TW201608134A - 泵送系統中的泵送方法及真空泵的系統 - Google Patents
泵送系統中的泵送方法及真空泵的系統 Download PDFInfo
- Publication number
- TW201608134A TW201608134A TW104114058A TW104114058A TW201608134A TW 201608134 A TW201608134 A TW 201608134A TW 104114058 A TW104114058 A TW 104114058A TW 104114058 A TW104114058 A TW 104114058A TW 201608134 A TW201608134 A TW 201608134A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- vacuum pump
- rotary vane
- injector
- pumping
- check valve
- Prior art date
Links
- 238000005086 pumping Methods 0.000 title claims abstract description 87
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 39
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 67
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 13
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 claims description 39
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 abstract description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 5
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000008520 organization Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 230000000153 supplemental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C23/00—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids
- F04C23/005—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids of dissimilar working principle
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/10—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use
- F04B37/14—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for special use to obtain high vacuum
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C18/00—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids
- F04C18/30—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids having the characteristics covered by two or more of groups F04C18/02, F04C18/08, F04C18/22, F04C18/24, F04C18/48, or having the characteristics covered by one of these groups together with some other type of movement between co-operating members
- F04C18/34—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids having the characteristics covered by two or more of groups F04C18/02, F04C18/08, F04C18/22, F04C18/24, F04C18/48, or having the characteristics covered by one of these groups together with some other type of movement between co-operating members having the movement defined in group F04C18/08 or F04C18/22 and relative reciprocation between the co-operating members
- F04C18/344—Rotary-piston pumps specially adapted for elastic fluids having the characteristics covered by two or more of groups F04C18/02, F04C18/08, F04C18/22, F04C18/24, F04C18/48, or having the characteristics covered by one of these groups together with some other type of movement between co-operating members having the movement defined in group F04C18/08 or F04C18/22 and relative reciprocation between the co-operating members with vanes reciprocating with respect to the inner member
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C25/00—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids
- F04C25/02—Adaptations of pumps for special use of pumps for elastic fluids for producing high vacuum
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C28/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
- F04C28/06—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids specially adapted for stopping, starting, idling or no-load operation
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C29/00—Component parts, details or accessories of pumps or pumping installations, not provided for in groups F04C18/00 - F04C28/00
- F04C29/0021—Systems for the equilibration of forces acting on the pump
- F04C29/0028—Internal leakage control
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C29/00—Component parts, details or accessories of pumps or pumping installations, not provided for in groups F04C18/00 - F04C28/00
- F04C29/02—Lubrication; Lubricant separation
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04F—PUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
- F04F5/00—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
- F04F5/14—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid
- F04F5/16—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing elastic fluids
- F04F5/20—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow the inducing fluid being elastic fluid displacing elastic fluids for evacuating
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04F—PUMPING OF FLUID BY DIRECT CONTACT OF ANOTHER FLUID OR BY USING INERTIA OF FLUID TO BE PUMPED; SIPHONS
- F04F5/00—Jet pumps, i.e. devices in which flow is induced by pressure drop caused by velocity of another fluid flow
- F04F5/54—Installations characterised by use of jet pumps, e.g. combinations of two or more jet pumps of different type
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Jet Pumps And Other Pumps (AREA)
Abstract
本發明有關泵送系統(SP、SPP)中的泵送方法,包含:主要潤滑回轉葉片式真空泵(3),具有連接至真空室(1)之氣體入口通孔(2)、及在出現進入該泵送系統(SP、SPP)的氣體出口(8)之前通入導管(5)的氣體出口通孔(4);止回閥(6),於該氣體出口通孔(4)與該氣體出口(8)之間被定位在該導管(5)中,及噴射器(7),被平行連接至該止回閥(6)。依據此方法,該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)被開動,以便泵送該真空室(1)中所含有之氣體經過該氣體出口通孔(4)。該噴射器(7)同時被供給以工作流體;及在該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)泵送該真空室(1)中所含有之氣體期間、及/或在該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)維持該真空室(1)中之界定壓力期間,該噴射器(7)持續被供給以工作流體。本發明亦有關能夠被使用於施行此方法的泵送系統(SP、SPP)。
Description
本發明有關泵送方法,而以泵送系統中的流率及最後真空之觀點使其可能減少電能的消耗量以及改善該性能,其中該主要泵浦係經潤滑之回轉葉片式真空泵。本發明同樣地有關泵送系統,其能被使用於達成根據本發明的方法。
以該等驅動器中之性能、能量經濟、龐大等的觀點,增加真空泵之性能、減少安裝的成本及工業中之能量的消耗量之一般趨勢已帶來顯著的發展。
該尖端技術顯示改善該最後真空及減少能量補充級之消耗量必需被加在該多級根型或多級爪型的真空泵中。用於螺桿式真空泵,必需有該螺桿之額外轉動及/或內部壓縮的速率必需被增加。用於潤滑回轉葉片式真空泵,一或多個補充級亦必需被串連地加入,且該內部壓縮之速率增加。
有關針對改善該最後真空及增加該流率的泵送系統之
尖端技術顯示由主要潤滑回轉葉片式泵被配置在上游的根型增壓泵。此種系統係笨重的,以呈現可靠性問題之旁通閥或藉由採用測量、控制、調整或伺服控制的機制之任一者來操作。然而,這些控制、調整或伺服控制的機制必需被以主動方式控制,這必定導致該系統之零組件數目、其複雜性及其成本中的增加。
本發明具有在泵送系統中提出泵送方法當作目的,使其可能減少用於使一室處於真空之下及用以在此室中維持該真空所需要的電能、以及達成該出口氣體之溫度中的減少。
本發明亦具有在泵送系統中提出泵送方法當作目的,使其可能在低壓力下獲得比於真空室之泵送期間以單一潤滑回轉葉片式真空泵的輔助所能獲得者較高之流率。
本發明同樣地具有在泵送系統中提出泵送方法當作目的,使其可能獲得比於真空室中以單一潤滑回轉葉片式真空泵的輔助所能獲得者更好之真空。
本發明之這些目的係以在泵送系統之架構內所達成的泵送方法之輔助所獲得,其組構本質上由主要潤滑回轉葉片式真空泵所組成,該主要潤滑回轉葉片式真空泵配備有連接至真空室之氣體入口通孔、及在出現進入該大氣或進入其它設備之前通入配備有止回閥的導管之氣體出口通孔。噴射器的吸入端係平行地連接至此止回閥,其出口進
入該大氣或在該止回閥之後重新接合該主要泵浦的導管。
此一泵送方法尤其為申請專利範圍第1項之獨立項的主題。再者,本發明之不同較佳實施例係該等申請專利範圍附屬項的主題。
該方法本質上由以工作流體供給該噴射器所組成,並使其在該主要潤滑回轉葉片式真空泵泵送該真空室中所含有之氣體經過該氣體入口通孔期間、而且在該主要潤滑回轉葉片式真空泵藉由排出經過其出口上升的氣體來維持該真空室中之界定壓力(譬如該最後真空)期間連續地操作。
根據第一態樣,本發明存在該主要潤滑回轉葉片式真空泵與該噴射器的耦接不需要測量及特定裝置(譬如用於壓力、溫度、電流等感測器)、伺服控制器、或資料管理與計算之事實。因此,適合用於施行根據本發明的泵送方法之泵送系統包含最小數目之零組件、具有大單純性、及係遠比該等現存系統便宜。
從本質上,被整合於該泵送系統中的噴射器根據本泵送方法可總是沒有損壞地操作。其尺寸係藉由用於該裝置之操作的工作流體之最小消耗量所決定。其通常為單級式。其額定流率取決於該主要潤滑回轉葉片式真空泵的出口導管之體積而被選擇,並藉由該止回閥所限制。此流率可為該主要潤滑回轉葉片式真空泵的額定流率之1/500至1/20,但亦可為少於或大於這些值。用於該噴射器的工作流體可為壓縮空氣,而且亦可為其他氣體、譬如氮。
在該主要潤滑回轉葉片式真空泵的出口,被放置於該
導管中之止回閥可為市售標準元件。其尺寸係根據該主要潤滑回轉葉片式真空泵的額定流率所設計。尤其是,當在該主要潤滑回轉葉片式真空泵之吸入端的壓力係於500毫巴絕對壓力及該最後真空(譬如100毫巴)之間時,其係預知該止回閥關閉。
根據另一變型,該噴射器係多級式。
根據又另一變型,該噴射器可為由對物質及氣體具有化學抗性的材料所製成,該材料一般被使用於該化學工業及該半導體工業、無礙於該單級式噴射器變型中、如於該多級式噴射器中。
該噴射器較佳地係小尺寸。
根據另一變型,該噴射器被整合在併有該止回閥的匣體中。
根據又另一變型,該噴射器被整合在併有該止回閥的匣體中,且此匣體本身被容納於該主要潤滑回轉葉片式真空泵之油分離器中。
根據本發明的方法之又另一變型,為滿足特定需求,在用於該噴射器的操作所需要之壓力的氣體流率係以“全有或全無之”方式控制。實際上,該控制在於測量一或多個參數,且在於將該噴射器放入操作或中止操作,取決於某些預定義的規則。藉由合適感測器所提供之參數係譬如該潤滑回轉葉片式真空泵的馬達電流、該主要潤滑回轉葉片式真空泵之出口導管的空間中之藉由該止回閥所限制的氣體之溫度或壓力、或這些參數的一組合。
以該室之排空的循環開始,該壓力在此被升高、譬如等於該大氣壓力。給定該主要潤滑回轉葉片式真空泵中之壓縮,在其出口所排出的氣體之壓力係高於該大氣壓力(如果在該主要真空泵的出口之氣體被直接地排出進入該大氣)、或高於在下游所連接的另一設備之入口的壓力。這造成該止回閥之打開。
當此止回閥係打開時,該噴射器的作用被感覺很輕微,因在其入口之壓力係接近等於在其出口的壓力。於對比下,當該止回閥在某一壓力關閉時(因為該室中之壓力在此期間已下降),該噴射器的作用造成該室及在該止回閥之後的導管間之壓力中的差異之逐漸減少。在該主要潤滑回轉葉片式真空泵的出口之壓力變成在該噴射器的入口之壓力,在其出口的壓力總是為在該止回閥之後的導管中之壓力。更多該噴射器泵送,則在該主要潤滑回轉葉片式真空泵的出口有更多該壓力下降,於該關閉的空間中(藉由該止回閥所限制),且因此該室及該主要潤滑回轉葉片式真空泵的出口間之壓力中的差異減少。此輕微差異減少該主要潤滑回轉葉片式真空泵中之內部滲漏,並同時造成該室中的壓力之減少,這使其可能改善該最後真空。此外,用於該壓縮,該主要潤滑回轉葉片式真空泵消耗更少的能量及產生更少之壓縮熱。
於該噴射器的控制之案例中,當該等感測器係在所界定的狀態中或給與最初值時,存在有一用於該泵送系統的起動之最初位置。當該主要潤滑回轉葉片式真空泵泵送該
真空室的氣體時,諸如其馬達之電流、該出口導管的空間中之氣體的溫度及壓力之參數開始改變,並抵達藉由該等感測器所偵測的閾值。這造成該噴射器上之切換。當這些參數隨著時差返回至該最初範圍(在該等設定值外側)時,該噴射器被停止。
根據本發明之又另一變型,氣體在用於該噴射器的操作所需要之壓力的流動係藉由壓縮機所提供。以值得注意之方式,此壓縮機可藉由該主要潤滑回轉葉片式泵浦、或另一選擇或此外以獨立自主的方式被驅動,而與該主要潤滑回轉葉片式泵浦無關。此壓縮機能在該止回閥之後吸入該氣體離開導管中的大氣空氣或氣體。此一壓縮機之存在提供該潤滑回轉葉片式真空泵系統,而與壓縮氣體來源無關,其能滿足某些工業環境的需求。該壓縮機能在用於複數個噴射器之操作所需要的壓力提供氣體之流動,分別形成具有當作主要泵浦的潤滑回轉葉片式泵浦之複數個真空泵系統的一部份。於該噴射器之連續操作的案例中以及於其根據藉由合適感測器所控制之參數的控制之案例中,該壓縮機亦形成該系統之一部份。
在另一方面,以更迅速地降低在此的壓力之目標,其亦為明顯的是該機械概念之研究試圖減少該主要潤滑回轉葉片式真空泵的氣體出口通孔及該止回閥間之空間。
1‧‧‧室
2‧‧‧吸入通孔
3‧‧‧真空泵
4‧‧‧空間
5‧‧‧導管
6‧‧‧排出閥
7‧‧‧噴射器
8‧‧‧氣體離開導管
9‧‧‧供給導管
10‧‧‧壓縮機
11‧‧‧感測器
12‧‧‧感測器
13‧‧‧感測器
SP‧‧‧泵送系統
SPP‧‧‧真空泵
本發明的特色及優點將在該敘述之情況內以更多細節
顯現,在該敘述隨後為經由說明及以非限制方式參考該等附圖所給與的示範實施例:圖1以概略方式表示適合用於根據本發明之第一實施例的泵送方法之實施的泵送系統;圖2以概略方式表示適合用於根據本發明之第二實施例的泵送方法之實施的泵送系統;及圖3以概略方式表示適合用於根據本發明之第三實施例的泵送方法之實施的泵送系統。
圖1表示適合用於根據本發明之第一實施例的泵送方法之實施的泵送系統SP。
該泵送系統SP包含室1,其係連接至主要潤滑回轉葉片式真空泵3之吸入通孔2。該主要潤滑回轉葉片式真空泵3的氣體出口通孔係連接至導管5。止回排出閥6被放置在該導管5中,其在此止回閥6之後持續進入氣體離開導管8。該止回閥6當其被關上時允許被包含於該主要真空泵3的該氣體出口通孔及其本身間之空間4的形成。該泵送系統SP亦包含平行地連接至該止回閥6之噴射器7。該噴射器的吸入通孔被連接至該導管5之空間4,且其排出通孔被連接至該導管8。該供給導管9提供用於該噴射器7的工作流體。
由該主要潤滑回轉葉片式真空泵3開始,用於該噴射器7之工作流體係注射經過該供給導管9。然後,該主要
潤滑回轉葉片式真空泵3經過在其入口所連接的通孔2吸入該室1中之氣體,並壓縮它們,以後來在其於該導管5中的出口經過該止回閥6排出它們。當用於該止回閥6之關閉壓力被抵達時,其關閉。由此瞬間開始,該噴射器7的泵吸造成該空間4中之壓力逐漸地減少至其限制壓力的值。同時,藉由該主要潤滑回轉葉片式真空泵3所消耗之功率逐漸地減少。這在短時間、例如達於5至10秒中之某一週期內發生。
再者,以該噴射器7的流率與該止回閥6之關閉壓力的巧妙調整,而當作該主要潤滑回轉葉片式真空泵3之流率及該室1的空間之函數,在相對於該排空週期的持續時間關閉該止回閥6之前,其係可能減少該時間,且如此在該噴射器7的此操作時間期間減少工作流體中之損失,而不會影響該泵送。再者,於該能量消耗量的評估中,這些微小之“損失”被考慮。在另一方面,與配備有可程式化自動控制及/或速率控制器、控制下之閥、感測器等的類似泵浦相比較,簡單性的優點給與該系統優異之可靠性以及低價格。
圖2表示適合用於根據本發明之第二實施例的泵送方法之實施的泵送系統SP。
相對於圖1中所表示之系統,圖2中所表示的系統另包含壓縮機10,該壓縮機在用於該噴射器7之操作所需要的壓力提供氣體之流動。實際上,此壓縮機10可在該止回閥6之後吸入該氣體出口8中的大氣空氣或氣體。其
之存在提供與壓縮氣體來源無關的泵送系統,其能滿足某些工業環境之需求。該壓縮機10可藉由該主要潤滑回轉葉片式泵浦3或藉由其自身的電動馬達被驅動,如此,以與該泵浦3完全獨立之方式被驅動。在所有案例中,與在該主要泵浦3的能量消耗量中所達成之利益比較,當該壓縮機在該需要的壓力提供氣體之流動,以便造成該噴射器7操作時,該壓縮機10的能量之消耗量大體上係較小的。
圖3表示適合用於根據本發明之第三實施例的泵送方法之實施的真空泵SPP之系統。
相對於圖1及2中所示系統,於圖3中所表示的系統對應於控制下之泵送系統,該泵送系統另包含感測器11、12、13,該等感測器控制譬如該主要潤滑回轉葉片式真空泵3的馬達電流(感測器11)、該主要潤滑回轉葉片式真空泵之出口導管的空間中之氣體的壓力(感測器13)(藉由該止回閥6所限制)、該主要潤滑回轉葉片式真空泵之出口導管的空間中之氣體的溫度(感測器12)(藉由該止回閥6所限制)、或這些參數之組合。實際上,當該主要潤滑回轉葉片式真空泵3開始泵送該真空室1的氣體時,這些被引用之參數(尤其是其馬達的電流、該出口導管4的空間中之氣體的溫度及壓力)開始改變及抵達藉由該等對應感測器11、12、13所偵測之閾值。這造成該噴射器7的啟動(在某一時差之後)。當這些參數返回至該最初範圍(在該等設定值之外)時,該噴射器被停止(再次於某一時差
之後)。當然,在圖2中所敘述的條件中,該控制下之泵送系統SSP可具有一供給網路或壓縮機10當作壓縮氣體來源。
本發明確定地遭受關於其實施的極多變動。雖然不同實施例已被敘述,其被很好地了解以徹底之方式認知所有可能的實施例係不可能的。當然,以同等機制取代所敘述之機制可被預見,而未由本發明的範圍脫離。所有這些修改形成熟習此真空技術領域中之技藝者的普通知識之一部份。
1‧‧‧室
2‧‧‧吸入通孔
3‧‧‧真空泵
4‧‧‧空間
5‧‧‧導管
6‧‧‧排出閥
7‧‧‧噴射器
8‧‧‧氣體離開導管
9‧‧‧供給導管
Claims (34)
- 一種泵送系統(SP、SPP)中的泵送方法,包含:主要潤滑回轉葉片式真空泵(3),具有連接至真空室(1)之氣體入口通孔(2)、及在出現進入該泵送系統(SP、SPP)的氣體出口(8)之前通入導管(5)的氣體出口通孔(4);止回閥(6),於該氣體出口通孔(4)與該氣體出口(8)之間被定位在該導管(5)中,及噴射器(7),被平行連接至該止回閥(6),該泵送方法的特徵在於該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)被開動,以便泵送該真空室(1)中所含有之氣體經過該氣體出口通孔(4);該噴射器(7)同時被供給以工作流體;及在該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)泵送該真空室(1)中所含有之氣體期間、及/或在該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)維持該真空室(1)中之界定壓力期間,該噴射器(7)持續被供給以工作流體。
- 如申請專利範圍第1項之泵送方法,其中該噴射器(7)的出口在該止回閥(6)之後重新接合該導管(5)。
- 如申請專利範圍第1或2項之泵送方法,其中該噴射器(7)的尺寸被設計,以便具有工作流體之最小消耗量。
- 如申請專利範圍第1至3項的任一項之泵送方法,其中該噴射器(7)的額定流率係取決於該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)的出口導管(5)之容量被選擇,該容量 被該止回閥(6)所限制。
- 如申請專利範圍第4項之泵送方法,其中該噴射器的流率係由該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)之額定流率的1/500至1/20。
- 如申請專利範圍第1至5項的任一項之泵送方法,其中該噴射器(7)的工作流體係壓縮空氣及/或氮。
- 如申請專利範圍第1至6項的任一項之泵送方法,其中該噴射器(7)係單級式或多級式。
- 如申請專利範圍第1至7項的任一項之泵送方法,其中當在該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)的吸入端之壓力係於500毫巴絕對壓力及該最後真空之間時,該止回閥(6)關閉。
- 如申請專利範圍第1至8項的任一項之泵送方法,其中該噴射器(7)係由對一般被使用於化學工業及/或半導體工業的物質及氣體具有升高之化學阻抗的材料所製成。
- 如申請專利範圍第1至9項的任一項之泵送方法,其中該噴射器(7)被整合至匣體中,該匣體併有該止回閥(6)。
- 如申請專利範圍第10項之泵送方法,其中該匣體本身被容納在該主要潤滑回轉葉片式真空泵的油分離器中。
- 如申請專利範圍第1至11項的任一項之泵送方法,其中該氣體在用於噴射器(7)的操作所需要之壓力下 的流動係藉由壓縮機(10)所提供。
- 如申請專利範圍第12項之泵送方法,其中該壓縮機(10)係藉由該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)所驅動。
- 如申請專利範圍第12項之泵送方法,其中該壓縮機(10)被獨立自主地驅動,而與該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)無關。
- 如申請專利範圍第12至14項的任一項之泵送方法,其中該壓縮機(10)在該止回閥(6)之後吸入該氣體離開導管(8)的大氣空氣或氣體。
- 如申請專利範圍第1至15項的任一項之泵送方法,其中該至少一操作參數被測量及使用於開動或停止該噴射器(7)。
- 如申請專利範圍第16項之泵送方法,其中該至少一操作參數係該潤滑回轉葉片式真空泵(3)的馬達電流、藉由該止回閥(6)所限制之主要潤滑回轉葉片式真空泵的出口導管之空間中的氣體之壓力、藉由該止回閥(6)所限制的主要潤滑回轉葉片式真空泵之出口導管的空間中之氣體之溫度、或這些參數的組合。
- 一種泵送系統(SP、SPP),包含:主要潤滑回轉葉片式真空泵(3),具有連接至真空室(1)之氣體入口通孔(2)、及在出現進入該真空泵(SP)的系統之氣體出口(8)之前通入導管(5)的氣體出口通孔(4);止回閥(6),於該氣體出口通孔(4)與該氣體出口(8)之間被定位在該導管(5)中,及 噴射器(7),被平行連接至該止回閥(6),該泵送系統(SP、SPP)的特徵在於在該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)泵送該真空室(1)中所含有之氣體期間、及/或在該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)維持該真空室(1)中之界定壓力期間,該噴射器(7)被配置成能夠被供給以工作流體。
- 如申請專利範圍第18項之泵送系統,其中該噴射器(7)的出口在該止回閥(6)之後重新接合該導管(5)。
- 如申請專利範圍第18或19項之泵送系統,其中該噴射器(7)的尺寸被設計,以便具有工作流體之最小消耗量。
- 如申請專利範圍第18至20項的任一項之泵送系統,其中該噴射器(7)的額定流率係取決於該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)的出口導管(5)之容量被選擇,該容量被該止回閥(6)所限制。
- 如申請專利範圍第21項之泵送系統,其中該噴射器的流率係由該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)之額定流率的1/500至1/20。
- 如申請專利範圍第18至22項的任一項之泵送系統,其中該噴射器(7)的工作流體係壓縮空氣及/或氮。
- 如申請專利範圍第18至23項的任一項之泵送系統,其中該噴射器(7)係單級式或多級式。
- 如申請專利範圍第18至24項的任一項之泵送系統,其中當在該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)的吸入端 之壓力係於500毫巴絕對壓力及該最後真空之間時,該止回閥(6)關閉。
- 如申請專利範圍第18至25項的任一項之泵送系統,其中該噴射器(7)係由對一般被使用於化學工業及/或半導體工業的物質及氣體具有升高之化學阻抗的材料所製成。
- 如申請專利範圍第18至26項的任一項之泵送系統,其中該噴射器(7)被整合至匣體中,該匣體併有該止回閥(6)。
- 如申請專利範圍第27項之泵送系統,其中該匣體本身被容納在該主要潤滑回轉葉片式真空泵的油分離器中。
- 如申請專利範圍第18至28項的任一項之泵送系統,其中該系統包含壓縮機(10),其提供該氣體在用於該噴射器(7)的操作所需要之壓力下的流動。
- 如申請專利範圍第29項之泵送系統,其中該壓縮機(10)係藉由該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)所驅動。
- 如申請專利範圍第29項之泵送系統,其中該壓縮機(10)被獨立自主地驅動,而與該主要潤滑回轉葉片式真空泵(3)無關。
- 如申請專利範圍第29至31項的任一項之泵送系統,其中該壓縮機(10)在該止回閥(6)之後吸入該氣體離開導管(8)中的大氣空氣或氣體。
- 如申請專利範圍第18至32項的任一項之泵送系 統,其中該泵送系統包含至少一感測器(11、12、13),用於測量至少一操作參數及用於使用該泵送系統,以便開動或停止該噴射器(7)。
- 如申請專利範圍第34項之泵送系統,其中該至少一操作參數係該潤滑回轉葉片式真空泵(3)的馬達電流、藉由該止回閥(6)所限制之主要潤滑回轉葉片式真空泵的出口導管之空間中的氣體之壓力、藉由該止回閥(6)所限制的主要潤滑回轉葉片式真空泵之出口導管的空間中之氣體之溫度、或這些參數的組合。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/EP2014/058948 WO2015165544A1 (fr) | 2014-05-01 | 2014-05-01 | Méthode de pompage dans un système de pompage et système de pompes à vide |
WOPCT/EP2014/058948 | 2014-05-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201608134A true TW201608134A (zh) | 2016-03-01 |
TWI698585B TWI698585B (zh) | 2020-07-11 |
Family
ID=50639522
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW104114058A TWI698585B (zh) | 2014-05-01 | 2015-05-01 | 泵送系統中的泵送方法及真空泵的系統 |
Country Status (15)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20170045051A1 (zh) |
EP (1) | EP3137771B1 (zh) |
JP (1) | JP6410836B2 (zh) |
KR (1) | KR102235562B1 (zh) |
CN (1) | CN106255828A (zh) |
AU (1) | AU2014392229B2 (zh) |
BR (1) | BR112016024380B1 (zh) |
CA (1) | CA2944825C (zh) |
DK (1) | DK3137771T3 (zh) |
ES (1) | ES2797400T3 (zh) |
PL (1) | PL3137771T3 (zh) |
PT (1) | PT3137771T (zh) |
RU (1) | RU2666379C2 (zh) |
TW (1) | TWI698585B (zh) |
WO (1) | WO2015165544A1 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI826664B (zh) * | 2019-04-05 | 2023-12-21 | 法商普發真空公司 | 乾式真空泵及泵抽裝置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6445041B2 (ja) * | 2014-03-24 | 2018-12-26 | アテリエ ビスク ソシエテ アノニムAtelier Busch SA | 真空ポンプシステムの圧送方法および真空ポンプシステム |
CN113621936A (zh) * | 2021-10-12 | 2021-11-09 | 陛通半导体设备(苏州)有限公司 | 一种真空镀膜中真空泵系统的工作方法及真空泵系统 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52128885A (en) * | 1976-04-22 | 1977-10-28 | Fujitsu Ltd | Treatment in gas phase |
US4426450A (en) * | 1981-08-24 | 1984-01-17 | Fermentec Corporation | Fermentation process and apparatus |
DE3721611A1 (de) * | 1987-06-30 | 1989-01-19 | Alcatel Hochvakuumtechnik Gmbh | Mechanische vakuumpumpe mit einer federbelasteten rueckschlagklappe |
SU1700283A1 (ru) * | 1989-05-05 | 1991-12-23 | Предприятие П/Я А-3634 | Вакуумный насос |
JPH08178438A (ja) * | 1994-12-21 | 1996-07-12 | Yanmar Diesel Engine Co Ltd | エンジンヒートポンプ |
US5848538A (en) * | 1997-11-06 | 1998-12-15 | American Standard Inc. | Oil and refrigerant pump for centrifugal chiller |
US20040173312A1 (en) * | 2001-09-06 | 2004-09-09 | Kouji Shibayama | Vacuum exhaust apparatus and drive method of vacuum apparatus |
US6589023B2 (en) * | 2001-10-09 | 2003-07-08 | Applied Materials, Inc. | Device and method for reducing vacuum pump energy consumption |
SE0201335L (sv) * | 2002-05-03 | 2003-03-25 | Piab Ab | Vakuumpump och sätt att tillhandahålla undertryck |
US7254961B2 (en) * | 2004-02-18 | 2007-08-14 | Denso Corporation | Vapor compression cycle having ejector |
US7655140B2 (en) * | 2004-10-26 | 2010-02-02 | Cummins Filtration Ip Inc. | Automatic water drain for suction fuel water separators |
US8807158B2 (en) * | 2005-01-20 | 2014-08-19 | Hydra-Flex, Inc. | Eductor assembly with dual-material eductor body |
DE102005008887A1 (de) * | 2005-02-26 | 2006-08-31 | Leybold Vacuum Gmbh | Einwellige Vakuum-Verdränderpumpe |
JP4745779B2 (ja) * | 2005-10-03 | 2011-08-10 | 神港精機株式会社 | 真空装置 |
DE102008019472A1 (de) * | 2008-04-17 | 2009-10-22 | Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh | Vakuumpumpe |
JP5389419B2 (ja) * | 2008-11-14 | 2014-01-15 | 株式会社テイエルブイ | 真空ポンプ装置 |
GB2465374A (en) * | 2008-11-14 | 2010-05-19 | Mann & Hummel Gmbh | Centrifugal separator with venturi |
FR2952683B1 (fr) * | 2009-11-18 | 2011-11-04 | Alcatel Lucent | Procede et dispositif de pompage a consommation d'energie reduite |
GB201007814D0 (en) * | 2010-05-11 | 2010-06-23 | Edwards Ltd | Vacuum pumping system |
US20120261011A1 (en) * | 2011-04-14 | 2012-10-18 | Young Man Cho | Energy reduction module using a depressurizing vacuum apparatus for vacuum pump |
FR2993614B1 (fr) * | 2012-07-19 | 2018-06-15 | Pfeiffer Vacuum | Procede et dispositif de pompage d'une chambre de procedes |
-
2014
- 2014-05-01 US US15/306,175 patent/US20170045051A1/en not_active Abandoned
- 2014-05-01 WO PCT/EP2014/058948 patent/WO2015165544A1/fr active Application Filing
- 2014-05-01 AU AU2014392229A patent/AU2014392229B2/en active Active
- 2014-05-01 PT PT147213615T patent/PT3137771T/pt unknown
- 2014-05-01 DK DK14721361.5T patent/DK3137771T3/da active
- 2014-05-01 PL PL14721361T patent/PL3137771T3/pl unknown
- 2014-05-01 CA CA2944825A patent/CA2944825C/fr active Active
- 2014-05-01 CN CN201480078447.9A patent/CN106255828A/zh active Pending
- 2014-05-01 KR KR1020167030629A patent/KR102235562B1/ko active IP Right Grant
- 2014-05-01 EP EP14721361.5A patent/EP3137771B1/fr active Active
- 2014-05-01 BR BR112016024380-3A patent/BR112016024380B1/pt active IP Right Grant
- 2014-05-01 ES ES14721361T patent/ES2797400T3/es active Active
- 2014-05-01 JP JP2016559425A patent/JP6410836B2/ja active Active
- 2014-05-01 RU RU2016142607A patent/RU2666379C2/ru active
-
2015
- 2015-05-01 TW TW104114058A patent/TWI698585B/zh active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI826664B (zh) * | 2019-04-05 | 2023-12-21 | 法商普發真空公司 | 乾式真空泵及泵抽裝置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
RU2016142607A3 (zh) | 2018-06-01 |
BR112016024380A2 (pt) | 2017-08-15 |
JP2017515031A (ja) | 2017-06-08 |
RU2016142607A (ru) | 2018-06-01 |
ES2797400T3 (es) | 2020-12-02 |
AU2014392229B2 (en) | 2018-11-22 |
RU2666379C2 (ru) | 2018-09-07 |
KR20170005410A (ko) | 2017-01-13 |
WO2015165544A1 (fr) | 2015-11-05 |
US20170045051A1 (en) | 2017-02-16 |
TWI698585B (zh) | 2020-07-11 |
BR112016024380B1 (pt) | 2022-06-28 |
CA2944825C (fr) | 2021-04-27 |
CA2944825A1 (fr) | 2015-11-05 |
EP3137771B1 (fr) | 2020-05-06 |
PL3137771T3 (pl) | 2020-10-05 |
KR102235562B1 (ko) | 2021-04-05 |
EP3137771A1 (fr) | 2017-03-08 |
CN106255828A (zh) | 2016-12-21 |
PT3137771T (pt) | 2020-05-29 |
JP6410836B2 (ja) | 2018-10-24 |
DK3137771T3 (da) | 2020-06-08 |
AU2014392229A1 (en) | 2016-11-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102330815B1 (ko) | 진공을 발생시키기 위한 펌핑 시스템 및 이 펌핑 시스템에 의한 펌핑 방법 | |
US11725662B2 (en) | Method of pumping in a system of vacuum pumps and system of vacuum pumps | |
TW201608134A (zh) | 泵送系統中的泵送方法及真空泵的系統 | |
TWI725943B (zh) | 用於產生真空的泵送系統及利用此泵送系統的泵送方法 | |
KR102190221B1 (ko) | 진공 펌프 시스템 및 진공 펌프 시스템에서의 펌핑 방법 |