TW201338620A

TW201338620A - 顯示裝置及製造其之方法

Info

Publication number: TW201338620A
Application number: TW101107973A
Authority: TW
Inventors: Chun-Kai Li; Hsin-Yuan Su; Hsiang-Lun Hsu
Original assignee: Innocom Tech Shenzhen Co Ltd; Chimei Innolux Corp
Priority date: 2012-03-08
Filing date: 2012-03-08
Publication date: 2013-09-16
Also published as: US20130234590A1

Abstract

一種顯示裝置，包括複數個畫素定義單元。每一畫素定義單元包括圖案化畫素定義區段、第一電極層、發光層及第二電極層。圖案化畫素定義區段具有第一側表面及相對第一側表面之第二側表面。第一電極層包括相隔一間距之第一子電極及第二子電極，第一及第二子電極分別設於第一及第二側表面上。發光層設於第一電極層上。第二電極層設於發光層上。

Description

顯示裝置及製造其之方法

本發明是有關於一種顯示裝置及其製造方法，且特別是有關於一種具有畫素定義單元之顯示裝置及其製造方法。

有機發光二極體(Organic Light Emitting Diode，OLED)顯示器的發光機制為電致發光(electroluminescent，簡稱EL)。因為OLED顯示器具有廣視角、反應時間快、高發光效率、低操作電壓、面板厚度薄、可製作大尺寸與可撓曲性面板、製程簡單等優勢，使其逐漸發展成為市場上主流顯示器之一。

OLED顯示器具有將有機材料層夾在陰、陽兩電極層間的三層結構。當外加電場於兩電極層時，電子和電洞從陰、陽兩極分別注入有機材料層並於結合時形成激子(exciton)，此過程係伴隨以光的形式釋放能量而發光。

然而，因為有機材料層與其相鄰兩側之層之間的折射率不匹配而容易造成波導效應。因此，有機材料層所產生之光，有部份會在有機材料層與其鄰側兩層的邊界內作全反射而無法出光，使得發光效率低落。

本發明係有關於一種顯示裝置，具有畫素定義單元的結構。藉由畫素定義單元之第一電極層的特殊結構，以反射發光層中因為光的波導效應而無法出光的全反射光線，再者，並可利用此一第一電極層的特殊結構，增加第一電極層及第二電極層的接觸面積，進而提升發光效率。

根據本發明之第一方面，提出一種顯示裝置，包括一第一基板、一第二基板與第一基板相對而設、複數個發光畫素單元及複數個畫素定義單元設於第一基板及第二基板之間。每一發光畫素單元及每一畫素定義單元係間隔設置。每一畫素定義單元包括圖案化畫素定義區段、第一電極層、發光層及第二電極層。圖案化畫素定義區段具有一第一側表面及相對第一側表面之一第二側表面。第一電極層包括一第一子電極及一第二子電極，第一子電極設於圖案化畫素定義區段之第一側表面上且第二子電極設於第二側表面上，第一子電極與第二子電極相隔一間距。發光層設於第一電極層上。第二電極層設於發光層上。

根據本發明之第二方面，提出一種顯示裝置的製造方法。包括以下步驟。提供一第一基板。形成複數個圖案化畫素定義區段於第一基板上。形成一第一電極層於第一基板上及圖案化畫素定義區段上，第一電極層包括第一子電極及第二子電極，第一及第二子電極相隔一間距。形成發光層於第一電極層上。形成第二電極層於發光層上。提供一第二基板，第二基板相對於第一基板設置。

為了對本發明之上述及其他方面有更佳的瞭解，下文特舉較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下：

請參考第1A～1H圖，其繪示依照本發明一實施例之顯示裝置1之製造流程圖。如第1A圖所示，提供一第一基板10，形成一畫素定義層102於第一基板10上。如第1B圖所示，圖案化畫素定義層102(繪示於第1B圖)，以形成圖案化畫素定義區段102’。於此實施例中，圖案化畫素定義區段102’為半圓柱體或半橢圓柱體，且圖案化畫素定義區段102’之剖面係圓弧形。

如第1C圖所示，形成一導電材料104於第一基板10及圖案化畫素定義區段102’上。如第1D圖所示，於圖案化畫素定義區段102’上圖案化導電材料104(繪示於第1C圖)，以形成第一電極層104’，第一電極層104’包括距離一間距w₁₁之第一子電極104a及第二子電極104b。圖案化畫素定義區段102’具有第一側表面S1及第二側表面S2，第一子電極104a係設於第一側表面S1上，第二子電極104b係設於第二側表面S2上。間距w₁₁係小於圖案化畫素定義區段102’之最大寬度w₁₂。

如第1E圖所示，形成一絕緣材料106以覆蓋位於間距W₁₁所露出的圖案化畫素定義區段102’及第一電極層104’。如第1F圖所示，圖案化絕緣材料106(繪示於第1F圖)以形成絕緣層106’。如第1G圖所示，形成發光層108於絕緣層106’上，並形成第二電極層110於發光層108上。如第1H圖所示，提供一第二基板16，第二基板16與第一基板10相對而設。

於此實施例中，顯示裝置1包括發光畫素單元12及畫素定義單元14。於此實施例中，顯示裝置1例如係有機發光二極體顯示裝置，發光畫素單元12例如為有機發光二極體畫素單元，畫素定義單元14例如為有機發光二極體畫素定義單元。畫素定義單元14包括圖案化畫素定義區段102’、第一電極層104’、絕緣層106’、發光層108及第二電極層110。第一電極層104’例如係一反射式電極層，第二電極層例如係一透明電極層。絕緣層106’覆蓋位於間距W₁₁所露出的圖案化畫素定義區段102’及部份之該第一電極層104’，係用以電性絕緣第一電極層104’及第二電極層110。值得注意的是，只要可以達到第一電極層104’及第二電極層110電性絕緣的效果即可，絕緣層106’的形狀並不作限制。此外，較佳地，絕緣層106’之高度h₁₁可以係大於或等於第一電極層104’之高度h₁₂。

於此實施例中，藉由第一電極層104’設置於圖案化畫素定義區段102’之相對側的表面上，可以改善發光層108與相鄰之電極層的折射率不匹配所造成光全反射的情況，進而將原本在發光層108中傳遞的光線L導出以提升發光效率。再者，當絕緣層106’覆蓋越少部份之第一電極層104’時，圖案化畫素定義區段102’上之第一電極層104’與發光層108的接觸面積則越大，因此，即可增加顯示裝置1的發光面積。

於此實施例中，第一基板10可以為玻璃基板或軟性基板，亦可為透明或不透明基板。第二基板16上可以包含有彩色濾光片，彩色濾光片例如是RGB或RGBW彩色濾光片。

第2A圖係繪示依照本發明另一實施例之顯示裝置2A的示意圖。如第2A圖所示，顯示裝置2A包括第一基板20、第二基板26、以及交錯排列地設置於第一基板20、第二基板26之間的發光畫素單元22與畫素定義單元24。第2A圖之畫素定義單元24與第1H圖之畫素定義單元14的結構及製造流程相似，包括圖案化畫素定義區段202、第一電極層204、絕緣層206、發光層208及第二電極層210，其中，第一電極層204包括第一子電極204a及第二子電極204b。第一子電極204a及第二子電極204b之最小距離係間距w₂₁，且間距w₂₁係小於圖案化畫素定義區段202之最大寬度w₂₂。

值得注意的是，於此實施例中絕緣層206之設置，僅需覆蓋位於間距W₂₁所露出的圖案化畫素定義區段202即可。此外，較佳地，絕緣層206之高度h₂₁係大於或等於第一電極層204之高度h₂₂。

藉由第一電極層204設置於圖案化畫素定義區段202之相對側的表面上，可以改善發光層208與相鄰之電極層的折射率不匹配所造成光全反射的情況，進而將原本在發光層208中傳遞的光線L導出以提升發光效率。再者，由於絕緣層206僅覆蓋位於間距w₂₁所露出的圖案化畫素定義區段202，則圖案化畫素定義區段202上之第一電極層204與發光層208尚有一接觸面積，因此，即可增加顯示裝置2A的發光面積。

於此實施例中，第一基板20可以為玻璃基板或軟性基板，亦可為透明或不透明基板。第二基板26上可以包含有彩色濾光片，彩色濾光片例如是RGB或RGBW彩色濾光片。

第2B圖係繪示依照本發明又一實施例之顯示裝置2B的示意圖。如第2B圖所示，顯示裝置2B包括第一基板20’、第二基板26’、以及交錯排列地設置於第一基板20’、第二基板26’之間的發光畫素單元22’與畫素定義單元24’。

第2B圖之畫素定義單元24’包括圖案化畫素定義區段202’、第一電極層204’、發光層208’及第二電極層210’。畫素定義單元24’與第1H圖之畫素定義單元14的結構及製造流程相似，差異僅在於於此實施例中省略絕緣層的設置，如此可以節省製造絕緣層的流程。

於此實施例中，第一基板20’可以為玻璃基板或軟性基板，亦可為透明或不透明基板。第二基板26’上可以包含有彩色濾光片，彩色濾光片例如是RGB或RGBW彩色濾光片。

第3圖係繪示依照本發明又一實施例之顯示裝置3的示意圖。如第3圖所示，顯示裝置3包括第一基板30、第二基板36、以及交錯排列地設置於第一基板30、第二基板36之間的發光畫素單元32與畫素定義單元34。第3圖之畫素定義單元34包括圖案化畫素定義區段302、第一電極層304、絕緣層306、發光層308及第二電極層310。畫素定義單元34與第1H圖之畫素定義單元14的結構及製造流程相似，於此僅說明其不同之處。

如第3圖所示，圖案化畫素定義區段302的剖面係為梯形並具有一底角θ₁。底角θ₁係介於1度至89度。較佳地，底角θ₁係介於30度至45度。第一電極層304包括第一子電極304a及第二子電極304b。第一子電極304a及第二子電極304b之最小距離係間距w₃₁。間距w₃₁小於圖案化畫素定義區段302的最大寬度w₃₂。絕緣層306係覆蓋位於間距w₃₁所露出的圖案化畫素定義區段302，以提供第一電極層304及第二電極層310之間較佳的電性絕緣，絕緣層306於間距w₃₁中具有一高度h₃₁。較佳地，絕緣層306之高度h₃₁係大於或等於第一電極層304之高度h₃₂。

藉由第一電極層304設置於圖案化畫素定義區段302之相對側的表面上，可以改善發光層308與相鄰之電極層的折射率不匹配所造成光全反射的情況，進而將原本在發光層308中傳遞的光線L導出以提升發光效率。再者，由於絕緣層306僅覆蓋位於間距w₃₁所露出的圖案化畫素定義區段302，則圖案化畫素定義區段302上之第一電極層304與發光層308尚有一接觸面積，因此，即可增加顯示裝置3的發光面積。

於此實施例中，第一基板30可以為玻璃基板或軟性基板，亦可為透明或不透明基板。第二基板36上可以包含有彩色濾光片，彩色濾光片例如是RGB或RGBW彩色濾光片。

第4圖係繪示依照本發明又一實施例之顯示裝置4的示意圖。如第4圖所示，顯示裝置4包括第一基板40、第二基板46、以及交錯排列地設置於第一基板40、第二基板46之間的發光畫素單元42與畫素定義單元44。

第4圖之畫素定義單元44包括圖案化畫素定義區段402、第一電極層404、絕緣層406、發光層408及第二電極層410。畫素定義單元44與第3圖之畫素定義單元34的結構及製造流程相似，差異僅在於於此實施例中絕緣層406除覆蓋位於間距w₄₁所露出的圖案化畫素定義區段402，更覆蓋到部份之第一電極層404，如此可以提高第一電極層404與第二電極層410之間的電性絕緣。

於此實施例中，第一電極層404包括第一子電極404a及第二子電極404b，第一子電極404a及第二子電極404b之最小距離係間距w₄₁，間距w₄₁小於圖案化畫素定義區段402的最大寬度w₄₂。絕緣層406於間距w₄₁中具有一高度h₄₁。較佳地，絕緣層406之高度h₄₁係大於或等於第一電極層404之高度h₄₂。圖案化畫素定義區段402的剖面係為梯形並具有一底角θ₂。底角θ₂的角度範圍係與第3圖之底角θ₁相同。

於此實施例中，藉由第一電極層404設置於圖案化畫素定義區段402之相對側的表面上，可以改善發光層408與相鄰之電極層的折射率不匹配所造成光全反射的情況，進而將原本在發光層408中傳遞的光線L導出以提升發光效率。再者，當絕緣層406覆蓋越少部份之第一電極層404時，圖案化畫素定義區段402上之第一電極層404與發光層408的接觸面積則越大，因此，即可增加顯示裝置4的發光面積。

於此實施例中，第一基板40可以為玻璃基板或軟性基板，亦可為透明或不透明基板。第二基板46上可以包含有彩色濾光片，彩色濾光片例如是RGB或RGBW彩色濾光片。

第5圖係繪示依照本發明又一實施例之顯示裝置5的示意圖。如第5圖所示，顯示裝置5包括第一基板50、第二基板56、以及交錯排列地設置於第一基板50、第二基板56之間的發光畫素單元52與畫素定義單元54。

第5圖之畫素定義單元54包括圖案化畫素定義區段502、第一電極層504、絕緣層506、發光層508及第二電極層510。畫素定義單元54與第3圖之畫素定義單元34的結構及製造流程相似，差異僅在於於此實施例中不需要絕緣層的設置，如此可以節省製造絕緣層的流程。

於此實施例中，圖案化畫素定義區段502的剖面係為梯形並具有一底角θ₃。底角θ₃的角度範圍係與第3圖之底角θ₁相同。第一電極層504包括第一子電極504a及第二子電極504b。第一子電極504a及第二子電極504b之最小距離係間距w₅₁。間距w₅₁小於圖案化畫素定義區段502的最大寬度w₅₂。

於此實施例中，第一基板50可以為玻璃基板或軟性基板，亦可為透明或不透明基板。第二基板56上可以包含有彩色濾光片，彩色濾光片例如是RGB或RGBW彩色濾光片。

第6圖係繪示依照本發明又一實施例之顯示裝置6的示意圖。如第6圖所示，顯示裝置6包括第一基板60、第二基板66、以及交錯排列地設置於第一基板60、第二基板66之間的發光畫素單元62與畫素定義單元64。第6圖之畫素定義單元64包括圖案化畫素定義區段602、第一電極層604、絕緣層606、發光層608及第二電極層610。畫素定義單元64與第1H圖之畫素定義單元14的結構及製造流程相似，於此僅說明其不同之處。

如第6圖所示，圖案化畫素定義區段602的剖面係為三角形並具有一底角θ₄。底角θ₄係介於1度至89度。較佳地，底角θ₄係介於30度至45度。第一電極層604包括第一子電極604a及第二子電極604b，第一子電極604a及第二子電極604b之最小距離係間距w₆₁，間距w₆₁小於圖案化畫素定義區段602的最大寬度w₆₂。絕緣層606係覆蓋位於間距w₆₁所露出的圖案化畫素定義區段602，以提供第一電極層604及第二電極層610之間較佳的電性絕緣。此外，較佳地，第一子電極604a或第二子電極604b位於圖案化畫素定義區段602側表面的垂直高度h₆₁係大於第一電極層604之高度h₆₂。

藉由第一電極層604設置於圖案化畫素定義區段602之相對側的表面上，可以改善發光層608與相鄰之電極層的折射率不匹配所造成光全反射的情況，進而將原本在發光層608中傳遞的光線L導出以提升發光效率。再者，由於絕緣層606僅覆蓋位於間距w₆₁所露出的圖案化畫素定義區段602，則圖案化畫素定義區段602上之第一電極層604與發光層608尚有一接觸面積，因此，即可增加顯示裝置6的發光面積。

於此實施例中，第一基板60可以為玻璃基板或軟性基板，亦可為透明或不透明基板。第二基板66上可以包含有彩色濾光片，彩色濾光片例如是RGB或RGBW彩色濾光片。

第7圖係繪示依照本發明又一實施例之顯示裝置7的示意圖。如第7圖所示，顯示裝置7包括第一基板70、第二基板76、以及交錯排列地設置於第一基板70、第二基板76之間的發光畫素單元72與畫素定義單元74。

第7圖之畫素定義單元74包括圖案化畫素定義區段702、第一電極層704、絕緣層706、發光層708及第二電極層710。畫素定義單元74與第6圖之畫素定義單元64的結構及製造流程相似，差異僅在於此實施例中絕緣層706除覆蓋位於間距w₇₁所露出的圖案化畫素定義區段702，更覆蓋到部份之第一電極層704，如此可以提高第一電極層704與第二電極層710之間的電性絕緣。

於此實施例中，三角形之圖案化畫素定義區段702具有一底角θ₅。底角θ₅的角度範圍係與第6圖之底角θ₄相同。第一電極層704包括第一子電極704a及第二子電極704b，第一子電極704a及第二子電極704b之最小距離係間距w₇₁，間距w₇₁小於圖案化畫素定義區段702的最大寬度w₇₂。此外，較佳地，第一子電極704a或第二子電極704b位於圖案化畫素定義區段702側表面的垂直高度h₇₁係大於第一電極層704之高度h₇₂。

於此實施例中，藉由第一電極層704設置於圖案化畫素定義區段702之相對側的表面上，可以改善發光層708與相鄰之電極層的折射率不匹配所造成光全反射的情況，進而將原本在發光層708中傳遞的光線L導出以提升發光效率。再者，當絕緣層706覆蓋越少部份之第一電極層704時，圖案化畫素定義區段702上之第一電極層704與發光層708的接觸面積則越大，因此，即可增加顯示裝置7的發光面積。

於此實施例中，第一基板70可以為玻璃基板或軟性基板，亦可為透明或不透明基板。第二基板76上可以包含有彩色濾光片，彩色濾光片例如是RGB或RGBW彩色濾光片。

第8圖係繪示依照本發明又一實施例之顯示裝置8的示意圖。如第8圖所示，顯示裝置8包括第一基板80、第二基板86、以及交錯排列地設置於第一基板80、第二基板86之間的發光畫素單元82與畫素定義單元84。

第8圖之畫素定義單元84包括圖案化畫素定義區段802、第一電極層804、發光層808及第二電極層810。畫素定義單元84與第6圖之畫素定義單元64的結構及製造流程相似，差異僅在於於此實施例中不需要絕緣層的設置，如此可以節省製造絕緣層的流程。

於此實施例中，三角形之圖案化畫素定義區段802具有一底角θ₆。底角θ₆的角度範圍係與第6圖之底角θ₄相同。第一電極層804包括第一子電極804a及第二子電極804b。第一子電極804a及第二子電極804b之最小距離係間距w₈₁，間距w₈₁小於圖案化畫素定義區段802的最大寬度W₈₂。此外，較佳地，第一子電極804a或第二子電極804b位於圖案化畫素定義區段802側表面的垂直高度h₈₁係大於第一電極層804之高度h₈₂。

於此實施例中，第一基板80可以為玻璃基板或軟性基板，亦可為透明或不透明基板。第二基板86上可以包含有彩色濾光片，彩色濾光片例如是RGB或RGBW彩色濾光片。

綜上所述，依照本發明上述實施例所製成之顯示裝置，係以簡單的製程，將畫素定義單元之第一電極層設置於圖案化畫素定義區段的相對側表面上，可以破壞發光層與其相鄰邊界層之折射率不匹配所造成的波導效應。將原本在發光層中因波導效應造成全反射而無法出光的全反射光線導出，進而提升約20%的發光效率。

綜上所述，雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾。因此，本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

1、2A～2B、3～8．．．顯示裝置

10、16、20、20’、26、30、36、40、46、50、56、60、66、70、76、80、86．．．基板

12、22、22’、32、42、52、62、72、82．．．發光畫素單元

14、24、24’、34、44、54、64、74、84．．．畫素定義單元

102．．．畫素定義層

102’、202、202’、302、402、502、602、702、802．．．圖案化畫素定義區段

104．．．導電材料

104’、110、204、210、204’、210’、304、310、404、410、504、510、604、610、704、710、804、810．．．電極層

104a、104b、204a、204b、204’a、204’b、304a、

304b、404a、404b、504a、504b、604a、604b、704a、704b、804a、804b．．．子電極

106、106’、206、306、406、606、706．．．絕緣層

108、208、208’、308、408、508、608、708、808．．．發光層

S1、S2．．．側表面

h₁₁、h₁₂、h₂₁、h₂₂、h₃₁、h₃₂、h₄₁、h₄₂、h₆₁、h₆₂、h₇₁、h₇₂、h₈₁、h₈₂．．．高度

w₁₁、w₁₂、w₂₁、w₂₂、w_21’、w_22’、w₃₁、w₃₂、w₄₁、w₄₂、w₅₁、w₅₂、w₆₁、w₆₂、w₇₁、w₇₂、w₈₁、w₈₂．．．寬度

θ₁、θ₂、θ₃、θ₄、θ₅、θ₆．．．角度

L．．．光線

第1A～1H圖繪示依照本發明一實施例之顯示裝置的製造流程剖面圖。

第2A圖繪示依照本發明一實施例的顯示裝置之示意圖。

第2B圖繪示依照本發明另一實施例的顯示裝置之示意圖。

第3圖繪示依照本發明又一實施例的顯示裝置之示意圖。

第4圖繪示依照本發明又一實施例的顯示裝置之示意圖。

第5圖繪示依照本發明又一實施例的顯示裝置之示意圖。

第6圖繪示依照本發明又一實施例的顯示裝置之示意圖。

第7圖繪示依照本發明又一實施例的顯示裝置之示意圖。

第8圖繪示依照本發明又一實施例的顯示裝置之示意圖。

1．．．顯示裝置

10、16．．．基板

12．．．發光畫素單元

14．．．畫素定義單元

102’．．．圖案化畫素定義區段

104’、110．．．電極層

106’．．．絕緣層

108．．．發光層

h₁₁、h₁₂．．．高度

w₁₁、w₁₂．．．寬度

L．．．光線

Claims

一種顯示裝置，包括：複數個畫素定義單元，每該畫素定義單元包括：一圖案化畫素定義區段，具有一第一側表面及相對該第一側表面之一第二側表面；一第一電極層，包括一第一子電極及一第二子電極，該第一子電極設於該第一側表面上且該第二子電極設於該第二側表面上，且該第一子電極與該第二子電極相隔一間距；一發光層，設於該第一電極層上；及一第二電極層，設於該發光層上。
如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中該第一電極層係一反射式電極層。
如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中該間距係小於該圖案化畫素定義區段之剖面的最大寬度。
如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，更包括一絕緣層，設置於該圖案化畫素定義區段及該發光層之間。
如申請專利範圍第4項所述之顯示裝置，其中該絕緣層係覆蓋位於該間距所露出的圖案化畫素定義區段，且該絕緣層之厚度係大於該第一電極層之厚度。
如申請專利範圍第4項所述之顯示裝置，其中該絕緣層係覆蓋位於該間距所露出的圖案化畫素定義區段及部份之該第一電極層。
如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中該圖案化畫素定義區段係半圓柱體或半橢圓柱體，該第一側表面及該第二側表面係柱狀曲面。
如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中該圖案化畫素定義區段之剖面係一梯形，該梯形具有一底角，該底角係30度至45度。
如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，其中該圖案化畫素定義區段之剖面係一三角形，該三角形具有一另一底角，該另一底角係30度至45度。
如申請專利範圍第1項所述之顯示裝置，更包括：一第一基板；一第二基板，與該第一基板相對而設；以及複數個發光畫素單元，設於該第一基板及該第二基板之間，其中，該等畫素定義單元，亦設於該第一基板及該第二基板之間，每該發光畫素單元及每該畫素定義單元係間隔設置。
如申請專利範圍第10項所述之顯示裝置，更包括一彩色濾光片，設置於該第二基板上。
如申請專利範圍第10項所述之顯示裝置，其中該等發光畫素單元為有機發光二極體畫素單元，該等畫素定義單元為有機發光二極體畫素定義單元。
一種顯示裝置的製造方法，包括：提供一第一基板；形成複數個圖案化畫素定義區段於該第一基板上；形成一第一電極層於該第一基板上及該圖案化畫素定義區段上，該第一電極層包括一第一子電極及一第二子電極，且該第一子電極與該第二子電極相隔一間距；形成一發光層於該第一電極層上；形成一第二電極層於該發光層上；以及提供一第二基板，第二基板相對於第一基板設置。
如申請專利範圍第13項所述之顯示裝置的製造方法，於形成該發光層之步驟之前，更包括：形成一絕緣層以覆蓋位於該間距所露出的圖案化畫素定義區段，且該絕緣層之厚度係大於該第一電極層之厚度。
如申請專利範圍第13項所述之顯示裝置的製造方法，於形成該發光層之步驟之前，更包括：形成一絕緣層以覆蓋位於該間距所露出的圖案化畫素定義區段及部份之該第一電極層。
如申請專利範圍第13項所述之顯示裝置的製造方法，其中形成該等圖案化畫素定義區段之步驟包括：形成一畫素定義層於該第一基板上；以及圖案化該畫素定義層，以形成該等圖案化畫素定義區段，且每該圖案化畫素定義區段之剖面係一圓弧形、一梯形及一三角形其中之一。
如申請專利範圍第13項所述之顯示裝置的製造方法，其中每該圖案化畫素定義區段具有一第一側表面及與相對該第一側表面之一第二側表面，該第一電極層的形成步驟包括：形成一導電材料於該第一基板及該等圖案化畫素定義區段之上；以及於每該圖案化畫素定義區段之上圖案化該導電材料，以形成距離該間距之該第一子電極及該第二子電極，該第一子電極係設於該第一側表面上且該第二子電極係設於該第二側表面上。