TW201424706A - 具口孔圖案及多數光阱微坑之多孔形成薄膜 - Google Patents

Abstract

一種帶孔薄膜與其製造方法，其經由使用以一隨機圖案均勻分佈在薄膜平坦部上之光阱微坑而具有降低之光澤度。

Description

具口孔圖案及多數光阱微坑之多孔形成薄膜

相關申請之互相參照
本申請案主張2012年9月10日所申請之美國專利臨時申請案第61/699,201號的優先權，其揭露內容係藉由引用形式而整體併入本文。
技術領域
本申請案是關於具有一特定結構的聚合物薄膜，該特定結構包括複數個光阱微坑與口孔，以於機器方向中提供一降低之75°光澤度。

非常需要將例如吸濕裝置之可拋棄式物品（包括衛生棉、內褲襯墊、衛生棉條、尿布、訓練褲、失禁用裝置、傷口敷料等）建構為具有類似衣料的觸感，及一塑膠薄膜頂層的光澤度之減少。吸濕裝置一般是由一頂層（其抵於使用者的皮膚）、配置在頂層下方之選擇性的一收集分佈層、固定在頂層和一阻擋層之間的一吸收芯材、以及一阻擋層（也稱為底層）所構成。更是需要有經提昇而具有在任何預期接觸點都能令使用者皮膚感受到柔軟類似衣料表面的吸濕裝置。同樣的，藉由具有一柔軟、類似衣料的面向身體表面之頂層（其在使用期間可保持一乾燥表面感覺），一吸濕裝置係提供了改良的穿戴舒適性，並讓因長時間在該吸濕裝置所吸收水氣之暴露而導致的不良皮膚狀況的發展達至最小化。
由巨觀規模之延伸、三維的、帶孔的聚合物網材所組成之頂層係已經顯示有呈現出需要的流體傳輸和流體蓄留特性。所需要之流體傳輸特性係允許頂層獲取流體（例如尿液或經血），並使流體流通至吸濕物品中。一旦被吸收到吸濕物品中，頂層的流體蓄留特徵便較佳地避免了回濕，亦即流體反向移動通過頂層。
美國專利US 4,463,045（Ahr等人）中討論了一帶孔之巨觀規模延伸的三維聚合物網材，其具有實質上無光澤度的可視表面以及類似於衣料的觸覺感受。Ahr等人教示了必須滿足關於表面像差的規則分隔圖案的條件，以散射地反射入射光並藉此降低光澤度。儘管其在消除光澤度上有進展，但Ahr等人的網材的表面像差結構會缺乏需要的柔軟度，且在要可靠地產生表面像差的規則分隔圖案上有其製造上的困難。
美國專利US 4,327,730（Sorensen）討論了多種「瘤部（nubbles）」以為一塑膠薄膜頂層提供類似衣料的感覺並降低光澤度。所揭露之瘤部在截面上為球形或橢球形，其具有之一截面直徑係介於約0.0005英吋至約0.0110英吋（0.0127毫米至0.279毫米）。
然而，目前仍有需要去增進使用作為頂層之聚合物網材的光澤度的降低、同時又維持所需要的柔軟度。

一種帶孔薄膜，其包括一帶孔薄膜表面區域，該帶孔薄膜表面區域包括一口孔之圖案以及圍繞該等口孔之平坦部，該等平坦部包括一平坦區域；該平坦區域包括一均勻、隨機的光阱微坑之圖案以及一總反射區域，該等光阱微坑包括一開口、從該開口降至一底部之一側壁；該光阱微坑的該開口包括一平均直徑與一深度，該深度係大於該光阱微坑的該平均直徑除以tan37.5°。
一種用於形成具有光阱微坑之一帶孔薄膜的方法，該方法包括：在一隔屏與一輥子之間的一碰擊點處接收一熔化之聚合物網材，其中該輥子包括用於形成該等光阱微坑之一輥子表面結構；藉由使該熔化之聚合物網材接觸形成一帶有光阱微坑的聚合物網材之該輥子表面結構，於該熔化之聚合物網材中形成該等光阱微坑；使該帶有光阱微坑的聚合物網材通過一壓力差區，使得該帶有光阱微坑的聚合物網材延伸通過形成具有光阱微坑之該帶孔薄膜的該隔屏。

10．．．帶孔薄膜

12、16．．．側部

14．．．薄膜厚度

18．．．被包容面

20．．．夾層

22、24、42、48、54．．．口孔

26．．．微坑

28．．．光阱微坑

30．．．微坑開口

32．．．直徑

34．．．微坑側壁

36．．．微坑底部

38．．．深度

40．．．薄膜圖案

43、49、55．．．平坦部

44、50、56．．．平均平坦部寬度

46、52．．．圖案

58．．．成形隔屏

60、60a、60b．．．主要平面

62、62a、62b．．．次要平面

64、64a、64b．．．隔屏厚度

66．．．隔屏平坦部

68．．．隔屏口孔

70．．．隔屏口孔側壁

72．．．吸濕裝置

74．．．面向身體側

76．．．底層

78．．．吸收芯材

80．．．頂層

82．．．擠出狹槽底模

84．．．聚合物網材

86．．．成形隔屏組件

88．．．輥子組件

90．．．碰擊點

92．．．歧管

94．．．真空狹槽

9．．．前導邊緣

98．．．尾部邊緣

100．．．輥子

102．．．輥子表面

104．．．偏向環形管輥子

106．．．加壓毛氈區段

108．．．材料

110．．．纖維

112．．．切割線

114．．．中央切割部分

116．．．外環切割部

118．．．壁部厚度

120．．．端蓋

第1圖是具有光阱微坑之一帶孔薄膜的部分立體放大圖。
第2圖是表示一光阱微坑的截面放大圖，該光阱微坑具有一75°之夾角。
第3圖是為降低本文所述薄膜在機器方向中的75°光澤度所需之光阱微坑直徑的邊緣對邊緣的間隔的圖示表示。
第4圖是為降低本文所述薄膜在機器方向中的75°光澤度所需之成形隔屏的平坦區域的圖示表示。
第5圖是該薄膜中之一50/7圖案的微圖照片。
第6圖是該薄膜中之一比較例的35/7圖案的微圖照片。
第7圖是該薄膜中之一比較例的35/14圖案的微圖照片。
第8圖是隔屏的前視圖，其具有隔屏之一放大部分。
第9圖是通過第8圖的A-A之隔屏的一具體實施例的截面圖。
第10圖是通過第8圖的A-A之隔屏的一具體實施例的截面圖。
第11圖是一吸濕裝置的一具體實施例的平面圖。
第12圖說明用於形成具有光阱微坑之一帶孔薄膜的製成或方法之例示具體實施例。
第13圖是一輥子與一輥子表面的前視圖。
第14圖是用於一輥子表面之材料的截面圖。
第15圖是用於一輥子表面之材料的截面圖，其繪示了一斜裁。
第16圖是第15圖的材料的平面圖。

若無光澤度存在，則消費者便更能夠接受在可拋棄式物品中所使用作為頂層之帶孔成形薄膜，一般係使用在機器方向（MD，亦即薄膜長度）中所測量之75°光澤度來決定此屬性。在機器方向中之薄膜的75°光澤度若低於6.5是可被接受的，而約為3.5或更低之光澤度則是較佳的，例如1至3.5。薄膜的75°光澤度是在該薄膜的任一側上，但是用於一吸濕裝置的面向本體側之一般平面係包括降低之光澤度。該薄膜係包含塑膠或聚合物，例如一熱塑性聚烯烴。該聚烯烴包括聚乙烯、聚丙烯、低密度聚乙烯、或高密度聚乙烯中的至少其中一種。
US 4,463,045討論了在一宏觀膨脹的三維塑膠網材中光譜反射的實質消除，其是經由規則地分隔的、表面像差隆凸部或凹陷部之微觀圖案而行，其中該等隆凸部一般是從網材的表面向外突出，而該等凹陷部一般是從該網材的表面向內突出。
該薄膜的一般平面係與用來產生該薄膜的一成形隔屏表面的主要平面相關。規則的微觀圖案被證實難以在商業規模上可靠地再現。此外，已知可利用如下述說明之一非規則圖案來增進漫射反射率。
具有光阱微坑之帶孔薄膜10包括一三維結構，其包括一機器方向（MD）（y-方向）、垂直於該機器方向之一橫向方向（CD）（x-方向）以及一z-方向。z-方向包括一第一側部12、一薄膜厚度14、一第二側部16、以及一被包容面（male surface）18。從該第一側部12至該被包容面18的距離即該薄膜10的夾層（loft）20。在帶孔之前，一前驅物材料包括一第一側部、一材料厚度與一第二側部；其中該第一側部與該第二側部係於z-方向上分隔有材料厚度。該前驅物材料係一熔化之聚合物網材、或其可為一薄膜。該前驅物材料係接著被調製以產生一三維結構，例如藉由使該前驅物材料帶孔，以產生該被包容面18（其延伸於z-方向中遠離該帶孔薄膜10的第二側部16）。帶孔薄膜10包括一系列的口孔24，每一個口孔24包括一口孔側壁24，其係從該第一表面12延伸至該被包容面18。該系列的口孔24係於該第一表面12中被平坦部26圍繞。該等平坦部26進一步包括複數個光阱微坑28。該帶孔薄膜的第一表面12在本文中也稱為一般平面。
本申請案之薄膜包括複數個光阱微坑28。如在本文中所用，「光阱微坑」是指在該帶孔薄膜10的第一表面12中的一種微坑或一種負凹陷部，該微坑26包括一微坑開口30，其具有一微坑開口直徑32、從該微坑開口30降至一微坑底部36之一微坑側壁34。在第1圖可見從一截面圖之一光阱微坑28的實例。在從該薄膜10的該一般表面觀看時，該光阱微坑28的微坑開口30係具有一大致為圓形成形直徑32，然而，該直徑32在形狀上為可變化，且也因此包括一平均直徑（對其一般不規則的周邊進行數次測量而得）以及一深度38（從微坑開口32到微坑底部36），因此一75°之夾角無法抵達光阱微坑28的底部36。微坑側壁34從該一般平面12以不規則性而下降；亦即，該等微坑側壁34並不含有大致為直線或線性形狀。底部36係位於在一般平面12與第二側部16之間的薄膜10的厚度14中。換言之，微坑側壁34並不延伸通過薄膜10的厚度14而於薄膜10中產生孔洞。
光阱微坑平均直徑不超過約250微米，且不小於約25微米。當平坦部26是建構為使得平坦部26的總反射區域令人滿意時，較大的微坑平均直徑將不匹配於在希望的間隔處之薄膜10的平坦部26上。此外，已知較小的平均直徑不會達到可在功能上捕取從微坑28反射出來的光的深度。
光阱微坑深度38必須符合使所夾75°之角度不會達到光阱微坑底部36的需求，因此所需深度38是根據光阱微坑的平均直徑數學計算而得。舉例而言，微坑的深度38係大於微坑的平均直徑之半除以tanθ（在此θ為37.5°）。假設鄰近於75°角的射線具有相同長度，將該角度平分為半（37.5°）、且將微坑的平均半徑平分為半，則三角函數係定義了該平均直徑之半為該37.5°角的對邊，且該平分線為該37.5°角的鄰邊。在不受任何理論限制下，已知光係被「捕取」於此一微坑28結構中，且光無法從該微坑28結構完全反射出來，導致在薄膜10的一般平面12上有光澤度的降低。光澤度是在薄膜10的機器方向中量測，因此該75°之光澤度係小於約4.0，較佳係小於約3.5。
各種光阱尺寸的微坑28可隨機位於平坦區域26上(若微坑28並不分隔地太開)，因此，在光阱微坑28之間的非坑形表面會反射光線，並抵銷了其較低光澤度之光阱效應。在平坦區域26上隨機位置的密度都是均勻的，而不是僅集中在平坦區域26中的特定位置。
第3圖的圖表顯示了當不同光阱微坑周邊的邊緣之間有間隔大於約155微米之一邊緣對邊緣間隔的光阱微坑存在時，則在該一般平面中會有足夠的非微坑形薄膜表面（總反射區域）以提高光澤度數值。在不受理論限制下，在兩個不同的光阱微坑周邊邊緣之間約155微米（或更小）的間隔之間存在的非微坑形將不反射足夠光線以抵銷光阱微坑的光澤度之降低，且可達到薄膜表面（一般平面）12在機器方向中之低於約3.5的75°光澤度。
一帶孔薄膜10的一般平面12包括一或多個口孔22和平坦部26。這些平坦部26為在該一般平面12中圍繞該口孔22的結構。這些口孔22為從薄膜的一般平面12通過薄膜厚度14並終止於薄膜的被包容面18上之負空間，其在z-方向中提供一三維結構。在一般平面12中的平坦結構26的表面區域係結合為「平坦區域」。在帶孔薄膜10中的口孔22之任何圖案類型皆可被使用，且並不限於本文所特別討論的具體實施例。第4圖至第6圖是向下看至平坦部26和口孔22圖案的一般平面12之微影像。第4圖顯示了一50/7薄膜圖案40，其包括直徑為50密耳（1270微米）的一口孔42，一平坦部43以及約為7密耳（178微米）的一平均平坦部寬度44。第5圖顯示了具有一35/7圖案46的實例，其包括直徑為35密耳（889微米）的一口孔48、一平坦部49以及約為7密耳（177.8微米）的一平均平坦部寬度50。第6圖顯示了具有一35/14圖案52的實例，其包括35密耳（889微米）之一口孔直徑54、一平坦部55以及約為14密耳（355.6微米）之一平均平坦部寬度56。在一具體實施例中，該帶孔薄膜10包括一口孔22圖案，這些口孔的周邊幾何係實質上為一五邊形，其具有1270微米之一平坦對尖端開口大小、且係排列為巢狀五邊形的圖案，該等巢狀五邊形在口孔22之間具有一實質均勻平坦部26，其限定了約為178微米之一平坦部寬度，其產生了大約為該總表面區域的40%之一平坦區域。
第4圖的圖表顯示在與光阱微坑結合時，一總平坦部區域係小於總表面區域的大約60%，其使機器方向中的薄膜表面（一般平面）的75°光澤度降低至4.0以下。
在一具體實施例中，平坦結構的表面區域進一步包括一光繞射圖案，例如一系列的隨機丘部和谷部，其延伸而遠離薄膜的一般平面。該光繞射圖案係在一定義圖案或一隨機圖案中，其任一者皆具有比薄膜之上述光阱微坑的規模更大的幅度與規模。該光繞射圖案是從製造薄膜的方式產生，例如用以產生薄膜結構的成形隔屏的實體形狀。薄膜的一般平面係與用以產生薄膜的一成形隔屏表面的主要平面相關。該光繞射圖案即與延伸自該成形隔屏的主要平面之結構相對應。
成形隔屏
成形隔屏58包括一主要平面60與一次要平面62，其在主要平面60和次要平面62之間具有隔屏厚度64。隔屏的實體形狀決定了薄膜10上的口孔22的幾何圖案，並因此而有助於其美觀、觸感與機械特性。成形隔屏的主要平面60係包含一平滑表面，或其可包含一光繞射圖案，例如一系列的丘部和谷部，其於z-方向中延伸遠離該主要平面。該光繞射圖案是在具有比薄膜之上述光阱微坑規模更大幅度與規模的一隨機圖案或一定義圖案中。金屬成形隔屏58的光繞射圖案是產生自例如以大粒度顆粒對該成形隔屏58的主要平面進行噴砂；以鉬或其他適合金屬電漿塗佈該成形隔屏58的主要平面；以黃銅、銅、或其他金屬對該成形隔屏58的主要平面進行火焰噴塗；於該成形隔屏58的主要平面60上使用帶有顆粒的黏著塗層（見Sorensen之美國專利US 4,327,730）等之方法。若使用一橡膠或聚合物之成形隔屏，則可施用一粗糙的最終研磨或雷射破壞及其他手段來產生可使光澤度降低之丘部和谷部。
第8圖和第9圖顯示了成形隔屏58之兩個不同具體實施例的截面圖，其係大致沿著類似線（如第7圖的線A-A）所示。第8圖和第9圖具有一主要平面60（金屬平坦部外表面），其係藉隔屏厚度64連接至次要平面（金屬平坦部內表面）62。該成形隔屏58包括隔屏平坦部66和隔屏口孔68，該等隔屏口孔68係藉隔屏口孔側壁70而從主要平面60延伸至次要平面62。隔屏平坦部66係存在於隔屏口孔68之間。次要平面（內平坦部表面）62a和62b兩者在紋理上都是平滑的，因為其必須在自前驅物材料形成薄膜中口孔期間平順地橫越一真空狹槽密封。然而，不同於也是平滑的主要平面（外平坦部表面）60b，在較佳具體實施例中，主要平面（外平坦部表面）60a係包括丘部和谷部，例如以上描述為光繞射圖案者。
帶孔薄膜10的主要結構基本上是成形隔屏58的結構的複製。成形隔屏56係用於作為本文所述之用於產生薄膜10的方法中的一部分。
帶孔薄膜1l 包括一熱塑性聚合物，其係形成為撓性薄膜或片材。例示的熱塑性材料包括聚烯烴，例如聚乙烯、聚丙烯、聚酯、聚乙烯醇、聚苯乙烯、聚胺、乙烯基聚合物、甲基丙烯酸甲酯、纖維素、酯類及其混合物、以及形成為可撓性薄膜或片材之其他熱塑性聚合物等。聚合物薄膜可為一低密度聚乙烯。聚合物薄膜也可包括例如塑化劑之材料，或是也可添加該領域中習知的其他添加物以達到聚合物薄膜之所需物理特性。
吸濕裝置
在本文中，「吸濕物品」包括尿布、失禁物品、衛生棉、內褲襯墊、繃帶、以及用於吸收身體排出液的任何物品。第10圖顯示了一吸濕裝置72的非限制之具體實施例，其具有靠著使用者的身體之一面向身體側74。該吸濕裝置72係由至少一底層76、一吸收芯材78、以及一頂層80所構成。底層76係與面向身體側74相對。吸收芯材78係位於底層76和面向身體側74之間。頂層80係位於吸濕芯材78和面向身體側74之間。可理解在吸濕芯材與頂層和底層之間也可存在其他層，且在從頂層或底層與吸濕芯材相對的側部上也可存在其他層或其他材料。
方法
第11圖說明了用於形成具有光阱微坑之一帶孔薄膜的製程或方法的一例示具體實施例。如第11圖所示，一擠出狹槽底模82係引導一熔化聚合物網材84，其係傳送至一碰擊點90處之一成形隔屏組件86與一輥子組件88。對於真空帶孔成形薄膜而言，最常使用的聚合物主要為例如聚烯烴（如聚乙烯）以及如Thomas的美國專利US 4,456,570中所述者。對於這些一般的摻合物類型而言，熔化相係維持在高於聚合物網材82的熔點溫度（Tm）之一溫度，例如介於約275°F至600°F（135°C至315°C）之一溫度。
成形隔屏組件86包括一成形隔屏58和一靜止歧管92，其中該成形隔屏58係繞著該靜止歧管92旋轉。隔屏口孔68可使空氣通過成形隔屏58，使得成形隔屏58、以及隔屏口孔68於聚合物網材84中形成口孔（42、48、54）。
如第11圖所示，該靜止歧管92（其中成形隔屏58係繞其旋轉）包括一靜止真空狹槽94，其具有一前導邊緣96和一尾部邊緣98。在該前導邊緣96與該尾部邊緣98之間所限定之真空狹槽94包括一壓力差區，因此當在其上的聚合物網材82正越過前導邊緣96、通過真空狹槽94上方且朝向尾部邊緣98時，該真空狹槽94係於聚合物網材82中形成口孔（42、48、54）（例如經由壓力差）。壓力差（負壓力）係用於口孔和平坦部的形成，並且使聚合物網材84驟冷及通出真空狹槽94。
此外，輥子100具有特定的輥子表面結構102，其應具有例如一特定長度、直徑等之維度，以確保光阱微坑28是以一隨機圖案而均勻形成在聚合物網材84的表面上，且後續口孔係接著形成而貫穿聚合物網材84。舉例而言，若輥子100具有過大的直徑（舉例而言，例如6英吋（152毫米）或更多），則輥子10會阻擋空氣流進真空狹槽94中，因此口孔即無法適當地形成於聚合物網材84中。因此，輥子100可具有約為2英吋（50.8毫米）至5.5英吋（140毫米）的直徑。輥子100的位置與所需熱平衡有關。為了達到熱平衡，可存在控制所需參數的各種可能性。舉例而言，為了在一所需碰擊點90達到所需之熔流輸入熱，可改變熔流長度以及熔化之聚合物網材84在其離開擠出底模狹槽82的端緣時的溫度。因此，以熔化狀態（高於熔點溫度）進入碰擊點90的關鍵元素將大幅倚賴於當時所使用之特定聚合物、或聚合物的摻合物之熔點溫度。
不受理論所限，相信該輥子表面結構102係提供了一所需表面以於聚合物網材84的第一側部12中形成光阱微坑28。輥子表面102係於碰擊點90處接觸聚合物網材84，這於聚合物網材84的第一側部12中形成光阱微坑28而於通過真空狹槽94的前導邊緣96上方時將輥子表面結構102複製至聚合物網材84中。繼續在真空狹槽94上方，該聚合物網材84係形成口孔（42、48、54），這產生一帶孔薄膜10。在一具體實施例中，若成形隔屏58具有一非均勻表面（例如有一系列的隨機丘部與谷部），則聚合物網材84的第二表面18即與成形隔屏58相符一致，且非均勻表面會通過聚合物網材84的薄膜厚度14而被複製，使得一帶孔薄膜包含一非均勻表面（例如一系列的丘部與谷部），其帶有施用於其上方之光阱微坑。
輥子表面
光阱微坑28是從當聚合物網材84位於成形隔屏58上時輥子表面結構102與聚合物網材84的交互作用所形成。在某些具體實施例中，輥子表面結構102的選擇需要一特定成形隔屏58之選擇，以達到所需要的光阱微坑成形。
輥子表面結構102之一具體實施例係包括一固化感光材料的一粗化表面，其具有編碼為C-HE80之一圖案，其可得自亮視科技公司（Bright View Technologies）。C-HE80輥子表面結構102的表面係碰擊於聚合物網材84上，以產生光阱微坑的成形。用以支撐一C-HE80輥子表面結構102的輥子100架構係帶有一薄橡膠層之一金屬圓柱，該薄橡膠層上帶有施用於輥子100的外部直徑上之C-HE80層。
C-HE80輥子表面結構102的選擇係與一橡膠隔屏結合使用。合適的橡膠隔屏係與US 2010-0151191A1中所述者類似。橡膠是來自任一類別的EboniteR Rubber或合成橡膠（例如HNBR），其具有約為75之蕭氏硬度D。如果需要的話，成形隔屏58在主要平面上係經粗磨，以在主要平面60中對成形隔屏58提供一非均勻表面（例如一系列的隨機丘部與谷部）。
用於輥子表面結構102的一具體實施例係包括一金屬圓柱之粗化表面，在該金屬圓柱上方的粗化外層為電鍍鎳（GV）。GV輥子表面結構102的表面係碰擊於聚合物網材84上，以導致光阱微坑28的形成。用以支撐一GV輥子表面結構102之輥子100架構係一金屬圓柱，其帶有施用於輥子100的外部直徑上之GV層。
GV輥子表面結構102係與一金屬隔屏或如US 2010-0151191A1中所述之一橡膠隔屏結合使用，其係經雷射切割以形成平坦部間的口孔圖案。橡膠是從任一類的EBONITER Rubber或合成橡膠所得，例如具有約75之蕭氏硬度D的HNBR（氫化丁腈橡膠）。如果需要的話，可於主要平面60上改質金屬隔屏，以提供一非均勻表面，例如一系列的隨機丘部和谷部。金屬隔屏係藉由電漿塗佈（PC）層而進行改質，其增進了較低光澤度的效應，其在隔屏平坦部66的主要平面上提供了丘部和谷部的光散射圖案。如果需要的話，一橡膠隔屏可於主要平面上經粗磨，以於主要平面60對橡膠隔屏提供一光散射圖案，例如一系列的隨機丘部與谷部。
輥子表面結構102的一個具體實施例係包括纖維端部，其係自切割為具有纖維端部的環形管毛氈之加壓毛氈材料所形成，例如帶有纖維端部之羊毛氈等。纖維端部是取向為與輥子100垂直，且纖維端部形成輥子表面結構102。
第12圖說明了一偏向環形管輥子104的前視圖的一具體實施例，該輥子104具有一輥子表面結構102，包括一或多個偏向切割之加壓毛氈區段106。第13圖說明用於第12圖之偏向環形管輥子104的材料108之一例示具體例。在一例示具體實施例中，材料108係置於一水平方向H中之一加壓毛氈。材料108係包括一或多之纖維110，例如羊毛纖維，其也取向為沿著水平方向H。第14圖說明了沿著第15圖中B-B所示之材料108的區段截面之一例示具體實施例。如第14圖所示，材料區段的截面係具有一或多道切割線112。切割線112係出自或來自一毛氈環形管(藉由例如在一或多個切斷的水平纖維點切斷水平纖維)。在一具體實施例中，切割線112是在介於至少約5°至7°的偏角。在將環形管置於介於至少約5°至7°的偏角上時，並無連續的機器方向線存在，因為環形管會旋轉，因此在薄膜表面中並無可見的裂紋。
材料108係包括一中央切割部分114和由切割線112所形成之一外環切割部116。在一具體實施例中，該中央切割部分114會變成環形管孔洞且可為一丟棄部件，而外環切割部116可為環形管或環形管毛氈，其係用於輥子表面結構102或輥子的蓋層。第15圖說明了第12圖的區段106的一平面或端視圖的例示具體實施例，其帶有切割線112，丟棄的中央切割部分114、以及外環切割部116。如第15圖所示，環形管環狀毛氈區段106係具有至少約0.5英吋（12.7毫米）至約0.75英吋（19毫米）之一壁部厚度118。
一個以上的區段106係經堆疊及壓在一起以形成具有一輥子表面結構102的一偏向環形管輥子104。偏向環形管輥子104係進一步包括一端蓋120。在一例示具體實施例中，該端蓋120的一個側部或部分為非方形，使得該端蓋120可具有一對應的偏角區段122。另外，輥子表面結構102係被研磨至一致的TIR（真實指示偏轉）。
此外，如第7圖所示，在一具體實施例中，輥子100係位於前導邊緣96處，因此該輥子100是在碰擊點90處幾乎同時接觸於在傳送至成形隔屏58時的聚合物網材84。
如第11圖所示，在於碰擊點90處形成光阱微坑28之後，該聚合物網材84（具有形成於其上的光阱微坑28的隨機圖案）係接著越過真空狹槽94上方之前導邊緣96。如上所述，在一具體實施例中，該成形隔屏58進一步具有一特定形狀與一特定圖案的一或多個隔屏口孔68，例如由隔屏平坦部66所圍繞且與其相鄰。在使聚合物網材84越過前導邊緣96並通過輥子100的碰擊點90時，其繼續通過於真空狹槽94上方。
浮置在成形隔屏50中的隔屏口孔68上方的熔化之聚合物網材84係由真空狹槽94中所產生的壓力差拉至隔屏口孔68（未示）中，因此口孔（42、48、54）係形成於聚合物網材84的那些對應區域中。流過新形成的口孔（42、48、54）的空氣的傳導性冷卻係接著從熔化之聚合物網材58移除充分的熱量，以使其從熔化相改變為固體相。當在固體相時，該聚合物網材58並不會失去其新形成的形狀或結構，無論是在具有丘部與谷部的平坦部上之微觀尺度的光阱微坑28、或是巨觀的口孔規模。
成形隔屏58係旋轉或移動而使得具有光阱微坑的帶孔薄膜10越過該真空狹槽94的尾部邊緣98。在通過真空狹槽94的尾部邊緣98上方之後，具有光阱微坑之帶孔薄膜10即藉由一離形輥子（未示）而自該成形隔屏58脫離。
根據具體實施例，具有多數光阱微坑的帶孔成形薄膜係可進一步被提供至、或帶至其他組件或設備，使得該帶孔成形薄膜可被切割為需要的寬度大小並纏繞成捲而轉換為任何種類的吸濕裝置與其功能性之一組件（最可能是一頂層）。
本文所揭大小與數值並不是希望被理解為限制於所記載的精確數值。反而是，如非另行指明，每一個這種大小皆意欲表示所記載數值以及該數值周圍中功能上等效的範圍。舉例而言，如揭露「40毫米」之維度大小，其係意欲表示「約為40毫米」。
本文所引述的每份文件（包括任何交互參照或相關的發明或申請案）在此係藉由引用形式而整體併入本文中，除非另有排除或限制。引述任何文件並非承認其為本文所揭露或主張的任何發明之相關先前技術，也非承認其單獨、或與任何其他參考文獻之任何組合係可教示、建議或揭露任何此一發明。此外，如在本文件中有任何意思或定義與藉由引用而併入的文件中的相同用語之任何意思或定義相抵觸時，則應以本文件中關於該用語所指明的意思或定義為主。
既已說明與描述了本發明的特定具體實施例，則熟習該領域技術之人顯然可知在不背離本發明的精神與範疇下係可進行各種其他變化與修飾。因此，本發明係意欲於如附申請專利範圍中涵蓋在本發明範疇內的所有這類變化例與修飾例。

10．．．帶孔薄膜

12、16．．．側部

14．．．薄膜厚度

18．．．被包容面

20．．．夾層

22、24．．．口孔

26．．．微坑

28．．．光阱微坑

Claims (1)

1. 一種帶孔薄膜，其包括一帶孔薄膜表面區域，該帶孔薄膜表面區域包括一口孔之圖案以及圍繞該等口孔之平坦部，該等平坦部包括一平坦區域；該平坦區域包括一均勻、隨機的光阱微坑之圖案以及一總反射區域，該等光阱微坑包括一開口、從該開口降至一底部之一側壁；該光阱微坑的該開口包括一平均直徑與一深度，該深度係大於該光阱微坑的該平均直徑之半除以tan37.5°。
2. 如申請專利範圍第1項所述之帶孔薄膜，其中該光阱微坑平均直徑不大於約250微米、且不小於約25微米。
3. 如申請專利範圍第1項所述之帶孔薄膜，其中該總反射區域小於該平坦區域。
4. 如申請專利範圍第1項所述之帶孔薄膜，其中該帶孔薄膜表面區域所包括之在該帶孔薄膜的機器方向中之一光澤度係小於4.0。
5. 如申請專利範圍第1項所述之帶孔薄膜，其中該光阱微坑之該隨機圖案包括小於155微米之一邊緣對邊緣間隔。
6. 如申請專利範圍第1項所述之帶孔薄膜，其中口孔之該圖案係選自一50/7圖案、35/7圖案、35/14圖案、及其組合。
7. 如申請專利範圍第1項所述之帶孔薄膜，其中該平坦區域進一步包括一系列的隨機丘部與谷部。
8. 如申請專利範圍第1項所述之帶孔薄膜，其中口孔之該圖案包括巢狀五邊形，該等巢狀五邊形在該等口孔之間具有一實質均勻平坦部，其限定了約為178微米之一平坦部寬度，其產生了大約為該總表面區域的40%之一平坦區域。
9. 一種用於形成具有光阱微坑之一帶孔薄膜的方法，該方法包括：在一隔屏與一輥子之間的一碰擊點處接收一熔化之聚合物網材，其中該輥子包括用於形成該等光阱微坑之一輥子表面結構；藉由使該熔化之聚合物網材接觸形成一帶有光阱微坑的一聚合物網材之該輥子表面結構，於該熔化之聚合物網材中形成該等光阱微坑；使該帶有光阱微坑的該聚合物網材通過一壓力差區，使得該帶有光阱微坑的該聚合物網材延伸通過形成具有光阱微坑之該帶孔薄膜的該隔屏。
10. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中該熔化之聚合物網材包括一熱塑性聚合物。
11. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中該輥子表面結構包括一固化之感光性材料。
12. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中該輥子表面結構包括電鍍鎳。
13. 如申請專利範圍第9項所述之方法，其中該輥子表面結構包括纖維端部。
14. 如申請專利範圍第13項所述之方法，其中該等纖維端部係一或多個斜裁加壓毛氈區段。
15. 如申請專利範圍第14項所述之方法，其中該斜裁壓感區段是放置在介於至少約5°至約7°的一偏斜角上。