TW201318719A - 使用超音波震盪液體以清潔基板之方法 - Google Patents

Abstract

本發明係為一種使用超音波震盪液體以清潔基板之方法，其包括下列步驟：提供一待清潔基板；進行殘膠清除；以及進行油污清除。藉由超音波震盪溶劑以將待清潔基板上之殘膠清除，再以界面活性劑將待清潔基板上之油汙清除。藉由本發明之實施，可以達到將在基板上於製造過程中所產生的殘膠及油汙除去之功效。

Description

使用超音波震盪液體以清潔基板之方法

本發明係為一種使用超音波震盪液體以清潔基板之方法，特別是一種用於清潔面板之方法。

在製作面板的過程中，常常會有些瑕疵，如髒汙、刮傷及氣泡。這些瑕疵會影響光阻塗佈的均勻性，導致所製造出來的線路圖案缺陷，因此通常會利用自動光學檢測儀器來偵測出這些瑕疵。而為了避免在製程中產生的殘膠或油脂擾亂檢測的結果，通常會在檢測前進行清除步驟。

習知之清除步驟，經常利用清潔劑對面板製程中產生之殘膠或油汙加以清除，如中華民國專利公開案第200800423號揭露了一種面板清洗機器及其方法，方法為藉由使用連續皮帶之表面平板來輸送一面板，並由一清洗噴嘴噴灑清洗液，且藉由一清洗噴嘴洗淨位於面板表面之異物。清洗噴嘴及排放路徑設置於輸送面板位置之後端部分，用以清洗並移除由面板表面移除後而累積於皮帶內表面上之異物。因此，累積於用於輸送面板之皮帶內表面上之異物可獲得洗淨並移除，且排放至清洗機器之外部。

在習知之方法中揭露之面板清洗機器方法，此種方法僅使用一道清洗程序。為了能在自動光學檢測前更有效且穩定地清除面板上之殘膠及油汙，並減少因為清除過程而造成的面板損傷，此為一重要之課題。

本發明係為一種使用超音波震盪液體以清潔基板之方法，其包括下列步驟：提供一待清潔基板；進行殘膠清除；以及進行油污清除。本發明主要是要達到快速有效地清除在基板上於製造過程中所產生的殘膠及油汙。

本發明係提供一種使用超音波震盪液體以清潔基板之方法，其包括下列步驟：提供一待清潔基板；進行殘膠清除，其係將待清潔基板浸泡於裝填有溶劑之一溶劑超音波槽中，藉由超音波震盪溶劑，以使溶劑清除待清潔基板上之殘膠；以及進行油污清除，其係將待清潔基板浸泡於裝填有界面活性劑之一界面活性劑超音波槽中，藉由超音波震盪界面活性劑，以使界面活性劑清除待清潔基板上之油污。

藉由本發明的實施，至少可達到下列進步功效：

一、達到較佳且快速的殘膠去除效果。

二、達到較佳且快速的油汙去除效果。

三、可以大幅避免基板之損傷。

為了使任何熟習相關技藝者了解本發明之技術內容並據以實施，且根據本說明書所揭露之內容、申請專利範圍及圖式，任何熟習相關技藝者可輕易地理解本發明相關之目的及優點，因此將在實施方式中詳細敘述本發明之詳細特徵以及優點。

第1圖為本發明實施例之一種使用超音波震盪液體以清潔基板之方法流程圖。第2圖為本發明實施例之一種進行殘膠清除之示意圖。第3圖為本發明實施例之一種進行油汙去除之示意圖。第4圖為本發明實施例之一種清洗步驟之示意圖。第5圖為本發明實施例之一種烘乾步驟之示意圖。

如第1圖所示，本實施例為一種使用超音波震盪液體以清潔基板之方法S100，其包括下列步驟：提供一待清潔基板(步驟S10)；進行殘膠清除(步驟S20)；以及進行油污清除(步驟S30)。

如第2圖所示，提供一待清潔基板(步驟S10)，待清潔基板10可以為一待清潔面板，也可以為一待清潔PCB基板…等。

進行殘膠清除(步驟S20)，其係將待清潔基板10垂直浸泡於裝填有溶劑之一溶劑超音波槽20中。本實施例所使用的溶劑可以例如醇類烷基碳氫化合物，清除作業進行時，溶劑本身與待清潔基板10表面之化學作用即具有清除殘膠之功能，而又藉由超音波震盪溶劑產生之物理作用，更可加速清除待清潔基板10上殘膠之效果。

如第3圖所示，進行油污清除(步驟S30)，其係將經進行殘膠清除(步驟S20)後之待清潔基板10接著垂直浸泡於裝填有界面活性劑之一界面活性劑超音波槽30中，藉由超音波震盪界面活性劑，以使界面活性劑清除待清潔基板10上之油污。而在界面活性劑超音波槽30內裝填之界面活性劑可以為中性活性劑與水混合之溶液，其中中性活性劑與水的比例可以為20:80。

如第4圖所示，本實施例之使用超音波震盪液體以清潔基板之方法S100，可以接著進一步包含至少一洗淨步驟(步驟S40)，藉此可將已經進行殘膠清除(步驟S20)及進行油污清除(步驟S30)後之待清潔基板10上之殘餘溶劑及界面活性劑進行洗淨。洗淨步驟(步驟S40)係將待清潔基板10垂直浸泡於裝填有純水之一水超音波槽40中，藉由超音波震盪純水，以清潔待清潔基板10。

如第5圖所示，本實施例之使用超音波震盪液體以清潔基板之方法S100，又可以進一步包括至少一個烘乾步驟(步驟S50)，藉此可將完成洗淨步驟(步驟S40)之待清潔基板10烘乾，以利進行其他後續例如自動光學檢測之處理程序得以順利的繼續進行。烘乾步驟(步驟S50)係將待清潔基板10置放於一熱烘乾槽50中，又藉由一風刀機51產生熱空氣切除水珠以烘乾待清潔基板10。

惟上述各實施例係用以說明本發明之特點，其目的在使熟習該技術者能瞭解本發明之內容並據以實施，而非限定本發明之專利範圍，故凡其他未脫離本發明所揭示之精神而完成之等效修飾或修改，仍應包含在以下所述之申請專利範圍中。

10．．．待清潔基板

20．．．溶劑超音波槽

30．．．界面活性劑超音波槽

40．．．水超音波槽

50．．．熱烘乾槽

51．．．風刀機

第1圖為本發明實施例之一種使用超音波震盪液體以清潔基板之方法流程圖。

第2圖為本發明實施例之一種進行殘膠清除之示意圖。

第3圖為本發明實施例之一種進行油汙去除之示意圖。

第4圖為本發明實施例之一種清洗步驟之示意圖。

第5圖為本發明實施例之一種烘乾步驟之示意圖。

S100．．．使用超音波震盪液體以清潔基板之方法

S10．．．提供一待清潔基板

S20．．．進行殘膠清除

S30．．．進行油污清除

S40．．．清洗步驟

S50．．．烘乾步驟

Claims (4)

1. 一種使用超音波震盪液體以清潔基板之方法，其包括下列步驟：提供一待清潔基板；進行殘膠清除，其係將該待清潔基板浸泡於裝填有溶劑之一溶劑超音波槽中，藉由超音波震盪該溶劑，以使該溶劑清除該待清潔基板上之殘膠；以及進行油污清除，其係將該待清潔基板浸泡於裝填有界面活性劑之一界面活性劑超音波槽中，藉由超音波震盪該界面活性劑，以使該界面活性劑清除該待清潔基板上之油污。
2. 如申請專利範圍第1項所述之超音波清潔方法，其進一步包括至少一洗淨步驟，其係將該待清潔基板浸泡於裝填有純水之一水超音波槽中，藉由超音波震盪該純水，以清潔該待清潔基板。
3. 如申請專利範圍第2項所述之超音波清潔方法，其進一步包括至少一個烘乾步驟，其係將該待清潔基板置放於一熱烘乾槽中，又藉由一風刀機產生熱空氣以烘乾該待清潔基板。
4. 如申請專利範圍第1項至第3項其中之一項所述之超音波清潔方法，其中該待清潔基板為一待清潔面板。