TW201216004A - Photosensitive composition, photosensitive film, photosensitive layered product, method of forming permanent pattern, and printed wiring board - Google Patents
Photosensitive composition, photosensitive film, photosensitive layered product, method of forming permanent pattern, and printed wiring board Download PDFInfo
- Publication number
- TW201216004A TW201216004A TW100130879A TW100130879A TW201216004A TW 201216004 A TW201216004 A TW 201216004A TW 100130879 A TW100130879 A TW 100130879A TW 100130879 A TW100130879 A TW 100130879A TW 201216004 A TW201216004 A TW 201216004A
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- group
- resin
- formula
- acid
- photosensitive
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
- H05K3/285—Permanent coating compositions
- H05K3/287—Photosensitive compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
201216004 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於一種感光性組成物、感光性薄膜 感光性積層體、永久圖案形成方法及印刷基板。 【先前技術】 先則,在形成抗銲劑等的永久圖案時係使用感光 薄膜,该感光性薄膜係藉由在支撐體上塗布感光性組 物且乾燥來形成感光層而成。作為前述永久圖案的製 方法,例如可舉出在形成前述永久圖案之覆銅積層板 的基體上,使前述感光性薄膜積層而形成積層體,且 在該積層體的前述感光層進行曝光,而且曝光後將前 感光層顯像而使其形成圖案,隨後’進行硬化處理來 成前述永久圖案之方法。 由前述感光性組成物所形成之前述永久圖案,在 回流等的烙焊(soldering)步驟,為了作為用以防止焊 黏附在不必焊接的部分之保護膜的功&,而被要求耐 I·生又為了作為用以保持基體上的電配線之間的電 緣之絕緣膜的功能,而被要求絕緣性。又,被要求能 應用在各式各樣的環境所使用的印刷基板之強韌性。 作為提升絕緣性、強韌性及耐熱性之通常的手段 已知在感光性組成物調配填料係有效的。 近年來,在印刷基板,伴隨著高密度化、小型化 輕量化等的尚功能化’配線圖案被要求微細化。 因而,針對前述感光性組成物,使用前述感光性 成物所形成之永久圖案,係被要求微細化’亦即高解 性 成 造 等 對 述 形 IR 料 敎 〇»> 絕 組 像 -3 - 201216004 么’、頁像殘渣。又,因為對微細的配線圖案之追隨性 係有必要的,所以被要求低黏度化。 =上由於配線圖案的微細化,所以絕緣性的要求水 準亦提阿。並且’由於對環境的顧慮而使用無鉛焊料, 在烙焊步驟的焊料溫度上升’所Μ熱性的要 提高。 但是,欲增加填料的調配量來使絕緣性、強韌性及 才”’、〖生提升時,有感光性組成物係高黏度化之問題。 因此,在絕緣性樹脂組成物,為了防止因増加填料 的調配量引起高黏度化,有提案揭示—種使用驗性高分 子分散劑之技術(專利文獻υ。在該提案的技術,具體上 ,使用稱為S0lsperse 24000(Avecia化學公司製)之鹼性 高分子分散劑。 但是,在該提案的技術,雖然能夠防止高黏度化, 然而,在感光性組成物應用該技術時,有產生解像性低 落、發生顯像殘渣之問題。 在彩色濾光片所使用之著色硬化性組成物,有提案 揭示—種技術(專利文獻2),其係將具有特定的官能基及 特定的側鏈之樹脂使用於分散著色顏料。該提案的技術 係顯示為了改良使用平均粒徑為〇 005 A m〜〇」# m的微 細顏料時分散性,前述樹脂係有效的β 但是,在該提案,對於使用平均粒徑為比〇丨# m大 的填料時、填料的調配量為較多時的分散性並未進行研 討’而且’對於應用在感光性組成物時之耐熱性、強韌 性及絕.緣性亦完全未進行研討。 -4 - 201216004 因此’現狀係要求提供一種即便填料的含量 況’黏度亦不會變高且解像性高、無顯像殘渣, 熱性、強韌性及絕緣性優良之感光性組成物,以 s亥感光性組成物之感光性薄膜、感光性薄膜、烕 層體、永久圖案形成方法及印刷基板。 [先前技術文獻] [專利文獻1]特開200 1 -96688號公報 [專利文獻2]特開2001-16031 8號公報 【發明内容】 [發明所欲解決之課題] 為了解決先前之前述課題,本發明之課題係 下的目的,亦即,本發明之目的係提供一種即便 含量多的情況’黏度亦不會變高且解像性高、 渣,而且耐熱性、強韌性及絕緣性優良之感光性每 以及使用該感光性組成物之感光性薄膜、感光性 感光性積層體、永久圖案形成方法及印刷基板。 [解決課題之手段] 作為用以解決前述課題之手段,係如以下。 < 1 > 一種感光性組成物,其特徵在於: .含有含氮原子的樹脂、該含氮原子的樹脂以 脂、熱交聯劑及填料; 前述含氮原子的樹脂係含有:具有氮原子的 與在則迷主鏈所存在的氮原子鍵結且在一部分具 為14以下的官能基之基;及與前述主鏈鍵結且數 分子量為5〇〇〜1,0〇〇,〇〇〇的接枝鏈。 多的情 及使用 光性積 達成以 填料的 顯像殘 •成物, 薄祺、 亦即, 外的樹 主鍵; 秀pKa 量平均 -5- 201216004 <2>如前述<1>之感光性組成物,其中填料係二氧 化矽。 <3> 如前述<1>至<2>項中任一項之感光性組成 物’其中相對於感光性組成物的固體含量丨〇〇質量份, 填料的含量為1 〇質量份〜97質量份。 <4> 如前述< 1 >至<3>項中任一項之感光性組成 物’其中具有氮原子的主鏈係由具有胺基的聚合物所構 成之主鏈。 <5>如前述<4>之感光性組成物,其中由具有胺基 的聚合物所構成之主鏈,係由選自聚(伸烷基亞胺)、聚 烯丙胺、聚二烯丙胺、間二甲苯二胺-表氯醇聚縮合物及 聚乙烯胺之1種以上所構成之主鏈。 <6> 如前述<1>至<5>項中任一項之感光性組成 物’其中在一部分具有pKa為1 4以下的官能基之基係下 述通式(V-1)至(v_3)所表示的基之任一者,
通式(V-3) 〇 通式(v-i) r-Vu-sosH 通式(V-2) 其中’前述通式(V-1)及前述通式(V-2)中,U係表示 單鍵及二價的連結基之任一者’ d及e係各自獨立地表 不0及1的任一者;前述通式(v_3)中,w係表示醯基及 燒氧基1¾基的任一者。 <7>如前述〇至<6>項中任一項之感光性组成 物,其中含氮原子的樹脂係具有下述通式(1_ 重複單元、及下述通式(Ι·2)所表示的重複單元,不的 201216004 * —(CRi R2)jf-N X 通式(1-1) * % ~(CR1R2)a-N· I 通式(1-2) * 其中,前述通式中,R!及R2係各自獨立 地表示氫原子、鹵素原子及烷基的任一者,a係各自獨 立地表示1〜5的整數之任一者,「*」係表示重複單元間 的連結部,X係表示在一部分具有pKa為14以下的官能 基之基’Y係表示數量平均分子量為5〇〇〜1,〇〇〇,〇〇〇的接 枝鍵。 <8>如前述<1>至<6>項中任一項之感光性組成 物’其中含氮原子的樹脂係具有下述通式(11_丨)所表示的 重複單元、及下述通式(Π-2)所表示的重複單元, * —cr3r4-ch-- * * —cr3r4-ch * cr5r6 I L 1 cr5r6 NH I j NH I X 通式(II-1) 通式(Π-2) 其中,前述通式(II-1)及(Π-2)中’ R3、R4、R5及r6 係各自獨立地表示氫原子、_素原子及烷基的任一者, 「*」係表示重複單元間的連結部,X係表示在一部分具 有pKa為1 4以下的官能基之基,γ係表示數量平均分子 量為500〜1,〇〇〇,〇〇〇的接枝鏈。 <9>如前述<1>至<8>項中任一項之感光性纽成 -7- 201216004 物,其中數量平均分子量為5〇〇〜L000 000的接枝鏈係下 述通式(III-1)所表示之接枝鍵, 〇
—L-Z 通式(III-1) 其中’前述通式(III-1)中,Z係至少具有將聚酯鏈作 為部分結構之聚合物殘基,且係表示從下述通式(Iv)所 表不之具有游離羧基的聚酯除去羧基而成之聚合物殘 基, 〇 HO—11~z 通式(IV) 其中’前述通式(IV)中’ z係與前述通式(111_丨)中的 z相同。 <1〇>如前述<1>至<9>項中任一項之感光性組成 物其中含氮原子的樹脂係使具有一級胺基及二級胺基 的至乂任者之樹脂;在一部分具有pKa為14以下的官 月匕基之基的別驅物;及數量平均分子量為500M,〇〇〇,〇〇〇 的接枝鏈的前驅物反應而得到之樹脂。 如前述<卜至<1〇>項十任一項之感光性組成 物其中進一步含有聚合性化合物及光聚合起始劑。 —種感光性薄膜,其特徵在於:在支撐體上 具有感光層’該感光層係包含如前述<1>至<11〉項中任一 201216004 項之感光性組成物。 <13> —種感光性積層體,盆牲外产 再特欲在於:在基體上 具有感光層,該感光層係含有如前述〈卜至^^項中任一 項之感光性組成物。 其特徵在於:至少 項之感光性組成 <14> 一種永久圖案形成方法 包含對使用如前述<1>至<11>項中任 物所形成之感光層進行曝光。 <15> —種印刷基板,其特徵在於:具備使用如前 述<14>之永久圖案形成方法所形成之永久圖案。 [發明效果] 依照本發明’能夠解決先前的前述各種問題,能夠 提供一種即便填料的含量多的情況,黏度亦不會變高且 解像性高、無顯像殘渣,而且耐熱性、強韌性及絕緣性 優良之感光性組成物,以及使用該感光性組成物之感光 性薄膜、感光性薄膜、感光性積層體、永久圖案形成方 法及印刷基板。 【實施方式】 [用以實施發明之形態] (感光性組成物) 本發明的感光性組成物係至少含有含氮原子的樹 脂、該含氮原子的樹脂以外的樹脂、熱交聯劑及填料’ 而且更含有聚合性化合物、光聚合起始劑及按照必要之 其他的成分。 <含氮原子的樹脂> 前述含氮原子的樹脂,係至少含有:具有氮原子的 -9- 201216004 主鏈;在一部分具有pKa為14以下的官能基之基; 平均分子量為500〜1,000,000的接枝鏈;而且按照必 有其他的構成。 _具有氮原子的主鏈- 前述含氮原子的樹脂係前述含有具有氮原子 鍵。前述含氮原子的樹脂係藉由含有具有氮原子 鏈,前述含氮原子的樹脂對填料的吸附性提升,能 低在前述感光性組成物之填料間的相互作用。藉此 便在前述感光性組成物之填料的含量多的情況亦 抑制黏度變高。 作為前述具有氮原子的主鏈,係只要具有氮原 沒有特別限定,能夠按照目的而適當地選擇,以由 胺基的聚合物所構成之主鏈為佳。 作為由具有胺基的聚合物所構成之主鏈’係以 自聚(伸烧基亞胺)、聚烯丙胺、聚二烯丙胺、間二 一胺-表氣醇聚縮合物及聚乙烯胺之丨種以上所構成 鏈為佳,以由聚(伸烷基亞胺)所構成之主鏈、由聚 胺所構成之主鏈為較佳。前述較佳態樣時,就填料 散性能提升且能夠抑制在感光性組成物之黏度變 吕’乃是有利的。 作為前述聚(伸烷基亞胺)的伸烷基,例如可舉 數為1〜5的伸烧基。 前述聚烯丙胺的烯丙基係亦可具有取代基。作 述取代基,例如可舉出齒素原子、烷基等。 前述聚(伸烷基亞胺)係可以是鏈狀亦可以是網 數量 要含 的主 的主 夠減 ,即 能夠 子, 具有 由選 甲苯 之主 稀丙 的分 兩而 出碳 狀0 201216004 就分散安定性及原料供給性而言,以網狀為佳。 前述具有氦原子的主鏈係由聚(伸烷基亞胺)所構成 鏈時作為前述含氮原子的樹脂,係以具有下述通 式(ί-〗)所表示的重複單元、及下述通式(ί-2)所表示的重 複單元之結構為佳。 一具有下述通式所表示的重複單元、及下述通 式U-2)所表示的重複單元之結構一 *~'(CR1R2)a-N 通式(1-2) * *--(cr1rVn-—*
X 通式(1-1) 其中’前述通式⑴”及…之)中,R1及R2係各自獨立 地表不氫原子、鹵素原子及烷基的任一者,a係各自獨 立地表示1〜5的整數之任一者,「*」係表示重複單元間 的連結部’ X係表示在一部分具有pKa為14以下的官能 甘 土之基’Y係表示數量平均分子量為5004,000,000的接 枝鍵。. 又,在前述通式(1-1),從前述通式(;[_〗)除去χ而成 之部分係相當於前述具有氮原子的主鏈。 在前述通式(1-2) ’從前述通式(1-2)除去γ而成之部 分係相當於前述具有氮原子的主鏈。 作為前述通式(1-1)及(1-2)的R1及R2的院基,例如 可舉出亦可具有取代基之碳數i〜5的烷基。作為前述取 代基’例如可舉出鹵素原子。 作為前述通式(I -1)及(I - 2)的X,係只要在—部今具 201216004 有為14以下的官能基之基,沒有 日3曰从二、立土 ’特別限制’能夠按 …目的而適虽地選擇,例如可舉出後 nK. K 1y1 呔之在—部分具有 pKa為14以下的官能基之基。 作為通式(1-1)及(Ι·2)的γ ’係只 、戈'数1平始公 為500〜1,000,000的接枝鏈,沒有 _ 的而適當地選擇,例如可舉出後述能夠按照目 ,綱的接㈣。 之“平均分子量為 式π二:ί氮原子的樹脂係除了前述通式(M)及前述通 式(1-2)所表示的重複單元以外,亦 斛主更具有下述通式(1-3) 所表不的重複單元作為共聚合成分。 罝- ^ M L 错由併用此種重複 早7L,填料的分散性能提升且能詞 之黏度變高, 抑制在感光性組成物 *--(CR1rV-NH2 土 (Y')_ 通式(1-3) 其中’前述(1-3)中’ Ri及R2刀 π 1λΑΑ , d2 )甲K及K及a係各自與前述通式 U-1)的R、R及a相同,「*係> _ 却 , _ 」 表不重複單元間的連結 ,Λλ 有陰離子基之數量平均分子量為 500〜1,〇〇〇,〇〇〇的接枝鏈。 又’在前述通式(1-3),從前述通式㈣除去Υ而成 之部分係相當於前述具有氮原子的主鏈。 前述通式(1-3)所表示之重複嚴- 衣丁 I置禝旱疋,係能夠藉由在具 有一級胺基及二級胺基的至少任〜 j y ί 者之樹脂,添加具有 與胺反應而形成鹽的基之聚合物 7便其反應來形成。在 -12- 201216004 此,作為前述陰離子,係以Co,、s〇3_為佳,以c〇2·係 更佳。前述陰離子基係以位於Y,所具有之數量平均分 子置為500〜1,〇〇〇,〇〇〇的接枝鏈的末端位置為佳。 在前述通式(1-1)、通式(1_2)及通式(I_3),Rl及r2 係以氫原子為佳。就原料容易取得而言,a係以2為佳。 月J述含氮原子的樹脂係除了前述通式(I _ 1)、通式(I _ 2) 及通式(1-3)所表示之重複單元以外,亦可含有含一級或 三級的胺基的伸烧基亞胺作為重複單元。&,在此種伸 烷基亞胺重複單元之氮原子,亦可進而與前述χ、γ或γ, 之基鍵,..σ。含有在伸烷基亞胺的重複結構與前述 χ所表不的基鍵結而成的重複單元及與前述¥鍵結而成 單元的雙方之樹脂,亦被包含在前述含氮原子的 别述通式(1_1)所表示之重複單元,係在—部分 pKa為14以下的官能基之眸 殘渣及解像性而山仏〇 置祓早凡,就顯像時的 樹脂㈣重複單-V 單元係在前述含氮原子的 以含:3莫耳%〜5。莫耳%為更佳。 、耳為佳, 均二:式(1_2)所表示之重複單元,係具有之數量平 . 500~15000,000 γ 保存女疋性而言,此種重複單元係在 = 月曰的總重複單元中, 3虱原子的樹 以含有30莫耳。/ 70笪:莫耳%〜90莫耳%為佳, 吴斗/〇〜70莫耳%為更佳。 作為前述通式(Ι·η (1-2)所表示之重複 *不之重複單元與前述通式 複早几在前述含氮原子的樹脂之含有 201216004 比,就分散性及親疏水性的平衡而言,曹 _ ° 里硬早7L (I - 1 ) (1-2)係莫耳比以1〇 : 1〜1 : 1〇〇的範圍為佳以1 : 1】 10的範圍為更佳。 又,依照需要而併用之前述通式(1_3)所表示之重複 單元,係數量平均分子量為5〇〇〜!,〇〇〇,〇〇〇的接枝鏈為^ 子性地鍵結於具有前述氮原子的主鏈之氮原子者,就效 果的觀點而言,係以前述含氮原子的樹脂的總重複單 >元 中含有0.5莫耳%〜2〇莫耳%為佳,含有i莫耳莫耳 %為更佳。 · ' 又’所謂離子性地鍵結,係能夠使用紅外線分光法、 酸值滴定、鹼滴定等來確認。 前述具有氮原子的主鏈係由聚烯丙胺所構成之鏈部 的情況,作為前述含氮原子的樹脂,係以具有下述具有 式下述通式(II-丨)所表示的重複單元、及下述通式(π_2) 所表示的重複單元之結構為佳。 一下述具有式下述通式所表示的重複單元、及下述 通式(π_2)所表示的重複單元之結構—
* +CR3R4-CH INH通式(II-D
* —CR^-CH
cr5r6NH 通式(Π-2) 其中’前述通式(Π_1)及(Π_2)中,r3、r4、R5及R6 係各自獨立地表示氫原子、齒素原子及烷基的任一者, 201216004 *」係表示重複單元間的連結部’ x係表示在—部分具 有pKa為1 4以下的官能基之基,γ係表示數量平均分子 量為500〜1,000,000的接枝鏈。 又,在前述通式(11-1),從前述通式除去X而 成之部分係相當於前述具有氮原子的主鏈。 在前述通式(11-2),從前述通式(11_2)除去γ而成之 部分係相當於前述具有氮原子的主鏈。 作為前述通式(II-1)及(II-2)的R3、r4 5 κ及R的烧 基’例如可舉出亦可具有取代基之碳數為 人双馮1〜5的烷基。 作為前述取代基,例如可舉出鹵素原子。 作為前述(Π-1)及(Π-2)的X,係只要在一部分呈有 PKa為14以下的官能基之基,沒有 打八 π将別限制,能夠按照 目的而適當地選擇’例如可舉出猞 又地之在一部分呈有 PKa為14以下的官能基之基。 八 曰作為前述(IM)及(11_2)的Y,係只要數量平 3:為500〜1,〇〇〇,〇〇〇的接枝鏈,沒有 刀 η ^ ^将別限制,能夠按昭 目的而適虽地選擇,例如可舉出後 &之數量平均分子哥 為500〜1,〇〇〇,000的接枝鏈。 里 前述含I原子的樹脂係除了前述( 通式(ΙΙ·2)所表示的重複單元以彳 )及削遂 ΠΤ h讲志-+ 以進而將下述通式 (Π-3)所表不之重複單元作為共聚合 由併用此葙舌、每g - 成刀而含有為佳。藉 田併用此種重複単凡,填料的分 .... , ^故升’而且能夠 I7制在感光性組成物之黏度變高。 -15- 201216004 -cr3r4-ch--* cr5r6 r!jH2+ (γ·Γ 通式(II-3) 與前 示重 平均 成之 少具 與胺 此, 更佳 量為 容易 pKa 殘渣 樹脂 以含 其中’前述通式(ΙΙ_3)中,r3、r4、r5及 述通式(II-1)中的r3、r4、尺5及r6相同,「* 、 複單,間的連結部,γ,係表示具有陰離子基:數: 分子置為500〜1,〇〇〇, 〇〇〇的接枝鏈。 里 又,在刖述通式(11-3),從前述通式(ΙΙ-3)除去γ 部分係相當於前述具有氮原子的主鏈。 前述通式(ΙΙ-3)所表示之重複單元,係能夠藉由在至 有-級胺基及二級胺基的任一者之樹脂添加具有 反應而形成鹽的基之聚合物而使其反應來形成。在 作為前述陰離子,係以c〇2·、s(V為佳,以c〇2•係 。前述陰離子基係以位於γ,所具有之數量平均分子 5 00〜1,〇〇〇,〇〇〇的接枝鏈的末端位置為佳。 在前述通式(Π-1)、通式(ΙΙ·2)及通式(11_3) ’就原料 取得而言,R3、R4、R5及R6係以氫原子為佳。 前述通式(ΙΙ-1)所表示之重複單元,係在一部分具有 為14以下的官能基之基χ之重複單元,就顯像時的 及解像性而言,此種重複單元係在前述含氮原子的 的總重複單元中,以含有i莫耳。/。〜8〇莫耳%為佳, 有3莫耳%〜50莫耳%為更佳。 201216004 约八=通式(Π·2)所表示之重複單71,係具有之數量平 均为子4 5〇〇〜丨,_,_的接枝鏈γ之重複單元,: 保存女疋性而言’此種重複單元係在前述含氮原子 脂的總重禮蕈元中,人士 幻树 I早兀中,以含有10莫耳%〜9〇莫耳%為佳, 以3有30莫耳%〜70莫耳%為更佳。 作為前述通式(Π-i)戶斤矣+ +圣雜结-& 之重複早7^與前述通式 (2):表示之重複單元在前述含氮原子的樹脂之含有 匕就刀政女定性及親疏水性的平衡而言,重複單元 (11]) . (ΙΙ·2)係莫耳比以1G : w : i⑽的範圍為佳,以 1 . 1〜1 : 1 〇的範圍為更佳。 又,依照需要而併用之前述通式(π_3)所表示之重複 早凡’係數量平均分子量為5⑼〜1,⑽〇,〇GG的接枝鏈為離 子性地鍵結於具有前述氛原子的主鏈之氮原子者,就效 果的觀點而言,係以前述含氮原子的樹脂的總重複單元 中3有0.5莫耳%〜20莫耳%為佳,含有J莫耳 0/〇為更佳。 、开 ^又,所謂離子性地鍵結,係能夠使用紅外線分光法、 酸值滴定、鹼滴定等來確認。 / 作為前述具有氮原子的主鏈之數量平均分子量,係 沒有特別限制,能夠按照目的而適當地選擇,以 100〜1 0,000為佳,以200〜5,〇〇〇為更佳,以5004,500 為特佳。前述數量平均分子量為前述特定範圍時,就兼 具感光性組成物的黏度及顯像性而言,乃是有利的。具 有則述氛原子的主鍵之分子量,係能夠從使用核磁共振 光譜法測定之末端基與鏈部的氫原子積分值之比率來求 -17- 201216004 得。又,例如將具有胺基的聚合物作為前述含氮原子的 樹脂之原料時,能夠藉由測定前述具有胺基的聚合物之 分子量來求得。 -在一部分具有pKa為14以下的官能基之基_ 在一部分具有pKa為1 4以下的官能基之基,係含有 與在具有前述氮原子的主鏈所存在的氮原子鍵結之基且 於水溫25。(:的pKa為14以下的官能基之基。 在此’「pKa」係在化學手冊(π)(改訂4版、1 993年、 曰本化學會編、丸善股份公司)所記載之定義者。 作為前述pKa為1 4以下的官能基,係只要物性滿足 該條件者,沒有特別限制,能夠按照目的而適當地選擇’ 可舉出眾所習知的官能基且pKa為滿足上述範圍者,具 體上係例如可舉出羧酸(pKa3〜5:左右)、磺酸(pKa_3〜_2 左右)、磷酸((pKa2 左右)、-C0CH2C0-(pKa8〜10 左右)、 -COCH2CN(pKa8〜11 左右)、-conhco·、酚性經基、 -RFCH2OH或- (RF)2CHOH(RF係表示全氟烷基。(化“〜丄i 左右))、磺醯胺基(pKa9〜11左右)等。該等之中,以緩酸 (pKa3〜5 左右)、% 酸(pKa-3〜-2 左右)、_c〇CH2CO_ (pKa8〜10左右)為佳。 前述在一部分具有pKa為1 4以下的官能基之基,係 通常直接鍵結於在具有前述氮原芊的主鏈所存在之氮原 子者’但是前述具有氮原子的主鏈之氮原子與前述在一 部分具有pKa為14以下的官能基之基,係不只是以共價 鍵,亦可以是以離子鍵結而形成鹽的態樣進行連結。 前述含氮原子的樹脂’係亦可以是在分子内具有2 201216004 種以上互相不同之前述在_ 能基之基。 部分具有pKa為1 4以下的官 作為前述在一部分JL古 八有PKa為14以下的官能基之基 的分子量,係沒有特別限制 y 制’忐夠按照目的而適當地選 擇’以50~1,〇〇〇為佳,以 征以50〜500為更佳。藉由該分子 量的範圍,顯像性、分散性變為良好。 作為在一部分具有pKa為] + At ^ β芍14以下的官能基之基,係 以下述通式(V-1)所表示之基 丞、下述通式(V-2)所表示之 基、下述通式(V-3)所表示之基為彳土。
通式(V-3) Ο 0 (^ )d U-CO2H —so3h 通式(v-1) 通式(V-2) 其中,則述通式(V-1)所表示之基及前述通式(ν·2) 中,u係表不單鍵及二價的連結基之任一者。d及e係各 自獨立地表示0及1的任—者。 前述通式(v-3)中,w係表示醯基及烷氧基羰基的任 一者。 作為前述ϋ所表示之二價的連結基,係沒有特別限 制’能夠按照目的而適當地選擇,例如可舉出伸烷基、 含氧的伸烷基、伸環烷基、伸芳基、伸烷氧基。 作為前述伸烷基,例如可舉出-CH2-、-CH2CH2-、 -CH2CH(CH3)_、-(CH2)5-、-CH2CH(n-Ci〇H2丨)-等。 作為前述含氧的伸烷基,例如可舉出-CH20CH2-、 -CH2CH2OCH2CH2-等。 201216004 作為前述伸環烷基,例如可舉出伸環丁基、 基、伸環己基、伸環辛基等。 作為前述伸芳基,例如可舉出伸苯基、伸甲 、 伸聯苯基、伸萃美、# Α α 甲不丞伸夫喃基(furanylene)、伸吡咯基 (pyrrolylene)等。 土 作為刖述伸烷氡基,例如可舉出伸乙氧基、 基、伸苯氧基等。 f l 成該等之中’以碳數U0的伸烷基、碳數5〜2〇的伸 環烷基、碳數6〜20的伸芳基為佳,以碳數“2〇的伸烷 基、碳數5〜1〇的伸環烧基、碳數6〜15的伸芳基為更佳。 作為前述d,就生產性而言,係以丨為佳。土 作為前述e,係以〇為佳。 基 作為在前述W之酿基,例如可舉出碳數i〜3〇的醯 前述碳數㈣的酿基中,就製造的容易性及原料的 取杈谷易性而言’係以甲醯基、乙醯基、正丙醯基、苯 曱醯基為佳,以乙醯基為更佳。 作為在前述W之烷氧基羰基,例如可舉出甲氧基羰 基、乙氧基羰基、丙氧基羰基、異丙氧基羰基、丁“ 幾基、異丁氧基丁氧基幾基、第三丁氧基幾 基、戍氧基数基、己氧基幾基、庚氧基数基、辛氧基艘 基、2_乙基己基羰基、壬氧基羰基、癸氧基羰基、3,7-二曱基辛氧基羰基、十二烷氧基羰基等。 匕卞為月j述pKa為14以下的官能基在前述含氣原子的 树月曰之s里比得、/又有特別限制,能夠按照目的而 201216004 O.Olmmol〜5mmol 為佳,以 0.05mm〇1〜lmm〇1 為更佳。前 述含量在前述較佳範圍時,填料的分散性、分散安定性 提升且在則述感光性組成物,未硬化部的顯像性係優良。 又,刖述含氮的樹脂的酸值係5mgKOH/g〜50mg KOH/g,就前述感光性組成物的顯像性而言,乃是較佳。 在此,酸值滴定係能夠使用眾所習知的方法來進 订,例如能夠使用指示劑法(使用指示劑來看清楚中和點 之方法)、電位差測定法等來進行。又,在酸值滴定所使 用的滴定液係能夠使用市售氫氧化鈉水溶液,但是如具 有比較尚的pKa之官能基(例如_c〇CH2C〇_、酚性羥基 等)’使用該氫氧化鈉水溶液係難以測定的情況,能夠^ 製曱氧化鈉-二噚烷溶液等的非水系滴定液而使用非水 系溶劑系來測定酸值。 月,』述在一部分具有pKa & 14以下的官能基之基,复 特徵在於:與在前述具有氮原子的主鏈所存在的氮_ 鍵結。藉此,、填料的分散性、分散安定性係飛躍 升,即便在感光性組成物的填料含量係較多的情兄 能夠抑制黏度變高。其理由係不清楚,但是能夠如以; 推測。亦即’前述具有氮原子的主鏈之氮原子係以胺基、 敍基或醯胺基的結構存在,認為藉*胺基、錢基或^ 基係與填料表面的酸性部、氫鍵、離子鍵^目 附於填料。而且,因為前述在—部分具有_為14以= 的/能基之基係作為酸基之功能,能夠與填料 (氮原子等)或金屬原子互相作用。亦即,認為因為前; 氣原子的樹脂係藉由氮原子及含有前述_為14:下: -21 - 201216004 官能基 使得吸 升,其 情況, 而 因為在 能基者 前述含 對塗膜 溶解除 顯像液 之基, 附能力 結果, 亦能夠 且,在. 該基係 ,所以 氮原子 賦予能 去而形 的顯像 能夠吸附填料的鹼性部及酸性部之雙方, k门且刀放〖生、分散安定性係飛躍性地提 即便在感光性組成物的填料含量係較多的 抑制黏度變高。 -部分具有咖為14以下的官能基之基, 以部分結構的方式含有pKa為14以下的宫 亦作為鹼可溶性基之功能。藉此,認為將 ,樹脂使用在感光性組成物,且使用在如 里而使其部分性地硬化,而且將未曝光部 成圖案的用途之情況,未硬化區域對鹼性 性係提升。 而且’認為藉由前述含氮原子的樹脂,係複合性地 有助於提升填料的分散性、分散安定性及提升感光性,且 成物的顯現性,使得解像性提高而能夠得到無 的感光性組成物。 i _數量平均分子量為500〜1,〇〇〇,〇〇〇的接枝鏈_ 作為前述數量平均分子量為5〇〇〜!,〇〇〇,〇〇〇的接枝 鍵’係只要與前述具有氮原子的主鏈鍵結之鏈部且數量 平均分子量為500〜1 〇〇,〇〇〇的接枝鏈,係沒有特別限制, 月b夠按照目的而適當地選擇’例如可舉出能夠與前述含 氣原子的樹脂之具有氮原子的主鏈連結之聚酯、聚酿 胺、聚亞醯胺、(甲基)丙烯酸酯等眾所習知的聚合物鍵。 前述數量平均分子量為5〇〇〜1,〇〇〇,〇〇〇的接枝鏈
' π〜丹月IJ 述具有氮原子的主鏈的鍵結部位’係以前述數量平均分 子量為500〜1,〇〇〇,〇〇〇的接枝鏈之末端為佳。 -22- 201216004 又,前述含氮原子的樹脂,係亦可以具有在分子内 2種以上互相不同結構之前述數量平均分子量為 500〜1,000,000的接枝鏈。 前述數量平均分子量為500〜1,0〇〇,〇〇〇的接枝鏈,係 與前述具有氮原子的主鏈之氮原子鍵結為佳。前述數量 平均分子量為500〜1,000,000的接枝鏈與前述具有氮原 子的主鏈之氮原子的鍵結樣式,係共價鍵、離子鍵、和 共價鍵及離子鍵的混合之任一者。前述數量平均分子量 為500〜1,000,000的接枝鏈與前述具有氮原子的主鏈之 氮原子的鍵結樣式之比率,係共價鍵:離子鍵= ι〇〇· 〇〜〇 : 1〇〇 ’以95 : 5〜5 : 95為佳,以9〇 : 1〇〜1〇 : 9〇為更佳, 以95 · 5〜80 · 2為特佳。藉由使共價鍵與離子鍵的鍵結 :式為該較佳範圍,填料的分散性、分散安定性提升且 月’J述含氮原子的樹脂的溶劑溶解性係變為良好。 述數量平均分子量為則〜1,_,_的接枝鏈,係 4述具有氮原子的主鏈之氮原子進行醯胺鍵結;及 進行離子鍵結作為羧酸鹽為佳。 平均均:子量為500〜i,00。,。00的接枝鏈之數量 夠藉由使用GPC法之換算聚苯乙稀值 平均八子曰::以咖〜3。,_為更佳。前述數量 刀子里為更佳範圍時,就填料的分散性、分散 性組成物的顯像性而言,乃是有利的。 月丨j述數a:平均分;旦& 〜Λ 以在前述且有“工 ,000,000的接枝鏈,係 “具有氮原子的主鏈連結2個以上為佳,以連結 -23- 201216004 5個以上為最佳。 前述數量平均分 以下μ 里為500〜丨,000,00。的接枝鏈,係 以下述通式(m·!)所表以接枝鏈為佳。 〇 —i__z A中W述通式(111_1)中,z係至少具有聚S旨鏈作$ 部分結構之聚合物殘基,且係表示從下述通式(IV)2 不之具有游離幾酸的聚醋除去緩基而成之聚合物殘基。 〇
HO—~u~~Z 通式(IV) /、中月述通式(IV)令,z係表示與前述通式) 中的Z相同。 :述含氣原子的樹脂係含有前述通式(Ι·3)所表示的 重複單元及前述(ΙΙ-3)所表示的重複單元之至少任一者 時’前述Υ’係以通式(ΠΙ-2)為佳。 〇 Ό—L~z 通式(III-2) 其中,前述通式(III-2)中,z係與前述通式(111-1}的 Z相同。 -24- 201216004 如述通式(ιν)所表示之具有游離的羧酸之聚酯(在 一末端具有羧基之聚酯),係例如能夠藉由(ιν_丨)羧基與 内醋的聚縮合、(IV_2)含羥基的羧酸之聚縮合、(IV 3)二 元醇與二元幾酸(或環狀酸酐)的聚縮合來得到。 --(IV-1)羧基與内酯的聚縮合一 作為前述羧酸與内酯的聚縮合所使用之缓酸,係沒 有特別限制’能夠按照目的而適當地選擇,例如可舉出 脂肪族羧酸、含羥基的羧酸等。 作為則述脂肪族敌酸,係以碳數1〜3 〇的直鏈緩酸、 石厌數1〜30的分枝羧酸為佳,以曱酸、乙酸、丙酸、丁酸、 戊酸、正己酸、正辛酸、正癸酸、正十二酸、棕櫚酸、 2-乙基己酸、環己酸為更佳。 作為前述含羥基的羧酸,係以碳數idO的直鏈含羥 ^的羧酸、碳數1〜30的分枝含羥基的羧酸為佳,以乙醇 馱、礼酸、3-羥基丙酸、4_羥基十二酸、5_羥基十二酸、 蓖麻醇酸、12_羥基十二酸、12-羥基硬脂酸、2,2-雙(羥 曱基)丁酸為更佳。 ’ 工 5玄等之中,以碳數6〜2〇的直鏈脂肪族羧酸、碳數 1〜20的含羥基的羧酸為特佳。 °亥等竣酸’係可單獨使用1種,亦可併用2種以上。 作為前述羧酸與内酯的聚縮合所使用之内酯,係沒 寺別限制,能夠按照目的而適當地選擇,例如可舉出 丙内Sg 、点-丁内酯、7_丁内酯、7_己内酯、辛 内酉旨、3 V, rtn ~ -戍内酉曰、己内酯、占·辛内酯、£_己内酯、 5十一内酯、α •甲基丁内酯等。該等之中,就反應 -25- 201216004 性、容易取得而言1卜M g| $ n 該等2内酯係可單獨使用1種,亦可併用2種以上。 /作為刖述羧酸與前述内酯的反應時之添加比率,因 士係取决於目標聚酯鏈的分子量而無法一種含義地決 疋以為莫耳比為緩酸:内酿=1 : 1〜1 : 1,000為佳,以 1 · 3〜1 : 500為更佳。 (IV-2)含羥基的羧酸的聚縮合__ 作為在則述含羥基的羧酸的聚縮合所使用之含羥美 、羧馱,係,又有特別限制,能夠按照目 例如與在前述(IV_U之人〜I认 田也、擇’ 同樣 )之3經基的羧基同樣,且較佳範圍亦 (IV-3)二元醇盘 _ - „ /、一 竣馱(或環狀酸酐)的聚縮合一 作為前述二元醇盘-_ 所# 知—π羧酸(或環狀酸酐)的聚縮合 1 1之用之二元醇,总、Λ 士丨I 1曰。 當地選擇,合“限制,能夠按照目的而適 族二醇。 舉出直鏈的脂肪族二醇、分枝的脂肪 作為前述直鏈的t i 醇,係以碳12 3Γ) /矢—酵及前述分枝的脂肪族二 二醇為更佳。作為前二為佳,以碳數2~20的脂肪族 舉出乙二醇、為則述妷數2〜2〇的脂肪族二醇,例如可 〜二一醇、rj:乙甘醇、三伸乙甘醇、二伸丙甘醇、 内二醇等。 —知、U•丙二醇、1,6-丙二醇,ls8_ 作為前述二^ 7Γ Λ**" —- 所使用之二元羧酽::羧酸(或環狀酸酐)的聚縮合 、糸 吸酉夂’係沒有特为丨PP心 ^地選擇’例如可舉出直 ^夠按照目的而 、一疋脂肪族幾酸、分枝 -26- 201216004 的二70脂肪族羧酸。 為前述直鏈的二元脂肪族竣酸及分枝的二元脂肪 奴羧酸,係以 30 兀知肪 3〜2。的二元rU: 缓酸為佳,以碳數 -元㈣為佳。作為前述碳數3〜20的 酸:如:街,、順丁稀二酸、己二的 烷一鷇戊—酸、辛二酸、酒$ ^& 丙二酸等。· 敗酒石酸、卓酸、 月’J述二元醇與二元缓酸 可使用鱼·- .+、 次衣狀馱酐)的聚縮合,亦 J便用與則述二元羧酸等價的 丌 酸酐等)。 .-(例如琥珀酸酐、戊二 刖述二元羧酸與前述二元醇 為佳。拉莫耳比為1:1禾士 為佳藉此,能夠在具有前 添加 酸之聚酿的末端導入羧酸。 次(IV)所表不之游離羧 在製造前述通式(IV)所表示之且 時之聚縮合,係以添加觸媒而進二酸的聚輯 係以作為路易斯酸的功能 ·"、土。作為前述觸媒, 酸的功能之觸媒,例如可為佳。前述作為路易斯 質子酸等。作為前述Ti介入物、Sn化合物、 Ti(〇_C4H9)4、Ti(〇_C3H 。物,例如可舉出 如可舉出辛酸錫、氧化二4 為前述Sn化合物,例 丁基過氧化一TA 产土錫、月桂酸二丁基錫、羥 』基錫、氯化錫、氣仆丁 w ^ 述質子酸,例如可舉 基錫等。作為前 作為前述聚心:酸、對f笨項酸等。 义取縮合之觸媒, 照目的而適當地選擇 寺別限制,能夠按 莫耳%〜10莫耳%為 〜羊體的莫耳數,以〇.〇1 莫耳莫耳%為更佳。 -27- 201216004 作為在前述聚墙人+ c 能夠按昭目的;、,、α反應〉風度,係沒有特別限制, 月b多·Ί彳女,,,、目的而@# 田地選擇’以8〇C〜250t為佳,以1〇0 C〜180ec為更佳。 玄以Ιϋϋ 作為在前述聚給人 昱,通常Α 、、、 σ反應時間,係因反應條件而 呉通节為1小時〜24小時。 作為前述通式(Ιλη _ 之…均分子量,:表不之具有游離缓酸的聚料 里係以1000〜1,〇〇〇,〇〇〇為佳,以 2,000〜100,〇〇〇為更佳 ,〇〜5〇,000為特佳。數量平 均为子里為前述範圍時, ^ ^ β 就月匕夠兼具分散性及顯像性而 吕,乃疋有利的。 旦,,月】述、式(IV)所表不之具有游離叛酸的聚g旨時之數 量平均分子量’能夠以使用 史用GPC法之換具聚苯乙烯的方 式測疋。 作為前述通式(IV)邱e a )斤表不之具有游離羧酸的聚酯, 就製造容易性而言,係LV w /ΤΛ7 ,、 ’、乂攸(IV-1)羧酸與内酯的聚縮合、 及(IV-2)含羥基的羧酸之 议文之♦細合的任一者所得到之聚酯 為佳0 將前述含氮原子的樹脂的具體例[(Α-1ΗΑ.60)],依 照樹脂所具有的重複單元的具體結構及其組合顯示在以 下’但是前述含氮原子的樹脂係不被此限定。下述式中, k、丨、m及η係顯示各自重複單元的聚合莫耳比,让係 1〜80、1 係 10〜90、m 係“⑽^係 〇〜7〇 且 k+i + m + n=i〇〇。 p及q係表示聚酯鏈的連結數,各自獨立地表示 5〜100,000。尺’係表示氫原子、烷氧基羰基的任一者。 -28- 201216004
όο2η (A-1) (A-2) (A-3) (A-4) (A-5) (A-10)
O C02H
LC02H O C02H (A-11)
」、|、co2h CgHi7-n _0^C02H (A-12) co2h (A-6) O C02i (A-7) o co2h (A-8) (A-13) (A-14)
O C〇2H (A-9)
H§2' c (A-15)
-29 201216004 ^ch2ch2-n)
*-(ch2ch2-nJ (〇; 4cH2CH2-NH2)^* ,〇YR . *- /p R' -CH2CH2-Nj-*
X
X C〇2H (A-16)
(A-23) 〇
S03H f 'c〇2h c〇2h (A-17)
O C〇2H (A-24) O S03H入/ 〇 c〇2h (A-18)
(A-25) —CH2C02H (A-19)
(A-26) —CH2CH2C〇2H (A-20)
〇 」k/CN 〇〇 (A-27) 〇Me 〇〇 (A-21)
(A-28)
CF3 〇 (A-22) -30- 201216004 *-i;CH2CH2-N)-: *{^2^2-^* *{CH2CH2-NH2^* 4CH2CH2-N^*
O—Y
o\ ^ 一 H
Y (A-29) ? (CH2)5-〇 ? C7H-15-I1 (A-30) ? (CH2)5-0- 〇i5H3i-n (A-31) 〇 -(CH2)5-〇
〇 (A-32) ? (CH2)5-0- o (A-33) (A-34) (A-35)
〇 JL 〇 -(CH2)5~〇- -ch2-〇- -CH2-O-
-H -(ch2)4- (ch2)5-〇- -3 1-
-H 201216004 ^ΟΗ2〇Η2~Ν^* *-(-CH2CH2_N^-j·* *^ΌΗ2〇Η2_ΝΗ2^7ή* *{~CH2CH2"~N')n'* 〇一Υ ^ Η χο2η Υ (Α-36) (Α-37) -(ch2)10-9h-o- ΟβΗ^-η ? (ch2)5-o- -Η
〇 JL -(CH2)i〇-9H—ο 〇6Ηΐ3-η 」? ,0- -Η (Α - 38) C5H11-Π
〇 JL CH2〇- (CH2)5-〇
-H (A-39) (A-40) ? (CH2)4-〇. -P -(ch2)5-o- ? .〇7Ηΐ5-η
「〇 II -(ch2)10—9h-o- 〇0Η·|3-η
-H (A-41)
〇 JL
-CH2—N-H (CH2)5-〇-
-H (A-42) -CH2CH2—NH. ? (CH2)5-〇- -32- 201216004 {〇12〇~12妹* *{〇12〇~12-咕* *{ch2ch2-Sh2Xch2ch2-_n 〇il 、c〇2h Θ
〇一Y
Y (A-43) o 〇 (CH2)4」—O —(CH2)4-〇
-H (A-44) (A-45) (A-46) 〇 O ^(〇η2)4-^——o
-H 〇
rO -(CH2)5-〇-
〇 II
CiiH23-n r〇 〇 -(CH2)5 -〇- -33- 201216004 (A-47) 「CH2-〒 HV ~fCH2_〒H)r I ch2 ch2 HNY^^C02H NH^iCH^O-^-QoHsrn O -ch2-ch- 〇
(ΟΗ2)5-Ο^-^〇10Η2ι-η /p -{ch2-?h)t CH〇 _ ch2
Hch厂严)Γ ch2 NH: HW 〇〇 十2-?七
O NH-(-丨丨..· (CH2)5-〇^-C5H1 j-n I ch2 i 0 ΘΝΗ2 o (A-49) -(-L(CH2)5-〇)- 〇 丄 HCH2-味 ch2 C5Hirn NH2
-34- 201216004 (A-50)
(A-51)
㊀〇—Lc10H2i-n -ch4- I o o NH -fL(CH2)5-〇 〇H21 -n *-|ch2-ch^-* nh2 〇 -35- 201216004 (A-52) —^-CH2〇H2—N 士 —^-CH2〇H2—N-|j- 〇 1 7-n
S〇3H Θ -(-CH2CH2-NH2^i —fCH2-CH-)^
CN o
〇 .〇M-C8H17-n φ (A-53) H2 ΊΧ,ΝΧΰ;
N" OH H
(〇J ? 7_n /p 〇"^^^co2h
C8H-|7-n -36- 201216004 (A-54)
.1 作 ν/χόο2η ο^〇·^γ^ο Ο 〇人ο八^/NMe2 s-
(A-55) —[·〇Η2〇Η2—Ν^ —[-CH2CH2-N-^p 〇 P OMe
OV-H /p
C〇2H (A-56)
~^^ΌΗ2〇Η2~N·^· —^CH2CH2—N-^j- —CH2CH 2 —N 〇
H 、c〇2h 〇八 (A-57) -fCH2CH2-N知 ~{CH2CH2-吐 co2h Θ -·^ΌΗ2〇Η2—NH2^~ ~^CH2〇H 2—N ·|^· ㊀ 〇 1 (CH2)5-O^-C10H21-n -37- 201216004 (A-58) —(-CH2CH2-N-)^ —fCH2CH2-N-)j- —^CH2CH2-N-}- c〇2h
(A-59) - O-(CH2CH2〇)_-H (CH2CH2-N^ -fCH2CH2-N|p -^CH2CH2-N-)^ co2h OH 〇
v^N (A-60) OMe -fCH2CH2-N-^· -fCH2CH2-N-)- -fcH2CH2-N4- I 1 H n OH 〇 ° j〇
ho2c^^ - 、s ^匕 O人OMe -含氮原子的樹脂的製造方法_ 作為别述含氮原子的樹脂的製造方法,例如可舉出 (1)使具有一級胺基及二級胺基的至少一者之樹脂、前述 ::部分具有pKa為14以下的官能基之基的前驅物、及 前述數量平均分子量為則〜1,GGG,G0()的接枝鏈之前驅 物反應之方法;及(2)藉由含氮原子的單體、含有前述在 邛刀具有山為14以下的官能基之基的單體、及含右 前述數量平均分早旦A 3有 J刀于里為500〜1,〇〇〇,〇〇〇的接枝鏈之單触 進行聚合之方法笠 # 嘴早月直 4。遠等之中,以使用前述(1)製造之方 法為佳。 7 一(1)的製造方法__ 作為則述(1)的製造方法’可舉出⑷使具有一級胺基 -38- 201216004 及二級胺基的至少一者之樹脂、前述在一部分具有pKa 為1 4以下的官能基之基的前驅物、及前述數量平均分子 量為500〜1,000,000的接枝鏈之前驅物同時反應之方 法;(b)使具有一級胺基及二級胺基的至少一者之樹脂、 及前述在一部分具有pKa為1 4以下的官能基之基的前驅 物反應之後,使該反應的生成物與前述數量平均分子量 為500〜1,〇〇〇,〇〇〇的接枝鏈之前驅物反應之方法;及(c) 使具有一級胺基及二級胺基的至少一者之樹脂、及前述 數量平均分子量為500〜1,000,000的接枝鏈之前驅物反 應之後’使該反應的生成物與前述在一部分具有pKa為 14以下的官能基之基的前驅物反應之方法等。該等之 中,以前述(c)的製造方法為佳。 —-具有一級胺基及二級胺基的至少一者之樹脂__ _ 作為前述具有一級胺基及二級胺基的至少一者之樹 脂’可舉出具有構成前述具有氮原子的主鏈之胺基之聚 5物作為具有前述胺基之聚合物,例如可舉出將聚(伸 燒基亞胺)、聚烯丙胺、聚二烯丙胺、間二曱苯二胺-表 氣醇聚縮合物、聚乙烯胺、3_二烷胺基丙基(曱基)丙烯醯 胺作為共聚合成分而含有之共聚物;及將(曱基)丙烯酸 2_ —燒胺基乙酯作為共聚合成分而含有之共聚物等。該 等之中’以聚(伸烷基亞胺)、聚烯丙胺為佳。 --在一部分具有pKa為14以下的官能基之基的前驅物 --_ 所謂前述一部分具有pKa為14以下的官能基之基的 月’J驅物’係表示能夠與前述具有一級胺基及二級胺基的 -39- 201216004 至少一者之樹脂反應,且能夠使前述在一部分具有pKa 為Μ U下的官能基之基對在前述含氮原子的樹脂之前 述具有氮原子的主鏈存在之氮原子進行鍵結之化合物。 作為前述在一部分具有pKa為14以下的官能基之基 的前驅物’例如可舉出環狀羧酸酐、含鹵素原子的叛酸、 石黃内酯、倍羰烯、環狀續酸基羧酸酐、含_ C 〇 C H 2 c i 的化合物、氰基乙酿氯等。該等之中,就生產性而言, 以環狀羧酸酐、磺内酯、倍羰烯為佳。 作為前述環狀羧酸酐’係以碳數4〜30的環狀缓酸肝 為佳。作前述碳數4〜30的環狀羧酸酐,例如可舉出破拍 酸酐、戊二酸酐、伊康酸酐、順丁烯二酸酐、稀丙基破 珀酸酐、丁基琥珀酸酐、正辛.基琥珀酸酐、正癸基號抬 酸酐、正十二基琥珀酸酐、正十四基琥珀酸針、正二十 -一稀基玻轴酸針、(2 -己稀-1-基)玻拍酸肝、(2_甲其丙稀 -1-基)破珀酸酐、(2 -十二烯-1-基)號拍酸酐、正辛稀基破 珀酸酐、(2,7 -辛二烯-1 -基)琥珀酸酐、乙醯基蘋果酸針、 二乙醯基酒石酸酐、氯橋酸酐、環己烧-1,2 -二缓酸針、3 或4-曱基環己院-1,2 -二羧酸酐、四氟破珀酸酐、3或4_ 核己坤·1,2 - 一幾_酸針、4 -甲基-4-環己稀-1,2 -二緩酸酐' 酉太酸酐、四氣狀酸針、萘酸酐、雙環[2.2.2]辛_7_稀 -2,3,5,6 -四羧酸二酐、焦蜜石酸二酐、内消旋·丁烧 -1,2,3,4-四羧酸二酐、1,2,3,4-環戊院緩酸二酐等。 作為前述含函素原子的缓酸,例如可舉出氯乙酸、 溴乙酸、碘乙酸、4-氯-正丁酸等。 作為前述磺内酯’例如可舉出丙烷磺内酯、丨,4 _ 丁 -40- 201216004 烷磺内酯等。 作為環狀磺酸基羧酸酐,例如可舉出2 -磺酸基苯甲 酸酐。 作為前述-COCH2COCl的化合物’例如可舉出乙烯 丙二醯氣。 …數量平均分子量為500〜1,〇〇〇,〇〇〇的接枝鏈之前驅物---所謂前述數量平均分子量為500〜1,000,000的接枝 鏈之前驅物,係表示能夠與前述具有一級胺基及二級胺 基的至少一者之樹脂進行反應,且使前述數量平均分子 量為500〜1,000,000的接枝鏈對前述含氮原子的樹脂之 具有前述具有氮原子的主鏈進行鍵結之化合物。 前述數量平均分子量為500〜1,〇〇〇, 〇〇〇的接枝鏈之 前驅物,較佳是數量平均分子量為5004,000,000的聚合 物且在其末端具有能夠與在前述含氣原子的樹脂之前述 具有氮原子的主鏈進行共價鍵結及離子鍵結的任一者之 基’更佳是數量平均分子量為5〇〇〜1〇〇〇〇〇〇的聚合物且 在其一末端具有游離幾基。 作為前述數量平均分子量為5〇〇〜1,〇〇〇,〇〇〇的接枝 鍵之前驅物’例如可舉出具有前述通式(IV)所表示的游 離羧酸之聚酯(在一末端具有羧基之聚酯)、在一末端具 有游離羧酸之聚醯胺、在一末端具有游離羧酸之聚(甲基) 丙稀酸系樹脂。該等之中,w具有前述通式(IV)所表示 的游離羧酸之聚酯為更佳。 ^削述數1平均分子量為500〜1,000,000的接枝鏈之 别驅物,係、能夠藉由眾所習知的方法來合成,例如具有 201216004 前述通式(ιν)所表示的游離羧酸之聚酯’係能夠藉由前 述(IV-1)羧酸與内酯的聚縮合、前述(IV_2)含羥基的羧酸 的聚縮合、前述(IV-3)二元醇與二元羧酸(或環狀酸酐) 的聚縮合等來製造。 前述在一末端含有游離羧酸之聚醯胺,係能夠藉由 含胺基的羧酸(例如甘胺酸、丙胺酸、0 -丙胺酸、2 -胺基 丁酸等)的自縮合等來製造。 前述在一末端含有游離羧酸之聚(甲基)丙烯酸g旨, 係能夠藉由在含羧酸的鏈轉移劑(例如3-巯基丙酸等)的 存在下,使(曱基)丙烯酸系單體進行自由基聚合來製造。 作為在製造前述含氮原子的樹脂之反應溫度,係沒 有特別限制,能夠按照目的而適當地選擇,以20。(:〜200 。(:為佳,以40°C ~150°C為更佳。 作為在前述製造之反應時間,係沒有特別限制,能 夠按照目的而適當地選擇’就生產性而言,以1小時〜4 8 小時為佳,以1小時〜24小時為更佳。 在前述製造之反應,亦可在溶劑存在下進行反應。 作為前述溶劑,可舉出水、亞颯化合物(例如二甲基亞颯 等)、酮化合物(例如丙明、甲基乙基酮、環己酮等)、酿 化合物(例如乙酸乙酿、乙酸丁酯、丙酸乙酯、丙二醇i _ 一曱基醚2 -乙酸酯等)、醚化合物(例如’二乙醚、二丁 醚、四氫呋喃等)、脂肪私煙化合物(例如,苯、己烷等)、 芳香族烴化合物(例如’曱苯、二曱苯、某等)、腈化合 物(例如,乙腈、丙腈等)、醯胺化合物(例如’ N,N-二甲 基曱醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-曱基吡咯啶酮等)、羧 -42- 201216004 酸化合物(例如乙酸、丙酸等)、醇化合物(例如,曱醇、 乙醇、異丙醇、正丁醇、3_甲基丁醇、丨_曱氧基-2_丙醇 等)、鹵素系溶劑(例如,氣仿、丨,2 _二氯乙院等)等。 使用刚述溶劑時,相對於反應原料,以使用〇 .丨質 置倍〜100質量倍為佳,以使用〇 5質量倍〜1〇質量倍為 更佳。 作為刖述製造之前述含氮原子的樹脂的純化方法, 係/又有特別限制,能夠按照目的而適當地選擇,例如, 可舉出再沈法。藉由使用前述再沈除去低分子量成分, 且將所付到之前述含氮原子的樹脂作為填料的分散劑而 使用時,分散性提升。 再沈係以使用己烷等的烴系溶劑、甲醇等的醇系溶 劑為佳。 --(2)的製造方法_ _ —作為在前述(2)的製造方法所使用之含氮原子的單 體,係沒有特別限制,能夠按照目的而適當地選擇,例 如可舉出(甲基)丙烯酸2_烷胺基乙酯、3-二烷胺基丙基 (甲基)丙烯醯胺、乙烯基吡啶、N_乙烯基咪唑等。該等 之中,以含二級胺基的單體為佳,以(甲基)丙烯酸2_烷 胺基乙、3 -二烷胺基丙基(甲基)丙烯醯胺為更佳。 在前述(2)的製造方法所使用之含有前述在一部分 具^ 為14以下的官能基之基之單體,係以含有前述 在-部分具有山為14卩下的官能基之基之(甲基 醯胺為佳’例如’以Ν·(甲基)丙烤酸基甘胺酸、N《甲 丙烯醯基丙胺酸等的含(甲基)丙烯醯基之胺基酸為更 -43- 201216004 佳0 作為在前述(2)的製造方法所使用之含有前述數量 平均分子量為500~1,〇〇〇,〇〇〇的接枝鏈之單體,可舉出眾 所習知的單體,以在聚(曱基)丙烯酸酯、聚苯乙烯或聚 酯的一末端具有聚合性基之單體為佳。又,作為此種單 體,係以東亞合成公司製MACR0M0N0MER-AA-6(末端 基為甲基丙烯醯基之聚甲基丙烯酸甲酯)、AS-6(末端基 為曱基丙烯醯基之聚苯乙烯)、AN-6S(末端基為曱基丙歸 S莲基之笨乙烯與丙烯腈的共聚物)、AB-6(末端基為甲義 丙烯醯基之聚丙烯酸丁酯)、DAICEL化學公司萝 PLACCELFM5(甲基丙烯酸2-羥基乙酯的ε_己内酯 耳當量加成品)、FA10L(甲基丙烯酸2-羥基乙酯的ε _己 内酯ίο莫耳當量加成品)、在特開平2_272〇〇9號公報所 s己載之聚醋系巨分子單體(macr〇mer)為佳。 在前述(2)的製造方法之聚合,係以在氮氣環境下使 用自由基聚合起始劑而進行為佳。 作為别述自由基聚合起始劑,係能夠使用眾所習知 的自由基聚合起始劑,就分子量的調整和處理而言以 偶氮雙異丁腈、.2,2,-偶氮雙異丁酸甲酯為佳。 刚述自由基聚合起始劑係相對於總單體的莫耳數, 以使用0.01莫耳%〜 夫叶/0 1 0冥耳/。為佳,以使0丨莫耳 耳%為.更佳。 & 在前述聚合, 為前述鏈轉移劑 醇(alkanethiol) 作
為了調整分子量,亦可添加鏈轉移劑。 ,以醇化合物為佳,以碳數5〜20的境 、2-毓基乙醇、2-巯基丙酸為更佳。 -44- 201216004 刚述鏈轉移劑係相對於總單體的莫耳 莫耳m莫耳%為佳,以使莫耳%〜5’以使用 更佳。 冥耳%為 作為在前述聚合之反應溫度,係沒有 夠按照目的而適當地選擇,6(rc 〜1〇〇<t ^ 1 "b t:為更佳。 以7〇 C〜90 作為在聚合時之反應溶劑,係沒有特別限 按照目的而適當地選擇,例如可舉出在前述 : 法所例示之溶劑》 製化方 :::此進:而得到之前述含氮原子的樹脂的重量 :刀i ’係沒有特別限制’能夠按照㈣而適當地 選擇,以S’OOOM’oomoo為佳,以5 〇〇〇〜5〇〇,_為更 佳。^重量平均分子量為前述範圍時,就高顯像性及 保存女疋性而言,乃是有利的。 作為前述.含氮原子的樹脂的含量,係沒有特別限 制’能夠按照目的而適當地選擇,相對於前述感光性組 成物的固體含量100質量份,以01 f量份〜7〇質量份為 佳,以1.0質量份〜50質量份為更佳,以2 〇質量份〜3〇 質量份為特佳。前述含量為小於Q1 f量份時,有填料 的分散性低落且黏度上升之情形,大於7〇質量份時在 填料的分散時,有產生粒子間交聯致使保存安定性低落 之情形。前述含量在前述特定範圍時,就填料分散後的 安定性而言,乃是有利的。 在前述含氮原子的樹脂之前述具有氮原子的主鏈, 氮原子的存在係能夠使用酸滴定等的方法來確認。 -45- 201216004 前述含氮原子的樹脂之前述pKa為1 4以下的官能基 的存在,及具有該官能基之基係與在前述具有氮原子的 主鏈所存在的氮原子鍵結,係能夠使用鹼滴定法、核磁 共振光譜法、紅外線光譜法等的方法來確認。 前述含氮原子的樹脂的前述數量平均分子量為 500〜1,000,000的接枝鏈係與前述具有氮原子的主鏈鍵 結,係能夠使用核磁共振光譜法、GPC法等的方法來確 認。 以下,將前述含氮原子的樹脂的具體例與其分子量 同時記載。
-CH2CH2—N
-CH2CH2—N
'CH2CH2—N 12
-H Q?Hi5-n ^co2h —NH。-
O ml 0__
I 〇7Η15-η OH2CH2—NH2 m2 -CH2CH2—NH- 0
-H k / (I1+I2) / (ml+m2) / n= ]0/50/5/35 x+y=40 Mw 24,000 Mw/Mn=l.6 -46- 201216004 Ί~CH2CH2—Ν cy
~|-~οΗ2〇Η2—Ν
+ch2ch2—吐2 ci5H3rn
Η -f-CH2CH2— Θ Ο © -CH2CH2-ΝΗ2~ ^Ο- m2 ~|~~ΟΗ2〇Η2—ι ΝΗ- k / (ΙΗΙ2) / (ml+m2) / 20/40/5/35 xfy=60 Mw 18,000 Mw/Mn=1.8 -f~CH2CH2* 十 CH2CH2—Ν* ~|·~ΌΗ2〇Η2—N-J-[〇; M so3h +CH2CH2—七, +CH2CH 广仏2七 +CH2CH 广 NH_j^ © -R·
H Θ
O 0 〇 Θο
-H k / (I1H2) / (m1+m2) / n= 5/60/10/25 x+y=20 Mw 12,000 Mw/(vh=1.6
Θ〇-
〇 J CH2CH2一N—
CH2CH2—NH· Ή
CgH^-nI/ m / n = 5/30/7/58 Mw 15,000 Mw/Mn=2.2 〇0Ηΐ3-Π -47- 201216004 —CH2—CH -j—CH2—CH |· CH: -\~CH2一CH -] ch2
HN CH2
〇5Η”-π HN Y^^CO^H o
CsHirn ft ch2 〇 -Η |—CH2—CH *j— ch2 I,
" I nh2
H k / (NH2) / (ml+m2) / n =30/60/5/5 Mw 40,000 Mw/Mn=2.5 ~f~CH2—CH -j— -|—ch2 —CH ]— | k 丨i ch2
ch2 HN
XT
CH2——CH CH,
NH 3 o HN--' I ch2 ©NHq O 丄 CyHis-n
CH2 nh9 Θ 〇 0 o Θ
O C7H15-n 0 k / (11 + 12) / (ml+m2) / n =20/70/5/5 Mw 42000 iv1w/Mn=2.5 ~h|4。人N- 〇
H 、co2h
〇 人 O^Y^O OH
S 〇 人0^\/NMe2 OMe k/l/n=10/ 64 / 28 Mw 32,000 Mw/Mn ^ 1.6. <樹脂〉 作為前述樹脂,係只要前述含氮原子的樹脂以外的 樹脂且為了導入感光性基及賦予鹼顯像性之酸基之化合 物,係沒有特別限制,能夠按照目的而適當地選擇,例 -48- 201216004 酸基之聚(曱基)丙;) 脂、聚酿胺樹脂、 、聚碳酸酯樹脂等 氧基之環氣樹脂與 多元酸酐反應而得 式環氧基之乙烯基 的酸基進行附加而 酸酐之乙烯基化合 基進行附加而成之 之乙細基化合物斜 行附加而成之改性 聚物;具有環氧丙 乙烯基化合物的開 以使具有2個以上 機酸反應之後,進 ^^異氧酸S旨及由聚 佳。 如導入感光性基及 脂、聚胺甲酸酯樹 醚樹脂、聚脲樹脂 具有2個以上的環 反應之後,進而使 有環氡丙基或脂環 樹脂之至少一部分 使具有異氰酸基或 之至少一部分的羥 有異氰酸基或酸酐 少一部分的胺基進 的二醇或二胺的共 或脂環式環氧基之 該等之中,係 脂與含乙烯基的有 而得到之聚合物、 聚胺甲酸酯樹脂為 布酸樹脂、聚酯樹 聚酿胺酸樹脂、聚 。而且,可舉出使 含乙烯基的有機酸 到之聚合物;使具 化合物對含羧基的 成之改性共聚物; 物對含羥基的樹脂 改性共聚物;使具 含胺基的樹脂之至 共聚物;含乙烯基 基或氧雜環丁烷基 環聚合物等。 的環氧基之環氧樹 而使多元酸酐反應 異氰酸酯所構成之 作為刖述聚胺甲酸酯樹脂 自聚異氰酸S旨之結構,作為前述聚胺=^ _及源 顯像性及硬化膜的強勤性而言 :’就驗 基的聚胺甲酸醋樹脂佳。 ’、乂使用3酸改性乙烯 3 S久改性乙烯基的聚胺甲酸酯樹脂-作為前述含酸改性乙嫌其 有特別限制,ft & i A胺甲酸酯樹脂,係沒 ⑴在側鏈具有乙烯性不飽和鍵之/選擇’例如可舉出 t胺甲酸酯樹脂;(ii) -49- 201216004 含羧基的聚胺甲酸醋與在分子中且有 化合物進行反應而得到之聚胺甲酸醋樹脂等…烯基的 --⑴:有乙稀性不飽和鍵之聚胺甲酸酷樹脂__
4乍為在側鐘. I , /、有乙烯性不飽和鍵之聚胺甲酸醋樹 月曰,係沒有特別限制,能夠按昭目的而摘A ' 如可κ屮,甘,丨 b刃妆…、目的而適當地選擇,例 牛在/、側鏈具有下述通式(1)〜(3)所表示 之至少1個者。 ]S I基 、,U 〇 R3 P^i 通式α) R1 R2 前述通式(1)中,Rl〜R3係各自獨立地表示氫原子及 1如的有機基的任一者。作為前述R 1,係沒有特別限制, 月b夠彳:ic知、目的而適當地選擇,例如可舉出氫原子、亦了 具有取代基之烷基等。該等之中,就自由基反應性高而 言’以氫原子、曱基為佳。又,作為前述R2及R3,係沒 有特別限制,能夠按照目的而適當地選擇,各自獨立地, 例如可舉出氫原子、鹵素原子、胺基、羧基、烷氧基幾 基、磺酸基、硝基、氰基、亦可具有取代基之烷基、亦 可具有取代基之烷氧基、亦可具有取代基之芳氡基、亦 可具有取代基之烷胺基、亦可具有取代基之芳胺基、亦 可具有取代基之烷基磺醯基、亦可具有取代基之芳基石黃 醯基等。該等之中,就自由基反應性高而言’以氫原子、 缓基、烧氧基幾基、亦可具有取代基之烧基、亦可具有 取代基之芳基為佳。 -50- 201216004
硫原子及 ’ 前$ Rl2係表示氫原子及1價的有機基的 壬一’。作為前述Rl2,係沒有特別限制,能夠按照目的 而適田地選擇,例如可舉出亦可具有取代基之烷基等。' 該等之中,就自由基反應性高而言,以氫原子、甲基、 乙基、異丙基為佳。 在此’作為能夠導入之前述取代基,係沒有特別限 制,flb夠按照目的而適當地選擇,例如可舉出燒基、烯 基'炔基、芳基、烷氧基、芳氧基、_素原子、胺基、 烷胺基、芳胺基、羧基、烷氧基羰基、磺酸基、硝基、 氰基、醯胺基、烷基磺醯基、芳基磺酸基等。
前述通式(2)中,R4〜R8係各自獨立地表示氫原子及 1價的有機基之任一者。作為前述R4〜R8,係沒有特別限 制,能夠按照目的而適當地選擇,可舉出氫原子、鹵素 原子、胺基、二炫胺基、羧基、烧氧基羰基、績酸基、 硝基、氰基、亦可具有取代基之烧基、亦可具有取代基 之芳基、亦可具有取代基之烷氧基、亦可具有取代基之 芳氧基、亦可具有取代基之烷胺基、亦可具有取代基之 芳胺基、亦可具有取代基之烧基績酸基、亦可被取代之 芳基確酸基等。該等之_,就自由基反應性高而言,以 氫原子、缓基、院氧基幾基、亦可被取代之烧基、亦可 -5 1- 201216004 被取代之芳基為佳。 作為能夠導人的取代基,可 者。又,Y係表示氧原子、硫原子前:f通式⑴同樣 前述R12係與前述通式⑴的R 'N(R )-的任—者。 同 樣。 』義,且較佳例子亦 通式(3) .rf: 前述通式(3)中,R9〜Rn係各自 1價的有機基之任—者。前述通式 原子及 係沒有特別限制,能夠按照目的而適杏地:別述R' 氫原子、亦可具有取代基之烷基等。:等之::舉出 基反應性高而言,以氫原子、甲基為l前述通式=自由 作為前述『“"’係沒有特別限制,能夠按昭目):’ 適當地選擇,可舉出氫原子、_素原子、胺基、二的二 基、羧基、烷氧基羰基、磺酸基、確基、氰ς、:;: 有取代基之烷基、亦可具有取代基之芳基、亦可具有取 代基之烷氧基、亦可具有取代基之芳氧基、亦可具有取 代基之烧胺基、亦可具有取代基之芳胺基、亦可具有取 代基之院基續醯基、亦可具有取代基之芳基確酸基等。 該等之中’就自由基反應性高而言,以氫原子、叛基、 院氧基幾基、亦可具有取代基之烧基、亦可具有取代基 之芳基為佳。 在此’作為能夠導入的取代基’可例示與前述通式 -52- 201216004 ⑴同樣者。又’ z係表示氧原子、硫原+… 亦可具有取代基之伸苯基。作兔^ 不丞作為刖述R 3,係沒有特別 制,能夠按照目的而適备地遝 迥田地遠擇,可舉出亦可具有取 基之烷基等。該等之中,銶 寸之〒,’沈自由基反應性高而言,以 基、乙基、異丙基為佳。 月’J述在側鍵具有乙、廉抖又糾 烯生不飽和鍵之胺甲酸酯樹脂 係將下述通式(4)所表示之__ g & ’、一異氰I S旨化合物的至少 種、與下述通式(5)所表示之二醇化合物的至少丄種之 應生成物所表示之結構單 再早兀作為基本骨架之聚胺甲酸 樹脂。 〇cN-X°-NCO(4) h〇-Y°-〇H(5) 前述通式(4)及(5)中,xc、 0 y® ,,. 你谷自獨立地表示 仏的有機殘基。 τ 式=通式(4)所表示之二異氰酸酿化合物、或前述 合物的至少任一者,係具有前述 (3)所表不的基之至少丨者時 化八4仏也 作為δ玄一異氰酸 σ物與該二醇化合物的反庫峰 入右a ^ 的夂應生成物,係生成在側鏈 照如士 )斤表不的基之聚胺曱酸酯樹脂。 取代=方法冲"乂於在聚胺曱酸酯的反應生成後進 有前、:所需要的側鏈,能夠容易地製造在側鏈導 有⑴:”⑴,所表示的基之聚胺甲酸酷樹脂。 作為月丨j述通式(4)所矣+之_ s @ 有牲V ;所表不之—異氰酸酯化合物,係 使= 欠…目的而適當地選擇,例如可舉 〆、氰酸S旨化合物與1 ♦詈之且τ从^ w 田里之具不飽和基的單官能 或 限 代 甲 反 酯 通 通 酉旨 導 依 行 入 沒 出 醇 -53- 201216004 或單官能胺化合物進1 丁加成反應而得到之生出札雄 作為前述三異顧肤— 生成物荨。 文酉a化合物,係沒有特 夠按照目的而適告±L 得別限制’能 田地選擇,例如可 2005-250438號公翱〜 卒出在特開 扒Α報的段落[0034]〜[0035]所# % _ 物等。 」所记載之化合 作為前述具有;^ ^ < 不餘和基的單官能醇或單 物,係沒有特別限制,Α 早s把fe化合 牝夠按照目的而適杏 如可舉出在特n I田地遠擇,例 ,開2005-250438號公鉬的# ^ [0037]〜[0040]所記載 A報的段洛 u執之化合物等。 在此,作為 jfc ΗΐΓ i+* -B-a 迷t胺甲酸酯樹脂的側鏈導入 和基之方法,係沒右姓』叫鏈導入不飽 特別限制,能夠按日g曰άΑ二土 選擇,作為聚胺甲酸‘,'、目的而適當地 女T黾δ曰樹脂的原料,以 不飽和基的二異氰酸舻几人 文用在側鏈含有 異氰酸酯化合物,传、、Λ 作為則达一 ♦地、n Μ孫< & 有特別限制,能夠按照目的而適 田地選擇’係能夠藉由 、 且古甘 吏—異氧§夂酿化合物與1當量之 具有不飽和基的單官垆龄* η ^ 應而得到之二異氰::=官能胺化合物進行加成反 2005-25043 8號公報的# °物例如可舉出在特開 鏈I有 &洛[0042]〜[0049]所記載之在側 越具有不飽和基之化合物等。 在前述側鏈具有乙烯 〜 歸座不飽和鍵之聚胺曱酸酯樹 曰,攸提升與聚合性組成物 弁徂六6 — a 乂物中的其他成分之相溶性、提 升保存女疋性之觀點,亦 畜缺^ 』此夠使刖述含不飽和基的二異 虱s欠酯化合物以外的-里 曰」一吳虱酸酯化合物共聚合。 作為前述使盆it取人 料 八八Α σ之二異氰酸酯化合物,係沒有 将別限制,能夠按昭目的二Α丄 女…、目的而適當地選擇,例下述通式(6) -54- 201216004 所表示之二異氰酸酯化合物。 〇CN-L1-]Sfc〇(6) 前述通式(6)中’ L1係表示亦可具有取代基之二價的 ,肪族或芳香族烴基β按照必要,l1亦可以具有不與異 氘酸酯基反應之其他的官能基、例如酯、胺甲酸酯、醯 胺、脲基。 為前述通1 )所表示之二異氰酸酯化合物,係: Z特別限制’能夠按照目的而適當地選擇,例如可舉 2’4·甲笨二異氰酸酯、2,4-曱苯二異氰酸酯的二聚物 甲其甲笨二異氰酸醋1笨二甲基二異氰酸醋、間苯 二二二異氰酸醋、4,4,-二苯基曱烷二異氰酸醋、丨,5_ 香族氰酸醋、3,3,-二甲基聯苯基_4,4,_二異氰酸酿等之 六亞:異氰酸酿化合物;六亞甲基二異氰酸醋、三甲. 氰酸酷:二異:氰酸輯、離胺酸二異氰酸醋、二聚酸二' 峻r、W月日肪無—異氰酸酷化合物;異佛爾酮二異 2,6)二亞甲雙(環己基異氰酸醋)、甲基環己炫_2,4( 二異* ^^8曰異氰酸酯甲基)環己烷等的脂環; ’、氮酉文酯化合物;1莫 異氰4 4 旲耳丨,3-丁二醇與2莫耳甲苯, 氧峻二二加成物等二醇與二異氰酸㈣反應物之二. 日化合物等。 作為前述通式所矣- 限制,处叙 不之一私化合物,係沒有特」 醇化二^按照目的而適當地選#,例如可舉出聚醚 在 a日一凡.手化合物、聚碳酸酯二醇化合物等 之方法,作為在聚胺甲酸酯樹脂的側鏈導入不飽和; ’’係除了前述的方法以外’使用在側鏈具有不1 -55- 201216004 和基的二醇化合物作為製造聚胺曱酸酯的原料之方法亦 佳。在前述側鏈具有不飽和基的二醇化合物,例如亦衧 以疋市售之如一羥甲基丙烷一烯丙基醚,亦可以是藉由 鹵化一醇化&物、二醇化合物、胺基二醇化合物等的化 合物、與含有不飽和基之羧酸、酸氯化物、真氰酸酯、 醇、胺、硫醇、自化烷基化合物等的化合物反應而容易 地衣把之化σ物。作為前述在側鏈具有不飽和基的二醇 化合物,係沒有轉只if [ΤΡ止.. 艮制,月t*夠按照目的而適當地選擇, 例如可舉出在特開2〇〇5_25〇438號公段 [0057]〜刚所記載之化合物;及下述 : 在特開2005-250438嗝\ i 衣不之 唬公報的段落[0064]〜[0066]所 之化合物·#。該等夕由 匕栽 寺之中,以下述通式(G)所表示之在 2005-250438號公刼从„ + 你将開 的#又落[0064]〜[〇〇66]所記載之化 物為佳。 合
前述通式(G)中, 式(G) 1價的有機基,Af 子、硫原子或_ N W 1 2 J 有機基。 R〜R3係各自獨立地表示氯原 不二價的有機殘基,X係表示氣二 月’J述R係表示氫原子或丨價的 入’隹則迷通式((3)之〗 ^ 之R1〜R3及X同羞 χ係與在前述通式( 義且較佳態樣亦同樣。 ) -56- 201216004 認為藉由使用源自前述通式(G)所表示的二醇化合 物之聚胺基曱酸酯樹脂,且藉由抑制起因於立體障礙大 的2級醇之聚合物主鏈的過剩分子運動之效果,能夠達 成提升層的被膜強度。 i述在側鏈具有乙稀性不飽和鍵的聚胺基曱酸酯樹 ^係例如從使與感光性組成物中的其他成分之相溶性 提升且使保存安定性提升之觀點,能夠共聚合在前述側 鏈含有不飽和基的二醇化合物以外的二醇化合物。 >作為别述在側鏈含有不飽和基的二醇化合物以外的 二醇化合物,係沒有特別限制,能夠按照目的而適當地 込擇例如可舉出聚醚二醇化合物、聚酯二醇化合物、 聚碳酸酯二醇化合物等。 作為前述聚醚二醇化合物,係沒有特別限制,能夠 按照目的而適當地選擇,例如可舉出在特開2〇〇5_25〇438 號公報的段落[〇〇68]〜[0076]所記載之化合物。 .作為前述聚S旨二醇化合物’係沒有特別限制,能夠 按照@的而適當地選擇’例如可舉出在特開2隊25〇438 號公報的段落[0077]〜[〇〇79]、段落[〇〇83]〜[〇〇85]之 No. 1〜No.8及No.l 3〜No. 18所記載之化合物。 作為前述聚碳酸@旨二醇化合物,係沒有特別限制, 能夠按照目的而適當地選擇,例如可舉出在特開 2〇〇5-25〇438號公報的段落[0_]〜[〇〇81]及段落[〇〇 之Ν〇·9〜Νο·12所記載之化合物。 飽和鍵的聚胺基 以外,亦能夠併 又’合成前述在側鏈具有乙烯性不 甲酸8旨樹脂,係除了上述的二醇化合物 -57- 201216004 用具有不會與異氰酸酯基反應的取代基之二醇化合物。 月达具有不會與異氰酸酯基反應的取代基之二醇化 σ物,係'又有特別限制,能夠按照目的而適當地選擇, 例如可舉出在特開2005-250438號公報的段落 [0087]〜[0088]所記載之化合物。 而且.。成前述在側鏈具有乙烯性不飽和鍵的聚胺 基曱S曰树月曰’係除了上述二醇化合物以外,亦能夠併 用具有叛基之二醇化合物。作為前述具有緩基之二醇化 合物,係例如包含以下的通式(17)〜(19)所表示者。 甲15
HO-L9—C-L10-〇H 卜 COOH (1 7) (18) (19) HO-L9—Ar—L10-〇H L11
COOH
HO-L9—N-L1P-0H
COOH 前述通式(17)〜(19)中,作為Rl5,係只要具有氫原 子、亦可具有取代基(例如包含氰基、硝基、_F、_Cb 、 -ι等的函素原子、_c〇NH2、⑶⑽i6、、 -NHCONHR16、_NHCO〇R16、_NHC0Ri6、_〇c〇nhr16 (在 此,前述R10係表示碳數丨〜⑺的烷基或碳數7〜i5的芳 烷基)等的各基)之烷基、芳烷基、芳基、烷氧基、芳氧 基者,沒有特別限制,能夠按照目的而適當地選擇以 氫原子、碳數1〜8個的烧基、碳數6〜15個的芳基為佳。 -58- 201216004 前述通式U7)〜(19)令,l、p〗 亦可以不同,且0 β + 、L 1係可以各自相同, 要表不單餘、 烧基、芳燒基、芸A 亦可具有取代基(例如以 方基、烷氧基、Λ 佳)之二價的脂肪 國基(halogeno)的各基為 7俠我方香族栌 夠按照目的而適各^ .二基,係沒有特別限制,能 數ό〜15個的伸关其 灭數1〜20個的伸烷基、碳 J π方基為佳,以# 佳。又,按照必要在俞τ 9數1〜8個的伸烷基為更 文隹別述L9〜L11 士; 酸酯基反應的其他中亦可具有不會與異氰 穴% g旎基、例如 醯胺、脲、醚基。& n 玫基、酯、胺甲酸酯、 丞而且,前述Rl5 個或3個亦可形成環。 、L 、L 、L之中的2 前述通式(18)中,作太Λ 代基之三價的芳香族煙者’、,、、/有係只要表示亦可具有取 作為上述通式(17)〜(19 方香紅為佳。 八胳 ^ ^ ;所表不之具有羧基的二醇化 «物,係〉又有特別限制,能夠 ^ , 多勺心照目的而適當地選擇, 例如可舉出3,5 -二經基策甲舻 雔f 久、2,2-雙(羥甲基)丙酸、2,2- 雙(2-¾乙基)丙酸、2 2-雔η ,又(3_羥丙基)丙酸、雙(羥甲基) 乙酸、雙(4-羥苯基)乙酸、2 2_ _ ,又(羥甲基)丁酸、4,4-雙(4- 一 ,一^乙基甘胺酸、N,N-雙(2- 經乙基)-3 -緩基-丙酿胺等。 藉由此種㈣的存在,因為能夠對聚胺基甲酸酿樹 脂賦予氫鍵性及鹼可溶性之特性,乃是較佳。更具體地, 在前述側鏈具有乙稀性不飽和鍵基之聚胺基f酸^樹 更具體地,側键的 為佳,以 0.5mmol/g 脂’係進而在側鏈具有羧基之樹脂 乙烯基係以 0.05mmol/g〜3.0 mm〇l/g -59- 201216004 〜2·7 mmol/g 為更佳’以 〇.75mmol/g~2.4 mmol/g 為特佳, 而且’以在側鏈具有羧基為佳,酸值係以2〇mg KOH/g〜120mgKOH/g 為佳,以 sOrngKOH/g〜ll〇mg K〇H/g 為更佳,以35mgKOH/g〜l〇〇mgKOH/g為特佳。 又,合成在側鏈具有乙烯性不飽和鍵之聚胺基曱酸 酯樹脂,係除了上述二醇化合物以外,亦可併用使用二 醇化合物使四羧酸二酐開環而成之化合物。 作為使用二醇化合物使四羧酸二酐開環而成之化合 物’係沒有特別限制,能夠按照目的而適當地選擇例 如可舉出在特開2005_250438號公報的段落[〇〇95]〜 [0101]所記載之化合物。 月’J述在侧鏈具有乙烯性不飽和鍵之聚胺基曱酸醋樹 脂’能夠藉由將上述二異氰酸酯化合物及二醇化合物, 在非貝子性溶劑中添加按照各自的反應性之活性的眾所 習知觸媒且加熱來合成。合成所使用之二異氰酸酯化合 =與二醇化合物的莫耳比(Ma : Mb),係沒有特別限制, 能夠按照目的而適當地選擇,以i : 2 : i為佳,藉 由使用醇類或胺類等進行處理,所需要分子量或黏度
物性夕丄、*1/ y ^ J
生成物,係能夠以最後不殘留異氰酸酯基的方★ 來合成。 A 作為在前述乙烯性不飽和鍵基的前述側鏈具有乙烯 包和鍵之聚胺基甲酸醋樹脂的導入量,係沒有特別 限制,能夠按照目的而適當地選擇,作為乙烯基當量, 係以〇.〇5 mmol/g〜3 〇 mm〇1/g為佳,以〇 5職 mmol/» A s 6 ' 钓更佳,以〇.75mmol/g〜2.4 mmol/g為特佳,而 -60- 201216004 且,以在前述側鏈具有乙烯性不飽和鍵之聚胺基曱酸酯 樹脂,係與前述乙烯性不飽和鍵基同時在側鏈導入羧基 為佳。酸值係以20mgKOH/g〜120mgK〇H/g為佳,以 30mgKOH/g 〜U〇mgK〇H/g 為更佳,以 35mgK〇H/g 〜 OOmgKOH/g 為特佳。 作為前述 S旨樹脂的分子 當地選擇,重 3,000〜30,000 於感光性抗銲 顯像液之非影 又,作為 甲酸酯樹脂, 飽和基者。藉 而且在感光性 胺基甲酸酯樹 聚胺基曱酸酯 係增加。其結 基曱酸酯樹脂 良的材料。在 應,以具有碳 作為在聚 表示的方法。 和鍵的聚胺基 留異氰酸酯基 基曱酸 的而適 佳,以 物使用 用鹼性 聚胺基 具有不 和基, 鍵的聚 和鍵的 物強度 的聚胺 韌性優 交聯反 以下所 性不飽 端的殘 使用具 牡惻鍵具有 里’係沒有特別限制,能夠按照目 量平均分子量係以2,000〜50,000為 為更佳。特別是將前述感光性組成 劑時,耐龜裂性、耐熱性優良且使 像部的顯像性優良。 前述在側鍵具有乙烯性不飽和鍵之 亦適合使用在聚合物的末端、主鏈 由在聚合物的末端、主鏈具有不飽 組成物與在側鏈具有乙烯性不飽和 知之間、或在側鏈具有乙烯性不飽 樹脂間之交聯反應性提升,光硬化 果將在側鏈具有乙烯性不飽和鍵 吏用於印刷配線板時,能夠提供強 作為不飽和基,因為容易產生 •碳雙鍵為特佳。 s物末端導入不飽和基之方法,有 亦即,在人士 L、丄,丄 。成上述在側鏈具有乙烯 甲酸酯樹脂的步驟之藉由聚合物末 、醇類或胺類等進行處理之步驟, -61 - 201216004 有不飽和基的醇類或胺類等即可。作為此種化合物,具 體上,可舉出與在前面作為具有不飽和基之單官能的醇 或單官能的胺化合物所舉出之例示化合物同樣者。 又,不飽和基係導入量的控制為容易而能夠增加導 入量,X,從交聯反應效率提高之觀點,相較於聚合物 末端,以導入至聚合物側鏈為佳。 作為被導入之乙烯性不飽和鍵基,係沒有特別限 制,能夠按照目的而適當地選擇’就交聯硬化膜形成性 而言,以甲基丙烯醯基、丙烯醯基、苯乙烯基為佳,以 甲基丙烯醯基、丙稀醯基為更佳,就兼具交聯硬化膜的 形成性及生保存性而言,以甲基丙烯醯基為特佳。 又,作為甲基丙烯醯基的導入量,係沒有特別限制, 能夠按照目的而適當地選擇,作為乙烯基當量係以〇 h nm〇1/g〜3.0 mmol/g 為佳,以 〇 5mm〇l/g〜2 7 職心為 更佳,以〇_75mmol/g〜2_4 mmol/g為特佳, 作為在主鏈導入不飽和基的方法,有將在主鏈方向 具有不飽和基的二醇化合物使用於合成聚胺基甲酸酯樹 月曰之方法。作為在前述主鏈方向具有不飽和基之二醇化 合物,係沒有特別限制,能夠按照目的而適當地選擇, 可舉出cis-2-丁烯q〆-二醇、trans_2_ 丁烯“〆·二醇、聚 丁二烯二醇等。 月’J述在側鏈具有乙烯性不飽和鍵的聚胺基甲酸酯樹 脂’亦能夠併用含有具有與該特定聚胺基甲酸酯樹脂不 同結構的聚胺基甲酸酯樹脂之鹼可溶性高分子。例如, 月1J述在側鏈具有乙烯性不飽和鍵的聚胺基曱酸酯樹脂, -62- 201216004 係此夠併用在主鏈及/或側鏈含有芳香族基之聚胺基曱 酸酯樹脂。 作為前述⑴在側鏈具有乙烯性不飽和鍵的聚胺基曱 酸醋樹脂之具體例,例如可舉出在特開2005-250438號 公報的段落[0293]〜[0 3 10]所表示之p-uji的聚合物。 該等之中,係以段落[0308]及[0309]所表示之P-27及 P-28的聚合物為佳。 . --(i i)含羧基的聚胺基甲酸酯樹脂與在分子中含有環氧 基及乙烯基的化合物進行反應而得到之聚胺基曱酸酯樹 月旨_ - 前述含叛基的聚胺基甲酸酯樹脂與在分子中含有環 氧基及乙烯基的化合物進行反應而得到之聚胺基甲酸醋 樹脂,係能夠使二異氰酸酯、將含羧酸基的二醇作為必 要成分之含羧基的聚胺甲酸酯、在分子中具有環氧基及 乙烯基的化合物進行反應而得到之聚胺基甲酸酯樹脂。 該聚胺基甲酸醋樹脂係亦可按照目的,亦可將作為二醇 成分之重量平均分子量300以下的低分子二醇和重量平 均分子量500以上的低分子二醇作為共聚合成分而添 .加0 藉由使用耵述的聚 ——…丨〜叫,㈡句兴無機 料之安定的分散性、埘龜裂性和耐衝擊性優良,所以 熱性、耐濕熱性、密著性、機械特性、電特性提升。
又,作為前述聚胺基甲酸酯樹脂,係將亦可具有 代基之二價的脂肪族及芳香族烴的二異氣酸酯、與透 C原子及N原子的任一者而具有c〇〇H基及2個〇H -63- 201216004 之含羧酸的二醇作為必要成分之反應物,而且亦可以是 將所得到的反應物與透過_coo_鍵而在分子中具有環$ 基及乙烯基的化合物進行反應而得到者。 又,作為前述聚胺基甲酸醋樹脂,係將下述通式(χ 所表示之二異氰酸酿及選自下述通式〕 表示之含缓酸的二醇之至少1種作為必要成分,且按a 目的選自下述通式(xni-OYxmj)所 女涊 分子量為800〜3,000的範圍之高分表不之重虿平均 J ^ 两亨 y . 1 反應物,而且亦可以是將所得到之 〈至y 1種之 (xiv-i)〜(χιν_16)所表示之在分子中具應物與下述通式 .基之化合物進行反應而得到者。 有J衣氧基及乙烯 OCN-R^NCO 通式(XI) H〇 - **—〇 — R 4 —~~- ^ 通式(XII-1)
COOH
HO-R3—个卜 r4 —OH 通式(XII-2) 通式(XII-3) ί5
COOH
H0-R3—N— R4—_〇H COOH $亦可具有取代基 _基的任一者為佳) 要’前述Ri亦可以 能基、例如酯基、 其令,前述通式(xi)中,Ri係表 (例如烷基、芳烷基、芳基、烷氧基/ 之二價的脂肪族或芳香族烴。按照必 具有不會與異氰酸酯基反應的其他官 -64- 201216004 胺曱酸酯基、醯胺基、脲基的任一者。前述通式(χι)中, r2係表示氫原子、亦可具有取代基(例如包含氰基、硝 基、鹵素原子(-F、-Cl、-Br、-I)、-CONH2、-COOR6、 -〇R6、-NHCONHR6、-NHCOOR6、-NHCOR6、_0C0NHR6、 -CONHR6(在此,R6係表示碳數l〜l〇的烷基、碳數7〜15 的芳烷基的任一者)等的各基)之烷基、芳烷基、芳基、 燒氧基或^氧基。§亥等之中’以氫原子、碳數1個〜3個 的烧基、碳 及(XII-2).中 係表示單鍵 基、烷氧基 烴基。該等 個的伸芳基 亦可按照必 酯反應之其 醯胺基、脲 R5之中的2 代基之三價 為佳。 數6個〜15個的芳基為佳。前述通式(χΗ]) ,R3、R4及Rs係各自可以相同亦可以不同且 、亦可具有取代基(例如以烷基、芳烷基、芳 、鹵基的各基為佳)之二價的脂肪族或芳香族 之中’以碳數ι〜20個的伸烷基、碳數6〜15 為佳’以碳數1〜8個的伸烧基為更佳。又, 要,具有前述r3U Rs 他的官能基、例如羰其略且 …、虱 基、醚基的任—者:基、㈣、胺甲酸_基、 又’如述R2、J^、R a 個或3個亦可形成 ^ 4 展。Ar係表示亦可且有取 ㈣㈣Μ,p U 了具有取 數6個〜15個的芳香族基
通式 oaii-i) Η 0— R7—^— O—C—Rg-C—〇—r7, Ο Ο
HO—Rg-^—Ο—C—R10·^—OH
OH HO—Rq—^—O—C—O一— -65- 201216004 Ο
Η a, 通式(ΧΙΙΙ-4) H〇-f-CH2-CH=CH ^ 通式(xni_5) R其中,前述通式(XIII-1)〜(XIII-3)中,R、p 狀10及%係各自可以相同亦可以不同且係表7- 8/R9、 肪族或芳香族烴。前、,+、R p 门且係表不二價的月旨 數2個〜20個的伸p ‘ 7 9 Rl。及Rn係以各自為碳 以碳數2個〜1〇個:土或石反數6個〜15個的伸芳基為佳, 更佳。前述^声基或碳數6個〜1〇個的伸芳基為 個〜15個的伸“其…反數1個〜2〇個的伸燒基或碳數6 個〜個的伸芳^以碳數1個〜10個的伸炫基或碳數6 及 R丨 1 巾,* 刚逑 R7、R8、R9、RI0 能基、例如^具=會與異氰酸sl基反應之其他的官 醋基、酸胺基、脲1 基、氣基、稀煙基、胺甲酸 中,R〖2係表;·、.后土或_素原子等。前述通式(ΧΙΠ-4) 素原子。以子山、烷基、芳基、芳烷基、氰基或鹵 〜B個的芳石厌數1個〜10個的烷基,碳數6個 子為佳二二數7個〜15個的芳烧基、氣基或幽素原 個的芳^ 數1個〜6個的炫基及碳數6個〜10 氛酸雖基反應之其他的二:2中’亦可以是不會與異 煙基、醋基或齒素原子等Γ土、例如烧氧基、幾基、稀 :述通式卿5)t,R”係表示 6個,個的芳基或氰基為佳.。前述通式(則_4)甲, -66- 201216004 m係表不2〜4的整數。前述通式(XIII-l)〜(ΧΙΙΙ-5)中, 1 2 n3 114及115係各自表示2以上的整數,以2〜1 00 的整數為佳。前述诵4 r ⑴ < 遇式(XIII-5)中,n6係表示0或2以 上的整數,以0或2〜1〇〇的整數為佳。 〇 CH 2=CR 14 _CO〇 -〇 C H 2~ CR -| 4COO~R15· 通式(XIV-2) CH2=CR14COO CH 2=0(^14.000-1^5-0
通式(XIV-3) 通式(XIV-4) CH 2== CR 14_CO〇-Ri 5- 〇- 通式(XIV-5)
Rl4 QH 2==CR 14CON—R15- :〇 通式(XIV-6) -67- 201216004
Rl4 CH2=CR-(4CON-Ri5- R14 CH2=CRi4-CON—R-J5-0—R-]5*
Rl4 CH2=CR14CON-R15—CH
OH
:〇通式(XIV-7) -〇 通式(XIV-8) ·〇 通式(XIV-9) CH2=CRi4C〇〇Ri5- •ch2oco· t> 〇 通式(XIV-10) CH2=CRi4COORi5- _c〇〇ch2- HCr CH2==CR-]4〇00-Ri 5~〇·
OH 0
V 通式(XIV-12) -68- .201216004
通式(XIV-13) 通式(XIV-14)
C H 2== CR i4"C 0 0-R 0 ^-*C OR —C 0 fl
R15-Q-i-COR1sO-^-CONR16
通式 aiv-is)
CH2=CRii 4C〇〇*R*j5"〇·^· COR15O— H <1 —R15O冬 CQRi5〇->— ^16 €ON I ^15 conr16 通式(XIV-16)
其中,前述(XIV-1)〜(XIV-16)中’ Rw係表示氫原子 或甲基’Rm係表示碳數1〜10的伸烷基,山 1 6 W衣不碳| 1〜10的烴基。P係表示〇或1〜10的整數。 又,前述聚胺基曱酸酯樹脂亦可進而使作為第5成 分之非含有羧酸的低分子量二醇共聚合,作為該低分子 量二醇,係前述通式(ΧΙΙΙ-1)~(ΧΙΙΙ-5)所表示且重量平均 分子量為500以下者。該非含有羧酸的低分子量二醇係 只要鹼溶解性不會降低,亦能夠在硬化膜的彈性模數可 保持較低的範圍添加。 -69- 201216004 作為前述聚胺基甲酸酯樹脂,特別是以將選 (XI)所表示之二異氰酸酿及通式(ΧΠ-l)〜(χπ-3)所;式 之含叛基的二醇之至少1種作為必要成分,與按心 選自通式(xrn-丨)〜(ΧΙΠ-5)所表示之重量平均分子旦^ 800〜3,_的範圍之高分子二醇之至少i種、= (ΧΠΜΗΧΠΗ)所表示之重量平均分子量為5(^ ^ 非含有羧酸的低分子量二醇之反應物,進而鱼通 ^πν-υ〜(χΐν-16)的任一者所表示之在分子中具有!個 %氧基及至少1個(甲基)丙烯酸基的化合物進行反應而 得到之酸值為20mgK〇H/g〜120mgK〇H/g之鹼可溶二光 交聯性聚烯烴系樹脂為佳。 該等高分子化合物係可單獨使用,亦可併用2種以 上。 作為前述含酸改性乙烯基的聚胺基甲酸酯樹脂之含 ® ’係相對於前述感光性組成物的固體含量丨〇〇質量 份,.以2質量份〜30質量份為佳,以5質量份〜以質量2 為更佳,前述含量為小於2質量份時,硬化膜在高溫時 有無法得到充分的低彈性模數之情形,大於3〇質量份時 有產生顯像性劣化或硬化膜的強勃性低落之情形。 〜使含羧基的聚胺曱酸酯與在分子中具有環氧基及乙稀 基的化合物進行反應而得到之聚胺基曱酸酯樹脂的合成 法-- 作為前述聚胺基曱酸酯樹脂的合成方法,能夠藉由 使上述二異氰酸目旨化合物及二醇化合物在非質子性溶劑 中’添加按照各自的反應性之活性的眾所習知觸媒且加 -70- 201216004 熱來合成。所使用之二里 比,係以0.8 : 1〜1.2 :】,、氰酸酯笈二醇化合物的莫耳 時,藉由使用醇類或胺類^聚合物末端歹袭留異氰酸醋基 留異氰酸酯基的形式合成。進行處理,能夠以最後無殘 一異氰酸S旨— 作為前述通式(ΧΪ)所表_ 沒有特別限制,能夠按昭目:之二異氰酸s旨化合物’係 出在特開膽-203…執的❿適當地選擇,例如可舉 物等。 A報的段落[0021]所記載之化合 一高分子量二醇一 通式(XIII])〜(狐5)所表Μ高分子量 化“勿’係沒有特別限制,能夠按照目的而適當地 =’例如可舉出在特開靡·2(m號公報的段落 [2]〜[0046]所記載之化合物等。 一-含羧酸基的二醇___ ▲作為岫述通式(乂11·1)〜(ΧΙΙ-3)所表示之具有羧基 地、醇化σ物,係沒有特別限制,能夠按照目的而適當 選擇,例如可舉出在特開2〇〇7_2〇3〇號公報的段落 47]所記載之化合物等。 …非含有羧酸基的低分子量二醇—_ 又’作為前述非含有羧酸基的低分子量二醇,係沒 有特別限制,能夠按照目的而適當地選擇,例如可舉出 特開2007-2030號公報的段落[0〇48]所記載之化合物 等0 作為前述非含有羧酸基的二醇的共聚合量,係以低 201216004 分子量二醇中的95莫耳%以下為佳卩8〇%以下為更
佳,以5 0 %以下為特佳。浩、+、u B 行佳則述共聚合量為大於95莫耳% 時’有無法得到顯像性良好的胺基甲酸㈣脂之情形。 〃作為前述(Π)含叛基的聚胺甲酸酿與在分子中具有 玉衣氧基及乙細基的化合物彳隹 口物進仃反應而得到之聚胺基甲酸 ㈣’❹可舉出將在特開2G07.2030號公 報的段落[0314]〜『03151舶α
Hum』所表不的的聚 合物之作為含環氧基及ri u 婦基的化合物之丙烯酸環氧丙 醋變更為甲基丙烯酸環氧丙酿、丙烯酸'4-環氧環己基 甲醋(商品名:CYCL0MER A4〇〇(Daicel化學製))、甲 基丙烯酸3,4-環氧環己基甲酿(商品名:cycl〇mer M4〇〇(DAICEL化學製))之聚合物等。 作為前述含酸改性乙稀的聚胺基甲酸^旨樹脂在前述 感光性組成物之含量,传、力古 直係/又有特別限制’能夠按照目的 。而適當地選擇,以5質量%〜8〇質量%為佳…。質量 /。〜75^質$%為更佳,以3〇質量%〜7〇質量%為特佳。 前述含量為小於5質晉。/„ n主 ^ 、/時,有耐龜裂性無法良好 :保持之情形’大於80質量%時,有造成耐熱性變差Z 月形3彳面’刖述含量為前述特定範圍内時,就 具良好的耐龜裂性及耐熱性而言,乃是有利的。 作為前述含酸改性乙稀的聚胺基f酸醋樹脂之重旦 ::分子量,係沒有特別限制,能夠按照目的而適當: k擇’以2’_〜6G,_為佳’以5,⑼g〜5g,_ :3,_〜3〇,_為特佳。前述重量平均分子量小於2:〇 時,硬化膜在高温時有無法得到充分的低彈性模數之情 -72- 201216004 形,大於60,〇〇〇時’有塗布適合性及顯像性變差之情形。 而且則述重I平均分子量係例如能夠藉由使用高 速Gpc裝置(東洋曹達公司製HLC-802A)且將〇·5質量% 的THF溶液作為試料溶液,管柱係使用TSK^i ! 支,注入200 /z 1的試料且使用前述THF溶液進行洗提而 且於25。(:使用折射率檢測器《uv㈣器(檢測波長為 254nm)來測定。隨後,從使用標準聚苯乙烯校正過的分 子量分布曲線求取重量平均分子量。 作為前述含酸改性乙烯的聚胺基曱酸酯樹脂之酸 值 乂 20mgK〇H/g〜1 2〇mgKOH/g 為佳,以 30mgKOH/g 〜110mgK〇H/g 為更佳’以 35mgK〇H/g〜1〇〇mgK〇H/g 為 =佳。前述酸值小於2〇mgK〇H/g時,有顯像性變為不充 分的情形,大於12〇mgK〇H/g時,因為顯像速度太高而 有顯像的控制變為困難之情形。 而且’前述酸值係例如能夠依據Jis K0070而測定。 但是,試樣不溶解時,係使用二嘮烷或四氫呋喃等作為 溶劑。 作為前述含酸改性乙烯的聚胺基甲酸酯樹脂之乙烯 甘 田 * 土虽里’係沒有特別限制,能夠按照目的而適當地選擇, X 〇·05 mmol/g〜3.0 mmol/g 為佳,以 〇.5mmol/g〜2.7 mmol/g α * ΐί. 今更隹’以〇.75mmol/g〜2.4 mmol/g為特佳。前 述乙烯基當量小於0.05 mmol/g時,硬化膜的耐熱性有 爰差之凊形,大於3.0 mmol/g時,财龜裂性有變差之情 形。 月1J述乙烯基當量係例如能夠藉由測定溴值來求取。. -73- 201216004 又’前述溴值係例如能夠依據jIS K2605而測定。 又,在本發明的感光性組成物,係除了前述聚胺基 甲酸酯樹脂以外,以進而按照必要相對於前述聚胺基甲 酸酯樹脂,添加5〇質量%以下的量之其他的樹脂為佳。 作為前述其他樹脂,例如可舉出聚醯胺樹脂、環氧樹脂、 聚縮搭樹脂、丙烯酸樹脂、甲基丙稀酸樹脂、聚笨乙烯 樹脂、酚醛清漆型酚樹脂等。 作為前述樹脂的含量,係相對於前述感光性組成物 以mi〇°質量份15質量份〜8〇質量份為佳, 〇為置份〜70質量份為更佳。前述含量為5 S’顯像性、曝光敏感度變為良好,質量份以下時, 月b夠防止感光層的黏著性變為太強。 ’ <熱交聯劑> 作為前述熱交聯劑,係沒有 的而適當地選擇,在不會對顯像按照目 圍,例如能夠使用環氧化合物(例如在【八不(〜響的範 2個環氧乙烷基之環氧化合物)、在卜::子内具有至少 個氧雜環丁燒基之氧雜環丁烧化合物等與具有至少2 = 2〇〇7·47729號公報所記載之 乙=出如在特 :物、◎位置具有燒基之環氧化合:乙=環氧化 烷基之氧雜環丁烷化合物、聚異 /、有氧雜環丁 :對聚異氰酸酿及其衍生物反應而二::、使嵌段 鼠胺衍生物等。 之化5物、三聚
作為如述環梟A 至少2個環氧乙r其口 ’例如可舉出在1分子中JL有 個衣氧乙烷基之環氧化合物 T具有 仕1分子令含有至 -74- 201216004 少2個在沒位置具有烷基的環氧基之環氧化合物等。 作為前述在1分子中具有至少2個環氧乙烷基之環 氧化合物,例如可舉出雙二甲苯酚型或雙酚型環氧樹脂 (「ΥΧ4000 JAPAN EP〇XY RESINS 公司製」)或該等的 混合物、具有異三聚氰酸酯骨架等之雜環環氧樹脂 (「TEPIC;曰產化學工業(股)製」、「araldite 8ι〇; CIBA · SPECIALTY · CHEMICALS 公司製」)、㈣ A 型 環氧樹脂、酚醛清漆型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、 氫化雙酚A型環氧樹脂、雙酚s型環氧樹脂、苯酚酚醛 清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、鹵化環氧 樹脂(例如低溴化環氧樹脂、高溴化環氧樹脂、溴化苯酚 酚醛清漆型環氧樹脂等)、含烯丙基的雙酚A型環氧樹 月曰、二苯酚曱烷型環氧樹脂、二苯基二甲醇型環氧樹脂、 苯酚伸聯苯型環氧樹脂、二環戊二烯型環氡樹脂 (「HP-72 00、HP-7200H ;大日本INK化學工業(股)製」 等)、環氧丙基胺型環氧樹脂(二胺基二苯基曱烷型環氧 樹脂、二環氧丙基苯胺、三環氧丙基胺基苯酚等)、環氧 丙酯型環氧樹脂(酞酸二環氧丙酯、己二酸二環氧丙酯、 六氫酞酸二環氧丙酯、二聚酸二環氧丙酯等)海因型環氧 樹脂、脂環式環氧樹脂(3,4-環氧環己基曱基_3,,4,_環氧 環己烷羧酸酯、己二酸雙(3,4_環氧環己基甲基)酯、二環 戊烯二裱氧化物、「GT_3〇〇、GT_4〇〇、ZEHpE3i5〇; 化學工業製」等)、醯亞胺型脂環環氧樹脂、三羥苯基甲 烷型環氧樹脂、雙酚A酚醛清漆型環氧樹脂、四苯酚基 乙烷型環氧樹脂、酞酸環氧丙酯樹脂、四環氧丙基二曱 -75- 201216004 苯酚基乙烷樹脂、含萘基的環氧樹脂(萘酚芳烷基型产— 樹脂、萘酚酚醛清漆型環氧樹脂、4官能萘 t此衣氣 、 衣虱树脂、 作為市售品係「ESN_19〇、ESN•則;新日鐵化學 等」、「HP-4032、EXA-4750、EXA_4700 ;大日本 r叹表 學工業(股)公司製」等)、藉由苯酚化合物與二乙烯義化 或二環戊二烯等的二烯烴化合物的加成聚合而得到:, 酚化合物與表氣醇之反應物、使用過乙酸 4 夕 π财4 -乙燒其 展己烯-1-氧化物的開環聚合物環氧化而成者、具丞 2結構的環氧樹脂、具有環狀含磷結構的環氧樹脂線: :基塞型液晶環氧樹脂、二苯甲酿氧基笨型液: 月9、偶氮苯基型液晶環氧樹脂、甲 Η 椒& 甲亞胺本基型液晶環4 卷a、聯奈型液晶環氧樹脂、吖啩型環氧樹脂、曱 :酸環氧丙醋共聚合系環氧樹脂「Cp_5〇s、cp_5〇M = 旨(股)製」等)、環己基順丁稀二醯亞胺與甲 久绾氧丙酯的共聚合環氧樹脂、 烯 型環氧樹脂、雙(環氧丙氡其笨::氧丙乳基本基)第 等,但是不被該等限定。該;广剛院型環氧樹月旨 亦可併用2種以上。 4…脂係可單獨使用, 又,除了在1分子中具有至少 述pa— 乂2個核氧乙烷基之前 長氧化合物以外,亦可以使 甸& β 2 ^使用在1分子中含有至少2 在/3“ 軋基之级氧化合物,且以含有 点位置被烷基取代之環氧某卩f 另 '的%軋丙基等)之化合物為特佳。 土取 前述至少含有在冷位 合私)/ 八有坑基的裱氧基之環氧仆 物,係可以是在1分子中 乳化 ”斤3有之2個以上的環氧基 -76- 201216004 亦可以是至少1個環 的全部係/3 -烷基取代的環氧丙基 氧基係点-焼基取代的環氧丙基。 作為前述氧雜環丁烷化合物,例如可舉出在i分子 内具有至少2個氧雜環丁院基之氧雜環丁烧化合物。 具體上,例如可舉出雙[(3.甲基_3氧雜環丁烧基甲 氧基)甲基]趟、雙[(3_乙基·3·氧雜環丁烧基甲氧基)甲基] 鍵、雙U3-甲基-3-氧雜環丁烧基甲氧基)甲基]苯、μ_ 雙[(3-乙基-3-氧雜環丁烧基甲氧基)甲基]苯、丙稀酸(3_ 甲基-3_氧雜環丁院基)甲§旨、丙稀酸(3_乙基冬氧雜環丁 烷基)甲西旨、甲基丙烯酸(3_甲基_3_氧雜環丁烷基)曱酯、 曱基丙烯酉“3 -乙基-3 -氧雜環丁烷基)甲酯或該等的低聚 物或共聚物等的多官能氧雜環丁烷類、以及具有氧雜環 丁烷基的化合物與酚醛清漆樹脂、聚(對羥基苯乙烯)、 卡爾夕(cardo)型雙紛類、杯芳煙(caiixarene)類、杯間苯 二酚芳烴(calixresorcinarene)類、倍半矽氧烷 (silsesquioxane)等具有羥基的樹脂等之醚化合物,該等 以外,亦可舉出具有氧雜環丁烷環的不飽和單體與(甲基) 丙烯酸烷酯的共聚物等。 又’作為前述聚異氰酸酯化合物,能夠使用特開平 5-9407號公報所記載之聚異氰酸酯化合物,該聚異氰酸 S旨化合物亦可以是由至少含有2個異氰酸酯基的脂肪 族、環狀脂肪族或芳香族基取代的脂肪族化合物所衍 生。具體上’可舉出2官能異氰酸酯(例如ι,3-笨二異氰 酸醋與1,4-苯二異氰酸酯的混合物、2,4_及2,6-甲笨二異 氰酸酯、1,3-及ι,4-苯二曱基二異氰酸酯、雙(4_異氰酸 -77- 201216004 酯-苯基)甲烷、雙(4-異氰酸酯-環己基)曱烷、異佛爾酮 二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯、三曱基六亞甲基二 異氰酸酯等)、該2官能基異氰酸酯與三羥曱基丙烷、新 戊四醇、甘油等的多官能醇;該多官能醇的環氧烧加成 物與前述2官能異氰酸酯的加成物;六亞甲基二異氰酸 酯、六亞曱基-1,6-二異氰酸酯及其衍生物等的環狀三聚 物等。 在使嵌段劑對前述聚異氰酸酯化合物反應而得到之 化合物,亦即使嵌段劑對聚異氰酸酯及其衍生物的異氰 酸酯基進行反應而得到的化合物,作為異氰酸酯基嵌段 劑,可舉出醇類(例如異丙醇、第三丁醇等)、内醯胺類(例 如ε -己内醯胺等)、苯酚類(例如苯酚、甲酚、對第三丁 基苯酚、對第二丁基苯酚、對第二戊基苯酚、對辛基苯 盼、對壬基苯盼等)、雜環經基化合物(例如3 -經基°比π定、 8 -羥基喹啉等)、活性亞曱基化合物(例如丙二酸二烷酯、 曱基乙基酮肟、乙醯基丙酮、乙酸烷基丙酮肟、丙酮肟、 環己酮肟等)等。該等以外,能夠使用在特開平6-295060 號公報所記載的分子内具有至少1個能夠聚合的雙鍵及 至少1個嵌段異氰酸酯基的任一者之化合物等。 作為前述三聚氰胺衍生物,例如可舉出經曱基三聚 氰胺、烷基化羥曱基三聚氰胺(將羥曱基使用曱基、乙 基、丁基等醚化而成之化合物)等。該等係可單獨使用, 亦可併用2種以·上。該等之中,就保存安定性良好且提 升感光層的表面硬度或硬化膜的膜強度本身有效而言, 以烷基化羥甲基三聚氰胺為佳,以六甲基化羥甲基三聚 -78- 201216004 氰胺為特佳。 作為前述熱交聯劑的含量,係沒 按照目的而適當地選擇,相對於前述感 體含量100質量份…質量份〜50質旦心 質量份,質量份為更佳。前述含 ::為/
能夠提升硬化膜的骐強度,50質量份以二:份 曝光敏感度變為良好。 寻’I <填料> 作為前述填料’例如可舉出無機填料 作為前述無機填料,係沒有特別限制,ΐ: 習知者之中適當地選擇,例如可舉出高嶺土 欽酸鎖、二氧化石夕、滑石粉、黏土'碳酸録::: 氧化鋁、氫氧化鋁、雲母等。該等之 :々 勃性、絕、:性、介電常數而言,以二氧化矽二: 作為刖述一氧化矽,例如可舉出氧二 氧切、氣相法二氧切、無定形二氧化二 氧化碎、炼融三氧化♦、球狀二氧化妙等。 作為前id切,能夠使用市售品 ADMATEC^S公司、龍森公司等所市售的二氧化 作為前述有機填料,係沒有特別限制能参 的而適當地選擇’例如可舉出三聚氰胺樹脂、 樹脂、交聯聚苯乙烯樹脂等。 作為前述填料的平均粒徑’係沒有特別限寺 按照目的而適當地選擇,以001Mm〜20Mm為佳 "m〜1〇// m為更佳,卩0.05" Π1〜5/Z m為特佳c U,能夠 〔物的固 色,以3 a上時, I像性、 填料。 從眾所 酸鈣、 酸鈣、 性、強 〇 微粉狀 晶性二 可舉出 石夕C 按照目 _弁脈胺 ,能夠 以 0.02 前述平 -79- 201216004 均粒徑小於0.01 /z m時,有無法得到充分的耐熱性之情 形,大於2 0 /2 m時,有解像性低落之情形。前述平均粒 徑為上述特佳範圍時,就能夠兼具解像性及耐熱性而 言’乃是有利的。 前述填料的平均粒徑係能夠使用雷射繞射•散射法 來剩定。 作為前述填料的含量’相對於感綠組成物的 各量⑽質量份,以10質量份〜97質量份為佳,以η ^份〜95質量份為更佳,以25質量份~95質量份為特 孰;:述二量:切10質量份時’有無法得到充分的耐 二丨生之情形,大於97質量份時,有解像性低落之情带 刖述含量為前述特佳範圍時,就能 " 性而言,乃是有利的。 1兼具解像性及耐熱 <聚合性化合物> 作為前述聚合性化合物,係沒 昭3 & &、由水, 別限制,能夠 …、目的而適當地選擇,例如以具有丨 ^ ^ 飽和鍵之化合物為佳。 以上的乙烯性不 作為前述乙烯性不飽和鍵,例如 酿基、(甲基)丙稀醯胺基、乙浠基笨^ +出(曱基)丙烯 _等的乙烯基、稀丙醚或稀㈣ ^、乙❹旨和乙婦 作為前汁目士 J碲丙基等。 作馮則述具有丨個以上的乙烯 物’係沒有特別限制,能夠按照目的而::和鍵之化合 如可適合舉出選自具有基-地選擇,例 種。 久基的單體之至少i ’係沒有特別 作為前述具有(f基)丙烯酸基的 -80- 201216004 限制’能夠按照目的而適當地選擇,例如可舉出聚乙二 醇一(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇一(甲基)丙烯酸酯、(甲 基)丙烯酸苯氧基乙酯等的單官能丙烯酸酯和單官能曱 基丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲 基)丙烯酸酯、三羥曱基乙烷三丙烯酸酯、三經甲基丙烷 三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二丙烯酸酯、新戊二醇二(甲 基)丙烯酸酯、新戊四醇四(曱基)丙烯酸酯、新戊四醇三 (曱基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二新戊 四醇五(曱基)丙烯酸自旨、己二醇二(曱基)丙烯酸酯、三羥 甲基丙烷三(丙烯醯氧基丙基)醚、三(丙烯醯氧基乙基) 異三聚氰酸酯、三(丙烯醯氧基乙基)三聚氰酸酯;在環 氧乙烷和環氧丙烷對甘油三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基 丙烷和甘油、雙酚等的多官能醇進行加成聚合之後,進 行(甲基)丙烯酸酯化而成者;在特公昭4訌417〇8號、特 公昭50-6034號、特開昭51_37 193號等各公報所記載之 胺甲酸酯丙烯酸酯類;在特開昭48_64183號、特公眧 49-43 191號、特公昭52-30490號等各公報所^載之聚酷 丙烯酸酯類;環氧樹脂與(甲基)丙烯酸的反應生成物亦 即環氧丙烯酸S旨類等的多官能丙烯酸醋或甲基丙稀酸醋 等。該等之中,以三經甲基丙烷三(甲基)丙烯酸醋、新 戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基 酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯為特佳。 — 作為前述聚合性化合物的含量,係沒有特別限制 能夠按照目的而適當地選擇’相對於感光性組成^的固 體含量100質量份,以5質量份〜5〇質量份為佳,以1 -8 1 - 201216004 質量份〜40質量份為更佳。前述含量為5 顯像性、曝光敏感度變為良好,50質乂質量份以上時, 防止感光層的黏著性變為太強。、里份以下時,能夠 〈光聚合起始劑:> 作為引述光聚合起始劑,係沒有特 照目的而適當地選擇,例如可舉出笨偶心’能夠按 苯偶姻丙醚等的苯偶姻物· 因、笨偶姻甲醚、 苯基苯乙酮、2,2-二乙氧基_2 | ,-二甲氧基-2- 〇孔丞ζ-本基笨乙酮 酮、1-羥基環己基苯基酮、2_甲基丨-⑷ I,1'二氣苯乙 味啉基-1 -丙酮、Ν Ν_ 一甲 爪基)苯基]-2- ,以一 T fe基苯乙酮等 物;2-甲基蒽醌、2_乙基蒽酿、2 本乙酮化合
— 4 :¾. ^ 3CQ 醌、2-戊基蒽醌、2_胺基蒽醌等的葱醌化合-氯蒽 基9-氧硫如星、2,4-二乙*9_氧硫。山嚯、’,扣二甲 喔、2,二異丙基99_氧硫二:9,山 苯乙明二甲基縮嗣、节基二甲基縮嗣等的缩鋼化:: 匆; —本基酮、曱基二苯基酮、4,4、二氣二苯基,/j勿, 乙胺基)二苯基酮、米其勒酮、4_苯曱醯基哨、甲-雙(二 基硫醚等的二笨基酮化合物;2,4,6_三曱基笨甲釀求 基氧化膦、醯基氧化膦化合物(雙醯基氧化膦.、單基二笨 化膦等)或其酯化合物、肟衍生物化合物、 _基氧 ,, 男機過 物、硫化合物等。該等可單獨使用,亦可併用 夂種以上 △作為前述光聚合起始劑的含量,係沒有特。 旎夠按照目的而適當地選擇,.相對於感光性組成 , 體含量100質量份,以0,5質量份〜20質量份為佳勿的固 質量份〜15質量份為更佳。前述含量為〇.5 ,以2 貝里份以上 -82- 201216004 時,能夠防止曝光部在顯像中溶出,2 0質量份以下時, 能夠防止对熱性低落。 <其他成分> 作為其他成分,例如可舉出溶劑、敏化劑、密著促 進劑、熱聚合抑制劑、著色劑、其他添加劑等,而且亦 可併用其他助劑類(例如導電性粒子、消泡劑、阻燃劑、 調平劑、剝離促進劑、抗氧化劑、香料、表面張力調整 劑、鏈轉移劑等)。藉由適當地含有該等成分,能夠調整 目標感光性組成物或感光性薄膜的安定性、照相性、膜 物性等的性質。 -溶劑- 作為前述溶劑,係沒有特別限制,能夠按照目的而 適當地選擇,例如曱醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁 醇、第二丁醇、正己醇等的醇類;丙酮、甲基乙基酮、 曱基異丁基酮、環己酮、二異丁基酮等的酮.類;乙酸乙 酯、乙酸丁酯、乙酸正戊酯、硫酸曱酯、丙酸乙酯、酞 酸二甲酯、苯曱酸乙酯及乙酸曱氧基丙酯等的酯類;曱 苯、二曱苯、苯、乙苯等的芳香族烴類;四氣化碳、三 氣乙烯、氯仿、1,1,1-三氣乙烷、二氣曱烷、一氣苯等的 鹵化烴類;四氫呋喃、二乙醚、乙二醇一曱基醚、乙二 醇一乙基醚、1-曱氧基-2-丙醇等的醚類;二曱基曱醯胺、 二曱基乙醯胺、二曱基亞颯、環丁砜等。該等係可單獨 使用,亦可併用2種以上。又,亦可添加眾所習知的界 面活性劑。 -敏化劑- -83- 201216004 前述敏化劑係因活性能量線而成為激笋狀能,藉由 與其他物質(例自由基產生劑、酸產生劑等)相互作用(例 如能量移動、電子移動等)’能夠產生自由基或酸等的有 用基。 作為前述敏化劑,係沒有特別限制,能夠從眾所習 知的敏化劑中適當地選擇,例如可舉出眾所習知的多核 芳香族類(例如祐 '花、三鄰亞苯)、二苯并哌喃類(例如 螢光素、曙紅、赤藻辛(erythrosine)、若丹明B、玫瑰紅)、 花青苦類(例如t朵碳花青、噻碳花青、氧雜碳花青)、 部花青素類(例如部花青素、碳部花青素)、噻畊類(例如 硫堇、亞曱藍、曱苯胺藍)、吖啶類(例如吖啶橙、氯黃 素〇丫 π疋汽)、蒽酉昆類(例如蒽酿)、角鯊烯鑌(s q u a 1 i u m) 類(例如角業稀鑷)、n丫 n定酮類(例如。丫 d定酮、氯。丫。定酮、 N -甲基η丫 η定酮、N - 丁基吖β定酮、N - 丁基_氯σ丫。定酮等)、 香豆素類(例如3-(2-苯并呋喃甲醯基)_7_二乙胺基香豆 素、3 - (2 -苯并。夫喃曱醯基)-7 ·( 1 -。比洛。定基)香豆素、3 -苯 曱醯基-7-二乙胺基香豆素、3-(2 -曱氧基苯曱醯基)-7 -二 乙胺基香豆素、3-(4-二甲胺基苯甲醯基)_7-二乙胺基香 豆素、3,3’-羰基雙(5,7-二-正丙氧基香豆素)、3,3,-羰基 雙(7-二乙胺基香豆素)、3-苯曱醯基-7-曱氧基香豆素、 3-(2-°夫喃曱酿基)-7 -二乙胺基香豆素、3-(4 -二乙胺基肉 桂醯基)-7-二乙胺基香豆素、7-曱氧基-3-(3-。比啶基羰基) 香豆素、3-苯甲醯基-5,7-二丙氧基香豆素等,以及在特 開平5- 1 9475號公報、特開平7-27 1028號公報、特開 2002-363206號公報、特開2002-363207號公報、特開 -84- 201216004 2002-363208 號公報、特開 2002 3 ^ 寸阀2川2-363209號公報等的各公 報所記載之香豆素化合物等。 作為則述光聚合起始勒丨叙於、+、 &始劑與剛述敏化劑的組合,例如 可舉出特2〇〇1_305734號公報所記載之電子移動型起始 糸[⑴電子供給型起始劑及敏化色素' (2)電子接受型起 始劑及敏化色素、(3)電子供仏剞扭 于仏·,Ό型起始劑、敏化色素及電 子接受型起始劑(三元起始劑)]等的組合。 作為前述敏化劑的含量,係沒有,能_ 知目的而適當地選擇,相 100所旦於 悍相對於感先性組成物的固體含量 貝里伤’以0.05質量份〜3〇質量 份〜20質量份為争社 Λ 丨王 μ υ. i賀里 前达入曰2質量份〜10質量份為特佳。 别述含1小於0·05質量份時,對活 号1 落,曝光步驟φ η± 取*里線的敏感度低 洛曝光步驟費時而有生產性低落 份時,將前述感m成物作 7 ; 30質量 存時’有敏化劑從感光性薄膜的感光在保 _密著促進劑- 啊出之情形。 則述密著促進劑係使各層間的 基材的密著性、電姓性之功能。 4感光層與 :則述密著促進劑,係沒有特別限制 :的而適當地選擇,例如可舉出三聚氰胺、二;”、、 苯并胍胺、三雙梟 — 乙胍胺、 來齓胺·本酚福馬林樹脂、 三畊、2,4-二脸I。 G暴—胺基·s_ .々基_S-三畊、2,4-二胺基_6_二 听專的三听化合物。作為市售的三听化合物曱本基-S-二 述結構式新主— 化。物,可舉出下 (D)所表不之四國化成工筆八1制. 2MZ-AZINE(^ m , ^ Λ 果公司製, (、,。構式(Β))、2Ε4ΜΖ-ΑΖΙΝΕ(結構式(c))、 -85- 201216004
Cl 1Z-AZINE(結構式(D))等
HZN
ch2ch2
結構式(B) h2n
.CH,CH
結構式(C) h2n
ch2ch;
c”h23 結構式(D) 該等化合物係提高盥銅 4 提升且亦具有電純的效果。:=者性,使财PCT性 併用2種以上。 該專係可單獨使用’亦玎 作為前述密著促進劑的 夠按照目的而適當地 係〉又有特別限制,能 含量1 00質量份 、目對於感光性組成物的固體 質量份,質量份為二:質量份〜4。質量份為佳,以。·丨 _熱聚合抑制劑_ 前述熱聚合抑制 的熱聚合或經時性兮:“了防止前述聚合性化合物 佳。 ^使保存安定Ml以^為 作為前述埶聚 能夠按 ‘、5抑制劑,係沒有特別限制 -86 201216004 照目的< 氫醌一 五倍子i 氯化亞d 丁基-4-啶、硝: 銅與有; 合物、」 作. 能夠按j 聚合性/ 質量份, 佳。前i 落之情: 低落之, -著色劑 作‘ 當地選: 選擇之: 作, 的而適 B〇(C.I. HB(C.I. 12)、永 83)、永 適當地選擇,例如可舉出4_曱氧基笨酚、氫醌、 曱基醚、烷基或芳基取代氫醌、第三丁基兒茶酚、 分、2-羥基二苯基酮、4_甲氧基_2_羥基二苯基酮、 同、啡噻啩、氣醌、萘胺、万_萘酚、2,6_二_第三 甲酚、2,2,-亞甲雙(4_曱基第三丁基苯酚)、吡 I苯、二硝基苯、苦味酸、4-甲苯胺、亞甲藍、 餐螯合劑反應物、柳酸甲酯及啡噻啩、亞硝基化 互硝基化合物與A1的螯合劑等。 前述熱聚合抑制劑的含量,係沒有特別限制, 目的而適當地選擇,相對於1〇〇質量份之前述 合物’以請1 f量份〜5質量份為佳,以0.005 2質量份為更佳,w 0·01質量份〜1質量份為特 ^含量為小於G.GG1 f量份時,有保存安定性低 卜大於5質量份時,有對活性能量線的敏感度 t形。 岛著色劑,係沒有特別限制,能夠按照目的而適 澤,例如能夠使用從眾所習知的染料之中,適當 蒼色顏料等的染料》 ^ 岛前述著色顏料,係沒有特別限制, 當地選擇,…舉出醜青綠、維多利亞;屯藍 42595)、Auramine(阿拉明)(c l 41〇〇〇)、脂溶黑 26 1 50)、Monolite(莫諾賴特)黃gt(c i顏料黃 久黃GR(C.I.顏料黃17卜永久黃HR(C〗顏料黃 久脑脂紅 FBB(C.I.顏料紅 146)、H〇staperm Red -87- 201216004 ESB(C.I.顏料紫丨 永 P f ^ ’ 久』寶石FBfKC.I.顏料紅n)、
Faste丨(法斯特爾)粉紅b Suprarr „ .,, , ( . I.顏料紅 8 1)、Μ ο n a s t r a 1
Fast blue(莫納斯特拉爾 >ir 王午藍)(C.I.顏料藍15)、
Monohte Fast black(蕈喏龆枯 B * , T ± k(冥。右賴特堅牢黑)b(c.i.顏料黑υ、 石反、C.I.顏料紅97、cJ.顏 7叶、.土 U2、C.I.顏料紅 149、 C.I.顏料紅ι68、c_i·顏料紅m 1 ’ /、C. I.顏枓紅丨8 〇、c丄 顏料紅192、C.I.顏料紅215、c j 4 7 L · I ·顏料綠7、c · I.顏料綠 36、C丄顏料M 15M、C丄顏料藍15:4、CI顏料藍15: ^丄顏料藍以^丄顏料藍的^丄顏料藍以等^該 等可單獨使用,亦可併用2種以上。 作為刖述著色顏料的含量,将鈐 你此夠考慮形成水久圖 案時之感光層的曝光敏感度、解像性等而決定,而且因 前述著色顏料的種類而不同’相對於前述感光性组成物 的固體含量1〇〇質量份,通常係以〇丨質量份〜1〇質量份 為佳,以0.5質量份~8質量份為更佳。 -其他添加劑- 作為其他添加劑,係沒有特另,丨RP t 竹別限制,能夠按照目的 而適當地選擇,例如能夠使用如膨+ ^ ^ % 土、蒙脫石、氣溶膠、 醯胺蠟等的觸變性賦予劑、聚矽t备 .. ^ x ^ , 乳糸、氟糸、向分子系 等的消泡劑、調平劑的添加劑類。 (感光性薄膜) 4發明的感光性薄膜,係至少具有支撐體及感光 層,而且按照必要具有其他層’其中該感光層係在該支 撐體上且包含本發明的感光性纽成物。 -支撲體- -88- 201216004 作為前述支樓體,係沒有特別限$ 而適當地選擇,以能夠將前述感光居 良好者為佳,以表面的平滑性良好者為 前述支撐體係以合成樹脂製且透% 舉出聚對酞酸乙二酯、聚萘二甲酸 乙烯、三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、 烷酯、聚(甲基)丙烯酸酯共聚物、聚氯之 聚碳酸酯、聚苯乙烯、玻璃紙、聚偏_ 聚醯胺、聚醯亞胺、氣乙烯_乙酸乙烯酽 乙烯、聚三氟乙烯、纖維素系薄獏、耐 塑膠薄膜,該等之中,以聚對酞酸乙二 係可單獨使用,亦可併用2種以上。 前述支撐體的厚度係沒有特別限脊 而適當地選擇,例如以 // m為更佳,以8 # m〜5〇 "爪為特佳。 作為前述支撐體的形狀,係沒有特 照目的而適當地選擇’卩長條狀為佳。 撐體之長度係沒有特別限制,例如可舉 的長度者。 牛 -感光層- 前述感光層係由前述感光㈣Μ 係沒有特別限制1夠按照目的而適當 又,作為前述感光層的積層數,係 旎夠按照目的而適當地選擇,例如以可 是2層以上。 1 ’能夠按照目的 1離且光的透射性 更佳。 者為佳,例如可 酯、聚丙烯、聚 聚(甲基)丙烯酸 二烯、聚乙烯醇、 氯乙烯共聚物、 共聚物、聚四氟 論薄膜等的各種 面曰為特佳.。該等 ’能夠按照目的 佳,以5 # m〜i〇〇 別限制,能夠按 月1J述長條狀的支 出 l〇m 〜2〇,000m 所構成之層時, 地選擇。 沒有特別限制, 以是1 JS + 1層亦可以 -89- 201216004 μ亢層的形成方法 撐體上,直接塗布本發明的前述可舉出藉由在前述支 燥來積層之方法。 怎光性組成物且使其乾 作為前述塗布方法,係沒有 的而適當地選擇,例如可舉出使特別限制,能夠按照目 布益、輥塗布器、棒塗布器、簾古轉塗布器、狹縫塗 在前述支撐體之方法。。 流塗布器等而直接塗布 作為前述乾燥條件係因各 用比率等而異,通常為6〇 ”、溶劑的種類、使 右。 C溫度3〇秒〜分鐘左 作為則述感光層的厚度々 照目的而適當地選擇,例如〜又有特別限制,能夠按 ^〜5〇"m為更佳,以 為佳以2 <其他的層 > 々m為特佳。 作為前迷其他的層係 的而適當地選擇,例如 寺別限制,能夠按照目 ^ 1^·出 4盆 ί*· 阻障層、韌離層、接著層、、、5缚祺、熱塑性樹脂層、 層。前述感光性薄膜心的::收層、表面保護層等的 可具有2種以上。 9 '、可以具有1種單獨,亦 -保護薄膜- 膜 前述感光性薄膜亦可以在 返感光層上具有保護薄 作為前述保護薄膜,例如 用者、紙、積層有聚乙烯、聚+出在前述支撐體所使 以聚乙稀薄犋、聚丙埽薄膜為:缚之紙等,該等之中, -90. 201216004 作為前述保護薄膜的厚度,係沒有特別限制,能夠 按照目的而適當地選擇,以00心為佳,以〇 爪〜5〇"m為更佳,以〜30#m為特佳。 作為前述支㈣與前述保㈣膜的組合(支撐體/保 4薄膑),例如可舉出聚對酞酸乙二醋/聚丙烯、聚對酞 酸乙二酿/聚乙烯、聚氣乙稀/玻璃紙、聚酿亞胺/聚丙稀、 聚對酞酸乙二醋/聚對酞醆乙二酯等。又,藉由 及保護薄膜的至少任一者進行表面處理,能夠調整層間 接著力。前述支撐體的表面處理,亦可以為了提高血前 f感光層的接著力而施行,例如可舉出塗設底塗層、電 箪放電處理、火焰處理、紫外線照射處理 '高頻昭射卢 理、輝光放電照射處理、活性電漿照射處 射: 照射處理等。 对九線 前述感光性薄膜,係例如以捲取在圓筒狀的捲芯, 而且捲成長條狀且捲物狀而保管為佳。前述長 光性薄膜的長度係沒…限制,例如能夠: l〇m〜20,0〇〇m的範圍適當地選擇。&,亦可以是以 容易使用的方式進行切開加工’且使⑽m〜i,_m範圍 的長條體成為捲物狀。又,此時係以前述支撐體為 制方式捲取為佳。又,亦可以將前述捲物狀的感光性 涛腹切開成為薄片狀。從保管時之端面的保護 '防 緣溶化之觀點’以在端面設置隔離器(特別是防濕性者、 放入乾燥劑者)為佳’ χ ’梱包亦以使用透濕性 為佳。 刊斜 為了調整前述保護薄膜與前述感光層的接著性,前 -91" 201216004 述保護薄膜亦可以進行表面處理。前述表面處理係 使前述保護薄膜的表面,形成聚有機矽氧烷、氟化 烴、聚氟乙烯、聚乙烯醇等由聚合物所構成的底塗 該底塗層的形成,係能夠藉由將前述聚合物的塗布 布在前述保護薄膜的表面之後,使其於30°C〜150°C 1分鐘〜30分鐘來形成。前述乾燥時的溫度係以50°C °C為特佳。 (感光性積層體) 前述感光性積層體係至少具有基體、設置在前 體上之感光層而成,而且積層按照目的而適當選擇 他的層而成。 前述感光層係從使用上述製造方法所製造之前 光性薄膜被轉印者,具有與上述同樣的構成。 <基體> 前述基體係形成感光層之被處理基體,或是當 發明的感光性薄膜的至少前述感光層被轉印之被 體,沒有特別限制,能夠按照目的而適當地選擇, 能夠從表面平滑性高者至具有凹凸的表面者任意 擇。以板狀的基體為佳,亦即可使用基板。具體上 舉出眾所習知之印刷配線板製造用的基板(印刷基;I 玻璃板(鈉鈣玻璃板等)、合成樹脂性的薄膜、紙、 板等。 <感光性積層體的製造方法> 作為前述感光性積層體的製造方法,例如可舉 本發明的感光性薄膜之至少前述感光層,邊進行加 例如 聚烯 層 0 液塗 乾燥 〜120 述基 之其 述感 作本 轉印 例如 地選 ,可 S.) ' 金屬 出將 熱及 -92- 201216004 加壓的至少一者邊進行轉印而積層之方法。 前述感光性積層體的製造方法,係在前述基體的表 面,將本發明的感光性薄膜邊進行加熱及加壓的至少二 者邊積層。又,前述感光性積層體係具有前述保護薄膜 時,係以將該保護膜剝離且以前述感光層係重疊於前述 基體的方式而積層為佳。 前述加熱溫度係沒有特別限制,能夠按照目的而適 當地選擇,例如以15°C〜180t為佳’以6〇t〜14(rc為更 佳。 . 前述加壓的壓力係沒有特別限制,能夠按照目的而 適當地選擇,例如以O.IMPaM.OMPa為佳,以 0.2MPa〜0.8MPa 為更佳。 作為進行前述加熱的至少任一者之裝置,係沒有特 別限制,能夠按照目的而適當地選擇,例如可適合舉出, 層壓機(例如大成LAMINATOR公司製VP_n、nichig〇_ MORTON(股)製 VP130)等。 本發明的感光性薄膜及前述感光性積層體,因為能 夠抑制在顯像後的基體上殘留不需要的膜,能夠效率良 好地形成高精細的永久圖案(保護膜 '層間絕緣膜、及抗 銲劑圖案等)。因此,在電子材料領域能夠廣泛地使用作 為形成高精細的永久圖案用,特別是適合使用於形成印 刷基板的永久圖案用。 (永久圖案形成方法) 本發明的永久圖案形成方法,係至少包含曝光步 驟,而且包含按照必要而適當選擇的顯像步驟等其他的 -93- 201216004 步驟。 <曝光步驟> 前述曝光步驟係對使用 成的感光層進行曝光之步驟。::感光性組成物所开」 物係如上述。 發明的感光性組成 作為前述曝光的對象, 特別限制’能夠按照目的而適當、〜逑,光層/系沒有 乂對在基材上將本發明的感 上述, 的至少一去.喜祛M/丄 4曝邊進行加熱及加 至^ ^邊積層而形成的積層體進行為佳。 堡 作為則述曝光,係沒有特 適去妯、g撙 -r m ’ 限制’能夠按照目的而 、田地選擇,可舉出數位曝 旳而 位曝光為佳。 “比曝光等’其中以數 <其他的步驟> 作為前述的其他步驟’係沒有特別限制,能 目的而適當地選擇,例如可舉出A 知“、、 顯佶丰跑 基材的表面處理步驟、 ” '負像步驟、硬化處理步驟、後曝光步驟等。 -顯像步驟- 述感光層的未曝光部分 作為前述顯像,係藉由將前 除去來進行。 制 液而 作為前述未硬化區域的除去 能夠按照目的而適當地選擇, 除去之方法等。 方去’係沒有特別限 例如可舉出使用顯像 能夠按照目的 水系顯像液、 液為佳。作為 作為前述顯像液,係沒有特別限制, 而適當地選擇,例如可舉出鹼性水溶液、 有機溶劑等,該等之中,以弱鹼性的水溶 -94- 201216004 該弱驗性水溶液的鹼成分,例如可舉出 化鈉、氫氧化卸、碳酸链、碳酸納、碳酿 石反酸氫納、%酸氫鉀、碌酸鈉、構酸鉀 磷酸鉀、硼砂等。 前述弱鹼性的水溶液之pH係例如i 以約9〜11為更佳。作為前述弱鹼性的水 出0.1質量%〜5質量%的碳酸鈉水溶液 等。 前述顯像液的溫度係能夠配合前述 而適當地選擇,例如以約2 5 °C〜4 0 °C為/ 前述顯像液亦可以併用界面活性劑 驗(例如乙二胺、乙醇胺、氫氧化四甲銘 三伸乙五胺、咪啉、三乙醇胺等)或用以 溶劑(例如醇類、酮類、酯類、醚類、醯 等。又,前述顯像液可以是水或鹼水溶 合而成之水系顯像液,亦可以是有機溶 -硬化處理步驟_ 前述硬化處理步驟係進行前述顯像 形成的圖案之感光層進行硬化處理之步 作為前述硬化處理步驟,係沒有特 照目的而適當地選擇,例如可適合舉出 全面加熱處理等。 作為前述全面曝光處理方法,例如 像之後’將形成有前述永久圖案之前述 曝光之方法。藉由該全面曝光,能夠促 -9 5- 氫氧化裡、氫氧 :鉀、碳酸氫鋰、 、焦磷酸鈉、焦 〈約8〜12為佳, 溶液,例如可舉 或礙酸鉀水溶液 感光層的顯像性 I。 、消泡劑、有機 '二伸乙三胺、 促進顯像之有機 胺類、内酯類等) 液與有機溶劑混 劑單獨。 步驟之後,對所 驟。 別限制,能夠按 全面曝光處理、 可舉出在前述顯 積層體上的全面 進形成前述感光 201216004 層之感光性組成物中的樹脂之硬化且將前述永久圖案的 表面硬化。 作為進行前述全面曝光之裝置,係沒有特別限制, 能夠按照目的而適當地選擇,例如能夠適合舉出超高壓 水銀燈等的uv曝光機。 作為全面加熱處理之方法,可舉出在前述顯像之 後,將形成有前述永久圖案之前述積層體上的全面加熱 之方法。藉由該全面加熱,能夠提高前述永久圖案的表 面之膜厚度。 在前述全面加熱之加熱溫度,係以 120°C〜250°C為 佳,以120°C〜20 0 °C為更佳。該加熱溫度為120 °C以上 時,因加熱處理而膜強度提升,250°C以下時,能夠防止 前述感光性組成物中的樹脂產生分解致使膜質變弱且變 脆。 在前述全面加熱之加熱時間,係以1 0分鐘〜1 2 0分 鐘為佳’以1 5分鐘~ 6 0分鐘為佳。 作為進行前述全面加熱之裝置,係沒有特別限制, 能夠從眾所習知的裝置之中,按照目的而適當地選擇, 例如可舉出乾式烘箱、熱板、IR加熱器等。 前述永久圖案的形成方法,形成保護膜、層間絕緣 膜及抗銲劑圖案的至少任一者之永久圖案形成方法時, 能夠藉由在印刷配線板上使用前述永久圖案形成方法, 能夠形成永久圖案,進而如以下進行焊接。 亦即,藉由前述顯像來形成前述永久圖案之硬化 層,且使金屬層露出前述印刷配線板的表面。對在該印 -96- 201216004 刷配線板的表面所露出的金屬層部位進行鍍敷金之後, 進行焊接。,然後,在經進行焊接的部位進行封裝半導體 和零件等。此時,使用前述硬化層之永久圖案,能夠發 揮作為保護膜或絕緣膜(層間絕緣膜)、抗銲劑的功能, 且能夠防止來自外部的衝擊或鄰近之間的電極之導通。 (印刷基板) 本發明的印刷基板係至少具有基體、及使用前述永 久圖案形成方法所形成之永久圖案,而且具有按照必要 而適當選擇之其他的構成。 作為其他的構成,係沒有特別限制,能夠按照目的 而適當地選擇,例如可舉出在基材與前述永久圖案之 間,進而設置有絕緣層之組裝基板等。 [實施例] 以下,說明本發明的實施例,但是本發明係完全不 被下述實施例限定。 又,實施例中’酸值及胺值係使用電位差法(溶劑四 氫呋喃/水=1 00/10(體積比)、滴定液〇 〇1N氫氧化鈉水溶 液(酸值)、滴定液〇·〇 1N鹽酸(胺值))決定。 (合成例1) <聚醋(數量平均分子量為5004,000,000的接枝鏈之前 驅物)的合成> 將6.4g正辛酸、200g ε -己内酯、5g四丁氧化鈦(IV) 成合’且於1 6(TC加熱8小時之後,冷卻至室溫度而得 到聚酯(i_1)。將對所得到的聚酯(i-Ι)使用GPC法所測定 之重量平均分子量、數量平均分子量及内酯重複單元數 -97- 201216004 顯示在表1。 將反應流程圖顯不在以下。
HO 丄 C7H15-n
Ti(OBu)4 ΗΟ (合成例2) 〈聚酯(數量平均分子量為500〜1,000,000的接枝鏈之前 驅物)的合成> 在合成例 1,係除了將羧酸的種類及添加量變更為 表1所記載之羧酸的種類及添加量以外,係與合成例1 同樣地進行而得到聚酯(i-2)。針對所得到的聚酯(i-2), 將使用GPC法所測定之重量平均分子量、數量平均分子 量及内酯重複單元數顯示在表1。 -9 8 _ 201216004 [表1] 聚酯 —__羧酸 ^ ® 1 A, 數量平均 分子量 種類 調配量 ω 内酯 董董平均 分子量 内酯重複 單元數 合成例1 i-1 正辛酸 6.4 ε-己内酯 15,000 10,000 40 合成例2 i-2 棕櫚酸 5.6 ε-己内酯 25,000 16,500 80 (合成例3) <含氮原子的樹脂(j_l)的合成> 將l〇g聚乙亞胺(SP-018、數量平均分子量1,8〇〇、 曰本觸媒公司製)(相當於具有一級胺基及二級胺基的任 一者之樹脂)及100g前述聚酯(i_1)(數量平均分子量為 500〜1,00 0,000的接枝鏈之前驅物)混合,且於12〇。匸加熱 3】時而仔到中間體(J -1 B)。隨後,放冷至6 5 °C且慢慢 地添加20〇g含有3 8g琥珀酸酐(相當於在一部分具有 pKa為14以下的官能基之基的前驅物)之丙二醇1_一甲 基酸2_乙酸酯(以下有稱為PGMEA之情形)且攪拌2小 時。隨後,添加PGMEA來得到固體含量為1〇質量%的 3氮原子的祕知(j _ 1)的p 〇 μ e A溶液。含氮原子的樹脂 (J-1)係具有下列:具有源自聚乙亞胺的氮原子之主鏈; 源自聚之數量平均分子量為500〜1,000,000的接 枝鍵’及具有源自琥拍酸酐之ρΚ&為Μ以下的官能基(羧 基)之基。 將合成流程圖顯示在以下。 -99- 201216004
-j-CH2CH C^Higrn + 聚乙亞 1¾ {ch2ch2h -N+,2 〇|i^S^-^〇|^-C7Hi5-n 。卜〜 -[cH2CH2-NH2l-m1 -[-CHjCHj-NHz^j f CHzCHj-NH-)-^ > 15-n ° 〇t% 中間體(J-1B) fcH2CH2-N+k fcH.CHrN^ 。 +CH2CHrN-}|2 xo2h
pX^ 〇|k^^^〇|^C7H15-n 〇 卜卜 H -[•CH2CH2-NH2[-rn1 -fcH2CH2-NH2}m2 {cH2CH2-NH七 樹脂(J-l) 進行滴定中間體(J-IB)時,能夠確認酸值為 0.1 1 m m ο 1 / g。又,進行滴定含氮原子的樹脂(J -1)時,酸 值為0.31mmol/g、驗值為〇.83mmol/g。亦即,從含氮原 子的樹脂(J-1)的酸值與中間體(J-1B)的酸值之差異,能 夠計算k(相當於前述通式(u)的重複單元之莫耳%),從 含氮原子的樹脂(J -1)的驗值與反應前之樹脂的敗原子數 之差異能夠計异1丨+丨2(相當於前述通式G — 2)的重複單元 之莫耳%),而且從中間體(J_1B)的酸值能夠計算 πΜ + ηΐ2(相當於前述通式(Ι·3)的童複單元之莫耳❹/。),而成 為 k/(l1 + l2)/(mi+m2)/n=1〇/5〇/5/35。 、 亦即’得知所得到之含氮原子的樹脂,係在前述通 D所表不的重複單元含冑W莫耳%之Χ為 -100- 201216004 -coch2ch2cq2h之重複單元,及在前述通式 的重複單元含有50莫耳%之γ為聚(ε •己内酯:示 原子的樹脂。又,使用Gpc法之重量平均分子:氮 24,000。將中間體的酸值、胺值;以及含氮原子的: 之酸值、胺值、重量平均分子量顯示在表2。 曰 (合成例4) <含氮原子的樹脂(j_2)之合成> 在合成例3 ’係除了將具有一級胺及二級胺的至少】 者之樹脂(在表2係稱為「含胺基的樹脂」)、聚酯(相當 於數量平均分子量為5〇〇〜1,000,000的接枝鏈之前驅 物)、及在一部分具有pKa為14以下的官能基之基的前 驅物(在表2係稱為「X前驅物」)的種類及調配量變更為 表2所記載者以外,與合成例3同樣地進行來合成含氮 原子的樹脂(J-2)。將中間體的價值、胺值;以及含氮原 子的樹脂之酸值、胺值及重量平均分子量顯示在表2。 (合成例5) <含氮原子的樹脂(J-3)之合成> 在合成例3 ’係除了將含胺基的樹脂(聚乙亞胺)變更 為聚烯丙胺(PAA-01、日東紡公司製)脫水物以外,與合 成例3同樣地進行來合成含氮原子的樹脂(J_3)。將中間 體的價值、胺值;以及含氮原子的樹脂之酸值、胺值及 重量平均分子量顯示在表2。 -10 1- 201216004 [表2] 含氮原子 的樹脂 含胺基的樹脂 聚酯 X前驅物 中間體 含氮原子的樹脂 種類 調配量 (g) 種類 種類 調配量 (g) 酸值 (mgKOH/g) 胺值 (mgKOH/g) 酸值 (mgKOH/g) 胺值 (mgKOH/g) 重量平均 分子量 合成例3 J-1 SP-018 10 i- 1 琥珀酸酐 2.3 6.2 56.7 17.7 46.6 24,000 合成例4 J-2 SP-006 10 i-2 倍羰烯 3.8 5 62.8 23.8 45.4 18,000 合成例5 J-3 PAA-01A 10 i- 1 琥珀酸酑 2.3 6.1 57.1 17.2 46.9 21,000 SP-006係曰本觸媒公司製的聚乙亞胺(數量平均分 子量600)。 PAA-01 A係曰本觸媒公司製的聚烯丙胺(數量平均 分子量800)脫水物。 (合成例6) <樹脂的合成> 在具備冷卻器、攪拌機之500mL的3 口圓底燒瓶, 將10.86g(〇.〇81莫耳)2,2-雙(羥曱基)丙酸(DMPA)及 16.8 2g(0.1〇5莫耳)甘油一甲基丙烯酸酯(GLM)溶解在 7 9mL丙二醇一甲基醚—乙酸酯。在此,添加37 54g(〇15 莫耳)4,4’-二苯基甲烷二異氰酸酯(MDI)、〇lg2,6_二第 二丁基备基甲苯、0 2g作為觸媒之商品名:Ne〇stann U-600(曰東化成(股)製),於乃它加熱攪拌$小時。隨後, 使用9.6lmL甲醇稀釋且攪拌3〇分鐘。來得到i45g之酸 改性含乙烯基的聚胺基甲酸酯樹脂ϋ 1溶液。 上述所得到之酸改性含乙烯基的聚胺基甲酸酯樹脂 υι係固體含置酸值為7〇mgK〇H/g,使用凝膠滲透層析 法(GPC)測定之重量平均分子量(聚苯乙烯標準)為 8,〇〇〇,乙烯基當量為丄5mmol/g。 -1 02- 201216004 前述酸值係依據jIS K0070而測定。但是,試樣為 不冷解的情況,係使用二嘮烷或四氫呋喃等作為溶劑^ 前述重量平均分子量係使用高速GPC裝置(東洋曹 達公司製HLC-802A)而測定。亦即,將〇 5質量%的 溶液作為試料溶液,管柱係使用62支TSKgelGMH且注 入。2〇〇以1的試料,並且使用前述THF溶液進行洗提而於 25 C使用折射率檢測器進行測定。隨後,從逵使用標準 苯乙烯校正之分子量分布曲線求取重量平均分子量。 前述乙烯基當量係藉由依據JIS K2605測定溴值來 求取。 (合成例7) <樹脂的合成> 添加2,200質量份(1〇當量)甲酚.酚醛清漆型環氧 樹脂(日本化藥股份公司製、EOCN-104S、軟化點為92 °C、環氧當量220)、134質量份(1莫耳)丙二醇一曱基醚、 64 8.5質量份(9莫耳)丙烯酸、4.6質量份曱基氫醌、1,131 質量份卡必醇乙酸酯、及 484.9質量份溶劑石腦油 (naphtha),於90°C加熱且攪拌,來將反應混合物溶解。 隨後將反應液冷卻至60°C,且添加1 3.8質量份三苯膦, 加熱至 100 °C而且反應約 32小時,來得到酸值為 0.5mgKOH/g的反應物(羥基、12當量)。隨後,在此添加 364.7質量份(2.4莫耳)四氫酞酸酎、137.5質量份卡必醇 乙酸酯及58.8質量份溶劑石油腦且加溫至95°C,反應約 6小時且冷卻,來得到固體含量濃度40質量%之含羧基 的感光性聚胺基甲酸酯樹脂 U2。 -1 03- 201216004 所得到之含羧基的感光性聚胺基甲酸酯樹脂u 1係 酸值為70mgKOH/g、重量平均分子量12,〇〇〇、乙烯基當 量為 1.5mm〇l/g。 (實施例1) <感光性積層體的製造> -感光性組成物的調製- 調製下述組成的感光性組成物。 又,相對於感光性組成物的固體含量1 00質量份, 在所得到的感光性組成物之填料的含量為3 0質量份。 [感光性組成物的組成] 合成例6所得到之酸改性含乙烯基的聚胺基甲酸酯樹脂 U1溶液 32.3質量份 (固體含量45質量%) 聚合性化合物:DCP-A(共榮社化學公司製)5.3質量份 起始劑:IRG907(CIBA . SPECIALTY . CHEMICALS 公司製) 〇. 6質量份 :DETX(曰本化藥公司製) 〇·〇〇5質量份 :EAB-F(保土谷化學公司製) 0.019質量份 熱交聯劑:EpoTohto YDF-170(東都化成公司製) 2·9質量份 顏料分散液: 4 0.7質量份 其他:MEGAFAC F-780F(大曰本INK (股)公司製3〇質量 %曱基乙基酮溶液) 〇. 2質量份 環己酮(溶劑): 8.0質量份 前述顏料分散液係如下述調製而得到者。亦即,將 -104- 201216004 T述成刀預先混合之後,使用電動碾磨機25〇(Eiger公司 製)且使用直徑KOmm的氧化錯粒,並且以周速9m/s分 散3小時來調製而成者。 二氧㈣:(ADMATECHS公司製、s〇_C2、平均粒徑g.5 "的 、 9.8質量份 在〇成例3所侍到之含氮原子的樹脂丨)(固體含量1 〇質量 0.22質量份 0.021質量份 0.006質量份 30.7質量佾 ^μηι的聚對酞酸乙二酯 酉大青藍 蒽醌系黃色顏料(PY24) 環己酮 -感光性薄膜的製造_ 在作為支撐體之厚度 (TORAY股份公司製、刪5Q)上,塗布前耗光性組成 物且使其乾燥而在前述支撐體上形成厚度3〇—的感光 層。j前述感光層上積層作為保護層之厚度2〇μιη的聚 丙烯薄膜(王子特殊紙股份公司t、alphane_2〇〇),來 製造感光性薄膜。 -對基體之積層· 對覆銅積層板(無穿通孔,銅厚度12μηι)的表面,施 行化學研磨處理而調製基體。在該覆銅積層板上,以前 述感光性薄膜的感光層係接觸前述覆銅積層板的方式邊 將在前述感光性薄膜之保護薄膜剝離、邊使用真空層壓 機(mcHIG0-M0RT0N股份公司製νρΐ3〇)使其積層來 調製將前述覆銅積層板、前述感光層及前述聚對酞酸乙 二酯(支撐體)依照該順序積層而成之感光性積層體。 -105- 201216004 又,壓黏條件係將抽真空時間設為40秒、將屋黏溫 度設為70。(:、將壓黏壓力設為〇.2MPa且將加壓時間設 為1 0秒。 <評價方法> <<埋入性的評價>> 將厚度25 V m的聚醯亞胺薄膜(APICAL ΝΡ〖、鐘淵 =學工業公司製)作為基薄,且在該基膜塗布接著劑而將 壓延銅笛(三井金屬公司製、厚度12am)貼上。隨後, 在上述壓延銅箔上,使用乾式薄膜光阻,以線/間隙=1⑽ β ni/lOOy m形成5〇支長度8cm的直線狀線,且對該直 線狀線並行地以線/間隙=5〇/ζιη/5()//π1形成5〇支長度 8 cm的直線狀線而形成厚度為丨8从m的圖案電路,來得 到附帶電路之覆銅積層板。 隨後,们呆冑薄膜(保護層)從i述感光_ ^㈣ 物剝離且將感光層面積層在上述附帶電路之覆銅積層 而得到的貼合試樣。該積層係在溫度6〇β(:、Μ 〇⑼. m的條件下進行》 ’ 使用光學顯微鏡以5〇倍〜2〇〇倍的倍率觀察感光 的埋入L/S(線/間隙)=5〇// m/5〇// m的配線圖案之間之 態且基於下述基準而評價。將.結果顯示在下述表3。 [評價基準] ^° 案電路與基骐的 路之覆銅積層板 〇:前述感光性薄膜係埋入前述圖 段差’且前述感光性薄膜與前述附帶電 之間不會產生間隙之情況。 〇△:在前述感光性薄膜與前述附帶電路之覆鋼積 -106- 201216004 層板之間產生間隙之情況、在圖案電路與感光性積層體 之間產生空氣的氣泡等之情況。 △ •炫融黏度太rfj而無法積層之情況。 X :熔融黏度太低,雖然對積層於基板時氣泡未進 入’但是感光層大量地從基板與支撐體之間滲出之情況。 <解像性> 將前述感光性積層體在室溫(23。(:)且5 5 %RH靜置1 〇 分鐘。從所得到之感光性積層體的聚對酞酸乙二酯(支撐 體)上使用眾所習知的圖案形成裝置且使用圓孔圖案,以 能夠形成圓孔的直徑之寬度為50μηι〜200μπι的圓孔之方 式進行曝光。 此時的曝光量係用以使在前述敏感度的評價之前述 感光性薄臈的感光層硬化所必要的光線能量。在室溫靜 置1 〇分鐘之後,將聚對酞酸乙二酯(支撐體)從前述感光 性積層體剝取。 對覆銅積層板上的感光層之全面,將作為顯像液之 3〇°C的1質量%碳酸鈉水溶液使用喷塗壓〇.i5MPa嘴塗 最短顯像時間的2倍時間來將未硬化區域溶解除去。 使用光學顯微鏡觀察將如此進行而得到之附有硬化 树脂圖案之覆銅積層板的表面,在圖案的圓孔底部必須 無殘渣且在圖案部必須無捲起、剝落等的異常,而且測 定能夠形成間隙的最小圓孔圖案寬度且將其作為解像 性’並且依照下述基準來評價。該解像度係數值越小越 良好。將結果顯示下述表3。 -107- 201216004 [評價基準] 優良 〇直佐為90 # m以下的圓孔係能夠解像且解像性 120# m以下的圓孔係能 〇△:直徑大於9〇//叻且 夠解像且解像性優良。 # m以下的圓孔係能夠 △:直徑大於120# m且2〇〇 解像且解像性稍差。 X :圓孔係無法解像且解像性差。 < <顯像殘逢> > 顯像殘逢係依照在解像 .^ ^ 鮮诼〖生汗仏之300 ju m圓孔圖案 的殘渣之狀’%來評償。將.处 _ τ ,Μ 种、结果顯不在下述表3。 [評價基準] 顯像殘渣除去 〇 在圓孔圖案内無法觀察到殘渣且 性優良。 〇△:在圓孔圖案的周邊能夠觀察到 顯像殘渣除去性良好。 卞坟/宜1-疋 △:在圓孔圖案内周邊能夠觀察 像殘渣除去性稍差。 疋叼殘屋i顯 :在圓孔圖案内 除去性差。 <<耐熱性>> 夠觀察到清楚的殘渣且顯像殘渣 且將塗布: = 感光性組成物所構成的抗銲劑層 260。(:的焊料_ 3Q f劑之評價基板浸潰於預先設定於 後,藉由目視針對光^而且使用改性醇洗淨助鮮劑之 依照下述 九I5且層的膨脹、剝離及變色 -10 8- 201216004 基準進行評價。將結果顯示在下述表 [評價基準] 〇:完 〇△: 性良好。 全無法觀察到變化且耐熱性優良。 雖然少許能夠觀察到_、剝離,但是对熱 △:能夠觀察到一部分膨脹且耐熱性差。 X :在塗膜有膨脹、剝離。 < <強韌性> > 在前述感光性積層體,在將厚度為12"111的銅羯積 層於玻璃環氧基材而成之印刷基板上使用通用的方法形 成抗銲劑層,而且透過2mm四方光罩且使用〇rc势作 所公司製HMW-2CUGX型曝光機而以能_成2匪四'方 圖案之最佳曝光量(300mJ/cm2〜U/cm2)進行曝光。隨後, 在常溫靜£ 1小時之後’使用呢% i f量%碳酸納水 溶液進行喷塗顯像60秒,進而在8〇t加熱(乾燥)1〇分 鐘。隨後’使帛ORC製作所公司製紫外線照射置而以 lJ/cm2的能量對感光層進行紫外線照射。而且藉由將感 光層於15(rC進行加熱處理60分鐘,來得到具有2mm 四方的矩形開口部之形成有抗銲劑的評價用基板。 將所得到的基板於-65。(:的大氣中曝露15分鐘之 後,隨後於150°C的大氣中曝露15分鐘後,再次於_65 C的大氣中曝露之熱循環,重複進行i,〇 〇 〇次。使用光 學顯微鏡觀察通過熱循環後之評價用基板之抗銲劑上的 裂縫及剝離程度。將結果顯示在下述表3。 -109- 201216004 [評價基準] 〇.在抗銲劑無裂縫、剝離且強韌性優良。 〇△:雖然在抗銲劑有少許無裂縫,是強為性優良 △.在抗銲劑有少許無裂縫、制離且強韌性稍差。 X .在抗銲劑有清楚的裂縫、剝離且強韌性 <<絕緣性>> 對將厚度為的銅箱積層於玻璃環氣基材而成 之印刷基板的鋼施行触刻而線寬/間隙t為心WO "m,來得到互相的線不接觸且互相相同之同一面上的 梳形電極。在該基板的梳形電極上形成前述感光性積層 體且使用通用的方法來形成抗銲劑層’而且以最佳曝光 量(300mJ/cmMj/cm2)進行曝光。隨後,在常溫靜置i J a寸之後使用3 0 c的1質量%碳酸鈉水溶液進行喷塗 顯像60秒,進而在8〇t加熱(乾燥)1〇分鐘。隨後,使 用0RC製作所公司製紫外線照射置且以1 J/cm2的能量對 感光層進行紫外線照射。進而藉由將感光層於15〇它進 行加熱處理60分鐘,來得到形成有抗銲劑的評價用基 板0 以能夠對加熱後之評價用基板的梳形電極間施加電 壓的方式’將聚四氟乙烯製的屏蔽線(shield Hne)使用 Sn/Pb焊料連接至該等的梳形電極之後,在對評價用積 層體施加5 V的電壓後之狀態,將該評價用積層體在1 3〇 °C、85°C RH的超加速高溫高濕壽命試驗(HAST)槽内靜 置200小時。隨後,使用100倍的金屬顯微鏡觀察評價 用積層體的抗銲劑產生遷移的程度。將結果顯示在下述 -110- 201216004 表3。 [評價基準] 〇.無法確認產生遷移且絕緣性優良。 〇△:雖然確認在銅上產生少許遷移’但是絕緣性良好 △.綠δ忍產生遷移且絕緣性稍差。 X :電極間短路且絕緣性差。 (實施例2) 積層體且評價。將結果顯示在表3。 (實施例3) 在實施例I,係除了將 於感光性組成物的固體含量 為40質量份以外,與實施例 二氧化矽的調配量,從相對 100質量份,30質量份變 1同樣地進行而製造感光性 在實施例1,係除了將二氧化矽的調配量,從相對 於感光性組成物的固體含量1〇〇質量份,3〇質量份變 為15質量份·以外,與實施例i同樣地進行而製造感光性 積層體且評價。將結果顯示在表3。 (實施例4) 在實施例1 ’係除了將含氮原子的樹脂(Ι_υ變更為 含氮原子的樹脂(J-2)以外,與實施例1同樣地進行而製 造感光性積層肋且6平彳貝。將結果顯不在表3。 (實施例5) 在實施例1,係除了將含氮原子的樹脂(J_ 1)變更為 含氮原子的樹脂(J-3)以外’與實施例1同樣地進行而製 造感光性積廣體且評價。將結果顯示在表3。 -111- 201216004 (實施例6) 在實施例1 ’係除了將酸改性含乙烯发 0师基的聚胺基曱 酸酯樹脂U 1變更為含羧基的感光性聚胺 k妝基甲酸酯樹脂 U2以外,與實施例1同樣地進行而製造威 先性積層體且 評價。將結果顯示在表3。 (實施例7) 在實施例1,係除了將二氧化矽蠻承认 /又炅為二氧化矽 (ADMATECHS公司製、SO-C3、平均粒种洛 J 孤 k 4 0,9 μ m)以
外,與實施例1同樣地進行而製造感光MΛ A β π it積層體且評 價。將結果顯示在表3。 (實施例8) 為二氧化妙 〇. 2 5 μ m)以 積層體且評 在實施例1,係除了將二氧化妙變更 (ADMATECHS公司製、SO-C1、平均粒徑為 外’與實施例1同樣地進行而製造感光性 價。將結果顯示在表3。 (實施例9) 在實施例
氧化紹(信越 係除了將二氧化矽變更為 石英公司製、AO-802、平均粒徑為0 7 " ./以m)以外,與實 施例1同樣地進行而製造感光性積層體且 啦且s子價。將結果 顯示在表3。 (比較例1) 在實施例1 ’係除了將含I原子的樹脂(J_n變更為 酸改性含乙烯基的聚胺基甲酸酯樹脂υ 1以外,與實施 例1同樣地進行而製造感光性積層體且評價。將結果顯 示在表 3 〇 -112- 201216004 (比較例2) 在實施例 1,係除了將含氮原子的樹脂(J-1)變更為 SOLSPERSE 24000(LUBRIZOL公司製、鹼性分散劑(與 在本發明的感光性組成物之述含氮原子的、樹脂不同))以 外,與實施例1同樣地進行而製造感光性積層體且評 價。將結果顯示在表3。 (比較例3) 在實施例1,係除了將含氮原子的樹脂(J-1)變更為 SOLSPERSE 26000(LUBRIZOL公司製、含酸性基的樹脂) 以外,與實施例1同樣地進行而製造感光性積層體且評 價。將結果顯示在表3。 又,SOLSPERSE 26000係與在本發明的感光性組成 物之述含氮原子的樹脂不同且係作為彩色濾光片用的感 光性組成物之分散劑被廣泛使用者。 [表3] 埋入性 解像性 顯像殘渣 耐熱性 強韌性 絶緣性 實施例1 〇 〇 〇 〇 〇 〇 實施例2 〇 〇 .〇 〇 〇 〇△ 實施例3 〇 〇△ 〇△ △ 〇 〇 實施例4 〇 〇△ Δ 〇 〇 〇 實施例5 〇 〇△ 〇△ 〇 〇 〇△ 實施例6 〇 〇△ 〇△ 〇 〇 〇△ 實施例7 〇△ 〇△ 〇△ 〇△ 〇 〇 實施例8 〇 〇 〇 〇△ 〇△ 〇△ 實施例9 〇 〇△ 〇△ 〇△ 〇△ Δ 比較例1 X X X X △ Δ 比較例2 〇 X X 〇 〇 Δ 比較例3 Δ X X X Δ Δ -113- 201216004 [產業上之利用可能性] 因為本發明的感光性組成物係即便填料的含量多的 情況,黏度亦不會變高且解像性高、無顯像殘渣,而且 耐熱性、強韌性及絕緣性優良,能夠適合使用作為抗銲 劑。 【圖式簡單說明】 is. 〇 【主要元件符號說明】 fe 〇 "»、 -114-
Claims (1)
- 201216004 七、申請專利範圍: 1. 一種感光性組成物,其特徵在於·· 含有含氣原子的樹脂、該含氮原子的樹脂以外的 樹脂、熱交聯劑及填料; 前述含氮原子的樹脂係含有:具有氮原子的主 鍵’與在前述主鏈所存在的氮原子鍵結且在一部分具 有pKa為14以下的官能基之基;及與前述主鏈鍵結 且數買平均分子量為500〜1,0〇〇,〇〇〇的接枝鏈。 2 ·如申明專利範圍第丨項之感光性組成物,其中填料係 二氧化矽。 3. 如申吻專利範圍第丨項之感光性組成物,其中相對於 感光性組成物的固體含量100質量份,填料的含量為 10質量份〜97質量份。 4. 如申請專利範圍第1項之感光性組成物,其中具有氮 原子的主鏈係由具有胺基的聚合物所構成之主鏈。 5·如申晴專利範圍帛4項之感光性組成物,纟中由具有 胺土 9聚σ物所構成之主鏈,係由選自聚(伸烷基亞 胺)、聚稀丙胶 ★、聚二烯丙胺、間二甲苯二胺-表氣醇 聚縮合物及奢r π & 乙烯胺之1種以上所構成之主鏈。 6· 如申睛專利餡 八且 %圍第1項之感光性組成物,其中在一部 t:v”PKa為14以下的官能基之基係下述通式(V-1) 至(”)所表示的基之任一者, -115- 201216004 〇 通式(ν-1) 〇 s〇3h 通式(V-2)通式 其中,前述通式(V-l)及前述通式(v_2)中 表示單鍵及二價的連結基之任—者,d及e传 立地表示0及1的任一者;前述通式(v_3)中 表示醯基及烷氧基羰基的任一者。 7.如申請專利範圍第1項之感光性組成物,其中 子的樹脂係具有下述通式(I-1)所表示的重複^ 下述通式(1-2)所表示的重複單元, ,U係 各自獨 ’力係 含氮原 A、及 * '(CR1R2)a-N-X 通式(1-1) * * -(cr1rVn-通式(1-2) 氺 其中,前述通式(1-1)及(1_2)中,K1及R2 獨立地表示氫原子、_素原子及烷基的任 各自獨立地表示1〜5的整數之任一者,「*」传 複單元間的連結部,X係表示在一部分具有 14以下的官能基之基,γ係表示數量平均分 500〜1,〇〇〇,〇〇〇的接枝鏈。 8.如申請專利範圍第丨項之感光性組成物其中 子的樹脂係具有下述通式(11_丨)所表示的重複 及下述通式(II-2)所表示的重複單元, 係各自 a係 表示重 pKa為 子量為 含氮原 單元、 -116- 201216004 * - -cr3r4-ch _ - * * --cr3r4-ch- — * CR5R6 cr5r6 NH NH I I X ) 通式(II-l) 通式(II-2) 其中’前述通式(II-l)及(II-2)中,R3、R4、 R係各自獨立地表示氫原子、螽素原子及烧基的 者,「*」係表示重複單元間的連結部,X係表示 部分具有pKa為1 4以下的官能基之基,Y係表 量平均分子量為500〜1,000,000的接枝鏈。 9.如申請專利範圍第1項之感光性組成物,其中數 均分子量為500〜1,000,000的接枝鏈係下述 (ΠΙ_1)所表示之接枝鏈, 〇 —Ζ 通式(111~1) 其中’前述通式(III-1)中,ζ係至少具有將 。卩分結構之聚合物殘基,且係表示從下述 (IV)所类_ 示之具有游離敌基的聚g旨除去叛基而 聚合物殘基, ho-^5_2 通式(IV) r及 任一 在一 示數 量平 通式 聚醋 通式 成之 -117- 201216004 其中’前述通式(IV)中,Z係與前述通式(III-1) 中的Z相同。 10 ·如申請專利範圍第1項之感光性組成物,其中含氮原 子的樹脂係使具有一級胺基及二級胺基的至少任一 者之樹脂;在—部分具有pKa為14以下的官能基之 基的前驅物;及數量平均分子量為5〇0〜1,000,000的 接枝縫的刖驅物反應而得到之樹脂。 11.如申請專利範圍第1項之感光性組成物,其中進一步 含有聚合性化合物及光聚合起始劑。 12· —種感光性薄膜,其特徵在於:在支撐體上具有感光 層’該感光層係包含如申請專利範圍第1項之感光性 組成物。'~ " ,6月号刊範圍第1孭之埶无性 組成物。其特徵在於:至少包含對使 感光層進行曝光σ之 具備使用如申請專利範 法所形成之永久圖案。 201216004 四、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:無 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 五、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式:
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010194712 | 2010-08-31 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201216004A true TW201216004A (en) | 2012-04-16 |
Family
ID=45772589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW100130879A TW201216004A (en) | 2010-08-31 | 2011-08-29 | Photosensitive composition, photosensitive film, photosensitive layered product, method of forming permanent pattern, and printed wiring board |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012073598A (zh) |
TW (1) | TW201216004A (zh) |
WO (1) | WO2012029481A1 (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6729972B2 (ja) * | 2017-09-01 | 2020-07-29 | 富士フイルム株式会社 | 導電性フィルムを製造するための前駆体フィルムおよびそれを用いた導電性フィルムの製造方法 |
JP7118043B2 (ja) * | 2019-12-26 | 2022-08-15 | 株式会社タムラ製作所 | 感光性樹脂組成物 |
JP7401389B2 (ja) * | 2020-04-27 | 2023-12-19 | サカタインクス株式会社 | ブラックマトリックス用顔料分散組成物、およびブラックマトリックス用顔料分散レジスト組成物 |
JPWO2022224778A1 (zh) * | 2021-04-23 | 2022-10-27 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101541898B (zh) * | 2007-06-21 | 2013-05-01 | 三菱化学株式会社 | 颜料分散液、滤色片用着色组合物、滤色片、液晶显示装置及有机el显示器 |
JP5371449B2 (ja) * | 2008-01-31 | 2013-12-18 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂、顔料分散液、着色硬化性組成物、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法 |
-
2011
- 2011-07-29 WO PCT/JP2011/067498 patent/WO2012029481A1/ja active Application Filing
- 2011-08-22 JP JP2011180455A patent/JP2012073598A/ja not_active Withdrawn
- 2011-08-29 TW TW100130879A patent/TW201216004A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012073598A (ja) | 2012-04-12 |
WO2012029481A1 (ja) | 2012-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TW201247603A (en) | β -hydroxylalkyl amide and resin composition | |
TW200821340A (en) | Polyimide resin soluble in aqueous alkaline solution, composition comprising the resin and cured coating prepared from the composition | |
TW201214042A (en) | Photosensitive composition, photosensitive film, permanent pattern, method of forming a permanent pattern, and printed board | |
US20120168215A1 (en) | Curable resin composition | |
TW201105695A (en) | Light and thermal curable resin composition, dry film thereof and cured substance and printed circuit board using the same | |
WO2016060237A1 (ja) | 積層構造体、ドライフィルムおよびフレキシブルプリント配線板 | |
TW200813126A (en) | Photosensitive polyimide resin soluble in alkali aqueous solution and photosensitive resin composition containing same | |
TW201224663A (en) | Photosensitive composition, photosensitive film, permanent pattern, method of forming a permanent pattern, and printed board | |
TW200910006A (en) | Photocuring resin composition, dry film, curing product and print circuit board | |
TW201217904A (en) | Photosensitive composition, photosensitive film, photosensitive laminate, method of forming a permanent pattern, and printed board | |
TW201027242A (en) | Flame-retardant photocurable resin composition, dry film and cured product of the same, and printed wiring board using the composition, dry film or cured product | |
TW200839431A (en) | Photosensitive composition | |
TW201102405A (en) | Photocurable heat-curable resin composition | |
TW201209066A (en) | Photosensitive composition, photosensitive film, photosensitive laminate, method of forming permanent pattern, and printed board | |
TW201120573A (en) | Curable composition, curable film, curable laminate, method for forming permanent pattern, and printed board | |
JP6488069B2 (ja) | 感光性熱硬化性樹脂組成物およびフレキシブルプリント配線板 | |
TW201120118A (en) | Photocurable heat-curable resin composition, dry film and cured product of the composition, and printed wiring board utilizing those materials | |
TW201102754A (en) | Photocurable thermosetting resin composition | |
JP6549848B2 (ja) | 積層構造体 | |
TW201128311A (en) | Photosensitive composition, photosensitive film, photosensitive laminator, method for forming permanent pattern and printing substrate | |
TW201207556A (en) | Photo-curable thermosetting resin composition | |
TW201216004A (en) | Photosensitive composition, photosensitive film, photosensitive layered product, method of forming permanent pattern, and printed wiring board | |
TWI841657B (zh) | 積層構造體、乾膜、其硬化物及電子零件 | |
TW201027241A (en) | Flame-retardant photocurable resin composition, dry film and cured product of the same, and printed wiring board using the composition, dry film or cured product | |
TW201107355A (en) | Curable resin composition and printed wiring board |