TW201706527A - 密封構件 - Google Patents

Abstract

本發明是提供一種密封構件。本發明之密封構件，特徵在於包含本體部、與冷卻部，且冷卻部包含可讓冷媒在前述本體部內部流動的流路。因此有提升使用極限溫度之效果。

Description

密封構件 發明領域

本發明是關於密封構件，更詳細地說，是關於令冷媒於密封構件的內部循環而提升可用溫度的密封構件。

發明背景

基板處理裝置是在製造平板顯示器時使用，大致區分為蒸氣沈積(Vapor Deposition)裝置與退火(Annealing)裝置。

蒸氣沈積裝置是使透明導電層、絕緣層、金屬層或矽層形成的裝置，該等層構成平板顯示器的核心結構，該裝置計有如低壓化學氣相沈積(LPCVD,Low Pressure Chemical Vapor Deposition)或電漿加強化學蒸氣沈積(PECVD,Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition)之化學蒸氣沈積裝置，以及如濺鍍(Sputtering)之物理蒸氣沈積裝置。

而退火裝置是在基板上已蒸氣沈積了膜之後，使蒸氣沈積膜的特性提升之裝置，是一種進行熱處理以使蒸氣沈積膜結晶化或相變化的裝置。

圖1是表示習知的基板處理裝置。圖1(a)是習知基板處理裝置的概略側剖面圖，圖1(b)是示於圖1(a)之密封構件10的斜視圖。

作為舉例，習知基板處理裝置包含本體1，本體1的內部中形成腔室3，腔室3是導入基板並處理的空間。本體1的前表面上，形成一進出口5並設置一門7，該進出口係與腔室3連通並讓基板進出，而該門係用於關閉進出口5。基板處理裝置中，為了形成並保持腔室3內部的環境，必須設置可將進出口5與腔室3之間密封的密封構件10。藉此，也有在進出口5外側之本體1的前表面部位上，設置可利用門7進行壓接而使腔室3密封的密封構件10。參照圖1(b)，密封構件10其剖面形狀可形成為近乎圓形。

適用於前述基板處理裝置的密封構件10是Viton(FPM)^TM等幾乎由橡膠材質構成。因此，一般是在比較低溫的15~200℃的環境下使用，在高溫的環境中，必須使用由非橡膠材質的KALREZ(FFPM)^TM、PERFLUORO(FFPM)等特殊原料構成的密封構件10，但這些是高價的，且以特殊原料構成的密封構件10也有使用環境限制在300℃左右的問題。在比這更高溫的環境中，會有密封構件10因彎曲、分解、破裂等原因而變形產生空隙的問題。如此一來，會因為異物流入腔室3，或腔室3的熱洩漏至外部，而有基板處理步驟的可靠度下降的缺點。

與密封構件相關的先前技術揭示於專利文獻1等。

與基板處理裝置相關的先前技術揭示於專利文獻2等。

先前技術文獻 專利文獻

專利文獻1：大韓民國公開專利公報第10-2012-0044227號

專利文獻2：大韓民國公開專利公報第10-2010-0008722號

發明概要

本發明是為了解決前述習知技術的各問題點而研究出之發明，其目的在於提供一種令冷媒在密封構件內部循環而提升使用溫度的密封構件。

又，本發明之目的在於提供一種以預防密封構件變形來防止密封構件的部位產生空隙，從而提升基板處理步驟之可靠性的密封構件。

為了達成前述目的，本發明的一實施形態之密封構件的特徵為包含本體部與冷卻部，且該冷卻部包含可供冷媒在前述本體部內部流動的流路。

可包含第1管及第2管，其從前述本體部的至少一側連通前述冷卻部。

可透過前述第1管向前述冷卻部供給前述冷媒， 透過前述第2管排出前述冷卻部的前述冷媒。

前述密封構件的前述本體部的剖面形狀可以是圓形或四角形。

根據如上述而構成的本發明，可令冷媒於密封構件的內部循環，而提升使用溫度。

又，本發明可藉預防密封構件的變形來防止密封構件的部位產生空隙，從而提升基板處理步驟的可靠性。

10、100、100'‧‧‧密封構件

1‧‧‧本體

3‧‧‧腔室

5‧‧‧進出口

7‧‧‧門

110、110'‧‧‧本體部

111、111'‧‧‧冷卻部

113、113'‧‧‧側孔

115、115'‧‧‧遮蔽膜

120、120'‧‧‧第1管

130、130'‧‧‧第2管

圖1(a)是習知基板處理裝置的概略側剖面圖，圖1(b)是示於圖1(a)之密封構件的立體圖。

圖2是本發明的一實施形態中的密封構件的斜視圖及橫剖面放大圖。

圖3是本發明的另一個實施形態中的密封構件的斜視圖及橫剖面放大圖。

用以實施發明之形態

後述有關本發明之詳細說明是參照隨附之圖式，其係以圖表示本發明實施之特定實施形態作為例示。該等實施形態係以讓習於此藝者足以實施本發明的方式詳細說明。本發明的各種實施形態，雖互相不同，但務必了解並沒有互相排他的必要。例如，本文記載之特定形狀、構造及特性，在與一實施形態相關而在不脫離本發明的精神及範圍下，可作為其它實施形態而具體實現。又，務必了解 各別揭示的實施形態內的個別構成要素的位置或配置，可在不脫離本發明的精神及範圍下變更。因此，後述的詳細說明並沒有意圖作為限定的意思，本發明的範圍，若適當地說，是僅由隨附的請求項連同與其請求項所主張者均等的全部範圍所限定。圖式中類似的參照符號是在各種觀點中指示同樣或類似的機能，有時長度及面積、厚度等及其形態也會為了方便而誇張表現。

在說明本發明之時，必須理解基板的處理是作為包含下述步驟之概念：加熱及冷卻基板的步驟、令既定的膜蒸氣沈積在基板上用的所有步驟、將已蒸氣沈積在基板上的既定的膜退火、結晶化或相變化用的全部熱處理步驟等。

然後，要闡明的是，本發明的密封構件不需限定使用於基板處理裝置，而是可適用於任何需要密封的裝置上。

以下參照隨附之圖式，詳細說明本發明的實施形態中的基板加工裝置。

圖2是本發明的一實施形態中的密封構件100的斜視圖[圖2(a)]及橫剖面放大圖[圖2(b)]。

參照圖2，第1形態中的密封構件100可包含本體部110及冷卻部111。

本體部110是構成密封構件100的主體。本體部110是密封構件100的外皮，而且介於基板處理裝置等的進出口與開關進出口的門之間並可進行實質上密封。本體部 110是橡膠，該橡膠是過去密封構件10的材質，含有可在15~200℃的環境下使用的Viton(FPM)^TM等，也有包含可用於260℃的環境的TEFLON^TM等作為特殊原料的情況。

冷卻部111可提供讓冷媒在本體部110的內部流動的流路。在冷卻部111中，液體或氣體狀的冷媒流動，而冷媒的冷空氣可傳達至本體部110。因此在高溫的環境下，也能大幅減少密封構件100的本體部110的變形的可能性。

圖2(b)顯示冷卻部111是在本體部110的內部形成為中空形態，但冷卻部111也可形成為將管插入本體部110的內部之形態。但，本說明書中是假定中空形態的冷卻部111來說明。本體部110與冷卻部111的剖面形狀可為圓形。

冷卻部111也可相對於本體部110全體而形成，但為使其與外部的冷媒供給機構(圖未示)及冷媒排出機構(圖未示)的流動順暢，可於部分形成遮蔽膜115。包夾著遮蔽膜115，可於一側引入冷媒讓冷媒朝遮蔽膜115對向的方向(P1)流動，而在另一側冷媒從遮蔽膜115對向的方向(P2)流往外部排出。

遮蔽膜115具有與本體部110相同的材質，且與本體部110一體成形為佳。即，並非另外將遮蔽膜115插入本體部110，理想的是本體部110以包含遮蔽膜115的方式同時形成中空狀態的冷卻部111。當然，也可以不形成遮蔽膜115，而相對於本體部110全體形成冷卻部111。

為了對冷卻部111供給、排出冷媒，可包含從本體部110之至少一側連通至冷卻部111的第1管120及第2管 130。

第1管120的一端部是通過邊孔113而連通冷卻部111，另一端部是與外部的冷媒供給機構(圖未示)連結而可供給冷媒。

第2管130的一端部是通過邊孔113而連通冷卻部111，另一端部是與外部的冷媒排出機構(圖未示)連結而可將循環冷卻部111的冷媒排除至外部。

如圖2所示，第1管120與第2管130是構成為形成在冷卻部111的同一側上，從第1管120供給的冷媒循環過本體部110全體之後會從第2管130排出；也可構成為形成在冷卻部111的相反側上，從第1管120供給的冷媒分成冷媒部111的左右兩邊而循環過本體部110全體之後，從第2管130排出。

製造示於圖2的密封構件100的方法如下所述。首先，準備內部中空或內部包含有管子之橡膠等材質。接下來，用接合劑將兩側接合而連接成圓形之後，將第1管120與第2管130從側面插入。然後，封妥第1及第2管120、130與本體部110之間即可完成密封構件100的製造。

圖3是本發明的另一個實施形態中的密封構件100'的斜視圖[圖3(a)]及橫剖面放大圖[圖3(b)]。圖3省略如圖2之構成的說明，僅說明差異點。

圖3中，密封構件100'係本體部110'與冷卻部111'的剖面形狀為四角形。製造密封構件100'的方法如下所述。首先以塑膠材料形成包含冷卻部111'的本體部110'。接下來 使用熱接合將全體形狀構成為四角形，並在側面插入第1管120'與第2管130'。然後，封妥第1及第2管120'、130'與本體部110'之間即可完成密封構件100'的製造。

圖2的密封構件100是以橡膠材質構成時，不易將剖面形狀形成為工整的四角形，但另一方面，圖3的密封構件100'是以塑膠材質構成而使剖面形狀形成四角形，從而有能使用扁平的密封構件100'的優點。

如前述，本發明的密封構件100是藉由形成能供冷媒在本體部110內部移動的冷卻部111，而可將冷媒的冷空氣傳達至本體部110，遂而有在比本體部110之材質可適用之固定溫度更高的溫度下亦可使用的效果。從而，可適當地管理密封構件100的溫度而提升耐久性，且藉預防密封構件100的變形來防止密封構件100的部位產生空隙，遂而有提升基板處理步驟之可靠性的效果。

本發明如前述般舉了較佳的實施形態並圖示說明，但並不限定於前述實施形態，在不脫離本發明的精神的範圍內習於此藝者可做出各種變化或變更。這些變化例及變更例必須視為屬於本發明與申請專利範圍的範圍內。

產業上之可利用性

本發明是可應用於密封構件相關的領域。

100‧‧‧密封構件

110‧‧‧本體部

111‧‧‧冷卻部

113‧‧‧側孔

115‧‧‧遮蔽膜

120‧‧‧第1管

130‧‧‧第2管

Claims (4)

1. 一種密封構件，特徵在於包含：本體部，與冷卻部，其包含流路，讓冷媒在前述本體部內部流動。
2. 如請求項1之密封構件，包含從前述本體部的至少一側連通前述冷卻部的第1管及第2管。
3. 如請求項2之密封構件，其中，透過前述第1管向前述冷卻部供給前述冷媒，透過前述第2管排出前述冷卻部的前述冷媒。
4. 如請求項1之密封構件，其中，前述密封構件的前述本體部的剖面形狀是圓形或四角形。