CN102489469A - 使用超声波震荡液体以清洁基板的方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种使用超声波震荡液体以清洁基板的方法，其包括下列步骤：提供一待清洁基板；进行残胶清除；以及进行油污清除。使用超声波震荡液体将待清洁基板上的残胶清除，再以界面活性剂将待清洁基板上的油污清除。采用本发明的技术方案，可以达到将基板上在制造过程中所产生的残胶与油污去除的目的。

Description

使用超声波震荡液体以清洁基板的方法

技术领域

本发明是一种使用超声波震荡液体以清洁基板的方法，特别是一种用于清洁面板的方法。

背景技术

在面板制作的过程中，常常会有些瑕疵，例如污渍、刮伤以及气泡。这些瑕疵会影响光阻涂布的均匀性，导致所制造出来的线路图案缺陷，因此通常会利用自动光学检测仪器来检测出这些瑕疵。而为了避免在制作过程中产生的残胶或油脂扰乱检测的结果，通常会在检测前进行清除步骤。

公知的清除步骤，经常利用清洁剂对面板制造过程中产生的残胶或油污加以清除，如台湾专利公开案第200800423号公开了一种面板清洗机器及其方法，方法是使用连续皮带的表面平板来输送一面板，并由一清洗喷嘴喷洒清洗液，且使用一清洗喷嘴清洗位于面板表面的异物。清洗喷嘴及排放路径设置于输送面板位置的后端部分，用以清洗并移除由面板表面移除后而累积在皮带内表面上的异物。因此，累积在用于输送面板的皮带内表面上的异物会被清洗并移除，且排放到清洗机器的外部。

在公知的方法中公开的面板清洗机器方法，此种方法仅使用一道清洗程序。为了能在自动光学检测前更有效且稳定地清除面板上的残胶及油污，并减少因为清除过程而造成的面板损伤，这是一个重要的课题。

发明内容

本发明是一种使用超声波震荡液体以清洁基板的方法，其包括下列步骤：提供一待清洁基板；进行残胶清除；以及进行油污清除。本发明主要是要达到快速有效地清除基板上在制造过程中所产生的残胶及油污。

本发明提供了一种使用超声波震荡液体以清洁基板的方法，其包括下列步骤：提供一待清洁基板；进行残胶清除，其将待清洁基板浸泡在装有溶剂的一溶剂超声波槽中，使用超声波震荡溶剂，以使溶剂清除待清洁基板上的残胶；以及进行油污清除，其将待清洁基板浸泡在装有界面活性剂的一界面活性剂超声波槽中，使用超声波震荡界面活性剂，以使界面活性剂清除待清洁基板上的油污。

采用本发明的技术方案，至少可达到下列有益效果：

一、达到较佳且快速的残胶去除效果。

二、达到较佳且快速的油污去除效果。

三、可以大幅避免基板的损伤。

为了使本领域内的普通技术人员了解本发明的技术内容并予以实施，且根据本说明书所公开的内容、权利要求及说明书附图，任何本领域内的普通技术人员可轻易地理解本发明相关的目的及优点，因此将在实施方式中详细叙述本发明的详细特征以及优点。

说明书附图

图1为本发明实施例的一种使用超声波震荡液体以清洁基板的方法流程图。

图2为本发明实施例的一种进行残胶清除的示意图。

图3为本发明实施例的一种进行油污去除的示意图。

图4为本发明实施例的一种洗净步骤的示意图。

图5为本发明实施例的一种烘干步骤的示意图。

附图标记说明：

10：待清洁基板；

20：溶剂超声波槽；

30：界面活性剂超声波槽；

40：水超声波槽；

50：热烘干槽；

51：风刀机。

具体实施方式

图1为本发明实施例的一种使用超声波震荡液体以清洁基板的方法流程图。图2为本发明实施例的一种进行残胶清除的示意图。图3为本发明实施例的一种进行油污去除的示意图。图4为本发明实施例的一种洗净步骤的示意图。图5为本发明实施例的一种烘干步骤的示意图。

如图1所示，本实施例为一种使用超声波震荡液体以清洁基板的方法S100，其包括下列步骤：提供一待清洁基板(步骤S10)；进行残胶清除(步骤S20)；以及进行油污清除(步骤S30)。

如第2图所示，提供一待清洁基板(步骤S10)，待清洁基板10可以为一待清洁面板，也可以为一待清洁PCB基板等。

进行残胶清除(步骤S20)，其将待清洁基板10垂直浸泡在装有溶剂的一溶剂超声波槽20中。本实施例所使用的溶剂可以为例如醇类烷基碳氢化合物，清除作业进行时，溶剂本身与待清洁基板10表面的化学作用即具有清除残胶的功能，而又凭借超声波震荡溶剂产生的物理作用，更可加速清除待清洁基板10上的残胶。

如图3所示，进行油污清除(步骤S30)，其将经过残胶清除(步骤S20)后的待清洁基板10接着垂直浸泡在装有界面活性剂的一界面活性剂超声波槽30中，使用超声波震荡界面活性剂，以使界面活性剂清除待清洁基板10上的油污。而在界面活性剂超声波槽30内装填的界面活性剂可以为中性活性剂与水混合的溶液，其中中性活性剂与水的比例可以为20∶80。

如图4所示，本实施例的使用超声波震荡液体以清洁基板的方法S100，可以接着进一步包含至少一洗净步骤(步骤S40)，由此可将已经进行残胶清除(步骤S20)及进行油污清除(步骤S30)后的待清洁基板10上的残余溶剂及界面活性剂进行洗净。洗净步骤(步骤S40)是将待清洁基板10垂直浸泡在装填有纯水的一水超声波槽40中，使用超声波震荡纯水，用以清洁待清洁基板10。

如图5所示，本实施例的使用超声波震荡液体以清洁基板的方法S100，又可以进一步包括至少一个烘干步骤(步骤S50)，由此可将完成洗净步骤(步骤S40)的待清洁基板10烘干，有利于其它后续例如自动光学检测的处理程序能够顺利的继续进行。烘干步骤(步骤S50)是将待清洁基板10放置在一热烘干槽50中，又使用一风刀机51产生热空气去除水珠以烘干待清洁基板10。

上述各实施例是用以说明本发明的特点，其目的在于使本领域内的普通技术人员能了解本发明的内容并予以实施，而非限定本发明的专利范围，因此凡其它未脱离本发明所公开的内容而完成的等效修饰或修改，仍应包含在以下所述的专利保护范围中。

Claims (4)

1.一种使用超声波震荡液体以清洁基板的方法，其包括下列步骤：

提供一待清洁基板；

进行残胶清除，其是将所述待清洁基板浸泡在装填有溶剂的一溶剂超声波槽中，使用超声波震荡所述溶剂，以使所述溶剂清除所述待清洁基板上的残胶；以及

进行油污清除，其是将所述待清洁基板浸泡在装填有界面活性剂的一界面活性剂超声波槽中，使用超声波震荡所述界面活性剂，以使所述界面活性剂清除所述待清洁基板上的油污。

2.如权利要求1所述的超声波清洁方法，其还包括至少一洗净步骤，其是将所述待清洁基板浸泡在装填有纯水的一水超声波槽中，使用超声波震荡纯水，以清洁所述待清洁基板。

3.如权利要求2所述的超声波清洁方法，其还包括至少一个烘干步骤，其是将所述待清洁基板放置于一热烘干槽中，又以一风刀机产生热空气以烘干所述待清洁基板。

4.如权利要求1至3其中的一项所述的超声波清洁方法，其中所述待清洁基板为一待清洁面板。

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