TW201437539A - 光照射器 - Google Patents

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Takeshi Minobe
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
    • F21VFUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V33/00Structural combinations of lighting devices with other articles, not otherwise provided for
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
    • F21WINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO USES OR APPLICATIONS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS
    • F21W2131/00Use or application of lighting devices or systems not provided for in codes F21W2102/00-F21W2121/00
    • F21W2131/40Lighting for industrial, commercial, recreational or military use

Abstract

[課題]提供特別是即使具備長條狀的光源之狀況中也可容易進行維護,且不需使用較大空間的光照射器。[解決手段]以光源保持框架(11)保持長條狀之光源(1)的光源單元(10)、以鏡片保持框架(21)保持從背後覆蓋光源(1)的長條狀之鏡片的鏡片單元(20)、鏡片單元(20)之上側的上部單元(4)、及光源單元(10)之下側(照射側)的元件單元(30),係可藉由移動機構(8)往上移動。藉由選擇機構(9)來選擇僅移動上部單元(4),或移動上部單元(4)及鏡片單元(20),或者移動上部單元(4)、鏡片單元(20)及光源單元(10)。

Description

光照射器
本案發明係關於藉由長條狀的光源,對對象物進行光照射的光照射器。
作為長條狀的光源,公知有以螢光燈為首的各種光源,大多也使用於產業中。例如,公知作為紫外線光源的水銀燈係像高壓水銀燈及低壓水銀燈,整體為棒狀者,大多用於光照射所致之對象物的處理等目的。此外,即使金屬鹵素燈及LED等的光源中,也有如棒狀之長條狀型式者。藉由光照射來處理對象物時,因為對象物寬度廣,經常可見使用寬度方向較長的光源之例子。
於長條狀的光源背後,通常配置有鏡片。所謂「背後」係指將光照射的對象物所位於之側設為前側時,代表該相反側。
此種光照射器當然設為考慮到維護的構造。維護的典型是光源的交換。光源一般來說是消耗品,伴隨壽命到來需要交換。因此,光照射器係具有使光源可交換地安裝的構造。
又,針對晶片也設為可進行適當的維護的構造。例如,將鏡片的反射面設為可清洗的構造,或設為可進行鏡片的交換的構造。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第4412090號公報
[專利文獻2]日本特開2011-222347號公報
於此種光照射器中,有因為光源過長,用於維護的構造難以設置的狀況。關於此點,以顯示器裝置製造時所使用之光照射器為例進行說明。
液晶顯示器所代表之顯示器裝置係近年來基板尺寸大型化。大型化,係因為TV用時為大畫面,必然基板尺寸會變大,在從一張基板製造多數顯示器裝置之狀況中,根據提升生產性的觀點,基板尺寸也會變大。
基板尺寸變大的話,製程中包含使用光照射器的光處理時,所使用的光源會成為更長。例如,在液晶顯示器的製造中,作為取得配向膜的製程,大多採用藉由偏光光線的照射來取得配向膜之光配向的製程,來代替先前的配向。於光配向,大多需要照射紫外線之偏光光線的 狀況,使用像高壓水銀燈之棒狀的光源。此時,伴隨基板尺寸的大型化,最近,逐漸需要使用1500mm或其以上之非常長的燈管。
在使用此種特別長條狀之光源的光照射器中,不特別下功夫在維護用的構造的話,有維護的作業會變得非常難進行,僅用於維護就需要大空間的問題。例如,專利文獻1係揭示為了維護而將光源往其長度方向拉出的構造。然後,此種構造中,光源越長的話,其變長之分量的空間為了維護,需要設置在燈管的長邊方向。維護以外不需要其分量的空間時,根據生產設備的省空間化的觀點,可能被視為問題。
本案發明係為了解決此種課題所發明者,具有特別是即使具備長條狀之光源的狀況中,也可容易進行維護,且不需使用廣大空間之光照射器的構造之意義。
為了解決前述課題,本案申請專利範圍第1項所記載之發明是一種光照射器,係具備長條狀的光源,與延伸於光源之長度方向,從背後覆蓋光源之長條狀的鏡片的光照射器,具有:光源,係藉由光源保持框架所保持;鏡片,係藉由鏡片保持框架所保持;並設置移動鏡片保持框架的移動機構;移動機構,係可在從光源保持框架分離之狀態下移動 鏡片保持框架;鏡片保持框架之移動的朝向,係垂直於光源的長度方向,且鏡片遠離光源的朝向;移動的距離,係可進行光源的交換的距離的構造。
又,為了解決前述課題,本案申請專利範圍第2項所記載之發明,係於前述第1項的構造中,具有:前述光源之與前述鏡片的相反側,配置有照射側光學元件,可對對象物,透過照射側光學元件來進行光照射;照射側光學元件,係藉由元件保持框架所保持;前述移動機構,係可在從元件保持框架分離之狀態下移動前述鏡片保持框架及前述光源保持框架;該移動的朝向,係垂直於前述光源的長度方向,且前述光源及前述鏡片遠離照射側光學元件的朝向;移動的距離,係可進行照射側光學元件的清洗或交換的距離的構造。
又,為了解決前述課題,本案申請專利範圍第3項所記載之發明,係於前述第1項的構造中,具有:於前述鏡片的背後,設置有背後單元;前述移動機構,係可在從前述鏡片保持框架及前述光源保持框架分離之狀態下移動背後單元;該移動的朝向,係垂直於前述光源的長度方向,且背後單元遠離前述光源及前述鏡片的朝向;移動距離,係可進行前述鏡片的清洗或交換的距離的構造。
又,為了解決前述課題,本案申請專利範圍第4項所記載之發明,係於前述第1項的構造中,具有:前述光源之與前述鏡片的相反側,配置有照射側光學元件,可對對 象物,透過照射側光學元件來進行光照射;照射側光學元件,係藉由元件保持框架所保持;前述移動機構,係可在從元件保持框架分離之狀態下移動前述鏡片保持框架及前述光源保持框架;該移動的朝向,係垂直於前述光源的長度方向,且前述光源及前述鏡片遠離照射側光學元件的朝向;移動的距離,係可進行照射側光學元件的清洗或交換的距離;於前述鏡片的背後,設置有背後單元;前述移動機構,係可在從前述鏡片保持框架、前述光源保持框架及元件保持框架分離之狀態下移動背後單元;該移動的朝向,係垂直於前述光源的長度方向,且背後單元遠離前述光源、前述鏡片及照射側光學元件的朝向;移動的距離,係可進行鏡片的清洗或交換的距離的構造。
又,為了解決前述課題,本案申請專利範圍第5項所記載之發明,係於前述第1項至第4項中任一項的構造中,具有:前述光源,係以長度方向成為水平方向之方式配置;前述移動的朝向,係朝上的構造。
如以下所說明般,依據本案申請專利範圍第1項所記載之發明,因為在從光源保持框架分離之狀態下鏡片保持框架往垂直於光源的長度方向,且鏡片遠離光源的朝向移動,所以,沒有將光源保持框架往長度方向拉出, 來交換光源的必要。因此,使用長條狀的光源之狀況中,也不需要僅交換用的廣大空間。
依據本案申請專利範圍第2項所記載之發明,因為在從元件保持框架分離之狀態下,光源保持框架與鏡片保持框架往遠離照射側光學元件的朝向移動,所以,也不需要將照射側光學元件往長邊方向拉出,即可進行維護。因此,不需要維護用的廣大空間。
依據本案申請專利範圍第3項所記載之發明,因為在從鏡片保持框架分離之狀態下,背後單元往遠離鏡片的朝向移動,所以,也不需要將鏡片往長邊方向拉出,即可進行維護。因此,不需要燈管之長邊方向的廣大空間。
又,依據本案申請專利範圍第4項所記載之發明,可取得前述申請專利範圍第2項發明的效果與前述申請專利範圍第3項發明的效果。
1‧‧‧光源
2‧‧‧鏡片
3‧‧‧照射側光學元件
4‧‧‧上部單元
6‧‧‧排氣筒
8‧‧‧移動機構
9‧‧‧選擇機構
10‧‧‧光源單元
11‧‧‧光源保持框架
12‧‧‧承載具
13‧‧‧壓具
14‧‧‧支持具
15‧‧‧第二銷孔區塊
20‧‧‧鏡片單元
21‧‧‧鏡片保持框架
22‧‧‧緩衝具
23‧‧‧放熱片
24‧‧‧第一銷孔區塊
30‧‧‧元件單元
31‧‧‧元件保持框架
32‧‧‧元件台座
33‧‧‧濾光片
34‧‧‧濾光片框
41‧‧‧流入口
42‧‧‧冷卻筒
43‧‧‧外護蓋
44‧‧‧袖板
71‧‧‧平台
72‧‧‧搬送機構
81‧‧‧直線驅動源
82‧‧‧線性導件
91‧‧‧銷塊
92‧‧‧滑件
93‧‧‧第一銷
94‧‧‧第二銷
96‧‧‧檢測板
101‧‧‧支架
111‧‧‧光源保持凸緣部
151‧‧‧第二銷孔
211‧‧‧鏡片保持凸緣部
241‧‧‧第一銷孔
921‧‧‧把手部
951‧‧‧第一感測器
952‧‧‧第二感測器
953‧‧‧第三感測器
S‧‧‧液晶基板
[圖1]揭示本案發明的實施形態相關之光照射器整體的立體概略圖。
[圖2]實施形態之光照射器的側面剖面概略圖。
[圖3]揭示圖1及圖2所示之光照射器的使用例的立體概略圖。
[圖4]選擇機構9之主要部分的立體概略圖。
[圖5]圖4所示之選擇機構9之滑件92的立體概略 圖。
[圖6]揭示選擇機構9所致之模式的選擇的圖,揭示選擇機構9之動作狀態的立體概略圖。
[圖7]揭示選擇機構9所致之模式的選擇的圖,揭示選擇機構9之動作狀態的立體概略圖。
[圖8]揭示選擇機構9所致之模式的選擇的圖,揭示各單元之移動狀態的側面剖面概略圖。
[圖9]揭示選擇機構9所致之模式的選擇的圖,揭示各單元之移動狀態的側面剖面概略圖。
[圖10]揭示選擇機構9所致之模式的選擇的圖,揭示各單元之移動狀態的側面剖面概略圖。
接著,針對用以實施本案發明的形態(以下,實施形態)進行說明。
圖1係揭示本案發明的實施形態相關之光照射器整體的立體概略圖,圖2係實施形態之光照射器的側面剖面概略圖。
實施形態的光照射器,係具備長條狀的光源1,與從背後光源1覆蓋之長條狀的鏡片2。又,該光照射器係具備配置於光源1與對象物之間的光學元件(以下稱為照射側光學元件)3,與設置在鏡片2之背後的背後單元4。
光源1係為包含保持光源1之光源保持框架11的單元(以下稱為光源單元)10的一部分。鏡片2係為 包含鏡片保持框架21之單元(以下稱為鏡片單元20)的一部分。照射側光學元件3也為包含保持照射側光學元件3之元件保持框架31的單元(以下稱為元件單元)30的一部分。
如圖1所示,在此實施形態中,光源1係以長度方向成為水平之方式配置,對象物係被配置於光源1的下方。所以,鏡片2係為從上側覆蓋光源1之狀態,背後單元4成為其上側。所以,如圖1所示,實施形態的光照射器係為由上依序具備背後單元4、鏡片單元20、光源單元10及元件單元30之4個的構造。再者,背後單元4係為位於鏡片單元20上側的單元,以下換句話說稱為上部單元4。
鏡片2係在此實施形態中,長度於光源1的長度方向之一對所成。一對的鏡片2係在於光源1的正上形成縫隙之狀態下配置,形成一對且幾乎溝狀的鏡片2。再者,各鏡片2係由圖2所成之剖面形狀可知有彎曲。該彎曲的形狀係設為成為橢圓的一部分或拋物線者。
各鏡片2係於基材上蒸鍍反射膜者,或以如鋁之金屬形成。例用蒸鍍膜反射之構造的話,為了方便形成蒸鍍膜,也有並排複數鏡片區段,來作為一個長條狀的鏡片2之狀況。又,作為蒸鍍膜,為了抑制對象物的升溫,也有採用讓熱線透射且不反射之特性者之狀況。
一對的鏡片2係藉由鏡片保持框架21所保持。鏡片保持框架21係從背後保持各鏡片2,於上端與下 端中透過緩衝具22來保持各鏡片2者。鏡片保持框架21係在鏡片2是透射熱線的型式者時,因為接收熱線而升溫,設為熱容量較大者,於背後設置放熱片23的構造。再者,鏡片保持框架21係被固定於成為鏡片單元20之外框的鏡片單元20框。
作為光源1,在此實施形態中,使用高壓水銀燈。光源1係藉由光源保持框架11所保持。於光源保持框架11,設置有承載具12與壓具13。在圖1及圖2中雖然省略詳細的圖示,但是,光源1係兩端之套罩部分載置於承載具12,藉由從上以壓具13按壓,被光源保持框架11保持。
再者,光源1係為例如1500mm程度之極長條狀者。因此,點燈時有因升溫而撓曲的可能性。考慮此狀況,在此實施形態中,將支持光源1的支持具14,設置於長度方向途中的數處。於支持具14,根據對於光源1的封體減少熱衝擊及減少光遮蔽的觀點,使用石英製者。關於支持具14,日本特開2011-222347號公報有詳細揭示,可參照。
作為照射側光學元件3,可選擇適當者,但是,此實施形態的光照射器因為是對對象物照射偏光光線者,所以,照射側光學元件3是偏光元件。更具體來說,在此實施形態中,光柵偏光元件使用來作為照射側光學元件3。光柵偏光元件係為於透明基板上形成細微條狀格子者,利用於條狀格子的長度方向具有電場成分的直線偏光光 線無法透射透明基板,於垂直於條狀格子的長度方向具有電場成分的直線偏光光線可透射透明基板之狀況,使光線偏光者。
來自光源1與其背後之鏡片2的光線,整體成幾乎矩形的光照射區域。照射側光學元件3係為與該幾乎矩形的光照射區域相同程度大小的矩形。但是,光柵偏光元件之狀況中,因難以製作大面積者,所以並排小區段狀者,確保與前述矩形之光照射區域相同程度的大小的區域。
此種照射側光學元件3,係被嵌入未圖示的元件框,被安裝於元件台座32上。元件台座32係安裝於元件保持框架31上,照射側光學元件3係藉由元件保持框架31所保持。
又,此實施形態中,作為與設置於元件單元30的照射側光學元件3不同的照射側光學元件3,內藏濾光片33。濾光片33係以從上側覆蓋照射側光學元件3之狀態設置。濾光片33係於元件保持框架31上安裝成可透過濾光片框34裝卸。作為濾光片33,例如使用選擇所照射之光線的波長的波長選擇濾光片。
另一方面,上部單元4係以確保光照射器整體的冷卻用空間為目的所設置的單元。上部單元4係整體為與鏡片單元20及光源單元10等同等長度及寬度的箱狀。上部單元4係於下面具有來自鏡片單元20的冷卻風流入的流入口41,於上面具有冷卻筒42。冷卻筒42係嵌入 於被配備於生產線之冷卻用的排氣筒6。但是,兩者未被固定而有間隙,對於靜止的排氣筒6,上部單元4整體可上下移動。
流入口41係以相對於光源1的長度,充分足夠的構造(大小、數量等)之方式設置。從排氣筒6進行排氣時,光照射器內整體會流動冷卻風。冷卻風係經由上部單元4內的空間被排出。藉由該冷卻,抑制光源1及鏡片2、照射側光學元件3等的升溫。此外,於上部單元4,也可收容光源1的點燈點路等的設備。
圖3係揭示圖1及圖2所示之光照射器的使用例的立體概略圖。在此範例中,光照射的對象係為液晶基板S,作為為了取得光配向膜,照射偏光光線的用途所使用的範例。
於液晶基板S上,預先形成光配向膜用的膜,液晶基板S係被載置於平台71上。平台71係藉由搬送機構72搬送,通過光照射器100的正下方。此時,於平台上的液晶基板S,藉由光照射器100照射偏光光線,對膜進行光配向處理。藉此,成為於液晶基板S上取得光配向膜的狀態。
此種實施形態的光照射器係採用考慮到維護的構造。於維護中,包含光源1的交換,鏡片2、照射側光學元件3等的清洗。具體來說,實施形態的光照射器,係具備移動機構8,為了進行維護,針對元件單元30上側的各單元4、10、20,以任意邊際部分分離,可從分離 處使上側的單元整體往上側移動。以下,針對此點進行說明。
在此實施形態中,位於最上側的是上部單元4,移動機構8為可直接使上部單元4上下移動者。亦即,移動機構8係主要由連結於上部單元4的直線驅動源81,與導引直線驅動源81所致之上部單元4的上下移動的線性導件82所構成。
作為直線驅動源81,在此實施形態中,使用空氣汽缸。直線驅動源81係配置於上部單元4的長度方向兩端,各直線驅動源81的輸出軸係固定於上部單元4的兩側端面。各直線驅動源81係同步驅動,藉由此驅動,上部單元4上下移動。
再者,直線驅動源81係作為使用電動機的滾珠螺絲驅動或皮帶驅動亦可。
線性導件82係於上部單元4的兩端中挾持直線驅動源81之一對者。所以,如圖1所示,設置4個線性導件82。各線性導件82係與直線驅動源81的驅動軸平行,所以,具優良直線性地延伸於上下方向。再者,於光照射器之長度方向的兩端,分別設置支架101,各線性導件82及各直線驅動源81係分別固定於支架101上。再者,上部單元4係為了藉由直線驅動源驅動時不讓歪曲等產生,藉由未圖示的骨骼構件所保持。各直線驅動源81係透過骨骼構件,連結於上部單元4。
另一方面,實施形態的光照射器,係如上所 述,移動機構8使上部單元4上下移動時,具備用以選擇與上部單元4一體移動的單元的選擇機構9。針對選擇機構9,使用圖1、圖2、圖4及圖5進行說明。圖4係選擇機構9之主要部分的立體概略圖,圖5係圖4所示之選擇機構9之滑件92的立體概略圖。
選擇機構9係由銷塊91,與使銷塊91滑動的滑件92等所構成。滑件92係稍微比上部單元4大之長方形的框狀構件。滑件92的短邊中,一方的短邊係為選擇操作時握住操作的部位。以下,將該短邊側稱為操作側,與操作側相反側稱為深側。
另一方面,如圖2所示,上部單元4係具有外護蓋43。外護蓋43係成稍微比光源1長之長方形的水平剖面形狀的框狀。如圖2所示,於外護蓋43,固定袖板44。袖板44係以從外護蓋43的內面往內側突出之方式設置。袖板44係設置於外框兩側的長邊部,於長度方向至少設置於兩處。然後,於袖板44,形成滑件92用的開口,於該開口插通滑件92。
如圖4及圖5所示,銷塊91係被固定於滑件92。銷塊91設置有複數個,於滑件92的各長邊部分設置2個~3個程度。各銷塊91係具有兩個銷93、94。一方的銷(以下稱為第一銷)93係位於各銷塊91中稍微上部,從深側的端面往深側水平突出。另一方的銷(以下稱為第二銷)94係位於各選擇用區塊中比第一銷93下部的位置,從操作側的端面往操作側水平突出。
作為各銷塊91之第一銷93或第二銷94選擇性嵌合者,鏡片單元20具備第一銷孔區塊24,光源單元10具備第二銷孔區塊15。亦即,如圖4所示,鏡片保持框架21係具有延伸於光源1之長度方向的凸緣部(以下稱為鏡片保持凸緣部)211,第一銷孔區塊24被固定於鏡片保持凸緣部211。又,同樣地,光源保持框架11係具有延伸於光源1之長邊方向的凸緣部(以下稱為光源保持凸緣部)111。第二銷孔區塊15係被固定於光源保持凸緣部111。
在通常狀態中,光源單元10載置於元件單元30上,鏡片單元20載置於光源單元10上,上部單元4載置於鏡片單元20上。亦即,如圖2及圖4所示,光源保持凸緣部111載置於元件單元30的元件保持框架31上,鏡片保持凸緣部211載置於光源保持凸緣部111上,支持上部單元4之外護蓋43的框架載置於鏡片保持凸緣部211上。再者,上部單元4的外護蓋43係成為對於鏡片單元20及光源單元10的遮蔽,在通常狀態中,因為外護蓋43,所以看不到內部的鏡片單元20及光源單元10。
此時,以銷塊91及第一銷孔區塊24不會干擾到光源保持凸緣部111之方式,如圖6所示,於光源保持凸緣部111設置有缺口(省略符號)。在通常狀態中,銷塊91及第一銷孔區塊24係位於該缺口內。
又,於第一銷孔區塊24,形成貫通光源1之長邊方向的銷孔(以下稱為第一銷孔)241,於第二銷孔區塊15, 也形成貫通光源1之長邊方向的銷孔(以下稱為第二銷孔)151。在通常狀態中,銷塊91的第一銷93位於與第一銷孔241相同高度,第二銷94位於與第二銷孔151相同高度。
長方形之框狀的滑件92中,操作側的短邊部921係如圖5所示,成為把手狀(以下稱為把手部)。在上下移動之單元的切換時,作業者抓住該把手部921,將滑件92往自身側拉出或推頂至深側,來調節滑件92的位置。針對此點,使用圖6~圖10來進行說明。圖6~圖10係揭示選擇機構9所致之模式的選擇的圖,圖6及圖7係揭示選擇機構9之動作狀態的立體概略圖,圖8~10係揭示各單元之移動狀態的側面剖面概略圖。
選擇機構9係從僅使上部單元4上下移動的第一模式、使上部單元4及鏡片單元20一體上下移動的第二模式、使上部單元4、鏡片單元20及光源單元10一體上下移動的第三模式中選擇任意模式,使移動機構8動作的機構。
在第一模式中使移動機構8動作時,如圖4所示,以銷塊91位於第一銷孔區塊24與第二銷孔區塊15的剛好正中央的位置之方式調節滑件92的位置。在該位置(以下稱為第一模式位置)中,第一銷93係為離開第一銷孔區塊24之狀態,且是未插入至第一銷孔241之狀態。又,關於第二銷94,也是離開第二銷孔區塊15之狀態,且是未插入至第二銷孔151之狀態。
又,在第二模式中使移動機構8動作時,如圖6所示 ,將滑件92推往深側,設為第一銷93被插入至第一銷孔241之狀態(將該位置稱為第二模式位置)。在第三模式中使移動機構8動作時,則與其相反,如圖7所示,將滑件92往自身側拉出,設為第二銷94被插入至第二銷孔151之狀態。
如圖2所示,因為滑件92貫通上部單元4的袖板44,移動機構8動作而使上部單元4上升的話,與上部單元4一起滑件92也會上升。此時,在第一模式之狀況中,銷塊91的任一個銷93、94都未被插入至銷孔241、151,所以,銷塊91都從第一第二銷孔區塊24、15切離,與滑件92一起上升。因此,如圖8所示,鏡片單元20、光源單元10及元件單元30係維持靜止的狀態,僅上部單元4會上升。
又,在第二模式的狀態中移動機構8動作的話,如圖6所示,在第一銷93被插入至第一銷孔241之狀態下滑件92上升,所以,成為透過第一銷孔區塊24,滑件92保持鏡片單元20之狀態。因此,如圖9所示,上部單元4與鏡片單元20一體地上升。
又,在第三模式的狀態中移動機構8動作的話,如圖7所示,在第二銷94被插入至第二銷孔151之狀態下滑件92上升,所以,成為透過第二銷孔區塊15,滑件92保持光源單元10之狀態。因此,如圖10所示,上部單元4與鏡片單元20與光源單元10一體地上升。
如圖8所示,在第一模式中移動機構8動作 的話,因僅上部單元4上升,故鏡片單元20成為露出之狀態。因此,可進行上部單元4內之收藏零件的交換及鏡片2的交換等之維護。例如關於鏡片2,鏡片保持框架21係可在保持鏡片2之狀態下卸下,往上方拉起。進行鏡片2的交換時,在第一模式中使移動機構8動作,在上部單元4與鏡片單元20之間設置空間之後,將鏡片保持框架21與鏡片2一起拉起並卸下,之後,交換鏡片2。
又,如圖9所示,在第二模式中移動機構8動作的話,因上部單元4與鏡片單元20上升,所以,在鏡片單元20與光源單元10之間回形成空間,可利用此空間來進行適當的維護。例如,在光源1的交換時,從端子卸下兩端的套罩,去除壓具13之後,一邊抓住兩端的套罩部分一邊將光源1往上方拉起。然後,從鏡片單元20與光源單元10之間的空間,將光源1往橫方向拉出,從光照射器卸下,並交換新的光源1。又,關於鏡片2之反射面的清洗,也可藉由前述第二模式來進行。
又,如圖10所示,在第三模式中移動機構8動作的話,因為上部單元4與鏡片單元20與光源單元10會上升,所以,在光源單元10與元件單元30之間會形成空間。可利用該空間,進行適當的維護。例如,也可進行清洗濾光片33,或卸下濾光片33,交換照射側光學元件3的維護。
移動機構8所致之移動距離(直線驅動源81的衝程長度)係在與前述各維護作業的關係中被最適化。 例如,配合前述各維護作業中最需要空間的維護作業,決定移動距離,設定直線驅動源81的衝程長度。或者,設定幾個必要的移動距離,對應每一前述模式設為不同的移動距離亦可。
又,選擇機構9係具備以在前述各模式之移動機構8的動作可確實進行之方式監視銷塊91的位置的感測器951~953。感測器951~953係利用檢測出滑件92的位置,間接監視銷塊91的位置。具體來說,如圖5所示,滑件92之一方的長邊部中,於接近把手部921的位置,固定檢測板96。
然後,如圖5所示,設置檢測出檢測板96之位置的3個感測器951~953。3個感測器951~953係任一皆為光感測器,利用因檢測板96遮光來檢測出位置者。3個感測器中,第一感測器951係銷塊91位於第一模式位置的話,則設置於檢測板96遮光的位置。第二感測器952係銷塊91位於第二模式位置的話,則設置於檢測板96遮光的位置。第三感測器953係銷塊91位於第三模式位置的話,則設置於檢測板96遮光的位置。
各感測器951~953係連接未圖示的顯示部。顯示部係顯示任一感測器951~953是否開啟者,可確認銷塊91位於哪個位置。作業者係一邊觀看顯示部一邊抓住把手部921來移動滑件92,讓銷塊91位於3個所希望的位置,在此狀態下使移動機構8動作。顯示部係作為於各感測器連接像LED之監視燈的簡潔者亦可,作為顯示 動作狀態的顯示器亦可。
依據前述構造相關之實施形態的光照射器,因為在從光源保持框架11分離之狀態下鏡片保持框架21往垂直於光源1的長度方向,且鏡片2遠離光源1的朝向移動,所以,沒有將光源保持框架11往長度方向拉出,來交換光源1的必要。因此,使用長條狀的光源1之狀況中,也不需要僅交換用的廣大空間。
又,實施形態的光照射器雖然於鏡片單元20上側具有上部單元4,但是,因為在從鏡片保持框架21分離之狀態下上部單元4往遠離鏡片2的朝向移動,所以,不需要將鏡片2往長邊方向拉出,也可進行維護。因此,不需要維護用的廣大空間。
又,實施形態的光照射器雖然於光源單元10的下側具有照射側光學元件3,但是,因為在從元件保持框架31分離之狀態下光源保持框架11往遠離照射側光學元件3的朝向移動,所以,不需要將照射側光學元件3往長邊方向拉出,也可進行維護。因此,不需要維護用的廣大空間。
再者,交換或清洗等的維護時,作業者係站在光照射面之長邊方向的側面旁邊。如圖3所示,在實施形態的光照射器中,有構成工件(在此範例中為液晶基板S)之搬送機構的線性導件及滾珠螺絲,跨越該等機構,站立進行作業。
在前述實施形態中,移動機構8所致之移動 方向為上下方向,但是,此係因為光源1以水平姿勢配置,鏡片2於水平方向較長者。例如,光源1沿著垂直方向配置,鏡片2於垂直方向較長者時,移動方向會成為水平方向。此時,移動的朝向也是鏡片2遠離光源1的朝向。
又,作為選擇移動機構8之動作模式的選擇機構9,除前述之機構以外,也可採用適當者。例如,可考慮設為移動機構8是驅動如堆高機之鐵叉的支持構件者,可將支持構件插入至各單元的邊際部分的構造,且將支持構件插入至任意邊際部分來拉起並移動的構造。
作為光照射器的用途,除用以取得前述之光配向膜的偏光光線照射以外,也可使用於各種用途。例如,可舉出為了使紫外線硬化型樹脂硬化而照射紫外線的光照射器,及為了光阻劑的處理而進行光照射的光照射器等。即使於該等光照射器中,也有照射區域寬廣化,為了對應該狀況而使用更長的光源之狀況,本案發明的適用具有很大的優點。
1‧‧‧光源
2‧‧‧鏡片
3‧‧‧照射側光學元件
4‧‧‧上部單元
6‧‧‧排氣筒
9‧‧‧選擇機構
11‧‧‧光源保持框架
12‧‧‧承載具
13‧‧‧壓具
14‧‧‧支持具
20‧‧‧鏡片單元
21‧‧‧鏡片保持框架
22‧‧‧緩衝具
23‧‧‧放熱片
30‧‧‧元件單元
31‧‧‧元件保持框架
32‧‧‧元件台座
33‧‧‧濾光片
34‧‧‧濾光片框
41‧‧‧流入口
42‧‧‧冷卻筒
43‧‧‧外護蓋
44‧‧‧袖板
81‧‧‧直線驅動源
82‧‧‧線性導件
92‧‧‧滑件
101‧‧‧支架

Claims (5)

  1. 一種光照射器,係具備長條狀的光源,與延伸於光源之長度方向,從背後覆蓋光源之長條狀的鏡片的光照射器,其特徵為:光源,係藉由光源保持框架所保持;鏡片,係藉由鏡片保持框架所保持;並設置移動鏡片保持框架的移動機構;移動機構,係可在從光源保持框架分離之狀態下移動鏡片保持框架;鏡片保持框架之移動的朝向,係垂直於光源的長度方向,且鏡片遠離光源的朝向;移動的距離,係可進行光源的交換的距離。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之光照射器,其中,前述光源之與前述鏡片的相反側,配置有照射側光學元件,可對對象物,透過照射側光學元件來進行光照射;照射側光學元件,係藉由元件保持框架所保持;前述移動機構,係可在從元件保持框架分離之狀態下移動前述鏡片保持框架及前述光源保持框架;該移動的朝向,係垂直於前述光源的長度方向,且前述光源及前述鏡片遠離照射側光學元件的朝向;移動的距離,係可進行照射側光學元件的清洗或交換的距離。
  3. 如申請專利範圍第1項所記載之光照射器,其中,於前述鏡片的背後,設置有背後單元;前述移動機構,係可在從前述鏡片保持框架及前述光源保持框架分離之狀態下移動背後單元;該移動的朝向, 係垂直於前述光源的長度方向,且背後單元遠離前述光源及前述鏡片的朝向;移動距離,係可進行前述鏡片的清洗或交換的距離。
  4. 如申請專利範圍第1項所記載之光照射器,其中,前述光源之與前述鏡片的相反側,配置有照射側光學元件,可對對象物,透過照射側光學元件來進行光照射;照射側光學元件,係藉由元件保持框架所保持;前述移動機構,係可在從元件保持框架分離之狀態下移動前述鏡片保持框架及前述光源保持框架;該移動的朝向,係垂直於前述光源的長度方向,且前述光源及前述鏡片遠離照射側光學元件的朝向;移動的距離,係可進行照射側光學元件的清洗或交換的距離;於前述鏡片的背後,設置有背後單元;前述移動機構,係可在從前述鏡片保持框架、前述光源保持框架及元件保持框架分離之狀態下移動背後單元;該移動的朝向,係垂直於前述光源的長度方向,且背後單元遠離前述光源、前述鏡片及照射側光學元件的朝向;移動的距離,係可進行鏡片的清洗或交換的距離。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所記載之光照射器,其中,前述光源,係以長度方向成為水平方向之方式配置;前述移動的朝向,係朝上。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110486685B (zh) * 2019-07-11 2022-01-14 武汉诚盛电子有限公司 一种汽车前雾灯

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU2935384A (en) * 1983-06-24 1985-01-03 Screen Printing Supplies Pty. Ltd. Heat curing apparatus
JPH0624951A (ja) * 1991-08-20 1994-02-01 Kanebo Ltd 口腔用組成物
US5586015A (en) * 1993-06-18 1996-12-17 General Electric Company Sports lighting luminaire having low glare characteristics
JPH07331630A (ja) * 1994-06-13 1995-12-19 Furukawa Electric Co Ltd:The 砂 箱
EP1478880A1 (en) * 2002-02-21 2004-11-24 Koninklijke Philips Electronics N.V. Luminaire and method for repairing a luminaire
JP3983099B2 (ja) * 2002-05-10 2007-09-26 日清紡績株式会社 擬似太陽光照射装置
JP4412090B2 (ja) 2004-07-22 2010-02-10 ウシオ電機株式会社 光照射器
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