TW201341778A - 輸送氣溶膠之設備與方法 - Google Patents
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Abstract
本發明揭示一種可包括燒蝕腔室本體的設備，其具有一傳輸窗並界定經組態以容納可相對於該傳輸窗移動的一目標之一容納區域。一氣溶膠傳輸導管經組態以沿著一基本上筆直的輸送路徑將該容納區域內所產生之一氣溶膠輸送至一分析系統之一樣本接收區域。
Description
如在本文中例示性描述之本發明之實施例大致上係關於用於提供氣溶膠樣本之設備及提供氣溶膠樣本之方法。更特定言之，本發明之實施例係關於可以更高效率及更少分餾將氣溶膠樣本輸送至分析系統之設備及方法。
分析系統，諸如質譜(MS)系統、光學發射光譜(OES)系統及類似系統，可用於分析目標材料之組成。通常，目標材料之樣本以氣溶膠之形式被提供至分析系統。如在本技術中已知，氣溶膠之特徵一般為固體之膠體懸浮體及可能的氣體中的液體顆粒。該氣溶膠通常由氣溶膠產生設備產生，被流動載送氣體夾帶並經由氣溶膠輸送導管被輸送至分析系統作為樣本。習知的氣溶膠輸送導管可被彎曲以使氣溶膠產生設備能夠從待於分析系統上分析之目標材料的不同位置產生多個樣本。因此，由習知的氣溶膠輸送導管界定的氣溶膠輸送路徑係非線性的。歸因於習知氣溶膠輸送路徑之非線性，當氣溶膠自該氣溶膠產生設備傳輸至分析系統時，其經歷分餾。如在本技術中已知，當氣溶膠中不同元素、同位素、大小及/或幾何形狀的顆粒隨著沿著氣溶膠輸送路徑之方向改變變成離心分離時，分餾發生。歸因於分餾的影響，由分析系統執行的組成分析可能無法精確
地對應於由氣溶膠產生設備產生的氣溶膠之實際組成。習知氣溶膠輸送路徑內的彎曲亦可導致氣溶膠輸送速度沿著輸送路徑之長度改變並且亦可在氣溶膠輸送導管內與彎曲相鄰的不同位置上發生改變。在其他不利影響中，此等非均勻輸送速度亦可導致氣溶膠內顆粒的凝聚。因此，氣溶膠內相對小的顆粒非預期地凝聚而形成較大顆粒，此易於降低氣溶膠沿著氣溶膠輸送路徑之總體輸送效率。
習知氣溶膠輸送導管亦可被製成撓性以使氣溶膠產生設備能夠從待於分析系統上分析之目標材料之不同位置產生多個樣本。然而，使用撓性氣溶膠輸送導管可導致由分析系統執行的組成分析取決於產生氣溶膠的目標材料的位置而非預期地改變。為減小由撓性氣溶膠輸送導管引起的組成分析之非預期的可變性，撓性氣溶膠輸送導管一般提供為長度大致為數米的管子。因此，撓性氣溶膠輸送導管之相對端之間的任何移動導致撓性氣溶膠輸送導管之相對端之間的彎曲量減小。然而，歸因於此等氣溶膠輸送導管之長度相對較長，導管內的氣溶膠輸送時間可非預期地增加。因此，氣溶膠內的相對小的顆粒以如上所述之類似方式非預期地凝聚。
此外，撓性或彎曲氣溶膠輸送導管習知上由大氣氣體可滲透之塑膠材料製成。因此，當大氣氣體被輸送穿過氣溶膠輸送導管時其可變成非預期地夾帶有氣溶膠並導致氣溶膠之組成分析問題(例如，歸因於干涉及高背景之形成)。
在一實施例中，設備可具備：第一腔室本體，其具有經組態以沿著傳輸方向傳輸輻射脈衝之傳輸窗，該輻射脈衝具有足以燒蝕目標之
一部分之通量；第二腔室本體，其與該第一腔室本體相鄰，其中該第二腔室本體經組態以支撐可由輻射脈衝燒蝕之目標並且其中該第二腔室本體可沿著不同於該傳輸方向之平移方向相對於該傳輸窗移動，其中該第一腔室本體及該第二腔室本體至少部分界定內部可容納目標之容納區域；及氣溶膠輸送導管，其具有第一端及與該第一端相對之第二端，該氣溶膠輸送導管界定氣溶膠輸送區域，該氣溶膠輸送區域在該第一端上與該容納區域流體連通並且在該第二端上與該容納區域外部之區域流體連通，其中該氣溶膠輸送導管經組態以沿著自該第一端延伸至該第二端之基本上筆直的輸送路徑輸送氣溶膠，該氣溶膠包括可自目標燒蝕之材料。
在另一實施例中，設備可具備：燒蝕腔室，其包括傳輸窗及容納區域，其中該傳輸窗經組態以沿著傳輸方向傳輸輻射脈衝，該輻射脈衝具有足以燒蝕目標的一部分之通量，並且其中該容納區域經組態以容納目標；目標固持器，其安置在該容納區域內並經組態以支撐該容納區域內之目標，其中該目標固持器經組態使得該目標在該容納區域內之位置及定向之至少一者可調整；及氣溶膠輸送導管，其具有第一端及與該第一端相對之第二端，該氣溶膠輸送導管界定氣溶膠輸送區域，該氣溶膠輸送區域在該第一端上與該容納區域流體連通並且在該第二端上與該容納區域外部之區域流體連通，其中該氣溶膠輸送導管經組態以沿著自該第一端延伸至該第二端之基本上筆直的輸送路徑輸送氣溶膠，該氣溶膠包括可自目標燒蝕的材料。
在本發明之另一實施例中，方法可包括將氣溶膠沿著基本上筆直的輸送路徑自燒蝕腔室本體之容納區域輸送至分析系統之樣本接收區
域，其中該分析系統經組態以執行該樣本接收區域內所接收之氣溶膠之組成分析。
圖1係圖解說明根據一實施例之設備的示意圖。
圖2係示意性地圖解說明圖1所示之設備之燒蝕腔室的一個實施例之橫截面圖。
圖3係圖解說明其中圖2所示之燒蝕腔室之第二腔室本體可相對於該第一腔室本體移動之一實施例之橫截面圖。
圖4及圖5係示意性地圖解說明根據一些實施方案之經組態以防止碎屑進入圖2所示之燒蝕腔室的障壁之橫截面圖。
下文參考附圖更全面地描述本發明，附圖中展示本發明之例示性實施例。然而，本發明可以許多不同形式具體實施並且不應被解釋為限於本文所述之實施例。而是，提供此等實施例使得本揭示內容透徹及完整，並且將本發明的範疇全面傳達給熟習此項技術者。在圖式中，為清楚起見，層及區域的大小及相對大小可能誇大。
應瞭解，雖然術語第一、第二、第三等在本文中可用於描述不同元件、組件、區域、裝置等，但是此等元件、組件、區域、裝置不應受此等術語的限制。此等術語僅用於區分一個元件、組件、區域、裝置等與另一元件、組件、區域、裝置等。因此，下文論述的第一元件、組件、區域、裝置等可稱為第二元件、組件、區域、裝置等，而不脫離本文提供的教示。
本文所使用的術語僅出於描述特定例示性實施例之目的並且非旨在限制本發明。如本文所使用，除非上下文另有明確指示，否則單數形式「一」、「一個」及「該」旨在亦包括複數形式。應進一步瞭解術語「包括(comprise及/或comprising)」在本說明書中使用時，指定規定特徵、整數、步驟、操作、元件及/或組件之存在，但不排除一個或多個其他特徵、整數、步驟、操作、元件、組件及/或其等之群組之存在或添加。
圖1係圖解說明根據一實施例之設備之示意圖。
參考圖1，設備(諸如設備100)包括燒蝕腔室102、燒蝕光束源104及分析系統106。然而，在其他實施例中，該燒蝕光束源104及該分析系統106之一者或兩者可自設備100省略。
如例示性所示，該燒蝕腔室102包括：燒蝕腔室本體108，其界定經組態以容納目標110之容納區域108a；傳輸窗112，其經組態以沿著傳輸方向傳輸輻射脈衝114之；載送氣體入口116，其經組態以將載送氣體(例如，氦氣、氬氣或類似氣體或其等之組合)自燒蝕腔室102外部之載送氣體源(未展示)傳輸至容納區域108a中；及氣溶膠輸送導管118，其耦合至該燒蝕腔室本體108。如下文更詳細論述，輻射脈衝114具有足以燒蝕目標110之一部分之通量，從而產生氣溶膠煙羽(本文中亦簡稱為「氣溶膠」、「煙羽」、「氣溶膠煙羽」等等，包括自夾帶在載送氣體中之目標燒蝕之材料)。
氣溶膠輸送導管118包括第一端118a及第二端118b並且界定自該第一端118a延伸至該第二端118b之氣溶膠輸送區域120。在所示實施例中，該氣溶膠輸送導管118經組態使得該第一端118a延伸至該容納區
域108a中並且該第二端延伸至該燒蝕腔室本體108外部。然而，在另一實施例中，該氣溶膠輸送導管118可經組態使得該第一端118a不延伸至該容納區域108a中。同樣地，該氣溶膠輸送導管118可經組態使得該第二端118b不延伸至該燒蝕腔室本體108外部。該氣溶膠輸送區域120界定氣溶膠可沿其輸送之輸送路徑。如例示性所示，該氣溶膠輸送區域120在該第一端118a上與該容納區域108a流體連通且在該第二端118b上與容納區域108a外部之區域(例如，分析系統106之樣本接收區域122)流體連通。如上文所構造，該氣溶膠輸送導管118經組態以接收該容納區域108a內所產生之氣溶膠煙羽並在該氣溶膠輸送區域120內沿著輸送路徑將該氣溶膠煙羽輸送至該分析系統106之該樣本接收區域122。如下文將更詳細論述，該分析系統106經組態以對由該氣溶膠輸送導管118輸送之氣溶膠執行組成分析。
在一實施例中，由該氣溶膠輸送區域120界定之輸送路徑係基本上筆直使得當該氣溶膠自該容納區域108a輸送至該樣本接收區域122(即，自該第一端118a至該第二端118b)時，該氣溶膠不經歷分餾或可偵測的分餾(即，「基本上不經歷分餾」)。在另一實施例中，由該氣溶膠輸送區域120界定之輸送路徑係基本上筆直使得當該氣溶膠自該容納區域108a輸送至該樣本接收區域122(即，自該第一端118a至該第二端118b)時，該氣溶膠之輸送速度基本上恆定。
在一實施例中，該氣溶膠輸送導管118基本上係剛性的使得該輸送路徑在期間氣溶膠自該第一端118a輸送至該第二端118b之正常操作條件下可保持基本上筆直。因為該氣溶膠輸送導管118係基本上剛性的，故其可由金屬材料(即，不銹鋼或類似材料)形成。在一實施例中，該金
屬材料可為大氣氣體不可滲透之材料，或相較於形成前述習知氣溶膠輸送導管之塑膠材料，大氣氣體較不易滲透之材料。
沿著自該第一端118至該第二端118b之輸送路徑量測之該氣溶膠輸送導管118之長度可小於5米(m)。在一實施例中，該氣溶膠輸送導管118之長度小於1m。在另一實施例中，該氣溶膠輸送導管118之長度小於10公分(cm)。在又一實施例中，該氣溶膠輸送導管118之長度小於5 cm。在又一實施例中，該氣溶膠輸送導管118之長度小於3 cm。然而，在此等實施例中，該氣溶膠輸送導管118之長度一般可大於1 cm，但可小於1 cm。在一些實施例中，該氣溶膠輸送導管118之長度可經選擇以在氣溶膠自該容納區域108a輸送至該樣本接收區域122(即，自該第一端118a至該第二端118b)時防止或另外減小氣溶膠中之顆粒非預期地凝聚之程度。氣溶膠輸送導管118之長度選擇可受一或多個因素影響，諸如形成目標110之材料、輻射脈衝114之能量密度、輻射脈衝114之脈衝寬度、輻射脈衝114之波長、載送氣體流率等等。
氣溶膠輸送導管118耦合至該燒蝕腔室本體108以相對於傳輸窗112固定地定位。在一實施例中，該氣溶膠輸送導管118相對於該傳輸窗112固定地定位使得該氣溶膠輸送導管118之位置相對於該傳輸窗112固定。在另一實施例中，該氣溶膠輸送導管118相對於該傳輸窗112固定地定位使得該氣溶膠輸送導管118相對於該傳輸窗112定向固定。
燒蝕光束源104經組態以將輻射脈衝114引導至該容納區域108a中。在另一實施例中，該燒蝕光束源104亦經組態以產生輻射脈衝114。雖然未圖解說明，但是燒蝕光束源104可包括輻射源，諸如經組態以產生
一個或多個脈衝之雷射輻射束之一個或多個雷射。該一個或多個雷射可各經組態以產生具有大於約157 nm且小於約1064 nm之波長之雷射輻射。例如，該一個或多個雷射可各經組態以產生選自由266 nm、213 nm、193 nm或類似波長組成之群組之波長。該一個或多個雷射之各者可經組態以產生脈衝寬度介於約1.0皮秒至約25奈秒之間之雷射脈衝。燒蝕光束源104亦可包括經組態以聚焦由該等雷射之一者或多者產生之雷射輻射的雷射光學件。
如上所述，該分析系統106經組態以對由氣溶膠輸送導管118輸送之氣溶膠執行組成分析。該分析系統106可提供為任何合適系統，諸如MS系統(例如，惰性氣體MS系統、穩定同位素MS系統等等)、OES系統、或類似系統、或其等之組合。然而，一般而言，該分析系統106包括經組態以激發(例如，離子化、霧化、照亮、加熱等等)該樣本接收區域122內所接收之氣溶膠之一種或多種組分的樣本製備模組及經組態以偵測該樣本接收區域122中所接收之氣溶膠之所激發組分之一個或多個特性(例如，電磁發射或吸收、顆粒質量、離子質量、或類似特性、或其等之組合)之偵測模組。用於激發該樣本接收區域122內所接收之氣溶膠之一種或多種組分之技術包括電漿產生(例如，經由感應耦合式電漿(ICP)火炬)、火花離子化、熱離子化、大氣壓力化學離子化、快速原子轟擊、輝光放電、或類似技術、或其等之組合。在一實施例中，該分析系統106可進一步包括排序模組，該排序模組經組態以在該偵測模組偵測到特性之前基於前述特性之一者或多者對樣本接收區域122中所接收之氣溶膠的(諸)所激發組分進行排序。
在一實施例中，設備100進一步包括安置在燒蝕腔室102與燒蝕光束源104之間之遮蔽板124。該遮蔽板124可由對輻射脈衝114至少部分透明之材料形成。在所示實施例中，該遮蔽板124鄰接燒蝕腔室本體108並覆蓋傳輸窗112以在燒蝕目標110期間防止碎屑(例如，灰塵、水蒸氣、大體氣體(諸如空氣)及類似物)非預期地進入容納區域108a中。該燒蝕光束源106一般安置為緊鄰遮蔽板124(如所示)，且可鄰接該遮蔽板124以減少或消除由燒蝕腔室本體108外部之碎屑引起的對輻射脈衝至容納區域108a中的傳輸之任何不利干涉。在一實施例中，該遮蔽板124可耦合至燒蝕光束源104及燒蝕腔室本體108之一者或兩者。
在另一實施例中，設備100視需要包括安置在容納區域108a內之目標固持器126。該目標固持器126可經組態以將目標110固持或支撐在該容納區域內以確保當輻射脈衝114被傳輸至容納區域108a中時該目標110之表面110a被預期地定位在容納區域108a內。在一實施例中，目標固持器126可經組態使得目標110在容納區域108內之位置及定向之至少一者可調整以確保待由輻射脈衝114燒蝕之該表面110a之該部分預期地定位在容納區域108a內，即使表面110a之其他部分非預期地定位在容納區域108a內亦係如此。
圖2係示意性地圖解說明圖1所示之設備之燒蝕腔室之一實施例之橫截面圖。圖3係示意性地圖解說明其中圖2所示之燒蝕腔室之第二腔室本體可相對於第一腔室本體移動之一實施例之橫截面圖。
參考圖2，根據一實施例，圖1所示之燒蝕腔室本體108可包括第一腔室本體202及與該第一腔室本體202相鄰之第二腔室本體204。
如例示性所示，該第一腔室本體202及該第二腔室本體204界定容納區域108a。然而，燒蝕腔室102可包括至少部分界定容納區域108a之其他組件。因此，該第一腔室本體202及該第二腔室本體204可至少部分界定容納區域108a。雖然未展示，但是一個或多個偏置構件(例如，彈簧)可經提供以使一個腔室本體(例如，第二腔室本體204)均勻地壓向另一腔室本體(例如，第一腔室本體202)。
傳輸窗112界定在第一腔室本體202內並且第二腔室本體204可相對於傳輸窗112移動(例如，如圖3所示之箭頭302所示)。例如，第二腔室本體204可放置在可移動台206(例如，由相對固定的基座208支撐)上，該可移動台206經組態以沿著不同於前述傳輸方向之一個或多個平移方向移動第二腔室本體204。該基座208繼而可提供在足夠穩定的安裝表面(未展示)諸如桌面、地面或類似表面上。由例如前述安裝表面支撐之框架(未展示)可耦合至第一腔室本體202以在第二腔室本體204被該可移動台206移動時支撐第一腔室本體202。在其中遮蔽板124耦合至燒蝕光束源104及燒蝕腔室本體108之一者或兩者之一個實施例中，除第一腔室本體202外(或取代第一腔室本體202)，該框架可類似地耦合至遮蔽板124及燒蝕光束源104之一者或多者。
在所示實施例中，該氣溶膠輸送導管118延伸通過第一腔室本體202使得第一端118a延伸至該容納區域108a中並且該第二端延伸至燒蝕腔室本體108外部。然而，在其他實施例中，該第一端118a及該第二端118b之一者或兩者安置在第一腔室本體202內或第一腔室本體202之邊緣上。而且，氣溶膠輸送導管118可提供為形成在第一腔室本體202中之鑽孔
或一個或多個通道(未展示)。
如上所述，氣溶膠輸送導管118可以導致氣溶膠輸送導管118相對於傳輸窗112固定地定位之任何合適方式耦合至第一腔室本體202。例如，氣溶膠輸送導管118可插入形成在第一腔室本體202中之鑽孔(未展示)或一個或多個通道(未展示)中並藉由黏附劑、一個或多個焊接、或其他鎖定構件(例如，螺絲、夾具、或類似物、或其等之組合)或經結構化以使氣溶膠輸送導管118偏向第一腔室本體202之任何偏置構件而固定於其中。在一實施例中，氣溶膠輸送導管118耦合至第一腔室本體202使得當第二腔室本體204相對於傳輸窗112移動時該氣溶膠輸送導管118相對於傳輸窗112固定地定位。
在一實施例中，燒蝕腔室102可包括界定收集區域210a之氣溶膠收集器210。在一實施例中，該氣溶膠收集器210藉由收集器支撐構件212(例如，銷、螺絲、夾具等等)耦合至第一腔室本體202。該收集器支撐構件212可經組態以相對於傳輸窗112對準氣溶膠收集器210以確保輻射脈衝114透過收集區域210a傳輸至容納區域108a，而幾乎不受或不受氣溶膠收集器210干涉。在一個實施例中，收集器支撐構件212可經組態使得氣溶膠收集器210之位置及定向之至少一者可相對於傳輸窗112調整。
氣溶膠收集器210之至少一部分可安置在容納區域108a中使得收集區域210a與容納區域108a流體連通。在一個實施例中，氣溶膠收集器210經安置使得在氣溶膠收集器210與目標110之表面110a之間形成小間隙。間隙高度應經選擇以確保輻射脈衝114燒蝕表面110a時產生之氣溶膠煙羽之至少一部分形成在收集區域110a內。間隙高度亦可經選擇以確
保流至容納區域108a中及目標110之表面110a上方之載送氣體可流至收集區域210a中。
氣溶膠收集器210之至少一部分可安置在容納區域108a中使得收集區域210a與氣溶膠輸送區域120流體連通。在所示實施例中，氣溶膠收集器210包括位於氣溶膠收集器210之底部與頂部之間之鑽孔(被展示但未標注)。該鑽孔可與收集區域210a流體連通並且氣溶膠輸送導管118之第一端118a可插入該鑽孔中或另外耦合至該鑽孔。然而，在其他實施例中，該第一端可安置在氣溶膠收集器210之頂部上方。
藉由提供如上文例示性描述之氣溶膠收集器210，可使輻射脈衝114燒蝕表面110a時產生之氣溶膠煙羽的體積相對較小，藉此改良氣溶膠透過氣溶膠輸送區域120至分析系統106之樣本接收區域122之輸送。雖然上文已將氣溶膠收集器210描述為獨立於第一腔室本體202之部件，但是氣溶膠收集器210及第一腔室本體202亦可形成為單個整體結構。
圖4及圖5係示意性地圖解說明根據一些實施例之經組態以防止碎屑進入圖2所示之燒蝕腔室中之障壁。
如上所論述，第二腔室本體204可沿著一個或多個平移方向相對於第一腔室本體202移動。在一些實施例中，可提供障壁以在第二腔室本體204移動時防止碎屑(例如，灰塵、水蒸氣、大氣氣體(諸如空氣)及類似物)非預期地進入容納區域108a中。
參考圖4，根據一個實施例之障壁可提供為密封件(諸如密封件402)，其安置在第一腔室本體202與第二腔室本體204之相對表面之間。該密封件402可提供為可防止碎屑進入容納區域108a同時允許第二腔
室本體204相對於第一腔室本體202移動而不產生非預期之摩擦量之任何類型的密封件。在一實施例中，密封件402提供為表面密封件(例如，O環、C環、U環等等)。該表面密封件可視需要裝載彈簧。該表面密封件之外部表面可塗佈相對惰性、低摩擦材料，諸如聚四氟乙烯(PTFE)。
參考圖5，根據另一實施例之障壁可提供為氣簾諸如氣簾502，其環繞第一腔室本體202及第二腔室本體204之周邊。氣簾502可包括以足夠流率(例如，沿著箭頭504所示之方向)流動之氣體(例如，氦氣、氬氣等等)之簾幕以防止碎屑非預期地進入容納區域108a中。
雖然僅圖解說明了兩個障壁實例，但是應明白可提供其他障壁。例如，障壁可被提供為風箱式結構，包括耦合至第一腔室本體202及第二腔室本體204在第二腔室本體204相對於第一腔室本體202移動時改變形狀但在容納區域108與燒蝕腔室本體108外部之環境之間維持合適障壁之撓性片材料(例如，織物)。亦應明白一種以上類型之障壁可同時用於幫助防止碎屑非預期地進入容納區域108中。
上文已描述了設備，應明白本發明之實施例可以許多不同形式實施及實行。例如，在一個實施例中，設備可包括氣溶膠傳輸導管，該氣溶膠傳輸導管經組態以沿著基本上筆直的輸送路徑將氣溶膠自燒蝕腔室本體的容納區域輸送至分析系統的樣本接收區域，其中該分析系統經組態以執行該樣本接收區域中所接收之氣溶膠之組成分析。
在本發明之另一實施例中，設備可包括燒蝕腔室本體之第一部分及氣溶膠傳輸導管，其中燒蝕腔室本體之該第一部分及該氣溶膠傳輸導管經組態以將氣溶膠沿著基本上筆直的輸送路徑自燒蝕腔室本體之容納
區域輸送至樣本接收區域，同時燒蝕腔室本體之另一部分相對於燒蝕腔室本體之該第一部分移動，其中該分析系統經組態以執行該樣本接收區域內所接收之氣溶膠之組成分析。
在本發明之另一實施例中，方法可包括將氣溶膠沿著基本上筆直的輸送路徑自燒蝕腔室本體之容納區域輸送至分析系統之樣本接收區域，其中該分析系統經組態以執行該樣本接收區域內所接收之氣溶膠之組成分析。在此一實施例中，該方法可視需要包括燒蝕該容納區域內之目標以產生氣溶膠，在該分析系統上對該氣溶膠執行組成分析，或其等之組合。
前述內容闡釋本發明之實施例且不被解釋為對其之限制。雖然已描述本發明之一些例示性實施例，但是熟習此項技術者應易明白許多修改在例示性實施例中係可行的而不實質脫離本發明之新穎教示及優點。因此，所有此等修改旨在包括在如申請專利範圍中所定義之本發明之範疇內。因此，應瞭解前述內容闡釋本發明且不被解釋為限於所揭示之本發明之特定例示性實施例，並且對所揭示之例示性實施例之修改以及其他實施例旨在包括在隨附申請專利範圍之範疇內。本發明由下列申請專利範圍定義，申請專利範圍之等效物包括於本發明中。
Claims (27)
- 一種設備，其包括：一第一腔室本體，其具有經組態以沿著一傳輸方向傳輸一輻射脈衝之一傳輸窗，該輻射脈衝具有足以燒蝕一目標之一部分之一通量；一第二腔室本體，其與該第一腔室本體相鄰，其中該第二腔室本體經組態以支撐可被該輻射脈衝燒蝕之一目標，並且其中該第二腔室本體可沿著不同於該傳輸方向之一平移方向相對於該傳輸窗移動，其中該第一腔室本體及該第二腔室本體至少部分界定其內可容納該目標之一容納區域；及一氣溶膠輸送導管，其具有一第一端及與該第一端相對之一第二端，該氣溶膠輸送導管界定一氣溶膠輸送區域，該氣溶膠輸送區域在該第一端上與該容納區域流體連通且在該第二端上與該容納區域外部之一區域流體連通，其中該氣溶膠輸送導管經組態以沿著自該第一端延伸至該第二端之一基本上筆直的輸送路徑輸送一氣溶膠，該氣溶膠包括可自該目標燒蝕之一材料。
- 如請求項1之設備，其中該輸送路徑係基本上筆直使得該氣溶膠在其自該第一端輸送至該第二端時不經歷分餾或基本上不經歷分餾。
- 如請求項1之設備，其中該輸送路徑係基本上筆直使得當該氣溶膠自該第一端輸送至該第二端時，該氣溶膠之輸送速度基本上恆定。
- 如請求項1之設備，其中該氣溶膠輸送導管自該第一端至該第二端之一長度小於3 m。
- 如請求項4之設備，其中該氣溶膠輸送導管自該第一端至該第二端之該長度小於1 m。
- 如請求項5之設備，其中該氣溶膠輸送導管自該第一端至該第二端之該長度小於約10 cm。
- 如請求項6之設備，其中該氣溶膠輸送導管自該第一端至該第二端之該長度小於約5 cm。
- 如請求項1之設備，其中該氣溶膠輸送導管延伸穿過該第一腔室本體。
- 如請求項1之設備，其中該氣溶膠輸送導管係基本上剛性。
- 如請求項1之設備，其中界定該氣溶膠輸送區域之該氣溶膠輸送導管之一部分係金屬。
- 如請求項1之設備，其中該氣溶膠輸送導管相對於該第一腔室本體定向固定。
- 如請求項1之設備，其中該氣溶膠輸送導管之位置相對於該第一腔室本體固定。
- 如請求項1之設備，其中該氣溶膠輸送導管之該第一端延伸至該容納區域中。
- 如請求項1之設備，其中該氣溶膠輸送導管之該第二端延伸至該容納區域外部。
- 如請求項1之設備，其中該第一腔室本體及該第二腔室本體經組態使得該目標可在該容納區域內相對於該傳輸窗移動。
- 如請求項1之設備，其進一步包括經組態以防止該燒蝕腔室外部的碎屑進入該容納區域中之一障壁。
- 如請求項16之設備，其中該障壁包括位於該第一腔室本體與該第二腔室本體之間的一密封件。
- 如請求項16之設備，其中該障壁包括環繞該第一腔室本體及該第二腔室本體之一周邊之一氣簾。
- 如請求項1之設備，其進一步包括一氣溶膠收集器，該氣溶膠收集器界定與該容納區域及該氣溶膠輸送區域流體連通之一收集區域。
- 如請求項1之設備，其進一步包括一載送氣體入口，該載送氣體入口經組態以將一載送氣體自該容納區域外部輸送至該容納區域中。
- 如請求項20之設備，其中該載送氣體入口延伸穿過該第二腔室本體。
- 如請求項1之設備，其進一步包括與該傳輸窗相鄰之一燒蝕光束源，其中該燒蝕光束源經組態以沿著該傳輸方向引導一輻射脈衝穿過該傳輸窗至該目標上，該輻射脈衝具有足以燒蝕該目標之一部分並產生該氣溶膠之一通量。
- 如請求項1之設備，其進一步包括一分析系統，該分析系統具有與該氣溶膠輸送導管之該第二端流體連通之一樣本接收區域使得該氣溶膠可自該樣本接收區域內之該氣溶膠輸送導管接收作為一樣本，其中該分析系統經組態以分析該樣本之組成。
- 如請求項23之設備，其中該氣溶膠輸送導管經組態以沿著自該容納區域延伸至該樣本接收區域之一基本上筆直的輸送路徑輸送該氣溶膠。
- 如請求項23之系統，其中該分析系統包括選自由一光學發射光譜設備及一質譜設備組成的群組之至少一者。
- 一種設備，其包括：一燒蝕腔室，其包括一傳輸窗及一容納區域，其中該傳輸窗經組態以沿著一傳輸方向傳輸一輻射脈衝，該輻射脈衝具有足以燒蝕一目標之一部分的一通量，並且其中該容納區域經組態以容納一目標；一目標固持器，其安置在該容納區域內並經組態以支撐該容納區域內之該目標，其中該目標固持器經組態使得該容納區域內之該目標之一位置及一定向之至少一者可調整；及一氣溶膠輸送導管，其具有一第一端及與該第一端相對之一第二端，該氣溶膠輸送導管界定一氣溶膠輸送區域，該氣溶膠輸送區域在該第一端上與該容納區域流體連通且在該第二端上與該容納區域外部之一區域流體 連通，其中該氣溶膠輸送導管經組態以沿著自該第一端延伸至該第二端之一基本上筆直的輸送路徑輸送一氣溶膠，該氣溶膠包括可自該目標燒蝕之一材料。
- 一種方法，其包括：將一氣溶膠沿著一基本上筆直的輸送路徑自一燒蝕腔室本體之一容納區域輸送至一分析系統之一樣本接收區域，其中該分析系統經組態以執行接收在該樣本接收區域內之該氣溶膠之一組成分析。
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