TW201442065A - 遮罩弱點偵測 - Google Patents

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Michael Ben-Yishai
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Abstract

本發明提供一種檢查系統及一種電腦程式產品，該電腦程式產品儲存指令用於：獲得遮罩區域的空中圖像；其中空中圖像表示微影術製程期間待形成在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術製程包括藉由微影術工具照明遮罩區域；其中光阻劑具有可印刷性閾值；其中微影術製程顯示製程窗，該製程窗引起預期圖像的像素處的允許的變化，該等變化不超過強度閾值；及搜尋遮罩區域的至少一個弱點，每一弱點為空中圖像的局部極值點，該局部極值點與可印刷性閾值隔開不超過強度閾值的一距離或為可印刷性閾值的交叉點及具有低於預先界定的閾值的斜率。

Description

遮罩弱點偵測
本發明係關於遮罩的弱點偵測。
矽晶片製造中的主要製程為光微影術。光微影術為在塗覆有光阻劑材料的矽晶圓上將所欲圖案成像的製程。此舉使用石英板(遮罩)達成，所欲圖案印刷在該石英板(遮罩)上。光(通常193nm雷射)經投射穿過遮罩，該遮罩移動經過專門的光學裝置，該光學裝置在光阻劑上的晶圓平面處將所欲圖案成像。使用的每一遮罩以此方式設計使得光微影術情況中的少量變化(通常雷射劑量及散焦)仍然提供高達某一容差的所欲圖案。仍然提供高達指定容差的所欲圖案的散焦及劑量變化的範圍被稱為製程窗。
在晶圓製造設施(晶圓廠)的光微影術製程期間，可出現以下問題：a.遮罩的實際製程窗小於遮罩的製程窗的設計目的(遮罩製造問題)；b.某一數量的遮罩暴露(暴露至雷射)之後，遮罩經歷減少製程窗尺寸的物理變化。此可起因於氧化、晶體生長、表膜退化等等；及/或c.當遮罩從清洗回到生產時，製程窗減小(清洗導致之退化)。
作為製程窗的此減小的結果，某些佈局部分可以錯誤的方式印刷，如此可進而導致裝置故障。
識別錯誤的晶圓印刷的此風險的主要挑戰為在錯誤的晶圓印刷影響晶片效能/功能之前識別遮罩上的錯誤的晶圓印刷。換言之，對遮罩的晶圓廠製程監視(遮罩檢查)及對晶圓的晶圓廠製程監視(晶圓檢查)之當前方法並非提供為在問題影響晶圓廠產率(功能晶片百分比)之前偵測到問題。
根據本發明的實施例，可提供非暫態電腦可讀取媒體及該非暫態電腦可讀取媒體可儲存指令用於：獲得遮罩區域的空中圖像；其中空中圖像表示在微影術製程期間待形成在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術製程包括藉由微影術工具照明遮罩區域；其中光阻劑的可印刷性由可印刷性函數界定；其中具有強度的預期圖像的元素引起光阻劑的顯影，該強度位於可印刷性函數的一側；其中具有強度的預期圖像的元素不引起光阻劑的顯影，該強度位於可印刷性函數的第二側；其中微影術製程顯示允許的微影術製程條件的製程窗；其中不同的允許的微影術製程條件引起預期圖像的像素處的允許的變化，允許的變化不超過強度閾值；及搜尋遮罩區域處的至少一個弱點，每一弱點滿足以下至少一種條件：(a)為空中圖像的局部極值點，該局部極值點與可印刷性函數隔開不超過強度函數的強度差；及(b)為可印刷性函數的交叉點及具有低於預先界定的閾值的斜率。
可印刷性函數的值可為位置相關的。
每一弱點可為空中圖像的局部極值點，該局部極值點與可印刷性閾值隔開不超過強度閾值的一距離。
非暫態電腦可讀取媒體可儲存指令用於：獲得至少一個弱點的空中圖像；其中獲得步驟回應於製程窗影響事件的出現及預先界定的週期的流逝中的至少一者觸發；及若弱點已從可印刷性函數的一側移動至可印刷性閾值的另一側，則偵測遮罩錯誤。
根據本發明的實施例，可提供非暫態電腦可讀取媒體及該非暫態電腦可讀取媒體可儲存指令用於：獲得遮罩區域的至少一個空中圖像；其中至少一個空中圖像的每一者表示微影術製程期間待形成在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術製程包括藉由微影術工具及同時應用微影術製程條件照明遮罩區域；基於光阻劑y的可印刷性函數處理至少一個空中圖像以提供多個二進制圖像；其中不同的二進制圖像表示閾值及微影術製程條件的不同組合；其中至少一個閾值的每一者基於光阻劑的可印刷性函數決定；及基於至少二個二進制圖像之間的差異搜尋至少一個弱點。
非暫態電腦可讀取媒體可儲存指令用於：獲得遮罩區域的多個空中圖像；其中不同的空中圖像關於不同的微影術製程條件；及藉由至少一個閾值定出多個空中圖像的閾值以提供多個二進制圖像；及基於至少二個二進制圖像之間的差異搜尋至少一個弱點。
非暫態電腦可讀取媒體可儲存指令用於：獲得遮罩區域的空中圖像；其中空中圖像表示微影術製程期間待形成 在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術製程包括藉由微影術工具及同時應用某一微影術製程條件照明遮罩區域；藉由多個閾值定出至少一個空中圖像的閾值以提供多個二進制圖像；其中多個閾值基於光阻劑的可印刷性閾值決定；及基於至少二個二進制圖像之間的差異搜尋至少一個弱點。
微影術製程可顯示允許的微影術製程條件的製程窗。非暫態電腦可讀取媒體可儲存指令用於藉由不同閾值定出空中圖像的閾值，該等不同閾值基於光阻劑的可印刷性閾值及不同的允許的微影術製程條件選擇。
非暫態電腦可讀取媒體可儲存指令用於基於二進制圖像界定微影術製程的製程窗。
非暫態電腦可讀取媒體可儲存指令用於獲得至少一個弱點的空中圖像；其中回應於製程窗影響事件的出現及預先界定的週期的流逝中的至少一者觸發獲得步驟；及若弱點已從可印刷性閾值的一側移動至可印刷性閾值的另一側，則偵測遮罩錯誤。
根據本發明的實施例，可提供檢查系統及檢查系統可包括圖像獲得模組，該圖像獲得模組可經安排以獲得遮罩區域的空中圖像；其中空中圖像表示微影術製程期間待形成在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術製程包括藉由微影術工具照明遮罩區域；其中光阻劑具有可印刷性閾值；其中具有強度的預期圖像的元素引起光阻劑顯影，該強度位於可印刷性閾值的一側；其中具有強度的預期圖像的元素不引起光阻劑的顯影，該強度位於可印刷性閾值的第二側；其中微 影術製程顯示允許的微影術製程條件的製程窗；其中不同的允許的微影術製程條件引起預期圖像的像素處的允許的變化，允許的變化不超過強度閾值；及圖像處理器，該圖像處理器可經安排以搜尋遮罩區域的至少一個弱點，每一弱點滿足以下至少一種條件：(a)為空中圖像的局部極值點，該局部極值點與可印刷性閾值隔開不超過強度閾值的一距離；(b)為可印刷性閾值的交叉點及具有低於預先界定的閾值的斜率。
每一弱點可為空中圖像的局部極值點，該局部極值點與可印刷性閾值隔開不超過強度閾值的一距離。
圖像獲得模組可經安排以獲得至少一個弱點的空中圖像；其中由於製程窗影響事件的出現及預先界定的週期的流逝中的至少一者獲得空中圖像；及其中若弱點已從可印刷性閾值的一側移動至可印刷性閾值的另一側，則圖像處理器可經安排以偵測遮罩錯誤。
圖像獲得模組可經安排以獲得至少一個弱點的空中圖像；其中由於製程窗影響事件的出現及預先界定的週期的流逝中的至少一者獲得空中圖像；及若弱點已從可印刷性閾值的一側移動至可印刷性閾值的另一側以引起二個隔開的光阻劑圖案相互連接，則圖像處理器可經安排以偵測遮罩錯誤。
圖像獲得模組可經安排以獲得至少一個弱點的空中圖像；其中由於製程窗影響事件的出現及預先界定的週期的流逝中的至少一者獲得空中圖像；及其中若弱點已從可印刷性閾值的一側移動至可印刷性閾值的另一側以便將待劃分的連續的光阻劑圖案轉換為多個光阻劑圖案，則圖像處理器可 經安排以偵測遮罩錯誤。
圖像處理器可經安排以獲得不同的模擬微影術製程條件下遮罩區域的多個空中圖像。
根據本發明的實施例，可提供檢查系統及檢查系統可包括圖像獲得模組，該圖像獲得模組經安排以獲得遮罩區域的至少一個空中圖像，至少一個空中圖像的每一者表示微影術製程期間待形成在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術製程包括藉由微影術工具及同時應用某一聚焦條件照明遮罩區域；及圖像處理器，該圖像處理器經安排為：基於至少一個空中圖像的每一者回應於至少一個微影術製程強度值評估待在光阻劑上印刷的圖案以提供多個二進制圖像；及基於至少二個二進制圖像之間的差異搜尋至少一個弱點。
圖像獲得模組可經安排以獲得遮罩區域的多個空中圖像；其中不同的空中圖像關於不同的聚焦條件；及其中圖像處理器可經安排以基於多個空中圖像的每一者回應於至少一個微影術製程強度值評估待在光阻劑上印刷的圖案以提供多個二進制圖像。
圖像獲得模組可經安排以獲得遮罩區域的單個空中圖像；及其中圖像處理器可經安排以基於單個空中圖像回應於多個微影術製程強度值評估待在光阻劑上印刷的圖案以提供多個二進制圖像。
微影術製程顯示允許的微影術製程條件的製程窗及圖像處理器可經安排以藉由不同閾值定出至少一個空中圖像的每一者的閾值，該等不同的閾值基於光阻劑的可印刷性閾 值及不同微影術製程強度值選擇。
根據本發明的實施例，可提供方法及方法可包括以下步驟：獲得遮罩區域的空中圖像；其中空中圖像表示微影術製程期間待形成在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術製程包括藉由微影術工具照明遮罩區域；其中光阻劑的可印刷性由可印刷性函數界定；其中具有強度的預期圖像的元素引起光阻劑的顯影，該強度位於可印刷性函數的一側；其中具有強度的預期圖像的元素不引起光阻劑的顯影，該強度位於可印刷性函數的第二側；其中微影術製程顯示允許的微影術製程條件的製程窗；其中不同的允許的微影術製程條件引起預期圖像的像素處的允許的變化，允許的變化不超過強度閾值；及搜尋遮罩區域處的至少一個弱點，每一弱點滿足以下至少一種條件：為空中圖像的局部極值點，該局部極值點與可印刷性函數隔開不超過強度函數的強度差及為可印刷性函數的交叉點及具有低於預先界定的閾值的斜率。
可印刷性函數的值可為位置相關的。
每一弱點可為空中圖像的局部極值點，該局部極值點與可印刷性閾值隔開不超過強度閾值的一距離。
方法可包括以下步驟：獲得至少一個弱點的空中圖像；其中回應於製程窗影響事件的出現及預先界定的週期的流逝中的至少一者觸發獲得步驟；及若弱點已從可印刷性函數的一側移動至可印刷性閾值的另一側，則偵測遮罩錯誤。
根據本發明的實施例，可提供方法及方法可包括以下步驟：獲得遮罩區域的至少一個空中圖像；其中至少一個 空中圖像的每一者表示微影術製程期間待形成在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術製程包括藉由微影術工具及同時應用微影術製程條件照明遮罩區域；基於光阻劑y的可印刷性函數處理至少一個空中圖像以提供多個二進制圖像；其中不同的二進制圖像表示閾值及微影術製程條件的不同組合；其中基於光阻劑的可印刷性函數決定至少一個閾值的每一者；及基於至少二個二進制圖像之間的差異搜尋至少一個弱點。
方法可包括以下步驟：獲得遮罩區域的多個空中圖像；其中不同空中圖像關於不同微影術製程條件；及藉由至少一個閾值定出多個空中圖像的閾值以提供多個二進制圖像；及基於至少二個二進制圖像之間的差異搜尋至少一個弱點。
方法可包括以下步驟：獲得遮罩區域的空中圖像；其中空中圖像表示微影術製程期間待形成在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術製程包括藉由微影術工具及同時應用某一微影術製程條件照明遮罩區域；藉由多個閾值定出至少一個空中圖像的閾值以提供多個二進制圖像；其中多個閾值基於光阻劑的可印刷性閾值決定；及基於至少二個二進制圖像之間的差異搜尋至少一個弱點。
微影術製程顯示允許的微影術製程條件的製程窗及方法可包括以下步驟：藉由不同閾值定出空中圖像的閾值，該等不同閾值基於光阻劑的可印刷性閾值及不同的允許的微影術製程條件選擇。
方法可包括以下步驟：基於二進制圖像界定微影術製程的製程窗。
方法可包括以下步驟：獲得至少一個弱點的空中圖像；其中回應於製程窗影響事件的出現及預先界定的週期的流逝中的至少一者觸發獲得步驟；及若弱點已從可印刷性閾值的一側移動至可印刷性閾值的另一側，則偵測遮罩錯誤。
10‧‧‧可印刷性閾值
12‧‧‧上閾值
14‧‧‧下閾值
18‧‧‧上閾值
30‧‧‧曲線
31‧‧‧箭頭
32‧‧‧局部最大值點
33‧‧‧箭頭
34‧‧‧局部最大值點
36‧‧‧局部最大值點
50‧‧‧曲線
52‧‧‧局部最大值點
54‧‧‧局部最大值點
60‧‧‧曲線
61‧‧‧點
62‧‧‧局部最小值點
63‧‧‧點
64‧‧‧局部最小值點
70‧‧‧曲線
71‧‧‧曲線
72‧‧‧交叉點
73‧‧‧曲線
80‧‧‧曲線
81‧‧‧CD
91‧‧‧閾值
92‧‧‧閾值
93‧‧‧閾值
94‧‧‧閾值
300‧‧‧空中圖像
310‧‧‧閾值
320‧‧‧二進制圖像
500‧‧‧方法
510‧‧‧步驟
520‧‧‧步驟
530‧‧‧步驟
532‧‧‧步驟
534‧‧‧步驟
600‧‧‧方法
610‧‧‧步驟
620‧‧‧步驟
630‧‧‧步驟
700‧‧‧方法
710‧‧‧步驟
720‧‧‧步驟
730‧‧‧步驟
800‧‧‧方法
810‧‧‧步驟
820‧‧‧步驟
830‧‧‧步驟
840‧‧‧步驟
850‧‧‧步驟
1000‧‧‧系統
1010‧‧‧圖像獲得模組
1020‧‧‧圖像處理器
1030‧‧‧儲存單元
1032‧‧‧弱點資料庫
1034‧‧‧觸發資料庫
1036‧‧‧遮罩評估資料庫
將參閱圖式，僅藉由舉例方式，描述本發明的進一步細節、態樣及實施例。在圖式中，相同元件符號用於識別相同或功能類似元件。圖中的元件出於簡單及清晰目的圖示及不必按比例繪製。
第1圖為根據本發明的實施例的曲線圖，該曲線表示遮罩的空中圖像線的像素強度，在該曲線圖中已經識別遮罩的弱點；第2圖為根據本發明的實施例的另一曲線圖，該另一曲線表示遮罩的空中圖像線的像素強度，在該曲線圖中已經識別遮罩的弱點；第3圖為根據本發明的實施例的另一曲線圖，該另一曲線表示遮罩的空中圖像線的像素強度，在該曲線圖中已經識別遮罩的弱點；第4圖為根據本發明的實施例的又一曲線圖，該又一曲線表示遮罩的空中圖像線的像素強度，在該曲線圖中已經識別遮罩的弱點；第5圖至第8圖圖示根據本發明的各種實施例的各 種方法；第9圖及第10圖圖示根據本發明的各種實施例的各種強度值；第11圖圖示根據本發明的實施例的系統；及第12圖圖示根據本發明的實施例的多個空中圖像、多個閾值及多個二進制圖像。
當結合隨附圖式理解時，本發明的前述及其他目標、特徵及優點將從以下詳細描述中變得更為明顯。在圖式中，貫穿不同視圖，類似參考符號表示類似元件。
由於本發明的圖示的實施例大部分可使用熟習此項技術者所知的電子部件及電路實施，故將不會在大於本發明的基本概念的理解及認識所視為必需的範圍的任何範圍中解釋細節，及從而不會模糊本發明的教示或偏離本發明的教示。
提供用於監視遮罩的系統、非暫態電腦可讀取媒體及方法。監視使用空中成像從而識別處於錯誤印刷風險的位置(弱點)。可藉由獲得遮罩的空中圖像及處理遮罩的空中圖像，同時應用指示錯誤印刷的風險的一或更多個標準來識別及監視該等位置。該等弱點可在遮罩壽命期間監視及該等弱點可提供使用者用於早期報警電路故障的工具。
提供的系統、非暫態電腦可讀取媒體及方法提供比目的在於模擬遮罩的最初(及甚至理想的)狀態的基於電腦輔助設計(Computer Aided Design；CAD)之解決方案更精確的及更實際的遮罩狀態分析。
不能精確地將遮罩壽命期間遮罩的變化模型化，及因此提出的系統、非暫態電腦可讀取媒體及方法可幫助在遮罩的壽命期間監視實際的遮罩。
提供的系統、非暫態電腦可讀取媒體及方法可獲得遮罩區域的空中圖像，該空中圖像表示微影術製程期間待形成在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術製程包括藉由微影術工具照明遮罩區域。預期圖像為連續圖像及空中圖像可包括預期圖像的樣本(像素)。取樣可為使用有限分辨率的圖像感測器的結果。取樣可引起產生包括多個像素的空中圖像。假定取樣以保證預期圖像的精確表示的方式進行。舉例而言，取樣可根據奈奎斯特規則進行。
可印刷性閾值可提供是否預期圖像的元素將在光阻劑上印刷的大致評估。具體而言，可印刷性閾值與預期圖像的元素強度的比較可提供此大致評估。
注意到可印刷性閾值(不管光阻劑上的位置，可印刷性閾值為恆定的)為可印刷性函數的非限制實例。可印刷性函數可為線性的或非線性的。可印刷性函數的值可隨著成像的佈局的位置的函數變化。因此，光阻劑的一些位置可具有不同於其他位置的可印刷性值的可印刷性值。
出於解釋的簡單性目的，下文引用可印刷性閾值。
描述的方法、系統及非暫態電腦可讀取媒體可比照可印刷性函數應用，該可印刷性函數不同於具有整個光阻劑的單個可印刷性閾值。因此，代替比較圖像的元素的值與固定的可印刷性閾值，元素的值與對應於元素位置的位置處的 可印刷性函數的值比較。注意到可印刷性函數的值可視為可印刷性閾值，其中不同位置可視為具有不同可印刷性閾值。
監視步驟可包括以下步驟：決定可印刷性閾值或接收可印刷性閾值，定位弱點及監視弱點。弱點可為空中圖像上的位置，該等位置對於微影術製程條件(諸如強度(劑量)、焦點或兩者)中的變化高度敏感。
弱點
弱點為空中圖像(可追蹤至遮罩)上的位置，該等位置處於比所欲錯誤印刷風險更大的風險中。可存在許多類型的弱點。以下描述提供如何界定及定位弱點的界定。
可基於電腦輔助設計(CAD)資訊、基於過去偵測的遮罩錯誤、其他遮罩評估等等獲得懷疑的弱點(待搜尋弱點的位置)。懷疑的弱點可包括(例如)薄的圖案、彼此靠近的圖案、狹長線的邊緣等等。
可藉由處理全部的空中圖像或集中於懷疑的弱點或兩者搜尋弱點。
注意到弱點可包括單個像素或一組像素。
額外圖案
一個類型的弱點為額外圖案--遮罩區域(彼區域可包括整個遮罩或僅遮罩的部分)的空中圖像的點(像素或一組像素)，該點處於在非意欲的晶圓上印刷的風險。
更具體而言，此位置處於以下高風險：正光阻劑：經過可印刷性閾值上方，其中此位置為非意欲的。
負光阻劑：降低至可印刷性閾值下方，其中此位置為非意欲的。
此弱點可藉由識別位置定位於空中圖像中，該等位置具有：正光阻劑：最大閉合值及在可印刷性閾值下方。
負光阻劑：最小閉合值及在可印刷性閾值上方。
局部極值(最大值/最小值)與可印刷性閾值的距離可用作有效度量。最大值及最小值可藉由計算X及Y方向的一階導數及尋找導數的零(或接近於零)值識別。
可使用二階導數測試決定最小值/最大值。
微影術製程可顯示允許的微影術製程條件(諸如焦點及強度)的製程窗。不同的允許的微影術製程條件可引起待錯誤印刷在光阻劑上的預期圖像的像素處的允許的變化。該等允許的變化將小於可基於製程窗決定的強度閾值。較寬的製程窗(更可容忍變化)將產生較高的強度閾值。
根據本發明的實施例，若可印刷性閾值及懷疑的額外的圖案弱點之間的強度距離沒有超過強度閾值，則懷疑的額外的圖案弱點識別為弱點。根據本發明的實施例，額外的「安全距離」可經界定使得若可印刷性閾值及額外的圖案之間的距離不超過(a)強度閾值及(b)安全距離的和，則額外的圖案界定為弱點。
安全距離可以任意方式設定或可根據遮罩隨著時間的預期未來退化設定。
第1圖圖示曲線30，曲線30說明遮罩區域的空中圖像線的像素的強度(灰階)。曲線30具有表示為32、34及36的三個局部最大值點(頂點)。
第1圖亦圖示可印刷性閾值10、上閾值12及下閾值14。微影術製程的製程窗可以等同於上閾值12及下閾值14之間的可印刷性閾值的實質變化的方式改變空中圖像的像素強度。不同的允許的微影術製程條件引起預期圖像像素處的允許的變化及該等允許的變化不超過強度閾值，該強度閾值由可印刷性閾值10及上閾值12及下閾值14的每一者之間的距離20表示。
局部最大值點34及36位於上閾值12及下閾值14限定的區域外部及因此製程窗內部的微影術製程條件的允許的變化將不會引起該等頂點改變該等頂點的側面--頂點34將保持在可印刷性閾值上方，不管允許的微影術製程條件變化，及頂點36將保持在可印刷性閾值下方，不管允許的微影術製程變化。
頂點32位於可印刷性閾值10的下方但是位於上閾值14的上方--因此允許的微影術製程條件變化可引起頂點32位於可印刷性閾值10的上方。若光阻劑為正光阻劑，則頂點32及包括頂點32的特徵可由於允許的微影術製程條件變化出現--及頂點32將被視為弱點。
第1圖亦圖示位於上閾值12上方的另一上閾值18。另一個上閾值18與可印刷性閾值隔開(a)強度閾值及(b)安全距離。根據本發明的實施例，位於可印刷性閾值10及另一個 上閾值18之間的頂點可被視為弱點。注意到相等的閾值可位於下閾值14下方--如閾值19說明的。
進一步注意到，因為曲線30的所有局部最小值點位於不同閾值的外部，所以該等點並非弱點。
橋接
橋接為空中圖像上的位置，該位置存在連接晶圓上並非意欲連接的特徵的風險。更具體而言，此位置存在以下風險：正光阻劑：經過連接二個不同區域的可印刷性閾值上方，該二個不同區域設計為在可印刷性閾值上方。
負光阻劑：降低至連接二個不同區域的可印刷性閾值下方，該二個不同區域設計為低於可印刷性閾值。
此弱點可藉由識別位置定位於空中圖像中，該等位置具有：正光阻劑：最大閉合值及在可印刷性閾值下方。
負光阻劑：最小閉合值及在可印刷性閾值上方。
與可印刷性閾值的最大值/最小值距離可用作有效度量。最大值及最小值可藉由計算X及Y方向的一階導數及尋找導數的零(或接近於零)值識別。
可使用二階導數測試決定最小值/最大值。
第2圖圖示曲線50，曲線50說明遮罩區域的空中圖像線的像素的強度(灰階)。曲線50具有表示為52及54的二個局部最大值點(頂點)。第2圖亦圖示可印刷性閾值 10、上閾值12及下閾值14。
局部最大值點54位於上閾值12及下閾值14限定的區域外部及因此製程窗內部的微影術製程條件的允許的變化將不會引起此頂點改變該頂點的側面--頂點54將保持在可印刷性閾值上方，不管允許的微影術製程條件變化。
頂點52位於可印刷性閾值10的略微上方但是位於上閾值12的下方--因此允許的微影術製程條件變化可引起頂點52位於可印刷性閾值10的下方。若光阻劑為負光阻劑，則由於允許的微影術製程條件變化頂點52可經印刷及在設計的二個分離的特徵之間橋接--及頂點52將被視為弱點。
出於解釋的簡單性目的，第2圖不圖示額外的閾值，該等額外的閾值可經界定以便包括安全距離。
進一步注意到由於曲線50的所有局部最小值及最大值點位於不同閾值的外部，故該等點並非弱點。
斷開
斷開弱點為空中位置，該位置處於不在晶圓上印刷的風險中，該位置將設計為連續的特徵分段。更具體而言，此位置處於以下風險：a.正光阻劑：降低至可印刷性閾值下方，該位置中斷設計為位於可印刷性閾值上方的連續區域；b.負光阻劑：經過可印刷性閾值上方，該位置中斷設計為位於可印刷性閾值下方的連續的區域。
此點可藉由識別位置定位於空中圖像中，該等位置具有：a.正光阻劑：最小閉合值及在可印刷性閾值上方；b.負光阻劑：最大閉合值及在可印刷性閾值下方。
與可印刷性閾值的最大值/最小值距離可用作有效度量。最大值及最小值可藉由計算X及Y方向的一階導數及尋找導數的零(或接近於零)值識別。
可使用二階導數測試決定最小值/最大值。
第3圖圖示曲線60，曲線60說明遮罩區域的空中圖像線的像素的強度(灰階)。
假定光阻劑為正光阻劑，則曲線60將表示單個圖案(例如，曲線60可表示線的橫截面)，該單個圖案將從點61開始及在點63終止。曲線60具有表示為62及64的二個局部最小值點。
第3圖亦圖示可印刷性閾值10、上閾值12及下閾值14。
局部最小值點64位於上閾值12上方。製程窗內部的微影術製程條件的允許的變化將不會引起局部最小值點64改變該點的側面--局部最小值點64將保持在可印刷性閾值上方，不管允許的微影術製程條件變化。
局部最小值點62位於上閾值12及下閾值14限定的區域內部及允許的微影術製程條件變化可引起局部最小值點62位於可印刷性閾值10的下方及引起曲線60表示的圖案處的間斷。因此，局部最小值點將視為弱點。
出於解釋的簡單性目的，第3圖不圖示額外的閾值，該等額外的閾值可經界定以便包括安全距離。
進一步注意到由於曲線60的所有局部最小值點位 於不同閾值的外部，故該等點並非弱點。
「高遮罩錯誤增強因素(mask-error-enhancement-factor；MEEF)」
「高MEEF」弱點為空中位置，該位置對遮罩上的微小變化高度敏感，導致印刷的特徵臨界維度(critical dimension；CD)對於遮罩上的微小變化高度敏感。更具體而言，遮罩上的微小變化顯著增加/減少可印刷性閾值上方/下方區域。
此點可藉由識別位置定位於空中圖像中，該等位置圍繞可印刷性閾值具有淺斜率，導致CD對印刷條件中微小變化的高變化(通常以標稱CD百分比量測)。
可印刷性閾值交叉處的斜率值可用作點弱性度量。
「高MEEF」WP可藉由發現滿足以下內容的位置可操作地識別：
其中點(Xpt,Ypt)為可印刷性閾值的交叉點。
第4圖圖示曲線70，曲線70說明遮罩區域的空中圖像線的像素的強度(灰階)。假定光阻劑為正光阻劑，則曲線的右端點可表示線的端點。
可印刷性閾值10的交叉點72包括在一部分曲線70中，該曲線70具有低於所欲斜率的斜率--因此微影術製程條件中允許的變化(等同於可印刷性閾值的垂直移動)將引起曲線70的右部分表示的線的寬度(曲線71及73)的相對大的變化。因此，交叉點72將被視為弱點。
將被視為允許的斜率的內容可由使用者界定--考慮允許的臨界維度(CD)變化。
第5圖圖示根據本發明的實施例的方法500。
方法500可從獲得遮罩區域的空中圖像的步驟510開始。空中圖像表示微影術製程期間待形成在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術製程包括藉由微影術工具照明遮罩區域。
微影術製程顯示允許的微影術製程條件的製程窗。不同的允許的微影術製程條件引起預期圖像的像素處的允許的變化，允許的變化不超過強度閾值。
獲得(步驟510)可包括光學地獲得空中圖像，例如，藉由使用空中工具，諸如美國加利福尼亞Applied Materials Inc.的AERA。
額外地或替代地，獲得步驟可包括以下步驟：從空中工具或從任何其他儲存實體擷取空中圖像。
搜尋遮罩區域處的至少一個弱點的步驟520跟隨步驟510。
弱點可為空中圖像的局部極值點，該局部極值點藉由不超過強度閾值的一距離與可印刷性閾值隔開。
額外地或替代地，弱點可為可印刷性閾值的交叉點及具有低於預先界定的閾值的斜率。
搜尋步驟可包括以下步驟：掃描整個空中圖像、搜尋懷疑的弱點位置(諸如彼此靠近的圖案、此類線等等)或以上各者的組合。
根據本發明的實施例，步驟520可包括以下步驟：搜尋弱點，該弱點為空中圖像的局部極值點，該局部極值點與可印刷性閾值隔開不超過強度閾值的一距離。
根據本發明的實施例，步驟520包括以下步驟：搜尋弱點，該弱點為空中圖像的局部極值點，該局部極值點與可印刷性閾值隔開不超過(a)強度閾值及(b)安全距離的和的一距離。
步驟510及520的結果可為弱點列表(或其他資料結構)，該弱點列表可在遮罩壽命期間使用。
根據本發明的實施例，一旦找到弱點，則方法500可終止或可繼續基於弱點評估遮罩的狀態。
基於弱點審查評估遮罩狀態的步驟530可跟隨步驟520。
步驟510、520及530中的任何一者可根據以下內容中的任一者或以下內容的組合觸發：a.預先界定的時序方案(每個預先界定的週期一次)；b.根據隨機或擬隨機時序方案；及/或c.由於事件出現等等。事件可為(例如)遮罩的清洗階段、達到某一數量的微影術迭代、遮罩產生的物件的錯誤偵測、製程窗變化、微影術製程條件變化等等。
步驟530可包括步驟532：若弱點已從可印刷性閾值的一側移動至可印刷性閾值的另一側，則偵測遮罩錯誤。若弱點及可印刷性閾值之間的距離達到預先界定的靠近閾值(或低於靠近閾值)，則可斷定遮罩錯誤。
步驟530可包括步驟534：若找到預先界定的數量 的遮罩錯誤，若遮罩錯誤的嚴重性高於閾值等等，則產生警報或提供遮罩狀態低於所欲位準的指示。
步驟530可包括以下步驟：量測空中圖像(或弱點及弱點的鄰近)的各種特徵，諸如臨界維度(CD)等等。
額外地或替代地，步驟530可包括以下步驟：以任何方式回應遮罩狀態。遮罩狀態可由遮罩的弱點狀態反映。舉例而言，步驟350可包括以下步驟：建議調整遮罩、建議發送遮罩至清洗製程或斷定遮罩為無功能的。
識別弱點的另一方法為在空中圖像上應用可印刷性閾值變化及比較定出閾值產生的二進制圖像。
具有二進制圖像之間高差異的位置可界定為弱點。弱點的界定可考慮數個性質，諸如差異區域、是否合併隔開的圖案、是否劃分圖案等等。
根據本發明的另一實施例，遮罩的弱點可藉由獲得多個二進制圖像找到，由於閾值(照明強度)及微影術製程條件(諸如焦點)的獨特組合，每一二進制圖像可表示光阻劑上印刷的預期圖像。
不同的二進制圖像彼此比較或與表示標稱條件(例如標稱焦點及暴露組合)的二進制圖像比較以定位二進制圖像之間的差異--關於遮罩的相同位置的差異。
二進制圖像之間的差異(尤其是貢獻相同位置的彼等差異)可指示弱點存在。
換言之，沒有由於不同微影術製程條件(諸如焦點變化)及不同閾值實質上變化的二進制圖像的像素不會視為 弱點。
偵測到弱點之後，可藉由監視該等弱點監視遮罩。
第6圖圖示根據本發明的實施例的方法600。
方法600可從獲得遮罩區域的至少一個空中圖像的步驟610開始。至少一個空中圖像的每一者表示微影術製程期間待形成在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術製程包括藉由微影術工具及同時應用某些微影術製程條件照明遮罩區域。
步驟610可包括以下步驟：獲得一個空中圖像或多個空中圖像。期望不同的空中圖像藉由關於該等空中圖像的微影術製程條件彼此區別。舉例而言，不同空中圖像可表示不同聚焦條件、不同的照明強度條件等等。
藉由至少一個閾值定出至少一個空中圖像的閾值以提供多個二進制圖像的步驟620跟隨步驟610。因此，若在步驟620期間僅獲得一個空中圖像，則將應用多個不同閾值--每一閾值可產生不同二進制圖像。舉例而言，若提供多個空中圖像，則甚至可使用單個閾值(每空中圖像)。注意到可獲得多個空中圖像及每一者藉由多個閾值處理以提供每一空中圖像多個二進制圖像。每一二進制圖像藉由在空中圖像上應用單個閾值產生。
不同的閾值可基於光阻劑的可印刷性閾值選擇及亦可回應於照明強度(微影術製程期間應用)。因此，強度的變化可轉變為可印刷性閾值的相等變化。
第12圖圖示多個空中圖像300(1)至300(N)，共同表 示為300，藉由多個(K)閾值310(1)至310(K)定出每一者的閾值以提供多個(N×K)二進制圖像320(1,1)至320(N,K)。
回頭參閱第6圖，當評估給定製程窗時，可選擇閾值以落入對應於給定製程窗內的允許的微影術製程條件引起的允許的變化的範圍內。注意到可在給定製程窗外部選擇閾值及閾值可甚至用於界定製程窗。因此製程窗可界定為諸如製程窗不會引起不可接受的遮罩錯誤--其中此類不可接受的遮罩錯誤可藉由評估二進制圖像偵測。
第10圖圖示曲線30，曲線30包括三個頂點32、34及36，最初的可印刷性閾值10，上閾值12及下閾值14(該上閾值12及下閾值14基於允許的製程窗內部的不同的允許的微影術製程條件可引起的變化界定)，閾值92及93(閾值92及93位於上閾值12及下閾值14之間)及額外的閾值91及94(位於允許的製程界定的區域外部)。10、12、14、91、92、93及94中的每一閾值可用於定出空中圖像的閾值以提供二進制圖像(步驟620期間)。每一閾值可用於決定允許的製程窗可為何內容--及何內容可用於更新製程窗。諸如圖案寬度(參見當應用關於閾值94的微影術製程條件時，指示二個圖案的寬度的示例性箭頭31及33)、圖案之間的距離、閾值及局部極值點之間的距離、交叉點處的曲線斜率的性質可幫助界定製程窗。
回頭參閱第6圖，基於至少二個二進制圖像之間的差異(例如，比較標稱掃描條件的二進制圖像與所有其他二進制圖像)搜尋至少一個弱點的步驟630跟隨步驟620。因 此，若差異高於閾值(或引起不需要的橋接或斷開)，則可界定弱點。
基於弱點審查評估遮罩狀態的步驟530跟隨步驟630。
步驟610、620、630及530中的任一者可根據預先界定的時序方案(每個預先界定的週期一次)、根據隨機或擬隨機時序方案、由於製程窗影響事件的出現等等觸發。製程窗影響事件可包括遮罩清洗階段、達到某一數量的微影術迭代、遮罩產生的物件的錯誤偵測、製程窗變化、微影術製程條件變化等等。
注意到可使用510、520、610、620、630、710、720及730中的任何步驟的任何組合偵測弱點。
進一步注意到弱點可以上述方式中的任一者偵測及遮罩狀態可使用上述方式中的任一者評估。
注意到方法600可包括以下步驟：執行微影術製程強度(劑量)相對獲得的CD的可印刷性分析及額外地或替代地執行焦點相對CD的可印刷性分析。
根據本發明的實施例，可印刷性閾值可從任何實體(諸如空中工具操作者、微影術工具操作者等等)接收或可基於已知密集及重複的圖案的空中圖像計算，該圖案期待提供在可印刷區域及非可印刷區域之間交替的已知空中圖像。可印刷性閾值亦可基於已知(所欲)尺寸的任何特徵計算。注意到基於多個特徵計算可印刷性閾值可改良可印刷性閾值的計算的準確度。可印刷性閾值可經設定以便提供所欲寬度 或相鄰圖案之間所欲間距的圖案--此量測亦稱為所欲臨界維度(CD)。第9圖圖示實例，在該圖中可印刷性閾值10經設定以提供強度曲線80表示的重複圖案的所欲CD 81。
第7圖圖示根據本發明的實施例的方法700。
第7圖從獲得遮罩區域的至少一個空中圖像的步驟710開始。至少一個空中圖像的每一者表示微影術製程期間待形成在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術製程包括藉由微影術工具及同時應用某一聚焦條件照明遮罩區域。
基於至少一個空中圖像的每一者回應於至少一個微影術製程強度值評估待在光阻劑上印刷的圖案以提供多個二進制圖像的步驟720跟隨步驟710。步驟720可包括以下步驟：定出閾值。
基於至少二個二進制圖像之間的差異搜尋至少一個弱點的步驟730跟隨步驟720。因此，若差異高於閾值(或引起不需要的橋接或斷開)，則可界定弱點。
基於弱點審查評估遮罩狀態的步驟530可跟隨步驟730。
步驟710、720、730及530中的任一者可根據預先界定的時序方案(每個預先界定的週期一次)、根據隨機或擬隨機時序方案、由於製程窗影響事件的出現等等觸發。製程窗影響事件可包括遮罩清洗階段、達到某一數量的微影術迭代、遮罩產生的物件的錯誤偵測、製程窗變化、微影術製程條件變化等等。
第8圖圖示根據本發明的實施例的方法800。
方法800可從步驟810及830開始。
步驟810可包括以下步驟：校正可印刷性閾值。此可包括以下步驟：處理重複圖案或已知圖案的圖像以評估可印刷性閾值。
步驟830可包括以下步驟：基於設計資訊及額外地或替代地，基於一或更多個遮罩的之前的量測收集弱點。
自動地偵測弱點的步驟820跟隨步驟810。步驟820可包括步驟510及520，及額外地或替代地，包括步驟610、620及630。步驟820可包括以下步驟：處理空中圖像以藉由定出閾值或任何其他演算法評估將在光阻劑上印刷的圖案以提供多個二進制圖像。
獲得弱點及弱點環境的圖像的步驟840跟隨步驟820及830。
執行弱點及弱點的鄰近的度量以偵測遮罩錯誤的步驟850跟隨步驟840。
步驟810、820、830、840及850中的任一者可根據預先界定的時序方案(每個預先界定的週期一次)、根據隨機或擬隨機時序方案、由於製程窗影響事件出現等等觸發。製程窗影響事件可包括遮罩清洗階段、達到某一數量的微影術迭代、遮罩產生的物件的錯誤偵測、製程窗變化、微影術製程條件變化等等。
第11圖圖示根據本發明的實施例的系統1000。
第11圖的系統1000為空中成像工具或可從空中成像工具擷取圖像。系統1000可光學地獲得遮罩的一或更多個 區域的空中圖像(藉由圖像獲得模組1010)或可擷取此類圖像。系統1000可藉由圖像處理器1020處理空中圖像。
系統1010可包括儲存單元1030，該儲存單元1030可包括用於儲存位置及甚至各種弱點性質的弱點資料庫1032。
儲存單元1030可儲存用於儲存用於執行遮罩評估程序的觸發的觸發資料庫1034。觸發資料庫1034可儲存用於觸發遮罩狀態的評估的時序資訊、事件，該等事件一旦發生就將觸發遮罩事件的評估。
儲存單元1030可儲存用於儲存遮罩的評估嘗試期間獲得的資訊的遮罩評估資料庫1036。
系統1000可執行上述方法中的任一者或上述方法的任何步驟的任何組合。
系統1000可擷取藉由空中成像工具(未圖示)獲得的空中圖像及藉由圖像處理器處理該等圖像。在此情況下，系統1000可為獨立的工具，該工具可靠近空中圖像工具或位於遠端位置。
圖像獲得模組1010可經安排以獲得遮罩區域的空中圖像。空中圖像表示微影術製程期間待形成在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術製程包括藉由微影術工具照明遮罩區域。光阻劑具有可印刷性閾值；其中具有強度的預期圖像的像素引起光阻劑顯影，該強度位於可印刷性閾值的一側；其中具有強度的預期圖像的像素不引起光阻劑的顯影，該強度位於可印刷性閾值的第二側。微影術製程顯示允許的 微影術製程條件的製程窗。不同的允許的微影術製程條件引起預期圖像的像素處的允許的變化，允許的變化不超過強度閾值。
圖像處理器1020可經安排以搜尋遮罩區域處的至少一個弱點，每一弱點滿足以下至少一種條件：(a)為空中圖像的局部極值點，該局部極值點與可印刷性閾值隔開不超過強度閾值的一距離；(b)為可印刷性函數的交叉點及具有低於預先界定的閾值的斜率。
圖像獲得模組1010可經安排以光學地獲得遮罩區域的至少一個空中圖像或可擷取(電子地)空中圖像，該等空中圖像藉由空中成像工具光學地獲得。至少一個空中圖像的每一者表示微影術製程期間待形成在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術製程包括藉由微影術工具及同時應用微影術製程條件照明遮罩區域。
圖像處理器1020可經安排以藉由至少一個閾值定出至少一個空中圖像的閾值從而提供多個二進制圖像；其中不同的二進制圖像表示閾值及微影術製程條件的不同組合；其中基於光阻劑的可印刷性閾值決定至少一個閾值的每一者；及基於至少二個二進制圖像之間的差異搜尋至少一個弱點。
上述方法中的任一者可藉由系統1000執行。舉例而言，圖像獲得模組1010可經安排以獲得(或擷取)遮罩區域的至少一個空中圖像，至少一個空中圖像的每一者表示微影術製程期間待形成在物件的光阻劑上的預期圖像，該微影術 製程包括藉由微影術工具及同時應用某一聚焦條件照明遮罩區域。圖像處理器可經安排以：基於至少一個空中圖像的每一者，回應於至少一個微影術製程強度值評估待在光阻劑上印刷的圖案以提供多個二進制圖像；及基於至少二個二進制圖像之間的差異搜尋至少一個弱點。
以上方法中的任一者可藉由電腦執行，該電腦執行嵌入非暫態電腦可讀取媒體(諸如磁碟、磁片、磁帶、有形儲存實體等等)中的指令。
儘管本文已經圖示及描述本發明的某些特徵，然而一般技術者現在將考慮到許多修改、代替、變化及同等物。因此，將理解，隨附申請專利範圍意欲覆蓋如屬於本發明的真實精神之所有此類修改及變化。
500‧‧‧方法
510‧‧‧步驟
520‧‧‧步驟
530‧‧‧步驟
532‧‧‧步驟
534‧‧‧步驟

Claims (20)

  1. 一種檢查系統，該檢查系統包含：一圖像獲得模組，該圖像獲得模組經安排以藉由一微影術工具獲得遮罩的一區域的一空中圖像，其中該空中圖像表示一微影術製程期間待形成在一物件的一光阻劑上的一預期圖像，該微影術製程包括照明該遮罩的該區域；其中該光阻劑具有一可印刷性閾值，及具有位於該可印刷性閾值的一側的一強度的該預期圖像的元素引起該光阻劑的一顯影，及具有位於該可印刷性閾值的一第二側的一強度的該預期圖像的元素不引起該光阻劑的一顯影；其中該微影術製程顯示允許的微影術製程條件的一製程窗；其中不同的允許的微影術製程條件引起該預期圖像的像素處的允許的變化，該等允許的變化不超過一強度閾值；以及一圖像處理器，該圖像處理器經安排以搜尋該遮罩的該區域處的至少一個弱點，每一弱點滿足以下至少一種條件：(i)為該空中圖像的一局部極值點，該局部極值點與該可印刷性閾值隔開不超過該強度閾值的一距離；及(ii)為該可印刷性閾值的一交叉點及具有低於一預先界定的閾值的一斜率。
  2. 如請求項1所述之檢查系統，其中每一弱點為該空中圖像的該局部極值點，該局部極值點與該可印刷性閾值隔開不超過該強度閾值的一距離。
  3. 如請求項1所述之檢查系統，其中該圖像獲得模組配置為獲得該至少一個弱點的空中圖像；其中由於一製程窗影響事件的一出現及一預先界定的週期的一流逝中的至少一者獲得該等空中圖像；及其中若一弱點已從該可印刷性閾值的一側移動至該可印刷性閾值的另一側，則該圖像處理器經安排以偵測一遮罩錯誤。
  4. 如請求項1所述之檢查系統，其中該圖像獲得模組配置為獲得該至少一個弱點的空中圖像；其中由於一製程窗影響事件的一出現及一預先界定的週期的一流逝中的至少一者獲得該等空中圖像；及該圖像處理器經安排為若弱點已從該可印刷性閾值的一側移動至該可印刷性閾值的另一側以引起二個隔開的光阻劑圖案相互連接，則偵測一遮罩錯誤。
  5. 如請求項1所述之檢查系統，其中該圖像獲得模組配置為獲得該至少一個弱點的空中圖像；其中由於一製程窗影響事件的一出現及一預先界定的週期的一流逝中的至少一者獲得該等空中圖像；及其中該圖像處理器經安排為若弱點已從該可印刷性閾值的一側移動至該可印刷性閾值的另一側以便將待劃分的一連續的光阻劑圖案轉換為多個光阻劑圖案，則偵測一遮罩錯誤。
  6. 如請求項1所述之檢查系統，其中該圖像處理器配置為在不同模擬微影術製程條件下獲得該遮罩的該區域的多個空中圖像。
  7. 一種檢查系統，該檢查系統包含：一圖像獲得模組，該圖像獲得模組配置為獲得遮罩的一區域的至少一個空中圖像，該至少一個空中圖像的每一者表示一微影術製程期間待形成在一物件的一光阻劑上的一預期圖像，該微影術製程包括藉由一微影術工具及同時應用某一聚焦條件照明該遮罩的該區域；以及一圖像處理器，該圖像處理器配置為：基於該至少一個空中圖像的每一者，回應於至少一個微影術製程強度值評估待在該光阻劑上印刷的一圖案以提供多個二進制圖像；及基於至少二個二進制圖像之間的差異搜尋至少一個弱點。
  8. 如請求項7所述之檢查系統，其中該圖像獲得模組配置為獲得該遮罩的該區域的多個空中圖像；其中不同空中圖像關於不同聚焦條件；及其中該圖像處理器經安排以基於多個空中圖像的每一者，回應於至少一個微影術製程強度值評估待在該光阻劑上印刷的一圖案以提供多個二進制圖像。
  9. 如請求項7所述之檢查系統，其中該圖像獲得模組配置為獲得該遮罩的一區域的一單個空中圖像；以及 其中該圖像處理器經安排以基於該單個空中圖像，回應於多個微影術製程強度值評估待在該光阻劑上印刷的圖案以提供多個二進制圖像。
  10. 如請求項7所述之檢查系統，其中該微影術製程顯示允許的微影術製程條件的一製程窗；其中該圖像處理器配置為藉由不同閾值定出該至少一個空中圖像的每一者的閾值，該等不同的閾值基於該光阻劑的該可印刷性閾值及不同微影術製程強度值選擇。
  11. 一種非暫態電腦可讀取媒體，該媒體儲存指令用於：藉由一微影術工具獲得遮罩的一區域的一空中圖像，該空中圖像表示在一微影術製程期間待形成在一物件的一光阻劑上的一預期圖像，該微影術製程包括照明該遮罩的該區域；其中該光阻劑的一可印刷性藉由一可印刷性函數界定，及具有位於該可印刷性函數的一側的一強度的該預期圖像的元素引起該光阻劑的一顯影，及具有位於該可印刷性函數的一第二側的一強度的該預期圖像的元素不引起該光阻劑的一顯影；其中該微影術製程顯示允許的微影術製程條件的一製程窗；其中不同的允許的微影術製程條件引起該預期圖像的像素處的允許的變化，該等允許的變化不超過一強度閾值；以及 搜尋該遮罩的該區域處的至少一個弱點，每一弱點滿足以下至少一種條件：(i)為該空中圖像的一局部極值點，該局部極值點與該可印刷性函數隔開不超過該強度函數的一強度差；及(ii)為該可印刷性函數的一交叉點及具有低於一預先界定的閾值的一斜率。
  12. 如請求項11所述之非暫態電腦可讀取媒體，其中該可印刷性函數值為位置相關的。
  13. 如請求項11所述之非暫態電腦可讀取媒體，其中每一弱點為該空中圖像的該局部極值點，該局部極值點與該可印刷性閾值隔開不超過該強度閾值的一距離。
  14. 如請求項11所述之非暫態電腦可讀取媒體，該媒體儲存指令用於：獲得該至少一個弱點的空中圖像；其中該獲得步驟回應於一製程窗影響事件的一出現及一預先界定的週期的一流逝中的至少一者觸發；以及若一弱點已從該可印刷性函數的一側移動至該可印刷性閾值的另一側，則偵測一遮罩錯誤。
  15. 一種非暫態電腦可讀取媒體，該媒體儲存指令用於：獲得遮罩的一區域的至少一個空中圖像；其中該至少一個空中圖像的每一者表示一微影術製程期間待形成在一物件 的一光阻劑上的一預期圖像，該微影術製程包括藉由一微影術工具照明該遮罩的該區域及同時應用微影術製程條件；基於該光阻劑y的一可印刷性函數處理該至少一個空中圖像以提供多個二進制圖像；其中不同的二進制圖像表示一閾值及一微影術製程條件的不同組合；其中基於該光阻劑的一可印刷性函數決定該至少一個閾值的每一者；以及基於至少二個二進制圖像之間的差異搜尋至少一個弱點。
  16. 如請求項15所述之非暫態電腦可讀取媒體，該媒體儲存指令用於：獲得該遮罩的該區域的多個空中圖像；其中不同空中圖像關於不同微影術製程條件；以及藉由至少一個閾值定出該多個空中圖像的閾值以提供該多個二進制圖像；以及基於至少二個二進制圖像之間的差異搜尋該至少一個弱點。
  17. 如請求項15所述之非暫態電腦可讀取媒體，該媒體儲存指令用於：獲得該遮罩的一區域的一空中圖像；其中該空中圖像表示該微影術製程期間待形成在該物件的該光阻劑上的該預期圖像，該微影術製程包括藉由該微影術工具及同時應用某一微影術製程條件照明該遮罩的該區域； 藉由多個閾值定出該至少一個空中圖像的閾值以提供多個二進制圖像；其中該多個閾值基於該光阻劑的該可印刷性閾值決定；以及基於至少二個二進制圖像之間的差異搜尋至少一個弱點。
  18. 如請求項15所述之非暫態電腦可讀取媒體，其中該微影術製程顯示允許的微影術製程條件的一製程窗；其中該非暫態電腦可讀取媒體進一步儲存指令用於藉由不同閾值定出該空中圖像的閾值，該等不同閾值基於該光阻劑的該可印刷性閾值及不同的允許的微影術製程條件選擇。
  19. 如請求項15所述之非暫態電腦可讀取媒體，該媒體儲存指令用於基於該等二進制圖像界定該微影術製程的一製程窗。
  20. 如請求項15所述之非暫態電腦可讀取媒體，該媒體儲存指令用於：獲得該至少一個弱點的空中圖像；其中該獲得步驟回應於一製程窗影響事件的一出現及一預先界定的週期的一流逝中的至少一者觸發；以及若一弱點已從該可印刷性閾值的一側移動至該可印刷性閾值的另一側，則偵測一遮罩錯誤。
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