)、苯胺靈(propham)、普樂寶(propisochlor)、丙苯磺隆(propoxycarbazone)、咪唑嘧磺隆(propyrisulfuron)、戊炔草胺(propyzamide)、甲硫磺樂靈(prosulfalin)、苄草丹(prosulfocarb)、三氟丙磺隆(prosulfuron)、撲滅生(proxan)、拔地草(prynachlor)、吡達農(pydanon)、雙唑草腈(pyraclonil)、派芬草(pyraflufen)、磺醯草吡唑(pyrasulfotole)、苄草唑(pyrazolynate)、百速隆(pyrazosulfuron)、匹唑芬(pyrazoxyfen)、嘧啶肟草醚(pyribenzoxim)、稗草丹(pyributicarb)、三氯吡啶醇(pyriclor)、噠草福(pyridafol)、必汰草(pyridate)、環酯草醚(pyriftalid)、嘧草醚(pyriminobac)、嘧啶硫蕃(pyrimisulfan)、嘧硫草醚(pyrithiobac)、吡唑碸(pyroxasulfone)、吡唑磺草胺(pyroxsulam)、快克草(quinclorac)、氯甲喹啉酸(quinmerac)、莫克草(quinoclamine)、克藻胺(quinonamid)、硫氰苯胺(rhodethanil)、碸嘧磺隆(rimsulfuron)、嘧啶肟草醚(saflufenacil)、左旋莫多草(S-metolachlor)、另丁津(sebuthylazine)、仲丁通(secbumeton)、西殺草(sethoxydim)、環草隆(siduron)、草滅淨(simazine)、西瑪通(simeton)、西草淨(simetryn)、SMA、磺草酮(sulcotrione)、草克死(sulfallate)、氟磺唑草胺(sulfentrazone)、嘧磺隆(sulfometuron)、磺醯磺隆(sulfosulfuron)、氮雜環庚-1-基羰基甲基胺磺酸甲酯(sulglycapin)、滅草靈(swep)、TCA、牧草胺(tebutam)、得匍隆(tebuthiuron)、四氫呋喃甲基三酮(tefuryltrione)、田寶三酮(tembotrione)、得殺草(tepraloxydim)、特草定(terbacil)、特草靈(terbucarb)、特丁草胺(terbuchlor)、特丁通(terbumeton)、草凈津(terbuthylazine)、特丁淨(terbutryn)、四氟隆(tetrafluron)、欣克草(thenylchlor)、噻氟隆(thiazafluron)、噻草啶(thiazopyr)、噻二唑草胺(thidiazimin)、噻苯隆(thidiazuron)、甲基酮脲磺草吩酯(thiencarbazone-methyl)、噻吩磺隆(thifensulfuron)、殺丹(thiobencarb)、仲草丹(tiocarbazil)、6-氯-5-(甲基硫代基)嘧啶-2,4-二胺(tioclorim)、吡草磺(topramezone)、三甲苯草酮(tralkoxydim)、2’-[(4,6-二甲氧基-1,3,5-三-2-基)羰基]-1,1,6’-三氟-N-甲基甲磺醯苯胺(triafamone)、燕麥畏(tri-allate)、、醚苯磺隆(triasulfuron)、三氟草胺(triaziflam)、苯磺隆(tribenuron)、殺草畏(tricamba)、三地芬(tridiphane)、草達津(trietazine)、三氟啶磺隆(trifloxysulfuron)、三福林(trifluralin)、氟胺磺隆(triflusulfuron)、丙酮(R)-O-{2-[4-(α,α,α-三氟-對甲苯氧基)苯氧基]丙醯基}肟(trifopsime)、三羥基三、三甲隆(trimeturon)、1-(6-異丙基-1,1,4-三甲基二氫茚-5-基)丙-1-酮(tripropindan)、草達克(tritac)、三氟甲磺隆(tritosulfuron)、萬隆(vernolate)、二甲苯草胺(xylachlor),及其等之鹽或酯衍生物。
可用於此處所述之固體除草性組成物及描述於群組A的具活性成份的除草劑(及其等之鹽類及酯類)之另外例子包括,例如,於美國專利第7,314,849 B2;7,300,907 B2;7,786,044 B2;及7,642,220 B2號案中揭露之化合物。
於某些實施例,除草劑係具有下列化學式之一化合物或其一C1 -C6 烷基酯或鹽,例如,甲酯,亦稱為氟氯吡啶酯(halauxifen-methyl)。
於某些實施例,除草劑係具有下列化學式之一化合物或其一C1 -C12 烷基或C7 -C12 芳基烷基酯或鹽,例如,苯甲酯,此處稱為化合物A。
於某些實施例,可與此處所述之組成物結合使用之除草劑包括乙草胺、環丙嘧啶酸、氯胺吡啶酸、草脫淨、氟草胺、畢克草、氯酯磺草胺、麥草畏、乙丁烯氟靈、雙氟磺草胺、闊草清、異草胺、磺草唑胺、平速爛、畢克爛、除草靈、戊炔草胺、吡唑磺草胺、得匍隆、噻草啶、三福林,及其等之鹽或酯之一或多者。 B.安全劑
此處所述之組成物一般可與諸如解草酮(benoxacor)、殺草丹(benthiocarb)、油菜素內酯(brassinolide)、解毒喹(cloquintocet(mexyl))、解草胺腈(cyometrinil)、汰草隆(daimuron)、二氯丙烯胺(dichlormid)、雙環儂(dicyclonon)、哌草丹(dimepiperate)、乙伴磷(disulfoton)、雙苯唑酸(fenchlorazole-ethyl)、解草啶(fenclorim)、解草胺( flurazole)、肟草胺(fluxofenim)、解草唑(furilazole、超敏蛋白(harpin proteins)、雙苯唑酸(isoxadifen-ethyl)、吡咯二酸二乙酯(mefenpyr-diethyl)、MG 191、MON 4660、萘酸酐(NA)、解草腈(oxabetrinil)、R29148,及N-苯基磺醯基苯甲酸醯胺之已知除草劑安全劑組合使用,以促進其等選擇性。其等可另外用以控制許多作物中之藉由基因操縱或藉由突變及選育而對其等或其它除草劑已具耐受性或抗性的許多作物之非所欲的植被。 例如,於含羞草對此處所述組成物已具耐受性或抗性之玉米、小麥、稻米、黃豆、甜菜、棉花、芥花,及其它作物可被處理。某些作物(例如,棉化)對於諸如2,4-二氯苯氧乙酸之植物生長素除草劑已具耐受性。自植物生長素除草劑衍生的此處所述之組成物可用以處理此等抗性作物或其它對植物生長素除草劑具耐受性之作物。 VIII.佐劑、載劑、表面活性劑
雖然可使此處所述之組成物直接作為除草劑,但較佳係使其等以含有一除草有效量之此處所述的組成物與至少一農業上可接受之佐劑或載劑一起之混合物使用。適合之佐劑或載劑對有價值之作物不應具植物毒性,特別是於使組成物施用於作物存在中之選擇性雜草控制時使用之濃度,且不應與此處所述之組成物或其它組成物成份產生化學反應。此等混合物可被設計成直接施用於雜草或其等之所在地,或可為一般係於施用前以另外之載劑及佐劑稀釋之濃縮物或調配物。其等可為固體,諸如,粉塵、顆粒、水可分散之顆粒,或可弄濕之粉末;或液體,諸如,可乳化之濃縮物、溶液、乳化液,或懸浮液。
可用於製備此處所述之半鹽的組成物之適合的農業佐劑及載劑係熟習此項技藝者所知。
可使用之液體載劑包括 水及有機溶劑。典型上使用之有機溶劑不受限地包括石油分餾物或烴,諸如,礦物油、芳香族溶劑、石蠟油等;蔬菜油,諸如,黃豆油、菜子油、橄欖油、蓖麻油、葵花籽油、椰子油、玉米油、棉籽油、亞麻仁油、棕櫚油、花生油、紅花油、芝麻油、桐油等;上述蔬菜油之酯;單元醇或二羥基、三羥基,或其它較低多元醇(含有4-6個羥基)之酯,諸如,諸如,硬脂酸2-乙基己酯、油酸正丁酯、肉荳蔻酸異丙酯、丙二醇二油酸酯、琥珀酸二辛酯、己二酸二丁酯、酞酸二辛酯等;單、二及多羧酸之酯等。特別有機溶劑包括甲苯、二甲苯、石腦油、作物油、丙酮、甲乙酮、環己酮、三氯乙烯、全氯乙烯、乙酸乙酯、乙酸戊酯、乙酸丁酯、丙二醇單甲醚,及二乙二醇單甲醚、甲醇、乙醇、異丙醇、戊醇、乙二醇、丙二醇、甘油等。水一般係用於稀釋濃縮物之選擇的載劑。
適合之固體載劑包括滑石、葉蠟石黏土、矽石、活性白土(attapulgus clay)、高嶺土、矽藻土(kieselguhr)、白堊、矽藻土(diatomaceous earth)、石灰、碳酸鈣、白土、漂白土(Fuller's earth)、棉籽殻、小麥粉、黃豆粉、浮石、木粉、核桃殼粉、木素等。
表面活性劑(即,界面活性劑)可被併入此處所述之組成物內。此等表面活性劑係有利地用於固體及液體組成物中,特別是設計成於施用前以載劑稀釋者。表面活性劑於特性可為陰離子性、陽離子性,或非離子性,且可作為乳化劑、濕潤劑、懸浮劑,或用於其它目的。傳統上用於調配物技藝且亦可用於此處所述之組成物的界面活性劑係尤其描述於“McCutcheon’s Detergents and Emulsifiers Annual”,MC Publishing Corp.,Ridgewood,New Jersey,1998及“Encyclopedia of Surfactants”,Vol. I-III,Chemical publishing Co.,New York,1980-81。典型之表面活性劑包括烷基硫酸鹽之鹽類,諸如,二乙醇­銨月桂基硫酸鹽及月桂基醚硫酸鈉;烷基芳基磺酸鹽類,諸如,十二烷基苯磺酸鈣;烷基酚-環氧烷加成產物,諸如,壬基酚-C18乙氧化物;醇‑環氧烷加成產物,諸如,十三醇-C16乙氧化物;皂類,諸如,硬脂酸鈉;烷基萘-磺酸鹽,諸如,二丁基萘磺酸鈉;磺基琥珀酸鹽之二烷基酯,諸如,二(2‑乙基己基)磺基琥珀酸鈉;山梨醇酯類,諸如,山梨醇油酸酯;四級胺類,諸如,月桂基三甲基氯化­銨;乙氧化胺類,諸如,牛脂胺乙氧化物;甜菜鹼界面活性劑,諸如,椰油醯胺丙基甜菜鹼;脂肪酸之聚乙二醇酯類,諸如,聚乙二醇硬脂酸酯;環氧乙烷及環氧丙烷之嵌段共聚物;單及二烷基磷酸酯之鹽類;蔬菜油或籽油,諸如,黃豆油、菜籽油/芥菜油、橄欖油、蓖麻油、葵花籽油、椰子油、玉米油、棉籽油、亞麻仁油、棕櫚油、花生油、紅花油、芝麻油、桐油等;上述蔬菜油之酯類,特別是甲酯。
通常,某些此等材料,諸如,蔬菜油或籽油,及其等之酯類,可互換地作為一農業佐劑,作為一液體載劑,或作為一表面活性劑。
可用以減少噴灑飄移的佐劑可添加至半鹽組成物,或用於含有半鹽之噴灑溶液,不受限地包括經微封裝之油、自行乳化酯、經乙氧化之天然油、胺及胺氧化物界面活性劑、烷基苯磺酸鹽界面活性劑、經膠乳安定之乳化液、天然衍生之油,諸如,脂肪酸烷酯、脂肪酸醯胺,及三酸甘油酯脂肪酸酯、芳香酯、石蠟油、石油衍生油,及此等之混合物。
普遍用於農業組成物之其它佐劑包括相容劑、消泡劑、螯合劑、中和劑及緩衝劑、腐蝕抑制劑、染料、氣味劑、擴散劑、滲透助劑、黏劑、分散劑、增稠劑、凝固點抑制劑、抗微生物劑等。此處所述之除草性羧酸之聚合複合物的組成物亦可含有其它可相容之組份,例如,其它除草劑、植物生長調節劑、殺真菌劑、殺蟲劑等,且可與液體肥料或固體顆粒肥料載劑(諸如,硝酸銨、尿素等)調配。
此處所述之組成物於施用前典型上係以諸如水之一惰性載劑稀釋。施用至雜草或其所在地的經稀釋之組成物一般含有約0.0001至約1重量%之活性成份,且較佳係含有約0.001至約0.05重量%。
此處所述之組成物可藉由使用傳統地面或空中撒粉機、噴灑機,及顆粒施用器,藉由添加至灌溉水,及藉由熟習此項技藝者所知之其它傳統手段施用於雜草或其等之所在地。
下列實施例係用以例示此處所述之組成物的各種方面而呈現,且不應被作為限制申請專利範圍而闡釋。 範例1. 製備合成 植物生長素半鹽 方法A–使用一有機溶劑製備植物生長素半鹽 樣品1:2,4-D鉀半鹽
對69.29克之甲醇及24.25克(0.106莫耳)之2,4-二氯苯氧基乙酸(97%分析)的溶液,添加5.97克(0.053莫耳)之50%氫氧化鉀水溶液。一懸浮液形成,然後於50°C之一旋轉式蒸發器上濃縮提供半鹽之乾燥粉末。藉由HPLC及離子層析術分析半鹽顯示經隔離之半鹽具有2:1之2,4-D酸對鉀的莫耳比例。2,4-D鉀半鹽之熔點係藉由DSC分析判定為226o C。 樣品2: 2,4-D鈉半鹽
2,4-D鈉半鹽係以與2,4-D鉀半鹽者相似之方式,使用氫氧化鈉且依循方法A而製備。HPLC及離子層析術分析顯示經隔離之半鹽具有2:1之2,4-D酸對鈉之莫耳比例。2,4-D鈉半鹽之熔點係藉由DSC分析判定為186o C。 樣品3:2,4-D鋰半鹽
2,4-D鋰半鹽係以與2,4-D鉀半鹽者相似之方式,使用氫氧化鋰且依循方法A而製備。HPLC及離子層析術分析顯示經隔離之半鹽具有2:1之2,4-D酸對鋰之莫耳比例。 樣品4:2,4-D膽鹼半鹽
2,4-D膽鹼半鹽係以與2,4-D鉀半鹽者相似之方式,使用氫氧化膽鹼且依循方法A而製備。HPLC及離子層析術分析顯示經隔離之半鹽具有2:1之2,4-D酸對膽鹼之莫耳比例。2,4-D膽鹼半鹽之熔點係藉由DSC分析判定為240o C。 樣品5:綠草定膽鹼半鹽
綠草定膽鹼半鹽係以與2,4-D鉀半鹽者相似之方式,使用綠草定及氫氧化膽鹼及依循方法A而製備。HPLC及離子層析術分析顯示經隔離之半鹽具有2:1之綠草定對膽鹼之莫耳比例。綠草定膽鹼半鹽之熔點藉由DSC分析判定係257o C。 方法B –使用水溶劑製備植物生長素半鹽 樣品6:2,4-D鉀半鹽
2,4-二氯苯甲基乙酸(97%分析)之一35重量%懸浮液藉由一Silverson均質機之助於水中形成。然後,懸浮液使用一Eiger研磨機,使用1.0-1.3 mm玻璃珠,以80%腔室體積研磨一遍。形成之經研磨的懸浮液以一半莫耳當量之50%氫氧化錯水溶液處理,然後,經由Eiger研磨機濕式研磨另外二遍。為了移除水,經研磨之懸浮液倒入經加熱之旋轉鼓(鼓式乾燥器)內,產生白色結晶粉末,其經氣銑降低顆粒尺寸。 範例2. 合成植物生長素半鹽之粉末X-射線繞射(PXRD)分析
PXRD分析係於一Rigaku MiniFlex II Desktop X-射線繞射儀上,使用30 kV(15 mA)之X-射線,5度/分鐘之掃瞄速度,及3–60度掃瞄範圍(2-θ;2θ)進行。圖1b)、2b)及3b)顯示之植物生長素半鹽的粉末X-射線繞射圖案係與圖1a)、2a)及3a)顯示之相對應植物生長素全鹽的粉末X-射線繞射圖案明顯不同。
圖1顯示(a)2,4-D之鉀全鹽及(b)2,4-D之鉀半鹽的粉末X-射線繞射(PXRD)圖案。表1列示出顯示於圖1的該二鹽PXRD圖案的主峰之2θ值。 表1
圖2顯示(a)2,4-D之膽鹼全鹽及(b) 2,4-D之膽鹼半鹽的粉末X-射線繞射(PXRD)圖案。表2列示出顯示於圖2的該二鹽PXRD圖案的主峰之2θ值。       表2
圖3顯示(a)綠草定之膽鹼全鹽及(b)綠草定之膽鹼半鹽的粉末X-射線繞射(PXRD)圖案。表3列示出顯示於圖3的該二鹽PXRD圖案的主峰之2θ值。 表3 範例3:製備含有此處所述之合成植物生長素半鹽的液體除草性組成物 樣品7:固殺草-銨 水性組成物
12.25克量之固殺草-銨(GluA)工業級(95.2%純度,11.66克ai),62.49克之去離子水,及25.26克之Steol CS-460(月桂基醚硫酸鈉界面活性劑(LES),Stepan)被混合產生100克之澄清液體濃縮物,其含有11.66重量% ai,(10.66重量% ae)之固殺草-銨。 樣品8:2,4-D鉀半鹽水性懸浮濃縮物
對二個20-毫升塑膠瓶之每一者,添加2.21克之2,4-D鉀半鹽工業級(90.4重量%,2.0克ai)及2.79克之由0.0837克之Pluronic P-105,0.0558克之Morwet D-425,0.0279克之消泡劑B(Antifoam B)及2.62克之去離子水所組成之一SC空白溶液。然後,30克之量的1/8英吋鋼球添加至每一瓶,且樣品 於一Retsch搖動器中以100%搖動強度研磨15分鐘。形成之經研磨的濃縮物與鋼球分離,且使用一可拋棄式塑膠吸量管混合。形成之懸浮濃縮物含有40重量% ai(36.8重量% ae)之2,4-D鉀半鹽。 樣品9:固殺草-銨/2,4-D鉀半鹽水性SC預混合物
具有2.06:1(重量% ae/重量% ae)之2,4-D鉀半鹽對固殺草-銨之比例的一2,4-D鉀半鹽/固殺草-銨懸浮濃縮物預混合物係藉由使2.0克之2,4-D鉀半鹽懸浮濃縮物(樣品6)與3.35克之固殺草-銨水性濃縮物(樣品5)混合而製備,產生含有13.77重量% ae之2,4-D鉀半鹽及6.67重量% ae之固殺草-銨的一預混合濃縮物。 範例4.製備含有此處所述之合成植物生長素半鹽的乾燥(固體)除草性組成物 樣品10:2,4-D鉀半鹽可分散顆粒(DG)
表4中顯示之成份被混合及摻合,提供具有約3-5微米(μm)之d(0.5)及<10μm之d(0.9)的一摻合粉末。粉末與水混合形成含有約27-29重量%之水的一濕化粉末,然後,經由一籃式擠壓機(1.0 mm篩號)擠壓提供顆粒。顆粒於45o C乾燥成1-2重量%之最終水分量,然後,過篩(第12號及第40號篩子)移除細微物及過大尺寸之顆粒。經過篩之顆粒添加至於一250毫升之刻度量筒中之342 ppm硬度之水且於50秒使用4次反轉完全分散。經分散之混合物通過一45微米的篩子,且無物料被收集於篩子上。 表4:含有2,4-D鉀半鹽之乾燥除草性組成物的組成(樣品10) 樣品11:2,4-D鉀半鹽可分散顆粒(DG)
以相似於用於製備樣品10所述者之方式,表5中之成份被轉化成可分散顆粒,其係如前般乾燥及過篩。經過篩之顆粒添加至於一250毫升之刻度量筒中之342 ppm硬度之水且於75秒使用7次反轉完全分散。經分散之混合物通過一45微米的篩子,且無物料被收集於篩子上。 表5:含有2,4-D鉀半鹽之乾燥除草性組成物的組成(樣品11) 樣品12:固殺草-銨/2,4-D鉀半鹽鹽可分散顆粒(DG)
使用表6中所示之成份及量,Steol CS-460佐劑(Stepan)灌注於ZeoFree 5180矽石(Huber)內,然後,經灌注之樣品於45o C加熱移除過量的水份。然後,經乾燥的經灌注之矽石樣品與剩餘成份組合,充份混合,以水濕化(27-29重量%),以一籃式擠壓機(1.0 mm篩號)擠壓。形成之顆粒於45o C乾燥,然後過篩(編號12及編號40之篩子)以移除細微物及過大尺寸的顆粒。經過篩之顆粒添加至一250毫升之刻度量筒中之342 ppm硬度之水且於165秒使用17次反轉完全分散。經分散之混合物通過一45微米的篩子,且無物料被收集於篩子上。         表6:含有固殺草-銨及2,4-D鉀半鹽之乾燥除草性組成物的組成(樣品12) 範例5. 2,4-D鉀半鹽及2,4-D乾、酯及銨鹽標準物之揮發性判定
2,4-D鉀半鹽(以一經濃縮之水性懸浮液)之揮發性於高溫藉由熱重分析(TGA)重量損失與2,4-D酸(以工業級固體)、2,4-D乙基己酯(EHE,以工業級液體),及2,4-D二甲銨(DMA)與2,4-D二甲基乙醇銨(DMEA)鹽(二者皆係以經濃縮之水溶液)者作比較。此等2,4-D樣品之每一者依序添加(約25-30毫克)至一TA Instruments Model 2050 TGA儀器之貯存杯。溫度維持於120o C,且重量損失以時間之函數作記錄。
對於含水樣品,快速重量損失於水移除期間被觀察到,其後係一線性區域(固定損失速率)。線性曲線擬合被應用於此曲線之此區域以判定以μg/分鐘之2,4-D損失速率。圖4顯示DMEA鹽溶液之一典型重量損失曲線。各種型式之2,4-D於120o C之損失速率係綜述於表7。 表7:各種型式之2,4-D之損失速率 範例7.使用合成植物生長素半鹽之雜草控制 於溫度中施用2,4-D鹽及固殺草+2,4-D之方法
植物材料於Indianapolis 溫室中於26至28°C之溫暖溫度條件下及16小時之白日長度及8小時黑暗週期繁殖。自然光係以具有500 mE m-2 s-1光合成活性輻射之平均照度之1000瓦金屬鹵化物頂燈補充,每天連續16小時。每一物種之種籽種植於含有盆栽土壤Metro-Mix 360®之10公分平方之盆子中。Metro-mix 360®係由加拿大泥碳土(sphagnum peat moss)、粗珍珠岩、白蠟樹皮灰、起始營養裝填物(具有石膏)、緩慢釋放之氮肥,及白雲石質石灰石所組成。植物於處理前係頂部供水,且於處理後係地下灌溉。植物材料係以Jack’s肥料溶液(JR PETERS INC.; 6656 Grant Way; Allentown, PA 18106製造之Jack’s Professional 15-5-15 4 Ca 2Mg肥料)每週施肥三次。適當量之除草劑被稱重且以Indianapolis自來水稀釋。
所有處理係以位於印地安納州Indianapolis之Dow AgroSciences facility的建築物306,實驗室E1-483之一履帶式噴灑器(Hollandale, MN, USA之DeVries Manufacturing製造之Generation III Research Sprayer)施用至經選擇之植物物種。履帶式噴灑器經校正使用一8002E截齊式扇形霧錐噴嘴以40 psi(262 kPa)壓力以140 L/ha遞送。履帶式噴灑器速度係設定為1.6 mph(2.4 km h-1)。以隨機化完全集區設計進行施用而複製每一物種,每一處理係4次施用。
所有物種於施用後15或21天(DAA)評估。經處理之植物及對照植物係使用0-100%之尺度評價評估,其中,0%指示植被無受損或對比,且100%指示植物完全死亡。 表8: 施用後21天(DAA)的無佐劑之數種型式的2,4-D之一般之藜(CHEAL)、決明子(CASOB)、反枝莧(AMARE)及一般之豬草(AMBTR)的對照 a 未對此物種作無測試     表9:施用後15天(DAA)之固殺草+2,4-D鉀(K)半鹽與固殺草+2,4-D膽鹼槽混合物比較之刺黃花稔(SIDSP)、決明子(CASOB)及寬葉臂形草(BRAPP)的對比
本發明於範圍係不受此處揭露之實施例限制,此等實施例係打算作為本發明一些方面的例示,且於功能上相等之任何實施例係於本發明之範圍內。除此處所示及描述者以外,此等組成物及方法之各種修改對熟習此項技藝著會變得明顯,且係打算落於所附申請專利範圍之範圍內。再者,雖然僅有此處揭露的組成物之組份及方法之步驟的某些代表性組合於上述實施例中特別地探討,但組成物之組份及方法之步驟的其它組合對熟習此項技藝者會變得明顯,且亦打算落於所附申請專利範圍之範圍內。因此,組份或步驟之組合可於此處明確提及;但是,組份及步驟之其它組合亦可被包括,即使未被明確陳述。術語“包含”及其變體於此處使用時係與術語“包括”及其變體同義地使用,且係開放性非限制術語。
圖1顯示(a)2,4-D之鉀全鹽及(b)2,4-D之鉀半鹽的粉末X-射線繞射(PXRD)圖案。
圖2顯示(a)2,4-D之膽鹼全鹽及(b)2,4-D之膽鹼半鹽的粉末X-射線繞射(PXRD)圖案。
圖3顯示(a)綠草定之膽鹼全鹽及(b)綠草定之膽鹼半鹽的粉末X-射線繞射(PXRD)圖案。
圖4顯示2,4-D之DMEA鹽溶液於高溫之熱重分析(TGA)重量損失判定結果。
(無)

Claims (42)

  1. 一種合成植物生長素除草劑之半鹽。
  2. 如請求項1之半鹽,其具有下列化學式I 其中R獨立地係H或CH3 ;n係選自於1、2或3的一整數;Ar係經選自於下列之一或多個取代基取代的一苯基或吡啶基團:鹵素、C1 -C6 烷基、C1 -C6 鹵烷基、C1 -C6 烷氧基、胺基、C1 -C6 烷基胺基及二(C1 -C6 烷基)胺基;且M係一陽離子。
  3. 如請求項2之半鹽,其中該陽離子係一金屬陽離子。
  4. 如請求項3之半鹽,其中該金屬陽離子係選自於含有鋰、鈉及鉀之群組。
  5. 如請求項2之半鹽,其中該陽離子係一經四取代的銨離子 。
  6. 如請求項5之半鹽,其中該經四取代的銨離子係選自於含有四甲基銨、四乙基銨,及膽鹼之群組。
  7. 如請求項1-6中任一項之半鹽,其中該合成植物生長素除草劑係選自於含有2,4-D、2,4-DB、綠草定、氟氯比(fluroxypyr)、MCPA、MCPB、甲氯丙酸(mecoprop)及甲氯丙酸-P之群組。
  8. 如請求項7之半鹽,其中該合成植物生長素除草劑係2,4-D,且M係鈉。
  9. 如請求項7之半鹽,其中該植物生長素除草劑係2,4-D,且M係鉀。
  10. 如請求項7之半鹽,其中該植物生長素除草劑係2,4-D,且M係鋰。
  11. 如請求項7之半鹽,其中該植物生長素除草劑係2,4-D,且M係膽鹼。
  12. 如請求項7之半鹽,其中該植物生長素除草劑係綠草定(triclopyr),且M係鈉。
  13. 如請求項7之半鹽,其中該植物生長素除草劑係綠草定,且M係鉀。
  14. 如請求項7之半鹽,其中該植物生長素除草劑係綠草定,且M係鋰。
  15. 如請求項7之半鹽,其中該植物生長素除草劑係綠草定,且M係膽鹼。
  16. 如請求項7之半鹽,其中該植物生長素除草劑係氟氯比,且M係鈉。
  17. 如請求項7之半鹽,其中該植物生長素除草劑係氟氯比,且M係鉀。
  18. 如請求項7之半鹽,其中該植物生長素除草劑係氟氯比,且M係鋰。
  19. 如請求項7之半鹽,其中該植物生長素除草劑係氟氯比,且M係膽鹼。
  20. 一種除草性組成物,其包含如請求項1-19中任一項之半鹽。
  21. 如請求項20之除草性組成物,其進一步包含一或多種農業上可接受之佐劑或載劑。
  22. 如請求項20或21之除草性組成物,其中該組成物係一液體濃縮物或一乾燥濃縮物。
  23. 如請求項22之除草性組成物,其中該液體濃縮物係一懸浮濃縮物。
  24. 如請求項22之除草性組成物,其中該乾燥濃縮物係選自於含有一粉末、一顆粒或一可分散顆粒之群組。
  25. 如請求項20或21之除草性組成物,其中該組成物係一水性噴灑溶液或混合物。
  26. 如請求項20-25中任一項之除草性組成物,其進一步包含一第二除草劑。
  27. 如請求項26之除草性組成物,其中該第二除草劑係選自於含有草甘膦(glyphosate)及固殺草(glufosinate),或其等之鹽的群組。
  28. 一種除草性組成物,其包含2,4-D之鈉半鹽,以及一草甘膦鹽。
  29. 一種除草性組成物,其包含2,4-D之鉀半鹽,以及一草甘膦鹽。
  30. 一種除草性組成物,其包含2,4-D之鋰半鹽,以及一草甘膦鹽。
  31. 一種除草性組成物,其包含2,4-D之膽鹼半鹽,以及一草甘膦鹽。
  32. 一種除草性組成物,其包含2,4-D之鈉半鹽,以及一固殺草鹽。
  33. 一種除草性組成物,其包含2,4-D之鉀半鹽,以及一固殺草鹽。
  34. 一種除草性組成物,其包含2,4-D之鋰半鹽,以及一固殺草鹽。
  35. 一種除草性組成物,其包含2,4-D之膽鹼半鹽,以及一固殺草鹽。
  36. 如請求項28-31中任一項之組成物,其中該草甘膦鹽係選自於含有異丙基銨鹽、二甲基銨鹽及鉀鹽之群組。
  37. 如請求項32-35中任一項之組成物,其中該固殺草鹽係銨鹽。
  38. 一種製備如請求項1或2之半鹽的方法,其包含: 將a)具有下式之一合成植物生長素除草劑與 b)    一半莫耳當量之一鹼組合;其中,R獨立地係H或CH3 ;n係選自於1、2或3之一整數;Ar係經選自於下列之一或多個取代基取代的一苯基或吡啶基團:鹵素、C1 -C6 烷基、C1 -C6 鹵烷基、C1 -C6 烷氧基、胺基、C1 -C6 烷基胺基及二(C1 -C6 烷基)胺基。
  39. 如請求項38之方法,其中該鹼係選自於含有氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鋰、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨及氫氧化膽鹼之群組。
  40. 如請求項38之方法,其中該合成植物生長素除草劑係選自於含有2,4-D、2,4-DB、綠草定、氟氯比、MCPA、MCPB、甲氯丙酸及甲氯丙酸-P之群組。
  41. 一種控制非所欲的植被之方法,其包含使該植被或其所在地與一除草有效量之如請求項1-19中任一項之半鹽或如請求項20-37中任一項之除草性組成物接觸,或施用至土壤,以避免植被萌發。
  42. 一種降低具有下式之一合成植物生長素除草劑的揮發性之方法,其中,R獨立地係H或CH3 ;n係選自於1、2或3之一整數;Ar係經選自於下列之一或多個取代基取代的一苯基或吡啶基團:鹵素、C1 -C6 烷基、C1 -C6 鹵烷基、C1 -C6 烷氧基、胺基、C1 -C6 烷基胺基及二(C1 -C6 烷基)胺基; 該方法包含使用該合成植物生長素除草劑的一半鹽。
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