TW201221945A - System and method of measuring irregularity of a glass substrate - Google Patents

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201221945 λ vv / ^ ^01 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 [0001] 本發明之實施示範例係有關於一種藉由輸入 具特定波長之光線至玻璃基板，來測量玻璃基板不勻率 (irregularity 或 non-uniformity )之系統及方法。 【先前技術】 [0002] 使用於如液晶顯示器LCD之顯示裝置之玻璃 基板之表面，可能因瑕庇等原因而並不均勻。 [0003] 倘若顯示裝置所使用的玻璃基板具有不均勻 的表面，顯示裝置可能因玻璃基板之不勻率而無法實現預 期的性能。因此，顯示裝置可能會被丟棄而降低顯示裝置 之產量。 [0004] 因此，於製造玻璃基板之後進行其他處理之 前，藉由測量玻璃基板之不勻率而事先偵測玻璃基板是否 具有瑕疵為重要的。 [0005] 此後，將詳細描述製造玻璃基板之處理及測量 玻璃基板之不勻率之方法。 [00〇6]第1圖繪示一般製造玻璃基板之處理。 [0007] 如第1圖所示，液化玻璃溶液10沿著玻璃溶 液注入方向A被注入熔爐20中。於此狀況下，經注入的 玻璃溶液10沿著玻璃基板輸出方向B流動，因而製造出 玻璃基板。 [0008] 然而，當玻璃容易流動時，沿著玻璃溶液之流 動方向可能會發生曲線，而因此可能會製造出具有不勻表 4 201221945 1 νν//，δΚΑ 面30之玻璃基板。 [0009] 因此，為了偵測具有不勻表面之玻璃基板，已 發展出各種測量玻璃基板不勻率之方法。 [0010] 第一種方法是於玻璃基板漂浮於水面上之情 況下，藉由照射具特定波長之光線至玻璃基板而測量玻璃 基板之不勻率。 [0011] 第二種方法是於玻璃基板之下表面上貼附紙張 之情況下，藉由照射具特定波長之光線至玻璃基板而測量 玻璃基板之不勻率。 [0012] 第三種方法是於玻璃基板之下表面上塗覆指 定物質之情況下，藉由照射具特定波長之光線至玻璃基板 而測量玻璃基板之不勻率。 [0013] 藉由上述方法處理玻璃基板之下表面，以便從 由玻璃基板反射之複數個光線中，移除由玻璃基板之下表 面所反射且不需測量不勻率之光線。 [0014] 然而，此些方法需要進一步的處理，例如於玻 璃基板之下表面上塗覆物質之處理，以及例如於完成測量 不勻率之後移除塗覆於下表面上之物質之處理等處理。因 此’會增加用於測量不勻率所花費的時間及成本。 [0015] 此外，即使玻璃基板之下表面經過了處理，依 舊難以完全移除由玻璃基板之下表面所反射之光線。因 此，不易於準確測量玻璃基板之不勻率。 [0016] 更甚者，由玻璃基板之下表面的處理，使得測 量玻璃基板之不勻率之處理難以自動化。 201221945 I W / /«>61Ά 【發明内容】 [0 017 ]本發明之一實施示範例提供一種測量玻璃基 板之不勻率之系統及方法，其毋須對玻璃基板之下表面進 行任何處理。 [0 018 ]本發明之另一實施示範例提供一種測量玻璃 基板之不勻率之系統及方法，其係從由玻璃基板之上表面 及下表面所反射之複數個反射光中，僅使用由玻璃基板之 上表面所反射之反射光。 [0019] 於一實施態樣中，本發明提供一種測量玻璃基 板之不勻率之系統，此系統包括光源部及屏幕。此光源部 配置成用以輸出第一光線至玻璃基板。於此，從光源部輸 出之第一光線，係由玻璃基板之上表面及下表面反射。由 玻璃基板之上表面反射之第一反射光線係輸入至屏幕 内，依照第一反射光線之輸入而於屏幕上形成第一線條。 由玻璃基板之下表面反射之第二反射光線係穿透上表面 而輸入至屏幕内，依照第二反射光線之輸入而於屏幕上形 成第二線條。而且，光源部及屏幕係基於玻璃基板而設 置，以分離複數個線條。 [0020] 此系統還包含感測部及不勻率測量部。此感測 部係配置成用以感測形成於屏幕上之線條。此不勻率測量 部係配置成用以從由感測部感測之複數個線條中僅擷取 第一線條，且藉由分析所戴取之第一線條而測量玻璃基板 之不勻率。 [0021] 光源部包含光源、第一透鏡及第二透鏡。此光 源配置成用以輸出第一光線。此第一透鏡配置成用以擴散 201221945

1 W//J5rA 從光源輸出之第二光線。此第二透鏡配置成用以將由第一 透鏡所擴散之第二光線改變成具有恆常光束寬度之第一 光線。 [0022] 光源、第一透鏡及第二透鏡係包含於一機殼 中，且此機殼能全方向移動。於此，於固定玻璃基板及屏 幕之情況下’透過移動機殼之方法，系統偵測複數個線條 分離之最佳位置，再固定機殼於所偵測之位置。 [0023] 光源部及玻璃基板之間之距離以及從玻璃基 板至屏幕上形成第一線條之一部分之距離，二距離之比例 為1:1至1:0.5 ’且光源部基於玻璃基板而位於45度至80 度之範圍内。 [0024] 於光源部及玻璃基板之間之距離為60公厘至 120公厘且光源部基於玻璃基板而位於45度至80度之範 圍内之情況下，倘若從玻璃基板至屏幕上形成第一線條之 一部分之距離小於60公厘，則能分離複數個線條。 [0025] 於固定第二透鏡及玻璃基板之間之距離之情 況下，隨著增加玻璃基板及光源部之間之角度，會縮短玻 璃基板及屏幕之間之距離。 [0026] 於另一實施態樣中，本發明提供一種測量玻璃 基板之不勻率之系統，此系統包括光源部及狹縫部。此光 源部配置成用以輸出光線。狹縫部配置成具有至少一狹 縫。於此，從光源部輸出之光線，係穿過狹縫部之狹縫而 輸入至玻璃基板内。經輸入之光線係由玻璃基板之上表面 及下表面反射。對應由玻璃基板之上表面反射之第一反射 光線之第一線條，係與對應由玻璃基板之下表面反射之第 201221945

1 W//J5KA 二反射光線之第二線條分離。 [0027] 此系統還包含感測部及不勻率測量部。此感測 部係配置成用以感測第一線條及第二線條。此不勻率測量 部係配置成用以從由感測部感測之複數個線條中僅擷取 第一線條，且藉由分析所截取之第一線條而測量玻璃基板 之不句率。於此，感測部藉由直接從玻璃基板獲取而感測 複數個線條。 [0028] 此系統還包含屏幕、感測部及不勻率測量部。 第一反射光線及第二反射裝線係輸入至此屏幕中。於此， 對應第一反射光線之第一線條及對應第二反射光線之第 二線條係形成於此屏幕上，感測部係感測複數個線條，且 不勻率測量部係從由感測部感測之複數個線條中僅擷取 並分析第一線條而測量玻璃基板之不勻率。 [0029] 於又一實施態樣中，本發明提供一種測量玻璃 基板之不勻率之方法。此方法包括下述步驟。輸入第一光 線至玻璃基板。感測第一線條及第二線條之至少一者，其 中，第一線條對應由玻璃基板之上表面反射之第一反射光 線，第二線條對應由玻璃基板之下表面反射之第二反射光 線’第二反射光線係穿透上表面而輸出。於此，第一線條 及第二線條係分離的。 [0030] 此方法還包含下述步驟。從複數個線條中僅擷 取第一線條。藉由分析所截取之第一線條而測量玻璃基板 之不勻率。 [0031] 輸入第一光線至玻璃基板之步驟包含下述步 驟。使用第一透鏡擴散第一光線。使用第二透鏡將第二光 8 201221945

I W / /J5PA 線改變成具有恆常光束寬度之第一光線，並將第一光線輸 入至玻璃基板内。於此，依據由玻璃基板之上表面反射之 第一反射光線而於屏幕上形成第一線條，依據由玻璃基板 之下表面反射之第二反射光線而於屏幕上形成第二線條。 [0032] 光源、第一透鏡及第二透鏡係包含於一機殼 中’且此機殼能全方向移動。此方法還包含下述步驟。於 固定玻璃基板及屏幕之情況下，移動機殼直到分離複數個 線條’再於複數個線條分離之後固定機殼。於此，於固定 光源部及屏幕之情況下，測量玻璃基板之不勻率。 [0033] 第二透鏡及玻璃基板之間之距離以及從玻璃 基板至屏幕上形成第一線條之一部分之距離，二距離之比 例為1:1至1:0.5,且光源基於玻璃基板之上表面而位於45 度至80度之範圍内。 [0034] 於第二透鏡及玻璃基板之間之距離為6〇公厘 至120公厘且光源基於玻璃基板之上表面而位於45度至 80度之範圍内之情況下，倘若從玻璃基板至屏幕上形成第 一線條之一部分之距離小於60公厘，則能分離複數個線 條。 [0035] 感測步驟包含藉由直接從玻璃基板獲取而感 測第一線條及第二線條。於此，第一光線係穿過具有至少 一狹縫之狹縫部之狹縫而輸入至玻璃基板内。 [0036] 第一反射光線係輪入至屏幕，且依據第一反射 光線而於屏幕上形成第一線條。第二反射光線係輸入至屏 幕，且依據第二反射光線而於屏幕上形成第二線條。於 此，第一光線係穿過具有至少一狹縫之狹縫部之狹縫而輸

201221945 TW7738PA 入至玻璃基板。 [0037] 本發明之測量玻璃基板之不勻率之系統及方 法’係毋須對玻璃基板之下表面進行任何處理’便能測量 玻璃基板之不勻率。因此，能夠減縮用於測量不勻率所花 費的時間及成本。亦能易於自動化測量之處理。 [0038] 此外，於清楚分離對應由玻璃基板之上表面反 射之第一反射光線之第一線條以及對應由玻璃基板之下 表面反射之第二反射光線之第二線條之後，此系統及此方 法係分析第一線條。因此，此系統及此方法能準確測量玻 璃基板之不勻率。 [0039] 更甚者，因能夠使用簡單的元件來實施此系 統，而易於實現此系統並能降低此系統之錯誤。 [0040] 以下將藉由參照後附圖式詳述本發明之實施 示範例，而使本發明之實施示範例更加明顯易懂。 【實施方式】 [0051] 此後，將參照後附圖式詳述本發明之實施例。 [0052] 第2圖繪示根據本發明之某一實施示範例中由 玻璃基板所造成之反射之剖視圖。 [0053] 本實施例中用於測量玻璃基板之不勻率之系 統’係測量玻璃基板200之表面之不勻率（irregularity或 non-uniformity )’較佳為測量玻璃基板200之上表面200a 之不勻率。於此’玻璃基板2〇〇為用於顯示裝置中之透明 基板，例如使用於液晶顯示器LCD之基底基板。 [0054] 此後，將描述玻璃基板200之光線反射特性， 201221945

i W//36KA 且於之後將詳述測量玻璃基板200之不勻率之系統。 [0055] 首先，將詳述玻璃基板2〇〇之光線反射特性。 [0056] 參照第2圖所示，倘若從光源（未繪示）輸出 之具有特疋波長之光線210係輸入至玻璃基板200内，經 輸入之光線210之一部分係由玻璃基板2〇〇之上表面2〇〇a 反射’光線210之另一部分係由玻璃基板2〇〇之下表面 200b反射。因此’倘若光線21〇輸入至玻璃基板200内， 則會由上表面2〇〇a產生第一反射光線212,且由下表面 200b產生第二反射光線214，此第二反射光線214係穿透 上表面200a而輪出。 [0057] 一般而言，倘若玻璃基板200之上表面200a 及下表面200b為均勻的，且光線21〇之一部分係由玻璃 基板200之上表面2〇〇a反射，則入射角Θ會等於反射角Θ。 此外’由下表面200b所反射至第二反射光線214則會以 平行於第一反射光線212之方式行進。 [0058] 於上表面2〇〇a及下表面200b並不均勻時，所 發生的現象係與上表面2〇〇a及下表面200b為均勻時所發 生之現象不同。然而，第一反射光線212及第二反射光線 214是藉由基板200之上表面200a及下表面200b所產生 的。 [0059] 於製造顯示裝置之處理中，由於玻璃基板200 之上表面200a上通常會藉由濺鍍方法而層疊複數個層， 故測量玻璃基板200之上表面200a之不勻率是極為重要 的。 [0060] 然而，因光線210輸入至玻璃基板200内時， 201221945

1 W//3»PA 由下表面200b所反射之第二反射光線214以及由上表面 所反射之第一反射光線212皆會產生’而難以測量上表面 200a之不勻率。詳言之’由於第二反射光線214會干涉第 一反射光線212，而難以僅分離出第一反射光線212。 [0061] 因此，於第一反射光線212及第二反射光線214 皆會產生之情況下，本發明提供一種避免第二反射光線 214干涉之方法。 [0062] 此後，將參照後附圖式詳述測量玻璃基板200 之系統及方法。 [0063] 第3圖繪示根據本發明第一實施例之用於測量 玻璃基板之不勻率之系統之架構圖。 [0064] 第3圖中，從光源部300輸出之具有特定波長 之光線210係輸入至玻璃基板200内，且因此由基板200 之上表面200a及下表面200b反射而輸出第一反射光線 212及第二反射光線214。於此，光線210能具有恆常光 束寬度，且能為可見光、紫外光或紅外光。 [0065] 於本發明之某一實施例中，光源部300能使用 雷射來輸出光線210,或者如下所述使用透鏡來輸出具有 恆常光束寬度之光線210。 [0066] 由玻璃基板所反射之第一反射光線212及第二 反射光線214,係輸入至位於玻璃基板200上方之屏幕302 内。於此’屏幕302係由不透明物質製成，因而使第一線 條310及第二線條312形成於屏幕上302,其中，第一線 條310係如同對應第一反射光線212之干涉條紋，第二線 條312係如同對應第二反射光線214之干涉條紋。 12 201221945

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[0067] 另一方面，本實施例之系統係調配其元件，以 使第一線條310及第二線條312能在視覺上分離。以下將 描述之。 [0068] 隨後，系統僅分析線條310及312中之第一線 條310，從而測量玻璃基板200之不勻率。由於第一線條 310及第二線條312係被清楚地分離，對於系統而言能易 於單僅獲得關於第一線條310之資訊。 [0069]簡言之，本實施例之用於測量玻璃基板之不勻

率之系肌月疋刀離邦愿第一反射光線2丨2之第一線條 310以及對應第二反射光線214之第二線條312，以便於 準確測量玻璃基板之μ率，且之後僅使用第一線條 310測量玻璃基板200之不勻率。 [0070] 此後’將參照後附圖式詳述分離第—線條· 及第二線條312之方法’ 及各種測量不勻率之方法。 [0071] 第4圖繪不第3圖中用於測量玻璃基板之不勻 率之系統之示㈣。第5圖繪示根據本發明之某-實施示 範例之光源部之示意圖。第6“6Β圖㈣線條圖樣之示 意圖。 [0072] 於第4圖中’本實施例之用於測量玻璃基板之 不勻率之系統’包含光源部3 及不勾率測量部402。 〇、屏幕3〇2、感測部· 300輸出具有特定波長之光線，且將且 t β束寬度之光線210冑入至玻璃基板内，此;^ 線210例如為可見光。 此九 光 [0074]於本發明之某—實施例中如第$圖所示， 13 201221945

I W7738FA 源部300能包含光源500、第一透鏡502及第二透鏡504。 [0075] 光源500例如使用發光二極體之雷射，且能輸 出可見光、紫外光或紅外光。 [0076] 第一透鏡502擴散從光源500輸出之光線 520，第二透鏡504係將經擴散之光線522改變成具有恆 常光束寬度之第一光線210。於此，第二透鏡5〇4能為圓 柱形透鏡。 [0077] 亦即，光源部300能輸出具有恆常光束寬度之 第一光線210。 [0078] 於本發明之某一實施例中，如第5圖所示，做 為光源部300之元件之光源5〇〇、第一透鏡502及第二透 鏡504 ’能包含於一機殼510中。於此，元件5〇〇、5〇2、 504係設置於機殼510中。機殼51〇能上下左右移動。 [0079] 如第4圖所示，光源部3〇〇係設定成具有指定 角度（於玻璃基板200之表面及光源部3〇〇之間之角度^ 以及基於玻璃基板200之間隔距離a。 又1 [_]於本發明之某—實施例中，能如下所述變更角 度θι及間隔距離a之至少一者，以分離線條31〇及312。 以下將描沭之。 [剛對應反射光線212及214 及312係形成於屏幕302上。屏幕302係設置成= 条璃3 板200以指定距離b間隔。 取興玻璃 [〇〇82]感測部400感測形成於屏幕302上之線條3 及312,例如使用照相機拍攝線條31〇及312圖 於此，並未限制感測部之位置及角度 = 201221945

I W/ /^5FA 能獲得形成於屏幕302上之線條31〇及312之圖案即可。 施例巾’感測部·能從形 成於屏幕302上之線條310及312中僅獲得第一線條31〇 之圖案。由於比起獲得及分析僅有第一線條31〇之圖案， 從線條310及312之圖案中更易單僅操取關於第-線條 31〇之資訊，故獲得線條310及312之圖案者較佳。 [0084]不勻率測量部術係藉由分析第—線條31〇而 測量玻璃基板罵之不勻率，且包含不勻率決定部楊。 ”t之’不句率決定部41()係經由有線或無線 傳輸而連接至感測部400，且從感測部4〇〇接收線條31〇 1 312之圖案’並從圖案中單僅操取關於第一線條31〇之 資訊。於此，由於第一線條31〇為散射圖樣，且包含關於 玻璃基板200之瑕疵的資訊，故不勻率決定部41〇能藉由 分析第一線條310而測量玻璃基板2〇〇之不勻率。 [0086] 不勻率測量部402能被實現為電腦（未繪示）， 且能進一部包含顯示部等元件，以提供經過測量的結果至 管理人員。 [0087] 此外’電腦能不僅能測量不勻率，還能控制光 源部300及屏幕302之移動。 [0088] 簡言之，本實施例之用於測量玻璃基板之不勻 率之系統，係獲得分離的線條31〇及312之圖案，且僅分 析圖案中之第一線條310，從而準確測量玻璃基板200之 不勻率。 [0089] 如上所述，清楚分離線條310及312是必須 的’以便於準確測量玻璃基板2〇〇之不勻率。因此’為了 15 201221945 1 w / /j〇r/\ 獲得分離的線條310及312，本實施例之系統較佳設定玻 璃基板200及光源部300之間之角度Θ〗、玻璃基板200及 光源部300之間之間隔距離a以及玻璃基板200及屏幕302 之間之距離b。 [0090] 於此，將藉由實際實驗結果，詳述設定系統之 處理。 [0091] 於光源部300及玻璃基板200之間之角度Θ丨 以及間隔距離a分別設定為45度及110公厘。之後，管 理人員隨著調整玻璃基板200及屏幕302之間之距離b， 觀察形成於屏幕302上之線條310及312。 [0092] 藉由實驗證實，如第6A圖所是，線條310及 312在視覺上分離時，距離b最佳為52公厘，且直到距離 b為約60公厘時，線條310及312會無干涉地分離。然而， 倘若距離b大於60公厘，則會如第6B圖所示，線條310 及312不會清楚分離且會彼此干涉。 [0093] 隨後，於光源部300及玻璃基板200之間之距 離a維持在11〇公厘之情況下，光源部300及玻璃基板200 之間之角度係依序設定為60度、75度及85度。之後， 管理人員隨著調整玻璃基板200及屏幕302之間之距離 b ’觀察形成於屏幕302上之線條310及312。 [〇〇94]藉由實驗證實，線條310及312清楚地分離 時’距離b最佳分別為50公厘、38公厘、及5公厘。 [0095]之後，於光源部3〇〇及玻璃基板200之間之角 度h維持恆定之情況下，依序設定光源部3〇〇及玻璃基板 200之間之距離a。接下來，管理人員隨著調整玻璃基板 201221945 1 w / 200及屏幕302之間之距離b，觀察形成於屏幕3〇2上之 線條310及312。 [0096] 如上所述，管理人員隨著調整各種角度心、距 離a及距離b ’觀察線條31〇及312。 [0097] 簡έ之，於光源部3〇〇及玻璃基板2〇〇之間之 角度Θ!為約45度至80且光源部3〇〇及玻璃基板2〇〇之間 之距離a為約60公厘至uo公厘之情況下，倘若玻璃基 板200及屏幕302之間之距離b小於約6〇公厘，則於屏 幕302上之線條310及312會在視覺上分離。然而，從玻 璃基板最小以5公厘間隔屏幕3〇2，以防止玻璃基板2〇〇 之故障。玻璃基板200及屏幕3〇2之間之距離b例如為約 5公厘至約60公厘。 [0098] 此外經證實，倘若光源部3〇〇及玻璃基板200 之間之距離a以及從玻璃基板2〇〇至屏幕3〇2上形成第一 線條310之一部分之距離b，二距離a及b之比例為1:1 至1:0.5 ’且光源部300及玻璃基板200之間之角度Θ〗為 45度至80度，則於屏幕302上之線條310及312會在視 覺上分離。 [0099] 更經證實，倘若隨著增加光源部300及玻璃基 板200之間之角度Θ!而縮短玻璃基板200及屏幕302之間 之距離b，則於屏幕302上之線條310及312會在視覺上 分離。 [0100] 此後，將詳述設定本實施例之用於測量玻璃基 板之不勻率之系統的處理。 [0101] 首先，基於玻璃基板200，於特定位置以特定 17 201221945

i w / /^orA 角度建立光源部300及屏幕302。 [0102] 隨後，用於測量不勻率之系統係能上下左右移 動光源部300，直到線條31〇及312清楚地分離。亦即， 系統會隨著調整光源部300及玻璃基板200之間之角度Θ丨 及距離a ’而偵測出線條310及312能清楚地分離之最佳 角度Θ〗及距離a。於此，能根據管理人員的控制而自動化 光源部300之移動。 [0103] 之後，系統係以所偵測之角度θι及所偵測之距 離a設定及固定光源部300。 [0104] 隨後，用於測量不勻率之系統係藉由使用滾輪 依序移動玻璃基板200而測量玻璃基板之不勻率。 [0105] 換言之，用於測量不勻率之系統能藉由設定屏 幕302於特定位置之後調整光源部300之方法來實現。 [0106] 於本發明之另一實施例中，用於測量不勻率之 系統，係能藉由於固定光源部300之情況下調整屏幕302 之方法來實現。 [0107] 參照第2至6B圖，本實施例之用於測量玻璃 基板之不勻率之系統係使用透鏡，且基於玻璃基板200設 定光源部300及屏幕302於較佳位置及較佳角度，以清楚 分離線條310及312。於此，調整光源部300及屏幕302 之處理能由管理人員手動執行’亦可由電腦自動執行。 [0108] 此後，將比較本實施例之測量玻璃基板之不勻 率之方法以及習知測量玻璃基板之不勻率之方法。 [0109] 習知系統係使用於玻璃基板之下表面上塗覆 指定物質之方法，或者使用將玻璃基板漂浮於水面上之方 201221945

1 W7/3KFA 法’以使輪入至玻璃基板内之光線不由玻璃基板之下表面 反射。因此’於測量玻璃基板之不勻率之後，習知系統應 需要更進一步移除塗覆於玻璃基板之下表面上之物質之 處理。因此’可能增加用於測量玻璃基板之不勻率所花費 的時間及成本，且會降低使用玻璃基板之顯示裝置之 量。 [011〇]然而’本發明之系統對於玻璃基板200之下表 面則不執行任何處理，而是使用玻璃基板200本身，且以 分離形成於屏幕上之線條310及312之方式實現。因此， 系統毋須額外的處理，而能夠減縮用於測量不勻率所花費 的時間及成本，進而能增進使用玻璃基板200之顯示裝置 之產量。 [0111] 此外，由於用以測量不勻率之系統係由簡單的 元件300、302及4〇〇所實現，因而易於實現此系統並 將此系統產生錯誤的可能性降至極低。 [0112] 第7圖繪示根據本發明第二實施例之用於測量 玻璃基板之不勻率之系統之示意圖。第8圖繪示根據本發 明之某一實施示範例之狹縫部之示意圖。第9圖繪示第7 圖之系統中之感測結果之示意圖。 [0113] 於第7圖中，本實施例之用於測量玻璃基板之 不勻率之系統，係包含光源700、狹縫部704及感測部706。 [0114] 光源700輸出具有特定波長之第一光線， 光源700例如為雷射。 [0115] 如第8圖所示’狹縫部704包含至少一狹縫 800，且於測量不勻率時開啟一部分或全部的狹縫8〇〇。因 201221945

TW7738PA 此，隨著第一光線710傳遞穿過狹缝800時，從光源700 輸出之第一光線710會改變成具有恆常光束寬度之第二光 線 712。 [0116] 第二光線712輸入至玻璃基板702内之後，由 玻璃基板702上表面及下表面反射。 [0117] 不像第一實施例中感測部400感測屏幕302， 感測部706例如以拍攝上表面之方式感測玻璃基板702之 上表面’從而獲得如第9圖所示之内含二個線條900及902 之圖案。於此，第一線條900為干涉條紋，其對應由玻璃 基板702之上表面反射之第一反射光線。第二線條902為 干涉條紋’其對應由玻璃基板702之下表面反射之第二反 射光線。 [0118] 由感測部706感測之圖案係提供至不勻率決定 部（未繪示）’且不勻率決定部藉由僅分析線條9〇〇及902 中之第一線條900，而測量玻璃基板702之不勻率。 [0119] 簡言之’本實施例之用於測量玻璃基板之不勻 率之系統係使用狹縫部704。更甚者，感測部7〇6係直接 從玻璃基板702獲取，從而獲得線條9〇〇及902之圖案。 [0120] 與前述相異，根據狹縫部704之位置，線條900 及902能清楚分離或干涉。因此，本實施例之系統係藉由 調整狹縫部704或光源部700之位置之方法而設定，以使 線條900及902能清楚分離。接著，系統係藉由滾輪移動 玻璃基板702而依序測量玻璃基板7〇2之不勻率。 [0121] 第1〇圖繪示根據本發明第三實施例之用於測 量玻璃基板之不勻率之系統之示意圖。 20 201221945

1 W//J6rA

[0122] 於第10圖中，本實施例之用於測量玻璃基板 之不勻率之系統’係包含光源1000、狹縫部1004、屏幕 1006及感測部1008。 [0123] 不像第二實施例中感測部706直接感測玻璃基 板702，本實施例之系統係使用狹縫部1004，且藉由感測 形成於屏幕1006上且對應反射光線1〇14及1016之線條， 而測置玻璃基板1002之不勻率。 [0124] 換言之’不像其他實施例，感測部1〇〇8能位 於玻璃基板1002之下表面之下方。然而，感測部1〇〇8能 根據屏幕1006之設定角度而位於玻璃基板1〇〇2之上方。 [0125] 於本說明書中關於「某一實施例」、「一個實施 例」、、「實施示範例」等之任何參考文獻意味著此實施例 相關所說明之一特別特徵、構造或特性係包含在本發明之 至少一實施例中。在此說明書之各種不同地方中之這種片 語之出現並不需要全部參見相同的實施例。又，當一特別 特徵、構造或特性係與任何實施例相關被說明時，吾人要 承〜的疋其係在熟習影響與其他實施例相關之這種特 徵、構造或特性之本項技藝者之範圍之内。 [0126] 雖然已參考其一些例示的實施例說明數個實 施例二但是吾人應理解許多其他修改與實施例可被熟習將 落在這個揭露内容之原理之精神與範缚之内的本項技藝 者所發明。尤其，各種變化與修改係可能在揭露内容、圖 式與以下的㈣專職圍之科_域組合配置之各 種組成部分及/或配置上。除了在組成部分及/或配置中之 變化與修改以外，替代使用亦將是熟習本項技藝者明白 21 201221945

1W//38PA 的。 【圖式簡單說明】 第1圖繪示一般製造玻璃基板之處理之示意圖。 第2圖繪示根據本發明之某一實施示範例中由玻璃 基板所造成之反射之剖視圖。 第3圖繪示根據本發明第一實施例之用於測量玻璃 基板之不勻率之系統之架構圖。 第4圖繪示第3圖中用於測量玻璃基板之不勻率之系 統之示意圖。 第5圖繪示根據本發明之某一實施示範例之光源部 之示意圖。 第6A及6B圖繪示線條圖樣之示意圖。 第7圖繪示根據本發明第二實施例之用於測量玻璃 基板之不勻率之系統之示意圖。 第8圖繪示根據本發明之某一實施示範例之狹縫部 之示意圖。 第9圖繪示第7圖之系統中之感測結果之示意圖。 第10圖繪示根據本發明第三實施例之用於測量玻璃 基板之不勻率之系統之示意圖。 【主要元件符號說明】 10 :玻璃溶液 20 :熔爐 30 :不勻表面 22 201221945

1 W//38FA A:玻璃溶液注入方向 B:玻璃基板輸出方向 200、 702、1002 :玻璃基板 200a :上表面 200b :下表面 210 ： 光線 212 ： 第一反射光線 214 ： 第二反射光線 300 ： 光源部 302、 1006 :屏幕 310、 900 :第一線條 312、 902 :第二線條 400、 706、1008 :感測部 402 ： 不勻率測量部 410 ： 不勻率決定部 500、 700、1000 :光源 502 ： 第一透鏡 504 ： 第二透鏡 510 ： 機殼 520、 522、710、712 :光線 704、 1004 :狹縫部 800 ： 狹縫 1014 、1016 :反射光線 θ ' θι :角度 a、b :距離 23

Claims (1)

1. 201221945 TW7738PA 七、申請專利範圍： 1. 一種測量玻璃基板不勻率之系統，包括： 一光源部，係配置成用以輸出一第一光線至該玻璃基 板；以及 一屏幕， 其中，從該光源部輸出之該第一光線’係由該玻璃基 板之一上表面及一下表面反射，由該玻螭基板之該上表面 反射之一第一反射光線係輸入至該屏幕内，依照該第一反 射光線之輸入而於該屏幕上形成一第一線條’由該玻璃基 板之該下表面反射之一第二反射光線係穿透該上表面而 輸入至該屏幕内，依照該第二反射光線之輸入而於該屏幕 上形成一第二線條，且該光源部及該屏幕係基於該玻璃基 板而設置，以分離該第一線條及該第二線條。 2. 如申請專利範圍第1項所述之系統，更包括： 一感測部，係配置成用以感測形成於該屏幕上之該第 一線條及該第二線條；以及 一不勻率測量部，係配置成用以從由該感測部感測之 該第一線條及該第二線條中僅擷取該第一線條，且藉由分 析所截取之該第一線條而測量該玻璃基板之不勻率。 3. 如申請專利範圍第1項所述之系統，其中，該光 源部包括： 一光源，係配置成用以輸出一第二光線； 一第一透鏡，係配置成用以擴散從該光源輸出之該第 二光線；以及 一第一透鏡’係配置成用以將由該第一透鏡所擴散之 24 201221945 I W / /0WJK 該第二光線改變成具有恆常光束寬度之該第一光線。 4. 如申請專利範圍第3項所述之系統， 其中，該光源、該第一透鏡及該第二透鏡係包含於一 機殼中，且該機殼能全方向移動，以及 其中，於固定該玻璃基板及該屏幕之情況下，透過移 動該機殼之方法，該系統係偵測該第一線條及該第二線條 分離之最佳之一位置，再固定該機殼於所偵測之該位置。 5. 如申請專利範圍第4項所述之系統，其中，該光 源部及該玻璃基板之間之距離以及從該玻璃基板至該屏 幕上形成該第一線條之一部分之距離，此二距離之比例為 1:1至1:0.5 ’且該光源部基於該玻璃基板而位於45度至 80度之範圍内。 6. 如申請專利範圍第4項所述之系統，其中，於該 光源部及該玻璃基板之間之距離為6〇公厘至120公厘且 該光源部基於該玻璃基板而位於45度至80度之範圍内之 情況下’倘若從該玻璃基板至該屏幕上形成該第一線條之 一部分之距離小於60公厘，則該第一線條及該第二線條 分離。 7. 如申請專利範圍第4項所述之系統，其中，於固 疋該第二透鏡及該玻璃基板之間之距離之情況下，隨著增 加該玻璃基板及該光源部之間之角度，縮短該玻璃基板及 該屏幕之間之距離。 8· —種測量玻璃基板不勻率之系統，包括： 一光源部’係配置成用以輸出一光線；以及 一狹縫部’係配置成具有至少一狹縫， 25 201221945 i w / 其中’從該光源部輸出之該光線，係穿過該狹縫部之 該狹缝而輸入至該玻璃基板内，經輸入之該光線係由該破 璃基板之一上表面及一下表面反射，對應由該玻璃基板之 該上表面反射之一第一反射光線之一第一線條，係與對應 由該玻璃基板之該下表面反射之一第二反射光線之一第 二線條分離。 9. 如申請專利範圍第8項所述之系統，更包括： 一感測部，係配置成用以感測該第一線條及該第二線 條；以及 一不勻率測量部，係配置成用以從由該感測部感測之 該第一線條及該第二線條中僅擷取該第一線條，且藉由分 析所截取之該第一線條而測量該玻璃基板之不勻率， 其中’該感測部藉由直接從該玻璃基板獲取而感測該 第一線條及該第二線條。 10. 如申請專利範圍第8項所述之系統，更包括： 一屏幕’該第一反射光線及該第二反射裝線係輸入至 該屏幕中； 一感測部；以及 一不勻率測量部， 其中’對應該第一反射光線之該第一線條及對應該第 二反射光線之該第二線條係形成於該屏幕上，該感測部係 感測該第一線條及該第二線條，且該不勻率測量部係從由 該感測部感測之該第一線條及該第二線條中僅榻取並分 析該第一線條而測量該玻璃基板之不勻率。 11. 一種測量玻璃基板不勻率之方法，包括： 26 201221945 1 w / 輸入一第一光線至該玻璃基板； 感測一第一線條及一第二線條之至少一者，其中，該 第一線條對應由該玻璃基板之一上表面反射之一第一反 射光線’該第二線條對應由該玻璃基板之一下表面反射之 一第二反射光線，該第二反射光線係穿透該上表面而輸 出， 其中’該第一線條及該第二線條係分離的。 12·如申請專利範圍第11項所述之方法，更包括： 從該第一線條及該第二線條中僅擷取該第一線條；以 及 藉由分析所截取之該第一線條而測量該玻璃基板之 不勻率。 13. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其中，輸 入該第一光線至該玻璃基板之該步驟包括： 使用一第一透鏡擴散從一光源輸出之一第二光線 使用一第二透鏡將該第二光線改變成具有恆常光束 寬度之該第一光線，並將該第一光線輸入至該玻璃基板 内， 其中，依據由該玻璃基板之該上表面反射之該第一反 射光線而於一屏幕上形成該第一線條，依據由該玻璃基板 之該下表面反射之該第二反射光線而於該屏幕上形成該 第二線條。 14. 如申清專利範圍第13項所述之方法，其中，該 光源、該第一透鏡及該第二透鏡係包含於一機殼中，且該 機殼能全方向移動，且該方法還包括： 27 201221945 I W7738PA 於固定該玻璃基板及該屏幕之情況下，移動該機殼直 到分離該第一線條及該第二線條；以及 於該第一線條及該第二線條分離之後固定該機殼， 且其中，於固定該光源部及該屏幕之情況下，測量該 玻璃基板之不勻率。 15. 如申請專利範圍第13項所述之方法，其中，該 第二透鏡及該玻璃基板之間之距離以及從該玻璃基板至 該屏幕上形成該第一線條之一部分之距離，此二距離之比 例為1:1至1:0.5，且該光源基於該玻璃基板之該上表面而 位於45度至80度之範圍内。 16. 如申請專利範圍第13項所述之方法，其中，於 該第二透鏡及該玻璃基板之間之距離為60公厘至120公 厘且該光源基於該玻璃基板之該上表面而位於45度至80 度之範圍内之情況下，倘若從該玻璃基板至該屏幕上形成 該第一線條之一部分之距離小於60公厘，則該第一線條 及該第二線條分離。 17. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其中，感 測之該步驟包括： 藉由直接從該玻璃基板獲取而感測該第一線條及該 第二線條， 且其中，該第一光線係穿過具有至少一狹縫之一狹縫 部之一狹縫而輸入至該玻璃基板内。 18. 如申請專利範圍第12項所述之方法，其中，該 第一反射光線係輸入至一屏幕，且依據該第一反射光線而 於該屏幕上形成該第一線條，該第二反射光線係輸入至該 28 201221945 1 W//i8m 屏幕，且依據該第二反射光線而於該屏幕上形成該第二線 條， 且其中，該第一光線係穿過具有至少一狹縫之一狹縫 部之一狹縫而輸入至該玻璃基板。 29