TW201312158A - 具有可撓性聯軸器之投射系統 - Google Patents

Abstract

本發明有關於一種投射系統，係用以發射一或多個光束於一目標物上，此系統包括：一框架；一投射模組，包括用以提供光束之光束源，以及用以投射光束於目標物上之投射光學儀器；一目標物定位模組，包括用以承載目標物之一承載座，以及用以承載與定位承載座之一平台；一量測系統，用以決定投射模組相對於承載座之一位置；以及一控制器，係適合於控制目標物定位模組，以定位基於已決定位置之投射模組下之目標物。其中，框架與投射模組經由一可撓性聯軸器作連接，用以抑制從框架至投射模組的振動傳播，且其中控制器係適合於控制目標物定位模組，以補償由量測系統量測到的殘留振動。

Description

具有可撓性聯軸器之投射系統

本發明係關於一種用以投射一或多條光束於一目標物上之投射系統，其中此系統係適用以減少在此系統之一投射模組相對於此目標之一位置上的殘留振動之影響，此系統係使用在許多應用上，如微影技術或顯微技術上，其中一或多條光束必須具有高準確度地投射於一目標物上，如，於奈米級準確度內。

歐洲專利公開號EP1577929描述一種電子束曝光裝置，其包括用於以一電子束照射一樣品之一柱、一具有一真空幫浦之樣品室、設置於此樣品室內以支撐與移動此樣品之一平台、以及用以彈性地支撐相對於此樣品室之此柱的一配置。藉由量測於此樣品室之一上半部與此柱之間的一相對距離以及量測此柱的加速度，然後回授控制此上半部與此柱之間提供的一驅動器，以防止從上半部產生振動干擾的高頻率元件會傳遞至此柱。

此已知曝光裝置具有一複雜結構，例如包括位於此樣品室之上半部與此柱之間的一驅動器，可用以防止高頻率振動從此樣品室傳遞至此柱。並且，由於此配置之彈性，此柱於一第一方向上相對於此框架之距離將導致此配置中一彈性位能之累積，之後將反過來提供一恢復力，使此柱可在與該第一方向相反之一方向上相對於此樣品室移動。

美國專利公開號US 2004/0041101描述一種曝光裝置，其包括用於一目標物之一平台、用以移動此平台之一電磁驅動器、用以偏向電子束之一偏向器、用以量測此平台之位置的一雷射干涉儀，以及一控制器。此控制器基於經由雷射干涉儀得到的量測結果來控制此電磁驅動器，其中，該量測數值係提供至偏向器。在某種程度上，殘留振動之影響可由改變此偏向器對於此電子束提供的偏向量來補償。然而，經由改變此電子束之偏向，與此電子束撞擊此目標物表面的入射角因為是此光束於此目標物上的投射而改變。

此外，此習知裝置需要在此曝光裝置不同的子系統之間進行溝通與控制交換，在其中明顯地複雜化此設計與發展，因此提高了這樣的一個裝置的成本。此習知裝置需要在一目標物定位控制器、一平台系統、一測量系統以及一光束投射系統之間進行溝通與控制分配，高度複雜化此光束投射系統以及此裝置設計。

本發明之目的在於提供一種投射系統，其中在光束之投射於一目標物上的殘留振動之影響係實質上減輕，其中較佳為，鑑於由上所述之目標物定位功能性，此投射系統具有較低複雜度。

根據一第一態樣，本發明提供一種投射系統，係用以發射一或多條光束於一目標物上，此投射系統包括：一框 架；一投射模組，包括用以提供一或多條光束之一光束源，以及用以投射此一或多條光束於此目標物上之投射光學儀器。此投射系統更包括一目標物定位模組，其包括用以承載此目標物之一承載座，以及用以承載與定位此承載座之一平台；此投射系統更包括一量測系統，用以決定此投射模組相對於此承載座之一位置，以及一控制器，係適合於控制此目標物定位模組，以定位基於此已決定位置之此投射模組下之此目標物，其中，此框架與此投射模組經由一可撓性聯軸器作連接，用以抑制或防止從此框架至此投射模組的振動傳播，且其中此控制器係適合於控制此目標物定位模組，以補償由此量測系統量測到的殘留振動，其中，此可撓性聯軸器實質上沿著一水平平面為鬆弛的，用以允許此投射模組相對於此目標物定位模組實質上沿著該水平平面之移動。殘留振動通常從地板上的投射系統傳播至此投射系統，並且舉例來說，可能由一鄰近的人在地板上走動所造成。有利地，根據本發明於此投射系統中，此目標物定位模組係適合於移動此承載座以補償量測到的殘留振動，即使此框架之可撓性聯軸器至此投射模組實質上沒有傳播從此框架至此投射模組的至少一部份振動。在此投射模組相對於此承載座與此目標物之定位上的精確度從而改善。藉由一可撓性聯軸器係指允許此投射模組相對於此框架的移動之聯軸器，較佳地，此聯軸器實質上為非彈性，且至少於此水平面上，舉例來說，使得有一恢復力，即，恢復此投射模組至一中立位置之一力，在投射模組上由於重力實質上大 於由此可撓性聯軸器之彈性的恢復力。此聯軸器較佳為沿著至少二個水平面係可撓或鬆弛的。在一實施例中，此可撓性聯軸器因此也可被理解作一可撓性或鬆弛聯軸器，尤其是，其中此聯軸器實質上沿著此水平面為鬆弛的。

在一實施例中，此投射模組實質上可完全地配置於此可撓性聯軸器之下，舉例來說，於此可撓性聯軸器沿重力拉此聯軸器朝著地面的方向下。即使此投射模組從而可能於此水平面中移動相對較大的距離，如此移動將相對緩慢且因此更容易由此量測系統、此控制器以及此目標物定位模組形成的回授控制迴路作補償。

在一實施例中，此可撓性聯軸器以一懸掛方式從此框架懸掛，較佳地，使得此光學模組從此框架不被限制地懸掛著。當此可撓性聯軸器從而完全地設置於此框架之一側上，舉例來說，此框架之一內側，此框架可以為一簡單結構，例如，不需要用以從此框架之一側到另一側作可撓性連接及/或投射模組的孔洞。

在一實施例中，此可撓性聯軸器包括一可撓部，此可撓部係設置於此框架內。較佳為，此可撓部完全地設置於此框架內。此可撓性聯軸器可實質上包括剛性部以及可撓部及/或鬆弛部。此可撓部及/或鬆弛部允許此投射模組相對於此目標物定位模組沿著此實質上水平面之移動。

在一實施例中，此投射模組包括一實質上剛性框架，此框架與此可撓性聯軸器係連接。由於此投射模組之彈性 或可撓性變形使得光束投射在目標物上之在精確度上的影響從而減輕。

在一實施例中，此投射模組有一質心，實質上，相較於此框架，此質心位於更接近此目標物。此質心係越接近此目標物，此投射模組於此水平面中的移動將越緩慢，並允許藉由此控制器與此目標物定位模組而較佳地補償此形成此殘留振動的移動。

在一實施例中，此可撓性聯軸器沿著此可撓性聯軸器之中心線有一第一預定長度，其中此投射模組實質上沿著平行於此可撓性聯軸器的此投射模組之中心線有一第二預定長度，其中，實質上此第二預定長度小於此第一預定長度，較佳地，至少小於4倍。

在一實施例中，此投射模組更包括一真空室，該真空室包蓋此框架、此投射裝置、此可撓性聯軸器、以及此目標物定位系統。此真空室較佳為與此框架隔開，舉例來說，藉由阻尼器，以降低從此真空腔體至此框架之殘留振動。

在一實施例中，此可撓性聯軸器係或包括一鬆弛聯軸器(例如，一實質上具有低剛性的聯軸器)。如此一鬆弛聯軸器係藉由提供沿著此水平面之一實質上低剛性有至少鬆弛部分，在其中允許此投射模組相對於此目標物定位模組之沿著此水平面的移動。然而，此鬆弛聯軸器也可實質上全部為鬆弛，例如，一纜線或一繩索。藉由具有一低剛性，此鬆弛聯軸器傳播僅有變形，例如，由振動導致，於一預 定閥值下，舉例來說小於10赫茲或5赫茲。這樣的方式下，藉由此鬆弛聯軸器有效地抑制一較高頻率的變形。

在一實施例下，此可撓性聯軸器實質上為非彈性，即，任何此投射模組上由此聯軸器之彈性導致此投射模組相對於此目標物投射模組於此水平面中之移動的力係實質上小於一由於重力拉著此聯軸器與依附的投射模組所導致如此移動的力。

在一實施例下，此可撓性聯軸器實質上沿垂直於該水平面之一方向為剛體。此聯軸器從而實質上減輕或完全避免沿著一Z軸之壓縮或伸長。

在一實施例下，此可撓性聯軸器係適合於抑制高頻率振動，且其中此控制器係適合以補償殘留低頻率振動。此目標物定位從而僅必須校正於此目標物承載座與此投射模組之間的相對位置中相對地緩慢發生的誤差，使得此目標物定位系統可在以低速度移動此目標物承載座以補償該些誤差。

在一實施例下，此可撓性聯軸器係適合於抑制具有一頻率之振動，此頻率實質上等於或高於5赫茲，較佳為實質上等於或高於3.5赫茲，更佳為實質上等於或高於1赫茲。

在一實施例下，此承載座係實質上脫離從此框架至此投射模組的振動。此框架至此投射模組之振動傳播從而實質上減輕或甚至完全避免。

在一實施例下，此目標物定位模組包括用以承載與定位此承載座之勞倫茲馬達(Lorentz motors)。較佳為，此承載座 實質上經由勞倫茲馬達所支持，更提供此框架至此承載座之振動的隔離。

在一實施例下，此目標物定位模組係適合於提供此目標物相對於此框架六個自由度之移動以補償殘餘振動。於此投射模組與此目標物承載座的相對位置或旋轉下的微小變化從而可被補償。尤其是，於此投射模組之投射光學儀器與此目標物之間的距離上的變化從而更方便被補償。

在一實施例下，此投射系統更包括用以抑制從此框架至此投射模組的振動以及從此投射模組至此框架之振動的阻尼器。此阻尼器提供對從此框架至此投射模組的振動之額外抑制，尤其是沿著此可撓性聯軸器之縱向的高頻率振動。

在一實施例下，此阻尼器包括一或多個片彈簧，較佳地，係實質上於與此承載座之一承載表面正交的一平面內設置為彎曲。

在一實施例下，此可撓性聯軸器包括一懸吊器。此投射模組從而藉由此懸吊器從此框架上懸掛著，並且相對於此框架，於平行於此目標物承載座之一目標物支持平面之一平面為可移動的。較佳地，此懸吊器包括一或多個懸吊桿，其中沿著該些懸吊桿之縱向為剛體。於此投射模組之投射光學儀器與此承載座之間的距離上的變化從而減輕。為了提供此一或多個懸吊桿於與該些懸吊桿之縱向正交的一平面中為可撓，此一或多個懸吊桿較佳為提供薄弱部分，且較佳為設於接近桿的端點。

在一較佳實施例下，此懸吊器包括三個實質上平行的懸吊桿，其中，實質上限制此投射模組相對於此目標物承載座之定向，即，此投射模組可相對於框架被調動，但實質上不能相對於框調作旋轉。較佳為此懸吊桿係非共平面地排列。

在一實施例下，此一或多個懸吊桿的每個係以單一元件方式形成，較佳為以一金屬製成，如鋁，因此不需要任何潤滑來促進此投射模組相對於此框架之移動。此一或多個懸吊桿可提供薄弱部分，較佳地，一薄弱部分接近此桿之每一末稍部之端點，用以促進該些點周圍的此桿之可撓性。

在一實施例下，此懸吊器係具有一徑向振盪頻率之一擺錘懸吊器，其中，此擺錘懸吊器係適合於抑制從此框架至此投射模組之具有頻率高於此徑向振盪頻率之振動傳播。一擺錘懸吊器的徑向振盪頻率實質上為恆定，使其可高度預測於此投射模組相對於此框架之移動。當投射模組之質量通常為已知時，在此徑向振盪頻率小於一預定數值下可計算出對於此懸吊器之一最小長度，例如，小於10赫茲或5赫茲。此懸吊器之長度較長，則此徑向振盪頻率將會較低的，雖然此懸吊器之最大長度可被限制，例如，藉由此懸吊器設置於此框架及/或此真空室的尺寸大小。

在一實施例下，此徑向振盪頻率實質上等於或小於5赫茲，較佳為實質上等於或小於3.5赫茲，更佳為實質上等於1赫茲。

在一實施例下，用以量測此殘留振動之此量測系統被包括於或固定連接於此投射模組。從而量測此投射模組相對於此承載座之實際位置。

在一實施例下，此量測系統包括用以至少量測殘留振動之一或多個干涉儀。較佳地，此量測系統量測殘留振動作此投射模組相對於此承載座沿著一卡氏(Cartesian)座標的正交軸上之位移。

在一實施例下，當此投射模組相對於此框架進行移動時，係適合於投射該一或多個光束於此目標物上。當一目標物於光束投射在此目標物上過程中相對於此投射模組之投射光學儀器係進行移動時，實質上不斷地提供此目標物相對於此投射模組之此投射光學儀器之高度精確的定位是特別重要的。

在一實施例下，此投射模組包括用以投射此一或多個光束於此目標物上之一多光束無光罩投射模組，較佳為在此目標物相對於該框架之移動的時候。

在一實施例下，此可撓性聯軸器係適合於保持一實質上恆定長度。從此目標物至此投射光學儀器之距離，至少在一Z方向上，從而維持實質上可預測的恆定及/或甚至實質上完全恆定。

根據一第二態樣，本發明提供一種投射系統，係用以發射一或多條光束於一目標物上，此投射系統包括：一框架； 一投射模組，包括用以提供一或多條光束之一光束源，以及用以投射此一或多條光束於此目標物上之投射光學儀器；一目標物定位模組，其包括用以承載此目標物之一承載座，以及用以承載與定位此承載座之一平台；一量測系統，用以決定此投射模組相對於此承載座之一位置；以及一控制器，係適合於控制此目標物定位模組，以定位基於此已決定位置之此投射模組下之此目標物。

其中，此框架與此投射模組經由一可撓性(鬆弛)聯軸器作連接，用以抑制或防止從此框架至此投射模組的振動傳播，且其中此控制器係適合於控制此目標物定位模組，以補償由此量測系統量測到的殘留振動。

根據一第三態樣，本發明提供一種包括如前述申請專利範圍其中一項所述之投射系統之微影系統。有利地，根據本發明於一微影系統中，此投射光學儀器可設於非常接近此目標物，即，於其中微米距離範圍內，用以聚焦此一或多光束至此目標物上。較佳地，此微影系統為一無光罩微影系統，其包括：光束源，用以產生此一或多光束；一調變器陣列，用以個別地調變此一或多光束；以及一聚焦陣列，用以個別地聚焦此一或多光束至此目標物上。

在一實施例下，此一或多條光束係用以圖案化此目標物之寫入光束，較佳地，其中此光束源係一荷電粒子射束源。

本說明書所顯示與描述的不同態樣與特徵能個別地被應用在任何可能的情況下。這些個別的態樣，尤指在該附加的從屬權利請求項，能被當作個別專利申請的主題。

圖1A顯示根據本發明之一投射系統1之側視圖。此投射系統包括一框架2，其設置於一真空室3內且支持一目標物定位模組30，目標物定位模組30係適合於精確地對一目標物10相對於投射模組20作定位。此投射系統1位於實質上完全支撐此投射系統之一底座板4上。此底座板4包括一混凝土板以減輕從地板7至此真空室3之高頻率振動傳播，特別是傳播至其中設置有投射模組20以及目標物定位模組30的框架2。此真空室3係通過振動隔離器5安裝在此底座板4上，並且此框架2係通過振動隔離器6安裝在此真空室3上。

此投射模組20包括：一外殼25，其中容納用於產生多條荷電粒子小射束(beamlet)(圖未示)之一荷電粒子射束源21；一調變器陣列22，用以選擇性地調變此多條荷電粒子小射束之每一條；以及投射光學儀器23，包括用以聚焦小射束至此目標物10之一表面之多數個靜電透鏡。

此目標物定位模組30包括用於承載此目標物10之一承載座31，其中承載座31之一邊緣提供一反射表面32，此反射表面32用以與一量測系統24配合，其以一干涉儀24之形式附屬在此投射模組20。此反射表面32相對於此投射模組20之一位置經由此干涉儀24測量並且傳遞至一控制器80(由圖所示於真空室3 外)。此控制器80係適合於控制此目標物定位模組30以定位基於此已決定位置之此投射模組20下之此目標物10。除了控制此目標物定位模組30以提供掃描此目標物10相對於此投射模組20沿著一X方向以及垂直於X方向之一Y方向的移動外，此控制器80也控制此目標物定位模組30以補償此定位模組30以及此投射模組20之間的低頻率振動。

此投射模組20與此框架2經由一可撓性聯軸器連接，此可撓性聯軸器包括桿61,62,63，而桿61,62,63之第一端點61a,62a,63a係連接於一薄板65。此薄板65與適合於沿著Z方向彈性地收縮之片彈簧71,72(圖未示),73係依次連接，從而至少抑制從此框架2朝向此投射模組20之部分振動。該些桿於它們的第二端點61b,62b,63b與此投射模組外殼25連接。每一個桿包括一單片鋁桿，此單片鋁桿供有靠近此第一端點61a,62a,63a之一第一薄弱部分，以及有靠近此第二端點61b,62b,63b之一第二薄弱部分，使得該些桿實質上允許此投射模組相對於此框架於與Z方向正交的一平面中移動，但實質上限制此投射模組相對於此框架而沿著Z方向移動。此三桿61,62,63一起形成具有一相對低頻率與實質上恆定的徑向振盪頻率之一擺錘懸吊器。基於此已知徑向振盪頻率與此位置以及/或藉由此控制系統24量測到振動的此投影光學儀器23，此控制器80可控制此目標物定位系統以移動此目標物承載座31。

圖1B顯示此投射模組20與此目標物定位模組30之更多的細節。此目標物定位模組30包括用以承載如目標物10的一 目標物之一承載座31，其中係設置於一微動平台33上。此微動平台33用以提供此目標物承載座於六個自由度中之位置細微修正，即，沿著X,Y,Z方向周圍轉換與旋轉以補償殘留振動。此微動平台33包括勞倫茲馬達34，其係允許此目標物承載座31準確與快速的定位，並且也提供進一步抑制從此目標物10至此目標物承載座31之振動。為了減輕於此勞倫茲馬達上此目標物10以及此目標物承載座31的負載，此微動平台33係供以一負載補償彈簧35。

此微動平台33係設置於一x-平台36上，使得此微動平台33、此目標物承載座31以及此目標物10皆於x-平台36上沿著X方向移動。此x-平台36依序係設置於一y-平台37上，使得此x-平台36、此微動平台33、此目標物承載座31以及此目標物10沿著Y方向移動。

由於此微動平台33係適合於此目標物承載座31相對於此x-平台36之六個自由度的定位，此控制器80可控制此微動平台，使得此投射光學儀器23以及此目標物承載座31之間的一距離維持實質上恆定，使得光束投射於此目標物10上維持實質上恆定。

圖2顯示圖1沿IB-IB線之此框架及其內部之俯視圖。片彈簧71,72,73具有第一端點係個別連接於方塊74,75,76，其中連接的方塊74,75,76與此框架2靜止地連接。在相對的第二端點71a,72a,73a，片彈簧經由實質上剛性的薄板65彼此相互連接，使得片彈簧可對於其他片彈簧施加一拉力。片彈簧供以此薄板65沿著與X,Y方向正交的一方向上部分自由度之運動，使得此 正交方向上的振動可被抑制。此聯軸器之可撓性，即，桿61,62,63之可撓性允許於與XY平面平行之一平面中此投射模組20(圖未示)之部分的移動。

片彈簧之第二端點71a,72a,73a圍繞著一中心點66對稱地排列，其中當投射於XY平面上時，實質上與此投射模組20之一質心一致，使得實質上此負載藉由此投射模組20施加在片彈簧71,72,73上平衡地分配。同樣地，該些桿之第一端點61a,62a,63a係配置在此薄板65上，並且圍繞著一樣的中心點66對稱地排列。雖然在本實施例中所顯示，此薄板65與此框架經由三個片彈簧作連接，然亦可取代使用任何數目以及不同的抑制元件。

可以理解的是就上文敘述是包含以說明較佳實施例的運作以及並不意涵著侷限本發明之範圍。從上文所討論的，許多變化將對於本領域熟知技術之人士係顯而易見的，其亦包含於本發明的精神與範圍內。

1‧‧‧投射系統

2‧‧‧框架

21‧‧‧荷電粒子射束源

23‧‧‧投射光學儀器

25‧‧‧外殼

30‧‧‧目標物定位模組

32‧‧‧反射面

34‧‧‧勞倫茲馬達

36‧‧‧x-平台

4‧‧‧底座板

6‧‧‧振動隔離器

61a,62a,63a‧‧‧第一端點

65‧‧‧薄板

7‧‧‧地板

71a,72a,73a‧‧‧第二端點

80‧‧‧控制器

10‧‧‧目標物

20‧‧‧投射模組

22‧‧‧調變器陣列

24‧‧‧量測系統

3‧‧‧真空室

31‧‧‧承載座

33‧‧‧微動平台

35‧‧‧負載補償彈簧

37‧‧‧y-平台

5‧‧‧振動隔離器

61,62,63‧‧‧桿

61b,62b,63b‧‧‧第二端點

66‧‧‧中心點

71,72,73‧‧‧片彈簧

74,75,76‧‧‧方塊

本發明將基於圖式中所示之範例型實施例基礎上做闡述，其中：圖1A顯示根據本發明之一投射系統之側視圖。

圖1B顯示圖1A之此投射模組與此目標物定位模組之一細節。

圖2顯示圖1A經IB-IB線之此投射系統之俯視圖。

1‧‧‧投射系統

2‧‧‧框架

21‧‧‧荷電粒子射束源

24‧‧‧量測系統

3‧‧‧真空腔體

31‧‧‧承載座

4‧‧‧底座板

6‧‧‧振動隔離器

61a,62a,63a‧‧‧第一端點

65‧‧‧薄板

71,73‧‧‧片彈簧

80‧‧‧控制器

10‧‧‧目標物

20‧‧‧投射模組

23‧‧‧投射光學儀器

25‧‧‧外殼

30‧‧‧目標物定位模組

32‧‧‧反射面

5‧‧‧振動隔離器

61,62,63‧‧‧桿

61b,62b,63b‧‧‧第二端點

7‧‧‧地板

74,76‧‧‧方塊

Claims (29)

1. 一種投射系統，係用以發射一或多條光束於一目標物上，該投射系統包括：一框架；一投射模組，包括用以提供一或多條光束之一光束源，以及用以投射該一或多條光束於該目標物上之投射光學儀器；一目標物定位模組，包括用以承載該目標物之一承載座，以及用以承載與定位該承載座之一平台；一量測系統，用以決定該投射模組相對於該承載座之一位置；以及一控制器，係適合於控制該目標物定位模組，以定位基於該已決定位置之該投射模組下之該目標物；其中，該框架與該投射模組經由一可撓性聯軸器作連接，用以抑制從該框架至該投射模組的振動傳播，且其中該控制器係適合於控制該目標物定位模組，以補償由該量測系統量測到的殘留振動，其中，該可撓性聯軸器實質上沿著一水平平面為鬆弛的，用以允許該投射模組相對於該目標物定位模組沿著該水平平面之移動。
2. 如申請專利範圍第1項所述之投射系統，其中，該投射模組實質上完全地配置於該可撓性聯軸器之下。
3. 如申請專利範圍第1或2項所述之投射系統，其中，該可撓性聯軸器以一懸掛方式從該框架懸掛，而較佳地使得該光學模組從該框架不被限制地懸掛著。
4. 如前述申請專利範圍其中任一項所述之投射系統，其中，該可撓性聯軸器包括一可撓部，該可撓部係設置於該框架內。
5. 如前述申請專利範圍其中任一項所述之投射系統，其中，該投射模組有一質心，相較於該框架，該質心實質上位於更接近該目標物。
6. 如前述申請專利範圍其中任一項所述之投射系統，其中，該可撓性聯軸器沿著該可撓性聯軸器之中心線有一第一預定長度，其中該投射模組實質上沿著平行於該可撓性聯軸器的該投射模組之中心線有一第二預定長度，其中，該第二預定長度實質上小於該第一預定長度，且較佳地至少小於4倍。
7. 如前述申請專利範圍其中任一項所述之投射系統，更包括一真空室，該真空室包蓋該框架、該投射裝置、該可撓性聯軸器、以及該目標物定位系統。
8. 如前述申請專利範圍其中任一項所述之投射系統，其中，該可撓性聯軸器係為一鬆弛聯軸器或包括一鬆弛聯軸器。
9. 如申請專利範圍第1至7項其中任一項所述之投射系統，其中，該可撓性聯軸器實質上沿垂直於該水平面之一方向為剛性的。
10. 如前述申請專利範圍其中一任項所述之投射系統，其中，該可撓性聯軸器係適合於抑制高頻率振動，且其中該控制器係適合以補償殘留低頻率振動。
11. 如申請專利範圍第10項所述之投射系統，其中，該可撓性聯軸器係適合於抑制具有一頻率之振動，該頻率實質上等於或高於5赫茲，較佳為實質上等於或高於3.5赫茲，更佳為實質上等於或高於1赫茲。
12. 如前述申請專利範圍其中任一項所述之投射系統，其中，該承載座係實質上脫離從該框架至該投射模組的振動。
13. 如申請專利範圍第12項所述之投射系統，其中，該目標物定位模組包括用以承載與定位該承載座之勞倫茲馬達(Lorentz motors)。
14. 如前述申請專利範圍其中任一項所述之投射系統，其中，該目標物定位模組係適合於提供該目標物相對於該框架六個自由度之移動以補償殘餘振動。
15. 如前述申請專利範圍其中任一項所述之投射系統，更包括用以抑制從該框架至該投射模組的振動以及從該投射模組至該框架之振動的阻尼器。
16. 如申請專利範圍第15項所述之投射系統，其中，該阻尼器包括一或多個片彈簧，較佳地係實質上於與該承載座之一承載表面正交的一平面內設置為彎曲。
17. 如前述申請專利範圍其中任一項所述之投射系統，其中，該可撓性聯軸器包括一懸吊器。
18. 如申請專利範圍第17項所述之投射系統，其中，該懸吊器包括一或多個懸吊桿，較佳為三個實質上平行的懸吊桿。
19. 如申請專利範圍第18項所述之投射系統，其中，該一或多個懸吊桿的每個係以單一元件方式形成，較佳為以一例如鋁之金屬製成。
20. 如申請專利範圍第15至18項其中任一項所述之投射系統，其中，該懸吊器係具有一徑向振盪頻率之一擺錘懸吊器，且其中，該擺錘懸吊器係適合於抑制從該框架至該投射模組之具有頻率高於該徑向振盪頻率之振動傳播。
21. 如申請專利範圍第20項所述之投射系統，其中，該徑向振盪頻率實質上等於或小於5赫茲，較佳為實質上等於或小於3.5赫茲，更佳為實質上等於1赫茲。
22. 如前述申請專利範圍其中任一項所述之投射系統，用以量測該殘留振動之該量測系統被包括於或固定地連接於該投射模組。
23. 如申請專利範圍第22項所述之投射系統，其中，該量測系統包括用以至少量測殘留振動之一或多個干涉儀。
24. 如前述申請專利範圍其中一項所述之投射系統，當該投射模組相對於該框架進行移動時，係適合於投射該一或多個光束於該目標物上。
25. 如前述申請專利範圍其中任一項所述之投射系統，其中，該投射模組包括用以投射該一或多個光束於該目標物上之一多光束無光罩投射模組，較佳為在該目標物相對於該框架之移動的時候。
26. 如前述申請專利範圍其中任一項所述之投射系統，其中，該可撓性聯軸器係適合於保持一實質上恆定長度。
27. 一種投射系統，係用以發射一或多條光束於一目標物上，該投射系統包括：一框架；一投射模組，包括用以提供一或多條光束之一光束源，以及用以投射該一或多條光束於該目標物上之投射光學儀器；一目標物定位模組，包括用以承載該目標物之一承載座，以及用以承載與定位該承載座之一平台；一量測系統，用以決定該投射模組相對於該承載座之一位置；以及一控制器，係適合於控制該目標物定位模組，以定位基於該已決定位置之該投射模組下之該目標物；其中，該框架與該投射模組經由一可撓性(鬆弛)聯軸器作連接，用以抑制從該框架至該投射模組的振動傳播，且其中該控制器係適合於控制該目標物定位模組，以補償由該量測系統量測到的殘留振動。
28. 一種包括如前述申請專利範圍其中任一項所述之投射系統之微影系統。
29. 如申請專利範圍第28項所述之微影系統，其中，該一或多條光束係用以圖案化該目標物之寫入光束，較佳地，其中該光束源係一荷電粒子射束源。