TW201430509A - 光阻劑的供應方法及光阻劑的供應裝置 - Google Patents

Abstract

一種光阻劑的供應裝置，包含一瓶體、一第一儲存桶、一第二儲存桶、一入液管路、一出液管路、一氣體供應源及一抽氣單元。第一儲存桶供容裝光阻劑，並包括一第一上開口及一第一下開口。第二儲存桶供容裝光阻劑，並包括一第二上開口及一第二下開口。入液管路、抽氣單元及氣體供應源分別連通瓶體、第一上開口及第二上開口。出液管路連通第一下開口及第二下開口。透過抽氣單元持續對第一儲存桶或第二儲存桶內抽氣一段時間，才能使第一儲存桶或第二儲存桶內的氣泡更容易上浮至光阻劑的表面，使氣泡破裂，供應穩定的光阻劑，更能提高製程良率。

Description

光阻劑的供應方法及光阻劑的供應裝置

本發明是有關於一種光阻劑的供應方法及光阻劑的供應裝置，特別是指一種應用於微影製程所需的光阻劑的供應方法及光阻劑的供應裝置。

光阻劑的材料，通常是將感光性的樹脂成分溶解於有機溶劑中，對特定範圍的光波長感光。光阻劑可區分為負光阻(Negative Photoresist)和正光阻(Positive Photoresist)兩種。負光阻是曝光的部位經聚合硬化後，將未曝光的部位溶解，得到曝光部位的顯像；正光阻利用不同的顯像液，改變可溶性的構造，選擇將曝光的部分溶解或聚合，顯像留下未曝光的部分。

微影(Photolithigraphy)製程是半導體製程和微機電製程中，形成結構、圖案(如各薄膜圖案、雜質區域)的步驟。應用在半導體晶圓製程的微影製程是在晶圓的表層上塗佈光阻層，繼而，依光阻劑的型態，將光阻劑顯影以移除曝光圖案部分或是曝光圖案之外的部分，以將光阻劑中的圖案定義於晶圓的表層。並藉由蝕刻製程而完成。簡單地說，微影製程即為印刷製版技術，利用光罩將電路圖案轉移至光阻劑顯影，最後蝕刻完成。

在微影製程中的光阻劑是液態，且通常儲存於一儲存槽(storage tank)或是貯存器(reservoir)，並藉由幫浦帶出液態儲存槽內的光阻劑再配置於晶圓上方的噴嘴，使 光阻劑自噴嘴噴吐到晶片表面的中心處。晶圓放置於一旋轉塗佈機(Spin Coater)上，帶動晶片旋轉，且藉由離心力使光阻劑能均勻的塗蓋晶片表面上。

然而，上述的過程會將氣泡引入光阻劑中，而形成缺陷，如：使圖案扭曲、無法提供所需的蝕刻罩幕，或在顯影過程中避免光阻劑黏著於晶圓表面所導致的不當光阻劑移除，導致製程中不良率的提高。

因此，本發明之一目的，即在提供一種避免光阻劑產生氣泡而提高製程良率的光阻劑的供應方法。

於是，本發明供應方法，係配合一般市售內裝有光阻劑的瓶體，而包含以下步驟：(A)提供內裝有光阻劑的一第一儲存桶及一第二儲存桶，在該第一儲存桶流出光阻劑達到一預設高度，該第一儲存桶停止供應光阻劑，提供該瓶體的光阻劑流入至該第一儲存桶，同時透過一抽氣單元對該第一儲存桶內抽氣，使該第一儲存桶內的氣壓小於該第一儲存桶外氣壓，並同時透過一氣體供應源供應氣體至該第二儲存桶，且由該第二儲存桶流出光阻劑；(B)提供該瓶體的光阻劑填滿該第一儲存桶，透過該抽氣單元對該第一儲存桶內抽氣，使該第一儲存桶內的氣壓小於該第一儲存桶外氣壓，並同時透過一氣體供應源供應氣體至該第二儲存桶，且由該第二儲存桶流出光阻劑；(C)在該第二儲存桶流出光阻劑達到一預設高度，該 第二儲存桶停止供應光阻劑，提供該瓶體的光阻劑流入至該第二儲存桶，同時透過該抽氣單元對該第二儲存桶內抽氣，使該第二儲存桶內的氣壓小於該第二儲存桶外氣壓，並同時透過該氣體供應源供應氣體至該第一儲存桶，且由該第一儲存桶流出光阻劑；及(D)提供該瓶體的光阻劑填滿該第二儲存桶，透過該抽氣單元對該第二儲存桶內抽氣，使該第二儲存桶內的氣壓小於該第二儲存桶外氣壓，並同時透過該氣體供應源供應氣體至該第一儲存桶，且由該第一儲存桶流出光阻劑。

較佳地，該步驟(A)在該第一儲存桶流出光阻劑達到一預設高度為一第一高度，該步驟(B)光阻劑填滿一第一儲存桶為一第二高度，該第二高度高於該第一高度；該步驟(C)在該第二儲存桶流出光阻劑達到一預設高度為一第一高度，該步驟(D)提供該瓶體光阻劑填滿該第二儲存桶為一第二高度，該第二高度高於該第一高度。

較佳地，該步驟(A)提供一第一下高度感測器偵測該第一儲存桶達到第一高度，該步驟(B)提供一第一上高度感測器偵測該第一儲存桶達到第二高度；該步驟(C)提供一第二下高度感測器偵測該第二儲存桶達到第一高度，該步驟(D)提供一第二上高度感測器偵測該第二儲存桶達到第二高度。

因此，本發明另一目的，即在提供一種避免光阻劑產生氣泡而提高製程良率的光阻劑的供應裝置。

因此，本發明又一目的，即在提供一種避免光阻劑產 生氣泡而提高製程良率且應用前述光阻劑的供應方法的光阻劑的供應裝置。

於是，本發明供應裝置，可包含一內裝有光阻劑的瓶體、一第一儲存桶、一第二儲存桶、一入液管路、一出液管路、一氣體供應源，及一抽氣單元。

其中該第一儲存桶包括一供容裝光阻劑的第一桶身部、一連接該桶身部上端的第一上開口，及一連接該第一桶身部下端的第一下開口；該第二儲存桶包括一供容裝光阻劑的第二桶身部、一連接該第二桶身部上端的第二上開口，及一連接該桶身部下端的第二下開口；該入液管路連通該瓶體、該第一儲存桶的第一上開口及該第二儲存桶的第二上開口，使光阻劑流至該第一儲存桶的第一桶身部或該第二儲存桶的第二桶身部；該出液管路連通該第一儲存桶的第一下開口及該第二儲存桶的第二下開口，使該第一儲存桶的第一桶身部的光阻劑或該第二儲存桶的第二桶身部的光阻劑流出；該氣體供應源連通該瓶體、該第一儲存桶的第一上開口及該第二儲存桶的第二上開口，並供應氣體至該瓶體、該第一儲存桶的第一桶身部及該第二儲存桶的第二桶身部；該抽氣單元連通該第一儲存桶的第一上開口及該第二儲存桶的第二上開口，使該第一儲存桶的第一桶身部內的氣壓小於該第一儲存桶外氣壓，及該第二儲存桶的第二桶身部內的氣壓小於該第二儲存桶外氣壓。

較佳地，該光阻劑的供應裝置還包含偵測該第一儲存桶達到預設高度的一第一上高度感測器及一第一下高度感 測器，與偵測該第二儲存桶達到預設高度的一第二上高度感測器及一第二下高度感測器，該第一上高度感測器位於該第一下高度感測器的上方，該第二上高度感測器位於該第二下高度感測器的上方。

較佳地，該瓶體包括一位於上端的瓶體開口，該氣體供應源還連通該瓶體開口，該入液管連通該瓶體開口。

本發明之功效在於：透過抽氣單元的真空馬達持續對第一儲存桶或第二儲存桶內抽氣一段時間，才能使第一桶身部或第二桶身部內的氣泡更容易上浮至光阻劑的表面，而使氣泡爆裂，供應穩定的光阻劑至晶圓表面，更能提高製程良率。

有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之一個較佳實施例的詳細說明中，將可清楚地呈現。

參閱圖1與圖2，本發明光阻劑的供應裝置之一較佳實施例包含一瓶體1、一第一儲存桶2、一第二儲存桶3、一入液管路4、一出液管路5、一氣體供應源6、一抽氣單元7，及一感測器單元8。

瓶體1內裝有光阻劑9，並包括一位於上端的瓶體開口11。第一儲存桶2包括一供容裝光阻劑9的第一桶身部21、一連接第一桶身部21上端的第一上開口22，及一連接第一桶身部21下端的第一下開口23。第二儲存桶3包括一供容裝光阻劑9的第二桶身部31、一連接第二桶 身部31上端的第二上開口32，及一連接第二桶身部31下端的第二下開口33。實際製造上，第二儲存桶3的結構與第一儲存桶2的結構相同。

入液管路4包括一入液管41、一第一入液閥42，及一第二入液閥43。具體來說，入液管41連通瓶體開口11、第一儲存桶2的第一上開口22及第二儲存桶3的第二上開口32，使瓶體1的光阻劑9流至第一儲存桶2的第一桶身部21或第二儲存桶3的第二桶身部31。第一入液閥42連接第一儲存桶2的第一上開口22及入液管41，第二入液閥43連接第二儲存桶3的第二上開口32及入液管41。

出液管路5包括一出液管51、一第一出液閥52、一第二出液閥53、一設置在出液管51及位在第二出液閥53後方的幫浦54，及一設置在出液管51及位在幫浦54後方的噴嘴55。具體來說，出液管51連通第一儲存桶2的第一下開口23及第二儲存桶3的第二下開口33，使第一儲存桶2的第一桶身部21的光阻劑9或第二儲存桶3的第二桶身部31的光阻劑9流出。第一出液閥52連接第一儲存桶2的第一下開口23及出液管51，第二出液閥53連接第二儲存桶3的第二下開口33及出液管51。

氣體供應源6連通瓶體開口11、第一儲存桶2的第一上開口22及第二儲存桶3的第二上開口32，並供應氣體至瓶體1、第一儲存桶2的第一桶身部21及第二儲存桶3的第二桶身部31。在本實施例中，氣體供應源6的 氣體來源為空氣，氣體供應源6包括三個容裝空氣的氣瓶60，一連接其中一氣瓶60與瓶體開口11的瓶體空氣閥61、一連接其中另一氣瓶60與第一上開口22的第一空氣閥62，及一連接最後一氣瓶60與第二下開口33的第二空氣閥63。然則，氣體供應源6也可包括一容裝空氣的氣瓶(圖未示)、三個分別連接氣瓶的氣體管(圖未示)，及三個設置在氣體管的空氣閥(圖未示)，仍可據以實施。

抽氣單元7連通第一儲存桶2的第一上開口22及第二儲存桶3的第二上開口32，使第一儲存桶2的第一桶身部21內的氣壓小於第一儲存桶2外氣壓，及第二儲存桶3的第二桶身部31內的氣壓小於第二儲存桶3外氣壓。在本實施例中，抽氣單元7包括二個真空馬達71、一連接其中一真空馬達71與第一上開口22的第一真空閥72，及一連接其中另一真空馬達71與第二上開口32的第二真空閥73。然則，抽氣單元7也可包括一真空馬達(圖未示)，及二個分別連接二個真空馬達的真空管(圖未示)，及二個設置在真空管的真空閥(圖未示)，仍可據以實施。

感測器單元8包括偵測第一儲存桶2達到預設高度的一第一上高度感測器81及一第一下高度感測器82，與偵測第二儲存桶3達到預設高度的一第二上高度感測器83及一第二下高度感測器84，第一上高度感測器81位於第一下高度感測器82的上方，第二上高度感測器83位於第二下高度感測器84的上方。換個角度來說，第一儲存桶 2包括位於第一桶身部21的一第一高度H1及第二高度H2(見圖4)，第二高度H2高於第一高度H1。第二儲存桶3包括位於第二桶身部31的一第一高度H1(見圖5)及第二高度H2(見圖6)，第二高度H2高於第一高度H1。也就是第一高度H1是低液面，第二高度H2是高液面。

以下將針對光阻劑的供應方法的主要流程進行詳細說明，光阻劑的供應方法係配合一般市售內裝有光阻劑9的瓶體1舉例說明，然則本發明的供應方法也可應用於特製內裝有光阻劑9的瓶體1。需先說明的是為了便於辨識各個閥的開啟與關閉，在圖1、圖4至圖6中，將開啟以O表示，關閉以X表示。

首先提供中空的一第一儲存桶2及一第二儲存桶3，進行初始化作業，手動補充光阻劑9填滿第一儲存桶2。先手動依序開啟瓶體空氣閥61、第一真空閥72及第一入液閥42，且關閉第一空氣閥62及第一出液閥52。此時真空馬達71對第一儲存桶2的第一桶身部21內抽氣，使第一儲存桶2的第一桶身部21內的氣壓(在本實施例中，氣壓值約為-30kPa)小於第一儲存桶2外氣壓，而瓶體1的氣壓大於第一儲存桶2的第一桶身部21內的氣壓值，導致瓶體1的光阻劑9受到氣壓差值牽引，並流經入液管41及第一入液閥42再流入第一儲存桶2的第一桶身部21，直到第一上高度感測器81偵測到第一桶身部21的光阻劑9達到第二高度H2，通知第一入液閥42關閉。同時第一真空閥72持續開啟，真空馬達71對第一儲存桶2的第 一桶身部21持續抽氣一段時間(在本實施例中，一段時間為三分鐘)後關閉，才能使第一桶身部21內的氣泡更容易上浮至光阻劑9的表面，由於氣泡的內部與外部壓力不平衡，而使氣泡破裂，亦即進行真空除泡作業。

繼而，手動補充光阻劑9填滿一第二儲存桶3。先手動依序開啟瓶體空氣閥61、第二真空閥73及第二入液閥43，且關閉第二空氣閥63及第二出液閥53。此時真空馬達71對第二儲存桶3的第二桶身部31內抽氣，使得第二儲存桶3的第二桶身部31內的氣壓(在本實施例中，氣壓值約為-30kPa)小於第二儲存桶3外氣壓，而瓶體1的氣壓大於第二儲存桶3的第二桶身部31內的氣壓值，導致瓶體1的光阻劑9受到氣壓差值牽引，並流經入液管41及第二入液閥43再流入第二儲存桶3的第二桶身部31，直到第二上高度感測器83偵測到第二桶身部31的光阻劑9達到第二高度H2，通知第二入液閥43關閉。同時第二真空閥73持續開啟，真空馬達71對第二儲存桶3的第二桶身部31持續抽氣一段時間(在本實施例中，一段時間為三分鐘)後關閉。才能使第二桶身部31內的氣泡更容易上浮至光阻劑9的表面，由於氣泡的內部與外部壓力不平衡，而使氣泡破裂，亦即進行真空除泡作業。

接著，藉由自動控制使第一儲存桶2流出光阻劑9。下述步驟皆是利用自動控制方式來控制各個閥的開啟及關閉，自動控制方式的如應用可程式控制器(Programmable Logic Controller,PLC，圖未示)的方式。依序開啟第一 空氣閥62及第一出液閥52，關閉第一入液閥42及第一真空閥72，使得空氣流入第一儲存桶2，解除了第一儲存桶2的第一桶身部21內的氣壓小於第一儲存桶2外氣壓的關係，使得第一儲存桶2流出光阻劑9，並且第一出液閥52可調整光阻劑9的流速，之後，配合第一出液閥52開始時間，延遲一段時間(在本實施例中，一段時間為三秒鐘)幫浦54開始作動。導引光阻劑9流到噴嘴55供應至晶圓表面(圖未示)。

參閱圖1、圖2與圖3，步驟S1，提供內裝有光阻劑9的第一儲存桶2及第二儲存桶3，在第一儲存桶2流出光阻劑9達到一預設高度，第一儲存桶2停止供應光阻劑9，提供瓶體1的光阻劑9流入至第一儲存桶2，同時透過抽氣單元7對第一儲存桶2內抽氣，使第一儲存桶2內的氣壓小於第一儲存桶2外氣壓，並同時透過一氣體供應源6供應氣體至該第二儲存桶3，且由第二儲存桶3流出光阻劑9。

更仔細地說，直到第一下高度感測器82偵測到第一桶身部21的光阻劑9達到第一高度H1，也就是低液面，通知第一出液閥52關閉。開啟第一真空閥72及第一入液閥42，關閉瓶體空氣閥61、第一空氣閥62。使第一儲存桶2的第一桶身部21內的氣壓(在本實施例中，氣壓值約為-30kPa)小於第一儲存桶2外氣壓，而瓶體1的氣壓大於第一儲存桶2的第一桶身部21內的氣壓值，導致瓶體1的光阻劑9受到氣壓差值牽引，並流經入液管41及第 一入液閥42再流入第一儲存桶2的第一桶身部21。

同時，開啟第二空氣閥63及第二出液閥53，關閉第二入液閥43及第二真空閥73，使得空氣流入第二儲存桶3，解除了第二儲存桶3的第二桶身部31內的氣壓小於第二儲存桶3外氣壓的關係，使得第二儲存桶3流出光阻劑9，並且第二出液閥53可調整光阻劑9的流速。導引光阻劑9流到噴嘴55供應至晶圓表面。

參閱圖2、圖3與圖4，步驟S2，提供瓶體1的光阻劑9填滿第一儲存桶2，透過抽氣單元7對第一儲存桶2內抽氣，使第一儲存桶2內的氣壓小於第一儲存桶2外氣壓，並同時透過該氣體供應源6供應氣體至該第二儲存桶3，且由第二儲存桶3流出光阻劑9。

詳細地說，此時，瓶體1的瓶體空氣閥61關閉。而連通第一儲存桶2的第一空氣閥62及第一出液閥52皆關閉，且第一上高度感測器81偵測到第一桶身部21的光阻劑9達到第二高度H2，也就是高液面，通知第一入液閥42關閉，只有第一真空閥72開啟，並透過抽氣單元7的真空馬達71持續對第一儲存桶2的第一桶身部21內氣一段時間，使第一儲存桶2的第一桶身部21內的氣壓小於第一儲存桶2外氣壓，才能使第一桶身部21內的氣泡更容易上浮至光阻劑9的表面，由於氣泡的內部與外部壓力不平衡，而使氣泡破裂，亦即進行真空除泡作業。並同時由第二儲存桶3流出光阻劑9，此作動與前述步驟S1相同，在此不再詳述。

參閱圖2、圖3與圖5，步驟S3，在第二儲存桶3流出光阻劑9達到一預設高度，第二儲存桶3停止供應光阻劑9，提供瓶體1的光阻劑9流入至第二儲存桶3，同時透過抽氣單元7對第二儲存桶3內抽氣，使第二儲存桶3內的氣壓小於第二儲存桶3外氣壓，並同時透過該氣體供應源6供應氣體至該第一儲存桶2，且由第一儲存桶22流出光阻劑9。

具體來說，直到第二下高度感測器84偵測到第二桶身部31的光阻劑9達到第一高度H1，也就是低液面，通知第二出液閥53關閉。開啟瓶體空氣閥61、第二真空閥73及第二入液閥43，關閉第二空氣閥63。使第二儲存桶3的第二桶身部31內的氣壓(在本實施例中，氣壓值約為-30kPa)小於第二儲存桶3外氣壓，而瓶體1的氣壓大於第二儲存桶3的第二桶身部31內的氣壓值，導致瓶體1的光阻劑9受到氣壓差值牽引，並流經入液管41及第二入液閥43再流入第二儲存桶3的第二桶身部31。

同時，開啟第一空氣閥62及第一出液閥52，關閉第一入液閥42及第一真空閥72，使得空氣流入第一儲存桶2，解除了第一儲存桶2的第一桶身部21內的氣壓小於第一儲存桶2外氣壓的關係，使得第一儲存桶2流出光阻劑9，並且第一出液閥52可調整光阻劑9的流速。導引光阻劑9流到噴嘴55供應至晶圓表面。

參閱圖2、圖3與圖6，步驟S4，提供瓶體1的光阻劑9填滿第二儲存桶3，透過抽氣單元7對第二儲存桶3 內抽氣，使第二儲存桶3內的氣壓小於第二儲存桶3外氣壓，並同時透過該氣體供應源6供應氣體至該第一儲存桶2，且由第一儲存桶2流出光阻劑9。

更確切地說，此時，瓶體1的瓶體空氣閥61關閉。而連通第二儲存桶3的第二空氣閥63及第二出液閥53皆關閉，且第二上高度感測器83偵測到第二桶身部31的光阻劑9達到第二高度H2，也就是高液面，通知第二入液閥43關閉，只有第二真空閥73開啟，並透過抽氣單元7的真空馬達71持續對第二儲存桶3的第二桶身部31內抽氣一段時間，使第二儲存桶3的第二桶身部31內的氣壓小於第二儲存桶3外氣壓，才能使第二桶身部31內的氣泡更容易上浮至光阻劑9的表面，由於氣泡的內部與外部壓力不平衡，而使氣泡破裂，亦即進行真空除泡作業。並同時由第一儲存桶2流出光阻劑9，此作動與前述步驟S3相同，在此不再詳述。

參閱圖1、圖2與圖3，透過抽氣單元7的真空馬達71持續對第一儲存桶2或第二儲存桶3內抽氣一段時間，才能使第一桶身部21或第二桶身部31內的氣泡更容易上浮至光阻劑9的表面，而使氣泡破裂，供應穩定的光阻劑9至晶圓表面，更能提高製程良率。

藉由重複步驟S1至步驟S4，可使第一儲存桶2及第二儲存桶3輪流供應光阻劑9，而能操作連續不停機，持續供應穩定的光阻劑，而能節省工時。

不僅如此，且於現有的光阻劑的供應裝置，若為瓶體 (圖未示)、幫浦(圖未示)及輸液管線(圖未示)的組合，可直接加裝第一儲存桶2、第二儲存桶3、氣體供應源6、抽氣單元7，及感測器單元8，並將輸液管線改成入液管路4、出液管路5，即可簡易改良現有設備，不需要重新建置新的光阻劑的供應裝置，相當方便。

綜上所述，本發明光阻劑的供應裝置，透過抽氣單元7的真空馬達71持續對第一儲存桶2或第二儲存桶3內抽氣一段時間，才能使第一桶身部21或第二桶身部31內的氣泡更容易上浮至光阻劑9的表面，而使氣泡破裂，供應穩定的光阻劑9至晶圓表面，更能提高製程良率，故確實能達成本發明之目的。

惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。

1‧‧‧瓶體

11‧‧‧瓶體開口

2‧‧‧第一儲存桶

21‧‧‧第一桶身部

22‧‧‧第一上開口

23‧‧‧第一下開口

3‧‧‧第二儲存桶

31‧‧‧第二桶身部

32‧‧‧第二上開口

33‧‧‧第二下開口

4‧‧‧入液管路

41‧‧‧入液管

42‧‧‧第一入液閥

43‧‧‧第二入液閥

5‧‧‧出液管路

51‧‧‧出液管

52‧‧‧第一出液閥

53‧‧‧第二出液閥

54‧‧‧幫浦

55‧‧‧噴嘴

6‧‧‧氣體供應源

60‧‧‧氣瓶

61‧‧‧瓶體空氣閥

62‧‧‧第一空氣閥

63‧‧‧第二空氣閥

7‧‧‧抽氣單元

71‧‧‧真空馬達

72‧‧‧第一真空閥

73‧‧‧第二真空閥

8‧‧‧感測器單元

81‧‧‧第一上高度感測器

82‧‧‧第一下高度感測器

83‧‧‧第二上高度感測器

84‧‧‧第二下高度感測器

9‧‧‧光阻劑

H1‧‧‧第一高度

H2‧‧‧第二高度

S1~S4‧‧‧步驟

圖1是一說明本發明光阻劑的供應裝置的一較佳實施例的示意圖；圖2是一說明一感測器單元的方塊圖；圖3是一說明該光阻劑的供應裝置的光阻劑的供應方法的流程圖；圖4是一說明一瓶體的光阻劑填滿該第一儲存桶，透過一抽氣單元對該第一儲存桶內抽氣，並同時由一第二儲存桶流出光阻劑的示意圖； 圖5是一說明該第二儲存桶停止供應光阻劑，提供該瓶體的光阻劑流入至該第二儲存桶，並同時由該第一儲存桶流出光阻劑的示意圖；及圖6是一說明該瓶體的光阻劑填滿該第二儲存桶，透過該抽氣單元對該第二儲存桶內抽氣，並同時由該第一儲存桶流出光阻劑的示意圖。

1‧‧‧瓶體

11‧‧‧瓶體開口

2‧‧‧第一儲存桶

21‧‧‧第一桶身部

22‧‧‧第一上開口

23‧‧‧第一下開口

3‧‧‧第二儲存桶

31‧‧‧第二桶身部

32‧‧‧第二上開口

33‧‧‧第二下開口

4‧‧‧入液管路

41‧‧‧入液管

42‧‧‧第一入液閥

43‧‧‧第二入液閥

5‧‧‧出液管路

51‧‧‧出液管

52‧‧‧第一出液閥

53‧‧‧第二出液閥

54‧‧‧幫浦

55‧‧‧噴嘴

6‧‧‧氣體供應源

60‧‧‧氣瓶

61‧‧‧瓶體空氣閥

62‧‧‧第一空氣閥

63‧‧‧第二空氣閥

7‧‧‧抽氣單元

71‧‧‧真空馬達

72‧‧‧第一真空閥

73‧‧‧第二真空閥

9‧‧‧光阻劑

H1‧‧‧第一高度

Claims (9)

1. 一種光阻劑的供應方法，係配合一內裝有光阻劑的瓶體，而包含以下步驟：(A)提供內裝有光阻劑的一第一儲存桶及一第二儲存桶，在該第一儲存桶流出光阻劑達到一預設高度，該第一儲存桶停止供應光阻劑，該瓶體的光阻劑流入至該第一儲存桶，同時透過一抽氣單元對該第一儲存桶內抽氣，使該第一儲存桶內的氣壓小於該第一儲存桶外氣壓，並同時透過一氣體供應源供應氣體至該第二儲存桶，且由該第二儲存桶流出光阻劑；(B)提供該瓶體的光阻劑填滿該第一儲存桶，透過該抽氣單元對該第一儲存桶內抽氣，使該第一儲存桶內的氣壓小於該第一儲存桶外氣壓，並同時透過該氣體供應源供應氣體至該第二儲存桶，且由該第二儲存桶流出光阻劑；(C)在該第二儲存桶流出光阻劑達到一預設高度，該第二儲存桶停止供應光阻劑，提供該瓶體的光阻劑流入至該第二儲存桶，同時透過該抽氣單元對該第二儲存桶內抽氣，使該第二儲存桶內的氣壓小於該第二儲存桶外氣壓，並同時透過該氣體供應源供應氣體至該第一儲存桶，且由該第一儲存桶流出光阻劑；及(D)提供該瓶體的光阻劑填滿該第二儲存桶，透過該抽氣單元對該第二儲存桶內抽氣，使該第二儲存桶內的氣壓小於該第二儲存桶外氣壓，並同時透過該氣體供應源供應氣體至該第一儲存桶，且由該第一儲存桶流出光阻劑。
2. 根據申請專利範圍第1項所述光阻劑的供應方法，其中，該步驟(A)在該第一儲存桶流出光阻劑達到一預設高度為一第一高度，該步驟(B)光阻劑填滿一第一儲存桶為一第二高度，該第二高度高於該第一高度；該步驟(C)在該第二儲存桶流出光阻劑達到一預設高度為一第一高度，該步驟(D)提供該瓶體光阻劑填滿該第二儲存桶為一第二高度，該第二高度高於該第一高度。
3. 根據申請專利範圍第2項所述光阻劑的供應方法，其中，該步驟(A)提供一第一下高度感測器偵測該第一儲存桶達到第一高度，該步驟(B)提供一第一上高度感測器偵測該第一儲存桶達到第二高度；該步驟(C)提供一第二下高度感測器偵測該第二儲存桶達到第一高度，該步驟(D)提供一第二上高度感測器偵測該第二儲存桶達到第二高度。
4. 一種光阻劑的供應裝置，包含：一內裝有光阻劑的瓶體；一第一儲存桶，包括一供容裝光阻劑的第一桶身部、一連接該桶身部上端的第一上開口，及一連接該第一桶身部下端的第一下開口；一第二儲存桶，包括一供容裝光阻劑的第二桶身部、一連接該第二桶身部上端的第二上開口，及一連接該桶身部下端的第二下開口；一入液管路，連通該瓶體、該第一儲存桶的第一上開口及該第二儲存桶的第二上開口，使光阻劑流至該第一儲存桶的第一桶身部或該第二儲存桶的第二桶身部； 一出液管路，連通該第一儲存桶的第一下開口及該第二儲存桶的第二下開口，使該第一儲存桶的第一桶身部的光阻劑或該第二儲存桶的第二桶身部的光阻劑流出；一氣體供應源，連通該瓶體、該第一儲存桶的第一上開口及該第二儲存桶的第二上開口，並供應氣體至該瓶體、該第一儲存桶的第一桶身部及該第二儲存桶的第二桶身部；及一抽氣單元，連通該第一儲存桶的第一上開口及該第二儲存桶的第二上開口，使該第一儲存桶的第一桶身部內的氣壓小於該第一儲存桶外氣壓，及該第二儲存桶的第二桶身部內的氣壓小於該第二儲存桶外氣壓。
5. 根據申請專利範圍第4項所述光阻劑的供應裝置，還包含偵測該第一儲存桶達到預設高度的一第一上高度感測器及一第一下高度感測器，與偵測該第二儲存桶達到預設高度的一第二上高度感測器及一第二下高度感測器，該第一上高度感測器位於該第一下高度感測器的上方，該第二上高度感測器位於該第二下高度感測器的上方。
6. 根據申請專利範圍第4項所述光阻劑的供應裝置，其中，該瓶體包括一位於上端的瓶體開口，該氣體供應源還連通該瓶體開口，該入液管連通該瓶體開口。
7. 一種應用申請專利範圍第1項所述光阻劑的供應方法的光阻劑的供應裝置，包含：一內裝有光阻劑的瓶體；一第一儲存桶，包括一供容裝光阻劑的第一桶身部、 一連接該桶身部上端的第一上開口，及一連接該第一桶身部下端的第一下開口；一第二儲存桶，包括一供容裝光阻劑的第二桶身部、一連接該第二桶身部上端的第二上開口，及一連接該桶身部下端的第二下開口；一入液管路，連通該瓶體、該第一儲存桶的第一上開口及該第二儲存桶的第二上開口，使光阻劑流至該第一儲存桶的第一桶身部或該第二儲存桶的第二桶身部；一出液管路，連通該第一儲存桶的第一下開口及該第二儲存桶的第二下開口，使該第一儲存桶的第一桶身部的光阻劑或該第二儲存桶的第二桶身部的光阻劑流出；一氣體供應源，連通該瓶體、該第一儲存桶的第一上開口及該第二儲存桶的第二上開口，並供應氣體至該瓶體、該第一儲存桶的第一桶身部及該第二儲存桶的第二桶身部；及一抽氣單元，連通該第一儲存桶的第一上開口及該第二儲存桶的第二上開口，使該第一儲存桶的第一桶身部內的氣壓小於該第一儲存桶外氣壓，及該第二儲存桶的第二桶身部內的氣壓小於該第二儲存桶外氣壓。
8. 根據申請專利範圍第7項所述光阻劑的供應裝置，還包含偵測該第一儲存桶達到預設高度的一第一上高度感測器及一第一下高度感測器，與偵測該第二儲存桶達到預設高度的一第二上高度感測器及一第二下高度感測器，該第一上高度感測器位於該第一下高度感測器的上方，該第二上高 度感測器位於該第二下高度感測器的上方。
9. 根據申請專利範圍第7項所述光阻劑的供應裝置，其中，該瓶體包括一位於上端的瓶體開口，該氣體供應源還連通該瓶體開口，該入液管連通該瓶體開口。