TW201301421A - 用於形成薄膜的方法及旋轉系統 - Google Patents

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Abstract

用於在至少一基板上形成一層或多層至少一種材料的方法和系統。本發明之系統包括一旋轉殼體、一承載於旋轉殼體的承座部件以及一位於承座部件下方且用於驅動旋轉殼體和承座部件旋轉於一承座軸的驅動裝置。此外，本系統還包括至少一固定座齒輪以及一中心齒輪。至少一固定座齒輪位於承座部件上與承座部件旋轉於承座軸且支撐至少一基板。中心齒輪與至少一固定座齒輪相嚙合，其用於在至少一固定座齒輪旋轉於承座軸時使至少一固定座齒輪分別旋轉於至少一固定座軸。

Description

用於形成薄膜的方法及旋轉系統
本發明是有關於材料製造的方法和系統，特別是有關於一種用於形成半導體材料之磊晶層(epitaxial layer)的旋轉系統和其相關方法。舉例來說，本發明是用於有機金屬化學氣相沉積(metal-organic chemical vapor deposition，MOCVD)，可以理解地，本發明還可有更為廣泛的用途。
薄膜沉積(thin film deposition)已被廣泛的用於各種物體如珠寶、餐具、工具、模具和/或半導體裝置的表面處理。通常，在金屬、合金、陶瓷和/或半導體的表面形成由均質(homogeneous)或異質合成物(heterogeneous composition)形成的薄膜以改善耐磨性、耐熱性和/或耐腐蝕性。薄膜沉積技術通常分為至少兩種-物理氣相沉積(physical vapor deposition，PVD)和化學氣象沉積(chemical vapor deposition，CVD)。
根據沉積技術和工藝參數，沉積的薄膜可具有單晶(crystalline)、多晶(polycrystalline)或無定形/非晶(amorphous)結構。單晶結構薄膜通常作為對製造積體電路非常重要的磊晶層。例如，磊晶層由半導體製成且在形成過程摻雜，使其具有準確的摻雜分佈(dopant profile)而不會被氧氣和/或碳雜質所污染。
一種化學氣相沉積法叫做有機金屬化學氣相沉積。對於有機金屬化學氣相沉積來講，可用至少一氣體載體將至少一氣相試劑(gas-phase reagent)和/或先驅物(precursor)帶至含至少一半導體基板例如為至少一半導體晶圓的反應腔內。半導體基板的背面通常用射頻感應式(radio-frequency induction)或電阻式(resistor)加熱，以提高半導體基板及其周圍環境的溫度。在升高的溫度下，可產生至少一化學反應，將該至少一試劑和/或先驅物(例如在氣相下)轉化成沉積在半導體基板表面的至少一固體產物。
特別是，由有機金屬化學氣相沉積製成的磊晶層通常用於製造發光二極體。這些二極體的質量由多種因素所決定，例如反應腔內部的流場穩定性(flow stability)和/或溫度控制的精確度。這些因素可極大地影響磊晶層的均勻性。
因此，亟需改變形成磊晶層的技術。
本發明提供一種材料製造的方法和系統，特別是有關於一種用於形成半導體材料之磊晶層的旋轉系統和其相關方法。舉例來說，本發明是用於有機金屬化學氣相沉積，可以理解地，本發明還可有更為廣泛的用途。
根據本發明一實施例，用於在至少一基板上形成一層或多層至少一種材料的系統包括一旋轉殼體(rotating shell)、一承載於旋轉殼體的承座部件(susceptor component)以及一驅動裝置。驅動裝置係位於承座部件下方且用於驅動旋轉殼體和承座部件旋轉於一承座軸(susceptor axis)。此外，本系統還包括至少一固定座齒輪(holder gear)以及一中心齒輪(central gear)。至少一固定座齒輪係位於承座部件上與承座部件一同旋轉於承座軸，且用於支撐至少一基板。中心齒輪與至少一固定座齒輪相嚙合，其用於在至少一固定座齒輪旋轉於承座軸時使至少一固定座齒輪分別旋轉於至少一固定座軸(holder axe)。再者，上述之承座軸不同於至少一固定座軸。
根據本發明另一實施例，用於在至少一基板上形成一層或多層至少一種材料的系統包括一旋轉殼體、一承載於旋轉殼體的承座部件以及一驅動裝置。驅動裝置係位於承座部件下方用於驅動旋轉殼體和承座部件旋轉於一承座軸。此外，本系統還包括一固定座齒輪及一中心齒輪。固定座齒輪位於承座部件上與承座部件一同旋轉於承座軸，且用於支撐至少一基板。中心齒輪則與至少一固定座齒輪相嚙合，其用於在至少一固定座齒輪旋轉於承座軸時使至少一固定座齒輪分別旋轉於至少一固定座軸。此外，本系統還包括位於承座部件上方且不與承座部件直接接觸的一噴氣部件(showerhead component)。
根據本發明再一實施例，用於在至少一基板上形成一層或多層至少一種材料的方法包括利用一馬達驅動一第一齒輪旋轉。第一齒輪與一第二齒輪相嚙合。此外，本方法還包括利用第一齒輪使第二齒輪旋轉於一承座軸。第二齒輪連接至一旋轉殼體。再者，本方法還包括利用第二齒輪驅動旋轉殼體旋轉於承座軸，以藉由旋轉殼體使承座部件旋轉於承座軸。承座部件係用於支撐至少一固定座齒輪。本方法更包括利用承座部件使至少一固定座齒輪旋轉於承座軸。上述之至少一固定座齒輪係用於支撐至少一基板。此外，本方法還包括利用一中心齒輪使至少一固定座齒輪分別旋轉於至少一固定座軸。中心齒輪係與至少一固定座齒輪相嚙合，且至少一固定座軸不同於承座軸。
本發明與現有技術相比具有多重效益。根據其中一些實施例，用於旋轉基板固定座(substrate holder)的系統係用於旋轉基板。例如，基板的旋轉可以改善基板上反應氣體的均勻性並可改善形成於基板上的薄膜的均勻性。在另一例子中，基板的旋轉可以改善基板的背面加熱並改善薄膜的質量。根據特定的實施例，基板固定座的旋轉系統包括一用於承載基板固定座的承座部件。此承座部件例如可使基板固定座旋轉於一承座軸。在另一例子中，基板固定座可分別旋轉於各自的固定座軸(holder axe)。在再一例子中，基板固定座的旋轉系統用於如有機金屬化學氣相沉積等薄膜沉積。
依據本發明的實施例可達到上述優點中至少一個。為讓本發明之上述和其他目的、特徵和優點能更明顯易懂，下文配合圖式詳細說明如下。
本發明涉及一種材料製造的方法和系統，特別是有關於一種用於形成半導體材料之磊晶層的旋轉系統和其相關方法。舉例來說，本發明是用於有機金屬化學氣相沉積，可以理解地，本發明還可有更為廣泛的用途。
圖1A和1B所示為本發明一實施例之一種用於在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉系統的示意圖。這些示意圖僅用於舉例而不會不當地限定保護的範圍。本領域的普通技術人員可以想到多種的變形、替代方案和改變。本發明一實施例之旋轉系統100包括一承座部件110、一旋轉殼體112、一內齒輪114、一外齒輪116以及一馬達118。此外，旋轉系統100包括一中心齒輪120。進一步的，該旋轉系統100包括至少一基板固定座130、至少一固定座齒輪132以及至少一固定座環134。基板固定座130例如可用於固定至少一基板140(例如為至少一晶圓)。在另一例子中，內齒輪114和外齒輪116形成一驅動系統，該驅動系統還包括馬達118。
雖然上文示出了系統100所選的一個元件組合，但還可有多種的替代方案、改變和變形。例如，其中的一些元件可被擴展和/或組合在一起。也可在上述元件中插入其它元件。根據本發明的實施例，元件的配置方式可與其它的替代方案互換。
在一實施例中，旋轉殼體112在其底部固定有內齒輪114，並在其頂部直接或間接地支撐承座部件110。例如，旋轉殼體112在其頂部固定有承座部件110。在另一例子中，內齒輪114和外齒輪116相嚙合。在再一例子中，馬達118驅動外齒輪116旋轉，使得內齒輪114也相應旋轉。根據一實施例，內齒輪114的旋轉可使旋轉殼體112和承座部件110旋轉於一共同軸(例如為一承座軸)。例如，旋轉殼體112可利用一迴轉轉盤軸承(slewing bearing)旋轉。根據另一實施例，在承座部件110上設有至少一基板固定座130、至少一固定座齒輪132以及至少一固定座環134。例如，上述之至少一基板固定座130、至少一固定座齒輪132以及至少一固定座環134也與承座部件110旋轉於同一軸。在另一例子中，每一固定座齒輪132支撐一基板固定座130，每一基板固定座130係用於承載一基板140(例如為一晶圓)。
根據其中一些實施例，中心齒輪120與至少一固定座齒輪132相嚙合。在一實施例中，中心齒輪120在至少一固定座齒輪132與承座部件110旋轉於共軸時靜止，使得至少一固定座齒輪132分別旋轉於對應的固定座軸。在另一實施例中，在中心齒輪120沿一方向繞共軸以一角速度旋轉時，至少一固定座齒輪132與承座部件110繞共軸沿同一方向以不同的速度旋轉，使得至少一固定座齒輪132分別繞對應的固定座軸旋轉。例如，至少一固定座齒輪132旋轉於對應的固定座軸旋轉的角速度係由中心齒輪120和至少一固定座齒輪132中每一個齒輪的齒數比以及中心齒輪120和繞共軸的至少一固定座齒輪132中每一個齒輪的角速度比來決定。在再一實施例中，當中心齒輪120沿一方向繞共軸旋轉時，至少一固定座齒輪132與承座部件110繞共軸沿不同方向旋轉，使得至少一固定座齒輪132分別繞對應的固定座軸旋轉。
根據特定的實施例，至少一固定座齒輪132固定於至少一基板固定座130，使至少一基板固定座130也分別旋轉於對應的固定座軸。根據其中一些實施例，至少一固定座齒輪132通過至少一球軸承分別與至少一固定座環134相接觸。例如，至少一固定座環134固定於承座部件110，以使其不會與至少一固定座齒輪132一起繞固定座軸旋轉。
圖1A還示出在分解狀態下的一基板固定座130、一固定座齒輪132以及一固定座環134，以及由至少一固定座齒輪132上拆下的中心齒輪120，以清楚示出這些元件。圖2A所示為本發明一實施例中旋轉系統100的中心齒輪120和固定座齒輪132相嚙合的示意圖。此外，圖2B所示為本發明一實施例中旋轉系統100的基板固定座130、固定座齒輪132以及固定座環134組裝在一起的示意圖。這些示意圖僅用於舉例而不會不當地限定保護的範圍。本領域的普通技術人員可以想到多種的變形、替代方案和改動。
如上文所述並在本處所強調，圖1A、1B、2A和2B僅用於舉例而不會不當地限定保護的範圍。本領域的普通技術人員可以想到多種的變形、替代方案和改變。例如，可移除至少一基板固定座130以使至少一固定座齒輪132中的每一個都用於直接支撐至少一基板140(例如為至少一晶圓)，且至少一基板140與對應的固定座齒輪132可繞該共軸和/或對應的固定座軸旋轉。在另一例子中，在圖4所示的實施例中移除了至少一固定座環134。
圖3所示為本發明一實施例中基板固定座130的旋轉作為用於在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉系統100的一部份的示意圖。該示意圖僅用於舉例而不會不當地限定保護的範圍。本領域的普通技術人員可以想到多種的變形、替代方案和改變。
如圖3所示，至少一固定座齒輪132中的每一個形成一用於支撐對應基板固定座130的中空環。例如，至少一固定座齒輪132中的每一個和對應的基板固定座130利用一球軸承320繞一固定座軸310旋轉。在另一例子中，球軸承320位於固定座齒輪132的底部溝槽和固定座環134的頂部溝槽之間。在再一例子中，固定座環134固設於承座部件110。
圖4為所示為本發明另一實施例中基板固定座的旋轉作為用於在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉系統的一部份的示意圖。該示意圖僅用於舉例而不會不當地限定保護的範圍。本領域的普通技術人員可以想到多種的變形、替代方案和改變。
如圖4所示，至少一固定座齒輪132中的每一個形成一用於支撐對應基板固定座130的中空環。例如，至少一固定座齒輪132中的每一個和對應的基板固定座130利用一球軸承420繞一固定座軸410旋轉。在另一例子中，球軸承420位於一內環430的溝槽和固定座環134之間。在再一例子中，內環430固設於基板固定座130。
圖5A和5B所示為本發明一實施例中包括用於在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉系統100的一反應系統的示意圖。這些示意圖僅用於舉例而不會不當地限定保護的範圍。本領域的普通技術人員可以想到多種的變形、替代方案和改變。
例如，圖5A為反應系統1100的側視圖，圖5B為反應系統1100的俯視圖。在另一例子中，反應系統1100包括一噴氣部件1110、一承座部件110、輸入口1101-1104、至少一基板固定座130、至少一加熱裝置1124、一輸出口1140以及一中心元件1150。在再一例子中，中心元件1150、噴氣部件1110、承座部件110以及至少一基板固定座130(例如位於承座部件110上)形成一具有輸入口1101-1104和輸出口1140的反應腔室1160。在再一例子中，至少一基板固定座130中每一個都用於承載至少一基板140(例如為至少一晶圓)。
雖然上文示出了系統1100所選的一個元件組合，但還可有多種的替代方案、改變和變形。例如，其中的一些元件可被擴展和/或組合在一起。也可在上述元件中插入其它元件。根據本發明的實施例，元件的配置方式可與其它的替代方案互換。
根據一實施例，輸入口1101形成於中心元件1150內且用於在平行於噴氣部件1110的一表面1112的方向提供氣體。例如，中心元件1150位於中心齒輪120上方(above)(例如上面(on))。在另一例子中，氣體流入(例如先向上流動(flow up))反應腔室1160且靠近反應腔室1160的中心，然後流過輸入口1101向外輻射狀的離開反應腔室1160的中心。根據另一實施例，輸入口1102-1104形成於噴氣部件1110內且在垂直於表面1112的方向提供氣體。
例如，表1示出通過輸入口1101-1104提供的各種氣體。
在一實施例中，承座部件110用於繞一承座軸1128(例如一中心軸)旋轉，至少一基板固定座130中每一個用於繞對應的一固定座軸1126(例如上述之固定座軸310或410)旋轉。在另一例子中，至少一基板固定座130可與承座部件110一同繞承座軸1128旋轉，並可繞對應的固定座軸1126旋轉。例如，位於同一基板固定座130上的至少一基板140可繞同一固定座軸1126旋轉。
根據一實施例，輸入口1101-1104和輸出口1140中每一個具有繞承座軸1128的環形外觀。根據另一實施例，該至少一基板固定座130(例如8個基板固定座130)繞承座軸1128配置。例如，至少一基板固定座130中每一個都可承載多個基板140(例如7個基板140)。
在圖5A和5B中，符號A,B,C,D,E,F,G,H,I,J,L,M,N和O代表根據一些實施例的反應系統1100中的各種尺寸。在一實施例中，A代表承座軸1128和輸入口1102的內緣之間的距離；B代表承座軸1128和輸入口1103的內緣之間的距離；C代表承座軸1128和輸入口1104的內緣之間的距離；D代表承座軸1128和輸入口1104的外緣之間的距離；E代表承座軸1128和輸入口1101之間的距離；F代表承座軸1128和輸出口1140的內緣之間的距離；G代表承座軸1128和輸出口1140的外緣之間的距離；H代表噴氣部件1110的表面1112和承座部件110的一表面1114之間的距離；I代表輸入口1101的高度；J代表噴氣部件1110的表面1112和輸出口1140之間的距離；L代表承座軸1128分別和至少一基板固定座130的至少一外緣之間的距離；M代表承座軸1128分別和至少一基板固定座130的至少一內緣之間的距離；N代表承座軸1128分別和至少一加熱裝置1124的至少一內緣之間的距離；O代表承座軸1128分別和至少一加熱裝置1124的至少一外緣之間的距離。
例如，L減M為至少一基板固定座130的直徑。在另一例子中，反應腔室1160的垂直尺寸(例如以H表示)等於或小於20mm，或等於或小於15mm。在再一例子中，輸入口1101的垂直尺寸(例如以I表示)小於噴氣部件1110的表面1112和承座部件110的表面1114之間的垂直距離(例如以H表示)。在再一例子中，這些尺寸的大小如表2所示。
在一實施例中，至少一基板固定座130位於承座部件110上。在另一實施例中，至少一加熱裝置1124分別位於至少一基板固定座130下方。例如，至少一加熱裝置1124分別向反應腔室1160的中心延伸出至少一基板固定座130。在另一例子中，至少一加熱裝置1124在氣體到達至少一基板固定座130之前可預加熱來自於輸入口1101，1102，1103和/1104的氣體。
如上文所述並在本處所強調，圖5A和5B僅用於舉例而不會不當地限定保護的範圍。本領域的普通技術人員可以想到多種的變形、替代方案和改變。例如，輸入口1102可用多個輸入口代替，和/或輸入口1104亦可用另外多個輸入口代替。在另一例子中，輸入口1102可形成於中心元件1150內且用於沿平行於噴氣部件1110的表面1112的方向提供氣體。
根據另一實施例，根據本發明一實施例，用於在至少一基板上形成一層或多層至少一種材料的系統包括一旋轉殼體、一承載於旋轉殼體的承座部件以及一驅動裝置。驅動裝置係位於承座部件下方且用於驅動旋轉殼體和承座部件旋轉於一承座軸。此外，本系統還包括至少一固定座齒輪以及一中心齒輪。至少一固定座齒輪係位於承座部件上與承座部件一同旋轉於承座軸，且用於支撐至少一基板。中心齒輪與至少一固定座齒輪相嚙合，其用於在至少一固定座齒輪旋轉於承座軸時使至少一固定座齒輪分別旋轉於至少一固定座軸。再者，上述之承座軸不同於至少一固定座軸。本系統至少如圖1A，1B，2A和/或2B所示。
根據本發明的另一實施例，用於在至少一基板上形成一層或多層至少一種材料的系統包括一旋轉殼體、一承載於旋轉殼體的承座部件以及一驅動裝置。驅動裝置係位於承座部件下方用於驅動旋轉殼體和承座部件旋轉於一承座軸。此外，本系統還包括一固定座齒輪及一中心齒輪。固定座齒輪位於承座部件上與承座部件一同旋轉於承座軸，且用於支撐至少一基板。中心齒輪則與至少一固定座齒輪相嚙合，其用於在至少一固定座齒輪旋轉於承座軸時使至少一固定座齒輪分別旋轉於至少一固定座軸。此外，本系統還包括位於承座部件上方且不與承座部件直接接觸的一噴氣部件(showerhead component)。本系統至少如圖1A，1B，2A，2B，5A和/或5B所示。
根據本發明的再一實施例，用於在至少一基板上形成一層或多層至少一種材料的方法包括利用一馬達驅動一第一齒輪旋轉。第一齒輪與一第二齒輪相嚙合。此外，本方法還包括利用第一齒輪使第二齒輪旋轉於一承座軸。第二齒輪連接至一旋轉殼體。再者，本方法還包括利用第二齒輪驅動旋轉殼體旋轉於承座軸，以藉由旋轉殼體使承座部件旋轉於承座軸。承座部件係用於支撐至少一固定座齒輪。本方法更包括利用承座部件使至少一固定座齒輪旋轉於承座軸。上述之至少一固定座齒輪係用於支撐至少一基板。此外，本方法還包括利用一中心齒輪使至少一固定座齒輪分別旋轉於至少一固定座軸。中心齒輪係與至少一固定座齒輪相嚙合，且至少一固定座軸不同於承座軸。
雖然本發明已以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100．．．旋轉系統
110．．．承座部件
112．．．旋轉殼體
114．．．內齒輪
116．．．外齒輪
118．．．馬達
120．．．中心齒輪
130．．．基板固定座
132．．．固定座齒輪
134．．．固定座環
140．．．基板
320、420．．．球軸承
310、410．．．固定座軸
430．．．內環
1100．．．反應系統
1101、1102、1103、1104．．．輸入口
1110．．．噴氣部件
1112、1114．．．表面
1124．．．加熱裝置
1126．．．固定座軸
1128．．．承座軸
1140．．．輸出口
1150．．．中心元件
1160．．．反應腔室
圖1A和1B所示為本發明一實施例之一種用於在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉系統的示意圖。
圖2A所示為本發明一實施例中旋轉系統的中心齒輪和固定座齒輪相嚙合的示意圖。
圖2B所示為本發明一實施例中旋轉系統的基板固定座、固定座齒輪以及固定座環組裝在一起的示意圖。
圖3所示為本發明一實施例中基板固定座的旋轉作為用於在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉系統的一部份的示意圖。
圖4為所示為本發明另一實施例中基板固定座的旋轉作為用於在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉系統的一部份的示意圖。
圖5A和5B所示為本發明一實施例中包括用於在至少一基板上形成至少一種材料的旋轉系統的一反應系統的示意圖。
100．．．旋轉系統
110．．．承座部件
112．．．旋轉殼體
120．．．中心齒輪
130．．．基板固定座
132．．．固定座齒輪
134．．．固定座環
140．．．基板

Claims (23)

  1. 一種用於在至少一基板上形成一層或多層至少一種材料的系統包括：一旋轉殼體；一承載於該旋轉殼體的承座部件；一位於該承座部件下方的驅動裝置，其用於驅動該旋轉殼體和該承座部件旋轉於一承座軸；至少一固定座齒輪位於該承座部件上，與該承座部件一同旋轉於該承座軸且用於支撐該至少一基板；以及一中心齒輪與該至少一固定座齒輪相嚙合，其用於在該至少一固定座齒輪旋轉於該承座軸時使該至少一固定座齒輪分別旋轉於該至少一固定座軸；其中，該承座軸不同於該至少一固定座軸。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之系統更包括至少一基板固定座分別連接於該至少一固定座齒輪，且與該至少一固定座齒輪一同旋轉於該承座軸，其中該至少一固定座齒輪係藉由該至少一基板固定座支撐該至少一基板，該至少一基板固定座係用於承載該至少一基板。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之系統，其中該中心齒輪可設定成在該至少一固定座齒輪旋轉於該承座軸時使該至少一基板固定座與該至少一固定座齒輪一同旋轉於該至少一固定座軸。
  4. 如申請專利範圍第2項所述之系統，其中該至少一固定座齒輪的每一個都具有一用於支撐一對應基板固定座的中空環，該對應基板固定座係選自該至少一基板固定座。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之系統，其中該中心齒輪可設定成在該至少一固定座齒輪旋轉於該承座軸時不旋轉於該承座軸。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之系統，其中該中心齒輪可設定成在該至少一固定座齒輪以一第二角速度沿一第二方向旋轉於該承座軸時以一第一角速度沿一第一方向旋轉於該承座軸。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之系統，其中該第一方向不同於該第二方向，且該第一角速度不同於該第二角速度。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之系統，其中該驅動裝置包括一位於該承座部件下方且連接該旋轉殼體的第一齒輪，以及一與該第一齒輪相嚙合且用於使該第一齒輪旋轉於該承座軸的第二齒輪。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之系統更包括一用於驅動該第二齒輪以使該第一齒輪旋轉於該承座軸的馬達。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之系統更包括至少一球軸承，其用於支撐該至少一固定座齒輪且使該至少一固定座齒輪分別旋轉於該至少一固定座軸。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之系統更包括至少一固定座環，其連接於該承座部件且分別位於該承座部件和該至少一固定座齒輪之間。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之系統，其中該至少一球軸承中的每一個均位於一對應固定座環的一第一溝槽和一對應固定座齒輪的一第二溝槽之間，該對應固定座環係選自該至少一固定座環，該對應固定座齒輪係選自該至少一固定座齒輪，該第一溝槽位於該第二溝槽下方。
  13. 如申請專利範圍第10項所述之系統更包括：至少一基板固定座分別連接於該至少一固定座齒輪，與該至少一固定座齒輪一同旋轉於該承座軸且用於承載該至少一基板；至少一外環連接該承座部件；以及至少一內環分別連接該至少一基板固定座。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之系統，其中該至少一球軸承中的每一個均位於一對應外環的一外溝槽和一對應內環的一內溝槽之間，該對應外環係選自該至少一外環，該對應內環係選自該至少一內環。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之系統，其中該至少一內環與該至少一固定座齒輪不直接接觸。
  16. 一種用於在至少一基板上形成一層或多層至少一種材料的系統包括：一旋轉殼體；一承載於該旋轉殼體的承座部件；以及一位於該承座部件下方的驅動裝置，其用於驅動該旋轉殼體和該承座部件旋轉於一承座軸；至少一固定座齒輪位於該承座部件上，與該承座部件一同旋轉於該承座軸且用於支撐該至少一基板；一中心齒輪與該至少一固定座齒輪相嚙合，其用於在該至少一固定座齒輪旋轉於該承座軸時使該至少一固定座齒輪分別旋轉於該至少一固定座軸；以及一噴氣部件位於該承座部件上方，且不與該承座部件直接接觸。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之系統更包括用於提供氣體的至少一輸入口。
  18. 如申請專利範圍第16項所述之系統係以化學氣象沉積在該至少一基板上形成該一層或多層該至少一種材料。
  19. 如申請專利範圍第16項所述之系統更包括一位於該中心齒輪上方的中心元件。
  20. 如申請專利範圍第19項所述之系統更包括一至少由該中心元件、該噴氣部件和該承座部件形成的反應腔室。
  21. 如申請專利範圍第16項所述之系統更包括至少一基板固定座分別連接於該至少一固定座齒輪，與該至少一固定座齒輪一同旋轉於該承座軸且用於承載該至少一基板。
  22. 如申請專利範圍第21項所述之系統更包括：一位於該中心齒輪上方的中心元件；以及至少一加熱裝置分別位於該至少一基板固定座下方，並超出該至少一基板固定座延伸至該中心元件附近。
  23. 用於在至少一基板上形成一層或多層至少一種材料的方法包括：利用一馬達驅動一第一齒輪旋轉，該第一齒輪與一第二齒輪相嚙合；利用該第一齒輪使該第二齒輪旋轉於一承座軸，該第二齒輪連接至一旋轉殼體；利用該第二齒輪驅動該旋轉殼體旋轉於該承座軸；利用該旋轉殼體使該承座部件旋轉於該承座軸，該承座部件用於支撐該至少一固定座齒輪；利用該承座部件使該至少一固定座齒輪旋轉於該承座軸，該至少一固定座齒輪用於支撐該至少一基板；以及利用一中心齒輪使該至少一固定座齒輪分別旋轉於該至少一固定座軸，該中心齒輪與該至少一固定座齒輪相嚙合；其中，該至少一固定座軸不同於該承座軸。
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