TW201444664A - 轉印設備及導光膜片的製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種轉印設備，包括一模具、一轉印模、一壓合滾輪及一固化單元。模具具有一第一表面，第一表面具有一第一凹槽及一第二凹槽，第二凹槽內具有一第一平面及一第二平面，第一平面垂直於第一表面，第二平面傾斜於第一表面。轉印模具有一第二表面且配置於第一凹槽內。第一表面與第二表面共平面，第二表面上具有多個轉印微結構。第一表面及第二表面適於塗佈一膠層。壓合滾輪將一基片壓合至膠層，以使膠層結合於導光膜片。固化單元固化基片上的膠層，而在膠層形成對應於第一凹槽的一楔形結構及對應於轉印微結構的光學微結構。

Description

轉印設備及導光膜片的製造方法
本發明是有關於一種轉印設備及製造方法，且特別是有關於一種適用於導光膜片的轉印設備及導光膜片的製造方法。
隨著顯示技術的進步，平面顯示器已成為顯示器的主流，並取代了傳統陰極射線管(cathode ray tube,CRT)的地位。在平面顯示器中，又以液晶顯示器(liquid crystal display,LCD)最受消費者的廣泛使用。一般的液晶顯示器主要可由背光模組與液晶面板所構成。由於液晶面板本身不會發光，因此需背光模組提供顯示所需之光源。
在可攜式電子裝置之輕薄化的設計趨式之下，其背光模組中之導光膜片(Light Guiding Film，LGF)的厚度也相應地降低而小於光源(如發光二極體光源)之尺寸。為了讓導光膜片的入光側涵蓋光源所在範圍，需在導光膜片之出光面上設置鄰近入光側的楔形結構(taper)，使光源發出的光線能夠較完整地進入導光膜片。目前製作楔形結構的方式多為射出成形製程，但是藉由射出成形製 程所製作的導光膜片其能夠達到的最小厚度約為0.4~0.5 mm，而難以製作出更薄的導光膜片及其楔形結構。此外，若以轉印的方式來製作導光膜片上之凸透鏡狀微結構，一般是在轉印滾輪上直接刻製出對應之轉印微結構，以利用轉印滾輪在導光膜片上轉印出凸透鏡狀微結構，故當欲改變導光膜片上之光學微結構的分佈方式或結構形狀時，必須對轉印滾輪重新進行刻製而較為耗費製造成本。
另外，習知背光模組一般是在其導光膜片的底面設置凸狀(或凹狀)微結構，以使光源發出之光線進入導光膜片後藉由凸狀(或凹狀)微結構的反射而往出光面行進，並在導光膜片的出光面設置凸透鏡狀(lenticular)微結構使出光較為均勻，以提升出光品質。然而，由於設置於導光膜片之底面的凸狀(或凹狀)微結構一般為非均勻排列，因此當在導光膜片之底面製作凸狀(或凹狀)微結構時，必需與導光膜片之出光面的楔形結構進行對位，而些許的對位誤差都可能對出光效率造成不良的影響。再者，相較於將凸狀微結構設置於導光膜片，將凹狀微結構設置於導光膜片一般來說可獲得較佳的出光效率，然而若為了獲得較佳的出光效率而選擇設置凹狀微結構於導光膜片的底面，則導光膜片之底面與反射片之間容易因靜電吸附而產生出光不均勻的問題。
中華民國專利編號TW 201305622揭露一種透光基板的製作方法，在模仁內填充材料之後將透光基板製入模仁內，使材料固化於透光基板上而成為楔形部，並藉由模仁的內表面在透光 基板上轉印出光學微結構。中華民國專利編號TW M256280揭露一種導光板模具，包含上模、下模及壓模板，壓模板位於下模且具有多個微結構圖案，用以製作出導光板表面的光學微結構。中華民國專利編號TW M446697揭露一種導光板製造流程，其壓印器繞設於傳動滾筒，當基材藉由輸送裝置的輸送而通過滾壓裝置時，壓印器即對基材上的樹脂層進行滾壓，且紫外光源對樹脂層照射紫外光以將其固化。中華民國專利編號TW 290815揭露一種模具組，其模仁可拆換組裝以對應所需之形狀、式樣之變化。中華民國專利編號TW 274255揭露一種沖壓機構，可隨需求之紋路於其花紋模上作成立體紋路，藉由花紋模在連續輸送之皮料上沖出具有立體花紋之圖樣，再利用刀模將其沖製成立體塊狀而形成單一立體紋路塑膠地磚。中華民國專利編號TW I249658揭露一種母板單元之製作方法，將UV膠塗佈在具有紋路的母模表面並在UV膠上覆蓋透明板，待UV膠被固化後分離UV膠與母模，使母模的紋路完整地複製於UV膠。中華民國專利編號TW I346040揭露一種增亮膜之製造方法，將成型膠塗佈於透明材質之離型膜上且由離型膜釋放輪釋出，成型膠被紫外光照射而硬化後與離型膜一併進行收納並分割成多個增亮膜。中華民國專利編號TW M351374揭露一種光學膜片製造裝置，基材以一輸送方向進入鏡面輪，輸送方向與鏡面輪靠近基材處之弧線的夾角為10~60度或30~60度。中華民國專利編號TW M411335揭露一種壓紋機台結構，利用壓輪透過壓印膜滾壓待壓物件，並利用紫外光固化待壓 物件上的熱固型溶膠層。
本發明提供一種轉印設備及導光膜片的製造方法，可簡化導光膜片的製程並製作出具有良好出光品質的導光膜片。
本發明的其他目的和優點可以從本發明所揭露的技術特徵中得到進一步的了解。
為達上述之一或部份或全部目的或是其他目的，本發明之一實施例提供一種轉印設備，包括一模具、一轉印模、一壓合滾輪及一固化單元。模具具有一第一表面，第一表面具有一第一凹槽及一第二凹槽，第二凹槽內具有一第一平面及一第二平面，第一平面垂直於第一表面，第二平面傾斜於第一表面。一轉印模具有一第二表面且配置於第一凹槽內。第一表面與第二表面共平面，第二表面上具有多個轉印微結構。第一表面及第二表面適於塗佈一膠層。壓合滾輪適於將一基片壓合至膠層，以使膠層結合於基片。固化單元適於固化基片上的膠層，而在膠層形成對應於第一凹槽的一楔形結構及對應於這些轉印微結構的多個光學微結構。
為達上述之一或部份或全部目的或是其他目的，本發明之一實施例提供一種導光膜片結構的製造方法，包括以下步驟。提供一基片，其中基片具有相對的一出光面及一底面。塗佈一第一膠層在基片的底面。提供一轉印滾輪，其中轉印滾輪上具有多 個第一轉印微結構。藉由轉印滾輪對基片的底面上的第一膠層進行轉印並固化第一膠層，以在第一膠層形成對應於這些第一轉印微結構的多個第一光學微結構。提供一模具，其中模具具有一第一表面，第一表面具有一第一凹槽及一第二凹槽。提供一轉印模，其中轉印模具有一第二表面，第二表面上具有多個第二轉印微結構。將轉印模配置於第一凹槽內，而使第一表面與第二表面共平面。塗佈一第二膠層於第一表面及第二表面。藉由一壓合滾輪將基片的出光面壓合至第二膠層並固化第二膠層，以使第二膠層結合於出光面並在第二膠層形成對應於第一凹槽的一楔形結構及對應於這些第二轉印微結構的多個第二光學微結構。在形成這些第一光學微結構、楔形結構及這些第二光學微結構之後，切割基片而製作出至少一導光膜片。
本發明之一實施例的轉印設備，更包括至少一傳送滾輪，其中基片為可撓性膜片且繞於傳送滾輪及壓合滾輪，傳送滾輪適於帶動基片移動並通過壓合滾輪。
本發明之一實施例的轉印設備，其中當壓合滾輪對基片進行壓合時，模具適於與基片同步移動，以使膠層完整地結合於基片。
本發明之一實施例的轉印設備，其中膠層為光固化膠層，固化單元適於發出光線以固化膠層。
本發明之一實施例的轉印設備，更包括一切割單元，其中在固化單元固化膠層之後，切割單元適於切割基片而製作出導 光膜片。
本發明之一實施例的轉印設備，其中模具包括一第一組件及一第二組件，第一凹槽位於第一組件，第二凹槽位於第二組件，第一組件適於組裝至第二組件。
本發明之一實施例的轉印設備，更包括至少一膠材，填充於第一凹槽的內壁與轉印模之間的間隙。
本發明之一實施例的轉印設備，其中膠材為光固化膠材。
本發明之一實施例的轉印設備，其中第二平面位於第一平面與第一凹槽之間。
本發明之一實施例的轉印設備，其中第二平面與第一表面的夾角介於2.5度與5度之間。
本發明之一實施例的轉印設備，其中各轉印微結構為凸狀結構。
本發明之一實施例的轉印設備，其中部分轉印微結構為非均勻排列。
本發明之一實施例的轉印設備，其中第二凹槽具有相對的兩邊緣，第一平面從第二凹槽的一邊緣往第二凹槽內延伸，第二平面從第二凹槽的另一邊緣往第二凹槽內延伸並連接於第一平面。
基於上述，本發明的實施例至少具有以下其中一個優點，在本發明的上述實施例中，模具具有第一凹槽及第二凹槽且轉印模配置於模具的第一凹槽內，因此可藉由模具的第二凹槽及 轉印模的第二轉印微結構以轉印的方式在基片上製作第二光學微結構及楔形結構，上述製造方式並非採用射出成形製程，因此可製作出具有較小厚度的導光膜片。此外，由於上述第二轉印微結構是形成於轉印模而非直接刻製於模具，因此當欲改變導光膜片上之光學微結構的分佈方式或結構形狀時，不須重新刻製轉印微結構而僅須更換轉印模，如此可簡化製程以節省製造成本。
為讓本發明之上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉多個實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。
30、140‧‧‧固化單元
40、90‧‧‧出膠單元
50‧‧‧基片
50a‧‧‧出光面
50b‧‧‧底面
60‧‧‧第一膠層
62‧‧‧第一光學微結構
70‧‧‧轉印滾輪
72‧‧‧第一轉印微結構
80‧‧‧第二膠層
82‧‧‧楔形結構
84‧‧‧第二光學微結構
100‧‧‧轉印設備
110、110’‧‧‧模具
110a‧‧‧第一表面
110c‧‧‧第一組件
110d‧‧‧第二組件
112、112’‧‧‧第一凹槽
114、114’‧‧‧第二凹槽
114a‧‧‧第一平面
114b‧‧‧第二平面
114c、114d‧‧‧邊緣
120‧‧‧轉印模
120a‧‧‧第二表面
122‧‧‧第二轉印微結構
130‧‧‧壓合滾輪
150‧‧‧傳送滾輪
160‧‧‧切割單元
170‧‧‧膠材
200‧‧‧導光膜片
300‧‧‧反射片
400‧‧‧光源
D1~D4‧‧‧方向
θ‧‧‧夾角
圖1為本發明一實施例之導光膜片的製造方法流程圖。
圖2A至圖2C繪示圖1之製造方法流程的部分步驟。
圖3A至圖3C繪示圖1之製造方法流程的部分步驟。
圖4A至圖4D繪示圖1之製造方法流程的部分步驟。
圖5為圖4C的導光膜片的示意圖。
圖6繪示圖3C之模具及轉印模的結合方式。
圖7A至圖7B繪示本發明另一實施例之模具的製造流程。
有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之多個實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。 以下實施例中所提到的方向用語，例如「上」、「下」、「前」、「後」、「左」、「右」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用來說明，而非用來限制本發明。
圖1為本發明一實施例之導光膜片的製造方法流程圖。圖2A至圖2C繪示圖1之製造方法流程的部分步驟。請參考圖1及圖2A至圖2C，如圖2A所示提供一基片50，其中基片50具有相對的一出光面50a及一底面50b(步驟S602)。在本實施例中，基片(Base Film)50例如是適用於背光模組的材質，例如為聚甲基丙烯酸酯(polymethyl methacrylate，PMMA)、聚碳酸酯(polycarbonate，PC)或其它適當材料。如圖2B所示塗佈一第一膠層60在基片50的底面50b(步驟S604)，其中例如是藉由一出膠單元90提供上述第一膠層60。如圖2C所示提供一轉印滾輪70，其中轉印滾輪70上具有多個第一轉印微結構72(步驟S606)，然後藉由轉印滾輪70對基片50的底面50b上的第一膠層60進行轉印並固化第一膠層60，以在第一膠層60形成對應於這些第一轉印微結構72的多個第一光學微結構62(步驟S608)，其中第一膠層60例如為光固化膠層，且例如是利用固化單元30發出的光來照射第一膠層60而使第一膠層60固化。在本實施例中，第一膠層60例如是僅以紫外光照射的方式來固化第一膠層60而不另外以其他設備進行加熱。
圖3A至圖3C繪示圖1之製造方法流程的部分步驟。請參考圖1及圖3A至圖3C，如圖3A所示提供一模具110，其中模 具110具有一第一表面110a，第一表面110a具有一第一凹槽112及一第二凹槽114(步驟S610)。詳細而言，在製造模具110時，係在第二凹槽114內形成一第一平面114a及一第二平面114b，其中第二平面114b位於第一平面114a與第一凹槽112之間，第二凹槽114具有相對的兩邊緣114c、114d，第一平面114a從第二凹槽114的邊緣114c往第二凹槽114內延伸，第二平面114b從第二凹槽114的另一邊緣114d往第二凹槽114內延伸並連接於第一平面114a，第一平面114a垂直於第一表面110a，且第二平面114b傾斜於第一表面110a，而使第二凹槽114呈一楔形。接著，如圖3B所示提供一轉印模120，其中轉印模120具有一第二表面120a，第二表面120a上具有多個第二轉印微結構122(步驟S612)。轉印模120的材質例如為鎳或其它適當材料，第二轉印微結構122例如為凸點或凹點，以蝕刻雷射電鑄等或其它適當方式形成，本發明不對此加以限制。如圖3C所示將轉印模120配置於第一凹槽112內，而使第一表面110a與第二表面120a共平面(步驟S614)。
圖4A至圖4D繪示圖1之製造方法流程的部分步驟。請先參考圖4A，本實施例的轉印設備100包括上述模具110、上述轉印模120、一壓合滾輪130、一固化單元140及至少一傳送滾輪150(繪示出兩個，但本發明不以此為限)。上述基片50例如是可撓性膜片，適於在如圖2C所示完成基片50上的第一膠層60及其第一光學微結構62的製作之後，將基片50繞於傳送滾輪150及壓合滾輪130。傳送滾輪150適於帶動基片50移動並通過壓合滾輪 130以進行轉印。以下藉由圖式對此加以詳細說明。
請參考圖1及圖4A至圖4D，如圖4A至圖4B所示塗佈一第二膠層80於第一表面110a及第二表面120a(步驟S616)，其中第二膠層80例如是藉由另一出膠單元40提供。如圖4B所示驅動壓合滾輪130沿方向D3下移，以藉由壓合滾輪130將基片50的出光面50a(標示於圖2A至圖2C)壓合至第二膠層80並固化第二膠層80，以使第二膠層80結合於出光面50a並如圖4C所示在第二膠層80形成對應於第一凹槽112的一楔形結構82及對應於第二轉印微結構122的多個第二光學微結構84(步驟S618)。第二膠層80例如為光固化膠層，且例如是利用固化單元140發出的光來照射第二膠層80而使第二膠層80固化。在本實施例中，第二膠層80例如是僅以紫外光照射的方式來固化第二膠層80而不另外以其他設備進行加熱。
在上述製造流程中，模具110被驅動而沿方向D1移動，使第二膠層80可完整地塗佈於第一表面110a及第二表面120a，且當壓合滾輪130對基片50進行轉印時，模具110係沿方向D1與基片50同步移動，以使第二膠層80能夠完整地結合於基片50。如圖4C所示，本實施例的轉印設備100更包括切割單元160，在形成這些第一光學微結構62、楔形結構82及這些第二光學微結構84之後，藉由切割單元160切割基片50而製作出導光膜片200(步驟S620)。圖4C例示性地繪示為已完成三組第一光學微結構62、楔形結構82及這些第二光學微結構84的基片50，傳送滾輪150 用以將這些待切割的基片50依序傳送至切割單元160處以進行切割。在完成圖4A至圖4C的轉印流程之後，可如圖4D所示驅動模具110沿方向D2回到初始位置，並驅動壓合滾輪130沿方向D4上移至初始位置，然後再次進行圖4A至圖4C的轉印流程，以製作出更多的導光膜片200。
由於上述製造方式並非採用射出成形製程，因此可製作出具有較小厚度的導光膜片200。此外，由於上述第二轉印微結構122是形成於轉印模120而非直接刻製於模具110，因此當欲改變導光膜片50上之第二光學微結構84的分佈方式或結構形狀時，不須重新刻製轉印微結構而僅須更換轉印模，如此可簡化製程以節省製造成本。
在本實施例中，圖3C所示的第二轉印微結構122例如被形成為凸狀結構且在微結構分布密度上為非均勻排列，以使對應於第二轉印微結構122的第二光學微結構84如圖4C所示被形成為非均勻排列的多個凹狀結構。此外，在圖2C所示的轉印製程中，係將第一光學微結構62形成為均勻排列的多個凸透鏡狀結構。第二轉印微結構122可以部分或全部在微結構的分布密度、大小、形狀、或高度上為非均勻排列，本發明對此不加以限制。
圖5為圖4C的導光膜片結構的示意圖。請參考圖5，在上述流程所製造出的導光膜片結構200中，楔形結構82及第二光學微結構84是藉由圖3C所示的模具110及轉印模120被轉印成形而皆位於基片50的同一側(即出光面50a)。據此，可避免因楔 形結構82及非均勻排列之第二光學微結構84分別被轉印於基片50的不同側而產生對位困難的問題。此外，由於第一光學微結構62為均勻排列，因此如圖5所示將楔形結構82及第一光學微結構62分別轉印於基片50的不同側將不會產生楔形結構82與第一光學微結構62對位不準的問題。
請參考圖5，在上述流程所製造出的導光膜片200中，例如為凸透鏡狀結構的第一光學微結構62位於基片50的底面50b，且例如為凹狀結構的第二光學微結構84位於基片50的出光面50a。此配置方式使反射片300並非與凹狀結構接觸而是與凸透鏡狀結構接觸，而可避免導光膜片200之底面50b與反射片300之間因靜電吸附而產生出光不均勻的問題。此外，由於第二光學微結構84是位於基片50的出光面50a而不會與反射片300接觸，因此不需為了避免上述靜電吸附問題而將第二光學微結構84設計為凸狀結構，使第二光學微結構84可被設計為具有較佳出光效率的凹狀結構。另外，背光模組之光源400發出的光線進入導光膜片200後會藉由位於出光面50a的第二光學微結構84進行較多次的反射後才透過出光面50a射出，而可使出光更為均勻並避免在出光面50a產生光斑(hot spot)。
在本實施例的模具110中，第二凹槽114內之第二平面114b與第一表面114a的夾角θ(標示於圖3A及圖3C)例如被形成為介於2.5度與5度之間，以使圖5所示的楔形結構82經由模具110之第二凹槽114進行轉印後具有適當的形狀，而可對光源400 發出的光線進行良好的傳遞。
在本實施例中，圖4B所示之塗佈於第一表面110a及第二表面120a上的第二膠層80的厚度例如介於5μm與20μm之間，而模具110及轉印模120需相應地以超精密加工方式進行製造，詳述如下。首先，製作出模具110並在其表面鍍上鎳磷合金，以便於利用超精密加工機使用鑽石刀具鉋平模具110的表面，使其表面粗糙度約在10 nm以下。圖6繪示圖3C之模具及轉印模的結合方式。在使用鑽石刀具鉋平模具110的表面之後，如圖6所示提供膠材170，膠材170例如為光固化膠材，將膠材170填充於第一凹槽112的內壁與轉印模120之間的間隙，並利用光線照射膠材170以固化膠材170，以使轉印模120穩固地結合於模具110的第一凹槽112內。
圖7A至圖7B繪示本發明另一實施例之模具的製造流程。請參考圖7A，首先，提供一第一組件110c及一第二組件110d，形成第一凹槽112’於第一組件110c，並形成第二凹槽114’於第二組件110d。接著，如圖7B所示將第一組件110c組裝至第二組件110d而合成模具110’。在難以藉由超精密加工於單一模具上完成第一凹槽112’及第二凹槽114’之製作的情況下，可如上述般分別在第一組件110c及第二組件110d製作第一凹槽112’及第二凹槽114’，然後對第一組件110c及第二組件110d進行組裝以完成模具110’的製作。
綜上所述，本發明的實施例至少具有以下其中一個優 點，在本發明的上述實施例中，模具具有第一凹槽及第二凹槽且轉印模配置於模具的第一凹槽內，因此可藉由模具的第二凹槽及轉印模的第二轉印微結構以轉印的方式在基片上製作第二光學微結構及楔形結構，上述製造方式並非採用射出成形製程，因此可製作出具有較小厚度的導光膜片。此外，由於上述第二轉印微結構是形成於轉印模而非直接刻製於模具，因此當欲改變基片上之光學微結構的分佈方式或結構形狀時，不須重新刻製轉印微結構而僅須更換轉印模，如此可簡化製程以節省製造成本。另外，楔形結構及第二光學微結構是藉由模具及轉印模被轉印成形而皆位於基片的同一側，據此可避免因楔形結構及非均勻排列之第二光學微結構分別被轉印於基片的不同側而產生對位困難的問題。再者，將例如為凸透鏡狀結構的第一光學微結構形成於基片的底面並將例如為凹狀結構的第二光學微結構形成於基片的出光面，使反射片並非與凹狀結構接觸而是與凸透鏡狀結構接觸，而可避免導光膜片之底面與反射片之間因靜電吸附而產生出光不均勻的問題。光源發出的光線進入導光膜片後會藉由位於出光面的凹狀結構進行較多次的反射後才透過出光面射出，而可使出光更為均勻並避免在出光面產生光斑。
惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。另外，本發明的任一實施例或申請專利範圍不須達 成本發明所揭露之全部目的或優點或特點。此外，摘要部分和標題僅是用來輔助專利文件搜尋之用，並非用來限制本發明之權利範圍。
40‧‧‧出膠單元
50‧‧‧導光膜片
60‧‧‧第一膠層
62‧‧‧第一光學微結構
80‧‧‧第二膠層
82‧‧‧楔形結構
84‧‧‧第二光學微結構
100‧‧‧轉印設備
110‧‧‧模具
110a‧‧‧第一表面
112‧‧‧第一凹槽
114‧‧‧第二凹槽
120‧‧‧轉印模
120a‧‧‧第二表面
122‧‧‧第二轉印微結構
130‧‧‧壓合滾輪
140‧‧‧固化單元
150‧‧‧傳送滾輪
160‧‧‧切割單元
200‧‧‧導光膜片結構
D1~D4‧‧‧方向

Claims (27)

  1. 一種轉印設備，包括：一模具，具有一第一表面，其中該第一表面具有一第一凹槽及一第二凹槽，該第二凹槽內具有一第一平面及一第二平面，該第一平面垂直於該第一表面，該第二平面傾斜於該第一表面；一轉印模，具有一第二表面且配置於該第一凹槽內，其中該第一表面與該第二表面共平面，該第二表面上具有多個轉印微結構，該第一表面及該第二表面適於塗佈一膠層；一壓合滾輪，適於將一基片壓合至該膠層，以使該膠層結合於該基片；以及一固化單元，適於固化該基片上的該膠層，而在該膠層形成對應於該第一凹槽的一楔形結構及對應於該些轉印微結構的多個光學微結構。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的轉印設備，更包括至少一傳送滾輪，其中該基片為可撓性膜片且繞於該傳送滾輪及該壓合滾輪，該傳送滾輪適於帶動該基片移動並通過該壓合滾輪。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的轉印設備，其中當該壓合滾輪對該基片進行壓合時，該模具適於與該基片同步移動，以使該膠層完整地結合於該基片。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的轉印設備，其中該膠層為光固化膠層，該固化單元適於發出光線以固化該膠層。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的轉印設備，更包括一切割單 元，其中在該固化單元固化該膠層之後，該切割單元適於切割該基片而製作出至少一導光膜片。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的轉印設備，其中該模具包括一第一組件及一第二組件，該第一凹槽位於該第一組件，該第二凹槽位於該第二組件，該第一組件適於組裝至該第二組件。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的轉印設備，更包括至少一膠材，填充於該第一凹槽的內壁與該轉印模之間的間隙。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的轉印設備，其中該膠材為光固化膠材。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的轉印設備，其中該第二平面位於該第一平面與該第一凹槽之間。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的轉印設備，其中該第二平面與該第一表面的夾角介於2.5度與5度之間。
  11. 如申請專利範圍第1項所述的轉印設備，其中各該轉印微結構為凸狀結構。
  12. 如申請專利範圍第1項所述的轉印設備，其中部分該些轉印微結構為非均勻排列。
  13. 如申請專利範圍第1項所述的轉印設備，其中該第二凹槽具有相對的兩邊緣，該第一平面從該第二凹槽的一該邊緣往該第二凹槽內延伸，該第二平面從該第二凹槽的另一該邊緣往該第二凹槽內延伸並連接於該第一平面。
  14. 一種導光膜片的製造方法，包括： 提供一基片，其中該基片具有相對的一出光面及一底面；塗佈一第一膠層在該基片的該底面；提供一轉印滾輪，其中該轉印滾輪上具有多個第一轉印微結構；藉由該轉印滾輪對該基片的該底面上的該第一膠層進行轉印並固化該第一膠層，以在該第一膠層形成對應於該些第一轉印微結構的多個第一光學微結構；提供一模具，其中該模具具有一第一表面，該第一表面具有一第一凹槽及一第二凹槽；提供一轉印模，其中該轉印模具有一第二表面，該第二表面上具有多個第二轉印微結構；將該轉印模配置於該第一凹槽內，而使該第一表面與該第二表面共平面；塗佈一第二膠層於該第一表面及該第二表面；藉由一壓合滾輪將該基片的該出光面壓合至該第二膠層並固化該第二膠層，以使該第二膠層結合於該出光面並在該第二膠層形成對應於該第一凹槽的一楔形結構及對應於該些第二轉印微結構的多個第二光學微結構；在形成該些第一光學微結構、該楔形結構及該些第二光學微結構之後，切割該基片而製作出至少一導光膜片。
  15. 如申請專利範圍第14項所述的製造方法，其中該第一膠層為光固化膠層，固化該第一膠層的步驟包括： 利用光線照射該第一膠層。
  16. 如申請專利範圍第14項所述的製造方法，其中形成該些第一光學微結構的步驟包括：將該些第一光學微結構形成為均勻排列的多個凸透鏡狀結構。
  17. 如申請專利範圍第14項所述的製造方法，其中該模具的該第二凹槽內具有一第一平面及一第二平面，其中該第一平面垂直於該第一表面，該第二平面傾斜於該第一表面。
  18. 如申請專利範圍第14項所述的製造方法，其中該第二平面與該第一表面的夾角為介於2.5度與5度之間。
  19. 如申請專利範圍第18項所述的製造方法，其中該第二平面位於該第一平面與該第一凹槽之間。
  20. 如申請專利範圍第14項所述的製造方法，其中該模具包括一第一組件及一第二組件，該第一凹槽位於該第一組件，該第二凹槽位於該第二組件。
  21. 如申請專利範圍第14項所述的製造方法，其中該第一凹槽的內壁與該轉印模之間的間隙具有一膠材。
  22. 如申請專利範圍第21項所述的製造方法，其中該膠材為光固化膠材。
  23. 如申請專利範圍第14項所述的製造方法，更包括：當藉由該壓合滾輪將該基片的該出光面壓合至該第二膠層時，藉由至少一傳送滾輪帶動該基片移動並通過該壓合滾輪。
  24. 如申請專利範圍第23項所述的製造方法，更包括：當藉由該壓合滾輪將該基片的該出光面壓合至該第二膠層時，驅動該模具與該基片同步移動，以使該第二膠層完整地結合於該基片的該出光面。
  25. 如申請專利範圍第14項所述的製造方法，其中該第二膠層為光固化膠層，固化該第二膠層的步驟包括：利用光線照射該第二膠層。
  26. 如申請專利範圍第14項所述的製造方法，其中部分該些第二光學微結構包括：非均勻排列的多個凹狀結構。
  27. 如申請專利範圍第14項所述的製造方法，其中固化該第一膠層及固化該第二膠層的步驟不包括加熱該第一膠層及該第二膠層。
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