TW201545982A - 製備沈澱二氧化矽的新穎的方法，新穎的沈澱二氧化矽及其用途，尤其是用於增強聚合物 - Google Patents

製備沈澱二氧化矽的新穎的方法，新穎的沈澱二氧化矽及其用途，尤其是用於增強聚合物 Download PDF

Info

Publication number
TW201545982A
TW201545982A TW104106405A TW104106405A TW201545982A TW 201545982 A TW201545982 A TW 201545982A TW 104106405 A TW104106405 A TW 104106405A TW 104106405 A TW104106405 A TW 104106405A TW 201545982 A TW201545982 A TW 201545982A
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
acid
filter cake
cerium oxide
added
liquefaction operation
Prior art date
Application number
TW104106405A
Other languages
English (en)
Other versions
TWI657045B (zh
Inventor
Cedric Boivin
Laurent Guy
Eric Perin
Kilani Lamiri
Original Assignee
Rhodia Operations
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rhodia Operations filed Critical Rhodia Operations
Publication of TW201545982A publication Critical patent/TW201545982A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI657045B publication Critical patent/TWI657045B/zh

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C08K3/36—Silica
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B60—VEHICLES IN GENERAL
    • B60C—VEHICLE TYRES; TYRE INFLATION; TYRE CHANGING; CONNECTING VALVES TO INFLATABLE ELASTIC BODIES IN GENERAL; DEVICES OR ARRANGEMENTS RELATED TO TYRES
    • B60C1/00—Tyres characterised by the chemical composition or the physical arrangement or mixture of the composition
    • B60C1/0016—Compositions of the tread
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
    • C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
    • C01B33/18—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof
    • C01B33/187—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates
    • C01B33/193—Preparation of finely divided silica neither in sol nor in gel form; After-treatment thereof by acidic treatment of silicates of aqueous solutions of silicates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28—Compounds of silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28—Compounds of silicon
    • C09C1/30—Silicic acid
    • C09C1/3045—Treatment with inorganic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28—Compounds of silicon
    • C09C1/30—Silicic acid
    • C09C1/3063—Treatment with low-molecular organic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28—Compounds of silicon
    • C09C1/30—Silicic acid
    • C09C1/3072—Treatment with macro-molecular organic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK  ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
    • C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
    • C09C1/28—Compounds of silicon
    • C09C1/30—Silicic acid
    • C09C1/309—Combinations of treatments provided for in groups C09C1/3009 - C09C1/3081
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/51—Particles with a specific particle size distribution
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00—Particle morphology
    • C01P2004/60—Particles characterised by their size
    • C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C01—INORGANIC CHEMISTRY
    • C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12—Surface area
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K2201/00—Specific properties of additives
    • C08K2201/002—Physical properties
    • C08K2201/006—Additives being defined by their surface area
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2201/00—Properties
    • C08L2201/02—Flame or fire retardant/resistant
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00—Applications
    • C08L2203/18—Applications used for pipes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00—Applications
    • C08L2203/20—Applications use in electrical or conductive gadgets
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00—Applications
    • C08L2203/20—Applications use in electrical or conductive gadgets
    • C08L2203/202—Applications use in electrical or conductive gadgets use in electrical wires or wirecoating

Abstract

本發明涉及一種用於製備沈澱二氧化矽之新穎方法，其中：- 使一矽酸鹽與一酸化劑反應，以便獲得一沈澱二氧化矽之懸浮液，- 將所述沈澱二氧化矽之懸浮液過濾，以便獲得一濾餅，- 將所述濾餅經受一液化操作，- 在該液化操作之後，執行一乾燥步驟，其特徵在於在該液化操作期間或之後將至少一種多元羧酸添加到該濾餅中。 本發明還涉及新穎的沈澱二氧化矽及其用途。

Description

製備沈澱二氧化矽的新穎的方法，新穎的沈澱二氧化矽及其用途，尤其是用於增強聚合物
本發明涉及一種用於製備沈澱二氧化矽之新穎方法，涉及新穎的沈澱二氧化矽及其應用，諸如聚合物之增強。
已知的慣例係在聚合物，特別是彈性體中使用增強白色填充劑，例如沈澱二氧化矽。
本發明之目的尤其是提供一種用於聚合物組合物之可替代的填充劑，該填充劑有利地為該等聚合物組合物提供它們的黏度之降低以及它們的動態特性之改進，同時保持它們的機械特性。它由此有利地能夠實現在滯後/增強折中方面之改進。
本發明首先提供了一種用於製備沈澱二氧化矽之新穎方法，該方法在液化操作期間或之後使用至少一種多元羧酸。
總體上，沈澱二氧化矽的製備係藉由以下進行的：一矽酸鹽(如鹼金屬的矽酸鹽，例如矽酸鈉)與一酸化劑(例如硫酸)之沈澱反應，隨後藉由過濾分離，產生了所得到的沈澱二氧化矽的一濾餅，緊接著液化所述濾餅並且，最終，乾燥(通常藉由霧化)。二氧化矽能夠以任何 方式沈澱：具體地，將酸化劑添加到一矽酸鹽原料中或將酸化劑和矽酸鹽全部或部分同時添加到一水或矽酸鹽之原料中。
本發明之主題之一係一種類型用於製備沈澱二氧化矽之新穎方法，該類型方法包括一矽酸鹽與一酸化劑之間的沈澱反應，由此獲得了一沈澱二氧化矽之懸浮液，緊接著分離和乾燥此懸浮液，其中：- 在該沈澱反應過程中添加至少一種鋁化合物，-過濾在該沈澱反應之後獲得的二氧化矽懸浮液，- 使在該過濾之後獲得的濾餅經受一液化操作，- 乾燥由此獲得的濾餅，較佳的是具有不超過25%之固體含量，所述方法之特徵在於將至少一種多元羧酸(例如多元羧酸的一混合物)添加到該濾餅中，或者在該液化操作期間，或者在該液化操作之後且在該乾燥步驟之前。
根據本發明，矽酸鹽與酸化劑之沈澱反應，在該反應期間添加至少一種鋁化合物，可以根據如在專利申請EP-A-0 762 992、EP-A-0 762 993、EP-A-0 983 966以及EP-A-1 355 856中所描述的沈澱反應進行。
較佳的是，用於製備根據本發明的沈澱二氧化矽之方法，包括一矽酸鹽與一酸化劑之間之沈澱反應，由此獲得了一沈澱二氧化矽之懸浮液，緊接著分離和乾燥此懸浮液，係一用於製備沈澱二氧化矽之方法，其特徵在於它包括以下順序步驟：- 該沈澱反應係以下列方式進行：(i)形成一包含矽酸鹽和電解質的初始原料，所述初始原料中的矽酸鹽(以SiO2表示)的濃度係低於100g/l並且所述初始原料中的電解質之濃度係低於17g/l，(ii)將該酸化劑添加到所述原料中直至獲得至少7的該反應介質之pH值， (iii)將酸化劑和矽酸鹽同時添加到該反應介質中，- 過濾所獲得的二氧化矽懸浮液，- 使在該過濾之後獲得的濾餅經受一液化操作，- 乾燥由此獲得的濾餅，較佳的是具有不超過25%之固體含量，所述方法包括以下三個操作(a)、(b)或(c)之一：(a)在步驟(iii)之後，將至少一種鋁化合物A以及，隨後地或同時地，將一鹼性試劑添加到該反應介質中，(b)在步驟(iii)之後或代替步驟(iii)，將一矽酸鹽和至少一種鋁化合物A同時添加到該反應介質中，(c)步驟(iii)係藉由將酸化劑、矽酸鹽和至少一種鋁化合物B同時添加到該反應介質中進行的，並且其特徵在於將至少一種多元羧酸(例如多元羧酸的一混合物)添加到該濾餅中，或者在該液化操作期間，或者在該液化操作之後且在該乾燥步驟之前。
該液化操作係一流化或分解操作，其中使該濾餅成為液態、該沈澱二氧化矽再一次處於懸浮液中。
根據本發明的一第一實施方式，使該濾餅經受一液化操作，在該操作期間或之後引入至少一種多元羧酸。隨後乾燥(通常藉由霧化)然後獲得的混合物(沈澱二氧化矽的懸浮液)。
在此實施方式的一第一變體中，此液化操作係藉由以下方式進行：藉由添加至少一種多元羧酸使該濾餅經受一化學作用，較佳的是與通常引起懸浮的二氧化矽的粒度降低的機械作用(例如，藉由穿過一連續攪拌槽或穿過一膠體類型的研磨機)相結合。液化後獲得的懸浮液(特別是水性懸浮液)具有一相對低的黏度。
在此第一實施方式的一第二變體中，此液化操作係藉由以下方式進行：使該濾餅經受一通常引起懸浮的二氧化矽的粒度降低之機械 作用(例如，藉由穿過一連續攪拌槽或穿過一膠體類型的研磨機)。
在此第二變體中，也就是說，在該液化操作之後將至少一種多元羧酸添加到該分解的二氧化矽濾餅中。
根據本發明的一第二較佳的實施方式，該液化操作包括添加至少一種鋁化合物C。
因此，根據本發明之此第二實施方式，使該濾餅經受一液化操作，在該液化操作期間引入至少一種鋁化合物C和至少一種多元羧酸或者在該液化操作之後引入至少一種多元羧酸。隨後乾燥(通常藉由霧化)然後獲得的混合物(沈澱二氧化矽之懸浮液)。
在本發明之此第二實施方式的兩種第一變體中，此液化操作係藉由以下方式進行：藉由添加至少一種鋁化合物C(例如鋁酸鈉)和至少一種多元羧酸使該濾餅經受一化學作用，較佳的是與通常引起懸浮的二氧化矽的粒度降低的機械作用(例如，藉由穿過一連續攪拌槽或穿過一膠體類型的研磨機)相結合。液化後獲得的懸浮液(特別是水性懸浮液)具有一相對低的黏度。
在此實施方式的該第一變體中，在該液化操作期間，將至少一種鋁化合物C和至少一種多元羧酸同時添加(共添加)到該濾餅中。
在此實施方式的第二變體中，在該液化操作期間，在添加至少一種多元羧酸之前將至少一種鋁化合物C添加到該濾餅中。
在此第二實施方式的一第三變體中，此液化操作係藉由以下方式進行：藉由添加至少一種鋁化合物C(例如鋁酸鈉)使該濾餅經受一化學作用，較佳的是與通常引起懸浮的二氧化矽的粒度降低之機械作用(例如，藉由穿過一連續攪拌槽或穿過一膠體類型的研磨機)相結合。
在此第三變體中，也就是說，在該液化操作之後將至少一種多元羧酸添加到該分解的二氧化矽濾餅中。
根據本發明，待經受液化操作的濾餅可以由若干個濾餅之混合物組成，所述濾餅的每一個藉由過濾事先獲得的二氧化矽的懸浮液的一部分獲得(在過濾之前，將此懸浮液分成若干部分)。
根據本發明，術語“多元羧酸”係指包含至少兩個羧酸官能團之多元羧酸。術語“羧酸官能團”在此採取其通常含義並且指的是-COOH官能團。
根據本發明所使用的多元羧酸可以含有兩個、三個、四個或多於四個羧酸官能團。
根據本發明，該多元羧酸較佳的是選自二羧酸和三羧酸。
根據本發明，所使用的多元羧酸可以是直鏈或支鏈的、飽和或不飽和的、含有從2至20個碳原子之脂肪族多元羧酸或芳香族多元羧酸。該多元羧酸可以可隨意地包含羥基基團和/或鹵素原子。脂肪族多元羧酸在主鏈中可以可隨意地包含多個雜原子，例如N或S。總體上，根據本發明所使用的多元羧酸選自由直鏈或支鏈的、飽和或不飽和的、含有從2至16個碳原子之脂肪族多元羧酸和芳香族多元羧酸組成之群組。
在脂肪族多元羧酸中，可以提及的是含有從2至14個碳原子並且較佳的是從2至12個碳原子的直鏈的、飽和或不飽和的多元羧酸。所使用的多元羧酸可以含有2、3、4、5、6、7、8、9、10、11或12個碳原子。有利地，所使用的多元羧酸可以含有4、5、6、7、8、9或10個碳原子，並且較佳的是4、5、6、7或8個碳原子。例如，所使用的多元羧酸可以含有4、5或6個碳原子。
具體地，在本發明中使用的直鏈脂肪族多元羧酸的可以提及的非限制性實例包括選自由以下各項組成的組中之酸：草酸、丙二酸、丙三酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸以及癸二酸。
在支鏈多元羧酸中，可以提及的是甲基琥珀酸、乙基琥珀酸、草醯琥珀酸、甲基己二酸、甲基戊二酸以及二甲基戊二酸。術語“甲基戊二酸”係指2-甲基戊二酸和3-甲基戊二酸二者以及還有這兩種異構物處於任何比例的混合物。術語“2-甲基戊二酸”用來指示該化合物的(S)和(R)這兩種形式以及消旋混合物。
在不飽和的多元羧酸中，可以提及的是馬來酸、富馬酸、衣康酸、黏康酸、烏頭酸、愈傷酸以及戊烯二酸。
在包含羥基基團的多元羧酸中，可以提及的是蘋果酸、檸檬酸、異檸檬酸以及酒石酸。
在芳香族多元羧酸中，可以提及的是苯二甲酸類，即鄰苯二甲酸(phthalic acid)、對苯二甲酸(ortophthalic acid)、間苯二甲酸、均苯三酸以及偏苯三酸。
較佳的是，在根據本發明方法中使用的多元羧酸選自由以下各項組成之群組：草酸、丙二酸、丙三酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、甲基琥珀酸、乙基琥珀酸、甲基己二酸、甲基戊二酸、二甲基戊二酸、蘋果酸、檸檬酸、異檸檬酸以及酒石酸。
較佳的是，該等二羧酸和三羧酸選自己二酸、琥珀酸、乙基琥珀酸、戊二酸、甲基戊二酸、草酸以及檸檬酸。
該多元羧酸還可以選自由以下各項組成之群組：草酸、丙二酸、丙三酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、甲基琥珀酸、乙基琥珀酸、甲基己二酸、甲基戊二酸、二甲基戊二酸、蘋果酸、檸檬酸、異檸檬酸以及酒石酸。較佳的是，該多元羧酸可以選自由以下各項組成之群組：草酸、丙二酸、琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、甲基琥珀酸、乙基琥珀酸、甲基己二酸、甲基戊二酸、二甲基戊二酸、蘋果酸、檸檬 酸、異檸檬酸以及酒石酸。非常較佳的是，該多元羧酸可以選自由以下各項組成之群組：琥珀酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、甲基琥珀酸、乙基琥珀酸、甲基己二酸、甲基戊二酸、二甲基戊二酸、蘋果酸、檸檬酸以及酒石酸。
在本發明的一第一實施方式中，將一單一的多元羧酸添加到濾餅中。
較佳的是，該多元羧酸於是為琥珀酸。
較佳的是，當該多元羧酸係琥珀酸時，將其在液化操作之後添加到濾餅中。
在本發明的一第二較佳的實施方式中，將多元羧酸的一混合物添加到濾餅中，所述混合物包含如以上所定義的至少兩種多元羧酸。該混合物可以包含兩種、三種、四種或多於四種多元羧酸。
較佳的是，該混合物的多元羧酸於是選自己二酸、琥珀酸、乙基琥珀酸、戊二酸、甲基戊二酸、草酸以及檸檬酸。
根據本發明，多元羧酸的混合物較佳的是二羧酸和/或三羧酸的一種混合物，尤其是至少兩種(較佳的是至少三種)二羧酸和/或三羧酸的一種混合物，特別是三種二羧酸和/或三羧酸的一種混合物。
較佳的是，多元羧酸的混合物係二羧酸的一混合物，尤其是至少三種二羧酸的一種混合物，特別是三種二羧酸的一混合物。總體上，該混合物由三種二羧酸組成，儘管雜質可以通常不超過總混合物的按重量計2.00%的量存在。
根據本發明的一較佳的變體，在本發明中使用的多元羧酸之混合物包含以下酸：己二酸、戊二酸以及琥珀酸。例如，多元羧酸的混合物包含按重量計從15.00%至35.00%的己二酸、按重量計從40.00%至60.00%的戊二酸以及按重量計從15.00%至25.00%的琥珀酸。
根據本發明的此第一較佳的變體的多元羧酸之混合物可以產生 於一用於製造己二酸之方法。
根據本發明的另一個較佳的變體，在本發明中使用的多元羧酸的混合物包含以下酸：甲基戊二酸、乙基琥珀酸以及己二酸。這三種酸可以所有比例存在於該混合物中。例如，多元羧酸的混合物包含按重量計從60.00%至96.00%的甲基戊二酸、按重量計從3.90%至20.00%的乙基琥珀酸以及按重量計從0.05%至20.00%的己二酸。
根據本發明的此第二較佳的變體的多元羧酸的混合物可以產生於一用於製造己二酸之方法。
有利地，根據本發明的此第二較佳的變體的多元羧酸的混合物可以藉由酸水解(較佳的是藉由鹼水解)一種甲基戊二腈、乙基琥珀腈和己二腈之混合物獲得，該混合物產生自用於藉由丁二烯的氫氰化製造己二腈之方法，己二腈係合成己二胺的一重要中間體。
根據本發明所使用的一種或多種多元羧酸，特別是二羧酸和/三羧酸的一些或所有可以處於羧酸衍生物之形式，即處於酸酐、酯、鹼金屬(例如鈉或鉀)鹽(羧酸鹽)、鹼土金屬(例如鈣)鹽(羧酸鹽)或銨鹽(羧酸鹽)形式。術語“羧酸酯(carboxylate)”在下文中將用來指示如之前所定義的羧酸官能團的衍生物。
例如，多元羧酸的混合物可以是包含以下項的一混合物：- 甲基戊二酸(具體地按重量計從60.00%至96.00%，例如按重量計從90.00%至95.50%)，- 乙基琥珀酸酐(具體地按重量計從3.90%至20.00%，例如按重量計從3.90%至9.70%)，- 己二酸(具體地按重量計從0.05%至20.00%，例如按重量計從0.10%至0.30%)。
多元羧酸的混合物還可以是包含以下項的一混合物：- 甲基戊二酸(具體地按重量計從10.00%至50.00%，例如按重量 計從25.00%至40.00%)，- 甲基戊二酸酐(具體地按重量計從40.00%至80.00%，例如按重量計從55.00%至70.00%)，- 乙基琥珀酸酐(具體地按重量計從3.90%至20.00%，例如從3.90%至9.70%)，- 己二酸(具體地按重量計從0.05%至20.00%，例如按重量計從0.10%至0.30%)。
根據本發明所使用的混合物可以可隨意地包含雜質。
在本發明中使用的多元羧酸在被添加到濾餅中之前可以可隨意地被預先中和(特別是藉由用一鹼(例如氫氧化鈉或氫氧化鉀類型)對它們預處理)。這使得有可能具體地改變所獲得的二氧化矽的pH。
該等多元羧酸能夠以一水溶液形式使用。
較佳的是，在液化操作期間在本發明的第二實施方式中使用的鋁化合物C選自鹼金屬鋁酸鹽。具體地，該鋁化合物係鋁酸鈉。
根據本發明，所使用的鋁化合物C(特別是鋁酸鈉)的量通常是使得鋁化合物與在該濾餅中含有的二氧化矽(以SiO2表示)的量之比率為按重量計在0.20%與0.50%之間、較佳的是按重量計在0.25%與0.45%之間。
所使用的一種或多種多元羧酸的量通常是使得一種或多種多元羧酸與在該濾餅(在添加至少一種多元羧酸時)中含有的二氧化矽(以SiO2表示)的量之比率為按重量計在0.50%與2.00%之間、較佳的是按重量計在0.55%與1.75%之間、特別是按重量計在0.60%與1.20%之間、例如按重量計在0.65%與1.25%之間。
在本發明中，濾餅可以可隨意地被洗滌。
在液化操作期間或之後，使用多元羧酸的混合物和一系列特定步驟給予所獲得的產物它們的特定的特徵和特性。
該酸化劑和鹼金屬矽酸鹽M的選擇係以一本身眾所周知的方式進行。
通常使用一強無機酸諸，如硫酸、硝酸或鹽酸、或者還有一種有機酸，如乙酸、甲酸或碳酸作為酸化劑。
該酸化劑可以是稀釋的或濃縮的；其當量濃度可以是在0.4與36N之間，例如在0.6與1.5N之間。
具體地，在其中該酸化劑係硫酸情況下，其濃度可以是在40與180g/l之間，例如在60與130g/l之間。
作為矽酸鹽，可以使用任何常見形式的矽酸鹽，如偏矽酸鹽、二矽酸鹽並且有利地一鹼金屬M矽酸鹽其中M係鈉或鉀。
該矽酸鹽可以具有在40與330g/l之間、例如在60與300g/l之間的濃度(以SiO2表示)。
較佳的是，使用硫酸作為酸化劑並使用矽酸鈉作為矽酸鹽。
在其中使用矽酸鈉情況下，後者通常具有的SiO2/Na2O重量比為在2.0與4.0之間，特別是在2.4與3.9之間，例如在3.1與3.8之間。
首先形成一包含矽酸鹽和電解質之水性原料(步驟(i))。初始原料中存在的矽酸鹽的量有利地僅表示參與反應的矽酸鹽的總量的一部分。
術語“電解質”在本文中應理解為其通常所認可的含義，即，電解質係指在溶液中時分解或離解以形成離子或帶電微粒的任何離子或分子的物質。作為電解質，可以提及的是一來自鹼金屬鹽和鹼土金屬鹽的組之鹽，特別是起始矽酸鹽金屬與酸化劑的鹽，例如在矽酸鈉與鹽酸反應的情況下的氯化鈉或，較佳的是，在矽酸鈉與硫酸反應的情況下的硫酸鈉。
初始原料中的電解質的濃度係(大於0g/l並且)小於17g/l，例如小於14g/l。
初始原料中的矽酸鹽(以SiO2表示)的濃度係(大於0g/l並且)小於100g/l；較佳的是，此濃度係小於90g/l，特別是小於85g/l。
第二步驟(步驟(ii))包括將酸化劑添加到以上所描述之組合物原料中。
進行此添加(導致反應介質的pH的相關的下降)直到達到至少7.0，通常在7.0與8.0之間的pH值。
一旦達到所希望的pH值，然後進行酸化劑和矽酸鹽之同時添加(步驟(iii))。
此同時添加通常以這樣一方式進行使得該反應介質的pH值始終等於(在±0.1之內)在步驟(ii)之後達到的值。
此製備方法包括前面提到的三個操作(a)、(b)和(c)之一。
在此製備方法的一第一變體中(即當它包括操作(a)時)，在已經進行了根據之前所描述的步驟(i)、(ii)和(iii)的沈澱之後，有利地進行以下步驟。
(iv)將至少一種鋁化合物A添加到該反應介質中(即添加到獲得的反應懸浮液或漿料中)，
(v)將一鹼性試劑添加到該反應介質中，較佳的是直至獲得在6.5與10.0之間，特別是在7.2與8.6之間的該反應介質的pH值，然後
(vi)將酸化劑添加到該反應介質中，較佳的是直至獲得在3.0與5.0之間，特別是在3.4與4.5之間的該反應介質的pH值。
步驟(v)可以與步驟(iv)同時進行，或者，較佳的是，在步驟(iv)之後進行。
反應介質之老化可以在步驟(iii)的同時添加之後進行，此老化有可能持續，例如，從1至60分鐘，特別是從3至30分鐘。
在此第一變體中，可能令人希望的是在步驟(iii)與步驟(iv)之間，並且特別是在所述可隨意的老化之前，將附加量的酸化劑添加到 該反應介質中。此添加通常被進行直至獲得在3.0與6.5之間，特別是在4.0與6.0之間的該反應介質的pH值。
在此添加過程中所使用的酸化劑通常與在該方法的第一變體步驟(ii)、(iii)和(vi)中所使用的酸化劑相同。
反應介質之老化通常是在步驟(v)與步驟(vi)之間進行，例如持續2至60分鐘，特別是持續5至45分鐘。
同樣，反應介質之老化通常是在步驟(vi)之後進行，例如持續2至60分鐘，特別是持續5至30分鐘。
在步驟(v)過程中所使用的鹼性試劑可以是一種氨水溶液或，較佳的是，一氫氧化鈉溶液。
在所述方法的一第二變體中(即當它包括操作(b)時)，在之前所描述的步驟(i)、(ii)和(iii)之後或者代替之前所描述的步驟(iii)，進行步驟(iv)，該步驟包括將一矽酸鹽和至少一種鋁化合物A同時添加到該反應介質中。
僅在其中鋁化合物A係足夠酸性情況下(例如，這可以是當此化合物A係硫酸鋁的情況)，實際上有可能(但不強制)將步驟(iii)替換為步驟(iv)，這意味著實際上步驟(iii)和步驟(iv)然後僅形成一單個步驟，該鋁化合物A然後充當酸化劑。
步驟(iv)的同時添加通常以這樣一種方式進行使得該反應介質之pH值始終等於(在±0.1之內)在步驟(iii)或步驟(ii)之後達到的值。
反應介質之老化可以在步驟(iv)的同時添加之後進行，此老化有可能持續，例如，從2至60分鐘，特別是從5至30分鐘。
在此第二變體中，可能令人希望的是在步驟(iv)之後，並且特別是在此可隨意的老化之後，將附加量的酸化劑添加到該反應介質中。此添加通常被進行直至獲得在3.0與6.5之間，特別是在4.0與6.0之間的該反應介質的pH值。
在此添加過程中所使用的酸化劑通常與在該方法的第二變體步驟(ii)中所使用的酸化劑相同。
反應介質的老化通常是在酸化劑的此添加之後進行，例如持續1至60分鐘，特別是持續3至30分鐘。
在該製備方法中使用的鋁化合物A(特別是在提到的前兩種變體中)通常是一有機或無機鋁鹽。
作為有機鹽的實例，具體可以提及的是羧酸或多元羧酸的鹽類，如乙酸、檸檬酸、酒石酸或草酸的鹽類。
作為無機鹽的實例，具體可以提及的是鹵化物和鹵氧化物(如氯化物或氯氧化物)、硝酸鹽、磷酸鹽、硫酸鹽以及含氧硫酸鹽。
實際上，鋁化合物A可以是以一溶液(通常水溶液)形式使用。
較佳的是，可以使用硫酸鋁作為鋁化合物A。
在此製備方法的一第三變體中(即當它包括操作(c)時)，在已經進行了之前所描述的步驟(i)和(ii)之後，有利地進行步驟(iii)，該步驟包括將酸化劑、一矽酸鹽和至少一種鋁化合物B同時添加到該反應介質中。
此同時添加通常以這樣一方式進行使得該反應介質之pH值始終等於(在±0.1之內)在步驟(ii)之後達到的值。
在此第三變體中，可能令人希望的是在步驟(iii)之後，將附加量的酸化劑添加到該反應介質中。此添加通常被進行直至獲得在3.0與6.9之間，特別是在4.0與6.6之間的該反應介質的pH值。
在此添加過程中所使用的酸化劑通常與在步驟(ii)和(iii)中所使用的酸化劑相同。
反應介質之老化通常是在酸化劑的此添加之後進行，例如持續1至60分鐘，特別是持續3至30分鐘。
在第三變體中所使用的鋁化合物B通常是一鹼金屬鋁酸鹽，特別 是鋁酸鉀或，較佳的是，鋁酸鈉。
鋁化合物B通常不同於前面提到的鋁化合物A並且通常由一鹼金屬鋁酸鹽(特別是鋁酸鉀或，較佳的是鋁酸鈉)組成。
前面提到的鋁化合物C通常與鋁化合物B相同。
反應介質溫度通常是在70℃與98℃之間。
根據本發明的一變體，該反應係在恒溫下進行，較佳的是在75℃與96℃之間。
根據本發明的另一個(較佳的)變體，該反應結束時的溫度高於該反應開始時的溫度：因此，該反應開始時的溫度較佳的是維持在70℃與96℃之間並且然後在幾分鐘內升高溫度，較佳的是高達在80℃與98℃之間的值，將溫度維持在該值直到該反應結束；操作(a)或(b)通常在此恒溫值下進行。
在剛才所描述的步驟結束時，獲得了一種二氧化矽漿料，該漿料隨後進行分離(液/固分離)。
在根據本發明的製備方法中使用的分離通常包括藉由任何適合方法(例如藉由帶濾器、真空過濾器或，較佳的是，壓濾器)進行的過濾，緊接著洗滌(如果必要的話)。
然後使該濾餅經受液化。根據以上說明，在該液化操作期間或之後加入至少一種多元羧酸。
然後乾燥分解的濾餅。
較佳的是，在此製備方法中，在液化操作之後獲得的沈澱二氧化矽之懸浮液在立即進行乾燥之前應具有按重量計不超過24%、尤其是按重量計不超過23%、特別是按重量計不超過22%的固體含量。
該乾燥可以根據本身已知的任何手段進行。較佳的是，該乾燥藉由霧化進行。為此、可以使用適合的霧化器的任何類型、特別是一旋轉的、噴嘴、液壓或二流體霧化器。總體上，當使用一壓濾器進行 該過濾時，使用一噴嘴霧化器，並且當使用一真空過濾器進行該過濾時，使用一旋轉霧化器。
當該乾燥操作係使用噴嘴霧化器執行時，然後可以獲得的沈澱二氧化矽通常是處於基本上球形珠粒的形式。
在此乾燥操作之後，可隨意地有可能在回收的產物上進行一研磨步驟；然後可以獲得的沈澱二氧化矽通常是處於粉末的形式。
當該乾燥操作係使用旋轉霧化器執行時，然後可以獲得的沈澱二氧化矽可以是處於粉末的形式。
最後，如之前指示的乾燥的(特別是藉由旋轉霧化器)或研磨的產品可以可隨意地進行一附聚步驟，該步驟包括，例如，直接壓縮、濕法制粒(即使用黏合劑，如水、二氧化矽懸浮液，等)、擠壓或，較佳的是乾燥壓制。當使用後者的技術時，可以證明在進行壓制之前使粉狀產物脫氣(操作也稱為預緻密化或除氣)以便除去包含在其中的空氣並且提供更均勻的壓制係適宜的。
然後藉由此附聚步驟可以獲得的沈澱二氧化矽通常是處於顆粒的形式。
本發明還涉及藉由根據本發明的方法獲得的或能夠藉由根據本發明之方法獲得的沈澱二氧化矽。
總體上，該等沈澱二氧化矽在它們的表面上具有所使用的該一種或多種多元羧酸和/或對應於所使用的該一種或多種多元羧酸的一種或多種羧酸酯的分子。
本發明的一主題還是一種具有特定特徵之沈澱二氧化矽，該沈澱二氧化矽尤其可以作為聚合物組合物的可替代的填充劑使用，該填充劑有利地為該等聚合物組合物提供它們的黏度的降低以及它們的動態特性的改進，同時保持它們的機械特性。
在下文中的說明中，BET比表面積係根據在美國化學會志(The Journal of the American Chemical Society)，第60卷，第309頁，1938年2月中描述的布魯諾爾-埃米特-泰勒法(Brunauer-Emmett-Teller method)，以及對應於標準NF ISO 5794-1，附錄D(2010年6月)確定的。CTAB比表面積係外表面積，其可以根據標準NF ISO 5794-1，附錄G(2010年6月)來確定。
可以使用一碳/硫分析器(如Horiba EMIA 320 V2機器)測量多元羧酸+相應的羧酸酯的含量，指示為(C)，以總碳表示。該碳/硫分析器的原理係基於固體樣品在一感應爐(調節為約170mA)中的氧氣流中並且在燃燒促進劑(約2克的鎢(特別是Lecocel 763-266)和約1克的鐵)的存在下的燃燒。該分析持續大約1分鐘。
待分析的樣品中存在的碳(質量為約0.2克)與氧結合以形成CO2、CO。該等分解氣體隨後藉由紅外探測器分析。
將來自該樣品的水分和在該等氧化反應過程中產生的水藉由穿過一包含脫水劑(高氯酸鎂)的套筒(cartridge)除去以便不干擾紅外測量。
結果表示為元素碳之質量百分比。
鋁含量，指示為(Al)，可以藉由波長色散X射線螢光來確定，例如用一個Panalytical 2400光譜儀或，較佳的是，用一個Panalytical MagixPro PW2540光譜儀。藉由X射線螢光的測量方法的原理如下：- 當二氧化矽係處於基本上球形珠粒(微珠粒)或顆粒的形式時，它的研磨係必要的，直到獲得均勻的粉末。該研磨可以使用一瑪瑙研缽(研磨15克二氧化矽大約持續2分鐘的時間)或不包含鋁的任何類型的研磨機進行，- 該粉末係在一具有40mm的直徑帶有6μm的聚丙烯膜之容器中，在氦氣氛下，在37mm的輻射直徑下原樣分析的，並且分析的二氧化矽的量為9cm3。鋁含量的測量(要求最多5分鐘)係從Kα線獲得的 (2θ角度=145°，PE002晶體，550μm准直器，氣流探測器，銠管，32kV和125mA)。此線的強度與鋁含量成比例。有可能採用使用另一種測量方法，如ICP-AES(電感耦合電漿-原子發射光譜)進行的預校準。
鋁含量還可以藉由任何其他適合的方法測量，例如在氫氟酸的存在下溶解于水中之後藉由ICP-AES。
處於酸形式和/或處於羧酸酯形式的一種或多種多元羧酸的存在可以藉由表面紅外或金剛石-ATR(衰減全反射)紅外確定。
表面紅外分析(藉由透射)係在純產品的粒料上在一Brüker Equinox 55光譜儀上進行。該粒料係在一瑪瑙研缽中研磨二氧化矽(原樣)並在2T/cm2下造粒10秒鐘之後獲得的。該粒料的直徑係17mm。 該粒料的重量係在10與20mg之間。將由此獲得的粒料在藉由透射分析之前在室溫下放置在該光譜儀的高真空室(10-7毫巴)中一小時。採集在高真空下進行(採集條件：從400cm-1至6000cm-1；掃描數：100；解析度：2cm-1)。
金剛石-ATR分析，在一Brüker Tensor 27光譜儀上進行，包括在該金剛石上沈積一鏟尖的在瑪瑙研缽中預研磨過的二氧化矽並且然後施加一壓力。在該光譜儀上以20次掃描從650cm-1至4000cm-1紀錄紅外光譜。解析度係4cm-1。
孔體積和孔徑係使用一Micromeritics Autopore 9520孔率計藉由汞(Hg)孔隙率測定法測量的並用等於130°的接觸角θ和等於484達因/cm的表面張力γ藉由Washburn關係計算的(標準DIN 66133)。每種樣品的製備如下進行：將每種樣品在一烘箱中在200℃下預乾燥2小時。
所指示的比率(R)係藉由以下關係確定的： 其中：- N係每多元羧酸的羧酸官能團的平均數(例如，如果所有的多元羧酸係二羧酸(或，相應地三羧酸)，則N等於2(或，相應地等於3))，- (C)和(Al)係如以上所定義的含量，- CT係該一種或多種多元羧酸之碳含量，- MAl係鋁之分子量，- MAc係該一種或多種多元羧酸之分子量。
該表面能色散分量γs d係藉由反相氣相層析法確定的。當二氧化矽係處於顆粒的形式時，它的研磨通常是必要的，緊接著篩分，例如在106μm-250μm下。
用於計算表面能色散分量γs d的技術係在110℃下使用一系列範圍從6至10個碳原子的烷烴(正烷烴)的無限稀釋的反相氣相層析(IGC-ID)，一基於氣相層析但是其中流動相和固定相(填料)的作用係相反之技術。在這種情況下，將柱中的固定相替換為待分析的(固體)材料，在這種情況下是沈澱二氧化矽。關於流動相，它由載氣(氦)和根據它們的相互作用能力選擇的“探針”分子組成。該等測量係用每一種探針分子依次進行的。對於每一次測量，將每一種探針分子以與甲烷的混合物形式以非常小的量(無限稀釋)注入柱中。使用甲烷來確定t0，該柱之死時間。
從該注入的探針的保留時間減去該死時間t0得到其淨保留時間(t N )。
該等操作條件，針對無限稀釋，係指該等保留時間僅反映了樣品相對于該等分子的相互作用。物理上，t N 對應於該探針分子已經花費在與固定相(分析的固體)接觸的平均時間。對於注入的每一種探針分子，測量了三個淨保留時間t N 。平均值和對應的標準差被用來基於以下關係(式[1])確定比保留體積(V g 0 )。
後者對應於洗脫每1克固定相(檢查的固體)的探針分子所必需的載氣的體積(回到0℃)。此標準量值使得有可能比較結果，無論載氣的流速和所使用的固定相的質量。式[1]包含：M s 係柱中的固體的質量，D c 係載氣的流速並且T係測量溫度。
比保留體積隨後被用來根據式[2](其中R係通用的理想氣體常數(R=8.314J.K-1.mol-1))獲得△G a ，探針在柱中存在的固體上的吸附自由焓之變化。
此量值△G a 係用於確定表面能色散分量(γs d)之起始點。後者係藉由繪製表示吸附自由焓(△G a )隨正烷烴探針的碳數nc的變化(如下表所示)的直線獲得的。
然後有可能從110℃的測量溫度獲得的正烷烴的直線之斜率△G a CH2(對應於亞甲基的吸附自由焓)來確定表面能色散分量γs d。
然後使表面能色散分量γs d藉由以下關係與亞甲基的吸附自由焓△G a CH2 有關(Dorris-Gray法，膠體介面科學雜誌(J.Colloid Interface Sci.)，77(180)，353-362)：
其中N A 係阿伏伽德羅常數(6.02×1023mol-1)，係被吸附的亞甲基佔據的面積(0.06nm2)並且係固體的表面能(僅由亞甲基組成並在聚乙烯上測定)(在20℃下為35.6mJ/m2)。
鋁的配位(coordinancy)係藉由固態鋁NMR測定的。
用於測量水吸收的技術通常包括將預乾燥的二氧化矽樣品放置在給定的相對濕度條件下持續一段預定的時間；該二氧化矽然後與水化合，這引起樣品的質量從初始值m(在乾燥的狀態下)變化至最終值m+dm。術語二氧化矽的“水吸收”確切地表示，特別在整個解釋的延續中，dm/m之比(即相對於在乾燥狀態下的樣品的質量，結合到該樣品中的水的質量)，表示為百分比，係對於在測量方法過程中經受以下條件的二氧化矽樣品計算的：- 初步乾燥：8小時，在150℃下；- 水合：24小時，在20℃下，以及在70%的相對濕度下。
所使用的實驗方案依次包括：- 準確稱量大約2克待測試的二氧化矽；- 將由此稱量出的二氧化矽在一調節至105℃的溫度的烘箱中乾燥8小時；- 確定在此乾燥操作之後獲得的二氧化矽的質量m；- 將乾燥的二氧化矽在20℃下放置在一密閉容器(如乾燥器)內24小時，該密閉容器包含水/甘油混合物，這樣使得密閉介質的相對濕度為70%；- 測定在此處理(在70%的相對濕度下24小時)之後獲得的二氧化矽的質量(m+dm)，此質量的測量係在已經從該乾燥器移出二氧化矽之後立即進行的，以便防止在70%相對濕度下的介質與實驗室的氣氛 之間的濕度測量的變化的影響下二氧化矽的質量的任何變化。
二氧化矽分散和解附聚的能力可以藉由以下具體的解附聚試驗量化。
團聚體的凝聚力係藉由在藉由超音波破碎預先解附聚的二氧化矽的懸浮液上的粒度測量(藉由鐳射衍射)評價的；由此測量了二氧化矽解附聚(從0.1至幾十微米的物體的裂解)之能力。超音波解附聚使用配備有一直徑19mm的探針、在80%的最大功率下使用的Vibracell Bioblock超音波發生器(600W)進行。粒度測量係採用夫琅和費理論(Fraunhofer theory)在一瑪律文(Malvern)粒度分析儀(Mastersizer 2000)上藉由鐳射衍射進行。
將2克(±0.1克)二氧化矽引入50ml燒杯(高度：7.5cm和直徑：4.5cm)中並藉由添加48克(±0.1克)去離子水將重量補足到50克。由此獲得了一種4%的水性二氧化矽懸浮液。
然後進行超音波解附聚7分鐘。
粒度測量然後藉由將所有的均勻化的懸浮液引入到粒度分析儀室中進行。
在超音波解附聚之後，中值直徑Ø50M(或中值瑪律文直徑)為使得按體積計50%的顆粒具有小於Ø50M的尺寸並且50%具有大於Ø50M的尺寸。所獲得的中值直徑值Ø50M成比例地越小，二氧化矽解附聚的能力越高。
還有可能以相同的方式藉由在藉由超音波破碎預先解附聚的二氧化矽的懸浮液上的粒度測量(藉由鐳射衍射)來確定瑪律文解附聚因數FDM；由此測量了二氧化矽解附聚(從0.1至幾十微米的物體的裂解)之能力。超音波解附聚使用配備有一直徑19mm的探針、在80%的最大功率下使用的Vibracell Bioblock超音波發生器(600W)進行。粒度測量係採用夫琅和費理論(Fraunhofer theory)在一瑪律文(Malvern)粒度 分析儀(Mastersizer 2000)上藉由鐳射衍射進行。
將1克(±0.1克)二氧化矽引入50ml燒杯(高度：7.5cm和直徑：4.5cm)中並藉由添加49克(±0.1克)去離子水將重量補足到50克。由此獲得了一種2%的水性二氧化矽懸浮液。
然後進行超音波解附聚7分鐘。
粒度測量然後藉由將所有的均勻化的懸浮液引入到粒度分析儀室中進行。
此解附聚因數係藉由比率(10 x藍色鐳射遮光值/紅色鐳射遮光值)確定，此光密度對應於在引入二氧化矽過程中藉由粒度分析儀檢測到的真值。
此比率(瑪律文解附聚因數FDM)係不能被該粒度分析儀檢測到的具有小於0.1μm的尺寸的顆粒的含量之指示。此比率成比例地越高，二氧化矽解附聚的能力越大。
pH係根據源自標準ISO 787/9的以下方法測量的(5%的懸浮液在水中的pH)：裝置：
- 校準的pH計(讀數精度到百分之一)
- 組合的玻璃電極
- 200ml燒杯
- 100ml量筒
- 精確到0.01g之內的天平。
程式：將5克稱量到0.01克內的二氧化矽置於200ml燒杯中。然後將95ml水(用帶刻度的量筒測量)添加到該二氧化矽粉末中。將由此獲得的懸浮液劇烈攪拌(磁力攪拌)10分鐘。然後進行pH測量。
根據本發明的沈澱二氧化矽之特徵在於它具有： - 在70與240m2/g之間，特別是在100與240m2/g之間之BET比表面積，- 在70與240m2/g之間，特別是在100與240m2/g之間之CTAB比表面積，- 按重量計至少0.15%，特別是按重量計至少0.20%的以總碳表示的多元羧酸+相應的羧酸酯之含量(C)，- 按重量計至少0.9%，特別是按重量計至少1.0%之鋁(Al)含量。
根據本發明的沈澱二氧化矽可以具有在140與200m2/g之間、特別是在140與180m2/g之間之BET比表面積。
根據本發明的沈澱二氧化矽尤其可以具有在140與200m2/g之間、特別是在140與180m2/g之間之CTAB比表面積。
根據本發明的沈澱二氧化矽尤其可以具有按重量計至少0.24%，特別是按重量計至少0.30%，例如按重量計至少0.35%，的確甚至按重量計至少0.45%的以總碳表示的多元羧酸+相應的羧酸酯之含量(C)。
它通常具有按重量計不超過10.00%，特別是按重量計不超過5.00%之多元羧酸+羧酸酯(C)含量。
根據本發明的沈澱二氧化矽尤其可以具有按重量計至少1.1%，特別是按重量計至少1.2%之鋁(Al)含量。它通常具有按重量計小於10%，特別是按重量計不超過5%之鋁(Al)含量。
根據本發明之沈澱二氧化矽之特徵之一可能在於其孔體積的分佈並且具體地是由具有小於或等於400Å的直徑的孔產生的孔體積之分佈。後者的體積對應于用於彈性體增強的填充劑之有用孔體積。
因此，根據本發明之沈澱二氧化矽可以具有這樣的孔分佈使得由直徑在175與275Å之間(V2)的孔所產生之孔體積表示小於60%，較佳的是小於55%，例如小於50%，的由直徑小於或等於400Å(V1)的孔 所產生之孔體積。
多元羧酸和/或對應於該等多元羧酸的羧酸酯在根據本發明的二氧化矽的表面上之存在可以藉由在紅外光譜中可見的C-O和C=O鍵的肩狀特徵(shoulder characteristic)之存在來表示，該紅外光譜特別是藉由表面(透射)紅外或金剛石-ATR紅外獲得的(具體地對於C-O在1540與1590cm-1之間和在1380與1420cm-1之間，並且對於C=O在1700與1750cm-1之間)。
總體上，根據本發明之沈澱二氧化矽在它的表面上具有一種或多種沈澱多元羧酸，特別是上述混合物之多元羧酸，和/或對應於上述一種或多種多元羧酸的一種或多種羧酸酯，特別是對應於上述混合物的多元羧酸之分子。
例如，它在它的表面上可以具有：- 處於酸形式和/或處於羧酸酯形式的己二酸之分子，以及- 處於酸形式和/或處於羧酸酯形式的戊二酸之分子，以及- 處於酸形式和/或處於羧酸酯形式的琥珀酸之分子。
例如，它在它的表面上可以具有：- 處於酸形式和/或處於羧酸酯形式的甲基戊二酸之分子，以及- 處於酸形式和/或處於羧酸酯形式的乙基琥珀酸之分子，以及- 處於酸形式和/或處於羧酸酯形式的己二酸之分子。
根據本發明的此變體的沈澱二氧化矽較佳的是具有在0.10與3.50之間、尤其是在0.10與2.00之間並且特別是在0.15與1.50之間、例如在0.20與0.80之間之比率(R)。
較佳的是，根據本發明之二氧化矽具有小於70mJ/m2並且尤其是小於65mJ/m2、例如小於50mJ/m2的表面能色散分量γs d。
此外，根據本發明之沈澱二氧化矽可以具有藉由固態鋁NMR確定的鋁的配位之具體分佈。總體上，根據本發明之二氧化矽的鋁原子的按數目計不超過85%，特別是按數目計不超過80%，特別是按數目計在70%與85%之間，例如按數目計在70%與80%之間，可以具有四面體配位，也就是說，可以處於一四面體位點。具體地，根據本發明之二氧化矽的鋁原子的按數目計在15%與30%之間，例如按數目計在20%與30%之間，可以具有五面體或八面體配位，也就是說，可以處於一五面體或八面體位點。
根據本發明之沈澱二氧化矽可以具有大於6.0%、特別是大於7.0%、尤其是大於7.5%、例如大於8.0%、或甚至大於8.5%的水吸收。
總體上，根據本發明之沈澱二氧化矽具有分散(特別是在彈性體中)和解附聚的高能力。
根據本發明之沈澱二氧化矽在用超音波解附聚之後可以具有小於5.0μm，特別是小於4.5μm，例如在2.0與4.5μm之間之中值直徑Ø50M。
根據本發明之沈澱二氧化矽可以具有大於5.5ml，特別是大於10.0ml，例如大於12.0ml之超音波解附聚因數FDM。
根據本發明之沈澱二氧化矽通常具有在5.0與8.5之間並且較佳的是在5.5與8.0之間之pH。
根據本發明之沈澱二氧化矽可以處於任何物理狀態，也就是說它可以處於基本上球形珠粒(微珠粒)、粉末或顆粒之形式。
它由此可以處於具有至少80μm、較佳的是至少150μm、特別是在150與270μm之間的平均尺寸的基本上球形珠粒的形式；此平均尺 寸係根據標準NF X 11507(1970年12月)藉由乾法篩分和對應於50%的累積超尺寸的直徑的測定來確定的。
它還可以處於具有至少3μm、特別是至少10μm、較佳的是至少15μm的平均尺寸的粉末的形式。
它可以處於至少1mm，例如在1與10mm之間，特別是沿其最大尺寸(長度)的軸線，的尺寸的顆粒(通常為基本上平行六面體形狀)之形式。
根據本發明之二氧化矽較佳的是藉由之前所描述的方法獲得的。
有利地，根據本發明的或(能夠)藉由之前所描述的根據本發明之方法獲得的沈澱二氧化矽對其中它們被引入的聚合物(彈性體)組合物賦予了特性的高度令人滿意的折中，特別是它們的黏度的降低和較佳的是它們的動態特性的改進，同時保留了它們的機械特性。因此，它們有利地允許在處理/增強/滯後特性的折中方面的改進。較佳的是，它們具有在聚合物(彈性體)組合物中的分散和解附聚的良好的能力。
根據本發明的或(能夠)藉由根據本發明之前所述的方法獲得的沈澱二氧化矽可以用在許多應用中。
例如，它們可以用作催化劑載體，用作活性材料的吸收劑(特別是用於液體的載體，尤其用於食品，如維生素(維生素E)或氯化膽鹼)，用於聚合物(尤其彈性體)或矽酮組合物中，用作增黏劑、調質劑或防結塊劑，用作電池隔板組件，或用作牙膏、混凝土或紙張的添加劑。
然而，它們在天然或合成聚合物的增強中找到了特別有利的應用。
其中它們具體可以用作增強填充劑之聚合物組合物總體上是基於一種或多種聚合物或共聚物(尤其是二聚物或三聚物)，特別是基於 一種或多種彈性體，較佳的是具有至少一個在-150℃與+300℃之間(例如在-150℃與+20℃之間)之玻璃轉化溫度。
可以特別提及的是二烯聚合物，特別是二烯彈性體，作為可能的聚合物。
例如，可以使用的是衍生自脂肪族或芳香族單體的聚合物或共聚物(特別是二聚物或三聚物)，該等單體含有至少一個不飽和度(如，具體地，乙烯、丙烯、丁二烯、異戊二烯、苯乙烯、丙烯腈、異丁烯或乙酸乙烯酯)，聚丙烯酸丁酯，或其混合物；還可以提及的是矽酮彈性體，官能化的彈性體，例如用遍佈大分子鏈和/或在它的一個或多個端部放置的化學基團官能化的(例如用能夠與二氧化矽的表面反應之官能團)，以及鹵化的聚合物。可以提及的是聚醯胺和氟化的聚合物(如聚偏二氟乙烯)。
還可以提及的是熱塑性聚合物如聚乙烯。
該聚合物(共聚物)可以是一本體聚合物(共聚物)，聚合物(共聚物)膠乳或還有聚合物(共聚物)在水中或在任何其他適合的分散液體中的溶液。
作為二烯彈性體，可以提及的是，例如，聚丁二烯(BR)、聚異戊二烯(IR)、丁二烯共聚物、異戊二烯共聚物、或其混合物，並且特別是苯乙烯/丁二烯共聚物(SBR，特別是ESBR(乳液)或SSBR(溶液))、異戊二烯/丁二烯共聚物(BIR)、異戊二烯/苯乙烯共聚物(SIR)、異戊二烯/丁二烯/苯乙烯共聚物(SBIR)、乙烯/丙烯/二烯三聚物(EPDM)，以及還有相關的官能化的聚合物(例如，具有包括在鏈上、側位或在鏈端的極性基團，該等極性基團能夠與二氧化矽相互作用)。
還可以提及的是天然橡膠(NR)和環氧化的天然橡膠(ENR)。
該等聚合物組合物可以用硫硫化(然後獲得硫化產品)或特別是用過氧化物或其他交聯體系(例如二胺或酚醛樹脂)交聯。
總體上，該等聚合物組合物還包含至少一種(二氧化矽/聚合物)偶合劑和/或至少一種遮蓋劑；除其他之外，它們還可以包含一抗氧化劑。
尤其可以使用的偶合劑的非限制性實例包括“對稱的”或“不對稱的”矽烷多硫化物；更具體地可以提及的是雙((C1-C4)烷氧基(C1-C4)烷基矽基(C1-C4)烷基)多硫化物(特別是二硫化物、三硫化物或四硫化物)，例如雙(3-(三甲氧基矽基)丙基)多硫化物或雙(3-(三乙氧基矽基)丙基)多硫化物，如三乙氧基矽基丙基四硫化物。還可以提及的是單乙氧基二甲基矽基丙基四硫化物。還可以提及的是具有掩蔽的或游離的硫醇官能團，或具有胺官能團之矽烷。
該偶合劑可以預先接枝到聚合物上。
它還能夠以游離狀態(即沒有預先接枝)使用或接枝到二氧化矽之表面上。對可隨意的遮蓋劑同樣是這種情況。
該偶合劑可以可隨意地與一適合的“偶合活化劑”相結合，即一化合物，當該化合物與此種偶合劑混合時，增加後者的效力。
二氧化矽在聚合物組合物中的重量比可以在相當寬的範圍內變化。它通常表示一種或多種聚合物的量的按重量計從0.1至3.0倍、特別是按重量計從0.1至2.0倍、尤其是按重量計從0.2至1.5倍、例如按重量計從0.2至1.2倍、或甚至按重量計從0.3至0.8倍。
根據本發明之二氧化矽可以有利地構成該增強無機填充劑的全部並且甚至該聚合物組合物的增強填充劑的全部。
然而，這種根據本發明的二氧化矽可以可隨意地與以下項相結合：至少一種其他增強填充劑，諸如，具體地，一商業的高度可分散的二氧化矽，例如Z1165MP或Z1115MP，一處理過的沈澱二氧化矽(例如，使用陽離子(如鋁)“摻雜”的沈澱二氧化矽，或用偶合劑(如矽烷)處理的)；另一種增強無機填充劑，例如氧化鋁，或甚至一種增強 有機填充劑，尤其是炭黑(可隨意地覆蓋有例如二氧化矽的無機層)。根據本發明之二氧化矽然後較佳的是構成所有該增強填充劑的按重量計至少50%，或甚至按重量計至少80%。
作為非限制性實例，可以提及的是包含至少一種(特別是基於)之前所述的聚合物組合物(尤其是基於上述硫化產品)的最終物品，鞋底(較佳的是在(二氧化矽/聚合物)偶合劑，例如三乙氧基矽基丙基四硫化物，的存在下)，地板覆蓋物，氣體阻隔物，阻燃材料以及還有工程部件，諸如索道輥，用於家用電器的密封件，用於液體或氣體管道的密封件，制動系統密封件，管(柔性的)，護套(特別是電纜護套)，電纜，引擎托架(engine support)，電池隔膜，輸送帶，傳輸帶或，較佳的是，輪胎，特別是輪胎胎面(尤其是用於輕型車輛或用於重型貨車(例如卡車))。
然而，以下實例說明本發明並不限制其範圍。
實例 實例1
將以下各項引入到一配備有葉輪攪拌系統和加熱套的不銹鋼反應器中：- 65.7升的水，- 1.27kg的Na2SO4(電解質)，- 40.2kg的矽酸鹽(SiO2/Na2O重量比等於3.42)具有在20℃下等於1.230±0.006的密度。
使該溶液達到82℃。然後在攪拌下將硫酸(質量濃度等於7.7%)以835g/min的流速持續20分鐘，並且然後以1502g/min的流速持續15分 鐘引入該混合物中直至該反應介質的pH達到8.0的值。同時，該混合物的溫度增加至92℃。
一旦完成酸化，將以上所描述的類型的矽酸鈉在20分鐘內以485g/min的流速引入到該反應介質中，同時以54.8g/min的流速引入鋁酸鈉(Al2O3的含量=20.5%±0.5%；Na2O3的含量=19.4%±0.4%)和以調節的流速引入硫酸(質量濃度等於7.7%)以使該反應介質的pH達到8.0的值並且然後將該pH保持在該值。
在同時添加的20分鐘之後，停止矽酸鈉和鋁酸鈉的引入並且繼續硫酸之添加，將流速增加至692g/min以便使該反應介質的pH達到等於6.0的值。
該反應的總持續時間為61分鐘。
在該反應之後由此獲得了一沈澱二氧化矽之反應漿料，該漿料用壓濾機過濾並洗滌以便回收具有按重量計23%的固體含量的二氧化矽濾餅。
實例2
然後將在實例1中獲得的濾餅的一部分(6070g)經受一液化操作。
在該液化操作過程中，使用了一以按質量計34%的MGA混合物之溶液(多元羧酸的混合物：按重量計94.8%的甲基戊二酸、按重量計4.9%的乙基琥珀酸酐、按重量計0.2%的己二酸、0.1%的其他)。
由此使在過濾步驟中獲得的濾餅在一連續劇烈攪拌的反應器中將35.6克鋁酸鈉溶液(Al/SiO2重量比為0.3%)和46.9克的該MGA溶液(MGA混合物/SiO2重量比為1.0%)同時添加到該濾餅中經受液化操作。
隨後使用一雙流體噴嘴霧化器藉由在下列流速和溫度的平均條件下以1巴的壓力通過一個2.54mm SU5噴嘴(噴霧系統)噴霧該分解的濾餅來乾燥此分解的濾餅(具有按重量計22%的固體含量)：
平均入口溫度：250℃
平均出口溫度：135℃
平均流速：15l/h。
然後獲得的二氧化矽S1(處於基本上球形珠粒的形式)之特徵如下：
實例3
然後將在實例1中獲得的濾餅的一部分(6030g)經受一液化操作。
在該液化操作過程中，使用了一種以按質量計34%的MGA混合物之溶液(多元羧酸的混合物：按重量計94.8%的甲基戊二酸、按重量計4.9%的乙基琥珀酸酐、按重量計0.2%的己二酸、0.1%的其他)。
使在過濾步驟中獲得的濾餅在一連續劇烈攪拌的反應器中藉由將6.4克的該MGA溶液(MGA混合物/SiO2重量比為1%)添加到該濾餅中經受液化操作。
隨後使用一雙流體噴嘴霧化器藉由在下列流速和溫度的平均條件下以1巴的壓力通過一個2.54mm SU5噴嘴(噴霧系統)噴霧該分解的 濾餅來乾燥此分解的濾餅(具有按重量計22%之固體含量)：平均入口溫度：300℃
平均出口溫度：130℃
平均流速：15l/h。
然後獲得的二氧化矽S2(處於基本上球形珠粒的形式)之特徵如下：
實例4(對比)
然後將在實例1中獲得的濾餅的一部分(6020g)經受一液化操作。
使在過濾步驟中獲得的濾餅在一連續劇烈攪拌的反應器中藉由將77.7克的以按質量計7.7%的硫酸溶液添加到該濾餅中經受液化操作。
隨後使用一雙流體噴嘴霧化器藉由在下列流速和溫度的平均條件下以1巴的壓力通過一個2.54mm SU5噴嘴(噴霧系統)噴霧該分解的濾餅來乾燥此分解的濾餅(具有按重量計22%的固體含量)：平均入口溫度：250℃
平均出口溫度：135℃
平均流速：15l/h。
然後獲得的二氧化矽C1(處於基本上球形珠粒的形式)之特徵如下：
實例5
在一Haake型的密煉機(380ml)中製備多種彈性體組合物，其組成以每100份彈性體的重量份(phr)表示在下表I中示出。
(1)天然橡膠SMR-CV60(由Safic-Alcan公司供應)
(2)二氧化矽C1(添加硫酸液化(實例4-對比))
(3)根據本發明之二氧化矽S1(同時添加鋁酸鈉和MGA酸的混合物(以上實例2)液化)
(4)根據本發明之二氧化矽S2(添加MGA酸的混合物(以上實例3)液化)
(5)TESPT(來自法國雷孚斯(Lehvoss France sarl)公司的Luvomaxx TESPT)
(6)N-(1,3-二甲基丁基)-N-苯基-對苯二胺(來自富萊克斯(Flexsys)公司之Santoflex 6-PPD)
(7)2,2,4-三甲基-1H-喹啉(來自富萊克斯(Flexsys)公司的Permanax TQ)
(8)N-環己基-2-苯並噻唑次磺醯胺(來自萊茵化學公司的Rhenogran CBS-80)
(9)四苄基秋蘭姆(thiuram)二硫化物(來自萊茵化學(RheinChemie)公司的Rhenogran TBzTD-70)
用於製備彈性體組合物之方法：用於製備橡膠組合物之方法係以兩個連續的製備階段進行的。第一階段包括高溫熱機械加工的階段。緊接著是在低於110℃的溫度下的機械加工的第二階段。此階段允許引入硫化系統。
該第一階段係使用一密煉機類型的Haake品牌之混合裝置(容量為 380ml)進行的。填充係數為0.6。在每種情況下對初始溫度和轉子的速度進行設定以便實現約130℃-160℃的混合物下降溫度。
在此分解為兩遍，該第一階段使得有可能在第一遍(first pass)時結合彈性體並且然後增強填充劑(分批引入)連同偶合劑和硬脂酸。對於這一遍，持續時間為在4與10分鐘之間。
在冷卻該混合物(低於100℃的溫度)之後，第二遍使得有可能結合氧化鋅和保護劑/抗氧化劑(特別是6-PPD)。這一遍的持續時間為在2與5分鐘之間。
在冷卻該混合物(低於100℃的溫度)之後，該第二階段允許引入硫化系統(硫和促進劑，如CBS)。它係在一預熱至50℃的開放式煉膠機中進行的。這一階段的持續時間為在2與6分鐘之間。
每種最終混合物隨後以厚度為2-3mm的片體的形式壓延。
對所獲得的該等“原料”混合物的流變特性的評估使得有可能優化硫化時間和硫化溫度。
然後測量在固化最佳條件(T98)下硫化的混合物的機械和動態特性。
流變特性
- 原料混合物的黏度：孟納一致性係使用一MV 2000流變儀以及還有根據標準NF ISO 289的孟納應力-鬆弛速率的測定在100℃下對處於原料狀態的組合物測量的。
在預熱一分鐘之後在4分鐘結束時讀取的扭矩值(孟納大(Mooney Large)(1+4)-在100℃下)在表II中示出。該試驗係在製備原料混合物之後並且然後在23℃ +/- 3℃的溫度下老化3周之後進行的。
發現相對於對照混合物(對照物1)，本發明的二氧化矽S1和二氧化矽S2(組合物1和組合物2)使得有可能保存初始原料黏度值。
還發現在儲存3周之後，相對於對照混合物(對照物1)，本發明的二氧化矽S1和二氧化矽S2(組合物1和組合物2)允許降低的原料黏度之降低。
在使用含有二氧化矽的橡膠混合物情況下，這種類型的行為隨時間的推移對熟習該項技術者具有很大用途。
- 組合物之流變測定：該等測量係對處於原料形式的組合物進行的。有關流變試驗(根據標準NF ISO 3417使用一Monsanto ODR流變儀在150℃下進行的)之結果在表III中給出。
根據此試驗，將試驗組合物放置在調節在150℃的溫度之試驗室中30分鐘，並測量了該組合物抵抗包括在該試驗室中的雙錐形轉子的低振幅(3°)振盪之阻力矩，該組合物完全裝滿所考慮的室。
從扭矩隨時間變化的曲線確定以下：- 最小扭矩(Tmin)，其反映了在所考慮的溫度下組合物之黏度； - 最大扭矩(Tmax)；- △扭矩(△T=Tmax-Tmin)，其反映了藉由交聯系統和(如果需要)偶合劑的作用所引起之交聯度；- 獲得對應于98%的完全硫化的硫化狀態所必需的時間T98(此時間被視為硫化最佳條件)；- 以及焦化時間TS2，對應於為了在所考慮的溫度(150℃)下具有超過最小扭矩2點的升高所必需的時間並且其反映了以下的時間，在該時間期間有可能在此溫度下實現原混合物而不引發硫化(該混合物在TS2下及以上固化)。
獲得的結果在表III中示出。
發現相對於對照混合物(對照物1)，使用本發明之二氧化矽S1和二氧化矽S2(組合物1和組合物2)使得有可能降低最小黏度(粗黏度的改進的標誌)，而不損害硫化行為。
還發現相對於對照混合物(對照物1)，使用本發明之二氧化矽S1和二氧化矽S2(組合物1和組合物2)使得有可能改進焦化時間TS2。
硫化產品之機械特性：該等測量係在150℃的溫度下在最佳硫化的組合物(T98)上進行的。
單向拉伸試驗係根據標準NF ISO 37的說明用H2型的試驗樣品以500mm/min之速率在一台英斯特朗(Instron)5564機器上進行的。x%模量，對應於在x%拉伸應變下測量之應力，並且極限強度係以MPa表示；斷裂伸長率係以%表示。有可能確定增強指數(RI)，其等於在300%應變下的模量與在100%應變下的模量之比率。
硫化產品的肖氏A硬度測量係根據標準ASTM D 2240的說明進行的。給出的值係在15秒內測量。
測量的特性整理在表IV中。
發現相對於用對照混合物所獲得的，從本發明得到的組合物(組合物1和組合物2)具有機械特性的良好的折中。
使用本發明的二氧化矽S1和二氧化矽S2(組合物1和組合物2)使得有可能改進300%模量值，同時保持相當於對照混合物(對照物1)的增強水平，而不損害強度或斷裂伸長率特性。
硫化產品之動態特性：動態特性係根據標準ASTM D5992在一黏度分析儀(Metravib VA3000)上測量的。
記錄了硫化的樣品(具有95mm2的截面和14mm的高度的柱形試 驗樣品)的損耗因數(tan δ)和壓縮動態複模量(E*)的值。使該樣品在開始時經受10%的預應變並且然後經受處於±2%的交替壓縮的正弦應變。該等測量係在60℃和10Hz的頻率下進行的。
記錄了硫化的樣品(具有8mm2的截面和7mm的高度的平行六面體試驗樣品)的損耗因數(tan δ最大返回)之值。使該樣品在60℃的溫度下和10Hz的頻率下經受雙交替正弦剪切應變。應變幅度掃描過程係根據一向外-返回(outward-return)循環進行的，從0.1%至50%向外行進並且然後從50%至0.1%返回。
結果(在表V中呈現的)由此係壓縮複模量(E*，60℃，10Hz)和損耗因數(tan δ，60℃，10Hz)。
相對於對照混合物(對照物1)，使用本發明之二氧化矽S1和二氧化矽S2(組合物1和組合物2)使得有可能改進損耗因數之最大值，而不損害其他動態特性。
檢查各表II至V顯示出相對於對照組合物(對照物1)，根據本發明之組合物(組合物1和組合物2)使得有可能獲得良好的處理/增強/滯後特性之折中。

Claims (24)

  1. 一種類型的用於製備沈澱二氧化矽之方法，該類型方法包括一矽酸鹽與一酸化劑之間之沈澱反應，由此獲得了一沈澱二氧化矽之懸浮液，其特徵在於它包括以下步驟：- 該沈澱反應係以下列方式進行：(i)形成一包含矽酸鹽和電解質之初始原料，所述初始原料中的矽酸鹽(以SiO2表示)之濃度係低於100g/l並且所述初始原料中的電解質之濃度係低於17g/l，(ii)將該酸化劑添加到所述原料中直至獲得至少7的該反應介質之pH值，(iii)將酸化劑和矽酸鹽同時添加到該反應介質中，- 過濾所獲得的二氧化矽懸浮液，- 使在該過濾之後獲得的濾餅經受一液化操作，- 乾燥由此獲得的濾餅，較佳的是具有不超過25%之固體含量，所述方法包括三個以下操作(a)、(b)或(c)中的一個：(a)在步驟(iii)之後，將至少一種鋁化合物A以及，隨後地或同時地，將一鹼性試劑添加到該反應介質中，(b)在步驟(iii)之後或代替步驟(iii)，將一矽酸鹽和至少一種鋁化合物A同時添加到該反應介質中，(c)步驟(iii)係藉由將酸化劑、矽酸鹽和至少一種鋁化合物B同時添加到該反應介質中進行的，並且其特徵在於將至少一種多元羧酸(例如多元羧酸的一混合物)添加到該濾餅中，或者在液化操作期間，或者在液化操作之後且在乾燥步驟之前。
  2. 如申請專利範圍第1項之方法，包括一矽酸鹽與一酸化劑之間之沈澱反應，由此獲得了一沈澱二氧化矽之懸浮液，其特徵在於它包括以下步驟：- 該沈澱反應係以下列方式進行：(i)形成一包含矽酸鹽和電解質之初始原料，所述初始原料中的矽酸鹽(以SiO2表示)之濃度係低於100g/l並且所述初始原料中的電解質之濃度係低於17g/l，(ii)將該酸化劑添加到所述原料中直至獲得至少7的該反應介質的pH值，(iii)將酸化劑和矽酸鹽同時添加到該反應介質中，- 然後進行以下步驟：(iv)將至少一種鋁化合物A和一鹼性試劑同時添加到該反應介質中，較佳的是直至獲得在6.5與10之間，特別是在7.2與8.6之間的該反應介質的pH值，並且然後(iv)將酸化劑添加到該反應介質中，較佳的是直至獲得在3與5之間，特別是在3.4與4.5之間的該反應介質的pH值，- 過濾所獲得的二氧化矽懸浮液，- 使在該過濾之後獲得的濾餅經受一液化操作，- 乾燥由此獲得的濾餅，較佳的是具有不超過25%的固體含量，所述方法的特徵在於將至少一種多元羧酸添加到該濾餅中，或者在該液化操作期間，或者在該液化操作之後且在該乾燥步驟之前。
  3. 如申請專利範圍第1項之方法，包括一矽酸鹽與一酸化劑之間之沈澱反應，由此獲得了一沈澱二氧化矽之懸浮液，其特徵在於它包括以下步驟： - 該沈澱反應係以下列方式進行：(i)形成一包含矽酸鹽和電解質之初始原料，所述初始原料中的矽酸鹽(以SiO2表示)之濃度係低於100g/l並且所述初始原料中的電解質之濃度係低於17g/l，(ii)將該酸化劑添加到所述原料中直至獲得至少7的該反應介質之pH值，(iii)將矽酸鹽和至少一種鋁化合物A同時添加到該反應介質中，- 過濾所獲得的二氧化矽懸浮液，- 使在該過濾之後獲得的濾餅經受一液化操作，- 乾燥由此獲得的濾餅，較佳的是具有不超過25%之固體含量，所述方法的特徵在於將至少一種多元羧酸添加到該濾餅中，或者在該液化操作期間，或者在該液化操作之後且在該乾燥步驟之前。
  4. 如申請專利範圍第1項之方法，包括一矽酸鹽與一酸化劑之間之沈澱反應，由此獲得了一沈澱二氧化矽之懸浮液，其特徵在於它包括以下步驟：- 該沈澱反應係以下列方式進行：(i)形成一包含矽酸鹽和電解質之初始原料，所述初始原料中的矽酸鹽(以SiO2表示)之濃度係低於100g/l並且所述初始原料中的電解質之濃度係低於17g/l，(ii)將該酸化劑添加到所述原料中直至獲得至少7的該反應介質之pH值，(iii)將酸化劑、矽酸鹽和至少一種鋁化合物B同時添加到該反應介質中， - 過濾所獲得的二氧化矽懸浮液，- 使在該過濾之後獲得的濾餅經受一液化操作，- 乾燥由此獲得的濾餅，較佳的是具有不超過25%之固體含量，所述方法的特徵在於將至少一種多元羧酸添加到該濾餅中，或者在該液化操作期間，或者在該液化操作之後且在該乾燥步驟之前。
  5. 如申請專利範圍第1至4項之一項之方法，其中，在液化操作期間，將至少一種多元羧酸添加到該濾餅中。
  6. 如申請專利範圍第1至4項之一項之方法，其中在液化操作之後將至少一種多元羧酸添加到該濾餅中。
  7. 如申請專利範圍第1至4項之一項之方法，其中該液化操作包括添加至少一種鋁化合物C。
  8. 如申請專利範圍第7項之方法，其中，在液化操作期間，將至少一種多元羧酸和至少一種鋁化合物C同時添加到該濾餅中。
  9. 如申請專利範圍第7項之方法，其中，在液化操作期間，在添加至少一種多元羧酸之前將至少一種鋁化合物C添加到該濾餅中。
  10. 如申請專利範圍第7項之方法，其中在該液化操作之後將至少一種多元羧酸添加到該濾餅中。
  11. 如申請專利範圍第1至4項之一項之方法，其特徵在於所述多元羧酸選自直鏈或支鏈的、飽和或不飽和的含有從2至20個碳原子之脂肪族多元羧酸和芳香族多元羧酸。
  12. 如申請專利範圍第1至4項之一項之方法，其中將一多元羧酸之混合物添加到該濾餅中。
  13. 如申請專利範圍第12項之方法，其中該多元羧酸的混合物包含以下酸：己二酸、戊二酸以及琥珀酸。
  14. 如申請專利範圍第12項之方法，其中該多元羧酸的混合物包含以下酸：甲基戊二酸、乙基琥珀酸以及己二酸。
  15. 一種沈澱二氧化矽，其特徵在於它具有：- 在70與240m2/g之間，特別是在100與240m2/g之間之BET比表面積，- 在70與240m2/g之間，特別是在100與240m2/g之間之CTAB比表面積，- 按重量計至少0.15%，特別是按重量計至少0.20%的以總碳表示的多元羧酸+相應的羧酸酯之含量(C)，- 按重量計至少0.9%，特別是按重量計至少1.0%之鋁(Al)含量。
  16. 如申請專利範圍第15項之沈澱二氧化矽，其特徵在於它具有按重量計至少1.1%，特別是按重量計至少1.2%之鋁(Al)含量。
  17. 如申請專利範圍第15和16項中任一項所述之沈澱二氧化矽，其特徵在於它具有在0.4與3.5之間，特別是在0.4與2.5之間的藉由下式定義之比率(R)： 其中：- N係每多元羧酸的羧酸官能團之平均數，- CT係該一種或多種多元羧酸之碳含量，- MAl係鋁之分子量，- MAc係該一種或多種多元羧酸之分子量。
  18. 如申請專利範圍第15或16項之沈澱二氧化矽，其特徵在於它具有小於70mJ/m2、尤其是小於65mJ/m2、例如小於50mJ/m2之表面能色散分量γs d。
  19. 如申請專利範圍第15或16項之沈澱二氧化矽，其特徵在於它具有大於6%，特別是大於7%之水吸收。
  20. 如申請專利範圍第15至19項之一項之或藉由如申請專利範圍第1至14項之一項之方法獲得的沈澱二氧化矽作為聚合物之增強填充劑，特別是用於輪胎之用途。
  21. 如申請專利範圍第15至19項之一項之或藉由如申請專利範圍第1至14項之一項之方法獲得的沈澱二氧化矽在一用於降低所述組合物的黏度的聚合物組合物中之用途。
  22. 一種聚合物組合物，包含如申請專利範圍第15至19項之一項之或藉由如申請專利範圍第1至14項之一項之方法獲得的沈澱二氧化矽。
  23. 一種包含如申請專利範圍第22項之至少一種組合物的物品，此物品由以下各項組成：鞋底，地板覆蓋物，氣體阻隔物，阻燃材料，索道輥，用於家用電器的密封件，用於液體或氣體管道的密封件，制動系統密封件，管，護套，電纜，引擎托架，電池隔膜，輸送帶，傳輸帶或，較佳的是，輪胎。
  24. 如申請專利範圍第23項之輪胎。
TW104106405A 2014-02-28 2015-02-26 製備沈澱二氧化矽的新穎的方法，新穎的沈澱二氧化矽及其用途，尤其是用於增強聚合物 TWI657045B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
??1400511 2014-02-28
FR1400511A FR3018070B1 (fr) 2014-02-28 2014-02-28 Nouveau procede de preparation de silices precipitees, nouvelles silices precipitees et leurs utilisations, notamment pour le renforcement de polymeres

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201545982A true TW201545982A (zh) 2015-12-16
TWI657045B TWI657045B (zh) 2019-04-21

Family

ID=51205447

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW104106405A TWI657045B (zh) 2014-02-28 2015-02-26 製備沈澱二氧化矽的新穎的方法，新穎的沈澱二氧化矽及其用途，尤其是用於增強聚合物

Country Status (12)

Country Link
US (1) US11084729B2 (zh)
EP (1) EP3110759B8 (zh)
JP (1) JP6564388B2 (zh)
KR (1) KR20160127755A (zh)
CN (1) CN106061897B (zh)
AR (1) AR100118A1 (zh)
BR (1) BR112016019841B1 (zh)
ES (1) ES2818084T3 (zh)
FR (1) FR3018070B1 (zh)
PL (1) PL3110759T3 (zh)
TW (1) TWI657045B (zh)
WO (1) WO2015154914A1 (zh)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105980308B (zh) * 2014-02-14 2019-08-20 罗地亚经营管理公司 制备沉淀二氧化硅的方法，沉淀二氧化硅及其用途，特别是用于聚合物的增强
US11884551B2 (en) * 2017-05-05 2024-01-30 Rhodia Operations Precipitated silica and process for its manufacture
CN110294481B (zh) * 2018-03-22 2021-04-20 丰海（盘锦）水稻生物科技有限公司 生物质白炭黑及其制备方法和用途
WO2020094714A1 (en) * 2018-11-08 2020-05-14 Rhodia Operations Precipitated silica and process for its manufacture
EP4122984A1 (en) * 2021-07-22 2023-01-25 Bridgestone Europe NV/SA Rubber compositions

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2732328B1 (fr) 1995-03-29 1997-06-20 Rhone Poulenc Chimie Nouveau procede de preparation de silice precipitee, nouvelles silices precipitees contenant de l'aluminium et leur utilisation au renforcement des elastomeres
FR2732329B1 (fr) 1995-03-29 1997-06-20 Rhone Poulenc Chimie Nouveau procede de preparation de silice precipitee, nouvelles silices precipitees contenant de l'aluminium et leur utilisation au renforcement des elastomeres
US6086669A (en) 1998-04-09 2000-07-11 Ppg Industries Ohio, Inc. Dispersible free flowing particulate silica composition
DE19840153A1 (de) 1998-09-03 2000-04-20 Degussa Fällungskieselsäure
FR2818966B1 (fr) 2000-12-28 2003-03-07 Rhodia Chimie Sa Procede de preparation de silice precipitee contenant de l'aluminium
FR2886285B1 (fr) * 2005-05-27 2008-05-30 Rhodia Chimie Sa Procede de preparation de silice precipitee, silice precipitee et utilisations, notamment comme charge dans les matrices silicones
FR2902781B1 (fr) * 2006-06-27 2008-09-05 Rhodia Recherches Et Technologies Sas Silice precipitee pour application papier
FR2957914B1 (fr) 2010-03-25 2015-05-15 Rhodia Operations Nouveau procede de preparation de silices precipitees contenant de l'aluminium
US20130178569A1 (en) 2010-04-01 2013-07-11 Dow Corning Corporation Use of precipitated silica containing aluminium and 3-acryloxy-propyltriethoxysilane in an isoprenic elastomer composition
FR2966830B1 (fr) * 2010-11-03 2012-11-16 Rhodia Operations Utilisation d'une silice precipitee contenant de l'aluminium, d'une silice precipitee et de 3-acryloxy-propyltriethoxysilane dans une composition d'elastomere(s) isoprenique(s)
MX356674B (es) * 2011-12-23 2018-06-08 Rhodia Operations Proceso novedoso para preparar sílices.
FR2994963B1 (fr) 2012-08-31 2014-10-03 Rhodia Operations Nouveau procede de preparation de silices precipitees, nouvelles silices precipitees et leurs utilisations, notamment pour le renforcement de polymeres
FR2994962B1 (fr) 2012-08-31 2014-12-26 Rhodia Operations Nouveau procede de preparation de silices precitees, nouvelles silices precipitees et leurs utilisations, notamment pour le renforcement de polymeres
FR2994961B1 (fr) 2012-08-31 2014-10-03 Rhodia Operations Nouveau procede de preparation de silices precipitee, nouvelles silices precipitees et leur utilisations, notamment pour le renforcement de polymeres
FR3017609B1 (fr) * 2014-02-14 2016-03-18 Rhodia Operations Nouveau procede de preparation de silices precipitees, nouvelles silices precipitees et leurs utilisations, notamment pour le renforcement de polymeres

Also Published As

Publication number Publication date
CN106061897B (zh) 2018-11-20
FR3018070A1 (fr) 2015-09-04
US11084729B2 (en) 2021-08-10
WO2015154914A1 (fr) 2015-10-15
AR100118A1 (es) 2016-09-14
JP6564388B2 (ja) 2019-08-21
FR3018070B1 (fr) 2017-09-15
KR20160127755A (ko) 2016-11-04
TWI657045B (zh) 2019-04-21
BR112016019841B1 (pt) 2022-01-25
US20170015807A1 (en) 2017-01-19
JP2017512737A (ja) 2017-05-25
PL3110759T3 (pl) 2021-04-19
CN106061897A (zh) 2016-10-26
EP3110759B1 (fr) 2020-06-24
EP3110759B8 (fr) 2020-08-12
BR112016019841A2 (zh) 2017-08-15
EP3110759A1 (fr) 2017-01-04
ES2818084T3 (es) 2021-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI715528B (zh) 用於製備沈澱二氧化矽之新穎方法，新穎的沈澱二氧化矽及其用途，尤其用於增強聚合物
TWI508920B (zh) 沉澱矽石的製備方法，沉澱矽石及其用途
TWI686353B (zh) 用於製備沈澱二氧化矽之新穎方法，新穎的沈澱二氧化矽及其用途，尤其用於增強聚合物
TWI617510B (zh) 沉澱矽石的新穎製備方法，新穎沉澱矽石及其用途，特別是針對聚合物的強化
TWI658990B (zh) 製備沈澱二氧化矽之方法，沈澱二氧化矽及其用途，特別是用於聚合物之增強
TWI657045B (zh) 製備沈澱二氧化矽的新穎的方法，新穎的沈澱二氧化矽及其用途，尤其是用於增強聚合物
TWI658004B (zh) 製備沈澱二氧化矽之方法、沈澱二氧化矽及其用途，特別是用於增強聚合物
TWI658991B (zh) 製備沈澱二氧化矽之新穎方法，新穎沈澱二氧化矽及其用途，尤其是用於增強聚合物
TWI657046B (zh) 製備沈澱二氧化矽之方法，沈澱二氧化矽及其用途，特別是用於聚合物之增強
TWI664145B (zh) 製備沈澱二氧化矽的新穎的方法，新穎的沈澱二氧化矽及其用途，尤其是用於增強聚合物
TWI680101B (zh) 製備沈澱二氧化矽之方法，沈澱二氧化矽及其用途，特別是用於聚合物之增強
EP3105183B1 (en) Process for the preparation of precipitated silica, precipitated silica and its uses, in particular for the reinforcement of polymers

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees