TW201722867A - 處理玻璃的方法及設備 - Google Patents

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米斯強納森麥克
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康寧公司
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Abstract

用於處理玻璃片的設備及方法可包括塗佈腔室,此塗佈腔室包括分配埠以在玻璃片之主表面上分配塗料。在一些實施例中,設備可包括霧室,此霧室包括外罩;提供霧至外罩的霧產生器;以及外罩中的通道,霧可自此通道離開外罩以接觸玻璃片之主表面。在一些實施例中,方法可包括:提供玻璃片至塗佈腔室;以及在玻璃片之主表面上分配塗料。在一些實施例中,方法可包括:提供玻璃片至霧室;提供霧至霧室之外罩;以及藉由將霧自外罩傳遞穿過外罩中的通道使玻璃片之主表面與霧接觸。

Description

處理玻璃的方法及設備
已知處理玻璃來實現具有所欲特徵的一或更多個玻璃片。進一步已知封裝一或更多個玻璃片以便裝運給客戶進行進一步處理。
以下呈現本揭示案之簡化概要,以便提供對詳細描述中所描述之一些示例性實施例的基本理解。
本揭示案大體而言係關於用於處理玻璃的方法及設備,且更特定言之,係關於用於處理玻璃帶以實現具有所欲特徵之玻璃片的方法及設備。
在一些實施例中,用於處理玻璃片的設備可包括塗佈腔室,此塗佈腔室包括分配埠,此分配埠經定向以在玻璃片之至少一個主表面上分配塗料。
在一些實施例中,分配埠可包括電漿沉積埠,此電漿沉積埠經定向以分配電漿來塗佈玻璃片之至少一個主表面。
在一些實施例中,用於處理玻璃片的設備可包括塗佈腔室,此塗佈腔室包括第一複數個分配埠及第二複數個分配埠。第一複數個分配埠之各者可經定向以在玻璃片之第一主表面上分配塗料,且第二複數個分配埠之各者可經定向以在玻璃片之第二主表面上分配塗料。
在一些實施例中,第一複數個分配埠之各者可包括電漿沉積埠,此電漿沉積埠經定向以分配電漿來塗佈玻璃片之第一主表面,且第二複數個分配埠之各者可包括電漿沉積埠,此電漿沉積埠經定向以分配電漿來塗佈玻璃片之第二主表面。
在一些實施例中,用於處理玻璃片的方法可包括:提供玻璃片至塗佈腔室;以及在玻璃片之至少一個主表面上分配塗料。
在一些實施例中,塗佈腔室可包括分配埠,可自此分配埠分配塗料。
在一些實施例中,塗料可在玻璃片之至少一個主表面上提供保護層。
在一些實施例中,藉由電漿沉積在至少一個主表面上塗佈塗料。
在一些實施例中,塗料可包括聚合物。
在一些實施例中,處理玻璃片的方法可包括:提供玻璃片至塗佈腔室;在玻璃片之第一主表面上分配塗料;以及在玻璃片之第二主表面上分配塗料。
在一些實施例中,塗佈腔室可包括第一複數個分配埠及第二複數個分配埠,可自第一複數個分配埠在玻璃片之第一主表面上分配塗料,且可自第二複數個分配埠在玻璃片之第二主表面上分配塗料。
在一些實施例中,塗料可在玻璃片之第一主表面及第二主表面上提供保護層。
在一些實施例中,可藉由電漿沉積在第一主表面及第二主表面上塗佈塗料。
在一些實施例中,塗料可包括聚合物。
在一些實施例中,用於處理玻璃片的設備可包括霧室,此霧室包含外罩。霧產生器可提供霧至外罩。設備可包括外罩中的通道,霧可自此通道離開外罩以接觸玻璃片之至少一個主表面。
在一些實施例中,輸送機可界定沿通道延伸的行進路徑,且輸送機可經定向以沿行進路徑橫向移動玻璃片。
在一些實施例中,通道可包括槽縫噴嘴,其中霧可經由槽縫噴嘴離開外罩以接觸玻璃片之至少一個主表面。
在一些實施例中,槽縫噴嘴可包括沿通道延伸的行進路徑間隔分離的複數個伸長孔隙。
在一些實施例中,通道可包括擴散器噴嘴,其中霧可經由擴散器噴嘴離開外罩以接觸玻璃片之至少一個主表面。
在一些實施例中,擴散器噴嘴可包括複數個孔隙,可穿過此等孔隙傳遞霧。
在一些實施例中,霧室可包括入口,此入口界定自霧室外部延伸至霧室內部的入口路徑。在一些實施例中,入口可經定向以接收玻璃片沿自霧室外部至霧室內部的入口路徑傳遞。
在一些實施例中,設備可進一步包括選擇性阻擋入口的門。
在一些實施例中,用於處理玻璃片的設備可包括霧室,此霧室包含第一外罩及第二外罩。在一些實施例中,設備可包括霧產生器以提供霧至第一外罩及第二外罩。設備可包括第一外罩中的第一通道,霧可自此第一通道離開第一外罩以接觸玻璃片之第一主表面。設備可包括第二外罩中的第二通道,霧可自此第二通道離開第二外罩以接觸玻璃片之第二主表面。
在一些實施例中,第一通道可面向第二通道。
在一些實施例中,第一通道可與第二通道間隔預定距離,且預定距離可界定玻璃片的行進路徑。
在一些實施例中,設備可包括輸送機,此輸送機經定向以在第一通道與第二通道之間沿行進路徑橫向移動玻璃片。
在一些實施例中,第一通道可包括第一槽縫噴嘴,其中霧可經由第一槽縫噴嘴離開第一外罩以接觸玻璃片之第一主表面。在一些實施例中,第二通道可包括第二槽縫噴嘴,其中霧可經由第二槽縫噴嘴離開第二外罩以接觸玻璃片之第二主表面。
在一些實施例中,第一槽縫噴嘴及第二槽縫噴嘴之各者可包括複數個伸長孔隙,此等伸長孔隙沿在第一通道與第二通道之間沿第一通道及第二通道橫向延伸的行進路徑間隔分離。
在一些實施例中,第一通道可包括第一擴散器噴嘴,其中霧可經由第一擴散器噴嘴離開第一外罩以接觸玻璃片之第一主表面。在一些實施例中,第二通道可包括第二擴散器噴嘴,其中霧可經由第二擴散器噴嘴離開第二外罩以接觸玻璃片之第二主表面。
在一些實施例中,第一擴散器噴嘴及第二擴散器噴嘴之各者可包括複數個孔隙,可穿過此等孔隙傳遞霧。
在一些實施例中,霧室可包括入口,此入口界定自霧室外部延伸至霧室內部的入口路徑。在一些實施例中,入口可經定向以接收玻璃片沿自霧室外部至霧室內部的入口路徑傳遞。
在一些實施例中,設備可包括選擇性阻擋入口的入口門。
在一些實施例中,第一通道可面向第二通道,第一通道可與第二通道間隔預定距離,且預定距離可界定玻璃片的行進路徑。
在一些實施例中,霧室可包括出口,此出口界定自霧室內部延伸至霧室外部的出口路徑。在一些實施例中,出口可經定向以接收玻璃片沿自霧室內部至霧室外部的出口路徑行進。
在一些實施例中,設備可包括選擇性阻擋出口的出口門。
在一些實施例中,第一通道可面向第二通道,第一通道可與第二通道間隔預定距離,且預定距離可界定玻璃片的行進路徑。
在一些實施例中,設備可包括選擇性阻擋入口的入口門及選擇性阻擋出口的出口門。
在一些實施例中,處理玻璃片的方法可包括:提供玻璃片至霧室;以及提供霧至霧室之外罩。在一些實施例中,方法可包括:藉由將霧自外罩傳遞穿過外罩中的通道使玻璃片之至少一個主表面與霧接觸。
在一些實施例中,方法可包括:沿著沿通道延伸的行進路徑輸送玻璃片。
在一些實施例中,通道可包括槽縫噴嘴,此槽縫噴嘴包括伸長孔隙。在一些實施例中,方法可包括:藉由將霧自外罩傳遞穿過槽縫噴嘴之伸長孔隙來接觸玻璃片之至少一個主表面。
在一些實施例中,通道可包括擴散器噴嘴,此擴散器噴嘴包括複數個孔隙。在一些實施例中,方法可包括:藉由將霧自外罩傳遞穿過擴散器噴嘴之複數個孔隙來接觸玻璃片之至少一個主表面。
在一些實施例中,方法可包括:沿自霧室外部至霧室內部的入口路徑橫向移動玻璃片。
在一些實施例中,方法可包括:打開選擇性阻擋入口的門;沿自霧室外部至霧室內部的入口路徑橫向移動玻璃片;以及隨後關閉門以阻擋入口。
在一些實施例中,處理玻璃片的方法可包括:提供玻璃片至霧室;以及提供霧至霧室之第一外罩及至霧室之第二外罩。在一些實施例中,方法可包括:藉由將霧自第一外罩傳遞穿過第一外罩中的第一通道使玻璃片之第一主表面與霧接觸。在一些實施例中,方法可包括:藉由將霧自第二外罩傳遞穿過第二外罩中的第二通道使玻璃片之第二主表面與霧接觸。
在一些實施例中,方法可包括:在第一通道與第二通道之間沿第一通道及第二通道橫向延伸的行進路徑輸送玻璃片。
在一些實施例中,第一通道可面向第二通道且第一通道可與第二通道間隔預定距離。
在一些實施例中,第一通道可包括第一槽縫噴嘴,此第一槽縫噴嘴包括第一伸長孔隙,且第二通道可包括第二槽縫噴嘴,此第二槽縫噴嘴包括第二伸長孔隙。在一些實施例中,方法可包括:藉由將霧自第一外罩傳遞穿過第一槽縫噴嘴之第一伸長孔隙來接觸玻璃片之第一主表面。在一些實施例中,方法可包括:藉由將霧自第二外罩傳遞穿過第二槽縫噴嘴之第二伸長孔隙來接觸玻璃片之第二主表面。
在一些實施例中,第一通道可包括第一擴散器噴嘴,此第一擴散器噴嘴包括第一複數個孔隙,且第二通道可包括第二擴散器噴嘴,此第二擴散器噴嘴包括第二複數個孔隙。在一些實施例中,方法可包括:藉由將霧自第一外罩傳遞穿過第一擴散器噴嘴之第一複數個孔隙來接觸玻璃片之第一主表面。在一些實施例中,方法可包括:藉由將霧自第二外罩傳遞穿過第二擴散器噴嘴之第二複數個孔隙來接觸玻璃片之第二主表面。
在一些實施例中,方法可包括:沿自霧室外部至霧室內部的入口路徑橫向移動玻璃片。
在一些實施例中,方法可包括:沿自霧室內部至霧室外部的出口路徑橫向移動玻璃片。
在一些實施例中,方法可包括:打開選擇性阻擋霧室之入口的入口門;沿自霧室外部至霧室內部的入口路徑橫向移動玻璃片;以及隨後關閉入口門以阻擋入口。在一些實施例中,方法亦可包括:打開選擇性阻擋霧室之出口的出口門;沿自霧室內部至霧室外部的出口路徑橫向移動玻璃片;以及隨後關閉出口門以阻擋出口。
在一些實施例中,可在垂直定向上對玻璃片實施此等方法。
應理解,前文概括描述與下文詳細描述兩者皆呈現本揭示案之實施例,且意欲提供概要或構架以便理解所描述及所主張之實施例之本質與特徵。包括隨附圖式以提供實施例之進一步理解,且將隨附圖式併入本說明書及構成本說明書的一部分。諸圖圖示本揭示案之各實施例,且與描述一起,用來解釋本揭示案之原理與操作。
現將參照隨附圖式在下文中更全面地描述設備及方法,在此等圖式中圖示本揭示案之示例性實施例。貫穿諸圖儘可能使用相同元件符號指示相同或相似部件。然而,本揭示案可以許多不同形式加以體現且不應視為限於本文所闡述之實施例。
通常藉由使熔融玻璃流動至成形主體來製造玻璃片,藉此玻璃帶可藉由各種帶材成形製程形成,此等製程包括浮製、槽縫拉製、下拉、熔合下拉、上拉或任何其他成形製程。隨後可依次分割來自此等製程之任何者的玻璃帶以提供適於在所欲應用中進一步處理的一或更多個玻璃片,所欲應用包括但不限於顯示器應用。舉例而言,一或更多個玻璃片可用於各種顯示器應用中,包括液晶顯示器(liquid crystal display; LCD)、電泳顯示器(electrophoretic display; EPD)、有機發光二極體顯示器(light emitting diode display; OLED)、電漿顯示面板(plasma display panel; PDP)或類似者。可將玻璃片自一個位置輸送至另一位置。可利用習知支撐框架輸送玻璃片,此習知支撐框架經設計以將玻璃片之堆疊緊固在適當位置中。此外,可在每個相鄰玻璃片之間置放插入紙材料以幫助防止玻璃片之原始表面之間的接觸且因此保護此等原始表面。
應理解,本文所揭示之特定實施例意欲為示例性且因此為非限制性的。因此,本揭示案係關於用於處理玻璃帶及玻璃片之至少一者的方法及設備。在一些實施例中,待處理之玻璃帶可由玻璃製造設備形成,可在玻璃製造設備正在形成玻璃帶時提供,可由可自捲軸退繞的一卷預先形成之玻璃帶提供,或可作為獨立玻璃帶提供。在一些實施例中,待處理之玻璃片可由玻璃製造設備形成,可作為與玻璃帶分離的玻璃片提供,可作為與另一玻璃片分離的玻璃片提供,可作為自一卷玻璃片退繞的玻璃片提供,可作為自玻璃片之堆疊獲得之玻璃片提供,或可作為獨立玻璃片提供。
現將經由示例性實施例描述用於處理玻璃帶及玻璃片之至少一者的方法及設備,此等示例性實施例包括處理由玻璃製造設備形成之玻璃帶的實施例及處理與玻璃帶分離之玻璃片的實施例。亦描述處理玻璃帶及玻璃片之至少一者的其他實施例,但應理解,就至少一些實施例而言,亦可應用相似或相同技術來處理上文所論述之示例性玻璃帶及玻璃片之任何一者或更多者。
本揭示案提供用於處理玻璃帶103 及玻璃片104 之至少一者以實現所需屬性。在一些實施例中,玻璃片104 可與玻璃帶103 分離。另外,本揭示案提供示例性玻璃處理設備,包括 1 25 中示意性圖示之玻璃處理設備100 及玻璃處理方法2100 (參看 25 ),此設備及方法可用於處理根據本揭示案之實施例的玻璃帶103 及玻璃片104 。如圖所示,玻璃處理設備100 可包括多個示例性處理站,此等處理站可單獨使用或彼此組合使用。如圖所示,可彼此串聯排列處理站來處理玻璃帶103 及玻璃片104 之至少一者以提供所需屬性。此外,可需要進一步處理玻璃帶103 或玻璃片104 (例如,藉由客戶針對顯示器應用進一步處理玻璃片104 )。在一些實施例中,本文所提供之方法及設備可幫助防止碎屑接觸到及污染玻璃帶103 及玻璃片104 ,從而保護玻璃帶103 及玻璃片104 之原始特徵,此等原始特徵可為各種顯示器應用所需。
出於解釋性目的,現將描述與玻璃處理設備100 相關的兩種類型的碎屑,但應理解,可存在其他類型的碎屑且視為屬本揭示案之範疇內。參看 10 ,分離碎屑1001 可包括與玻璃分離器149 關聯且在分離製程之前、期間或之後由玻璃分離器149 在玻璃處理設備100 之任何類型的操作條件下產生的碎屑。在一些實施例中,分離碎屑1001 可包括劃刻玻璃帶103 時產生的玻璃碎片及玻璃卷屑以及用玻璃分離器149 分離玻璃帶103 時可自玻璃帶103 脫落的玻璃碎片及玻璃卷屑。分離碎屑1001 亦可包括源自玻璃分離器149 及其相關組件的顆粒及其他污染物,諸如機械灰塵、潤滑劑、顆粒、纖維及任何其他類型的碎屑。在一些實施例中,分離碎屑1001 亦可包括玻璃帶103 因例如處理故障而意外斷裂、破裂或碎裂時自玻璃帶103 脫落的玻璃碎片及玻璃卷屑。環境碎屑1002 可包括來自玻璃帶103 周圍環境的碎屑,諸如玻璃、玻璃顆粒、玻璃碎片、玻璃卷屑、顆粒、纖維、灰塵、人類污染物及任何其他類型的碎屑。在一些實施例中,環境碎屑1002 可包括自玻璃處理設備100 所在環境內的地板或其他附近結構釋放的灰塵及其他顆粒。當經歷氣流(諸如通風、微風、自玻璃處理設備100 的氣流)時,或當由人(例如,技術員、操作員)、機器或其他誘因攪動時,此類環境碎屑1002 可變為空中浮游的。類似地,環境碎屑1002 可源自環境內的儲存容器,此儲存容器可用於盛放玻璃顆粒,包括真空埠1011 ,此真空埠經定向以接收分離碎屑1001 。環境碎屑1002 亦可包括顆粒,諸如來自衣服的纖維、灰塵及由人(例如,技術員、操作員或其他來源)引入到環境中的其他污染物。本文所提供之設備及方法可隔離玻璃帶103 及玻璃片104 ,避免曝露於分離碎屑1001 及環境碎屑1002 之至少一者中及與此等碎屑接觸。
另外,利用玻璃處理設備100 迅速處理玻璃帶103 及玻璃片104 之至少一者可產生玻璃帶103 及玻璃片104 之至少一者的高生產率。又,迅速處理玻璃帶103 及玻璃片104 之至少一者可幫助防止碎屑(例如,分離碎屑1001 、環境碎屑1002 )黏附於玻璃帶103 及玻璃片104 之至少一者之原始表面。實際上,落在玻璃帶103 之主表面(例如,第一主表面213a 、第二主表面213b )及玻璃片104 之主表面(例如,第一主表面214a 、第二主表面214b )上的碎屑與主表面214a214b 接觸越久,碎屑可越緊固地黏合至主表面214a214b 。因此,增加玻璃帶103 及玻璃片104 之至少一者在站間移動的速度可允許迅速移除玻璃帶103 之主表面213a213b 及玻璃片104 之主表面214a214b 上殘留的碎屑,從而避免強力黏合,而此強力黏合可使後期的碎屑移除複雜化。舉例而言,若一個站產生碎屑(例如,使玻璃片104 與玻璃帶103 分離的玻璃分離站,產生分離碎屑1001 ),可將玻璃片104 在約1秒至約20秒(諸如約1秒至約15秒)內自彼站迅速移至例如洗滌站,在洗滌站處可自玻璃片104 移除碎屑。
儘管圖示處理站之示例性次序,但在一些實施例中,可以不同次序排列處理站。在一些實施例中,玻璃處理設備100 可包括與示例性圖示處理站相比更多的處理站。在一些實施例中,玻璃處理設備100 可包括與示例性圖示處理站相比更少的處理站。此外,在一些實施例中,可提供單個處理站,此單個處理站可用於單獨或者與任何一或更多個其他處理站組合處理玻璃帶103 及玻璃片104 之至少一者。
在一些實施例中,玻璃處理設備100 利用玻璃製造設備101 提供玻璃帶103 ,此玻璃製造設備諸如槽縫拉製設備、浮製浴設備、下拉設備、上拉設備、壓軋設備或其他玻璃帶製造設備。 1 示意性圖示玻璃製造設備101 ,此玻璃製造設備包括熔合下拉設備101 ,用於熔合拉製玻璃帶103 以便後續處理成玻璃片104
熔合下拉設備101 可包括熔融容器105 ,此熔融容器經定向以自儲倉109 接收批料107 。可藉由馬達113 提供動力的批料輸送裝置111 引入批料107 。可選控制器115 可經配置以啟動馬達113 來將所欲量之批料107 引入到熔融容器105 中,如箭頭117 所指示。玻璃熔融探針119 可用於量測豎管123 內的熔料121 之位準及將所量測資訊經由通訊線路125 傳達至控制器115
熔合下拉設備101 亦可包括澄清容器127 ,此澄清容器安置在熔融容器105 下游且經由第一連接導管129 耦接至熔融容器105 。在一些實施例中,可經由第一連接導管129 將熔料121 自熔融容器105 重力饋送至澄清容器127 。舉例而言,重力可作用以驅動熔料121 自熔融容器105 穿過第一連接導管129 之內部路徑至澄清容器127 。在澄清容器127 內,可藉由各種技術自熔料121 移除氣泡。
熔合下拉設備101 可進一步包括混合腔室131 ,此混合腔室可安置在澄清容器127 下游。混合腔室131 可用於提供熔料121 之均質組合物,從而減少或消除不均質性之條痕,此等條痕可原本存在於離開澄清容器127 的熔料121 內。如圖所示,可經由第二連接導管135 將澄清容器127 耦接至混合腔室131 。在一些實施例中,可經由第二連接導管135 將熔料121 自澄清容器127 重力饋送至混合腔室131 。舉例而言,重力可作用以驅動熔料121 自澄清容器127 穿過第二連接導管135 之內部路徑至混合腔室131
熔合下拉設備101 可進一步包括輸送容器133 ,此輸送容器可安置在混合腔室131 下游。輸送容器133 可調節待饋入玻璃成形器140 中的熔料121 。舉例而言,輸送容器133 可充當儲蓄器及/或流量控制器以調節及提供熔料121 至玻璃成形器140 之連貫流動。如圖所示,可經由第三連接導管137 將混合腔室131 耦接至輸送容器133 。在一些實施例中,可經由第三連接導管137 將熔料121 自混合腔室131 重力饋送至輸送容器133 。舉例而言,重力可作用以驅動熔料121 自混合腔室131 穿過第三連接導管137 之內部路徑至輸送容器133
如進一步所圖示,輸送管139 可經安置以將熔料121 輸送至熔合下拉設備101 之玻璃成形器140 。如下文更全面地論述,玻璃成形器140 可自成形容器143 之根部145 將熔料121 拉製成玻璃帶103 。在所圖示之實施例中,成形容器143 可包括入口141 ,此入口經定向以自輸送容器133 之輸送管139 接收熔料121
2 係沿 1 之線2 -2 的熔合下拉設備101 之橫截面透視圖。如圖所示,成形容器143 可包括凹槽170 ,此凹槽經定向以自入口141 接收熔料121 。成形容器143 可進一步包括成形楔171 ,此成形楔包括在成形楔171 之相對末端之間延伸的一對向下傾斜彙聚表面部分173175 。此對向下傾斜彙聚表面部分173175 沿拉製方向177 彙聚以形成根部145 。拉製平面181 延伸穿過根部145 ,其中可沿拉製平面181 在拉製方向177 上拉製玻璃帶103 。如圖所示,拉製平面181 可平分根部145 ,但拉製平面181 可在相對於根部145 的其他定向上延伸。
參看 2 ,在一些實施例中,熔料121 可自入口141 流動至成形容器143 之凹槽170 中。熔料121 可隨後藉由同時溢出相應堰172a172b 並向下溢出相應堰172a172b 之外表面174a174b 而自凹槽170 溢出。熔料121 之各別流隨後沿成形楔171 之向下傾斜彙聚表面部分173175 流動,自成形容器143 之根部145 拉出,在根部處流體彙聚並熔合成玻璃帶103 。玻璃帶103 可隨後在拉製平面181 中沿拉製方向177 自根部145 熔合拉出,其中可隨後接著使玻璃片104 與玻璃帶103 分離。
2 所示,玻璃處理設備100 可包括玻璃成形器140 以自大量熔料121 在拉製方向177 上沿玻璃成形器140 之拉製平面181 拉製玻璃帶103 。可自根部145 拉製玻璃帶103 ,其中具有玻璃帶103 之第一主表面213a 及玻璃帶103 之第二主表面213b 。如圖所示,玻璃帶103 之第一主表面213a 與玻璃帶103 之第二主表面213b 可面向相反方向,並界定玻璃帶103 之厚度「T 」,此厚度可小於或等於約1毫米(mm),小於或等於約0.5毫米,小於或等於約500微米(μm),諸如小於或等於約300微米,諸如小於或等於約200微米,或諸如小於或等於約100微米,但在一些實施例中可使用其他厚度。在一些實施例中,玻璃帶103 之厚度「T 」可自約100微米至約0.5毫米,自約300微米至約0.4毫米,或自約0.3毫米至約500微米,以及兩數之間的所有子範圍。在一些實施例中,玻璃帶103 之厚度「T 」可自約50微米至約500微米,諸如自約50微米至約300微米,諸如自約50微米至約200微米,諸如自約50微米至約100微米,以及兩數之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中,玻璃帶103 之厚度「T 」可大於1毫米,例如自約1毫米至約3毫米以及兩數之間的所有子範圍。不考慮生產來源或方法,在一些實施例中,玻璃帶103 及與玻璃帶103 分離的玻璃片104 可包括自約50微米至1000微米範圍內之厚度,包括上文所論述之所有範圍及子範圍,但在一些實施例中可提供其他厚度。
在一些實施例中,玻璃帶103 之寬度「W 」可大於或等於約20 mm,諸如大於或等於約50 mm,諸如大於或等於約100 mm,諸如大於或等於約500 mm,諸如大於或等於約1000 mm,諸如大於或等於約2000 mm,諸如大於或等於約3000 mm,諸如大於或等於約4000 mm,但在一些實施例中可提供小於或大於此等寬度的其他寬度。
在一些實施例中,玻璃帶103 之寬度「W 」可自約20 mm至約4000 mm,諸如自約50 mm至約4000 mm,諸如自約100 mm至約4000 mm,諸如自約500 mm至約4000 mm,諸如自約1000 mm至約4000 mm,諸如自約2000 mm至約4000 mm,諸如自約3000 mm至約4000 mm,諸如自約20 mm至約3000 mm,諸如自約50 mm至約3000 mm,諸如自約100 mm至約3000 mm,諸如自約500 mm至約3000 mm,諸如自約1000 mm至約3000 mm,諸如自約2000 mm至約3000 mm,諸如自約2000 mm至約2500 mm,以及兩數之間的所有範圍及子範圍。
玻璃帶103 可包括各種組合物,包括但不限於鈉鈣玻璃、硼矽玻璃、鋁硼矽玻璃、含鹼玻璃或無鹼玻璃。在一些實施例中,玻璃帶103 可包括≦15 ppm/℃、≦10 ppm/℃或≦5 ppm/℃之熱膨脹係數,例如自約5 ppm/℃至約15 ppm/℃,諸如自約5 ppm/℃至約10 ppm/℃,以及兩數之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中,玻璃帶103 可包括橫向移動≧50毫米/秒(mm/s)、≧100 mm/s或≧500 mm/s之速度,例如自約50 mm/s至約500 mm/s,諸如自約100 mm/s至約500 mm/s,以及兩數之間的所有範圍及子範圍。
玻璃帶103 可繼續在拉製方向177 上沿拉製平面181 自根部145 拉出,直至玻璃帶103 離開玻璃成形器140 之下部開口183 。在一些實施例中,玻璃帶103 可在離開玻璃成形器140 之下部開口183 之前經歷退火製程。一旦離開下部開口183 ,可隨後藉由玻璃分離器149 將玻璃帶103 最終分離成一或更多個玻璃片104 。如圖所示,可在玻璃成形器140 下游(例如,沿 2 所示之拉製方向177 )安置玻璃分離器149 ,且玻璃分離器經定向以使玻璃片104 與玻璃帶103 分離。可在本揭示案之實施例中提供各種玻璃分離器149 。舉例而言,可提供移動砧機,移動砧機可沿劃線劃刻及隨後使玻璃帶103 斷裂。在一些實施例中,例如如 13 中所圖示,玻璃分離器149 可包括面向玻璃帶103 之第一主表面213a 的第一玻璃分離器149a 及面向玻璃帶103 之第二主表面213b 的第二玻璃分離器149b 。在一些實施例中,第一玻璃分離器149a 及第二玻璃分離器149b 可一起操作以使玻璃片104 與玻璃帶103 分離(例如,沿橫向於拉製方向177 的橫向移動分離路徑151 沿玻璃帶103 之寬度「W 」)。
在一些實施例中,玻璃分離器149 可包括機器人150 (例如,機器人臂),此機器人經定向以相對於玻璃帶103 彎曲玻璃片104 來沿對應於劃線的橫向移動分離路徑151 使玻璃片104 與玻璃帶103 分離。在一些實施例中,可如下文及亦在2014年11月19日提出申請的同在申請中之美國專利案第14/547,688號中描述的提供雷射輔助分離裝置,此美國申請案之全部內容以引用之方式併入本文。此類雷射輔助分離裝置可包括但不限於雷射劃線技術,此等雷射劃線技術加熱玻璃帶103 及隨後冷卻玻璃帶103 以在玻璃帶103 中產生通氣口來分離玻璃帶103 。此類雷射輔助分離裝置亦可包括雷射切割技術,此等雷射切割技術加熱玻璃帶103 以在玻璃帶103 中產生應力區域及隨後施加缺陷至玻璃帶103 之應力區域以引發裂紋來分離玻璃帶103 1 圖示示例性玻璃分離器149 之一般示意圖,其中 3 6 8 9 示意性圖示玻璃分離器149 之示例性特徵。如圖所示,示例性玻璃分離器149 可沿橫向移動分離路徑151 使玻璃片104 與玻璃帶103 分離,此橫向移動分離路徑沿玻璃帶103 之寬度「W 」延伸,橫向於玻璃成形器140 之拉製方向177 ,介於玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 與玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 之間。
在一些實施例中,玻璃分離器149 可沿垂直分離路徑163 使玻璃片104 之外部部分159 與玻璃片104 之中央部分161 分離,此垂直分離路徑沿玻璃片104 之第一橫向移動邊緣165 與玻璃片104 之第二橫向移動邊緣167 之間的長度「L 」延伸。如圖所示,可在垂直定向上實施此技術,但在一些實施例中可提供水平定向。在一些實施例中,垂直定向可促進藉由重力帶走玻璃顆粒,從而減少或防止玻璃帶103 之原本原始第一主表面213a 及玻璃帶103 之原本原始第二主表面213b 之污染。在一些實施例中,玻璃分離器149 可包括真空148 ,諸如卷屑真空系統(在 10 11 中示意性圖示為真空148 及在 13 中圖示為真空148 ,在一些實施例中,可包括第一真空148a 及第二真空148b ),可在圍繞玻璃分離器149 的限定區域內操作此真空以自限定區域移除分離碎屑1001 。在一些實施例中,真空148 可經附接至玻璃分離器149 及可與玻璃分離器149 一起橫向移動,因為玻璃分離器149 可相對於玻璃帶103 移動而分離玻璃帶103 。如 13 所示,在一些實施例中,可面向玻璃帶103 之第一主表面213a 及玻璃片104 之第一主表面214a 安置第一真空148a ,及可面向玻璃帶103 之第二主表面213b 及玻璃片104 之第二主表面214b 安置第二真空148b 。可在圍繞玻璃分離器149 的限定區域內操作第一真空148a 及第二真空148b 之至少一者以自限定區域移除分離碎屑1001 。在一些實施例中,第一真空148a 及第二真空148b 之至少一者可經附接至玻璃分離器149 及可與玻璃分離器149 一起橫向移動,因為玻璃分離器149 可相對於玻璃帶103 移動而分離玻璃帶103
3 圖示 1 示意性圖示的關於沿橫向移動分離路徑151 分離玻璃帶103 的玻璃分離器149 之一個實施例。應理解,在一些實施例中,可採用相同或相似技術沿任何路徑分離玻璃帶103 以及任何其他玻璃帶及沿任何路徑分離玻璃片104 以及任何其他玻璃片。玻璃分離器149 可包括雷射束產生器201 ,此雷射束產生器經配置以產生雷射束203 。在一些實施例中,雷射束產生器201 及雷射束203 可包括CO2 雷射,CO2 雷射可利用雷射光的相對較長脈衝加熱橫向移動分離路徑151 ,此等較長脈衝可近似於能量之連續流動。因此,雷射束203 可經設計以加熱玻璃帶103 上的橫向移動分離路徑151 而不損傷玻璃帶103 。出於此本申請案目的,加熱玻璃帶103 上的橫向移動分離路徑151 而不損傷玻璃帶103 意欲意謂在不施加缺陷703 的情況下以原本將導致玻璃帶103 分離的方式加熱橫向移動分離路徑151 而不損傷玻璃帶103 。加熱橫向移動分離路徑151 而不損傷玻璃帶103 之一些實施例可包括加熱而不熔融玻璃帶103 ,加熱而不燒蝕玻璃帶103 ,加熱而不在玻璃帶103 中產生通體裂紋,及加熱而不劃刻玻璃帶103 。雷射束203 可避免損壞玻璃帶103 以允許在施加缺陷703 之前沿玻璃帶103 之橫向移動分離路徑151 產生所需位準之熱應力而不分離玻璃帶103 ,如下文所論述。
3 進一步所示,玻璃分離器149 可進一步包括一系列鏡面205a 205b 205c 205d 及一或更多個光學透鏡207 ,此等鏡面及光學透鏡經配置以提供所需射束輪廓且在玻璃帶103 之第一外邊緣部分211a 、玻璃帶103 之第二外邊緣部分211b 或玻璃帶103 之主表面(例如,第一主表面213a 、第二主表面213b )上產生雷射束斑209 。在一些實施例中,玻璃分離器149 可包括多角形反射裝置215 。多角形反射裝置215 可包括所圖示之包括八個鏡面219a 219h 的八角形反射裝置,但在一些實施例中可提供具有不同數量之鏡面的其他多角形配置。
在一些實施例中,方法可包括藉由以順時針旋轉或逆時針旋轉方式旋轉多角形反射裝置215 來使橫向移動分離路徑151 沿玻璃帶103 曝露於雷射束203 中。舉例而言,如 3 6 8 所示,多角形反射裝置215 可在逆時針方向217 上旋轉,繼而在雷射束203 之投射路徑內安置八個鏡面219a 219h 之各者。諸圖中所示之圖示旋轉圖示拂掠雷射束203 之原則。多角形反射裝置215 之實際配置及/或旋轉可取決於各種各樣的因素,諸如是否需要雷射束203 在自玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 至玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 的極限位置之間拂掠或雷射束是否拂掠離開玻璃帶103 ,如 6 8 所示。
如下文所論述,雷射束203 可加熱玻璃帶103 上的橫向移動分離路徑151 。貫穿圖式,將橫向移動分離路徑151 示意性圖示為虛線,其中應理解,實際路徑可與玻璃帶103 重合,包括與玻璃帶103 之第一外邊緣部分211a 、玻璃帶103 之第二外邊緣部分211b 及玻璃帶103 之主表面213a213b 之一者或兩者重合。如 3 所示,在僅一個實施例中,橫向移動分離路徑151 可沿玻璃帶103 之第一外邊緣部分211a 、玻璃帶103 之第二外邊緣部分211b 及面向玻璃分離器149 的玻璃帶103 之第一主表面213a 自玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 延伸至玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 。在一些實施例中,橫向移動分離路徑151 可沿玻璃帶103 之第一主表面213a 或玻璃帶103 之第二主表面213b 之任一者以及在玻璃帶103 之第一主表面213a 與玻璃帶103 之第二主表面213b 之間的中間厚度處延伸。實際上,如圖所示,橫向移動分離路徑151 可與玻璃帶103 之第一外邊緣部分211a 及玻璃帶103 之第二外邊緣部分211b 之外表面重合延伸且亦與玻璃帶103 之主表面213a213b 重合延伸。此外,如圖所示,玻璃帶103 之第一外邊緣部分211a 可包括玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 且玻璃帶103 之第二外邊緣部分211b 可包括玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 ,其中橫向移動分離路徑151 可沿玻璃帶103 之寬度「W 」之實質部分或沿玻璃帶103 之整個寬度「W 」延伸。同樣,參看 1 ,玻璃片104 可包括玻璃片104 之第一橫向移動邊緣165 及玻璃片104 之第二橫向移動邊緣167 ,其中垂直分離路徑163 可沿玻璃片104 之整個長度「L 」之實質部分或沿玻璃片104 之整個長度「L 」延伸。
現將參照示例性多角形反射裝置215 論述加熱橫向移動分離路徑151 之非限制性示例性方法。如 3 所示,例如,在第一鏡面219a 與雷射束203 之路徑相交時,第一鏡面219a 之第一邊緣區域221a 最初與雷射束203 之路徑相交以反射雷射束斑209 且使橫向移動分離路徑151 之第一末端位置221 沿玻璃帶103 曝露於雷射束203 中。實際上,如圖所示,可使橫向移動分離路徑151 之第一末端位置221 曝露於雷射束斑209 中,從而在彼位置處加熱橫向移動分離路徑151 。在多角形反射裝置215 在逆時針方向217 上旋轉時,第一鏡面219a 相對於投射雷射束203 之角度變化以使得雷射束斑209 沿自玻璃帶103 之第一外邊緣部分211a 朝向玻璃帶103 之第二外邊緣部分211b 延伸的拂掠方向225 行進。
4 圖示多角形反射裝置215 ,此多角形反射裝置經旋轉以使得第一鏡面219a 之中間部分221 b隨後與雷射束203 之路徑相交以反射雷射束203 且使橫向移動分離路徑151 之中間位置301 曝露於雷射束斑209 中,從而在彼位置處加熱橫向移動分離路徑151
5 進一步圖示,可甚至在逆時針方向217 上進一步旋轉多角形反射裝置215 以使得第一鏡面219a 之第二邊緣部分221 c隨後與雷射束203 之路徑相交以反射雷射束203 且使橫向移動分離路徑151 之第二末端位置401 曝露於雷射束斑209 中,從而在彼位置處加熱橫向移動分離路徑151 5 所示之逆時針方向217 上的進一步增量旋轉可引發第二鏡面219b 之第一邊緣區域403 與雷射束203 之路徑相交,其中雷射束斑209 可自橫向移動分離路徑151 之第二末端位置401 消失,並在橫向移動分離路徑151 之第一末端位置221 處再現,如 3 所示。當然,在實際雷射束203 產生具有有限直徑的雷射束斑209 而非單個點時,可存在雷射束斑209 可同時自相鄰鏡面之相鄰部分反射的短暫時刻。在此時刻處,雷射束斑209 可同時在拂掠路徑之外限處部分呈現。舉例而言,參看 5 ,在短時期內,束斑209 可自第一鏡面219a 之第二邊緣部分221 c及自第二鏡面219b 之第一邊緣區域403 同時反射。在此時刻處,束斑209 可在 5 所示位置(例如,橫向移動分離路徑151 之第二末端位置401 )處部分呈現及在 3 所示位置(例如,橫向移動分離路徑151 之第一末端位置221 )處部分呈現。
因此,加熱可包括沿橫向移動分離路徑151 反復通過雷射束斑209 以沿橫向移動分離路徑151 產生熱應力。此外,在圖示實施例中,反復通過雷射束斑209 可視情況包括在拂掠方向225 上反復通過雷射束斑209 。實際上,隨著鏡面219a 219h 之各者與雷射束203 之路徑相交,同時多角形反射裝置215 在圖示逆時針方向217 上旋轉,雷射束斑209 可在自橫向移動分離路徑151 之第一末端位置221 至橫向移動分離路徑151 之第二末端位置401 的拂掠方向225 上移動。雷射束斑209 可取決於多角形反射裝置215 之旋轉速度以各個速度沿拂掠方向225 行進。在一些實施例中,雷射束斑209 可自約0.5 km/s至約6 km/s行進,諸如自約1 km/s至約5 km/s,諸如自約2 km/s至約4 km/s,諸如約3 km/s。
在一些實施例中,儘管未圖示,但可以各種方式加熱橫向移動分離路徑151 。舉例而言,可提供多個雷射束產生器201 及/或可將由雷射束產生器201 產生的雷射束203 分裂成兩個或兩個以上雷射束以自不同鏡面及/或自多角形反射裝置215 之相同鏡面之不同部分同時反射雷射束。因此,可提供多個雷射束斑,此等雷射束斑取決於光學配置沿拂掠方向225 或沿相反方向同時移動。在一些實施例中,可將由雷射束產生器201 產生的雷射束203 延伸成伸長雷射束斑209 ,此伸長雷射束斑經配置以同時加熱整個橫向移動分離路徑151 。在此類實施例中,雷射束斑209 可保持穩定,而同時加熱整個橫向移動分離路徑151
在一些實施例中,可提供複數個玻璃分離器149 ,每個玻璃分離器產生總體橫向移動分離路徑151 之區段。舉例而言,如 9 所示,可提供複數個玻璃分離器149 ,每個玻璃分離器可視情況與先前所描述之玻璃分離器149 相似或相同。應理解,儘管 9 描繪五個玻璃分離設備149 ,但除非另有指示,否則此描繪不應限制本案隨附的申請專利範圍之範疇。因此,在一些實施例中,可採用任何數量的玻璃分離設備(例如,自一個、兩個、三個、四個至五個以上玻璃分離設備)。每一玻璃分離器149 可產生雷射束802 804 806 808 810 ,此雷射束可沿總體橫向移動分離路徑151 之相應區段801 803 805 807 809 產生熱應力。在一些實施例中,可首尾相連安置整個橫向移動分離路徑151 之區段801 803 805 807 809 。然而,如圖所示,橫向移動分離路徑151 之每一區段可在重疊區域811 813 815 817 與橫向移動分離路徑151 之至少一個相鄰區段重疊以在區段801 803 805 807 809 之間提供充分加熱。在一些實施例中,重疊區域811 813 815 817 可包括重疊長度,此重疊長度處於區段801 803 805 807 809 之至少一者之長度的約5%至約40%,諸如約10%至約30%,諸如區段801 803 805 807 809 之至少一者之長度的約10%至約25%。在一些實施例中,整個橫向移動分離路徑151 之每一相應區段801 803 805 807 809 可具有約800 mm之長度,其中每一重疊區域811 813 815 817 具有約100 mm之重疊長度。提供整個橫向移動分離路徑151 之區段801 803 805 807 809 及可選重疊區域811 813 815 817 可幫助沿玻璃帶103 延伸的整個橫向移動分離路徑151 實現充足位準之熱應力。
本揭示案之一些實施例展示了沿實質部分(諸如玻璃帶103 之整個尺寸)行進的雷射束斑209 ,且在一些實施例中,亦展示雷射束斑209 移動離開玻璃帶103 。因此,橫向移動分離路徑151 可同樣沿玻璃帶103 之實質部分(諸如玻璃帶103 之整個尺寸)延伸。舉例而言,如 1 所示,雷射束斑209 可沿玻璃帶103 之整個寬度「W 」自玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 至玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 傳遞以使得橫向移動分離路徑151 沿玻璃帶103 之整個寬度「W 」延伸。同樣,如 1 進一步圖示,雷射束斑209 可沿玻璃片104 之整個長度「L 」自玻璃片104 之第一橫向移動邊緣165 至玻璃片104 之第二橫向移動邊緣167 傳遞以使得垂直分離路徑163 延伸玻璃片104 之整個長度「L 」。在一些實施例中,橫向移動分離路徑151 及垂直分離路徑163 之至少一者可處於自約50 mm至約5000 mm,諸如自約50 mm至約1000 mm,但在一些實施例中,雷射束斑209 可經配置以沿更長或更短路徑移動。
雷射束斑209 可包括圓形光斑,但在一些實施例中可提供橢圓或其他形狀光斑。當決定為雷射束斑209 之強度輪廓的1/e2 時,聚焦腰部處的雷射束斑209 之最小直徑可處於自約1毫米(mm)至約2 mm,但在一些實施例中可提供其他尺寸。同樣,橢圓或其他光斑形狀之最大長度可處於自約1 mm至約3 mm,但在一些實施例中可提供其他尺寸。舉例而言,當使用靜止雷射束時,雷射束斑209 之形狀可實質上伸長且具有數十公分(cm)之長度,例如長度超過1公尺(m)。一個或複數個雷射束203 可用於曝露及加熱橫向移動分離路徑151 及垂直分離路徑163 之至少一者。
3 6 8 9 展示了實施例,其中雷射束203 在第一外部位置405 與第二外部位置407 之間拂掠。在本揭示案之任何實施例中,在加熱橫向移動分離路徑151 期間,雷射束203 可移動離開玻璃帶103 。舉例而言,如 6 8 9 所示,雷射束203 之拂掠可視情況在第一最外部位置501 與第二最外部位置503 之間延伸,此等最外部位置位於玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 及玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 外部。容許雷射束203 在加熱期間移動離開玻璃帶103 可確保沿橫向移動分離路徑151 的玻璃帶103 之所有部分實現充足位準之熱應力。
6 進一步圖示,儘管使沿玻璃帶103 的橫向移動分離路徑151 曝露於雷射束203 中,但玻璃帶103 可經安置以使得整個橫向移動分離路徑151 處於雷射束203 之聚焦深度「DOF 」內。聚焦深度「DOF 」可由下式計算:其中「F 」為透鏡207 之焦距,「D 」為透鏡之前的光束直徑,及「λ 」為波長。
在雷射束203 之聚焦深度「DOF 」內安置整個橫向移動分離路徑151 可幫助增加自雷射束203 至橫向移動分離路徑151 的能量轉移之效率。由於在分離期間雷射束203 之聚焦深度「DOF 」超出玻璃帶103 之玻璃翹曲幅度、厚度變化幅度及運動幅度,聚焦深度「DOF 」賦能具有可變厚度的非平坦玻璃之分離,此亦可移動或在某種程度上改變相對於雷射束203 的定向。在一些實施例中,聚焦深度「DOF 」可處於自約20 mm至約400 mm,諸如自約20 mm至約200 mm,但在一些實施例中可提供其他聚焦深度。
此外,在一些實施例中,除玻璃帶103 之橫向移動分離路徑151 之外,可在聚焦深度「DOF 」內安置整個玻璃帶103 。雷射束203 之聚焦深度「DOF 」可大到足以超出玻璃帶103 之位置中的玻璃厚度、玻璃彎曲或其他可能變化之變動範圍,且因此可在本揭示案之方法期間使玻璃帶103 上的整個橫向移動分離路徑151 曝露於雷射束203 中。在一些實施例中,雷射束203 之聚焦深度「DOF 」可超出玻璃厚度變化幅度、翹曲(例如,畸變)幅度、相對於束源的玻璃運動幅度或處理條件中的其他變化範圍。此外,在一些實施例中,在沿橫向移動分離路徑151 (尤其是橫向移動分離路徑151 之末端附近)反復傳遞雷射束斑209 時,可改變玻璃帶103 之主表面213a213b 上的雷射束斑209 之尺寸。舉例而言,當雷射束203 沿第一拂掠路徑507 或第二拂掠路徑509 聚焦時,可沿橫向移動分離路徑151 改變玻璃帶103 之主表面213a213b 上的雷射束斑209 之尺寸,但可提供其他路徑,同時仍將玻璃帶103 維持在聚焦深度「DOF 」內。
7 中所圖示,若沿第二拂掠路徑509 6 所示)行進,則雷射束斑209 可因沿橫向移動分離路徑151 的雷射束斑209 之直徑及形狀變化而沿橫向移動分離路徑151 施加不同功率密度,如圖示斜截橢圓狀功率密度區域601 所表示。可作為 7 所示實施例中雷射束203 有意行進離開玻璃帶103 的結果來斜截玻璃帶103 之主表面213a213b 上的橢圓狀功率密度區域601 。在一些實施例中,可提供非斜截橢圓功率密度。舉例而言,在一些實施例中,橢圓功率密度區域之端點可位於玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 及玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 處。當玻璃帶103 之第一外邊緣部分211a 及玻璃帶103 之第二外邊緣部分211b 包括加厚邊緣部分時,此可甚至更加有益於使用在加厚邊緣部分(例如,邊緣卷邊)附近或位置處產生最高功率密度的兩個雷射束分離玻璃帶103 ,其中雷射束斑之多個部分在玻璃帶103 之中央區域中重疊。由於更靠近加厚邊緣部分或在加厚邊緣部分處安置最高功率密度,可在加厚邊緣部分處靶向較高熱應力,從而導致熱應力增加。同時,在玻璃帶103 之中央區域中部分重疊由雷射束路徑之尾部提供的相對較低功率密度可因重疊雷射束的雙重曝光而提供增強的熱應力。亦可在 9 所示之重疊區域811 813 815 817 處提供此重疊,其中雙重曝光可解決橫向移動分離路徑151 之區段801 803 805 807 809 之外部末端處的較低功率密度以幫助實現沿玻璃帶103 延伸的整個橫向移動分離路徑151 之充足位準之熱應力。
橫向移動分離路徑151 之局部加熱在玻璃帶103 之不同部分之間產生溫差,從而沿橫向移動分離路徑151 產生熱應力。可實施如上文所論述的加熱橫向移動分離路徑151 之製程,直至實現預定位準之應力。在一些實施例中,示例性位準之應力可為對應於溫度沿橫向移動分離路徑151 自玻璃之應變溫度點的約70%至約100%,諸如自約80%至約100%,諸如自約90%至約100%,諸如自玻璃之應變溫度點的約95%至100%的應力。此位準之加熱避免在玻璃帶103 中產生殘餘應力。在一些實施例中,預定位準之應力可為對應於溫度沿橫向移動分離路徑151 自玻璃之應變溫度點至退火點的應力。儘管較低溫度可為可能的,但可需要達到相對較高溫度以最大化沿橫向移動分離路徑151 的熱應力。提供相對較高的熱應力可幫助減少施加下文更詳細論述之缺陷703 後的分離時間。在一些實施例中,分離時間可為產生缺陷703 後約0.1秒至約3秒,但在一些實施例中其他分離時間是可能的。
將橫向移動分離路徑151 加熱至所欲位準之熱應力所需的時間可取決於廣泛範圍的因素,諸如雷射功率、玻璃類型、玻璃尺寸、玻璃厚度或其他因素。在一些實施例中,可在自約0.1秒至約5秒之範圍內充分加熱橫向移動分離路徑151 ,其中CO2 雷射功率為自約300 W至約1.5 kW且玻璃厚度為自約0.1 mm至約3 mm。
如上文所闡述,分離玻璃帶103 之示例性非限制性方法可包括使玻璃帶103 上的橫向移動分離路徑151 曝露於至少一個雷射束203 中以沿橫向移動分離路徑151 產生熱應力而不損壞玻璃帶103 。方法亦可包括:在橫向移動分離路徑151 處於使玻璃帶103 上的橫向移動分離路徑151 曝露於至少一個雷射束203 中時產生的熱應力下的同時,在橫向移動分離路徑151 上產生缺陷703 ,因此玻璃帶103 可回應於缺陷703 沿橫向移動分離路徑151 快速分離。
在一些實施例中,當使橫向移動分離路徑151 曝露於至少一個雷射束203 中時,在沿橫向移動分離路徑151 實現預定位準之熱應力後,可產生缺陷703 。實際上,在整個橫向移動分離路徑151 處於預定位準之熱應力下時,缺陷703 之形成可直接導致玻璃帶103 回應於缺陷703 沿橫向移動分離路徑151 快速分離。快速分離可在正在產生缺陷703 時或產生缺陷703 後即刻地開始。因此,玻璃帶103 之分離可作為缺陷703 之直接結果發生,從而沿整個橫向移動分離路徑151 迅速傳播通體裂紋1505 以分離玻璃帶103 。如本文所使用,術語通體裂紋1505 係指延伸穿過玻璃帶103 之整個厚度(例如,厚度「T 」)的裂紋。根據本揭示案之實施例分離玻璃帶103 的時間可明顯減少與利用習知技術分離玻璃帶103 相比時分離玻璃帶103 所需的時間。因此,本揭示案之實施例可對需要利用習知技術快速分離玻璃帶103 的應用有益。舉例而言,在拉製速度增加的應用中,迅速分離可有益於允許在玻璃帶103 之給定移動長度內發生分離。此外,本揭示案之方法可甚至在高溫條件下分離玻璃帶103 。舉例而言,儘管分離可在玻璃帶103 處於室溫下時發生,但分離亦可在玻璃帶103 處於通常低於玻璃應變點之高溫下時發生,例如在高達400℃之溫度下發生,但在一些實施例中可提供其他最高溫度。因此,本揭示案之方法可在成形製程期間或在其他處理程序期間冷卻玻璃帶103 之前提供分離。
在一些實施例中,如 8 所示,以及在本文所論述之任何實施例中,可在使橫向移動分離路徑151 曝露於至少一個雷射束203 中以沿橫向移動分離路徑151 產生熱應力的同時執行產生缺陷703 。在使橫向移動分離路徑151 曝露於雷射束203 中的同時產生缺陷703 可幫助沿橫向移動分離路徑151 維持充足位準之熱應力以提供玻璃帶103 之快速分離,此分離直接回應於產生缺陷703 迅速發生。在一些實施例中,可在產生缺陷703 後完成使橫向移動分離路徑151 曝露於雷射束203 中且可甚至繼續曝露直至玻璃帶103 沿橫向移動分離路徑151 的分離完成。在使橫向移動分離路徑151 曝露於雷射束203 中的同時產生缺陷703 之另一優勢是不可控斷裂的機率減小,此斷裂可在玻璃帶103 曝露於雷射束203 (例如,加熱)期間或在玻璃帶103 曝露於雷射束203 之前產生缺陷703 時開始。此可賦能強化玻璃、層合玻璃結構及任何其他具有高內應力的玻璃之可靠分離。在使玻璃帶103 曝露於雷射束203 中的同時產生缺陷703 之又一優勢是分離玻璃帶103 所需的總時間減少。
在一些實施例中,可在剛好要產生缺陷703 之前、正在產生缺陷703 時、產生缺陷703 後即刻地或產生缺陷703 後不久完成曝露橫向移動分離路徑151 。在此類實施例中,當沿橫向移動分離路徑151 存在充足殘餘熱應力時,可仍產生缺陷703 ,以沿橫向移動分離路徑151 提供玻璃帶103 之快速分離。然而,在一些實施例中,可藉由在產生缺陷703 的同時及甚至在產生缺陷703 之後(例如,在玻璃帶103 之完全分離期間)繼續使玻璃帶103 曝露於至少一個雷射束203 中來增加分離的速度。實際上,在產生缺陷703 的同時繼續使玻璃帶103 曝露於雷射束203 中可藉由維持預定熱應力(諸如沿橫向移動分離路徑151 的最大熱應力)增加玻璃帶103 之分離速度。然而,應避免使橫向移動分離路徑151 過度曝光於雷射束203 中以最小化或避免因過度加熱而沿分離邊緣產生殘餘應力。
可以各種方式執行產生缺陷703 。舉例而言,如 1 示意性所示,在一些實施例中,可藉由機械嚙合玻璃帶103 與例如劃線器701 (例如,劃線輪、金剛石尖端等)或其他機械裝置而產生缺陷703 。實際上,如 8 所示,劃線器701 之尖端可產生缺陷703 ,諸如表面瑕疵(例如,表面裂紋)。在一些實施例中,缺陷703 可包括點缺陷或劃線。儘管未圖示,但可提供支撐裝置,諸如空氣軸承或機械接觸支撐構件,以幫助抵消劃線器701 所施加的力來促進缺陷703 產生。
在一些實施例中,如 1 所示,可利用雷射169 產生缺陷703 。在一些實施例中,雷射169 可包括脈衝雷射,此脈衝雷射經配置以產生缺陷703 ,諸如表面瑕疵,但亦可提供次表面瑕疵。在一些實施例中,由雷射169 產生的缺陷703 可包括裂紋、點缺陷、劃線或其他缺陷,其中此缺陷703 可視情況由燒蝕製程產生。
在一些實施例中,作為劃線提供缺陷703 可有益於幫助沿橫向移動分離路徑151 之方向導引適當通體裂紋1505 。舉例而言,劃線可具有沿橫向移動分離路徑151 延伸的長度及垂直於橫向移動分離路徑151 的寬度。示例性劃線可具有廣泛範圍的長度及寬度,諸如自約0.5 mm至約5 mm範圍內之長度及自約0.1 mm至約0.3 mm之寬度。若作為表面缺陷提供,缺陷703 之深度可取決於玻璃類型自約5微米至約500微米。舉例而言,在化學強化玻璃的情況下,可提供具有較深深度的缺陷703 以延伸穿過玻璃帶103 之化學強化層。
可在沿橫向移動分離路徑151 的任何位置處(包括在橫向移動分離路徑151 上)提供缺陷703 。在一些實施例中,缺陷703 可位於玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 或玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 之一者附近。在一些實施例中,在玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 附近安置缺陷703 可為有益的,在此處如本文所描述開始雷射束斑209 的掃描。舉例而言,如 8 所示,可在玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 與玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 之間施加缺陷703 ,或在一些實施例中,可在玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 處及/或在玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 處提供缺陷703 。在玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 與玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 之間施加缺陷703 可幫助確保裂紋在缺陷703 之位置處開始傳播,而非在玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 及/或玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 處可存在的邊緣瑕疵處開始傳播。此外,在玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 與玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 之間施加缺陷703 亦可導致玻璃帶103 之較快分離。在一些實施例中,可在常見發現於玻璃帶103 之第一外邊緣部分211a 及第二外邊緣部分211b 處的邊緣卷邊上產生缺陷703 。或者,如 8 圖及第 9 所示,可在邊緣卷邊之內側視情況提供缺陷703 。在一些實施例中,可與玻璃帶103 之至少一個邊緣間隔一距離產生缺陷703 ,其中距離自約1 mm至約25 mm。舉例而言,如 8 圖及第 9 所示,在一些實施例中,可與玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 或玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 間隔距離「D 」產生缺陷703 ,其中「D 」可自約1 mm至約25 mm,諸如自約1 mm至約10 mm,但在一些實施例中可提供不同距離。
在一些實施例中,可在橫向移動分離路徑151 之中間位置301 處或更靠近於玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 或玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 產生缺陷703 。在一些實施例中,如 8 所示,可比玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 更靠近於玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 產生缺陷703 。如上文所論述,當雷射束斑209 在自第一垂直邊緣153 朝向第二垂直邊緣155 的拂掠方向225 上行進時,更靠近於玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 (例如,與第一垂直邊緣153 間隔距離「D 」)提供缺陷703 可特別有益。在此實施例中,第一垂直邊緣153 可處於沿橫向移動分離路徑151 沿雷射束斑209 之拂掠方向225 的上游。在通體裂紋1505 趨向於在雷射束斑209 之拂掠方向225 上傳播時,更靠近於玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 安置缺陷703 可幫助通體裂紋1505 沿橫向移動分離路徑151 沿玻璃帶103 在拂掠方向225 上迅速向下游傳播。此外,可與第一垂直邊緣153 間隔距離「D 」安置缺陷703 ,然而此距離足夠靠近於玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 ,亦允許通體裂紋1505 向上游傳播以與玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 相交,從而沿橫向移動分離路徑151 分離玻璃帶103
此外,參看 9 ,雷射束802 804 806 808 810 可經限時以允許由每一雷射束產生的雷射束斑209 沿相應拂掠方向225a 225b 225c 225d 225e 以連續圖案行進,以使得來自相鄰雷射束的雷射束斑可沿重疊區域811 813 815 817 共存。因此,雷射束斑209 可沿拂掠方向225a 225b 225c 225d 225e 沿玻璃帶103 之總尺寸實質上連續行進以幫助沿總體橫向移動分離路徑151 之每一相應區段801 803 805 807 809 迅速驅動通體裂紋1505 以沿總體橫向移動分離路徑151 分離玻璃帶103
可應用本文所論述之任何方法來分離玻璃(例如,玻璃帶103 、玻璃片104 ),包括但不限於本文所揭示之示例性類型的玻璃帶103 及玻璃片104 。因此,關於玻璃帶103 論述的實施例亦可應用於玻璃片104 。舉例而言,如參照 1 所圖示,橫向移動分離路徑151 可沿玻璃帶103 之第一垂直邊緣153 與玻璃帶103 之第二垂直邊緣155 之間的玻璃帶103 之寬度「W 」延伸。在此類實施例中,產生缺陷703 可使玻璃片104 與玻璃帶103 分離,如 1 所示。在亦在 1 中所圖示之一些實施例中,垂直分離路徑163 可沿玻璃片104 之第一橫向移動邊緣165 與玻璃片104 之第二橫向移動邊緣167 之間的玻璃片104 之長度「L 」延伸。在此類實施例中,產生缺陷703 可使玻璃片104 之外部部分159 與玻璃片104 之中央部分161 分離。
在一些實施例中,任何所揭示之方法可促進包括玻璃帶103 及玻璃片104 的廣泛範圍之玻璃的分離,此玻璃可為平面(如圖所示)或可具有非平面(例如,翹曲)配置,諸如彎成C形、S形或其他配置。此外,任何所揭示之方法可促進包括玻璃帶103 及玻璃片104 且具有均勻厚度或不均勻可變厚度的玻璃的分離。舉例而言,如圖所示,可分離具有相對較厚邊緣卷邊及相對較薄中央部分161 的玻璃帶103
在一些實施例中,當玻璃相對固定時或當玻璃處於運動中時,可分離包括玻璃帶103 及玻璃片104 的玻璃。舉例而言,可在處於自玻璃成形器140 正在拉製玻璃帶103 的運動中的同時或若玻璃帶103 相對於玻璃成形器140 輕微擺動及/或扭曲時分離玻璃帶103 。又進一步地,可使用本揭示案之任何方法來在不超過大約玻璃之應變點的高溫下分離包括玻璃帶103 及玻璃片104 的玻璃。
此外,可使用本揭示案之方法分離非強化玻璃或強化玻璃,包括非強化玻璃帶103 及玻璃片104 或強化玻璃帶103 及玻璃片104 。舉例而言,可使用方法分離強化玻璃(例如,化學強化玻璃),此強化玻璃包括壓縮下的至少一個外層及張力下的另一層。在一些實施例中,可使用本揭示案之方法分離兩側上皆強化的強化玻璃,其中玻璃之兩個主表面處於壓縮中及玻璃之中心部分處於張力中。
在一些實施例中,可使用本揭示案之方法分離包括層合玻璃層的玻璃。在一些實施例中,層合結構可包括壓縮表面層及處於張力下的中心層。在一些實施例中,層合結構可包括兩個壓縮表面層及在張力下夾在兩個壓縮層之間的中心層。在又進一步實施例中,可使用本揭示案之方法分離層合玻璃層,其中複數個層之至少兩者包括不同組合物及/或不同熱膨脹係數。在一些實施例中,玻璃可為化學或熱強化玻璃,其中玻璃包括藉由離子交換或熱處理產生的表面壓縮應力層。
1 所示,在一些實施例中,可實施使玻璃片104 與玻璃帶103 分離的方法,而無需彎曲玻璃帶103 或玻璃片104 ,包括玻璃片104 之外部部分159 。實際上,如 1 所示,玻璃分離器149 可使玻璃片104 與玻璃帶103 分離,同時玻璃片104 與玻璃帶103 保持垂直定向。在此實施例中,可藉由重力向下垂直吸取於分離期間產生的碎屑(例如, 10 11 13 所示之分離碎屑1001 ),因此避免水平或傾斜表面,否則在玻璃帶103 或玻璃片104 包括彎曲(例如,非垂直)定向時碎屑可落在此表面上。同樣,由於玻璃帶103 及玻璃片104 之垂直定向,環境碎屑1002 (參看 10 11 13 )可較不可能接觸到玻璃帶103 及玻璃片104 ,因此亦可藉由重力向下吸取環境碎屑1002 。儘管認識到可採用自玻璃帶103 及玻璃片104 移除碎屑的後續程序,但在一些實施例中可需要完全避免玻璃帶103 及玻璃片104 之表面污染或至少減少碎屑可與玻璃帶103 之主表面213a213b 或玻璃片104 之主表面214a214b 接觸的時間,從而減小碎屑與玻璃帶103 或玻璃片104 之間發展成相對較強黏結的機會。
在一些實施例中,除採用真空148 (例如,第一真空148a 、第二真空148b )自玻璃帶103 移除分離碎屑1001 之外或替代地,為了進一步促進分離碎屑1001 之移除,可在氣幕中挾帶分離碎屑1001 並自玻璃帶103 及/或玻璃片104 迅速帶走,從而甚至進一步減小分離碎屑1001 接觸到並自己附著於玻璃帶103 之原始主表面213a213b 及玻璃片104 之原始主表面214a214b 的機率。在一些實施例中,如 2 所示,可鄰接玻璃成形器140 安置第一伸長氣體埠185a 及第二伸長氣體埠185b ,諸如在玻璃帶103 離開玻璃成形器140 的下部開口183 附近。第一伸長氣體埠185a 及第二伸長氣體埠185b 可經定向以例如沿玻璃帶103 之整個寬度「W 」或甚至大於玻璃帶103 之整個寬度「W 」分別分佈第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 。在一些實施例中,第一伸長氣體埠185a 及第二伸長氣體埠185b 可經定向以沿小於玻璃帶103 之整個寬度「W 」分別分佈第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 。另外,在一些實施例中,第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 可完全圍繞玻璃帶103 ,且在一些實施例中,可使玻璃帶103 與具有環境碎屑1002 的污染隔離。可採用第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 隔離玻璃帶103 ,而不考慮玻璃帶103 之溫度,包括相對高溫,在此等相對高溫下傳統表面塗料及保護劑通常無法塗覆至玻璃帶103 上。舉例而言,當玻璃帶103 之溫度處於200℃或低於200℃、處於150 ℃或低於150 ℃或者處於100℃或低於100℃時,一些傳統表面塗層及保護劑可適用;然而,當玻璃帶103 包括100℃以上、150℃以上、200℃以上、300℃以上、400℃以上、500℃以上溫度或玻璃帶103 之任何其他溫度時,可採用本申請案之第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 隔離玻璃帶103 。第一伸長氣體埠185a 及第二伸長氣體埠185b 可包括可分佈氣體的單個伸長噴嘴、埠、噴射器等或可分佈氣體以形成連續、均勻氣幕的複數個噴嘴、埠、噴射器等,此氣幕可抑制或甚至防止環境碎屑1002 穿透。在一些實施例中,第一伸長氣體埠185a 及第二伸長氣體埠185b 之各者可包括連續伸長槽縫及複數個伸長槽縫之任何一者或更多者,此等伸長槽縫經定向以分別分佈第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b
在一些實施例中,(例如,如 13 所示, 13 圖示 11 之替代實施例),第一伸長氣體埠185a 及第二伸長氣體埠185b 亦可經定向以分別分佈第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 。在一些實施例中,第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 可沿玻璃帶103 之整個寬度「W 」或甚至大於玻璃帶103 之整個寬度「W 」延伸。在一些實施例中,第一伸長氣體埠185a 及第二伸長氣體埠185b 亦可經定向以分別分佈第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d ,該兩個內部氣幕可沿小於玻璃帶103 之整個寬度「W 」延伸。另外,在一些實施例中,第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 可完全圍繞玻璃帶103 ,且可使玻璃帶103 與具有環境碎屑1002 及分離碎屑1001 之至少一者的污染隔離。在一些實施例中,第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 可包括與第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 相同、相似或不同的特徵。舉例而言,在一些實施例中,可採用第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 隔離玻璃帶103 ,而不考慮玻璃帶103 之溫度,包括相對高溫(例如,100℃以上、150℃以上、200℃以上、300℃以上、400℃以上、500℃以上或玻璃帶103 之任何其他溫度),在此相對高溫下傳統表面塗料及保護劑通常無法塗覆至玻璃帶103 上。第一伸長氣體埠185a 及第二伸長氣體埠185b 可包括可分佈氣體的單個伸長噴嘴、埠、噴射器等或可分佈氣體以形成一或更多個連續、均勻氣幕的複數個噴嘴、埠、噴射器等,此等氣幕可抑制或甚至防止環境碎屑1002 穿透。在一些實施例中,第一伸長氣體埠185a 及第二伸長氣體埠185b 之各者可包括連續伸長槽縫及複數個伸長槽縫之任何一者或更多者,此等伸長槽縫經定向以分別分佈第一外部氣幕187a 及第一內部氣幕187c ,以及第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d
1 10 11 13 進一步圖示,玻璃處理設備 100 可包括真空埠1011 (例如,伸長真空埠),此真空埠經安置在玻璃分離器149 下游(例如,沿 2 所示之拉製方向177 )且經定向以接收第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 中挾帶的碎屑。在一些實施例中,真空埠1011 可經定向以接收第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 中挾帶的碎屑。真空源1013 可將第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者中挾帶的碎屑(例如,分離碎屑1001 、環境碎屑1002 )吸入到真空埠1011 中。真空源1013 可包括鼓風機、真空腔室、泵、風扇或在真空埠1011 處產生負壓(例如,負壓、抽吸)的其他適宜機構。
如圖所示,第一外部氣幕187a 可包括與玻璃帶103 之第一主表面213a 間隔分離的第一外部上游部分188a 及朝向玻璃帶103 之第一主表面213a 向內彙聚且衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的第一外部下游部分189a 。同樣,第二外部氣幕187b 可包括與玻璃帶103 之第二主表面213b 間隔分離的第二外部上游部分188b 及朝向玻璃帶103 之第二主表面213b 向內彙聚且衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的第二外部下游部分189b 。如圖所示,第一外部氣幕187a 之第一外部上游部分188a 與第二外部氣幕187b 之第二外部上游部分188b 可平行於拉製平面181 。如進一步圖示,第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 與第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 可相對於拉製平面181 對稱安置且在相對於拉製平面181 的共同高度處衝擊玻璃帶103 。第一外部氣幕187a 與第二外部氣幕187b 相對於拉製平面181 的對稱安置可提供用於在玻璃帶103 上自第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 施加大小相等且方向相反的力。有利地,在玻璃帶103 之相對主表面(例如,第一主表面213a 、第二主表面213b )上施加大小相等且方向相反的力可最小化自外力在玻璃帶103 中誘發的應力且亦可在垂直定向上沿拉製平面181 維持玻璃帶103 ,從而在一些實施例中減小碎屑(例如,分離碎屑1001 、環境碎屑1002 )接觸玻璃帶103 之第一主表面213a 及玻璃帶103 之第二主表面213b 的可能性,因為此類碎屑可至少部分地由於重力而向下行進遠離玻璃帶103 。如圖所示,可在第一外部氣幕187a 之第一外部上游部分188a 與第二外部氣幕187b 之第二外部上游部分188b 之間拉製玻璃帶103 ,且隨後可在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 與第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 之間拉製玻璃帶103
13 所示,在一些實施例中,第一內部氣幕187c 可包括介於玻璃帶103 之第一主表面213a 與第一外部氣幕187a 之第一外部上游部分188a 之間且與玻璃帶103 之第一主表面213a 間隔分離的第一內部上游部分188c 。第一內部氣幕187c 亦可包括朝向玻璃帶103 之第一主表面213a 向內彙聚且在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 處的上游衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的第一內部下游部分189c 。同樣,第二內部氣幕187d 可包括介於玻璃帶103 之第二主表面213b 與第二外部氣幕187b 之第二外部上游部分188b 之間且與玻璃帶103 之第二主表面213b 間隔分離的第二內部上游部分188d 。第二內部氣幕187d 亦可包括朝向玻璃帶103 之第二主表面213b 向內彙聚且在第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 處的上游衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的第二內部下游部分189d
在一些實施例中,第一內部氣幕187c 之第一內部上游部分188c 及第二內部氣幕187d 之第二內部上游部分188d 可平行於拉製平面181 。如進一步圖示,第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 與第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 可相對於拉製平面181 對稱安置且在相對於拉製平面181 的共同高度處衝擊玻璃帶103 。在一些實施例中,第一內部氣幕187c 與第二內部氣幕187d 相對於拉製平面181 的對稱安置可提供用於在玻璃帶103 上自第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 施加大小相等且方向相反的力。有利地,在玻璃帶103 之相對主表面(例如,第一主表面213a 、第二主表面213b )上施加大小相等且方向相反的力可最小化自外力在玻璃帶103 中誘發的應力且亦可在垂直定向上沿拉製平面181 維持玻璃帶103 ,從而在一些實施例中減小碎屑(例如,分離碎屑1001 、環境碎屑1002 )接觸玻璃帶103 之第一主表面213a 及玻璃帶103 之第二主表面213b 的可能性,因為此類碎屑可至少部分地由於重力而向下行進遠離玻璃帶103 。如圖所示,可在第一內部氣幕187c 之第一內部上游部分188c 與第二內部氣幕187d 之第二內部上游部分188d 之間拉製玻璃帶103 ,且隨後可在第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 與第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 之間拉製玻璃帶103
在一些實施例中,形成第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者的氣體可包括空氣、惰性氣體(例如,氮氣或其他適宜氣體)、潔淨乾燥空氣、濕潤空氣或類似者。如 10 11 13 所示,可藉由置放在加壓氣源1004 (壓縮氣體貯槽、空氣壓縮器等)之間的過濾器1006 過濾氣體,以自第一伸長氣體埠185a 及第二伸長氣體埠185b 提供潔淨氣體。此外,在一些實施例中,可大大減小氣體之水分含量,與具有較高水分含量的氣體相比,此可減小碎屑附著於玻璃帶103 之第一主表面213a 及第二主表面213b 或玻璃片104 之第一主表面214a 及第二主表面214b 的可能性。在一些實施例中,可控制氣體之溫度,例如可加熱或冷卻氣體,以幫助控制可需要的玻璃帶103 及玻璃片104 之應力、緊實度或其他屬性。在一些實施例中,在具有或不具有溫度控制的情況下,可控制氣體之流動速率,以亦幫助控制可需要的玻璃帶103 及玻璃片104 之應力、緊實度或其他屬性。
在一些實施例中,第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者可與玻璃帶103 之相鄰主表面(例如,第一主表面213a 、第二主表面213b )相距大約1 mm。此距離可界定為玻璃帶103 之相鄰主表面(例如,第一主表面213a 、第二主表面213b )與相應第一伸長氣體埠185a 及第二伸長氣體埠185b 之間的橫向距離,自此等伸長氣體埠分別分佈第一外部氣幕187a 及第一內部氣幕187c 以及第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 。當然,此距離可變化,且除非另有指示,否則此揭示案不應限制與本案隨附的申請專利範圍之範疇。舉例而言,第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者至玻璃帶103 之相鄰主表面(例如,第一主表面213a 、第二主表面213b )之距離可介於約1 mm與約50 mm之間、約5 mm與40 mm之間、約10 mm與約30 mm之間,且亦可在拉製方向177 上沿玻璃帶103 本身變化。在一些實施例中,第一外部氣幕187a 及第一內部氣幕187c 之至少一者至玻璃帶103 之第一主表面213a 或至玻璃片104 之第一主表面214a 之距離可大於或小於第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之至少一者至玻璃帶103 之第二主表面213b 或至玻璃片104 之第二主表面214b 之距離。
在一些實施例中,在正常條件下,玻璃成形器140 可經由玻璃成形器140 之下部開口183 吸取冷卻氣流1003 。舉例而言,玻璃帶103 可趨向於加熱玻璃成形器140 之內部中的氣體,且由於壓力差,至少基於自然對流,熱空氣可在玻璃成形器140 之內部中上升,從而產生經由玻璃成形器140 之下部開口183 吸取的冷卻氣流1003 。在一些實施例中,冷卻氣流1003 可包括自第一伸長氣體埠185a 的第一外部氣幕187a 及自第二伸長氣體埠185b 的第二外部氣幕187b 提供的氣體。同樣,在一些實施例中,冷卻氣流1003 可包括自第一伸長氣體埠185a 的第一內部氣幕187c 及自第二伸長氣體埠185b 的第二內部氣幕187d 提供的氣體。因此,冷卻氣流1003 可包括藉由安置在加壓氣源1004 與第一伸長氣體埠185a 及第二伸長氣體埠185b 之間的過濾器1006 過濾的潔淨氣體。
在一些實施例中,可控制經由冷卻氣流1003 進入玻璃成形器140 之下部開口183 的氣體,並清除任何本可干擾玻璃成形器140 的污染物及顆粒。舉例而言,在一些實施例中,第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 可流動以抵消(例如,減緩)冷卻氣流1003 之流動,從而防止冷卻氣流1003 中挾帶的任何碎屑(例如,分離碎屑1001 、環境碎屑1002 )進入玻璃成形器140 之下部開口183 中。藉由抵消冷卻氣流1003 之流動,亦可將冷卻氣流1003 中挾帶的碎屑與例如以較高速度行進的冷卻氣流1003 中挾帶的碎屑相比更容易地吸入到真空148 及真空埠1011 之至少一者中。此外,藉由提供第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d ,可控制經由冷卻氣流1003 進入玻璃成形器140 之下部開口183 的氣體,並清除任何本可干擾玻璃成形器140 的污染物及顆粒。在一些實施例中,第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 亦可防止碎屑在第一外部氣幕187a 與第二外部氣幕187b 之間再循環。在一些實施例中,使碎屑再循環(例如,可在不提供第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 時發生)可污染玻璃帶103 且可進入玻璃成形器140 之下部開口183 中。因此,在一些實施例中,可採用本揭示案之特徵來產生玻璃帶103 ,此玻璃帶可包括較高品質屬性及特性,包括玻璃帶103 之原始第一主表面213a 及原始第二主表面213b 。此外,藉由減少及防止玻璃帶103 被碎屑污染,可減少、更便利地執行及在一些實施例中一起避免例如自玻璃帶103 移除碎屑的後續清潔步驟。
在一些實施例中,可提供隔板(例如,第一隔板1005a 、第二隔板1005b )以避免第一外部氣幕187a 與第二外部氣幕187b 之間的干擾,其中將冷卻氣流1003 吸入到玻璃成形器140 之下部開口183 中。在一些實施例中,本揭示案之任何隔板可在背離玻璃成形器140 的方向上向下游延伸。在一些實施例中,可在玻璃成形器140 之至少部分外側(諸如玻璃成形器140 之整個外側)安置本揭示案之任何隔板。在進一步實例中,本揭示案之任何隔板的至少一部分可部分地在玻璃成形器140 內延伸。如圖所示,冷卻氣流1003 可經過玻璃帶103 之第一主表面213a 與第一隔板1005a 之第一內表面1007a 之間且亦經過玻璃帶103 之第二主表面213b 與第二隔板1005b 之第二內表面1008a 之間。冷卻氣流1003 可在與第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 之下游方向相反的上游方向上行進。此外,如 1 所示,第一隔板1005a 及第二隔板1005b 可沿玻璃帶103 之整個寬度「W 」延伸,且如圖所示,可沿大於玻璃帶103 之整個寬度「W 」延伸。在一些實施例中,第一隔板1005a 及第二隔板1005b 可沿小於玻璃帶103 之整個寬度「W 」延伸。
同樣,在一些實施例中,可提供第一隔板1005a 及第二隔板1005b 以避免第一外部氣幕187a 與第一內部氣幕187c 之間及第二外部氣幕187b 與第二內部氣幕187d 之間的干擾。在一些實施例中,可藉由在玻璃帶103 之第一主表面213a 與第一內部氣幕187c 之第一內部上游部分188c 之間且亦在玻璃帶103 之第二主表面213b 與第二內部氣幕187d 之第二內部上游部分188d 之間傳遞將冷卻氣流1003 吸入到玻璃成形器140 之下部開口183 中。冷卻氣流1003 可在與第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 之下游方向相反的上游方向上行進。
另外,第一隔板1005a 及第二隔板1005b 可延伸第一外部氣幕187a 之第一外部上游部分188a 及第二外部氣幕187b 之第二外部上游部分188b 以控制第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的高度以及控制第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的高度。類似地,在一些實施例中,第一隔板1005a 及第二隔板1005b 可延伸第一內部氣幕187c 之第一內部上游部分188c 及第二內部氣幕187d 之第二內部上游部分188d 以控制第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的高度以及控制第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的高度。
在一些實施例中,第一隔板1005a 及/或第二隔板1005b 可為可調節的以使得可選擇性調節第一隔板1005a 及第二隔板1005b 之各者的高度「H 」,繼而可控制第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的高度以及控制第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的高度。類似地,在一些實施例中,可選擇性調節第一隔板1005a 及第二隔板1005b 之各者的高度「H 」以控制第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的高度以及控制第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的高度。
10 11 13 中進一步圖示,第一伸長氣體埠185a 可經定向以分佈第一外部氣幕187a 使得經過第一隔板1005a 之外表面(例如,第一外表面1007b )上方,隨後越過第一隔板1005a 之第一下游邊緣1009a 。同樣,第二伸長氣體埠185b 可經定向以分佈第二外部氣幕187b 使得經過第二隔板1005b 之外表面(例如,第二外表面1008b )上方,隨後越過第二隔板1005b 之第二下游邊緣1009b 。如圖所示,在經過第一下游邊緣1009a 上方後,第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 彙聚以衝擊玻璃帶103 之相應第一主表面213a 及第二主表面213b 並隨後沿玻璃帶103 之第一主表面213a 及第二主表面213b 靠近行進,從而促進分離區內碎屑的挾帶。可隨後藉由重力及藉由真空源1013 將第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 內挾帶的碎屑吸入到真空埠1011 中,在真空埠中可隨後丟棄碎屑。在一些實施例中,可藉由例如第一真空源147a 及第二真空源147b 13 所示)將第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 內挾帶的碎屑吸入到真空148 (例如,第一真空148a 、第二真空148b )中,在真空中可隨後丟棄碎屑。在一些實施例中,第一真空源147a 及第二真空源147b 可包括鼓風機、真空腔室、泵、風扇或在第一真空源147a 及第二真空源147b 處產生負壓(例如,負壓、抽吸)的其他適宜機構。
13 中圖示,在一些實施例中,第一伸長氣體埠185a 可經定向以分佈第一內部氣幕187c 使得經過第一隔板1005a 之內表面(例如,第一內表面1007a )上方。在一些實施例中,第一內部氣幕187c 可經過第一隔板1005a 之第一內表面1007a 上方,隨後越過第一隔板1005a 之第一下游邊緣1009a 。同樣,第二伸長氣體埠185b 可經定向以分佈第二內部氣幕187d 使得經過第二隔板1005b 之內表面(例如,第二內表面1008a )上方。在一些實施例中,第二內部氣幕187d 可經過第二隔板1005b 之第二內表面1008a 上方,隨後越過第二隔板1005b 之第二下游邊緣1009b 。如圖所示,在經過第一下游邊緣1009a 上方後,第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 可彙聚以衝擊玻璃帶103 之相應第一主表面213a 及第二主表面213b 並隨後沿玻璃帶103 之第一主表面213a 及第二主表面213b 靠近行進,從而促進分離區內碎屑的挾帶。可隨後藉由重力及藉由真空源1013 將第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 內挾帶的碎屑吸入到真空埠1011 中,在真空埠中可隨後丟棄碎屑。在一些實施例中,可藉由例如第一真空源147a 及第二真空源147b 將第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 內挾帶的碎屑吸入到真空148 (例如,第一真空148a 、第二真空148b )中,在真空中可隨後丟棄碎屑。在一些實施例中,如圖所示,在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 或玻璃片104 之第一主表面214a 的上游或第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 或玻璃片104 之第二主表面214b 的上游之至少一者處,可將第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 內挾帶的碎屑吸入到真空148 (例如,第一真空148a 、第二真空148b )中。
在一些實施例中,第一隔板1005a 及第二隔板1005b 之各者的內表面(例如,第一內表面1007a 、第二內表面1008a )可與玻璃帶103 之各別主表面213a213b 間隔距離「b 」,此距離足以允許進入玻璃成形器140 之下部開口183 的冷卻氣流1003 的發展。在一些實施例中,距離「b 」可自約2公分(cm)至約200公分,自約10公分至約150 cm,自約25 cm至約125 cm,自約60 cm至約65 cm,約63.5 cm,以及兩數之間的所有子範圍。第一隔板1005a 及第二隔板1005b 與玻璃帶103 的此等距離「b 」可經選定以便不干擾玻璃帶103 之穩定性及為玻璃分離器149 沿玻璃帶103 之任何移動提供足夠空隙。同樣,在一些實施例中,第一隔板1005a 及第二隔板1005b 之各者之內表面可與玻璃帶103 之各別主表面213a213b 間隔距離「b 」,此距離足以允許進入玻璃成形器140 之下部開口183 的冷卻氣流1003 的發展及為第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 提供空間以在各別第一隔板1005a 與玻璃帶103 之第一主表面213a 之間及第二隔板1005b 與玻璃帶103 之第二主表面213b 之間行進以便不干擾玻璃帶103 之穩定性及為玻璃分離器149 沿玻璃帶103 之任何移動提供足夠空隙。
在一些實施例中,第一隔板1005a 及第二隔板1005b 可經安置以使得可在一範圍內之任何高度處固定第一隔板1005a 及第二隔板1005b 之各者的高度「H 」,該範圍自約0公尺(m)至約2.5公尺,自約0公尺至約0.9公尺,自約2公分(cm)至約250公分,自約2公分至約200公分,自約10 cm至約150 cm,自約25 cm至約125 cm,以及兩數之間的所有子範圍。在一些實施例中,第一隔板1005a 及第二隔板1005b 可為可選擇性調節的以使得可在一範圍內選擇性調節第一隔板1005a 及第二隔板1005b 之各者的高度「H 」,該範圍自約0公尺(m)至約2.5公尺,自約0公尺至約0.9公尺,自約2公分(cm)至約250公分,自約2公分至約200公分,自約10 cm至約150 cm,自約25 cm至約125 cm,以及兩數之間的所有子範圍。在一些實施例中,第一隔板1005a 及第二隔板1005b 之可調節高度可對應於在玻璃分離器149 沿拉製方向177 相對於拉製平面181 上的高度行進以使玻璃片104 與玻璃帶103 分離時的玻璃分離器149 之位置。舉例而言,在一些實施例中,在玻璃分離器149 沿拉製方向177 自上游位置行進至下游位置時,第一隔板1005a 及第二隔板1005b 可自界定隔板1005a1005b 之最小高度的內縮位置至界定隔板1005a1005b 之最大高度的伸展位置伸展。類似地,在一些實施例中,在玻璃分離器149 沿拉製方向177 自下游位置行進至上游位置時,第一隔板1005a 及第二隔板1005b 可自界定隔板1005a1005b 之最大高度的伸展位置至界定隔板1005a1005b 之最小高度的內縮位置內縮。
在一些實施例中,可自玻璃成形器140 之底部至第一隔板1005a 之第一下游邊緣1009a 量測第一隔板1005a 之高度「H 」且可自玻璃成形器140 之底部至第二隔板1005b 之第二下游邊緣1009b 量測第二隔板1005b 之高度「H 」。在一些實施例中,第一隔板1005a 之高度「H 」可界定為自第一伸長氣體埠185a (例如,可分佈第一外部氣幕187a 及第一內部氣幕187c 的第一伸長氣體埠185a 之出口)至第一隔板1005a 之第一下游邊緣1009a 量測的垂直距離,及第二隔板1005b 之高度「H 」可界定為自第二伸長氣體埠185b (例如,可分佈第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 的第二伸長氣體埠185b 之出口)至第二隔板1005b 之第二下游邊緣1009b 量測的垂直距離。
10 11 13 所示,可作為一對提供第一隔板1005a 及第二隔板1005b ,其中每一隔板之內表面面向玻璃帶103 之相應面對的主表面213a213b 而每一隔板之外表面背離玻璃帶103 。舉例而言,如 12 所示,可面向拉製平面181 安置第一隔板1005a 之第一內表面1007a 。類似地,可面向拉製平面181 及面向第一隔板1005a 之第一內表面1007a 安置第二隔板1005b 之第二內表面1008a 。第一伸長氣體埠185a 可經定向以分配第一外部氣幕187a 使得經過第一隔板1005a 之第一外表面1007b 上方,隨後經過第一隔板1005a 之第一下游邊緣1009a 上方。第二伸長氣體埠185b 可經定向以分配第二外部氣幕187b 使得經過第二隔板1005b 之第二外表面1008b 上方,隨後經過第二隔板1005b 之第二下游邊緣1009b
在一些實施例中,例如,如 14 所示,第一隔板1005a 可經安置以分開(例如,劃分、分割)第一伸長氣體埠185a 以使得第一伸長氣體埠185a 可經定向以分配第一外部氣幕187a 使得經過第一隔板1005a 之第一外表面1007b 上方,隨後經過第一隔板1005a 之第一下游邊緣1009a 上方,且分配第一內部氣幕187c 使得經過第一隔板1005a 之第一內表面1007a 上方。第二隔板1005b 可經安置以分開(例如,劃分、分割)第二伸長氣體埠185b 以使得第二伸長氣體埠185b 可經定向以分配第二外部氣幕187b 使得經過第二隔板1005b 之第二外表面1008b 上方,隨後經過第二隔板1005b 之第二下游邊緣1009b 上方,且分配第二內部氣幕187d 使得經過第二隔板1005b 之第二內表面1008a 上方。
在一些實施例中,第一伸長氣體埠185a 及第二伸長氣體埠185b 可包括單個伸長噴嘴、埠、噴射器等,上述者可由各別第一隔板1005a 及第二隔板1005b 分開且可自上述者分佈氣體使得經過各別第一隔板1005a 及第二隔板1005b 之各者之兩側上方以形成連續、均勻的氣幕,此氣幕可抑制或甚至防止環境碎屑1002 穿透。在一些實施例中,第一伸長氣體埠185a 及第二伸長氣體埠185b 可包括複數個噴嘴、埠、噴射器等,上述者可經排列在第一隔板1005a 及第二隔板1005b 之兩側上且可自上述者分佈氣體以形成連續、均勻的氣幕,此氣幕可抑制或甚至防止環境碎屑1002 穿透。在一些實施例中,第一伸長氣體埠185a 及第二伸長氣體埠185b 之各者可包括連續伸長槽縫及複數個伸長槽縫之任何一者或更多者,此等伸長槽縫經定向以分別分佈第一外部氣幕187a 及第一內部氣幕187c 以及第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d
第一隔板1005a 及第二隔板1005b 可平行於拉製平面181 ,且在一些實施例中,可沿玻璃帶103 之整個寬度「W 」延伸。類似地,第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者可沿玻璃帶103 之整個寬度「W 」延伸。可在第一隔板1005a 之第一內表面1007a 與第二隔板1005b 之第二內表面1008a 之間拉製玻璃帶103 。在一些實施例中,第一隔板1005a 之第一下游邊緣1009a 與第二隔板1005b 之第二下游邊緣1009b 可相對於拉製平面181 在相對於拉製平面181 的共同上游高度處對稱安置以使得第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 與第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 可相對於拉製平面181 對稱安置且在相對於拉製平面181 的共同下游高度處衝擊玻璃帶103
如圖所示,在一些實施例中,第一隔板1005a 及第二隔板1005b 可平行於玻璃成形器140 之拉製平面181 且平行於玻璃帶103 (例如,相對於垂直成零度角度加以定向,其中將垂直界定為平行於拉製平面181 的方向),但在一些實施例中,其他定向是可能的。舉例而言,在一些實施例中,第一隔板1005a 及第二隔板1005b 可經定向呈固定或選擇性可調定向,向內朝向拉製平面181 相對於垂直成自約0°至約45°範圍內之角度,向內面向拉製平面181 相對於垂直成自約0°至約30°範圍內之角度,向內面向拉製平面181 相對於垂直成自約0°至約15°範圍內之角度,向內面向拉製平面181 相對於垂直成自約0°至約5°範圍內之角度,以及兩數之間的所有角度及子角度。若隔板向內朝向拉製平面181 成角度太遠(例如,向內朝向拉製平面181 相對於垂直成大於45°之角度),則氣幕(例如,第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者)可彙聚太迅速,並在比所需高度更高的高度處衝擊玻璃帶103 。相反,在一些實施例中,若隔板向外背離拉製平面181 成角度太遠(例如,向外背離拉製平面181 相對於垂直成大於5°之角度),則氣幕(例如,第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者)可難以彙聚或可根本不彙聚,且因此可未衝擊玻璃帶103 ,從而阻止產生適當氣幕來使玻璃帶103 與環境碎屑1002 及分離碎屑1001 之至少一者隔離。
在一些實施例中,第一隔板1005a 及第二隔板1005b 之各者可由在經歷所施加力時維持形狀的剛性材料或在經歷所施加力時可偏移並改變形狀的撓性材料製成。舉例而言,在一些實施例中,可製造第一隔板1005a 及第二隔板1005b 的剛性材料可提供在操作期間維持預定形狀的結構。相反,在一些實施例中,可製造第一隔板1005a 及第二隔板1005b 的撓性材料可提供調節以在操作期間界定形狀或複數個形狀的結構。
在一些實施例中,可作為區段隔板提供第一隔板1005a 及第二隔板1005b 之各者,此區段隔板具有至少兩個部分,至少兩個部分之各者相對於垂直以不同角度加以定向。舉例而言,在一些實施例中,區段隔板可包括區段隔板之上部部分及區段隔板之下部部分,區段隔板之上部部分經定向以與垂直成零度,區段隔板之下部部分位於區段隔板之上部部分下游,經定向呈固定或選擇性可調定向,向內朝向拉製平面181 相對於垂直成自約0°至約45°範圍內之角度,向內面向拉製平面181 相對於垂直成自約0°至約30°範圍內之角度,向內面向拉製平面181 相對於垂直成自約0°至約15°範圍內之角度,向內面向拉製平面181 相對於垂直成自約0°至約5°範圍內之角度,以及兩數之間的所有角度及子角度。如上文所論述,若區段隔板之下部部分向內朝向拉製平面181 成角度太遠(例如,向內朝向拉製平面181 相對於垂直成大於45°之角度),則氣幕(例如,第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者)可彙聚太迅速,並在比所需高度更高的高度處衝擊玻璃帶103 。相反,在一些實施例中,若區段隔板之下部部分向外背離拉製平面181 成角度太遠(例如,向外背離拉製平面181 相對於垂直成大於5°之角度),則氣幕(例如,第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者)可難以彙聚或可根本不彙聚,且因此可未衝擊玻璃帶103 ,從而阻止產生適當氣幕來使玻璃帶103 與環境碎屑1002 及分離碎屑1001 之至少一者隔離。
在一些實施例中,可控制(例如,增加、減小)第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 之速度以調節(例如,延伸、縮短)第一外部氣幕187a 之第一外部上游部分188a 及第二外部氣幕187b 之第二外部上游部分188b 來控制第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的高度以及控制第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的高度。類似地,在一些實施例中,可控制(例如,增加、減小)第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 之速度以調節(例如,延伸、縮短)第一內部氣幕187c 之第一內部上游部分188c 及第二內部氣幕187d 之第二內部上游部分188d 來控制第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的高度以及控制第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的高度。在一些實施例中,可控制、調節及維持氣體之溫度,由此氣體形成第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者。
在一些實施例中,可控制第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者之流動速率(例如,每單位時間的氣體體積)以提供第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者之中的相同、相似或不同流動速率以及維持恆定及調節第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者之流動速率。舉例而言,在一些實施例中,第一內部氣幕187c 可包括自第一伸長氣體埠185a 提供的氣體之流動速率的0%(例如,無流動)至約40%、例如自約0%至約20%範圍內之流動速率。因此,在一些實施例中,第一外部氣幕187a 可包括自第一伸長氣體埠185a 提供的氣體之流動速率的100%至約60%、例如自約100%至約80%範圍內之相應流動速率。同樣,在一些實施例中,第二內部氣幕187d 可包括自第二伸長氣體埠185b 提供的氣體之流動速率的0%(例如,無流動)至約40%、例如自約0%至約20%範圍內之流動速率。因此,在一些實施例中,第二外部氣幕187b 可包括自第二伸長氣體埠185b 提供的氣體之流動速率的100%至約60%、例如自約100%至約80%範圍內之相應流動速率。應理解,在一些實施例中,第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者之流動速率可在不脫離本揭示案之範疇的情況下包括其他流動速率,包括本文未明確揭示之流動速率。
在一些實施例中,可在操作期間僅提供第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 以產生受控環境,在受控環境中可使玻璃帶103 與環境碎屑1002 隔離。在一些實施例中,可在操作期間提供第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 以產生受控環境,在受控環境中可使玻璃帶103 與環境碎屑1002 及分離碎屑1001 之至少一者隔離。在一些實施例中,可在操作期間選擇性提供(例如,連續、間歇性、週期性等之至少一者)第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者以選擇性產生受控環境,在受控環境中可使玻璃帶103 與環境碎屑1002 及分離碎屑1001 之至少一者隔離。
10 11 13 所示,第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 可沿玻璃帶103 之相應第一主表面213a 及玻璃帶103 之第二主表面213b 沿橫向移動分離路徑151 行進。因此,可在第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 中挾帶分離碎屑1001 ,並使分離碎屑迅速經過玻璃片104 上方,具有相對極少時間附著或以其他方式接觸玻璃片104 之第一主表面214a 及第二主表面214b 。此外,第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 可產生環境碎屑1002 將無法穿透的氣障(例如,有效清潔室)。另外,第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 可同樣挾帶環境碎屑1002 以及分離碎屑1001 ,可隨後使兩種碎屑類型迅速經過玻璃片104 上方,具有相對極少時間附著或以其他方式接觸玻璃片104 之第一主表面214a 及第二主表面214b ,並隨後在真空埠1011 中沉積。此外,第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 可使玻璃帶103 與環境空氣隔離並沿橫向移動分離路徑151 維持玻璃帶103 之較高溫度,此在一些分離製程期間可為有利的,從而在相對較高溫度下提供玻璃帶103 時更好地促進此等製程。
13 所示,在一些實施例中,第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 可沿玻璃帶103 之相應第一主表面213a 及玻璃帶103 之第二主表面213b 沿橫向移動分離路徑151 行進。因此,可在第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 中挾帶分離碎屑1001 ,並使分離碎屑迅速經過玻璃片104 上方,具有相對極少時間附著或以其他方式接觸玻璃片104 之第一主表面214a 及第二主表面214b 。此外,第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 可產生環境碎屑1002 將無法穿透的氣障(例如,有效清潔室)。另外,第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 可同樣挾帶環境碎屑1002 以及分離碎屑1001 ,可隨後使兩種碎屑類型迅速經過玻璃片104 上方,具有相對極少時間附著或以其他方式接觸玻璃片104 之第一主表面214a 及第二主表面214b ,並隨後在真空埠1011 中沉積。此外,第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 可使玻璃帶103 與環境空氣隔離並沿橫向移動分離路徑151 維持玻璃帶103 之較高溫度,此在一些分離製程期間可為有利的,從而在相對較高溫度下提供玻璃帶103 時更好地促進此等製程。
另外,在一些實施例中,第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 可同樣挾帶環境碎屑1002 以及分離碎屑1001 ,可隨後使兩種碎屑類型迅速經過玻璃帶103 上方,具有相對極少時間附著或以其他方式接觸玻璃帶103 之第一主表面213a 及第二主表面213b ,並隨後在相應第一真空148a 及第二真空148b 中沉積。舉例而言,第一內部氣幕187c 之第一內部上游部分188c 及第二內部氣幕187d 之第二內部上游部分188d 可沿各別第一內部上游路徑及第二內部上游路徑行進以在玻璃帶103 之兩個主側面上經過玻璃分離器149 上方。相應第一真空148a 及第二真空148b 可隨後將各別第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 吸入到第一真空148a 及第二真空148b 中。在一些實施例中,第一真空148a 及第二真空148b 亦可將來自第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 的例如可至少部分地基於自然對流在上游方向上移動的氣體組分吸入到第一真空148a 及第二真空148b 中,從而在製程中挾帶分離碎屑1001 及環境碎屑1002 之至少一者及防止玻璃帶103 的污染。
10 所示,在一些實施例中,可在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的下游處(例如,沿 2 所示之拉製方向177 )安置玻璃分離器149 。在一些實施例中,可在第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的下游處安置玻璃分離器149 。進一步地,在一些實施例中,可在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的下游及第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的下游處安置玻璃分離器149 。藉由在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 之至少一者衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的下游及第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的下游處安置玻璃分離器149 ,及藉由在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 之至少一者緊密接觸玻璃帶103 之第一主表面213a 的下游及第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的下游處使玻璃片104 與玻璃帶103 分離,可在第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 之至少一者中立即挾帶分離碎屑1001 。可隨後在施加到真空埠1011 的負壓下將第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 之至少一者中挾帶的分離碎屑1001 吸入到真空埠1011 中。藉由在第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 之至少一者中挾帶分離碎屑1001 及隨後將分離碎屑1001 吸入到真空埠1011 中,可自圍繞玻璃帶103 的區域移除分離碎屑1001 且可防止分離碎屑接觸並黏附於玻璃帶103 之主表面213a213b 及玻璃片104 之主表面214a214b
11 所示,在一些實施例中,可在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的上游處(例如,沿 2 所示之拉製方向177 )安置玻璃分離器149 。在一些實施例中,可在第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的上游處安置玻璃分離器149 。進一步地,在一些實施例中,可在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的上游及第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的上游處安置玻璃分離器149 。藉由在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 之至少一者衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的上游及第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的上游處安置玻璃分離器149 ,及藉由在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 之至少一者衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的上游及第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的上游處使玻璃片104 與玻璃帶103 分離,可在第一外部氣幕187a 與第二外部氣幕187b 之間橫向界定的區域1212 內隔離玻璃帶103 及玻璃片104 ,使得避免本可接觸並黏附於玻璃帶103 之主表面213a213b 及玻璃片104 之主表面214a214b 的環境碎屑1002 。如圖所示,在一些實施例中,可在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 之至少一者衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的上游及第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的上游處安置區域1212 。在一些實施例中,在真空148 之操作下,可自區域1212 移除區域1212 內產生的分離碎屑1001 。另外,分離碎屑1001 可藉由重力向下行進且可在第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 之至少一者中挾帶。可隨後在施加到真空埠1011 的負壓下將第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 之至少一者中挾帶的分離碎屑1001 吸入到真空埠1011 中。
13 所示,在一些實施例中,可在第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的下游處(例如,沿 2 所示之拉製方向177 )安置玻璃分離器149 。在一些實施例中,可在第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的下游處安置玻璃分離器149 。在一些實施例中,可在第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的下游及第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的下游處安置玻璃分離器149 。藉由在第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 之至少一者衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的下游及第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的下游處安置玻璃分離器149 ,及藉由在第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 之至少一者衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的下游及第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的下游處使玻璃片104 與玻璃帶103 分離,可在第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 之至少一者中立即挾帶分離碎屑1001 。可隨後將第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 之至少一者中挾帶的分離碎屑1001 吸入到具有負壓施加到真空埠1011 的真空埠1011 及第一真空148a 及第二真空148b 之至少一者中。藉由在第一內部氣幕187c 及第二內部氣幕187d 之至少一者中挾帶分離碎屑1001 且隨後將分離碎屑1001 吸入到真空埠1011 及第一真空148a 及第二真空148b 之至少一者中,可自圍繞玻璃帶103 的區域移除分離碎屑1001 且可防止分離碎屑接觸並黏附於玻璃帶103 之主表面213a213b 及玻璃片104 之主表面214a214b
13 所示,在一些實施例中,可在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的上游處(例如,沿 2 所示之拉製方向177 )及第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的下游處安置玻璃分離器149 。在一些實施例中,可在第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的上游及第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的下游處安置玻璃分離器149 。在一些實施例中,可在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的上游及第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的上游及第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的下游及第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的下游處安置玻璃分離器149
在一些實施例中,可在第一外部氣幕187a 與第二外部氣幕187b 之間橫向界定的區域1212 內隔離玻璃帶103 及玻璃片104 ,使得避免本可接觸並黏附於玻璃帶103 之主表面213a213b 及玻璃片104 之主表面214a214b 的環境碎屑1002 。舉例而言,在一些實施例中,可在區域1212 內藉由在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的上游及第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的上游處安置玻璃分離器149 來隔離玻璃帶103 及玻璃片104 。另外,可在區域1212 內藉由在第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的下游及第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的下游處安置玻璃分離器149 來隔離玻璃帶103 及玻璃片104 。因此,藉由在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的上游及第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的上游及第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的下游及第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的下游處使玻璃片104 與玻璃帶103 分離,可在區域1212 內隔離玻璃帶103 及玻璃片104 使得避免與環境碎屑1002 及分離碎屑1001 之至少一者接觸。
同樣,可在第一內部氣幕187c 與第二內部氣幕187d 之間橫向界定的區域1212 內隔離玻璃帶103 及玻璃片104 使得避免本可接觸及黏附於玻璃帶103 之主表面213a213b 及玻璃片104 之主表面214a214b 的環境碎屑1002 及分離碎屑1001 之至少一者。如圖所示,在一些實施例中,可在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 之至少一者衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的上游及第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的上游處安置區域1212 。在一些實施例中,可在第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 之至少一者衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的上游及第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的上游處安置區域1212
因此,在一些實施例中,可在第一外部氣幕187a 與面向玻璃帶103 之第一主表面213a 的第一內部氣幕187c 之間安置玻璃分離器149 ,且可在第二外部氣幕187b 與面向玻璃帶103 之第二主表面213b 的第二內部氣幕187d 之間安置玻璃分離器149 。第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 可由此圍束玻璃分離器149 且將玻璃帶103 與接觸並黏附於玻璃帶103 之主表面213a213b 的分離碎屑1001 及環境碎屑1002 之至少一者隔離。在一些實施例中,例如,在真空148 (例如,第一真空148a 、第二真空148b )之操作下,可自區域1212 移除區域1212 內產生的分離碎屑1001 。另外,分離碎屑1001 可藉由重力向下移動且可在第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之至少一者中挾帶。可隨後在施加到真空埠1011 的負壓下將第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之至少一者中挾帶的分離碎屑1001 吸入到真空埠1011 中。
如進一步所示,玻璃處理設備 100 可包括可選氣體分配器1200 ,此氣體分配器包括氣體出口1202 ,此氣體出口經定向以在拉製方向177 上沿拉製平面181 分配氣流1205 。可在玻璃成形器140 下游(例如,沿 2 所示之拉製方向177 )及玻璃分離器149 上游(例如,沿拉製方向177 )安置氣體出口1202 。在一些實施例中,氣體出口1202 可經定向以沿拉製平面181 沿拉製平面181 之整個寬度(例如,沿玻璃帶103 之整個寬度「W 」)分配氣流1205 。在一些實施例中,氣體出口1202 可經定向以沿拉製平面181 分配氣流1205 以環繞拉製平面181 (例如,以環繞玻璃帶103 )。如 12 14 所示,氣體分配器1200 可環繞拉製平面181 (例如,環繞玻璃帶103 )且可在第一隔板1005a 與第二隔板1005b 之間橫向安置氣體分配器1200 之氣體出口1202 。與提供給第一外部氣幕187a 及第二外部氣幕187b 的氣體一樣,可過濾提供給氣體分配器1200 的氣體,並清除任何污染物。
氣體分配器1200 可清除碎屑,包括分離碎屑1001 以及任何環境碎屑1002 ,此等碎屑可自區域1212 穿透第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之任何一者或更多者。如圖所示,氣體分配器1200 可在拉製方向177 上沿拉製平面181 分配氣流1205 。在一些實施例中,氣流1205 可沿玻璃帶103 之整個寬度「W 」延伸,且在一些實施例中,氣流1205 可環繞拉製平面181 及可環繞玻璃帶103 。應將理解,氣體分配器1200 之氣體出口1202 可包括任何一或更多個噴嘴、埠、噴射器等,上述者可經單獨或組合定向以在拉製方向177 上沿拉製平面181 分配氣流1205 。在一些實施例中,氣體出口1202 可包括連續伸長槽縫及複數個伸長槽縫之任何一者或更多者,此等伸長槽縫經定向以在拉製方向177 上沿拉製平面181 分配氣流1205 。在一些實施例中,氣體分配器可在不使空氣在區域1212 中再循環的情況下沖洗區域1212 使得無任何顆粒。此外,可選擇性操作氣體分配器1200 以例如在玻璃製造製程開始時、貫穿玻璃製造製程週期性地及在玻璃製造製程結束時自區域1212 清除碎屑。
15 中的箭頭1301 所指示,玻璃處理設備 100 亦可包括洗滌器1303 ,此洗滌器可在玻璃片104 已與玻璃帶103 分離後及/或玻璃片104 之外部部分159 已與中央部分161 分離後相對迅速地接收玻璃片104 ,如上文參看 1 所論述。在一些實施例中,可在分離站(例如,玻璃分離器149 )與洗滌站(例如,洗滌器1303 )之間迅速移動玻璃片104 。如上文所論述,自玻璃分離器149 相對迅速地移動玻璃片104 以被洗滌器1303 接收可幫助防止碎屑(例如,玻璃碎片、顆粒等)黏附於原始主表面(例如,玻璃片104 之第一主表面214a 及玻璃片104 之第二主表面214b )。實際上,可在碎屑有時間與玻璃片104 之主表面214a214b 形成有效黏合之前迅速移除分離步驟期間落在玻璃片104 之主表面214a214b 上的碎屑。在一些實施例中,玻璃片104 之相對迅速移動(由 1 15 中的行進方向1321 表示)可涉及自約1秒至約20秒(諸如自約1秒至約15秒)之時間推移,自玻璃片104 離開分離站的時間直至玻璃片104 開始由洗滌器1303 接收。
洗滌器1303 可包括外殼1305 以及第一液體分配器1307 (例如,複數個第一液體分配器1307 ),此第一液體分配器包括第一液體噴嘴1309 (例如,複數個第一液體噴嘴1309 ),此第一液體噴嘴經定向以抵靠玻璃片104 之主表面214a214b 分配液體。儘管未圖示,但示例性洗滌器1303 可抵靠玻璃片104 之第一主表面214a 與玻璃片104 之第二主表面214b 兩者分配液體。因此,除非另有指示,否則對單側分配之描繪不應限制本案隨附的申請專利範圍之範疇,因為出於視覺清晰目的實施此描繪。如圖所示,第一液體噴嘴1309 可視情況繞旋轉軸旋轉,如旋轉箭頭1311 所指示。在一些實施例(未圖示)中,第一液體噴嘴1309 可為固定且非旋轉的。適宜噴嘴可包括任何一或更多個錐形噴嘴、扁平噴嘴、實心流束噴嘴、空心錐形噴嘴、精細霧化噴嘴、橢圓形噴嘴、正方形噴嘴等。在一些實施例中,噴嘴可包括在自約0 psi至約4000 psi之壓力下操作的自約0.25至約2500加侖/分鐘(gallons per minute; gpm)之流動速率。在一些實施例中,可提供其他噴嘴類型及設計,包括本文未明確揭示的噴嘴。
在一些實施例中,可實質上圍束外殼1305 ,但已移除 15 之側壁以展現外殼1305 之內部中的特徵。在一些實施例中,外殼1305 可包括分隔件1313 ,此分隔件將外殼1305 之內部分成第一區域1315a 及第二區域1315b 。可在第一區域1315a 下游(例如,沿行進方向1321 )安置第二區域1315b 。在圖示實施例中,第一區域1315a 可包括第一液體分配器1307 。可提供排放口1316 以自第一區域1315a 內的洗滌製程移除液體中挾帶有任何碎屑的液體。亦可提供通氣口1318 以防止壓力累積並允許蒸氣及/或氣體自外殼1305 之第一區域1315a 逸出。如圖所示,示例性實施例可在垂直定向上處理玻璃片104 。在2014年10月21日提出申請之同在申請中之美國申請案第62/066,656號中描述用於此垂直定向及移動的適宜機構,上述美國申請案之全部內容以引用之方式併入本文。
如圖所示,洗滌器1303 可進一步包括安置在第一液體分配器1307 下游(例如,沿行進方向1321 )(諸如在外殼1305 之第二區域1315b 內)的氣刀1317 。氣刀1317 可包括氣體噴嘴1319 (例如,伸長噴嘴),此氣體噴嘴經定向以沿玻璃片104 之整個長度「L 」延伸且經定向以抵靠玻璃片104 之主表面214a214b 分配氣體以自玻璃片104 之主表面214a214b 移除液體。氣刀1317 可相對於玻璃片104 穿過洗滌器1303 之行進方向1321 成第一角度「A1 」加以定向。在一些實施例中,第一角度「A1 」可為約90°(例如,垂直),約45°,自約45°至約90°,例如自約60°至約85°,例如自約70°至約80°,以及兩數之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中,第一角度「A1 」可為約135 °,自約90°至約135 °,例如自約95°至約120°,例如自約100°至約110°,以及兩數之間的所有範圍及子範圍。可設計氣刀1317 以抵靠玻璃片104 之主表面214a214b 分配氣體以自玻璃片104 之主表面214a214b 移除液體。適宜氣體包括但不限於空氣、氮氣、低濕度氣體等。
如進一步圖示,第二區域1315b 可視情況包括第二液體分配器1323 ,第二液體分配器包括第二液體噴嘴1327 ,第二液體噴嘴經定向以在氣刀1317 上游(例如,沿行進方向1321 )的位置處沖洗玻璃片104 之主表面214a214b 。在一些實施例中,第二液體分配器1323 可包括在與第一區域1315a 中的第一液體分配器1307 產生的液流之壓力相比時更低壓力的液流。實際上,第二液體分配器1323 之較低壓力液流可湧至玻璃片104 之主表面214a214b 以移除留在玻璃片104 上的任何清潔劑、化學品、碎屑或其他雜質。如圖所示,在一些實施例中,可在第二液體分配器1323 下游(例如,沿行進方向1321 )及氣刀1317 上游安置偏轉板1325 。偏轉板1325 可經定向以將一定量的液體自第二液體分配器1323 導引遠離氣刀1317 。如圖所示,偏轉板1325 (諸如刮水片)可相對於玻璃片104 穿過洗滌器1303 之行進方向1321 成第二角度「A2 」加以定向。如圖所示,第一角度「A1 」與第二角度「A2 」可實質性彼此相等;然而,除非另有指示,否則此描繪不應限制本案隨附的申請專利範圍之範疇,因為在一些實施例中可提供不同角度(與行進方向成傾斜、銳角等)。此外,如圖所示,第二液體分配器1323 可同樣視情況包括第二液體噴嘴1327 (例如,伸長液體噴嘴),此第二液體噴嘴相對於玻璃片104 穿過洗滌器1303 之行進方向1321 成偏轉板1325 及氣刀1317 相似或相同的角度加以定向。偏轉板1325 可自第二液體分配器1323 向下且遠離氣刀1317 導引液體,從而減少需要氣刀1317 自玻璃片104 移除的液體的量。
儘管圖示 15 之特徵作用於玻璃片104 之主表面214a214b 之單一者上,應理解,可在玻璃片104 之兩側上提供相似或相同特徵以徹底洗滌玻璃片104 之第一主表面214a 與玻璃片104 之第二主表面214b 兩者。因此,洗滌器1303 之左側透視圖可為 15 中所圖示之洗滌器1303 之右側透視圖之鏡像,且出於視覺清晰目的作出以上論述及 15 中的描繪。
15 中的箭頭1401 所指示,可隨後藉由 16 所示之塗佈腔室1403 塗佈離開洗滌器1303 的潔淨且乾燥的玻璃片104 以保護玻璃片104 之潔淨主表面214a214b 。或者,如 15 中的箭頭1402 所指示,可隨後藉由包括 17 18 所示之塗佈腔室1403 之示例性實施例的片材表面保護設備塗佈離開洗滌器1303 的潔淨且乾燥的玻璃片104 以保護玻璃片104 之潔淨主表面214a214b 。在一些實施例中,可單獨或與霧室1453 、電漿沉積腔室或其他適宜塗佈腔室之任何一或更多個特徵組合提供塗佈腔室1403 以提供塗料來塗佈玻璃片104 之第一主表面214a 及第二主表面214b 之至少一者。
16 係玻璃處理設備 100 之塗層塗覆站之示意性透視圖。參看 16 ,儘管僅圖示玻璃片104 之單側為經塗佈,但應理解,可塗佈玻璃片104 之兩側以保護玻璃片104 之第一主表面214a 及玻璃片104 之第二主表面214b 兩者。因此,塗佈腔室1403 之左側透視圖可為 16 所示之塗佈腔室1403 之右側透視圖的鏡像。可為塗佈腔室1403 提供通氣口或排氣管以抽空塗佈腔室1403 的多個部分或全部。如圖所示,示例性實施例可在垂直定向上處理玻璃片104 。在2014年10月21日提出申請之同在申請中之美國申請案第62/066,656號中描述用於此垂直定向及移動的適宜機構,上述美國申請案之全部內容以引用之方式併入本文。
16 所示,在一些實施例中,塗佈腔室1403 可包括分配埠1405 (例如,複數個分配埠1405 ),諸如霧化噴嘴,此分配埠位於玻璃片104 之一側或兩側上,經定向以在玻璃片104 之主表面(例如,第一主表面214a 及第二主表面214b )上分配塗料。在一些實施例中,可提供第一複數個分配埠1405 及第二複數個分配埠1405 。第一複數個分配埠之各者可經定向以在玻璃片104 之第一主表面214a 上分配塗料且第二複數個分配埠之各者可經定向以在玻璃片104 之第二主表面214b 上分配塗料。儘管並非必需,但分配埠1405 之任何一者或更多者可包括電漿沉積埠,此電漿沉積埠經定向以分配電漿來塗佈玻璃片104 之主表面214a214b 之一者或兩者。玻璃片104 之主表面214a214b 上的塗料可包括在下文所論述之下游製程期間可容易移除的聚合物。在一些實施例中,塗料可在玻璃片104 之主表面214a214b 之至少一者上提供保護層。
在一些實施例中,對於塗層可使用烴前驅物,此等塗層耐大於400℃的溫度。經由工作氣體或者藉由額外前驅物將官能基添加在烴塗層頂部上,使得示例性烴塗層可具有自30 mJ/m2 至75 mJ/m2 之可調諧表面能量譜。在一些實施例中,可沉積有機金屬塗層,此有機金屬塗層可承受高於400℃的溫度。在又另外實施例中,對於塗層可使用烴與有機矽前驅物之組合,此等塗層可耐大於400℃的溫度,具有30~75mJ/m2 之間的可調諧表面能量。在一些實施例中,亦可藉由將其他官能基添加至有機金屬塗層上或藉由控制塗層(頂部)組合物或多孔性來控制表面能量,此等官能基諸如但不限於胺基、羥基、羰基及羧基等。
本文所使用之術語「電漿」、「常壓電漿」及其變型意欲表示通過高頻電場的氣體。遭遇電磁場產生氣體原子之電離並釋放電子,從而加速至高速度且因此高動能。高速電子中的一些藉由與最外部電子碰撞而電離其他原子,且彼等游離電子可接著產生額外電離,造成級聯電離效應。所得電漿可在流中流動且可朝向物件(例如,玻璃片104 )投射此流中捕獲的高能粒子。
在各種實施例中,電漿可為常壓(atmospheric pressure; AP)電漿及熱或非熱電漿。舉例而言,電漿之溫度的範圍可為自室溫(例如,大約25℃)至更高溫度,諸如高達約300℃。經由非限制性實施例,電漿之溫度的範圍可為自約25℃至約300℃,諸如自約50℃至約250℃,或自約100℃至約200℃,包括兩數之間的所有範圍及子範圍。電漿可包括選自氬氣、氦氣、氮氣、空氣、氫氣、水蒸氣及上述之混合物的至少一種氣體,僅舉數例。根據一些實施例,可採用氬氣作為電漿氣體。
在非限制性實施例中,電漿亦可包括至少一種烴,此可以氣體形式存在。適宜烴類可包括但不限於C1 -C12 烴類,諸如甲烷、乙烷、丙烷、丁烷、戊烷、己烷、庚烷、辛烷、壬烷、癸烷、十一烷、十二烷及上述之組合,僅舉數例。根據各種實施例,可使用具有低沸點(例如,小於100℃)的揮發性烴類,例如C1 -C6 烴類。在又進一步實施例中,烴可為甲烷或乙烷。電漿可包括例如自約1體積%至約20體積%之至少一種烴,諸如自約2體積%至約18體積%,自約3體積%至約15體積%,自約4體積%至約12體積%,自約5體積%至約10體積%,或自約6體積%至約8體積%,包括兩數之間的所有範圍及子範圍。
可使用此項技術中已知的任何適宜手段實現電漿與玻璃片104 之主表面214a214b 之間的接觸,例如可使用任何數量的電漿噴射器、噴嘴或噴燈掃描玻璃片104 之主表面214a214b 。可隨著實現特定應用的所欲塗佈密度及/或效率所需來改變掃描速度。舉例而言,掃描速度的範圍可為自約5 mm/s至約100 mm/s,諸如自約10 mm/s至約75 mm/s,自約25 mm/s至約60 mm/s,或自約40 mm/s至約50 mm/s,包括兩數之間的所有範圍及子範圍
滯留時間(例如,電漿接觸玻璃片104 之主表面214a214b 的時期)可同樣取決於掃描速度及所欲塗佈性質而變化。經由非限制性實施例,滯留時間的範圍可為自小於一秒至數分鐘,諸如自約1秒至約10分鐘,自約30秒至約9分鐘,自約1分鐘至約8分鐘,自約2分鐘至約7分鐘,自約3分鐘至約6分鐘,或自約4分鐘至約5分鐘,包括兩數之間的所有範圍及子範圍。在各種實施例中,玻璃片104 之主表面214a214b 可在單次執行中與電漿接觸,或在一些實施例中,可採用多次執行,諸如2次或更多次執行,3次或更多次執行,4次或更多次執行,5次或更多次執行,10次或更多次執行,20次或更多次執行,等等。
16 中所描繪,在與電漿接觸後,玻璃片104 之主表面214a214b 的至少一部分可塗佈有示例性烴層。在某些實施例中,玻璃片104 之整個主表面214a214b 可塗佈有烴層。在一些實施例中,可塗佈玻璃片104 之主表面214a214b 之所欲部分,諸如例如玻璃片104 之邊緣或周邊、中央區域或視需要任何其他區域或圖案。在各種實施例中,玻璃片104 之主表面214a214b 之塗佈部分可具有小於約50 mJ/m2 之總表面能量,諸如小於約45 mJ/m2 ,小於約40 mJ/m2 ,小於約35 mJ/m2 ,小於約30 mJ/m2 ,或小於約25 mJ/m2 ,包括兩數之間的所有範圍及子範圍。極性表面能量可例如小於約15 mJ/m2 ,諸如小於約10,小於約9 mJ/m2 ,小於約8 mJ/m2 ,小於約7 mJ/m2 ,小於約6 mJ/m2 ,小於約5 mJ/m2 ,小於約4 mJ/m2 ,小於約3 mJ/m2 ,小於約2 mJ/m2 ,或小於約1 mJ/m2 ,包括兩數之間的所有範圍及子範圍。在某些實施例中,塗佈部分之分散能量可大於約25 mJ/m2 ,諸如大於約30 mJ/m2 ,大於約35 mJ/m2 ,或大於約40 mJ/m2 ,包括兩數之間所有範圍及子範圍。
根據各種實施例,在與電漿接觸後,玻璃片104 之主表面214a214b 之塗佈部分可具有自約20度至約95度範圍內之接觸角,諸如自約30度至約90度,自約40度至約85度,自約50度至約80度,或自約60度至約70度,包括兩數之間的所有範圍及子範圍。在某些實施例中,亦可視需要自玻璃片104 移除烴層(例如,在針對最終用途應用精整玻璃片104 之前)。如上文關於本文揭示之方法所論述,可使用濕式及/或乾式清潔方法移除烴層。在清潔後,可大大減小玻璃片104 之先前塗佈主表面214a214b 之接觸角(例如,低至0度)。舉例而言,塗佈時的接觸角可高達95度,且在清潔之後,接觸角可小於20度,諸如小於15度,小於10度,小於5度,小於3度,小於2度,或小於1度,包括兩數之間的所有範圍及子範圍。
17 係玻璃處理設備 100 之塗佈腔室1403 之片材表面保護設備的另一實施例之示意性透視圖,且 18 係沿 17 之線15 -15 的塗佈腔室1403 之橫截面視圖。如 17 所示,在一些實施例中,示例性非限制性塗佈腔室1403 可包括霧室1453 ,此霧室可包括一或更多個外罩(例如,第一外罩1451 及第二外罩1452 之至少一者)。塗佈腔室1403 亦可包括霧產生器(例如,第一霧產生器1461 、第二霧產生器1462 )以提供霧(示意性圖示為霧1463 及霧1464 )至外罩(例如,各別第一外罩1451 、各別第二外罩1452 )。在一些實施例中,霧室1453 可包括外罩(例如,各別第一外罩1451 、各別第二外罩1452 )中的通道(例如,第一開口1457 、第二開口1458 ),霧可自此通道離開外罩以接觸玻璃片104 之至少一個主表面214a214b 。在一些實施例中,霧可凝聚在玻璃片104 之至少一個主表面214a214b 上,並將霧塗層沉積至玻璃片104 之至少一個主表面214a214b 上。
在一些實施例中,可僅提供單個外罩,且在一些實施例中,可提供一個以上外罩。因此,除非另有指示,否則諸圖不應限制本文隨附的申請專利範圍之範疇。在一些實施例中,玻璃處理設備 100 可包括霧室1453 ,此霧室包括第一外罩1451 及第二外罩1452 之至少一者、提供霧1463 至第一外罩1451 的第一霧產生器1461 及提供霧1464 至第二外罩1452 的第二霧產生器1462 之至少一者。霧室1453 可包括第一外罩1451 中的第一通道(例如,第一開口1457 )及第二外罩1452 中的第二通道(例如,第二開口1458 )之至少一者,霧1463 可自第一通道離開第一外罩1451 以接觸玻璃片104 之第一主表面214a ,霧1464 可自第二通道離開第二外罩1452 以接觸玻璃片104 之第二主表面214b 。在一些實施例中,第一通道(例如,第一開口1457 )可面向此通道(例如,第二開口1458 )。在一些實施例中,第一通道(例如,第一開口1457 )可與第二通道(例如,第二開口1458 )間隔預定距離1459 。預定距離1459 可界定玻璃片104 的行進路徑1481 。在一些實施例中,行進路徑1481 可沿第一通道及第二通道在第一通道與第二通道之間橫向延伸。因此,在一些實施例中,可選擇第一通道與第二通道之間的預定距離1459 以提供第一外罩1451 與第二外罩1452 之間的區域,可將玻璃片104 安置在此區域內以曝露於霧中。
應理解,包括第一外罩1451 及第二外罩1452 的霧室1453 可包括任何形狀及構造。因此,儘管將包括第一外罩1451 及第二外罩1452 的霧室1453 圖示為矩形外罩(例如,箱子),但除非另有指示,否則此圖式不應限制本揭示案之範疇。舉例而言,在一些實施例中,可安置及使用霧室1453 的位置可包括其他組件。因此,在一些實施例中,使用霧室1453 的環境之位置、形狀、構造等(包括環境中的任何組件)可至少部分地控制第一外罩1451 及第二外罩1452 之形狀。在一些實施例中,在不脫離本揭示案之範疇的情況下,包括第一外罩1451 及第二外罩1452 的霧室1453 可由任何一或更多個形狀及特徵構造且包括此等形狀及特徵。另外,應理解,在一些實施例中,可提供單個霧產生器。舉例而言,單個霧產生器可提供霧,可將霧輸送(例如,經由管線、管道、導管等)至霧室1453 之第一外罩1451 及第二外罩1452 。同樣,在一些實施例中,可提供複數個霧產生器來產生霧,可將霧輸送(例如,經由管線、管道、導管等)至霧室1453 之第一外罩1451 及第二外罩1452 。在一些實施例中,可在第一外罩1451 及第二外罩1452 之至少一者內安置一或更多個霧產生器以在第一外罩1451 及第二外罩1452 之至少一者內提供霧,而無需使用管線、管道、導管等來輸送霧。
在一些實施例中,霧產生器可包括超音波霧產生器、霧化器霧產生器、超音波或氣動霧化器、無空氣噴霧器及產生霧的任何其他裝置之任何一者或更多者。舉例而言,在一些實施例中,霧產生器可包括Prototype Vicks超音波霧產生器、Mainland Mart超音波霧產生器、TSI霧化器噴霧器及購自Beneq的原子層沉積或氣溶膠塗層系統之任何一者或更多者。在一些實施例中,霧產生器可包括由Atomizing Systems Inc.製造的霧系統,此霧系統可包括泵、馬達、濾水器、控制面板、噴嘴及管道之任何一者或更多者。在一些實施例中,Atomizing Systems霧系統可在約400 psi至約3200 psi之間的可調工作壓力下操作。在一些實施例中,霧系統可包括任何一個或更多個噴嘴,此等噴嘴具有自約0.1 mm至約0.4 mm範圍內的孔口及1000 psi下自約0.01加侖/分鐘(gallons per minute; gpm)至約0.12 gpm之流動速率;例如,孔口為約0.11mm(約0.014 gpm至約0.017 gpm)、約0.13 mm(約0.020 gpm)、約0.14 mm(約0.025 gpm)、約0.15 mm(約0.026 gpm)、約0.20 mm(約0.046 gpm)、約0.25 mm(約0.072 gpm)、約0.30 mm(約0.092 gpm)及約0.38 mm(0.120 gpm)。在一些實施例中,霧系統可包括噴嘴,噴嘴包括不銹鋼主體,不銹鋼主體具有紅寶石孔口、衝擊銷及聚丙烯過濾器以避免在噴嘴之基座中截留顆粒。隨後可提供高壓液體至噴嘴,其中精細液體噴射器抵靠衝擊銷發射以產生霧。噴嘴之非限制性實施例可包括ASI-4R、ASI-45R、ASI-5R、ASI-55R、ASI-6R、ASI-8R、ASI-10R、ASI-12R及ASI-15R。在一些實施例中,霧產生器可包括由Mee Industries, Inc.製造的霧系統,可包括MeeFog品牌撞擊銷型噴霧嘴,此噴霧嘴包括150微米直徑開口,在約2000 psi之操作壓力下產生霧。在一些實施例中,可採用本文未明確揭示之其他霧系統。
在一些實施例中,霧產生器可經週期性操作來提供霧(例如,當在霧室1453 中提供玻璃片104 時)或經連續操作來提供霧(例如,無論霧室1453 內是否提供玻璃片104 ,維持霧室1453 內的霧)。在一些實施例中,在霧室1453 內連續提供霧可提供更加均勻、連貫的霧,此可比例如週期性或間歇性提供霧更好地塗佈玻璃片104 之主表面214a214b 。或者,在一些實施例中,單獨或與連續提供霧組合地週期性提供霧可有利於例如向霧室1453 添加額外霧,置換已自霧室1453 耗盡的霧,及使霧在霧室1453 內循環及再分佈,以在霧室1453 內提供均勻、連貫的霧。
在一些實施例中,霧可塗覆薄霧塗層化學品至玻璃片104 之主表面214a214b 上。在一些實施例中,霧可提供霧塗層化學品,從而提供包括可濕性(例如,液-汽界面與玻璃片104 之主表面214a214b 之一者相交處的接觸角)的塗層,此接觸角為約30°至約60°,例如約45°至約60°,例如約55°至約60°,包括兩數之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中,霧塗層化學品可減少污染物黏附(例如,環境碎屑1002 及分離碎屑1001 之至少一者)至玻璃片104 之主表面214a214b 上及保護玻璃片104 避免刮痕及卷屑。在一些實施例中,霧塗層化學品可收集碎屑(例如,環境碎屑1002 及分離碎屑1001 之至少一者),防止碎屑接觸玻璃表面,且可隨後藉由例如洗滌自玻璃片104 移除碎屑。在一些實施例中,霧塗層化學品可包括單層或多層塗層,可將此塗層沉積至玻璃片104 之主表面214a214b 上。霧可包括各種化學組分及化合物,除非另有指示,否則此等化學組分及化合物之特定組成不欲限制本揭示案之範疇。
在非限制性實施例中,霧可包括至少一種烴,此可以氣體形式存在。適宜烴類可包括但不限於C1 -C12 烴類,諸如甲烷、乙烷、丙烷、丁烷、戊烷、己烷、庚烷、辛烷、壬烷、癸烷、十一烷、十二烷及上述之組合,僅舉數例。根據各種實施例,可使用具有低沸點(例如,小於100℃)的揮發性烴類,例如C1 -C6 烴類。在又進一步實施例中,烴可為甲烷或乙烷。電漿可包括例如自約1體積%至約20體積%之至少一種烴,諸如自約2體積%至約18體積%,自約3體積%至約15體積%,自約4體積%至約12體積%,自約5體積%至約10體積%,或自約6體積%至約8體積%,包括兩數之間的所有範圍及子範圍。另外,在一些實施例中,霧可包括顆粒,此等顆粒包括約5 μm至約15 μm之粒度(例如,液滴尺寸),例如約10 μm至約15 μm,例如約10 μm至約12 μm,包括兩數之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中,包括此等範圍內之粒度的霧可提供與例如包括超出此等範圍之粒度的霧相比更好品質的(例如,更均勻分佈的)表面塗層。然而,在一些實施例中,可提供具有任何粒度之顆粒的霧,包括本文並未明確揭示之粒度。
在一些實施例中,可提供一或更多個風扇(例如,第一風扇1495 、第二風扇1496 )以循環第一外罩1451 及第二外罩1452 之至少一者內的霧。在一些實施例中,例如,第一風扇1495 及第二風扇1496 可再分佈具有不同尺寸及重量之至少一者的顆粒,此等顆粒原本可基於作用於霧上的重力在霧室1453 內發展出不均勻的霧分佈。舉例而言,在一些實施例中,較大、較重的霧顆粒可基於重力朝向第一外罩1451 及第二外罩1452 之底部沉降,而第一風扇1495 及第二風扇1496 可經操作以朝向第一外罩1451 及第二外罩1452 之頂部再分佈較大、較重的霧顆粒以抵消重力。在一些實施例中,提供具有顆粒之均勻分佈的霧可在玻璃片104 上產生與例如提供具有顆粒之不均勻分佈的霧相比更好品質的霧塗層。
18 所示,在一些實施例中,玻璃處理設備 100 可包括輸送機1480 ,此輸送機界定沿第一通道(例如,第一開口1457 )及第二通道(例如,第二開口1458 )之至少一者延伸的行進路徑1481 。在一些實施例中,輸送機1480 可經定向以沿行進路徑1481 橫向移動玻璃片104 。舉例而言,在一些實施例中,輸送機1480 可包括滑輪系統、軌道或傳送帶,可將托架1483 及夾片1482 連接至傳送帶。夾片1482 可在可自輸送機1480 懸掛玻璃片104 的定向上固持玻璃片104 ,以使得玻璃片104 可沿行進路徑1481 行進穿過霧室1453 。在一些實施例中,輸送機1480 可經定向以在第一通道與第二通道之間沿行進路徑1481 橫向移動玻璃片104 。在一些實施例中,在玻璃片104 沿行進路徑1481 行進時,玻璃片104 之第一主表面214a 可面向第一外罩1451 之第一通道(例如,第一開口1457 )且玻璃片104 之第二主表面214b 可面向第二外罩1452 之第二通道(例如,第二開口1458 )。
在一些實施例中,如圖所示,第一通道(例如,第一開口1457 )及第二通道(例如,第二開口1458 )之高度H1 可在第一外罩1451 (或第二外罩1452 )之頂壁之內表面與第一外罩1451 (或第二外罩)之底壁之內表面之間延伸。在一些實施例中,第一通道(例如,第一開口1457 )及第二通道(例如,第二開口1458 )之高度H1 可大於玻璃片104 之高度H2 。因此,在一些實施例中,在玻璃片104 沿行進路徑1481 行進時,玻璃片104 之第一主表面214a 之整個高度H2 可面向第一外罩1451 之第一通道且玻璃片104 之第二主表面214b 之整個高度H2 可面向第二外罩1452 之第二通道。在玻璃片104 沿行進路徑1481 行進時,可使整個第一主表面214a 及第二主表面214b 曝露(例如,均勻曝露)於離開各別第一通道(例如,第一開口1457 )及第二通道(例如,第二開口1458 )的霧中。
在一些實施例中,第一開口1457 之寬度W1 可小於玻璃片104 之寬度W2 ,但在進一步實施例中,寬度W1 可等於或大於玻璃片104 之寬度W2 。在玻璃片104 沿行進路徑1481 行進時,玻璃片104 之主表面214a214b 之整個寬度W2 可各自最終面向各別開口14571458 。因此,儘管開口14571458 之寬度W1 可小於玻璃片104 之寬度W2 ,但可使玻璃片104 之主表面214a214b 之整個寬度W2 曝露於霧14631464 中。
在一些實施例中,玻璃片104 可沿行進路徑1481 行進穿過霧室1453 一次(例如,單次執行)。在一些實施例中,玻璃片104 可沿行進路徑1481 行進穿過霧室1453 複數次(例如,多次執行)。在一些實施例中,玻璃片104 可沿行進路徑1481 向前及沿行進路徑1481 向後(例如,在相反方向上)之至少一者行進穿過霧室1453 。在一些實施例中,可將玻璃片置放(例如,手動置放)到霧室1453 中。在一些實施例中,可將玻璃片104 固持在靜止位置中(例如,無需沿行進路徑1481 橫向移動),同時霧凝聚在玻璃片104 之至少一個主表面214a214b 上。在一些實施例中,輸送機1480 可提供玻璃片104 至霧室1453 ,在霧室中可使玻璃片104 曝露於霧中,且隨後輸送機1480 可自霧室1453 輸送玻璃片104 ,其中將霧塗層化學品塗覆至玻璃片104
出於描述霧室1453 之目的,若在垂直於主表面的方向上背離主表面凸出的主表面區域之佔據區穿過通道,則將玻璃片之主表面之區域視為「面向」通道。 18 圖示待曝露於霧1463 中的面向第一外罩1451 中的第一開口1457 之第一主表面214a 之區域。實際上,在垂直於第一主表面214a 的方向上背離第一主表面214a 凸出的第一主表面214a 之區域之佔據區穿過第一開口1457 。同樣,以類似方式,第二主表面214b 之區域可面向第二外罩1452 中的第二開口1458 以曝露於霧1464 中。
在一些實施例中,沿虛線15A -15A 的區段(亦即, 17 中的相反區段15 -15 )可呈現為 18 之鏡像。因此,在一些實施例中,第一通道(例如,第一開口1457 )之特徵(例如,尺寸)可與第二通道(例如,第二開口1458 )之特徵(例如,尺寸)相同。因此,儘管 18 圖示玻璃片104 之僅單個側面(例如,第一主表面214a )塗佈有霧的實施例,但沿 17 之線15A -15A 18 之鏡像可表示第一主表面214a 與第二主表面214b 兩者同時塗佈有傳遞穿過各別通道的霧14631464 的實施例,例如以保護玻璃片104 之第一主表面214a 與第二主表面214b 兩者。
在一些實施例中,除第一開口1457 及/或第二開口1458 之外或替代地,霧室1453 之通道可視情況包括槽縫噴嘴1490 ,此槽縫噴嘴沿行進路徑1481 安置在第一開口1457 的上游或下游。舉例而言,如 18 所示,在一個實施例中,可在相對於第一開口1457 的上游安置槽縫噴嘴1490 ,其中沿方向1402 穿過入口1471 行進的玻璃片將先遇到槽縫噴嘴1490 ,隨後遇到第一開口1457 。另外或替代地,在一些實施例中,霧室1453 之通道可包括沿行進路徑1481 安置在第二開口1458 上游或下游的槽縫噴嘴1490 。舉例而言,當沿 17 之剖面線15A -15A 檢視時, 18 之鏡像可表示相對於第二開口1458 上游安置的槽縫噴嘴1490 ,其中沿方向1402 穿過入口1471 行進的玻璃片104 將先遇到槽縫噴嘴1490 ,隨後遇到第二開口1458
18 所示,在一些實施例中,霧室1453 可提供霧至第一主表面214a 及/或第二主表面214b 之多個區域,諸如沿玻璃片104 之整個高度H2 面向各別槽縫噴嘴1490 的區域。因此,在一些實施例中,霧可離開第一外罩1451 穿過槽縫噴嘴1490 以接觸玻璃片104 之第一主表面214a 。在一些實施例中,槽縫噴嘴1490 可包括伸長孔隙或複數個伸長孔隙,可穿過伸長孔隙傳遞霧。在一些實施例中,伸長孔隙可包括高度H3 ,此高度可大於或等於玻璃片104 之高度H2 ,以使得傳遞穿過槽縫噴嘴1490 的霧可曝露於玻璃片104 之高度H2 (例如,整個高度H2 )。在一些實施例中,霧室1453 可包括複數個槽縫噴嘴1490 (例如,兩個槽縫噴嘴、三個槽縫噴嘴等),此等槽縫噴嘴可相對於彼此對準(諸如平行)且沿行進路徑1481 相繼間隔分離。舉例而言,在一些實施例中,複數個伸長孔隙可沿霧室1453 之通道延伸的行進路徑1481 間隔分離。
在一些實施例中,除第一開口1457 、第二開口1458 及/或槽縫噴嘴1490 之外或替代此等開口及/或槽縫噴嘴,霧室1453 之通道可視情況包括擴散器噴嘴1491 ,此擴散器噴嘴沿行進路徑1481 安置在第一開口1457 的上游或下游。舉例而言,如 18 所示,在一些實施例中,可在沿行進路徑1481 相對於第一開口1457 的下游安置擴散器噴嘴1491 ,其中沿方向1402 穿過入口1471 行進的玻璃片將先遇到第一開口1457 ,隨後遇到擴散器噴嘴1491 。另外或替代地,在一些實施例中,霧室1453 之通道可包括沿行進路徑1481 安置在第二開口1458 上游或下游的擴散器噴嘴1491 。舉例而言,當沿 17 之剖面線15A -15A 檢視時, 18 之鏡像可表示沿行進路徑1481 相對於第二開口1458 上游安置的擴散器噴嘴1491 ,其中沿行進路徑1481 穿過入口1471 行進的玻璃片104 將先遇到第二開口1458 ,隨後遇到擴散器噴嘴1491
18 所示,在一些實施例中,霧室1453 可提供霧至第一主表面214a 及/或第二主表面214b 之多個區域,諸如沿玻璃片104 之整個高度H2 面向各別擴散器噴嘴1491 的區域。因此,在一些實施例中,霧可離開第一外罩1451 或第二外罩1452 ,穿過各別擴散器噴嘴1491 以接觸玻璃片104 之各別第一主表面214a 或第二主表面214b 。在一些實施例中,擴散器噴嘴1491 可包括複數個孔隙1492 ,可穿過此等孔隙傳遞霧。擴散器噴嘴1491 可包括任何數目之任何尺寸、形狀及分佈的孔隙1492 。舉例而言,複數個孔隙1492 可呈一圖案排列,此圖案包括交錯排列孔隙及等間隔孔隙之至少一者。
霧室1453 之通道之實施例可包括第一開口1457 、槽縫噴嘴1490 及擴散器噴嘴1491 之單一者或任何組合。此外,在一些實施例中,開口、槽縫噴嘴及擴散器噴嘴可全部具有任何一者或更多者被部分禁用或全部禁用。舉例而言,可將遮罩部分或全部安置在通道(例如,第一開口1457 、槽縫噴嘴1490 及/或擴散器噴嘴1491 )之一或更多者上方以抑制(諸如防止)霧在遮罩位置處傳遞穿過通道。
因此,儘管關於第一外罩1451 已圖示,但應理解,在一些實施例中,霧室1453 可包括:相對於第一開口1457 安置的第一槽縫噴嘴1490 ,其中霧可經由第一槽縫噴嘴1490 離開第一外罩1451 以接觸玻璃片104 之第一主表面214a ;及在第二開口1458 中安置的第二槽縫噴嘴(未圖示),其中霧可經由第二槽縫噴嘴離開第二外罩1452 以接觸玻璃片104 之第二主表面214b 。在一些實施例中,第一槽縫噴嘴1490 及第二槽縫噴嘴之各者可包括伸長孔隙或複數個伸長孔隙,可穿過伸長孔隙傳遞霧。同樣,在一些實施例中,霧室1453 可包括:相對於第一開口1457 安置的第一擴散器噴嘴1491 ,其中霧可經由第一擴散器噴嘴1491 離開第一外罩1451 以接觸玻璃片104 之第一主表面214a ;及相對於第二開口1458 安置的第二擴散器噴嘴(未圖示),其中霧可經由第二擴散器噴嘴離開第二外罩1452 以接觸玻璃片104 之第二主表面214b 。在一些實施例中,第一擴散器噴嘴1491 及第二擴散器噴嘴之各者可包括複數個孔隙1492 ,可穿過此等孔隙傳遞霧。在一些實施例中,擴散器噴嘴1491 可提供可滲透阻障層,兩者皆將霧包含在第一外罩1451 內且亦允許霧傳遞穿過擴散器噴嘴1491 之複數個孔隙1492 以接觸玻璃片104
在一些實施例中,霧室1453 可包括入口1471 ,此入口界定自霧室1453 之外部1440 穿過入口1471 延伸至霧室1453 之內部1444 的入口路徑1473 。入口1471 可經定向以接收玻璃片104 沿自霧室1453 之外部1440 至霧室1453 之內部1444 的入口路徑1473 傳遞。在一些實施例中,氣室1453 可包括入口門1475 (在 17 中示意性圖示,但為了清晰在 18 中未圖示),用以選擇性阻擋入口1471 。在一些實施例中,方向1402 可延伸穿過入口1471 且在第一通道(例如,第一開口1457 )與第二通道(例如,第二開口1458 )之間橫向延伸。此外,當不存在玻璃片104 時,在一些實施例中,第一通道(例如,第一開口1457 )可面向第二通道(例如,第二開口1458 ),且第一通道可與第二通道間隔預定距離1459 以界定玻璃片104 的行進路徑1481 。如圖所示,行進路徑1481 可延伸穿過入口1471 且在第一通道與第二通道之間橫向延伸。
在一些實施例中,霧室1453 可包括出口1472 ,此出口界定自霧室1453 之內部1444 穿過出口1472 延伸至霧室1453 之外部1440 的出口路徑1474 。出口1472 可經定向以接收玻璃片104 沿自霧室1453 之內部1444 至霧室1453 之外部1440 的出口路徑1474 傳遞。在一些實施例中,霧室1453 可包括出口門1476 (在 17 中示意性圖示,且為了清晰在 18 中未圖示),用以選擇性阻擋出口1472 。在一些實施例中,行進路徑1481 可延伸穿過入口1471 ,在第一通道與第二通道之間橫向延伸,且延伸穿過第二開口1458
在一些實施例中,處理玻璃片104 的方法可包括:提供玻璃片104 至霧室1453 ;提供霧14631464 至霧室1453 之第一外罩1451 及第二外罩1452 之至少一者;以及藉由將霧自第一外罩1451 傳遞穿過第一外罩1451 中包括第一開口1457 的第一通道及自第二外罩1452 傳遞穿過第二外罩1452 中包括第二開口1458 的第二通道之至少一者來使玻璃片104 之至少一個主表面214a214b 與霧接觸。在一些實施例中,接觸玻璃片104 之第一主表面214a 可包括將霧自第一外罩1451 傳遞穿過呈槽縫噴嘴1490 形式的另一通道。在此類實例中,接觸玻璃片104 之第二主表面214b 可包括將霧自第二外罩1452 傳遞穿過相對於第一開口1457 安置的槽縫噴嘴1490 之伸長孔隙。在一些實施例中,通道可包括擴散器噴嘴1491 ,其中接觸玻璃片104 之第一主表面214a 包括將霧自第一外罩1451 傳遞穿過相對於第一開口1457 安置的擴散器噴嘴1491 之複數個孔隙1492 。類似地,使玻璃片104 之第二主表面214b 與霧接觸可包括將霧自第二外罩1452 傳遞穿過相對於第二外罩1452 的第二開口1458 。在一些實施例中,接觸玻璃片104 之第二主表面214b 可包括將霧自第二外罩1452 傳遞穿過相對於第二開口1458 安置的第二槽縫噴嘴(未圖示)之第二伸長孔隙。在一些實施例中,接觸玻璃片104 之第二主表面214b 可包括將霧自第二外罩1452 傳遞穿過相對於第二開口1458 安置的第二擴散器噴嘴(未圖示)之第二複數個孔隙。
在一些實施例中,方法可包括:沿自霧室1453 之外部1440 穿過霧室1453 之入口1471 至霧室1453 之內部1444 的入口路徑1473 橫向移動玻璃片104 。在一些實施例中,方法可包括:打開選擇性阻擋入口1471 的入口門1475 ;沿自霧室1453 之外部1440 穿過入口1471 至霧室1453 之內部1444 的入口路徑1473 橫向移動玻璃片104 ;及隨後關閉入口門1475 以阻擋入口1471 。在一些實施例中,方法可包括:沿自霧室1453 之內部1444 穿過霧室1453 之出口1472 的出口路徑1474 橫向移動玻璃片104 。在一些實施例中,方法可包括:打開選擇性阻擋霧室1453 之出口1472 的出口門1476 ;沿自霧室1453 之內部1444 穿過出口1472 至霧室1453 之外部1440 的出口路徑1474 橫向移動玻璃片104 ;及隨後關閉出口門1476 以阻擋出口1472 。在一些實施例中,方法可包括:沿在第一通道與第二通道之間沿第一通道及第二通道橫向延伸的行進路徑1481 自霧室1453 之入口1471 至霧室1453 之出口1472 輸送玻璃片104
在一些實施例中,藉由選擇性打開及關閉選擇性阻擋入口1471 的入口門1475 及阻擋出口1472 的出口門1476 ,可控制霧室1453 內的霧且將霧包含在霧室1453 內而不分散到使用霧室1453 所在的環境中。因此,在一些實施例中,入口門1475 可阻擋入口1471 且出口門1476 可阻擋出口1472 以提供可包含霧的密封外罩,因此允許在需要時進出霧室1453 。另外,在一些實施例中,霧可包括化學品,與分散到使用霧室1453 所在的環境中相比,此等化學品需要加以控制且包含在霧室1453 內。入口門1475 及出口門1476 可因此防止在霧中包括任何化學品的霧逸出到環境中。在一些實施例中,可單獨提供入口1471 或出口1472 ,且可僅經由入口1471 或僅經由出口1472 將玻璃片104 提供至霧室1453 並自霧室輸送出。
儘管新塗佈的玻璃片104 可已具有所需預定尺寸,但在一些實施例中,亦可對玻璃片104 調整尺寸以提供具有客戶需要之最終尺寸的玻璃片104 。舉例而言,如 16 中的箭頭1501 17 18 中的箭頭1502 所圖示,玻璃片104 可視情況行進至 19 所示之尺寸調整站,其中可將玻璃片104 分離成最終所需尺寸。在圖示實施例中,可藉由冷卻區1507 拖曳雷射加熱區1509 來傳播通體裂紋1505 ,但在一些實施例中可提供諸如劃線及/或斷裂之其他技術。無論使用何種技術,藉由利用塗佈腔室1403 將相應第一塗層1503a 塗覆於玻璃片104 之第一主表面214a 及將第二塗層1503b 塗覆於玻璃片104 之第二主表面214b ,可防止分離期間所產生的任何碎屑接觸玻璃片104 之第一主表面214a 及玻璃片104 之第二主表面214b
19 中的箭頭1601 所指示,玻璃片104 可隨後傳遞至 20 所示之邊緣精整站,在此站處可精整玻璃片104 之邊緣以移除本可損害玻璃片104 之強度的微裂紋或其他缺陷。在一些實施例中,如圖所示,可提供多個研磨裝置1603 以減少處理時間。在一些實施例中,研磨裝置1603 中的一或更多者可提供不同精整操作。舉例而言,一個研磨裝置1603 可提供粗略研磨步驟,而另一研磨裝置1603 (例如,具有更精細的砂輪)可提供精調研磨或拋光步驟。另外,儘管未圖示,但另一類似裝置可具有清潔輪,此清潔輪經設計以移除拋光及/或研磨期間產生的碎屑。
21 所示實施例中,心軸1701 可驅動砂輪1703 繞旋轉軸1705 旋轉。可垂直移動砂輪1703 (例如,如雙箭頭1707 所指示)以曝露砂輪1703 中的適宜溝槽來接收玻璃片104 之相應邊緣1709 。如 21 所示,可經由護罩1713 中的橫向開口1711 接收玻璃片104 之邊緣1709 。可將流體潤滑劑及/或冷卻劑(未圖示)塗覆於護罩1713 之內部中的玻璃片104 之邊緣1709 ,例如作為流體流。護罩1713 可屏蔽護罩1713 外部的玻璃片104 之保護塗層避免邊緣機械加工技術期間產生的流體冷卻劑內挾帶的明顯碎屑。如 22 中所圖示,流體流可在遠離玻璃片104 安置的流體出口埠18011803 處離開,而不是在玻璃片104 上沉積流體流。
22 進一步所示,在一些實施例中,可使流體流1805 (例如,潤滑劑)衝擊砂輪1703 之工作表面上以移除嵌在砂輪1703 內的碎屑,從而更新砂輪1703 之研磨能力。在一些實施例中,一或更多個研磨裝置氣體噴嘴1807a1807b 可朝向橫向開口1711 導引氣體以阻止護罩1713 內的流體朝向玻璃片104 之內部遷移。因此,研磨裝置氣體噴嘴1807a1807b 可進一步促進護罩1713 之功能性,從而減少玻璃片104 之中央部分曝露於碎屑及流體中。在一些實施例中,如 22 所示,可提供後端研磨裝置噴嘴1809 以清潔邊緣(例如,護罩1713 內)避免挾帶有碎屑的液體。如進一步圖示,亦可提供研磨裝置氣刀1811 以更徹底地自機械加工程序移除留在玻璃片104 上的任何殘餘流體。
20 中的箭頭1901 所示,一旦精整玻璃片104 之邊緣,可在 23 所示之塗層移除站1903 中移除保護塗層(例如,第一塗層1503a 、第二塗層1503b )。在一些實施例中,可提供複數個洗滌頭1905 以使玻璃片104 之兩側曝露於設計用以移除保護塗層的液體中。舉例而言,液體可包括鹼及/或清潔劑,具有或不具有刷洗或其他經設計用以自玻璃片104 移除保護層的技術。亦可用液體將沉積在保護層上的任何碎屑沖洗掉。
儘管未圖示,但隨後可例如用氣刀或其他乾燥程序乾燥玻璃片104 。如 23 中由箭頭2001 所指示,玻璃片104 可隨後傳遞至 24 所示之檢測站2003 ,其中檢測裝置2005 可檢測玻璃片104 之一或更多個屬性以確保品質並決定玻璃片104 是否滿足可由客戶設定的一或更多個要求。檢測裝置2005 可經設計以感測玻璃片104 之氣泡、包含物、表面顆粒、條痕、厚度、方正度、尺寸、邊緣品質、刮痕、裂紋、表面瑕疵、表面形狀、表面特徵或其他屬性中的一或更多者。
若玻璃片104 滿足檢測要求,可將潔淨玻璃片104 與其他玻璃片104 封裝在一起。在一些實施例中,可在相鄰玻璃片104 之間安置有高品質插入紙或其他材料(例如,聚合材料)的堆疊中置放玻璃片104 。可選擇高品質插入紙或其他材料以避免玻璃片104 受到具有化學品或纖維的任何污染。
現將參看 25 描述處理玻璃帶103 及玻璃片104 的方法, 25 示意性圖示根據本文所揭示之各實施例的玻璃處理方法2100 。玻璃處理方法2100 可開始於分離步驟2101 ,在此步驟處例如可利用玻璃分離器149 將玻璃片104 與玻璃帶103 分離。在一些實施例中,如 1 所示,玻璃片104 可與玻璃帶103 分離。在一些實施例中,玻璃片104 之外部部分159 可與玻璃片104 之中央部分161 分離。在任一情況下,可採用上文參照 10 14 論述之程序中的任何者或全部。舉例而言,可產生氣幕(例如,第一外部氣幕187a 、第二外部氣幕187b 、第一內部氣幕187c 、第二內部氣幕187d )以挾帶分離程序期間產生的碎屑(例如,分離碎屑1001 )以及防止環境碎屑1002 接觸玻璃帶103 及玻璃片104
玻璃處理方法2100 可隨後行進至碎屑移除步驟2103 ,在此步驟處可利用參照 15 所描述之洗滌器1303 移除分離步驟2101 期間產生的碎屑。玻璃處理方法2100 可隨後行進至塗層塗覆步驟2105 。在塗層塗覆步驟2105 期間,可藉由上文參照 16 論述之塗佈腔室1403 塗佈的第一塗層1503a 及第二塗層1503b 保護玻璃片104 之主表面214a214b 。在一些實施例中,在碎屑移除步驟2103 之後,但在塗層塗覆步驟2105 期間塗覆保護層之前,可在可選檢測步驟2127 期間檢測經清潔及乾燥的玻璃片104 。在一些實施例中,可在檢測步驟2127 中使用檢測裝置2005
在塗層塗覆步驟2105 之後,若玻璃片104 需要進一步調整尺寸,則玻璃片104 可行進至尺寸調整步驟2109 。在尺寸調整步驟2109 期間,可如上文參照 19 所論述對玻璃片104 調整尺寸。或者,若玻璃片104 已具有所欲尺寸,則玻璃片104 可省略尺寸調整步驟2109 。在任一情況下,玻璃處理方法2100 可隨後行進至邊緣精整步驟2115 。在邊緣精整步驟2115 期間,可如上文參照 20 22 所描述的精整受保護玻璃片104 之邊緣。
若客戶希望接收已移除保護塗層的玻璃片104 ,則具有精整邊緣的玻璃片104 可隨後行進至塗層移除步驟2121 ,其中如上文參照 23 所描述的移除保護塗層(例如,第一塗層1503a 、第二塗層1503b )。一旦乾燥,玻璃片104 可隨後傳遞至參照 24 描述的檢測步驟2123 及檢測站2003 。可隨後在最終封裝與裝運步驟2125 期間對潔淨且乾燥的玻璃片104 封裝以便裝運。
可需要向客戶提供不具有保護表面的玻璃片以減少客戶端的處理時間。然而,裝運不具有保護塗層的原始玻璃片可存在挑戰。舉例而言,在不具有保護表面的情況下,玻璃可在輸送期間受到損壞的機會增加。此外,若表面本身並未受到保護,則可使用插入紙分離封裝或堆疊中的玻璃片,且可採用相對昂貴的插入紙減少纖維脫落或不利於玻璃片的其他效應,因為插入紙材料將直接接觸玻璃片。更進一步地,在不具有表面保護的情況下,可在封裝之後引入碎屑,此可證明對客戶是不可接受的。
在輸送期間留有保護塗層且客戶原位移除塗層可為有益的。舉例而言,保護塗層可避免對玻璃表面可能的損壞。在一些實施例中,輸送期間產生的任何碎屑可在後續塗層移除步驟2131 期間與保護塗層一起移除。亦在 25 中圖示一種處理玻璃片104 的可能方法,其中在具有保護塗層的情況下裝運玻璃片。實際上,在經歷塗層塗覆步驟2105 及可選尺寸調整步驟2109 後,可隨後在邊緣精整步驟2115 期間精整玻璃片104 。可隨後如封裝與裝運步驟2129 所指示的封裝及裝運玻璃片104 ,而非在塗層移除步驟2121 中移除塗層。由於玻璃片104 已受到保護塗層保護,可使用價格較低的插入紙。實際上,可在後續塗層移除步驟2131 期間移除插入紙之任何脫落,其中如上文參照 23 所描述的移除保護塗層。如前文所論述,可在將玻璃片104 輸送給客戶後實施後續塗層移除步驟2131 。在一些實施例中,後續塗層移除步驟可與上文論述之塗層移除步驟2121 相似或相同。
處理玻璃帶103 的方法可包括:自大量熔料121 在拉製方向177 上沿拉製平面181 拉製玻璃帶103 ;沿第一外部上游路徑傳遞第一外部氣幕187a 之第一外部上游部分188a ,此第一外部上游路徑與玻璃帶103 之第一主表面213a 間隔開;在朝向玻璃帶103 之第一主表面213a 的方向上沿第一外部下游路徑傳遞第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a ;以及使第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 。方法可進一步包括:沿第二外部上游路徑傳遞第二外部氣幕187b 之第二外部上游部分188b ,此第二外部上游路徑可與玻璃帶103 之第二主表面213b 間隔開;在朝向玻璃帶103 之第二主表面213b 的方向上沿第二外部下游路徑傳遞第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b ;以及使第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b
在一些實施例中,處理玻璃帶103 的方法可包括:沿第一內部上游路徑傳遞第一內部氣幕187c 之第一內部上游部分188c ,此第一內部上游路徑與玻璃帶103 之第一主表面213a 間隔開;在朝向玻璃帶103 之第一主表面213a 的方向上沿第一內部下游路徑傳遞第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c ;以及使第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 。方法可進一步包括:沿第二內部上游路徑傳遞第二內部氣幕187d 之第二內部上游部分188d ,此第二內部上游路徑可與玻璃帶103 之第二主表面213b 間隔開;在朝向玻璃帶103 之第二主表面213b 的方向上沿第二內部下游路徑傳遞第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d ;以及使第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b
在一些實施例中,方法可包括:使第一外部氣幕187a 之第一外部上游部分188a 經過第一隔板1005a 之第一外表面1007b 上方,此第一隔板經安置具有面向玻璃帶103 之第一主表面213a 的第一內表面1007a ;以及隨後使第一外部氣幕187a 之第一外部上游部分188a 經過第一隔板1005a 之第一下游邊緣1009a 上方。在一些實施例中,方法可包括:傳遞冷卻氣流1003 穿過玻璃帶103 之第一主表面213a 與第一隔板1005a 之第一內表面1007a 之間界定的第一空間,其中冷卻氣流1003 可在與第一外部氣幕187a 之第一下游方向相對的第一上游方向上行進。方法亦可包括:使第二外部氣幕187b 之第二外部上游部分188b 經過第二隔板1005b 之第二外表面1008b 上方,此第二隔板經安置具有面向玻璃帶103 之第二主表面213b 的第二內表面1008a ;以及隨後使第二外部氣幕187b 之第二外部上游部分188b 經過第二隔板1005b 之第二下游邊緣1009b 上方。在一些實施例中,方法可包括:傳遞冷卻氣流1003 穿過玻璃帶103 之第二主表面213b 與第二隔板1005b 之第二內表面1008a 之間界定的第二空間,其中冷卻氣流1003 可在與第二外部氣幕187b 之第二下游方向相對的第二上游方向上行進。
在一些實施例中,方法可包括:使第一內部氣幕187c 之第一內部上游部分188c 經過第一隔板1005a 之第一內表面1007a 上方,此第一隔板經安置具有背離玻璃帶103 之第一主表面213a 的第一外表面1007b ;以及隨後使第一內部氣幕187c 之第一內部上游部分188c 經過第一隔板1005a 之第一下游邊緣1009a 上方。在一些實施例中,方法可包括:傳遞冷卻氣流1003 穿過玻璃帶103 之第一主表面213a 與第一內部氣幕187c 之第一內部上游部分188c 之間界定的第一空間,其中冷卻氣流1003 可在與第一內部氣幕187c 之第一下游方向相對的第一上游方向上行進。方法亦可包括:使第二內部氣幕187d 之第二內部上游部分188d 經過第二隔板1005b 之第二內表面1008a 上方,此第二隔板經安置具有背離玻璃帶103 之第二主表面213b 的第二外表面1008b ;以及隨後使第二內部氣幕187d 之第二內部上游部分188d 經過第二隔板1005b 之第二下游邊緣1009b 上方。在一些實施例中,方法可包括:傳遞冷卻氣流1003 穿過玻璃帶103 之第二主表面213b 與第二內部氣幕187d 之第二內部上游部分188d 之間界定的第二空間,其中冷卻氣流1003 可在與第二內部氣幕187d 之第二下游方向相對的第二上游方向上行進。
在一些實施例中,方法可包括:在第一外部氣幕187a 之第一外部上游部分188a 與第二外部氣幕187b 之第二外部上游部分188b 之間拉製玻璃帶103 ;以及隨後在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 與第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 之間拉製玻璃帶103 。在一些實施例中,方法可包括:在第一隔板1005a 之第一內表面1007a 與第二隔板1005b 之第二內表面1008a 之間拉製玻璃帶103 。在一些實施例中,方法可包括:在第一內部氣幕187c 之第一內部上游部分188c 與第二內部氣幕187d 之第二內部上游部分188d 之間拉製玻璃帶103 ;以及隨後在第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 與第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 之間拉製玻璃帶103
在一些實施例中,方法可包括:在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的下游處,使玻璃片104 與玻璃帶103 分離。在一些實施例中,方法可包括:在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的上游處,使玻璃片104 與玻璃帶103 分離。在一些實施例中,處理玻璃帶103 的方法可包括:在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的下游處且在第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的下游處,使玻璃片104 與玻璃帶103 分離。在一些實施例中,處理玻璃帶103 的方法可包括:在第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的上游處且在第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的上游處,使玻璃片104 與玻璃帶103 分離。
在一些實施例中,方法可包括:在第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 與第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 之間,在一高度處沿拉製平面181 使玻璃片104 與玻璃帶103 分離。在一些實施例中,處理玻璃帶103 的方法可包括:在第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 與第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 之間,在一高度處沿拉製平面181 使玻璃片104 與玻璃帶103 分離。
在一些實施例中,處理玻璃帶103 的方法可包括:在第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之至少一者中挾帶玻璃片104 與玻璃帶103 分離時產生的碎屑(例如,分離碎屑1001 )。在一些實施例中,處理玻璃帶103 的方法可包括:將第一外部氣幕187a 、第一內部氣幕187c 、第二外部氣幕187b 及第二內部氣幕187d 之至少一者中挾帶的碎屑吸入到具有負壓施加到真空埠1011 的真空埠1011 及具有相應第一真空源147a 及第二真空源147b 的真空148 (例如,第一真空148a 、第二真空148b )之至少一者中。
在一些實施例中,處理玻璃帶103 的方法可包括:自與玻璃帶103 關聯的區域1212 清除碎屑(例如,利用氣體分配器1200 清除分離碎屑1001 及環境碎屑1002 )。在一些實施例中,可在第一外部氣幕187a 之第一外部上游部分188a 與第二外部氣幕187b 之第二外部上游部分188b 之間橫向界定區域1212 。在一些實施例中,可在第一隔板1005a 與第二隔板1005b 之間橫向界定區域1212 。在一些實施例中,可在第一內部氣幕187c 之第一內部上游部分188c 與第二內部氣幕187d 之第二內部上游部分188d 之間橫向界定區域1212 。在一些實施例中,區域1212 可處於第一外部氣幕187a 之第一外部下游部分189a 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 的上游及第二外部氣幕187b 之第二外部下游部分189b 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的上游。在一些實施例中,區域1212 可處於第一內部氣幕187c 之第一內部下游部分189c 衝擊玻璃帶103 之第一主表面213a 處的上游及第二內部氣幕187d 之第二內部下游部分189d 衝擊玻璃帶103 之第二主表面213b 的上游。在一些實施例中,清除可包括:在拉製方向177 上沿拉製平面181 分配氣流1205 。在一些實施例中,清除可包括:沿玻璃帶103 之整個寬度「W 」分配氣流1205 ;以及分配氣流1205 以環繞玻璃帶103
在一些實施例中,方法可包括:使玻璃片104 與玻璃帶103 分離;以及隨後洗滌玻璃片104 (例如,在洗滌器1303 中)以自玻璃片104 之主表面(例如,第一主表面214a 、第二主表面214b )移除碎屑(例如,分離碎屑1001 、環境碎屑1002 )。在一些實施例中,洗滌可包括:第一階段,抵靠玻璃片104 之主表面214a214b 分配液體(例如,利用包括第一液體噴嘴1309 的第一液體分配器1307 )以在液體中移除碎屑及挾帶碎屑之至少一者;以及第二階段,抵靠玻璃片104 之主表面214a214b 分配氣體(例如,利用包括氣體噴嘴1319 的氣刀1317 )以自玻璃片104 之主表面214a214b 移除液體。
在一些實施例中,在洗滌期間,玻璃片104 可經垂直定向且沿行進方向1321 行進。在一些實施例中,可在第二階段期間相對於玻璃片104 之行進方向1321 成第二角度「A2 」分配氣體以在重力方向上向下導引液體。在一些實施例中,洗滌可包括:在第二階段期間,在抵靠玻璃片104 之主表面214a214b 分配氣體之前,用沖洗液體(例如,來自包括第二液體噴嘴1327 的第二液體分配器1323 )沖洗玻璃片104 之主表面214a214b ;以及自玻璃片104 之主表面214a214b 移除沖洗液體,其中偏轉板1325 相對於玻璃片104 之行進方向1321 成一角度加以定向以在重力方向上向下導引沖洗液體。
在一些實施例中,處理玻璃帶103 的方法可包括:在洗滌玻璃片104 後使玻璃片104 之主表面214a214b 塗佈有保護層(例如,第一塗層1503a 、第二塗層1503b )。在一些實施例中,保護層可包括聚合物。在一些實施例中,可藉由電漿沉積(例如,在塗佈腔室1403 中)在玻璃片104 之主表面214a214b 上塗佈保護層。
應瞭解,所揭示之各種實施例可涉及結合特定實施例描述的特定特徵、要素或步驟。亦應瞭解,儘管相對於一個特定實施例加以描述,但特定特徵、要素或步驟可與呈各種未圖示組合或排列的替代實施例互換或組合。
亦應理解,除非明確指示相反情形,否則本文所使用之術語「該(the)」或「一(a/an)」係指「至少一個」且不應限於「僅一個」。因此,舉例而言,除非上下文另有清楚指示,否則對「一光源」之引用包括具有兩個或兩個以上此類光源的實施例。同樣,「複數個」或「陣列」意欲表示「一個以上」。因此,「複數個」空腔或空腔之「陣列」包括兩個或兩個以上此類元件,諸如三個或更多個此類空腔等。
範圍在本文中可表示為自「約」一個特定值及/或至「約」另一特定值。當表示此範圍時,實施例包括自一個特定值及/或至另一特定值。類似地,當藉由使用先行詞「約」將值表示為近似值時,應理解,特定值形成另一態樣。應進一步理解,各個範圍之端點在相對於另一端點或獨立於另一端點皆有效。
本文所使用之術語「實質」、「實質上」及其變型意欲指出所描述之特徵等於或約等於值或描述。舉例而言,「實質上平坦」表面意欲表示平坦或近似平坦的表面。此外,如上文所界定,「實質上相似」意欲表示兩個值相等或近似相等。
除非另有明確陳述,否則絕不意欲將本文闡述的任何方法視為需要以特定次序執行步驟。因此,在方法請求項並未實際上敘述步驟遵循的次序或並未在申請專利範圍或描述中另外特定陳述步驟限於特定次序的情況下,此方法請求項絕不意欲推斷為任何特定次序。
儘管可使用過渡性用語「包含」揭示特定實施例之各特徵、要素或步驟,但應理解,此隱含替代實施例,包括可使用過渡性用語「由...組成」或「基本上由...組成」描述的彼等替代實施例。因此,舉例而言,對包含A+B+C的裝置之隱含替代實施例包括裝置由A+B+C組成的實施例及裝置基本上由A+B+C組成的實施例。
將對熟習此項技藝者顯而易見的是,可在不脫離本揭示案之精神及範疇的情況下對本揭示案實行各種修改及變化。由於對熟習此項技藝者可發生合併本揭示案之精神及物質的所揭示實施例之修改組合、子組合及變化,應將本揭示案視為包括隨附申請專利範圍及其等效物之範疇內的任何事項。
100‧‧‧玻璃處理設備
101‧‧‧熔合下拉設備
103‧‧‧玻璃帶
104‧‧‧玻璃片
105‧‧‧熔融容器
107‧‧‧批料
109‧‧‧儲倉
111‧‧‧批料輸送裝置
113‧‧‧馬達
115‧‧‧可選控制器
117‧‧‧箭頭
119‧‧‧玻璃熔融探針
121‧‧‧熔料
123‧‧‧豎管
125‧‧‧通訊線路
127‧‧‧澄清容器
129‧‧‧第一連接導管
131‧‧‧混合腔室
133‧‧‧輸送容器
135‧‧‧第二連接導管
137‧‧‧第三連接導管
139‧‧‧輸送管
140‧‧‧玻璃成形器
141‧‧‧入口
143‧‧‧成形容器
145‧‧‧根部
147a‧‧‧第一真空源
147b‧‧‧第二真空源
148‧‧‧真空
148a‧‧‧第一真空
148b‧‧‧第二真空
149‧‧‧玻璃分離器
149a‧‧‧第一玻璃分離器
149b‧‧‧第二玻璃分離器
150‧‧‧機器人
151‧‧‧橫向移動分離路徑
153‧‧‧第一垂直邊緣
155‧‧‧第二垂直邊緣
159‧‧‧外部部分
161‧‧‧中央部分
163‧‧‧垂直分離路徑
165‧‧‧第一橫向移動邊緣
167‧‧‧第二橫向移動邊緣
169‧‧‧雷射
170‧‧‧凹槽
171‧‧‧成形楔
172a‧‧‧堰
172b‧‧‧堰
173‧‧‧表面部分
174a‧‧‧外表面
174b‧‧‧外表面
175‧‧‧表面部分
177‧‧‧拉製方向
181‧‧‧拉製平面
183‧‧‧下部開口
185a‧‧‧第一伸長氣體埠
185b‧‧‧第二伸長氣體埠
187a‧‧‧第一外部氣幕
187b‧‧‧第二外部氣幕
187c‧‧‧第一內部氣幕
187d‧‧‧第二內部氣幕
188a‧‧‧第一外部上游部分
188b‧‧‧第二外部上游部分
188c‧‧‧第一內部上游部分
188d‧‧‧第二內部上游部分
189a‧‧‧第一外部下游部分
189b‧‧‧第二外部下游部分
189c‧‧‧第一內部下游部分
189d‧‧‧第二內部下游部分
201‧‧‧雷射束產生器
203‧‧‧雷射束
205a‧‧‧鏡面
205b‧‧‧鏡面
205c‧‧‧鏡面
205d‧‧‧鏡面
207‧‧‧光學透鏡
209‧‧‧雷射束斑
211a‧‧‧第一外邊緣部分
211b‧‧‧第二外邊緣部分
213a‧‧‧第一主表面
213b‧‧‧第二主表面
214a‧‧‧第一主表面
214b‧‧‧第二主表面
215‧‧‧多角形反射裝置
217‧‧‧逆時針方向
219a‧‧‧鏡面
219b‧‧‧鏡面
219c‧‧‧鏡面
219d‧‧‧鏡面
219e‧‧‧鏡面
219f‧‧‧鏡面
219g‧‧‧鏡面
219h‧‧‧鏡面
221‧‧‧第一末端位置
221a‧‧‧第一邊緣區域
221b‧‧‧中間部分
221c‧‧‧第二邊緣部分
225‧‧‧拂掠方向
225a‧‧‧拂掠方向
225b‧‧‧拂掠方向
225c‧‧‧拂掠方向
225d‧‧‧拂掠方向
225e‧‧‧拂掠方向
301‧‧‧中間位置
401‧‧‧第二末端位置
403‧‧‧第一邊緣區域
405‧‧‧第一外部位置
407‧‧‧第二外部位置
501‧‧‧第一最外部位置
503‧‧‧第二最外部位置
507‧‧‧第一拂掠路徑
509‧‧‧第二拂掠路徑
601‧‧‧橢圓狀功率密度區域
701‧‧‧劃線器
703‧‧‧缺陷
801‧‧‧區段
802‧‧‧雷射束
803‧‧‧區段
804‧‧‧雷射束
805‧‧‧區段
806‧‧‧雷射束
807‧‧‧區段
808‧‧‧雷射束
809‧‧‧區段
810‧‧‧雷射束
811‧‧‧重疊區域
813‧‧‧重疊區域
815‧‧‧重疊區域
817‧‧‧重疊區域
1001‧‧‧分離碎屑
1002‧‧‧環境碎屑
1003‧‧‧冷卻氣流
1004‧‧‧加壓氣源
1005a‧‧‧第一隔板
1005b‧‧‧第二隔板
1006‧‧‧過濾器
1007a‧‧‧第一內表面
1007b‧‧‧第一外表面
1008a‧‧‧第二內表面
1008b‧‧‧第二外表面
1009a‧‧‧第一下游邊緣
1009b‧‧‧第二下游邊緣
1011‧‧‧真空埠
1013‧‧‧真空源
1200‧‧‧氣體分配器
1202‧‧‧氣體出口
1205‧‧‧氣流
1212‧‧‧區域
1301‧‧‧箭頭
1303‧‧‧洗滌器
1305‧‧‧外殼
1307‧‧‧第一液體分配器
1309‧‧‧第一液體噴嘴
1311‧‧‧旋轉箭頭
1313‧‧‧分隔件
1315a‧‧‧第一區域
1315b‧‧‧第二區域
1316‧‧‧排放口
1317‧‧‧氣刀
1318‧‧‧通氣口
1319‧‧‧氣體噴嘴
1321‧‧‧行進方向
1323‧‧‧第二液體分配器
1325‧‧‧偏轉板
1327‧‧‧第二液體噴嘴
1401‧‧‧箭頭
1402‧‧‧箭頭/方向
1403‧‧‧塗佈腔室
1405‧‧‧分配埠
1440‧‧‧外部
1444‧‧‧內部
1451‧‧‧第一外罩
1452‧‧‧第二外罩
1453‧‧‧霧室
1457‧‧‧第一開口
1458‧‧‧第二開口
1459‧‧‧預定距離
1461‧‧‧第一霧產生器
1462‧‧‧第二霧產生器
1463‧‧‧霧
1464‧‧‧霧
1471‧‧‧入口
1472‧‧‧出口
1473‧‧‧入口路徑
1474‧‧‧出口路徑
1475‧‧‧入口門
1476‧‧‧出口門
1480‧‧‧輸送機
1481‧‧‧行進路徑
1482‧‧‧夾片
1483‧‧‧托架
1490‧‧‧槽縫噴嘴
1491‧‧‧擴散器噴嘴
1492‧‧‧孔隙
1495‧‧‧第一風扇
1496‧‧‧第二風扇
1501‧‧‧箭頭
1502‧‧‧箭頭
1503a‧‧‧第一塗層
1503b‧‧‧第二塗層
1505‧‧‧通體裂紋
1507‧‧‧冷卻區
1509‧‧‧雷射加熱區
1601‧‧‧箭頭
1603‧‧‧研磨裝置
1701‧‧‧心軸
1703‧‧‧砂輪
1705‧‧‧旋轉軸
1707‧‧‧雙箭頭
1709‧‧‧邊緣
1711‧‧‧橫向開口
1713‧‧‧護罩
1801‧‧‧流體出口埠
1803‧‧‧流體出口埠
1805‧‧‧流體流
1807a‧‧‧研磨裝置氣體噴嘴
1807b‧‧‧研磨裝置氣體噴嘴
1809‧‧‧後端研磨裝置噴嘴
1811‧‧‧研磨裝置氣刀
1901‧‧‧箭頭
1903‧‧‧塗層移除站
1905‧‧‧洗滌頭
2001‧‧‧箭頭
2003‧‧‧檢測站
2005‧‧‧檢測裝置
2100‧‧‧玻璃處理方法
2101‧‧‧分離步驟
2103‧‧‧碎屑移除步驟
2105‧‧‧塗層塗覆步驟
2109‧‧‧尺寸調整步驟
2115‧‧‧邊緣精整步驟
2121‧‧‧塗層移除步驟
2123‧‧‧檢測步驟
2125‧‧‧最終封裝及裝運步驟
2127‧‧‧可選檢測步驟
2129‧‧‧封裝與裝運步驟
2131‧‧‧後續塗層移除步驟
A1‧‧‧第一角度
A2‧‧‧第二角度
D‧‧‧距離
DOF‧‧‧聚焦深度
H‧‧‧高度
H1‧‧‧高度
H2‧‧‧高度
H3‧‧‧高度
L‧‧‧長度
T‧‧‧厚度
W‧‧‧寬度
W1‧‧‧寬度
W2‧‧‧寬度
當參照隨附圖式閱讀時,本揭示案之此等及其他特徵、態樣及優勢可進一步加以理解:
1 係玻璃處理設備之示意圖,此玻璃處理設備包括用以拉製玻璃帶的熔合下拉設備;
2 係沿 1 之線2 -2 的熔合下拉設備之橫截面透視圖;
3 係沿 1 之線3 -3 的示例性玻璃分離器之橫截面示意圖,其中雷射束曝露玻璃帶上的路徑之第一末端位置;
4 圖示曝露玻璃帶上的路徑之中間位置的雷射束;
5 圖示曝露玻璃帶上的路徑之第二末端位置的雷射束;
6 圖示安置雷射束之焦點深度內的玻璃帶上的路徑;
7 6 之玻璃帶之側視圖,圖示沿玻璃帶之路徑的變化功率密度;
8 圖示在路徑上的玻璃帶中產生缺陷;
9 圖示另一示例性方法,其中使路徑曝露於複數個雷射束中,每個雷射束沿路徑之相應區段產生熱應力;
10 係沿 1 之線10 -10 的熔合下拉設備之橫截面視圖,圖示位於下游位置處的玻璃分離器;
11 係沿 1 之線10 -10 的熔合下拉設備之橫截面視圖,圖示位於上游位置處的玻璃分離器;
12 係沿 10 11 之線12 -12 的熔合下拉設備之橫截面視圖;
13 11 所示之熔合下拉設備之示例性實施例;
14 係沿 13 之線14 -14 的熔合下拉設備之橫截面視圖;
15 係玻璃處理設備之洗滌站之示意性透視圖;
16 係玻璃處理設備之塗層塗覆站之示意性透視圖;
17 係玻璃處理設備之另一塗層塗覆站之示意性透視圖;
18 係沿 17 之線15 -15 的塗層塗覆站之示意性橫截面站視圖;
19 係玻璃處理設備之尺寸調整站之示意性透視圖;
20 係玻璃處理設備之精整站之示意性透視圖;
21 係沿 20 之線17 -17 的邊緣精整設備之局部示意性橫截面視圖;
22 係沿 21 之線18 -18 的邊緣精整設備之示意性橫截面視圖;
23 係玻璃處理設備之塗層移除站之局部示意性透視圖;
24 係玻璃處理設備之檢查站之局部示意性透視圖;以及
25 係圖示根據本揭示案之實施例的處理玻璃帶之示例性步驟的流程圖。
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100‧‧‧玻璃處理設備
104‧‧‧玻璃片
214a‧‧‧第一主表面
1401‧‧‧箭頭
1403‧‧‧塗佈腔室
1405‧‧‧分配埠
1501‧‧‧箭頭

Claims (55)

  1. 一種用於處理一玻璃片的設備,該設備包括: 一塗佈腔室,包含一分配埠,該分配埠經定向以在該玻璃片之至少一個主表面上分配一塗料。
  2. 如請求項1所述之設備,其中該分配埠包含一電漿沉積埠,該電漿沉積埠經定向以分配電漿來塗佈該玻璃片之該至少一個主表面。
  3. 一種用於處理一玻璃片的設備,該設備包含: 一塗佈腔室,包含第一複數個分配埠及第二複數個分配埠, 其中該第一複數個分配埠之各者經定向以在該玻璃片之一第一主表面上分配一塗料,以及 其中該第二複數個分配埠之各者經定向以在該玻璃片之一第二主表面上分配一塗料。
  4. 如請求項3所述之設備,其中該第一複數個分配埠之各者包含一電漿沉積埠,該電漿沉積埠經定向以分配電漿來塗佈該玻璃片之該第一主表面,且其中該第二複數個分配埠之各者包含一電漿沉積埠,該電漿沉積埠經定向以分配電漿來塗佈該玻璃片之該第二主表面。
  5. 一種處理一玻璃片的方法,該方法包含以下步驟: 提供一玻璃片至一塗佈腔室;以及 在該玻璃片之至少一個主表面上分配一塗料。
  6. 如請求項5所述之方法,其中該塗佈腔室包含一分配埠,可自該分配埠分配該塗料。
  7. 如請求項5所述之方法,其中該塗料在該玻璃片之該至少一個主表面上提供一保護層。
  8. 如請求項5所述之方法,其中藉由電漿沉積在該至少一個主表面上塗佈該塗料。
  9. 如請求項5所述之方法,其中該塗料包含一聚合物。
  10. 如請求項5至9中任一項所述之方法,其中該玻璃片呈一垂直定向。
  11. 一種處理一玻璃片的方法,該方法包含以下步驟: 提供一玻璃片至一塗佈腔室; 在該玻璃片之一第一主表面上分配一塗料;以及 在該玻璃片之一第二主表面上分配一塗料。
  12. 如請求項11所述之方法,其中該塗佈腔室包含第一複數個分配埠及第二複數個分配埠,可自該第一複數個分配埠在該玻璃片之該第一主表面上分配該塗料,且可自該第二複數個分配埠在該玻璃片之該第二主表面上分配該塗料。
  13. 如請求項11所述之方法,其中該塗料在該玻璃片之該第一主表面及該第二主表面上提供一保護層。
  14. 如請求項11所述之方法,其中藉由電漿沉積在該第一主表面及該第二主表面上塗佈該塗料。
  15. 如請求項11所述之方法,其中該塗料包含一聚合物。
  16. 如請求項11至15中任一項所述之方法,其中該玻璃片呈一垂直定向。
  17. 一種用於處理一玻璃片的設備,該設備包含: 一霧室,其包含一外罩; 一霧產生器,用以提供霧至該外罩;以及 該外罩中的一通道,霧可自該通道離開該外罩以接觸該玻璃片之至少一個主表面。
  18. 如請求項17所述之設備,進一步包含一輸送機,該輸送機界定沿該通道延伸的一行進路徑,其中該輸送機經定向以沿該行進路徑橫向移動該玻璃片。
  19. 如請求項17所述之設備,其中該通道包含一槽縫噴嘴,其中霧可經由該槽縫噴嘴離開該外罩以接觸該玻璃片之該至少一個主表面。
  20. 如請求項19所述之設備,其中該槽縫噴嘴包含沿該通道間隔分離的複數個伸長孔隙。
  21. 如請求項17所述之設備,其中該通道包含一擴散器噴嘴,其中霧可經由該擴散器噴嘴離開該外罩以接觸該玻璃片之該至少一個主表面。
  22. 如請求項21所述之設備,其中該擴散器噴嘴包含複數個孔隙,可穿過該等孔隙傳遞霧。
  23. 如請求項17所述之設備,其中該霧室包含一入口,該入口界定自該霧室之一外部至該霧室之一內部延伸的一入口路徑,且其中該入口經定向以接收該玻璃片以沿自該霧室之該外部至該霧室之該內部的該入口路徑傳遞。
  24. 如請求項23所述之設備,進一步包含選擇性阻擋該入口的一門。
  25. 一種用於處理一玻璃片的設備,該設備包含: 一霧室,其包含一第一外罩及一第二外罩; 一霧產生器,用以提供霧至該第一外罩及該第二外罩; 該第一外罩中的一第一通道及該第二外罩中的一第二通道,霧可自該第一通道離開該第一外罩以接觸該玻璃片之一第一主表面,且霧可自該第二通道離開該第二外罩以接觸該玻璃片之一第二主表面。
  26. 如請求項25所述之設備,其中該第一通道面向該第二通道。
  27. 如請求項26所述之設備,其中該第一通道與該第二通道間隔一預定距離,並且其中該預定距離界定該玻璃片的一行進路徑。
  28. 如請求項27所述之設備,進一步包含一輸送機,該輸送機經定向以沿該行進路徑橫向移動該玻璃片。
  29. 如請求項25所述之設備,其中該第一通道包含一第一槽縫噴嘴,其中霧可經由該第一槽縫噴嘴離開該第一外罩以接觸該玻璃片之該第一主表面,且該第二通道包含一第二槽縫噴嘴,其中霧可經由該第二槽縫噴嘴離開該第二外罩以接觸該玻璃片之該第二主表面。
  30. 如請求項29所述之設備,其中該第一槽縫噴嘴及該第二槽縫噴嘴之各者包含沿該第一通道及該第二通道間隔分離的複數個伸長孔隙。
  31. 如請求項25所述之設備,其中該第一通道包含一第一擴散器噴嘴,其中霧可經由該第一擴散器噴嘴離開該第一外罩以接觸該玻璃片之該第一主表面,並且該第二通道包含一第二擴散器噴嘴,其中霧可經由該第二擴散器噴嘴離開該第二外罩以接觸該玻璃片之該第二主表面。
  32. 如請求項31所述之設備,其中該第一擴散器噴嘴及該第二擴散器噴嘴之各者包含複數個孔隙,可穿過該等孔隙傳遞霧。
  33. 如請求項25所述之設備,其中該霧室包含一入口,該入口界定自該霧室之一外部至該霧室之一內部延伸的一入口路徑,且其中該入口經定向以接收該玻璃片沿自該霧室之該外部至該霧室之該內部的該入口路徑傳遞。
  34. 如請求項33所述之設備,進一步包含選擇性阻擋該入口的一入口門。
  35. 如請求項33所述之設備,其中該第一通道面向該第二通道,並且其中該第一通道與該第二通道間隔一預定距離,且其中該預定距離界定該玻璃片的一行進路徑。
  36. 如請求項33所述之設備,其中該霧室包含一出口,該出口界定自該霧室之該內部延伸至該霧室之該外部的一出口路徑,且其中該出口經定向以接收該玻璃片沿自該霧室之該內部至該霧室之該外部的該出口路徑移動。
  37. 如請求項36所述之設備,進一步包含選擇性阻擋該出口的一出口門。
  38. 如請求項36所述之設備,其中該第一通道面向該第二通道,並且其中該第一通道與該第二通道間隔一預定距離,且其中該預定距離界定自該入口至該出口延伸的該玻璃片的一行進路徑。
  39. 如請求項38所述之設備,進一步包含選擇性阻擋該入口的一入口門及選擇性阻擋該出口的一出口門。
  40. 一種處理一玻璃片的方法,該方法包含以下步驟: 提供一玻璃片至一霧室; 提供霧至該霧室之一外罩;以及 藉由將該霧自該外罩傳遞穿過該外罩中的一通道使該玻璃片之至少一個主表面與該霧接觸。
  41. 如請求項40所述之方法,進一步包含以下步驟: 沿著沿該通道延伸的一行進路徑輸送該玻璃片。
  42. 如請求項40所述之方法,其中該通道包含一槽縫噴嘴,該槽縫噴嘴包含一伸長孔隙,且其中接觸該玻璃片之該至少一個主表面之步驟包含以下步驟:將該霧自該外罩傳遞穿過該槽縫噴嘴之該伸長孔隙。
  43. 如請求項40所述之方法,其中該通道包含一擴散器噴嘴,該擴散器噴嘴包含複數個孔隙,且其中接觸該玻璃片之該至少一個主表面之步驟包含以下步驟:將該霧自該外罩傳遞穿過該擴散器噴嘴之該複數個孔隙。
  44. 如請求項40所述之方法,進一步包含以下步驟:沿自該霧室之一外部至該霧室之一內部的一入口路徑橫向移動該玻璃片。
  45. 如請求項44所述之方法,進一步包含以下步驟:打開選擇性阻擋該入口的一門;沿自該霧室之一外部至該霧室之一內部的一入口路徑橫向移動該玻璃片;以及隨後關閉該門以阻擋該入口。
  46. 如請求項40至45中任一項所述之方法,其中該玻璃片呈一垂直定向。
  47. 一種處理一玻璃片的方法,該方法包含以下步驟: 提供一玻璃片至一霧室; 提供霧至該霧室之一第一外罩及該霧室之一第二外罩; 藉由將該霧自該第一外罩傳遞穿過該第一外罩中的一第一通道使該玻璃片之一第一主表面與該霧接觸;以及 藉由將該霧自該第二外罩傳遞穿過該第二外罩中的一第二通道使該玻璃片之一第二主表面與該霧接觸。
  48. 如請求項47所述之方法,進一步包含以下步驟: 沿在該第一通道與該第二通道之間沿該第一通道及該第二通道橫向延伸的一行進路徑輸送該玻璃片。
  49. 如請求項48所述之方法,其中該第一通道面向該第二通道,且其中該第一通道與該第二通道間隔一預定距離。
  50. 如請求項47所述之方法,其中該第一通道包含一第一槽縫噴嘴,該第一槽縫噴嘴包含一第一伸長孔隙,且該第二通道包含一第二槽縫噴嘴,該第二槽縫噴嘴包含一第二伸長孔隙,其中接觸該玻璃片之該第一主表面之步驟包含以下步驟:將該霧自該第一外罩傳遞穿過該第一槽縫噴嘴之該第一伸長孔隙,且其中接觸該玻璃片之該第二主表面之步驟包含以下步驟:將該霧自該第二外罩傳遞穿過該第二槽縫噴嘴之該第二伸長孔隙。
  51. 如請求項50所述之方法,其中該第一通道進一步包含一第一擴散器噴嘴,該第一擴散器噴嘴包含第一複數個孔隙,且該第二通道進一步包含一第二擴散器噴嘴,該第二擴散器噴嘴包含第二複數個孔隙,且其中接觸該玻璃片之該第一主表面之步驟包含以下步驟:將該霧自該第一外罩傳遞穿過該第一擴散器噴嘴之該第一複數個孔隙;且接觸該玻璃片之該第二主表面之步驟包含以下步驟:將該霧自該第二外罩傳遞穿過該第二擴散器噴嘴之該第二複數個孔隙。
  52. 如請求項47所述之方法,進一步包含以下步驟:沿自該霧室之一外部至該霧室之一內部的一入口路徑橫向移動該玻璃片。
  53. 如請求項52所述之方法,進一步包含以下步驟:沿自該霧室之該內部至該霧室之該外部的一出口路徑橫向移動該玻璃片。
  54. 如請求項53所述之方法,進一步包含以下步驟:打開選擇性阻擋該霧室之該入口的一入口門;沿自該霧室之該外部至該霧室之該內部的該入口路徑橫向移動該玻璃片;以及隨後關閉該入口門以阻擋該入口;打開選擇性阻擋該霧室之該出口的一出口門;沿自該霧室之該內部至該霧室之該外部的該出口路徑橫向移動該玻璃片;以及隨後關閉該出口門以阻擋該出口。
  55. 如請求項47至54中任一項所述之方法,其中該玻璃片呈一垂直定向。
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110650925A (zh) * 2017-04-24 2020-01-03 康宁股份有限公司 熔合拉制设备及制造玻璃带的方法
DE102017115397A1 (de) * 2017-07-10 2019-01-10 Schott Schweiz Ag Heißformgebungswerkzeug für die Herstellung von Glascontainern
WO2019195130A1 (en) * 2018-04-02 2019-10-10 Corning Incorporated Apparatus and methods of processing a glass sheet
EP3838852A4 (en) * 2018-08-13 2022-06-01 Agc Inc. PLATE GLASS MAKING APPARATUS AND MOLDING FOR USE IN PLATE GLASS MAKING DEVICE
DE102019129036A1 (de) * 2019-10-28 2021-04-29 Schott Ag Verfahren zur Herstellung von Glasscheiben und verfahrensgemäß hergestellte Glasscheibe sowie deren Verwendung
TWI765192B (zh) * 2019-11-19 2022-05-21 大量科技股份有限公司 化學機械研磨裝置之研磨墊檢測方法與研磨墊檢測裝置
KR20220111312A (ko) * 2019-12-02 2022-08-09 코닝 인코포레이티드 유리 리본의 제조 방법들 및 장치
WO2021231124A1 (en) * 2020-05-13 2021-11-18 Corning Incorporated Glass molding apparatus including adjustable cooling nozzles and methods of using the same
CN116858750B (zh) * 2023-09-05 2024-01-23 无锡双龙艺术装潢有限公司 一种用于室内装潢材料的抗水性能检测装置

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2675646A (en) * 1954-04-20 Continuous sheet glass drawing and coating apparatus
GB449602A (en) * 1934-10-03 1936-07-03 Harold Perry Improved method of, and means for, tempering glass
US2703949A (en) * 1949-11-10 1955-03-15 Libbey Owens Ford Glass Co Method of producing filmed and strengthened glass sheets
LU56873A1 (zh) * 1968-09-12 1970-03-13
GB1307216A (en) 1969-04-23 1973-02-14 Pilkington Brothers Ltd Treating glass
US3725024A (en) * 1971-01-21 1973-04-03 Ppg Industries Inc Tempering glass sheets with liquid flows
FR2531880A1 (fr) 1982-08-18 1984-02-24 Commissariat Energie Atomique Procede de fabrication de couches minces
GB2142621B (en) 1983-06-17 1987-03-18 Glaverbel Coating hot glass with metals or metal compounds especially oxides
WO1989003587A1 (en) 1987-10-14 1989-04-20 The Furukawa Electric Co., Ltd. Method and apparatus for thin film formation by plasma cvd
US4871105A (en) 1988-04-06 1989-10-03 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories Method and apparatus for applying flux to a substrate
US5547129A (en) * 1994-09-30 1996-08-20 Ppg Industries, Inc. Low profile spray assembly
US5720813A (en) * 1995-06-07 1998-02-24 Eamon P. McDonald Thin sheet handling system
US5882368A (en) 1997-02-07 1999-03-16 Vidrio Piiano De Mexico, S.A. De C.V. Method for coating glass substrates by ultrasonic nebulization of solutions
JP2003532568A (ja) * 2000-05-10 2003-11-05 エヌ・ケー・ティー リサーチ アクティーゼルスカブ 無機基材の表面を有機物質で被覆する方法及び得られた生成物
US6397776B1 (en) 2001-06-11 2002-06-04 General Electric Company Apparatus for large area chemical vapor deposition using multiple expanding thermal plasma generators
US7411352B2 (en) * 2002-09-19 2008-08-12 Applied Process Technologies, Inc. Dual plasma beam sources and method
US7410528B2 (en) 2004-11-30 2008-08-12 Corning Incorporated Method and system for testing the integrity of green plugged honeycomb structure
FR2887872B1 (fr) * 2005-07-01 2008-09-05 Saint Gobain Procede et installation pour le traitement d'un substrat verrier chaud par un plasma a pression atmospherique
FI121990B (fi) 2007-12-20 2011-07-15 Beneq Oy Laite sumun ja hiukkasten tuottamiseksi
FI20080264L (fi) 2008-04-03 2009-10-04 Beneq Oy Pinnoitusmenetelmä ja -laite
EP2145979A1 (fr) * 2008-07-16 2010-01-20 AGC Flat Glass Europe SA Procédé et installation pour le dépôt de couches sur les deux faces d'un substrat de façon simultanée
FI20095651A0 (fi) 2009-06-10 2009-06-10 Beneq Oy Menetelmä ja laitteisto lasisubstraatin pinnoittamiseksi
FI9160U1 (fi) 2010-01-04 2011-04-14 Beneq Oy Pinnoituslaite
FI123645B (fi) 2010-04-20 2013-08-30 Beneq Oy Aerosoliavusteinen kaasukasvatusjärjestelmä
FI20115236A0 (fi) 2011-03-09 2011-03-09 Beneq Oy Pinnoitusmenetelmä, laite ja käyttö
BE1019991A3 (fr) * 2011-05-25 2013-03-05 Agc Glass Europe Procede de depot de couches sur un substrat verrier par pecvd a faible pression.
KR101504532B1 (ko) 2012-03-09 2015-03-24 주식회사 윈텔 플라즈마 처리 방법 및 기판 처리 장치
BE1024010B1 (fr) * 2012-09-21 2017-10-27 Agc Glass Europe Bombage de vitrages
JP2014117693A (ja) 2012-12-19 2014-06-30 Daikin Ind Ltd 成膜装置
FI20135903L (fi) 2013-09-09 2015-03-10 Beneq Oy Laite ja menetelmä aerosolin valmistamiseksi ja kohdistinosa
TW201620805A (zh) 2014-10-21 2016-06-16 康寧公司 玻璃片處理設備及方法
US10017411B2 (en) 2014-11-19 2018-07-10 Corning Incorporated Methods of separating a glass web
JP6413147B2 (ja) 2014-12-19 2018-10-31 三井金属アクト株式会社 車両用ドアラッチ装置

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