TW201638278A - 壓敏性黏著劑組成物 - Google Patents

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Abstract

本發明提出一種壓敏性黏著劑組成物，其在高溫或濕度條件下具有極佳的耐久性且展現對於光學膜之高度緊密黏著性，藉此形成具有優良可切割性和再加工性的壓敏性黏著劑。亦提出壓敏性黏著劑組成物，其能夠形成壓敏性黏著劑，當將此壓敏性黏著劑施用於薄基板(如極薄的玻璃基板)時能夠有效地抑制彎曲、使得穩定物理性質所需時間最小化、及防止所確保的物理性質隨時間而退化，亦提出使用此壓敏性黏著劑組成物所形成之壓敏性黏著性光學組件、光學積層板、和顯示裝置。

Description

壓敏性黏著劑組成物
本申請案係關於壓敏性黏著劑組成物、光學積層板、偏光板、和顯示裝置。
顯示裝置通常使用一或多種壓敏性黏著劑實施。例如，液晶顯示器(LCD)包括液晶面板作為顯示面板，和光學膜。此處，壓敏性黏著劑或黏著劑可用於將光學膜接合至液晶面板，或使得光學膜彼此層合。光學膜包括偏光膜、阻滯膜、或亮光增進膜，且壓敏性黏著劑或黏著劑可用以層合光學膜或使光學膜接合至黏著物(如液晶面板)。
用於光學膜之一或多種壓敏性黏著劑具有主要的所欲物理性質，如黏合性、黏著性、再加工性、低漏光性和應力紓緩性。專利文件1至3提出壓敏性黏著劑以達成該物理性質。
近年來，使用具有極小厚度的基板之面板常被用來作為顯示面板。此情況中，施用至此面板的壓敏性 黏著劑或黏著劑對於防止面板在黏著之後彎曲有迫切的需求。用於光學膜之壓敏性黏著劑或黏著劑基本上亦要求在高溫度和/或濕度條件下之有保障的耐久性，且亦要求適當的抗靜電性。
用於光學膜之一或多種壓敏性黏著劑亦要求對於光學膜的緊密黏著。當對於光學膜的緊密黏著性不足時，一或多種壓敏性黏著劑會於膜切割時滲漏。此滲漏會造成其他光學膜或顯示面板的污染，且也難擔保黏著的光學膜的邊緣區域有足夠的黏著性。此外，須再加工時，即，因為未充分緊密黏著而須再度剝離已接合的光學膜時，壓敏性黏著劑會留在黏著區域上，造成各種問題。
[先前技術文件] [專利文件]
專利文件1：韓國註冊專利案第1023839號
專利文件2：韓國註冊專利案第1171976號
專利文件3：韓國註冊專利案第1171977號
本申請案係關於提出一種壓敏性黏著劑組成物，其在高溫度或濕度條件下具有極佳的耐久性且展現對於光學膜之的高度緊密黏著性，藉此形成具有優良可切割性和再加工性的壓敏性黏著性光學組件。本申請案亦係關於提出一種壓敏性黏著劑組成物，其能夠形成壓敏性黏著 劑，當此壓敏性黏著劑施用於薄基板(如極薄玻璃基板)時能夠有效地抑制彎曲、使得安定物理性質所需時間最小化、及防止所擔保的物理性質隨時間而退化。此外，本申請案係關於使用此壓敏性黏著劑組成物所形成之壓敏性黏著性光學組件、光學積層板、和顯示裝置。
本申請案一方面提出一種用於說明的壓敏性黏著劑組成物，其包括(A)嵌段共聚物作為一個組份。此說明書中，“嵌段共聚物”是指包括不同聚合單體之嵌段的共聚物。
該嵌段共聚物可包括玻璃轉變溫度為50℃或更高的第一嵌段和玻璃轉變溫度為-10℃或更低的第二嵌段。此說明書中，嵌段共聚物中之“預定嵌段的玻璃轉變溫度”是指自用於形成此嵌段之單體計算的玻璃轉變溫度。根據一個用於說明的具體實施例，該第一嵌段的玻璃轉變溫度可高於或等於60℃，65℃，70℃，75℃，80℃，85℃，90℃，或95℃。亦未特別限制該第一嵌段的玻璃轉變溫度的上限，但該第一嵌段的玻璃轉變溫度可以，例如，低於或等於約150℃，140℃，130℃，或120℃。如此，該第二嵌段的玻璃轉變溫度亦可低於或等於約-20℃，-30℃，-35℃，或-40℃。亦未特別限制該第二嵌段的玻璃轉變溫度的下限，但該第二嵌段的玻璃轉變溫度可以，例如，高於或等於約-80℃，-70℃，-60℃，或-55 ℃。例如，包括至少兩個嵌段的該嵌段共聚物可在壓敏性黏著劑中形成細微相分離的結構。此嵌段共聚物展現隨溫度變化之適當的黏合性和壓力紓緩性，並因此可用以形成壓敏性黏著劑，該壓敏性黏著劑具有光學膜所需物理性質(如耐久性和可靠性、防止漏光性和再加工性)的優良維持特性。
該嵌段共聚物中，該第一嵌段可以，例如，具有2,500至150,000的數量平均分子量(Mn)。例如，該第一嵌段的數量平均分子量是指藉由僅聚合用於形成第一嵌段的單體而製得之聚合物的數量平均分子量或是指該第一嵌段作為大引發劑時，大引發劑的數量平均分子量。此說明書中所示數量平均分子量可以，例如，藉實例中所示方法，使用凝膠穿透層析法(GPC)測得。根據另一用於說明的具體實施例，該第一嵌段的數量平均分子量可低於或等於約100,000，約90,000，約80,000，約70,000，約60,000，約50,000，約40,000，或約35,000。根據另一用於說明的另一具體實施例，該第一嵌段的數量平均分子量亦可大於或等於約5,000，約10,000，約15,000，約20,000，或約25,000。
該嵌段共聚物可具有範圍由50,000至300,000的數量平均分子量。根據另一用於說明的具體實施例，該嵌段共聚物的數量平均分子量可大於或等於90,000，約100,000，約150,000，或約200,000。根據另一用於說明的具體實施例，該嵌段共聚物的數量平均分子 量亦可低於或等於約250,000。該嵌段共聚物可具有範圍由約1.0至3.5或約1.4至2.0的多分散指數(PDI；Mw/Mn)，即，重量平均分子量(Mw)對數量平均分子量(Mn)的比(Mw/Mn)。藉由調整上述分子量特性，可提供具有極佳的物理性質之壓敏性黏著劑組成物或壓敏性黏著劑。
根據一個用於說明的具體實施例，該嵌段共聚物可為含有可交聯的官能基之可交聯的共聚物。該可交聯的官能基的例子可包括羥基、羧基、異氰酸酯基、或環氧丙基。例如，羥基可用來作為可交聯的官能基。
當嵌段共聚物含有可交聯的官能基時，該官能基可以，例如，含括於該第一或第二嵌段中，或含括於第一嵌段和第二嵌段二者中。根據一個用於說明的具體實施例，該可交聯的官能基可含於具有低玻璃轉變溫度的該第二嵌段中。此情況中，該第一嵌段不含有可交聯的官能基，但該第二嵌段含有可交聯的官能基。當可交聯的官能基含於該第二嵌段中時，該嵌段共聚物可展現隨溫度變化之適當的黏合性和壓力紓緩性，並因此而可用以形成壓敏性黏著劑，該壓敏性黏著劑具有光學膜所需物理性質(如耐久性和可靠性、防止漏光性和再加工性)的優良維持特性。
該嵌段共聚物中，未特別限制用以形成該第一嵌段和該第二嵌段之單體的類型，只要藉由合併各單體可擔保玻璃轉變溫度即可。
根據一個用於說明的具體實施例，該第一嵌 段可包括自(甲基)丙烯酸酯單體衍生的聚合單元。此說明書中，含括於聚合物或嵌段中之作為聚合單元的單體是指進行聚合反應以形成主鏈(例如，聚合物或嵌段的主鏈或側鏈)的單體。例如，(甲基)丙烯酸烷酯可作為(甲基)丙烯酸酯單體。根據一個用於說明的具體實施例，考慮控制黏合性、玻璃轉變溫度、和壓敏性黏著性，可以使用含有具1至20個碳原子，1至16個碳原子，1至12個碳原子，1至8個碳原子，或1至4個碳原子，的烷基之(甲基)丙烯酸烷酯。此單體的例子可包括(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基丁酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、和(甲基)丙烯酸月桂酯。可自其中選擇和使用一或多種單體以擔保玻璃轉變溫度。考慮控制玻璃轉變溫度等的容易度，該單體中，(甲基)丙烯酸酯單體例如，含有具1至20個碳原子，1至16個碳原子，1至12個碳原子，1至8個碳原子，或1至4個碳原子，的烷基之(甲基)丙烯酸烷酯可作為用以形成該第一嵌段的單體，但本申請案未特別限於此。
該嵌段共聚物的該第二嵌段可以，例如，包括自90重量份至99.9重量份的(甲基)丙烯酸酯單體和0.1重量份至10重量份之含有可交聯的官能基之可共聚的單 體衍生的聚合單元。本說明書中，單位“重量份”是指各組份之間的重量比。例如，上述“該第二嵌段包括自90重量份至99.9重量份的(甲基)丙烯酸酯單體和0.1重量份至10重量份之含有可交聯的官能基之可共聚的單體衍生的聚合單元”是指(甲基)丙烯酸酯單體(A)和含有可交聯的官能基的可共聚單體(B)之間的重量比(A：B)，此二者用以形成該第二嵌段的聚合單元，可以在90至99.9：0.1至10的範圍內。
在可含括於該第一嵌段中之單體中，可選擇和使用可與可共聚單體共聚以最終擔保玻璃轉變溫度在此溫度範圍內者作為形成該第二嵌段的(甲基)丙烯酸酯單體。上述單體中，考慮控制玻璃轉變溫度等的容易度，可以使用含有具1至20個碳原子，1至16個碳原子，1至12個碳原子，1至8個碳原子，或1至4個碳原子，的烷基之丙烯酸烷酯，作為形成該第二嵌段的(甲基)丙烯酸酯單體，但本申請案未特別限於此。
例如，具有可與嵌段共聚物中含括之另一單體共聚的點之單體(如，(甲基)丙烯酸酯單體)，和含有上述可交聯的官能基(例如，羥基)的單體可作為含有可交聯的官能基之可共聚的單體。在製造壓敏性黏著劑的領域中，含有上述可交聯的官能基之可共聚單體為相關技術習知者。所有的單體可用於聚合物。例如，可用於此處之含有羥基的可共聚單體可包括(甲基)丙烯酸羥烷酯，如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯 酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯或(甲基)丙烯酸8-羥辛酯，或(甲基)丙烯酸羥基烷二醇酯，如(甲基)丙烯酸2-羥基乙二醇酯或(甲基)丙烯酸2-羥基丙二醇酯之類，但本申請案不限於此。考慮與用於形成第二嵌段的其他單體之反應性或易於控制玻璃轉變溫度等，上述單體中，可以使用丙烯酸羥烷酯或丙烯酸羥基烷二醇酯，但本申請案不限於此。
例如，必要時，當需要共聚單體以控制玻璃轉變溫度時，該第一嵌段和/或該第二嵌段可進一步包括另一共聚單體。該第一嵌段和/或該第二嵌段亦可包括單體作為聚合單元。該共聚單體可包括含氮的單體，如(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-乙烯基吡咯烷酮、或N-乙烯基己內醯胺；含伸烷化氧基的單體，如烷氧基烷二醇(甲基)丙烯酸酯、烷氧基二烷二醇(甲基)丙烯酸酯、烷氧基三烷二醇(甲基)丙烯酸酯、烷氧基四烷二醇(甲基)丙烯酸酯、烷氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基烷二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基二烷二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基三烷二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基四烷二醇(甲基)丙烯酸酯、或苯氧基聚烷二醇(甲基)丙烯酸酯；以苯乙烯為底的單體，如苯乙烯或甲基苯乙烯；含環氧丙基的單體，如(甲基)丙烯酸環氧丙酯；或羧酸乙烯酯，如乙酸乙烯酯，但本申請案不限於此。必要時，一或多種適當類型的此共聚單體可經選擇及含括於該聚合物中。以各嵌段中之其他 單體總重計，此共聚單體可以，例如，以20重量份或更低，或0.1重量份至15重量份的含量含括於該嵌段共聚物中。
例如，該嵌段共聚物可包括5重量份至50重量份的該第一嵌段和50重量份至95重量份的該第二嵌段。藉由調整介於上述該第一嵌段和該第二嵌段之間的重量比，可提供具有極佳的物理性質之該壓敏性黏著劑組成物和該壓敏性黏著劑。根據另一用於說明的具體實施例，該嵌段共聚物包括5重量份至45重量份的該第一嵌段和55重量份至95重量份的該第二嵌段，或可包括5重量份至45重量份的該第一嵌段和60重量份至95重量份的該第二嵌段。
根據另一用於說明的具體實施例，該嵌段共聚物的該第二嵌段含量為約50重量%或更高，約55重量%或更高，約60重量%或更高，約65重量%或更高，約70重量%或更高，約75重量%或更高，或約80重量%或更高。該嵌段共聚物的該第一嵌段含量可為約99重量%或更低，約95重量%或更低。此情況中，以100重量份的該第一嵌段計，該第二嵌段含量可為約5至100重量份。以100重量份的該第一嵌段計，該第二嵌段含量可為約90重量份或更低，約80重量份或更低，約70重量份或更低，約60重量份或更低，約50重量份或更低，約40重量份或更低，約30重量份或更低，約20重量份或更低，或約15重量份或更低。
根據一個用於說明的具體實施例，該嵌段共聚物可為包括第一和第二嵌段的二嵌段共聚物，即，僅包括兩個嵌段(即，第一和第二嵌段)的二嵌段共聚物。使用該二嵌段共聚物可優良地維持壓敏性黏著劑的耐久性和可靠性、應力紓緩性和再加工性。
未特別限制製造該嵌段共聚物之方法，且可使用慣用方法製造該嵌段共聚物。該嵌段共聚物可以，例如，活性自由基聚合(LRP)方法加以聚合。該方法的例子可包括陰離子聚合法，其使用有機稀土金屬錯合物作為聚合反應引發劑或使用有機鹼金屬化合物作為聚合反應引發劑以合成嵌段共聚物，此在無機酸鹽(如鹼金屬或鹼土金屬鹽)存在下進行；陰離子聚合法，其使用有機鹼金屬化合物作為聚合反應引發劑以合成嵌段共聚物，此在有機鋁化合物存在下進行；原子轉移自由基聚合反應(ATRP)方法，此使用原子轉移自由基聚合劑作為聚合反應控制劑；藉電子轉移(ARGET)ATRP法再生的活化劑作為聚合反應控制劑以合成嵌段共聚物，此在生成電子的有機或無機還原劑存在下進行；引發劑用於連續活化劑再生(ICAR)ATRP方法；使用可逆性加成-裂片鏈轉移(RAFT)之聚合法，其使用無機還原劑或可逆性加成-裂片鏈轉移劑；或使用有機鉈化合物作為引發劑之方法。可自這些方法選擇及使用適當的方法。
該壓敏性黏著劑組成物可進一步包括(B)能夠使得該嵌段共聚物交聯的交聯劑作為額外組份。可以使用 含有至少兩個能夠與該嵌段共聚物中含括之可交聯的官能基反應之官能基的交聯劑作為交聯劑。此交聯劑的例子可包括異氰酸酯交聯劑、環氧基交聯劑、吖啶交聯劑或金屬鉗合物交聯劑。例如，當該嵌段共聚物(A)包括羥基作為可交聯的官能基時，基本上可以使用多官能性異氰酸酯化合物作為交聯劑。本申請案中，多官能性異氰酸酯化合物是指含有二或更多個異氰酸酯基(例如，約2至10，約2至9，約2至8，約2至7，約2至6，約2至5，或約2至4個異氰酸酯基)的化合物。
可作為交聯劑之多官能性異氰酸酯基的例子可以，例如，包括二異氰酸酯化合物，如甲苯二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、伸己基二異氰酸酯、異莰基二異氰酸酯、四甲基二甲苯基二異氰酸酯、或萘二異氰酸酯；或至少一種多元醇(選自二異氰酸酯化合物)反應而得的化合物，但本申請案不限於此。可用於此處之多元醇的例子可包括三羥甲基丙烷等。
其中，一或多種交聯劑可用於壓敏性黏著劑組成物中，但可使用的交聯劑不限於此。
該壓敏性黏著劑組成物中，以100重量份的該嵌段共聚物計，多官能性交聯劑含量可為，例如，0.01重量份至10重量份。根據另一用於說明的具體實施例，該交聯劑含量可為0.03重量份或更高，或0.05重量份或更高。根據另一用於說明的具體實施例，交聯劑含量亦可為8重量份或更低，6重量份或更低，4重量份或更低，2 重量份或更低，或1重量份或更低。在此含量範圍內，極佳地維持壓敏性黏著劑的凝膠比例、黏合性、黏著性和耐久性。
該壓敏性黏著劑組成物可進一步包括(C)多官能性環氧基化合物或多官能性吖啶化合物作為額外的組份。本申請案中，“多官能性環氧基化合物”是指含有二或更多個環氧基(例如，約2至10，約2至9，約2至8，約2至7，約2至6，約2至5，或約2至4個環氧基)的化合物，“多官能性吖啶化合物”是指含有二或更多個吖啶基(約2至10，約2至9，約2至8，約2至7，約2至6，約2至5，或約2至4個吖啶基)的化合物。由於該壓敏性黏著劑組成物進一步包括此化合物，所以所形成的壓敏性黏著劑對於組件(如光學膜)具有極佳的界面黏著性。
除非特別定義，否則本說明書中，“環氧基”是指自含有三員環原子的環狀醚或包括環狀醚的化合物衍生的單價殘基。環氧基的例子可包括環氧丙基、環氧烷基、環氧丙氧基烷基、或脂環狀環氧基。此處，脂環狀環氧基是自具有脂族烴環結構並具有兩個形成脂族烴環的碳原子亦用以形成環氧基的結構之化合物衍生的單價殘基。脂環狀環氧基的例子可包括具6至12個碳原子的脂環狀環氧基。例如，3,4-環氧基環己基乙基可作為脂環狀環氧基。“吖啶基”亦是指具有三員環原子的雜環狀官能基，即，含有一個胺基和兩個伸甲基橋之官能基或自該官能基衍生的衍生物。
特別地，組份(C)用以改良介於壓敏性黏著劑和光學膜之間的緊密黏著。例如，當壓敏性黏著劑形成於以下描述的光學膜(官能基，如羥基或羧基，引入其中)上時，因為組份(C)和光學膜上的官能基之間的各種化學或物理交互作用而增進光學膜和壓敏性黏著劑之間的緊密黏著。
組份(C)之多官能性環氧基化合物的例子可包括選自以下所組成之群組中之至少一者：乙二醇二環氧丙醚、三環氧丙醚、三羥甲基丙烷三環氧丙醚、N,N,N’,N’-四環氧丙基乙二胺、和甘油二環氧丙醚，且該多官能性吖啶化合物包含選自由以下所組成之群組中之至少一者：N,N’-甲苯-2,4-雙(1-吖啶羧醯胺)、N,N’-二苯基甲烷-4,4’-雙(1-吖啶羧醯胺)、三伸乙基三聚氰胺、雙異酞醯基-1-(2-甲基吖啶)、和三-1-吖啶基膦氧化物，但本發明不限於此。
壓敏性黏著劑組成物中，以100重量份的嵌段共聚物(A)計，組份(C)含量為0.1至10重量份。根據另一用於說明的具體實施例，以100重量份的組份(A)計，組份(C)含量為0.3重量份或更高。以100重量份的組份(A)計，組份(C)的含量為8重量份或更低，6重量份或更低，或4重量份或更低。在此含量範圍內，可擔保對於光學膜的適當緊密黏著性，且亦可安定地維持壓敏性黏著劑所須的其他物理性質。
該壓敏性黏著劑組成物可進一步包括(D)至少 一種選自由以下所組成之群組之化合物作為額外組份：咪唑化合物、膦化合物、胺化合物、酚系化合物、和酸酐化合物。此化合物可用以有助於壓敏性黏著劑組成物或壓敏性黏著劑與光學膜表面的物理或化學交互作用，進一步強化對於光學膜表面的緊密黏著，及縮短擔保緊密黏著所需的時間。
例如，可作為組份(D)之化合物包括咪唑化合物、膦化合物、胺化合物或酚系化合物，將述於下文中。
即，以下式1所示化合物可作為咪唑化合物。
式1中，R1至R4各自獨立地為氫、烷基、或芳基。
式1中，烷基的例子可包括具1至20個碳原子，1至16個碳原子，1至12個碳原子，1至8個碳原子，或1至4個碳原子的烷基，且此烷基可為直鏈、支鏈、或環狀，且可經至少一個取代基任意地取代。
式1中，芳基的例子可包括具6至30個碳原子，6至24個碳原子，6至18個碳原子，或6至12個碳原子的芳基，且此芳基可經至少一個取代基任意取代。
用於式1化合物，可以使用其中的R1是氫或烷基，R2至R4各者獨立地為氫、烷基、或芳基，且其中至少R4和/或R3是烷基或芳基的化合物。
此化合物的例子可包括2-甲基咪唑、2-乙基咪唑、2-十一烷基咪唑、2-十七烷基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-苯基咪唑、或2-苯基-4-甲基咪唑，但本申請案不限於此。
例如，以下式所示化合物可作為膦化合物。
式2中，R5至R7各自獨立地為氫、烷基、或芳基。
式2中的烷基或芳基如式1中之定義。
式2所示化合物的例子可包括三苯基膦、三丁基鏈、三(對-間-苯基)膦、或三(壬基苯基)膦。
例如，藉以下式3或4所示化合物可作為胺化合物。
式3中，L1和L2各自獨立地為伸烷基。
式4中，R8至R10各自獨立地為氫、烷基、芳基、芳烷基、或羥烷基。
式3或4中的烷基或芳基如式1中之定義。
式3中，伸烷基的例子亦可包括具1至20個碳原子，1至16個碳原子，1至12個碳原子，1至8個碳原子，或1至4個碳原子的伸烷基，且此伸烷基可為直鏈、支鏈、或環狀，且可經至少一個取代基任意地取代。
式3或4所示化合物的例子可包括1,8-二氮雜二環[5.6.0]十一-7-烯、苄基二甲胺、或三乙醇胺，但本申請案不限於此。
例如，以下式5所示化合物可作為酚系化合物。
式5中，R11至R15各自獨立地為氫、烷基、胺烷基、烷基胺基烷基、或二烷基胺基烷基。
式5中的烷基或芳基如式1中之定義。
式5化合物的例子可以，例如，包括R11至R15各自獨立地為氫、烷基、胺烷基、烷基胺基烷基、或二烷基胺基烷基之化合物，此處，R11至R15中之至少一者是胺基烷基、烷基胺基烷基、或二烷基胺基烷基。
此化合物的例子包括2-(二甲胺基甲基)酚，但本申請案不限於此。
順丁烯二酸酐或四氫酞酸酐可作為以酸酐為底的化合物，但本申請案不限於此。
該壓敏性黏著劑組成物中，以100重量份的該嵌段共聚物(A)計，組份(D)含量可為0.001至5重量份。根據另一用於說明的具體實施例，以100重量份的組份(A)計，組份(D)含量可為0.005重量份或更高，且根據另一用於說明的具體實施例，以100重量份的組份(A)計，組份(D)含量可為4重量份或更低，3重量份或更低，2重量份或更低，或1重量份或更低。在此含量範圍內，可擔保所欲的緊密黏著等，且亦可安定地維持其他物理性質。
該壓敏性黏著劑組成物可進一步包括以錫為底的化合物作為額外組份。此以錫為底的化合物可用以藉與組份(D)之間的交互作而有效地使壓敏性黏著劑交聯並同時有助於使交聯的壓敏性黏著劑展現對於光學膜之極佳 的界面黏著性。
有機錫化合物可作為以錫為底的化合物。例如，可使用二烷基氧化錫、二烷基錫的脂肪酸鹽、或錫的脂肪酸鹽。特定言之，可以使用二烷基氧化錫或二烷基二月桂酸錫。錫化合物的類型中，烷基可為具1至20個碳原子，1至16個碳原子，1至12個碳原子，1至8個碳原子，或1至4個碳原子的直鏈、支鏈或環狀烷基。
該壓敏性黏著劑組成物中，以100重量份的該嵌段共聚物(A)計，以錫為底的化合物的含量為0.001至5重量份。根據另一用於說明的具體實施例，以100重量份的組份(A)計，以錫為底的化合物的含量可為0.005重量份或更高，且，根據另一用於說明的具體實施例，以100重量份的組份(A)計，以錫為底的化合物的含量可為4重量份或更低，3重量份或更低，2重量份或更低，或1重量份或更低。在此含量範圍內，可擔保所欲的交聯程度和緊密黏著，且亦可安定地維持其他物理性質。
該壓敏性黏著劑組成物可進一步包括陰離子性化合物作為額外組份。無機鹽或離子性液體可作為離子性化合物。已證實就擔保上述界面黏著性或不會引發固化延遲的觀點，離子性液體比無機鹽具有更有利的效果。本申請案中，“離子性液體”是指於室溫以液相存在的離子性化合物。此處，室溫是指在自然環境中的溫度，未提高或降低，例如，範圍由約10℃至30℃，約15℃至30℃，約20℃至30℃，約25℃，或約23℃。
該離子性化合物可含於壓敏性黏著劑組成物中以使得該壓敏性黏著劑具有適當的抗靜電性。
使用無機鹽作為離子性化合物時，可用於此處的無機鹽的例子包括含有鹼金屬陽離子或鹼土金屬陽離子的鹽。此陽離子的例子包括鋰離子(Li+)、鈉離子(Na+)、鉀離子(K+)、銣離子(Rb+)、銫離子(Cs+)、鈹離子(Be2+)、鎂離子(Mg2+)、鈣離子(Ca2+)、鍶離子(Sr2+)、和鋇離子(Ba2+)中之一或二或更多者。例如，可以使用鋰離子、鈉離子、鉀離子、鎂離子、鈣離子和鋇離子中之一或二或更多者作為陽離子。此情況中，考慮離子安定性和移動性，可以使用鋰離子。
同時，包括氮、硫或磷作為陽離子組份之含鎓鹽的化合物可作為離子性液體。此陽離子的例子可包括四級銨化合物，如N-乙基-N,N-二甲基-N-丙銨、N,N,N-三甲基-N-丙銨、N-甲基-N,N,N-三丁銨、N-乙基-N,N,N-三丁銨、N-甲基-N,N,N-三己銨、N-乙基-N,N,N-三己銨、N-甲基-N,N,N-三辛銨、或N-乙基-N,N,N-三辛銨；鏻鎓或其衍生物(如四烷基鏻)、吡啶鎓或其衍生物、四氫吡啶鎓或其衍生物、二氫吡啶鎓或其衍生物、咪唑鎓或其衍生物、具有吡啉主鏈的化合物或其衍生物、具有吡咯主鏈的化合物或其衍生物、咪唑鎓或其衍生物(如1-乙基-3-甲基咪唑鎓)、哌唑鎓或其衍生物、三烷基鋶鎓或其衍生物、吡啶鎓或其衍生物(如1-甲基-1-丙基吡啶鎓)、或哌啶鎓或其衍生物(如1-甲基-1-丙基哌啶鎓)。本申請案中，也可以使用 包括陽離子之化合物，其中陽離子中所含括的烷基經上述陽離子類型中的烷氧基、羥基、炔基、或環氧基取代。
根據一個用於說明的具體實施例，以下式A所示之陽離子可作為離子性液體中的陽離子。
式A中，R1至R4各自獨立地代表氫、烷基、烷氧基、烯基、或炔基。
式A中，烷基或烷氧基可為具1至20個碳原子，1至12個碳原子，1至8個碳原子，或1至4個碳原子的烷基或烷氧基。此烷基或烷氧基亦可為直鏈、支鏈或環狀烷基或烷氧基，且可經至少一個取代基任意地取代。
式A中，烯基或炔基可為具2至20個碳原子，2至12個碳原子，2至8個碳原子，或2至4個碳原子的烯基或炔基。此烯基或炔基可為直鏈、支鏈或環狀烯基或炔基，且可經至少一個取代基任意地取代。
式A的定義中，當烷基、烷氧基、烯基或炔基經至少一個取代基取代時，取代基的例子包括羥基、烷基、烷氧基、烯基、炔基、氰基、巰基、胺基、芳基、或雜芳基，但本申請案不限於此。
根據一個用於說明的具體實施例，式A中的 R1至R4各者獨立地為烷基，例如，具1至12個碳原子的直鏈或支鏈烷基。式A中，R1至R4各者獨立地代表具1至12個碳原子的直鏈或支鏈烷基，惟R1至R4不同時代表具有相同原子數的碳。此情況中，在式A提出的限制內，排除所有R1至R4代表具相同碳原子數的情況。當所有R1至R4代表具相同原子數的烷基時，化合物於室溫以固相存在的可能性較高。
式A中，R1可為具1至3個碳原子的烷基，且R2至R4可以各自獨立地為具4至20個碳原子，4至15個碳原子，或4至10個碳原子的烷基。使用此陽離子，所提供的壓敏性黏著劑展現優良的光學性質、壓敏性黏著性、可加工性和抗靜電性，具有對於基板之提高的緊密黏著性且所需固化時間較短以安定物理性質。
離子性化合物所含括之陰離子的例子包括PF6 -、AsF-、NO2 -、氟(F-)、氯(Cl-)、溴(Br-)、碘(I-)、過氯酸根(ClO4 -)、氫氧根(OH-)、碳酸根(CO3 2-)、硝酸根(NO3 -)、三氯甲磺酸根(CF3SO3 -)、磺酸根(SO4 -)、六氟磷酸根(PF6 -)、甲基苯磺酸根(CH3(C6H4)SO3 -)、對-甲苯磺酸根(CH3C6H4SO3 -)、四硼酸根(B4O7 2-)、羧基苯磺酸根(COOH(C6H4)SO3 -)、三氟甲磺酸根(CF3SO2 -)、苯酸根(C6H5COO-)、乙酸根(CH3COO-)、三氟乙酸根(CF3COO-)、四氟硼酸根(BF4 -)、四苄基硼酸根(B(C6H5)4 -)、或參五氟乙基三氟磷酸根(P(C2F5)3F3 -)。
根據另一用於說明的具體實施例，可以使用 以下式B所示的陰離子、或雙(氟磺醯基)醯亞胺作為陰離子。
[式B][X(YOmRf)n]-
式B中，X代表氮原子或碳原子，Y代表碳原子或硫原子，Rf代表全氟烷基，m是1或2，而n是2或3。
式B中，當Y是碳時，m可為1，當Y是硫時，m可為2，當X是氮時，n可為2，而當X是碳時，n可為3。
式B的陰離子或雙(氟磺醯基)醯亞胺因為全氟烷基(Rf)或氟基存在而展現高陰電性，且亦具有獨特的共振結構。因此，式B的陰離子或雙(氟磺醯基)醯亞胺與陽離子形成弱鍵結，並同時展現疏水性。因此，離子性化合物展現與組成物的其他組份(如聚合物)之極佳的相容性且亦提供高靜電性，即使少量使用亦然。
式B的Rf可為具1至20個碳原子，1至12個碳原子，1至8個碳原子，或1至4個碳原子，的全氟烷基。此情況中，全氟烷基可具有直鏈、支鏈或環狀結構。式B的陰離子可為以磺醯基甲氧化物為底、以磺醯基醯亞胺為底、以羰基甲氧化物為底、或以羰基醯亞胺為底的陰離子。特定言之，式B的陰離子可包括參三氟甲磺醯基甲氧化物、雙三氟甲磺醯基醯亞胺、雙全氟丁磺醯基醯 亞胺、雙五氟乙磺醯基醯亞胺、參三氟甲烷羰基甲氧化物、雙全氟丁烷羰基醯亞胺、或雙五氟乙烷羰基醯亞胺，其可單獨使用或併用。
壓敏性黏著劑組成物中，以100重量份的該嵌段共聚物(A)計，陰離子性化合物的存在含量為0.01至15重量份，0.01至10重量份，0.01至5重量份，0.1至5重量份，或0.5至5重量份。在此含量範圍內，可擔保所欲的抗靜電性質，和其他所欲的物理性質，如亦可安定地維持對於光學膜的緊密黏著性。
該壓敏性黏著劑組成物可進一步包括矽烷偶合劑。例如，含有β-氰基或乙醯乙醯基的矽烷偶合劑可作為矽烷偶合劑。此矽烷偶合劑可以，例如，有助於壓敏性黏著劑(其使用具低分子量的共聚物形成)展現極佳的緊密黏著性和黏著安定性，且亦在耐熱和耐濕熱條件下，極佳地維持耐久性和可靠性。
例如，以下式5或6所示化合物可作為含有β-氰基或乙醯乙醯基的矽烷偶合劑的例子。
[式5](R1)nSi(R2)(4-n)
[式6](R3)nSi(R2)(4-n)
式5或6中，R1是β-氰基乙醯基或β-氰基乙醯基烷基，R3是乙醯乙醯基或乙醯乙醯基烷基，R2是烷 氧基，n是1至3的整數。
式5或6中，烷基可為具1至20個碳原子，1至16個碳原子，1至12個碳原子，1至8個碳原子，或1至4個碳原子的烷基，且烷基可為直鏈、支鏈或環狀。
式5或6中，烷氧基可為具1至20個碳原子，1至16個碳原子，1至12個碳原子，1至8個碳原子，或1至4個碳原子的烷氧基，且烷氧基可為直鏈、支鏈或環狀。
式5或6中，n可為，例如，1至3，1至2，或1。
式5或6所示化合物的例子可以，例如，包括乙醯乙醯丙基三甲氧基矽烷、乙醯乙醯丙基三乙氧基矽烷、β-氰基乙醯丙基三甲氧基矽烷、或β-氰基乙醯丙基三乙氧基矽烷，但本申請案不限於此。
壓敏性黏著劑組成物中，以100重量份的該嵌段共聚物(A)計，矽烷偶合劑含量可為0.01重量份至5重量份，或0.01重量份至1重量份。在此含量範圍內，可以有效地提供壓敏性黏著劑所欲的物理性質。
必要時，該壓敏性黏著劑組成物可進一步包括賦黏劑。例如，此處可用的賦黏劑可包括烴樹脂或其氫化產物、松香樹脂或其氫化產物、松香酯樹脂或其氫化產物、萜烯樹脂或其氫化產物、萜烯酚系樹脂或其氫化產物、聚合的松香樹脂、或聚合的松香酯樹脂，其可單獨使 用或併用，但本申請案不限於此。相對於100重量份的該嵌段共聚物，賦黏劑含量為100重量份或更低。
必要時，該壓敏性黏著劑組成物可進一步包括至少一種添加劑，其選自由以下所組成之群組：環氧樹脂、固化劑、UV安定性、抗氧化劑、著色劑、強化劑、填料、抗起泡劑、界面活性劑、和塑化劑。
該壓敏性黏著劑組成物形成交聯結構之後的凝膠比例為80重量%或更低。凝膠比例可由以下算式1計算。
[算式1]凝膠比例(%)=B/A×100
算式1中，A代表實現交聯結構的壓敏性黏著劑組成物的質量，B代表令質量為A的壓敏性黏著劑組成物於室溫澱積於乙酸乙酯中72小時，在具有200網目的尺寸之篩網上收集到的不溶物的乾重。
凝膠比例維持於80重量%或更低時，可極佳地維持加工性、耐久性和可靠性及再加工性。未特別限制壓敏性黏著劑組成物之凝膠比例的下限，且可為，例如，0重量%。但是，0重量%的凝膠比例並非是指壓敏性黏著劑組成物中完全未交聯。例如，具有0重量%的凝膠比例之壓敏性黏著劑組成物包括完全未交聯的壓敏性黏著劑組成物，或交聯至一些程度但交聯程度過低而使得凝膠未留在具有200網目的尺寸之篩網上的壓敏性黏著劑組成物。
該壓敏性黏著劑組成物可為用於光學膜之壓 敏性黏著劑組成物。用於光學膜之壓敏性黏著劑組成物可以，例如，用於層合光學膜(如偏光膜、阻滯膜、抗眩光膜、寬視角補償膜、或亮度增進膜)，或將光學膜或其積層物接合至黏著物(如液晶面板)。根據一個用於說明的具體實施例，該壓敏性黏著劑組成物可為用於偏光板之壓敏性黏著劑組成物，即，壓敏性黏著劑組成物用以將偏光膜接合至液晶面板。
本申請案的另一方面提出壓敏性黏著性光學組件，例如，壓敏性黏著性偏光板。用於說明的光學組件可包括光學膜和形成於光學膜的一或兩面上的壓敏性黏著層。例如，壓敏性黏著層可為用以將光學膜接合至LCD的液晶面板或其他光學膜的壓敏性黏著層。根據本申請案之一個用於說明的具體實施例，壓敏性黏著層亦可包括上述壓敏性黏著劑組成物。該壓敏性黏著劑組成物可以壓敏性黏著劑組成物已實現交聯結構的狀態含於壓敏性黏著層中。此處，光學膜的例子可包括偏光層、偏光板、阻滯膜、或亮度增進膜、或二或更多者的積層物。本申請案中，“偏光層”和“偏光板”用於彼此不同的概念。例如，偏光層是指層本身具有偏光作用，如聚乙烯醇膜，此如以下將描述者，而偏光板是指包括此偏光層和其他組件結合者。
在光學組件中，可與壓敏性黏著層作用的官能基(例如，羥基、胺基、羧基)、胺甲酸酯鍵、或脲鍵會被引至光學膜和壓敏性黏著層之間，例如，引至壓敏性黏 著層以接合至彼的光學膜表面。此官能基可強化壓敏性黏著層對於光學膜的緊密黏著，此藉由與存在於壓敏性黏著層中的多官能性異氰酸酯化合物、多官能性環氧基化合物或多官能性吖啶化合物的物理或化學交互作用達成。可以使用分子中具有此官能基的聚合物所形成的光學膜，或者使用增進黏著性的處理(如電暈放電或電漿處理)而將官能基引至光學膜上。本申請案中，已有官能基引至其上的光學膜之表面，或進行過電暈放電或電漿處理的光學膜區域可被視為增進黏著性的處理層。
未特別限制用以引入此官能基之進行電暈放電或電漿處理的條件，且可選擇和使用相關技術已知的方法。
本申請案的又另一方面提出壓敏性黏著性偏光板。例如，該偏光板具有光學膜係壓敏性黏著性光學組件的偏光膜之結構。
未特別限制偏光板中所含括之偏光膜的類型。例如，可以使無限制地使用一般類型的偏光膜，如，以聚乙烯醇為底的偏光膜，其為相關技術已知者。
偏光膜係功能膜，其可在各方向振動的同時，自入射光萃取在一個方向上振動的光。例如，此偏光膜可具有二色性染料吸附在以聚乙烯醇為底的樹脂膜上並指向的結構。構成偏光膜之以聚乙烯醇為底的樹脂可以，例如，藉由使得以聚乙酸乙烯酯為底的樹脂膠凝而得。此情況中，此處可用之以聚乙酸乙烯醇為底的樹脂可包括乙 酸乙烯酯、和可與乙酸乙烯酯共聚的其他單體之共聚物、及乙酸乙烯酯的均聚物。如此，可與乙酸乙烯酯共聚的單體的例子可包括不飽和碳酸、烯烴、乙烯醚、不飽和磺酸、和含有銨基的丙烯醯胺，其可單獨使用或併用，但本申請案不限於此。基本上，此以聚乙烯醇為底的樹脂的膠凝程度為約85莫耳%至100莫耳%，較佳為98莫耳%或更高。此以聚乙烯醇為底的樹脂可經進一步改質。例如，可使用經醛類改質的聚乙烯基甲縮醛或聚乙烯基乙縮醛。以聚乙烯醇為底的樹脂之聚合度亦可為約1,000至10,000，較佳為約1,500至5,000。
偏光膜可經由拉長(例如，單軸拉長)上述以聚乙烯醇為底的樹脂的程序、以二色性染料將以聚乙烯醇為底的樹脂膜加以染色及吸附二色性染料的程序、以含水的硼酸溶液處理已有二色性染料吸附於其上之以聚乙烯醇為底的樹脂膜的程序及清洗以聚乙烯醇為底的樹脂膜的程序等製得。此處，可以使用碘或二色性有機染料作為二色性染料。
偏光板亦可進一步包括保護膜接合至偏光層的一或兩面。此處，壓敏性黏著層可形成於該保護膜的一面上。未特別限制該保護膜的類型。例如，可用於此處的該保護膜可包括以纖維素(如三乙醯基纖維素(TAC))為底的膜；以聚酯為底的膜，如聚碳酸酯膜或聚(對酞酸乙二酯膜)(PET)；以聚醚亞碸為底的膜；或具有單層結構或二或更多層(如聚乙烯膜、聚丙烯膜或以聚烯烴為底的膜(由 具有以環為底的原冰片烯結構的樹脂或乙烯-丙烯共聚物所形成者))的堆疊結構的膜。
偏光膜亦可進一步包括至少一個功能層，其選自由以下所組成之群組：保護層、反射層、抗眩光層、阻滯板、寬視角補償膜、和亮度增進膜。
在壓敏性黏著性偏光板中，亦可有增進黏著性的處理層存在於偏光層和壓敏性黏著層之間。此增進黏著性的處理層可為藉存在於形成於偏光層的一個表面上的另一功能層(如偏光層或保護膜)表面上的羥基、胺基、羧基、胺甲酸酯鍵或脲鍵所形成的層，或者可為使得偏光層或另一功能層的表面接受電暈放電或電漿處理而形成的層。
本申請案中，未特別限制在此偏光板或光學膜上形成壓敏性黏著層之方法。例如，藉由將壓敏性黏著劑組成物直接塗覆於偏光板或光學膜上並固化此壓敏性黏著劑組成物以形成交聯結構，或藉由將壓敏性黏著劑組成物塗覆在脫模膜之經脫模劑處理的表面上及使得壓敏性黏著劑組成物固化以形成交聯結構，之後將壓敏性黏著劑組成物轉移至偏光板或光學膜，可在偏光板或光學膜上形成壓敏性黏著層。
此處，未特別限制塗覆壓敏性黏著劑組成物之方法。例如，可使用以慣用工具(如棍塗覆器)塗覆壓敏性黏著劑組成物之方法。
塗覆程序中，所欲地，就進行均勻塗覆程序 的觀點，含括於壓敏性黏著劑組成物中的多官能性交聯劑經控制以防止在塗覆程序期間內發生官能基的交聯反應。以此方式，交聯劑可用以改良壓敏性黏著劑的黏合性，此藉由使得壓敏性黏著劑在塗覆程序之後，在固化和老化程序的期間內形成交聯結構而達成，及增進壓敏性黏著性和可切割性。
亦較佳地，在充分地自壓敏性黏著劑組成物移除形成泡沫的組份(如揮發性組份)或殘留的反應產物之後，進行塗覆程序。因此，可防止彈性模數因為壓敏性黏著劑之極低的交聯密度或分子量而退化，且亦防止在高溫條件下，在玻璃板和壓敏性黏著層之間逐漸形成泡沫時，在泡沫中形成散射中心。
未特別限制在塗覆程序之後，使壓敏性黏著劑組成物固化以形成交聯結構之方法。例如，可以使用使得塗層維持於適當溫度以誘發介於多官能性交聯劑和塗層中所含括的嵌段共聚物之間的交聯反應的方法而使得壓敏性黏著劑組成物固化。
必要時，可以在形成壓敏性黏著層之前，在其上已形成壓敏性黏著層的偏光板或光學膜表面上進行形成黏著增進處理層的程序，例如，電暈放電或電漿處理。
本申請案的又另一方面提出一種光學積層板，其包括薄玻璃基板；和接合至該玻璃基板的壓敏性黏著性光學組件或偏光板。該偏光板或光學組件可藉上述壓敏性黏著劑接合至玻璃基板。根據本申請案的一個用於說 明的具體實施例，壓敏性黏著劑組成物形成的壓敏性黏著劑展現對於前述基板展現極佳的緊密黏著性，且在施用於薄基板上時，亦有效地防止薄基板彎曲。例如，該玻璃基板可具有約1mm或更低，約0.9mm或更低，或約0.8mm或更低的厚度。未特別限制該玻璃基板厚度的下限，且可以，例如，大於或等於約0.1mm，約0.3mm，或約0.5mm。
本申請案的又另一方面提出一種顯示裝置，例如，LCD裝置。該顯示裝置可包括上述壓敏性黏著性光學組件或偏光板。例如，當該顯示裝置是LCD裝置時，該顯示裝置可包括液晶面板，和接合至該液晶面板的一或兩面之偏光板或光學組件。該偏光板或光學組件可藉上述壓敏性黏著劑接合至液晶面板。
該顯示裝置中，所有種類的已知面板，例如，被動基質面板，如扭曲向列(TN)面板、超扭曲向列(STN)面板、鐵電(F)面板、或聚合物分散型(PD)面板；主動基質面板，如二端點面板或三端點面板；及同平面切換(IPS)型面板和直立對準(VA)型面板，可作為液晶面板。
此外，亦未特別限制液晶顯示裝置中的其他組件類型，例如，上/下基板，如濾色基板或向列基板。例如，可以無限制地使用相關技術中已知的組件。
根據本申請案之用於說明的具體實施例，提 出壓敏性黏著劑組成物，其可於高溫度或濕度條件下具有極佳的耐久性並展現對於光學膜的高度緊密黏著性，藉此形成具有優良的可切割性和再加工性之壓敏性黏著劑。根據本申請案之用於說明的具體實施例，該壓敏性黏著劑組成物亦能夠形成壓敏性黏著劑，當此壓敏性黏著劑施用於薄基板(如極薄玻璃基板)時能夠有效地抑制彎曲、使得安定物理性質所需時間最小化、及防止所擔保的物理性質隨時間而退化，亦提出使用此壓敏性黏著劑組成物所形成之壓敏性黏著性光學組件、光學積層板、和顯示裝置。
具體實施例
下文中，將對照實例和比較例，描述本壓敏性黏著劑組成物，但本壓敏性黏著劑組成物的範圍不限於此。
1.分子量之測定
使用GPC，在以下條件下測定數量平均分子量(Mn)和多分散指數(PDI)。為製造校正曲線，使用聚苯乙烯標準品，在Agilent系統中轉變測定結果。
<測定條件>
測定儀器：Agilent GPC(Agilent 1200系列，美國)
管柱：連接的兩個PL Mixed B
管柱溫度：40℃
洗提液：四氫呋喃(THF)
流率：1.0mL/min
濃度：約1mg/mL(注射100μL)
2.對於玻璃的黏著性之測定
以下實例或比較例中製得的壓敏性黏著性偏光板各者切成寬25mm且長100mm的片以製得樣品，並移除脫模片(即，PET脫模膜)。之後，各樣品使用層合機接合至無鹼玻璃。之後，樣品在恆定溫度/濕度條件下(23℃和50%相對濕度)儲存24小時。之後，使用紋理分析儀(Stable Micro Systems Ltd.的市售品)，藉由以0.3m/min的剝離速率和180°的剝離角度自無鹼玻璃剝離壓敏性黏著性偏光板而評估剝離強度。
3.壓敏性黏著劑/基板的界面黏著性之評估
在製備實例或比較例的壓敏性黏著性偏光板各者的期間內，形成壓敏性黏著層，在經過以下評估標準中所定義的時間之後，將各個偏光板切成寬7cm且長10cm的片。之後，移除脫模片(PET脫模膜)，使用層合機，用於測定壓敏性黏著劑之剝離的壓敏性黏著帶(用於測量的壓敏性黏著帶)接合至寬5cm且長10cm的壓敏性黏著區域。之後，偏光板在恆定溫度/濕度條件(25℃，和50%相對濕度)下維持5分鐘，在自偏光板移除用於測定之接合的壓敏性黏著帶的同時，測定留在各偏光板的底表面上的壓敏性黏著劑殘留量。各個偏光板的縱向畫出格線，以肉眼觀察定出殘留於各個格子中的量。
<評估標準>
A：塗覆之後的一天內，至少90%的壓敏性黏著劑殘留。
B：塗覆之後的兩天內，至少90%的壓敏性黏著劑殘留。
C：塗覆之後的三天內，至少90%的壓敏性黏著劑殘留。
D：塗覆之後的四天內，至少90%的壓敏性黏著劑殘留。
4.壓敏性黏著層的表面電阻之評估
以下實例或比較例中製得的各個壓敏性黏著性偏光板切成寬50mm且長50mm的片以製成試樣。之後，移除接合至各個試樣的壓敏性黏著層之PET脫模膜，之後測定壓敏性黏著層的表面電阻。根據製造商的手冊，使用MCP-HT 450系統(日本Mitsubishi Chemical Corp.，的市售品)測定表面電阻。試樣維持於23℃和50%相對濕度達24小時，之後，自各個偏光板移除脫模片(PET脫模膜)。之後，500V的電壓施於試樣達1分鐘，測定試樣。
製備例1：丙烯酸系嵌段共聚物(A1)之製備
0.1g的2-溴異丁酸乙酯(EBiB)和28.4g的甲基丙烯酸甲酯(MMA)與12.4g的乙酸乙酯(EAc)混合。放置所得混合物的瓶以橡膠塞密封，以氮於約25℃通氣達30分鐘並攪拌。之後，通氣以移除溶解的氧。之後，0.002g的CuBr2、0.005g的參(2-吡啶基甲基)胺(TPMA)、和0.017g的2,2’-偶氮基雙(2,4-二甲基戊腈)(V-65)加至已移除氧的此混合物中，之後浸於約67℃的反應浴中以引發反應(第一嵌段的聚合反應)。當甲基丙烯酸甲酯的轉化率達約75%時，310g的丙烯酸丁酯(BA)、1.6g 的丙烯酸羥丁酯(HBA)和500g的乙酸乙酯(EAc)(其經事先通氣)在氮存在下添加。之後，0.006g的CuBr2、0.012g的TPMA、和0.05g的V-65加至反應瓶，進行鏈增長反應(第二嵌段的聚合反應)。當單體(BA)的轉化率達80%或更高時，反應混合物暴於氧，並以適當溶劑稀釋以中止反應，藉此製得嵌段共聚物(此程序中，考慮V-65的半生期，V-65適當地分次添加直到反應中止)。
製備例2和3：丙烯酸系嵌段共聚物(A2)和(A3)之製備
如以下表1中所列者，以與製備例相同的方式製得嵌段共聚物，但調整用於聚合該嵌段共聚物之來源材料(單體等)的類型和聚合條件。
實例1：壓敏性黏著劑組成物(塗覆液)之製備
0.1重量份的交聯劑(Coronate LS，Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.的市售品)、0.5重量份的多官能性環氧基化合物(N,N,N’,N’-四環氧丙基乙二胺)、1.0重量份的離子性液體(FC-4400，3M的市售品)、0.01重量份的2-甲基咪唑(Acros Pvt.Ltd.的市售品)、0.01重量份的四丁基二月桂酸錫(DBTDL，Alfa Aesar的市售 品)、和0.4重量份之含有β-氰基乙醯基的矽烷偶合劑(AD M-812，LG Chem.Ltd.的市售品)混合，此以100重量份之製備例1中製備的嵌段共聚物(A1)計，之後摻混乙酸乙酯作為溶劑以使得塗料固體含量達到約10至13重量%，藉此製得塗覆液(即，壓敏性黏著劑組成物)。
壓敏性黏著性偏光板之製備
所製得的壓敏性黏著劑組成物塗覆於作為脫模片之厚度約38μm的PET膜(MRF-38，Mitsubishi Corporation的市售品)之經脫模劑處理的表面上，使得乾燥之後的塗層厚度為25μm，在110℃的烘箱中留置約3分鐘以形成壓敏性黏著層。之後，製得的壓敏性黏著層層合於以碘為底的偏光板的保護膜(即，TAC膜)的一個表面上，以製得壓敏性黏著性偏光板(此壓敏性黏著性偏光板具有脫模PET/壓敏性黏著層/TAC/PVA/TAC的堆疊結構，其中TAC=三乙醯基纖維素，而PVA=以聚乙烯醇為底的偏光膜)。
實例2至7及比較例1至3
以與實例1相同的方式製備壓敏性黏著劑組成物(塗覆液)和壓敏性黏著性偏光板，但在製備壓敏性黏著劑組成物的期間內，組份和含量改變為以下表2或3所列者。
實例和比較例中製備之偏光板測得的物理性質列於以下表4。

Claims (19)

  1. 一種壓敏性黏著劑組成物，包含：(A)嵌段共聚物，包含玻璃轉變溫度為50℃或更高的第一嵌段和玻璃轉變溫度為-10℃或更低的第二嵌段，其中羥基存在於該第一或第二嵌段中；(B)多官能性異氰酸酯化合物；(C)多官能性環氧基化合物或多官能性吖啶化合物；和(D)選自由咪唑化合物、膦化合物、胺化合物、和酚系化合物所組成之群組之至少一種化合物。
  2. 如申請專利範圍第1項之壓敏性黏著劑組成物，其中該(A)嵌段共聚物的羥基僅存在於該第二嵌段中。
  3. 如申請專利範圍第1項之壓敏性黏著劑組成物，其中以100重量份的該(A)嵌段共聚物計，該(B)多官能性異氰酸酯化合物的含量為0.1至10重量份。
  4. 如申請專利範圍第1項之壓敏性黏著劑組成物，其中該(C)多官能性環氧基化合物包含選自由以下所組成之群組中之至少一者：乙二醇二環氧丙醚、三環氧丙醚、三羥甲基丙烷三環氧丙醚、N,N,N’,N’-四環氧丙基乙二胺、和甘油二環氧丙醚，且該多官能性吖啶化合物包含選自由以下所組成之群組中之至少一者：N,N’-甲苯-2,4-雙(1-吖啶羧醯胺)、N,N’-二苯基甲烷-4,4’-雙(1-吖啶羧醯胺)、三伸乙基三聚氰胺、雙異酞醯基-1-(2-甲基吖啶)、和三-1-吖啶基膦氧化物。
  5. 如申請專利範圍第1項之壓敏性黏著劑組成物，其中以100重量份的該(A)嵌段共聚物計，該(C)多官能性環氧基化合物或多官能性吖啶化合物的含量為0.01至10重量份。
  6. 如申請專利範圍第1項之壓敏性黏著劑組成物，其中該咪唑化合物係以下式1所示之化合物： 其中R1至R4各自獨立地為氫、烷基、或芳基。
  7. 如申請專利範圍第1項之壓敏性黏著劑組成物，其中該膦化合物係以下式2所示之化合物： 其中R5至R7各自獨立地為氫、烷基、或芳基。
  8. 如申請專利範圍第1項之壓敏性黏著劑組成物，其中該胺化合物係以下式3或4所示之化合物： 其中L1和L2各自獨立地為伸烷基；而 其中R8至R10各自獨立地為氫、烷基、芳基、芳烷基、或羥烷基。
  9. 如申請專利範圍第1項之壓敏性黏著劑組成物，其中該酚系化合物係以下式5所示之化合物： 其中R11至R15各自獨立地為氫、烷基、胺烷基、烷基胺基烷基、或二烷基胺基烷基。
  10. 如申請專利範圍第1項之壓敏性黏著劑組成物， 其中以100重量份的該(A)嵌段共聚物計，該(D)化合物的含量為0.001至5重量份。
  11. 如申請專利範圍第1項之壓敏性黏著劑組成物，其另包括離子性液體。
  12. 如申請專利範圍第11項之壓敏性黏著劑組成物，其中以100重量份的該(A)嵌段共聚物計，該離子性液體的含量為0.01至15重量份。
  13. 如申請專利範圍第1項之壓敏性黏著劑組成物，其另包含以錫為底質的化合物。
  14. 一種壓敏性黏著性光學組件，包含：光學膜；和壓敏性黏著層，其形成於該光學膜的一或兩面上並包含呈交聯狀態之如申請專利範圍第1項之壓敏性黏著劑組成物。
  15. 如申請專利範圍第14項之壓敏性黏著性光學組件，其中增進黏著性的處理層係存在於該光學膜和該壓敏性黏著層之間。
  16. 一種壓敏性黏著性偏光板，包含：偏光層；和壓敏性黏著層，其形成於該偏光層的一或兩面上並包含呈交聯狀態之如申請專利範圍第1項之壓敏性黏著劑組成物。
  17. 如申請專利範圍第16項之壓敏性黏著性偏光板，其中增進黏著性的處理層係存在於該偏光層和該壓敏性黏 著層之間。
  18. 一種光學積層板，包含：具有1mm或更小厚度的玻璃基板；和如申請專利範圍第14項之壓敏性黏著性光學組件或如申請專利範圍第16項之壓敏性黏著性偏光板，其藉由壓敏性黏著層接合至該玻璃基板。
  19. 一種顯示裝置，包含如申請專利範圍第14項之壓敏性黏著性光學組件、或如申請專利範圍第16項之壓敏性黏著性偏光板。
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