TW201206527A - Systems and methods for manufacturing a golf ball - Google Patents

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201206527 六、發明說明： 【發明所屬之技彳标領域】 本發明係有關於多層高爾夫球及用於製造多層高爾夫 球之系統及方法，且更特別地係將小顆粒模製於一高爾夫 球基材内，其於後可被移除而於基材（包括基材之外表面及 内部)形成孔隙之高爾夫球製造系統及方法。 ^ ΦΗτ ^ 背景 大部份之傳統高爾夫球係由至少二層材料建構成。此 等多層高爾夫球形成二主要種類：纏繞式高爾夫球及實心 巧爾夫球。纏繞式高爾夫球典型上具有至少三層，包括一 中央球心，圍繞球心之一纏繞層，及圍繞纏繞層之一覆蓋 物。多層實心高爾夫球具有一實心球心，及圍繞此球心之 〜或更多層。具有單一實心球心及單一覆蓋層之多層實心 两爾夫球係最普遍之商業產品，且一般係稱為“二件式，，高 爾夫球。 於多層高爾夫球，個別之外層可藉由將其圍繞一於下 之基材，諸如，一中間層（有時稱為一罩覆層）或球心，而形 成。此等外層可藉由，例如，將外層材料圍繞於下之基材 射出成型、壓縮成型，及鑄製而形成。為提供最佳性能要 求，一外層較佳係與其相鄰之於下的層強烈地結合。 而纏繞式之球’由於藉由纏繞層之線纏繞提供之不平 妲表面及質地，一外層（例如，覆蓋物)及於其下之纏繞層間 之層間黏著性可被強化。當外層圍繞纏繞層而模製時，外 201206527 層之材料流入且圍繞此等表面及質地，造成改良之黏著 性。相反地，於纏繞式或實心之高爾夫球，於未被纏繞之 平坦層間’此等層間之黏著性會由於此等層間之平滑表面 而大大地降低。 不適當之層間黏著性會顯著減損高爾夫球之耐久性及 玩球特徵。例如’差的黏著性會於層間造成空洞及其它弱 點，於咼爾夫球遭觉諸如來自高爾夫球样或其它硬表面之 衝擊時造成脫層。脫層會減損高爾夫球之美觀及可玩性。 此外，當高爾夫球之覆蓋物被切割或以其它方式受損時， 不適當之層間黏著性會造成覆蓋物碎片與内層分離及掉 落，導致高爾夫球之進一步解體。 不適當之層間黏著性亦會不利地衝擊高爾夫球之旋轉 特徵。例如，不適當之層間黏著性會造成於球内產生之剪 切應力損失，此會阻礙球員以一具有大的球桿面角度之球 桿對球施加所欲旋轉之能力。此*於剪減力損失而減少 旋轉之趨勢於覆蓋層與相鄰之於其下之基材間的界面係特 別嚴重，旋轉特徵於此間係最受影響。 高爾夫球製造商已致力於藉由於基材形成質地或其它 表面特徵而改良層間之黏著性。此等製造技術包括以具有 粗链表面之-模穴模製—高爾夫球層，或使用低壓電毁處 理、電暈放電處理、化學飾刻，或噴丸表面處理而於一已 形成基材之表面形絲面特徵。但是，此等技術通常需要 另外之時間、工具’及製造設備，此會增加生產成本及時 201206527 因此，仍需要更有效率地製造具有強的層間結合之多 層高爾夫球’及具有改良的層間結合之多層高爾夫球。 【發明内容】 概要 實施例提供用於製造多層高爾夫球之系統及方法，其 中，顆粒係分散於一高爾夫球基材之一外表面内，然後， 被移除而於基材之外表面形成孔隙。 一方面提供一種用於製造高爾夫球之方法，其可包括 形成高爾夫球之一基材，此基材具有一外表面；將可移除 之顆粒置於基材之外表面活性劑，使得每一可移除顆粒之 至乂 。卩伤係曝置於基材之外表面；自基材之外表面移除 可移除之顆粒而於外表面形成孔隙；及於基材上形成一 層，使得此層之材料佔據此等孔隙。 於另一方面，可移除之顆粒可包含可溶性材料，可移 除之顆粒之移除可包含對此基材施加—溶劑，且溶劑可包 含溶解此可溶性材料之物質。 ；方面可移除之顆粒可包含水溶性顆粒，且溶 劑可包含水。 於另一方面，形成基材及將可移除之顆粒置於基材之 外表面可包含將可移除之顆粒施加至—模具之—表面，將 ^液體型式之-基材注射至模具内及於可移除之顆粒上， 材料’且使可移除之顆粒嵌入基材材料。 含將可移除之顆粒嘴灑於模具之表面上。、表面了已 201206527 於另一方面’將可移除之顆粒施加至模具之表面可包 含以均勻分佈施加可移除之顆粒。 於另一方面，將可移除之顆粒施加至模具之表面可包 含以任意分佈施加可移除之顆粒。 於另一方面，形成基材及將可移除之顆粒置於基材之 外表面可包含將顆粒與一基材材料混合形成一混合物，將 此混合物注射至一模具内，且顆粒係懸浮於整個混合物， 且夕數個顆粒係抵頂模具而置放且包含可移除之顆粒，以 及固化此混合物而形成基材，且可移除之顆粒係曝置於基 材之外表面。 於另一方面，第二之多數個顆粒可被置於基材内，且 可包含非曝置之可移除顆粒’且此方法可進—步包含自基 材移除未曝置之可移除顆粒而於基材内形成密閉式孔隙。 於另-方面，與基材混合形成混合物之顆粒可包含可 溶於一溶劑之可溶性顆粒，且其中，自基材之外表面移除 可移除之顆粒及自基材移除非曝置之可移_粒可包含將 此溶劑施加至此基材。 於另-方面，於基材上形成此層可包含將呈液體型式 之此層材料模製於基材上。 於另一方面，此層可包含高爾夫球之一覆蓋物，且基 材可包含高爾夫球之一中間層及一球心之一者。 於另-方面，此層可包含一第一層，且於基材上形成 此第-層可包含將第二可移除之顆粒置於第—層之一外表 面，及自第-層之外表面移除第二之可移除顆粒而於第一 201206527 層之外表面形成孔隙。一第二層可於第一層上形成，使得 第二層之材料佔據第一層之外表面的孔隙。 於另一方面，將第二可移除之顆粒置於第一層之外表 面可包含將第二之可移除顆粒施加至一第二模具之一表 面，將基材置於第二模具内，將呈液體型式之一第一層材 料注射至第二模具内，係於基材與第二模具之間，及於第 二可移除之顆粒上，以及固化液體之第一層材料，且第二 可移除之顆粒係嵌入第一層材料。 於另一方面，移除可移除之顆粒可包含使可移除之顆 粒與力量物理性接觸及使可移除之顆粒與空氣氣動式接觸 之一者。 於另一方面，可移除之顆粒可包含以流體填充之微膠 囊、以氣體填充之微膠囊，及凝膠微珠之一者，且移除可 移除之顆粒可包含加熱可移除之顆粒。 於另一方面，移除可移除之顆粒可包含選擇性加熱可 移除之顆粒而未明顯加熱基材。 於另一方面，形成基材及將可移除之顆粒置於基材之 外表面可包含將可移除之顆粒施加至一預形成之高爾夫球 之部份的一外表面，於此預形成之高爾夫球的部份之外表 面上及可移除顆粒周圍形成一基材，以及限制基材之厚 度，使得每一可移除顆粒之至少一部份係曝置於基材之一 外表面。 另一方面提供一多層高爾夫球，其包含一基材及一外 層。基材可具有-外表面，其中，基材界定多數個離散孔 201206527 且其中，此等多數個離散孔隙 隙，其於外表面具有開口 之每一孔隙具有比每一孔隙之内部尺寸更窄之—開口。外 層可置於基材之外表面上，其巾，外層包含凸部，其站據 此等多數個離散孔隙，且其中，每—凸部具有比每凸部 佔據之孔隙之開口更寬之一尺寸，使得每— 凸部不能通過 此開口。 於另一方面，此等離散孔隙可均句分佈於基材之外表 面。 於另一方面，高爾夫球可進一步包含多數個分散及包 覆於整個基材之师。雜之尺寸及紐可實f上相似於 孔隙。 於另一方面，高爾夫球可進-步包含多數個分散及包 覆於整個基材之密閉式孔隙’其中，密閉式孔隙之尺寸及 形狀可相似於離散之孔隙。 、於另方面’尚爾夫球可進__步包含_高爾夫球之部 :其係於基材下。基材可於一内表面接觸此高爾夫球之 耗。多數個離散孔隙之每—孔隙可自内表面延伸至基材 之外表面。 於另-方面，多數個離散孔隙之每一孔隙可為球形。 於另-方面，外層可具有與基材相對之一外表面。外 2界定第二多數個離散孔隙，其具有於外層外表面之開 :。此等第二之多數個離散孔隙之每—孔隙可具有比此等 =二^多數個離散孔隙之每—孔隙之内部尺寸更窄之一開 门爾夫球可進-步包含—第二外層，其係、置於外層之 201206527 外表面上。第二外層可包含凸部，其等係佔據此等第二之 多數個離散孔隙。第二外層之每一凸部可具有比第二外層 之每一凸部佔據之孔隙之開口更寬之尺寸，使得第二外層 之每一凸部不能通過開口。 另一方面提供藉由一方法製造之一高爾夫球，此方法 了包含形成此南爾夫球之一基材，此基材具有一外表面. 將可移除之顆粒置於基材之外表面，使得每—可移除顆粒 之至少一部份係曝置於基材之外表面；自基材之外表面移 除可移除之顆粒而於外表面形成孔隙；以及於基材上形成 一層，使得此層之材料佔據孔隙。 " 於另一方面’每—孔隙可具有於基材外表面之—開 口，其係比每一孔隙之内部尺寸更窄。 本發明之其它系統、方法、特徵及優點對熟習此項技 藝者於檢視下列圖式及詳細說明是會或將會變明顯。所音 欲者係包括於此說明及此概要内之所有此等另外之系統、 方法、特徵及優點會於本發明之範圍内，且受下列申請專 利範圍保護。 圖式簡單說明 本發明可參考下列圖式及說明而被更佳瞭解。圖式中 之虹件無需依比例’相反地，於例示本發明原理時會被強 調。再者，於圖式中，於整個不同圖式，相同參考編號係 指示相對應零件。 第1圖係例示一個二件式高爾夫球之一實施例之示专 圖此爾夫球具有—球心及圖繞此球心而置放之—覆蓋 201206527 物。 第2圖係例示一個三件式高爾夫球之一實施例之示意 圖，此高爾夫球具有一球心、一中間層，及一覆蓋物。 第3圖係例示一個四件式高爾夫球之一實施例之一示 意圖，此高爾夫球具有一球心、二中間層，及一覆蓋物。 第4圖係例示使用施加於一模具之可移除之小顆粒製 造高爾夫球之一方法及系統之一實施例之示意圖及流程， 此高爾夫球具有一具孔隙之基材。 第5.1圖係例示使用分散於整個基材之可移除之小顆 粒製造高爾夫球之一方法.及系統之一實施例之示意圖及流 程，此高爾夫球具有一基材，其具有於基材外表面之孔隙。 第5.2圖係例示使用分散於整個基材之可移除之小顆 粒製造高爾夫球之一方法及系統之一實施例之示意圖及流 程，此高爾夫球一基材，其具有於整個基材之孔隙。 第6圖係例示使用施加於一預形成之高爾夫球之部份 之可移除小顆粒製造高爾夫球之一方法及系統一實施例之 示意圖及流程，此高爾夫球具有一具孔隙之基材。 I：實施方式3 詳細說明 實施例提供用於製造高爾夫球之系統及方法，此高爾 夫球具有強的層間結合及所欲之結構特徵，此係藉由於一 高爾夫球基材包括暫時性之可移除顆粒，然後移除此等顆 粒而於基材（包括基材之外表面及内部）形成孔隙而提供。然 後，與基材相鄰之一外層可於基材上形成，且外層之材料 10 201206527 例如表面之孔隙且提供強烈之層間結合。此等孔隙係’ ϋ由增加使此等層彼此接觸之表面積，及藉由提供 之機械結構而提供強烈結合。具孔隙之基材可於一多 層南爾夫球之—或更多之層間邊界間形成。 ;t處使用時，“基材，，之用辭係指一結構之一部份， 二糸於此結構之另1份下。例如，於—高爾夫球一基 中間層或 諸如 可於最外層或覆蓋物下之任何部份， 一球心。 sl 稭由孔隙提供之基材不平坦表面造成強 .Λ之層間結合， 7 1 c會抗脫層、改良耐久性，及增強旋轉及 承載特徵，特別县 一 疋虽施加至於一覆蓋物與於此覆蓋物下之 材間之最外界面時。層間結合可抗脫層，即使於重複 育擊覆蓋物時’且可抑制覆蓋物之撕裂、劣化，及其它損 。具有不平坦層間邊界之高爾夫球可因而自改良之耐久 性及玩球特徵而獲利。 此外具有不平坦層間邊界之南爾夫球可展現改良之 承載特徵。一外覆蓋物及於下之基材間之增加結合及緊密 接觸可’例如，改良高爾夫球之一致性及感覺，使球員更 佳地控制球之旋轉及承載。換言之，球能對藉由球員施加 至球之力量產生一致性之反應，例如，使球員以一特定方 式擊球而達成一特定之可預期的反應。例如，高旋轉特徵 可於球藉由一需要較高旋轉之球桿打擊時獲得，而低旋轉 特徵吁於球藉由需要較低旋轉及較大承載距離之球桿打擊 時獲得。 201206527 實施例可提供可應用於包括纏繞式高爾夫球及實心高 爾夫球之任何多層高爾夫球之製造方法及系統。例如，第1 圖例示一個二件式高爾夫球100，具有一球心102，及置於 球心102周圍之一覆蓋物104，且球心102包含於覆蓋物1〇4 下之基材。孔隙可如下更詳細探討般於球心102之外表面形 成。覆蓋物104之材料可佔據孔隙。覆蓋物104及球心1〇2可 自不同材料或相同材料之不同配製（例如，比率）而形成。 作為另一例子，第2圖例示一個三件式高爾夫球2〇〇， 具有一球心202、一中間層204，及一覆蓋物206。如所示， 球心202可由中間層204圍繞，且覆蓋物206可置於中間層 204周圍。球心202、中間層204 ’及覆蓋物206每一者可由 不同材料形成。另外，球心2〇2及中間層2〇4二者可自相同 材料，但自此等材料之不同配製(例如，比率）形成。於第2 圖，孔隙町於球心202及中間層204之至少一者之外表面形 成一相鄰上層之材料可佔據孔隙。例如，若孔隙係設於球 心202，中間層204之材料可佔據此等孔隙。若孔隙係於中 間層204提供，覆蓋物206之材料可佔據此等孔隙》於實施 例中，球心2〇2可為貫心、中空，或以流體填充。 作為另〆例子，第3圖例示一個四件式高爾夫球3〇〇， 具有一球心3〇2、一第一中間層304、一第二中間層3〇6，及 一覆蓋物3〇8 β球心302可為實心、中空，或以流體填充， 且可由第〆中間層304圍繞。第二中間層306可置於第—中 間層304周園。球心302、第一中間層304,及第二中間層3〇6 之至少一者I一外表面可形成孔隙，且一相鄰上層之材料 12 201206527 可佔據此等孔隙。例如，若孔隙設於珑 及％3〇2,第一中間層 304之材料可佔據此等孔隙。若孔隙係#， D又於第^一中間層 304，第二中間層306之材料可佔據此等 札隙。且，若孔隙 係設於第二中間層306 ’覆蓋物308之材料會佔據此等孔隙 雖然第1-3圖之例子係例示二件式、二 二件式，及四件式 之結構，此處揭露之實施例可應用於具有任何數直之芦勹 括五或更多）之多層高爾夫球。 於此處使料，與-所述層相關之“外表面，，之用辭係 指此層之於基材層及相對於基材層係置於外部之一相鄰層 間之界面處之表面。例如，參考第3圖，球心3〇2之外表面 係於球心302與第一中間層304之間，且第—中間層3〇4之外 表面係於第一中間層304與第二中間層3〇6之間，且第二中 間層306之外表面係於第二中間層3{)6與覆蓋物则之間。於 一實施例，若一球心不是實心，第一中間層3〇4可包括一圍 繞及容納球心之氣體或流體之層，諸如，一可撓性包覆物。 第4圖例示用於製造高爾夫球之一方法及系統之一實 施例，此高爾夫球具有一具有用以提供強烈層間結合之孔 隙之基材。如所示，於步驟402，可提供一模具420，其係 相對應於一向爾夫球之一基材之所欲尺寸及形狀，如模具 420之一内模製表面418所界定。雖然為了清楚，第4圖係以 部份截面切割圖描述模具420，模具420可包覆於其内可形 成一局爾夫球基材之一三維體積。例如，模具420可包括二 部份’每一者界定一高爾夫球基材之一半球形體積。一基 材層可以—球形結構於模具420内形成。另外，模具420可 13 201206527 被組配成容納此高岐球之於上將形成—基材之 一預先製 備之部份。此航製備之部份可為，例如，—球心(例如， 第:圖之球心2〇2 ’或第3圖之球心3〇2)，或一多層高爾夫球 之邛伤（例如，第3圖之球心3〇2及第一中間層3〇4)。模具42〇 可包括-或多個模具插銷，以於基材於預先製造之部份周 圍形成時將預先製造之部份固持定位。 如步驟402所示，可移除之顆粒422可施加至模具42〇之 模製表面418。模製表面418可界定基材之外表面。顆粒422 可以特別圖案或分佈均勻施加。另外，顆粒422可任意施 加。雖然，為了清楚，第4關神對於基材雜係較大尺 寸之顆粒422，顆粒422可具有適於提供所欲之相對應尺寸 的孔隙及形成的結合之任何尺寸。此外，雖然，再次為了 /月楚，第4圖以圓形戴面形狀顯示顆粒422，顆粒422可為任 何所V之規則或不規則之形狀◊例如，顆粒422可為球形、 半球形、圓柱形、多邊形、狀粒，或纖維狀。 顆粒422可藉由任何適合方法施加至模具42〇之模製表 面418，包括，例如，藉由喷灑、藉由移液，或藉由粉刷於 表面上。一實施例提供一分配頭，其具有與模具42〇之模製 表面418之形狀互補之形狀(例如，半球形），且分配頭之出 口係置放於顆粒所欲之位置。分配頭可帶至模製表面418附 近，於是，顆粒可自出口沈積於模製表面418上。於另—實 細•例，顆粒422可懸浮於一清洗溶液，其被施加至模製表面 418，然後，蒸發(例如，藉由加熱)使得顆粒422沈降且附著 於模製表面418。於另一實施例，顆粒422可為鹽顆粒，其 201206527 被％加至模製表面418且加熱使鹽顆粒燒結，此可形成一連 接之顆粒網絡。 於將可移除之顆粒422施加至模製表面418後，於步驟 404’ 一基材材料可施加至模具42〇，顆粒422及模製表面418 上。基材材料可接觸模製表面418及圍繞除了與模製表面 418接觸之顆粒422部份外之顆粒422。基材材料可形成一實 心球心或可於高爾夫球之另一部份，諸如，一中間層或一 球心，上形成一層。於第4圖之實施例，基材材料形成一基 材424，其係高爾夫球之另一部份(為了清楚，未示出）上之 一層。 於一實施例，基材材料可以液體型式注射至42〇内，然 後，冷卻及固化。基材材料可為，例如，一彈性體或一熱 塑性材料。一適合之彈性體可為，例如，一經交聯之橡膠， 諸如’聚丁二烯，其可與二丙烯酸鋅及/或相似之交聯劑化 學式交聯。適合之熱塑性材料可為，例如，熱塑性聚胺甲 酉文6日或一離子聚合物樹脂’諸如，e. I. DuPont de Nemours of Wilmington，Delaware發展之高度中和化之離子聚合物 樹脂。於其中顆粒422燒結在一起或以其它方式接觸之一實 施例，熔融之基材材料可滲透顆粒間之間隙。 形成基材424後，如第4圖之步驟4〇8所示，基材424及 咼爾夫球之任何於下之部份可自模具42〇移除。此時，可移 除之顆粒422係維持於基材材料之基質内，且顆粒422之部 份係曝置於基材424之外表面。藉由此曝置，顆粒422其後 可自基材424移除。顆粒422可，例如，藉由物理性接觸顆 15 201206527 粒(例如，藉由洗刷或吹氣）、藉由溶解及洗掉顆粒，戈藉由 溶融或蒸發顆粒而移除。 曰 物理性萃取顆粒422可包括物理性接觸及移開顆粒 422 °例如，顆粒422可自基材424刷掉或磨掉。另外，一強 力氣流(例如，吹氣）可施加至基材424以將顆粒422移開及逐 出。於另一實施例，基材424與高_夫球之任何於下之部份 可被翻滾以將顆粒422移開及逐出。 溶解可移除之顆粒422可包括使用由可溶性材料製成 之顆板422 ’其於施加一相對應溶劑時溶解。例如，顆粒422 可由一水溶性材料製成，使得，對基材424施加水可溶解及 洗掉顆粒422。較佳地，溶劑溶解顆粒，而不會影響基材材 料。換言之’基材材料可為實質上不溶於可輕易溶解顆粒 材料之溶劑。 於一實施例’顆粒422可為鹽結晶（例如，氣化鈉結晶）。 以此方式，鹽結晶可藉由將其部份溶解，然後，藉由落塵 作用或喷灑分佈於模具表面418上而施加至420。部份溶多 之鹽結晶藉此可黏者於模製表面418 ’且於基材材料被施加 時維持定位。於一實施例，一層流體或溶劑施加至模具表 面418，然後，施加鹽結晶且使其部份溶解及黏著，然後， 流體或溶劑被移除(例如，藉由蒸發），且不會干擾鹽結晶。 於形成基材層且鹽結晶嵌入其内後，水或另外適合溶劑可 施加至基材層，以完全溶解及洗掉鹽結晶。另外，鹽結晶 亦可藉由輕輕刷擦基材層之外表面而移除。 於另一實施例，顆粒422可為聚苯乙烯顆粒’其可藉由 ⑧ 16 201206527 施加苯乙烯而溶解及洗掉。 於另一實施例，顆粒422可為聚乙烯基醇樹脂單絲、水 溶性多醣，或水溶性纖維素，其等之每一者可藉由施加水 而溶解及洗掉。 於另一實施例，顆粒422可為由耐綸、聚對笨二甲酸乙 二酯，或乙酸酯製成之纖維。於耐綸或聚對苯二曱酸乙二 酯顆粒之情況，可施加乙酸溶解及洗掉顆粒。於乙酸酯顆 粒之情況，可施加丙酮或曱基乙基酮以溶解及洗掉顆粒。 為藉由熔融或蒸發而移除顆粒422，實施例可於基材 424與顆粒422間提供適合材料。於一實施例，顆粒422可由 具有比基材424之材料的熔點更低的熔點之材料製成使得 施加熱造成顆粒422熔融及流掉或蒸發，而不會影響基材 424。於此實施例，基材424可使用無需將基材材料加熱至 π於顆粒422之熔點之方法施加至模具42〇。顆粒422可為， 例如’-凝膠。於其它實施例，顆粒422可為以流體填充之 微膠囊、以氣體填充之微膠囊，或凝膠微珠，其可藉由加 熱可移除之顆粒而移除。 於另一實施例，微波照射可用以選擇性加熱顆粒422， 且不加熱基材424。不同之材料化合物係藉由不同量將微波 照射轉化成熱。顆粒422因而可由以比基材材料者更大之量 :微波輕射轉化成熱之-材料製成。此選擇性能將顆粒似 加熱、炫融’及流掉或蒸發’所有皆不會影響基材似。 移除顆粒422後，如步驟41〇所示，基材424可界定孔隙 你。孔義可具有與先前佔據料位置之顆細實質上 17 201206527 相同之尺寸及形狀。較佳地，為增強層間之機械性連接， 孔隙426可被成形為使得其開口係小於開口下之尺寸。例 如，一孔隙426可為楔形榫頭形狀，或如第4圖所示，具有 一寬圓形基部427及一窄的上開口425之形狀。以此方式， 如下更詳細說明，孔隙426内形成之結構可機械式地固定於 孔隙内，因為孔隙426内之較大尺寸部份不會通過較窄之開 σ 〇 孔隙426亦可形成連續孔洞，例如，當孔隙係以結晶網 絡燒結於模具之鹽所形成時。連續孔洞可提供一所欲結 構，一外層之材料可滲入其内且藉此產生一強烈結合。 藉由界疋孔隙426之基材424，然後，如第4圖之步驟412 所示，一材料可施加至基材424以形成一外層。外層之形成 可包括藉由，例如，喷灑或塗刷而施加外層材料。於一實 施例，外層可藉由將外層材料模製於基材424上而形成。例 如，基材424及高爾夫球之任何於下之部份可置於一模具 内，且外層材料可以液體型式注射於模具與基材424間。於 施加外層材料，材料可流入或以其它方式沈積於孔隙426 内，且可於基材424之外表面上於孔隙426上及其間呈連 接。 施加外層材料後，如第4圖之步驟414所示，一外層428 可於基材424上形成。外層428可為一單片結構，其於所佔 據之孔隙426間及其外表面429呈一體。佔據孔隙426之外層 428之凸部430可於外層428與基材424間提供強烈之機械性 連接。 18 201206527 外層428可為一高爾夫球之一覆蓋物（個別地，例如， 第1、2 ’及3圖之覆蓋物1〇4、206 ’及308)，其可呈有凹寫 (為了清楚’未示出）。凹窩可藉由一模具形成，外層材料可 以液體型式注射於此模具内。於此實施例，如上所述般， 藉由孔隙426及凸部430提供之強烈的層間結合可抗脫層， 改良耐久性’及增強旋轉及承載特徵。形成—高爾夫球之 —覆蓋物之一外層428可自諸如E. I. DUP〇nt de Nemours of

Wilmington，Delaware 生產之 SURLYN®之材料形成 於另一實施例，外層428可為一中間層，諸如，第2圖 之中間層204，或第3圖之中間層304及3〇6。於此情況，外 層428可形成一平滑外表面429。另外，於另_實施例，外 層428之外表面429可藉由於外表面置放可移除之顆粒且其 後如對於基材424所完成般移除此等顆粒而形成孔隙。於外 28之外表面429提供此等孔隙能使第二外層與外層 以與外層428和基材424結合之相同方式結合。因此，強 4之層間結合可於一多層高爾夫球之每一層間之界面提 供。·於整個多層高爾夫球之此強烈層間結合進一步增加抗 脫層性、耐久性，及旋轉與承載特徵。 第5.1圖例示製造具有一具孔隙之基材以提供強烈層 2結合之高_夫球之方法及系統之另__實施例。於此實施 顆粒可力散於整個基材，且於基材外表面之顆粒係可 移除。如第5.1圖之步驟502所示，可形成一基材524。基材 可為一尚爾夫球之一球心，或如第51圖所示，可為— 兩爾夫球之-中間層。基材524可藉由如上有關於第4圖所 19 201206527 述之任何適合手段形成。例如，基材524可藉由射出成型、 喷灑，或塗刷而形成。 於形成基材524，用以形成基材524而施加之基材可包 括一基質材料及懸浮於基質材料内之顆粒522。由基質及顆 粒522組成之基材可以液體型式注射至一模具内，然後，冷 卻及固化。一旦形成’如第5.1圖所示，基材524於整體可 呈實心，且顆粒522係分散於基質材料。顆粒522之分佈使 一些顆粒522置於基質内，由基質完全包覆。其它顆粒522 可曝置於基材524之外表面523 ’且此等顆粒522之部份係被 曝置。此等曝置之顆粒s可為可移除之顆粒。 形成基材524後’如第5.1圖之步驟504所示，曝置之顆 粒522可如參考第4圖所述般自基材524移除。除使用適於當 曝置於外表面523時移除之顆粒外，於此實施例，顆粒522 亦可適於當置於基質材料内且未被移除時提供基材524所 需之結構性支撐。換言之，顆粒522之材料可較佳地藉由一 所欲手段(例如’藉由一溶劑溶解）而促成可移除，同時亦能 對基材524提供結構性支撐或至少未危及基材524之基質部 份提供之結構性支撐。例如，顆粒可由可溶於—溶劑之一 相對較硬之材料製成。 於自基材524移除曝置之顆粒522後，如第5.1圖之步驟 506所示，孔隙526可藉由基材524界定❶非曝置之顆粒522 可如所示維持被包覆於基材524之基質材料内。 形成具孔隙526之基材524，於第5.1圖之步驟5〇8，缺 後’ 一外層材料可如上有關於第4圖所述般施加。如第5】 ⑧ 20 201206527 圖之步驟510齡，外料财注射或叫它方式沈積於孔 隙526内及基材524周圍以形成外層伽如上所述外層似 可包括凸和3〇，其佔據孔隙526且提供強狀層間結曰合。 此外’非曝置之顆粒522維持被包覆於基材524内作為高爾 夫球之一永久部份。 如第4圖之實施例，第圖之實施例之外層528可為— 覆蓋物或一中間層，且可以相似於在基材524形成孔隙 相似之方式形成凹窩或孔隙。有關於此，外層材料可包括 一基質材料及分散於此基質之顆粒，其一些可曝置於外表 面529且其它可被包覆於基質内且未曝露出。藉由於外層 528之外表面529界定之孔隙，一多層高爾夫球可自如上所 述般之於層間之多於一界面處之強烈層間結合獲益。 用於製造高爾夫球之一系統及方法之另一方面包括使 用於基材内之孔隙提供控制一基材之結構特徵。因此，除 了或替代於一基材之一外表面形成孔隙，此另一方面可於 基材之内部或厚度内形成孔隙。孔隙可以尺寸、形狀、分 佈’或以其它方式組配而提供基材，例如，以壓縮、成覺， 及旋轉而言之所欲結構特徵。孔隙可，例如，提供—格室 狀之結構，其與一實心結構相比，於某些實施例係產生較 軟之壓縮，較軟之感覺，及改變之旋轉速率，較高或較低。 第5.2圖例示製造高爾夫球之一方法及系統之一實施 例’此高爾夫球具有一基材，其具有位於基材外表面及基 材内之孔隙’以提供強烈之層間結合及基材之所欲結構特 徵。於此實施例，顆粒可分散於整個基材，且於基材外表 21 201206527 面及基材内之顆粒係可移除。如第5.2圖之步驟552所示， 一基材524可被形成。基材524可為一高爾夫球之一球心， 或如第5.2圖所示，可為一高爾夫球之一中間層。基材524 可如上參考第4圖所述般藉由任何適合手段形成。例如，基 材524可藉由射出成型、噴灑，或塗刷而形成。 於形成基材524，用以形成基材524而施加之基材材料 可包括一基質材料，及懸浮於基質材料之顆粒522。由基質 材料及顆粒522組成之基材可以液體型式注射至一模具 内，然後，冷卻及固化。一旦形成，如第5.2圖所示，基材 524整個可為實心，且顆粒522係分散於基質。顆粒522之分 佈可使一些顆粒522係包覆於基質内，且其它顆粒522係置 於基材524之外表面523，且此等外部顆粒522之一部份係曝 露出。於此實施例，包覆之顆粒及曝置之其它顆粒可為可 移除之顆粒》 形成基材524後，如第5.2圖之步驟554所示，曝置及非 曝置之顆粒522可使用如上參考第4圖所述之技術自基材 524移除，此等技術亦能移除基材524内之被包覆的非曝置 顆粒522。例如’ 一實施例將粗糙之鹽結晶顆粒混合於一橡 膠化合物内形成此基材’然後，藉由使此基材曝置於熱水 而處理固化之橡膠基材。熱水可熔融鹽結晶，其不僅於某 些結晶會被曝置之表面處’而且於其它結晶可能被包覆之 橡膠基材内（例如’於數毫米之深度處）。 於移除被包覆之可移除顆粒，另一實施例係將熱塑性 合成樹脂粉末與具有比樹脂粉末更大之顆粒尺寸之水溶性 ⑧ 22 201206527 鹽粉末混合，將此混合物形成於基材内，然後，將鹽粉末 溶解及自混合物移除。混合物可藉由將現合物置於一模具 内，對抵頂模具之混合物施加熱及壓力，然後，將形成之 混合物冷卻而形成於基材内。然後，水可施加至形成之基 材而使水溶性粉末顆粒溶解及自基材移除，藉此，提供一 多孔性基材結構。於一基材内形成孔隙之適合技術係揭示 於Dighton等人之美國專利第4,7〇5,8〇9號案及日本公開第 JP55090361及JP61185538號案，所有在此被完整併入本案 以為參考資料。 除使用於置於外表面523或基材524内時適於移除之顆 粒外，於實施例，顆粒522亦適於當未自基材524移除且維 持包覆於基質材料内時堤供基材524所需之結構支撐。例 如，於某些實施例，置於一基材深處内之可溶性顆粒可能 未曝置於溶解，因此，可能未被析出且維持完整。為解決 留於基材内之顆粒，顆粒522之材料可較佳地藉由一所欲手 段(例如，藉由一溶劑溶解）而移除，同時亦對基材524提供 結構支撐，或至少不會危及基材524之基質部份提供之結構 支撐。例如，顆粒可由可溶於溶劑之一相對較硬之材料製 成。 於自基材524移除曝置及非曝置之顆粒522後，如第5.2 圖之步驟556所示’開放式孔隙526及密閉式孔隙527可藉由 基材524界定。於基材524之外表面523之開放式孔隙526可 提供如上所述之結合特徵。密閉式孔隙527可提供格室狀或 海模狀之結構，其產生，例如，所欲之壓縮特徵。雖然未 23 201206527 顯示於第5.2圖，例如，若顆粒係可溶性顆粒且溶劑未到達 所有顆粒時’其它之非曝置顆粒522可維持，例如，包覆於 基材524之基質材料内。 使基材524形成孔隙526及527，於第5.2圖之步驟558， 然後，一外層材料可如上參考第4圖所述般施加。如第5 2 圖之步驟560所示，外層材料可被注射或以其它方式沈積於 孔隙526内及於基材524周圍以形成外層。如上所述，外層 528可包括凸部530，其佔據孔隙526且提供強烈之層間二 合。此外，密閉式孔隙527維持於基材524内，以提供所欲 之結構特徵。其它非曝置及未歸之顆粒(未“）維持包覆 於基材524内作為高爾夫球之一永久部份。 如第4圖之實施例，第5.2圖之實施例之外層似可為一 覆蓋物或-中間層’且可以相似於在基材似形成孔隙细 及527之方式形成凹窩或孔隙。有關此點，外層材料可包括 -基質材料及懸浮於基質之難，此等顆粒之_些可曝置 於外表面529’，然後被移除4其它可包覆於基質内然後 被移除或未被移。藉由於外層528之外表面529界定之孔 隙’如上所述…多層高爾夫球可自層間之多於-界面處 之強烈層間結合獲益。 一基材524内之密閉式孔隙527於達到與，例如，壓缩、 感覺，及旋财關之所欲結構魏可提供驚人益處。役計 者可藉由選擇於-基材内形成密閉式格室之顆粒之適當尺 寸、含量，及分佈而控制此等結構特徵。例如，較大數量 或較大之顆粒可提供一較軟、更可壓縮之結構。 ⑧ 24 201206527 第6圖例示製造具有-具孔隙之基材之高爾夫球之系 統及方法之另-實關⑺此實關，可移除之顆粒之尺 寸可為自歸之-㈣面延伸至肺之—外表面，藉由此 相關尺寸，本實施例能選擇將可移除之顆粒施加至一模具 或至-已形成之高爾夫球之部份。舉例而言，第6圖之步驟 602例示可移除之顆粒62 2係施加至一已形成之高爾夫球之 部份’其於此情況係一高爾夫球之球心621(為了、青楚，係 以部份圖顯示）。可移除之顆粒622可藉由如上所述之各種 技術之任何者施加，例如，將顆粒622落塵於球心621之外 表面623上。顆粒622可均勻或任意地分佈於外表面623上。 於可移除之顆粒622就位後，如第6圖之步驟6〇4所示 (為了清楚，係以部份圖），基材624可形成於顆粒622及球心 621之外表面623上。基材624之厚度可被限制，使得顆粒622 從基材624之内表面625(及球心621之外表面623)延伸至基 材624之外表面627。可移除之顆粒622因而會曝置於基材 624之外表面627。 使用任何如上所述之技術，如第6圖之步驟6〇4之實施 例所示’可移除之顆粒622可自基材624移除產生藉由基材 624界定之孔隙626。然後，步驟606之結構可如上所述般進 一步處理而形成具有佔據孔隙626之凸部之一外層。 整體上，等改良方法及高爾夫球之實施例可藉由處理 一高爾夫球之中心及一中間層（諸如，形成球心與覆蓋物層 間之一界面之最外中間層）之至少一者之一外表面之至少 一部份而提供。此處理可足以降低或避免於經處理之層與 25 201206527 置於其附近之外層間之界面使用黏著劑。 於一實施例，於一高爾夫球製造方法期間，一基材可 形成作為一球心或作為於已形成之高爾夫球之部份（諸 如，一高爾夫球之球心）上之一層。基材之材料可為一永久 性基質及嵌入基質之非永久性之小顆粒。小顆粒之嵌入可 於一模製方法期間，例如，藉由以小顆粒塗襯一模具腔室 及注射基質而發生。將顆粒嵌入之其它方法亦被考慮。 基質固化後，小顆粒可自基質移除。小顆粒之移除可 藉由曝置於溶解顆粒但不會影響固化之基質材料之水或其 它溶劑而完成。顆粒亦可藉由其它手段移除，諸如，刷擦 或翻滾。小顆粒可特別地置放於基材或任意地置放於塗層。 提供此基材處理提供高爾夫球驚人益處。嵌入之小顆 粒可於一高爾夫球之層間產生不平坦界面，此增加此等層 彼此接觸之表面積且於此等層間提供表面粗糙性或其它機 械性互連。增加之表面接觸及互連增加一外層與一基材之 黏著性，而提供一更黏合之高爾夫球結構，其可為更耐久， 且對一高爾夫球員施加之力量可更可預期地反應。此外， 當顆粒完全包覆於一層内，然後移除產生密閉式孔隙時， 此等密閉式孔隙可對此層提供具有，例如，以壓縮而言之 所欲結構特徵。 另一實施例將可移除之顆粒施加至一高爾夫球之一最 外層，諸如，覆蓋層。使用，例如，參考第4及5圖所揭露 之技術之一任一者，孔隙可於一覆蓋層形成。此等孔隙可 界定一高爾夫球之凹窩或其它所欲表面特徵。於一實施 26 201206527 例’顆粒可呈一半球形或一球之一較小的端裂片（end sliver) 之形狀’且可使其平坦側抵頂一模具表面以相對應於所欲 凹窩圖案之一均勻分佈而置放。於顆粒周圍形成覆蓋層 後，顆粒可被移除而獲得覆蓋層之所表面特徵(例如，凹窩 圖案）。具質地之覆蓋層可提供高爾夫球之完成外觀，或另 一層（例如’一漆料或透明塗覆物層）可施加至具具質地之覆 蓋層而完成南爾夫球。 熟習此項技藝者會瞭解此製造方法不限於高爾夫球， 而係可成功地用於製造任何層狀物件。 雖然本發明之各種實施例已被說明，但此說明係意欲 作為例示’而非限制’且熟習此項技藝者會瞭解於本發明 祀圍内之許多另外實施例及實施係可能。因此，除基於所 附申請專利範圍及其等化物外，本發明係不受限制。再者， 各種修改錢變可於所㈣請專利之範圍内實行。 再者，於說明代表性實施例，綱t可能以一特別 序之步驟呈現-方法及/或處理。但是，至此方法或處理 依賴此處所提出之特別步驟順序之程度，此方法或广理 限於所述特別步驟順序。如熟習此項技藝者所瞭解= 步驟順序係可能。因此，說明tt所提 U 、 A <符別步驟順 不應被闡釋為作為申請專利範圍之限制。 1 夕卜，右關认 方法及/或處理之申請專利範圍不應限於以所查 ' 實施其步驟，且熟習此項技藝者可輕易瞭解^寫順序: 改變且仍屬於本發明之精神及範圍内。 順序係’ 【圖式簡單說明】 27 201206527 第1圖係例示一個二件式高爾夫球之一實施例之示意 圖5此高爾夫球具有一球心及圖繞此球心而置放之一覆蓋 物。 第2圖係例示一個三件式高爾夫球之一實施例之示意 圖，此高_夫球具有一球心、一中間層，及一覆蓋物。 第3圖係例示一個四件式高爾夫球之一實施例之一示 意圖，此高爾夫球具有一球心、二中間層，及一覆蓋物。 第4圖係例示使用施加於一模具之可移除之小顆粒製 造高爾夫球之一方法及系統之一實施例之示意圖及流程， 此高爾夫球具有一具孔隙之基材。 第5.1圖係例示使用分散於整個基材之可移除之小顆 粒製造高爾夫球之一方法及系統之一實施例之示意圖及流 程，此高爾夫球具有一基材，其具有於基材外表面之孔隙。 第5.2圖係例示使用分散於整個基材之可移除之小顆 粒製造高爾夫球之一方法及系統之一實施例之示意圖及流 程，此高爾夫球一基材，其具有於整個基材之孔隙。 第6圖係例示使用施加於一預形成之高爾夫球之部份 之可移除小顆粒製造高爾夫球之一方法及系統一實施例之 示意圖及流程，此高爾夫球具有一具孔隙之基材。 【主要元件符號說明】 100.. .二件式高爾夫球 102…球心 104.. .覆蓋物 200…三件式iij爾夫球 202…球心 204.. .中間層 206.. .覆蓋物 300…四件式高爾夫球 28 201206527 302…球心 304…第一中間層 306.. .第二中間層 308.. .覆蓋物 402·. _步驟 404.. .步驟 406·.·步驟 408···步驟 410.. .步驟 412.. .步驟 414.. .步驟 418…内模製表面 420.. .模具 422.. .可移除之顆粒 424.. .基材 425.. .上開口 426.. .孔隙 427.. .圓形基部 428.. .外層 429.. .外表面 430.. .凸部 502.. .步驟 510.. .步驟 522.. .顆粒 523.. .外表面 524.. .基材 526…孔隙 527.. .密閉式孔隙 528.. .外層 529.. .外表面 530.. .凸部 552…步驟 554…步驟 556…步驟 558.. .步驟 560…步驟 602.. .步驟 604…步驟 606…步驟 621.. .球心 622.··可移除之顆粒 623.. .外表面 624.. .基材 625…内表面 504…步驟 626...孔隙 506...步驟 627...外表面 508…步驟 29

Claims (1)

1. 201206527 七、申請專利範圍： 1. 一種用於製造高爾夫球之方法，係包含： 形成該高爾夫球之一基材，該基材具有一外表面； 將可移除之顆粒置於該基材之該外表面，使得該等可移 除顆粒之每一者之至少一部份係曝置於該基材之該外 表面； 自該基材之該外表面移除該等可移除之顆粒，以於該外 表面形成孔隙；以及 於該基材上形成一層，使得該層之材料佔據該等孔隙。 2. 如申請專利範圍第1項之方法，其中，該等可移除之顆 粒包含可溶性材料，其中，移除該等可移除之顆粒係包 含將一溶劑施加至該基材，且其中，該溶劑包含可溶解 該可溶性材料之一物質。 3. 如申請專利範圍第2項之方法，其中，該等可移除之顆 粒包含水溶性顆粒，且該溶劑包含水。 4. 如申請專利範圍第1項之方法，其中，形成該基材及將 該等可移除之顆粒置於該基材之該外表面係包含： 將該等可移除之顆粒施加至一模具之一表面； 將呈液體型式之一基材材料注射至該模具内及該等可 移除之顆粒上；以及 固化該液體基材材料，且該等可移除之顆粒係嵌入該基 材材料。 5. 如申請專利範圍第4項之方法，其中，將該等可移除之 顆粒施加至該模具之該表面係包含將該等可移除之顆 30 201206527 粒噴灑至該模具之該表面上。 6. 如申請專利範圍第4項之方法，其中，將該等可移除之 顆粒施加至該模具之該表面係包含以一均勻分佈施加 該等可移除之顆粒。 7. 如申請專利範圍第4項之方法，其中，將該等可移除之 顆粒施加至該模具之該表面係包含以一任意分佈施加 該等可移除之顆粒。 8. 如申請專利範圍第1項之方法，其中，形成該基材及將 該等可移除之顆粒置於該基材之該外表面係包含： 將顆粒與一基材材料混合而形成一混合物； 將該混合物注射至一模具内，且該等顆粒係懸浮於整個 該混合物，且其中，多數個該等顆粒係抵頂該模具而置 放且包含該等可移除之顆粒；以及 固化該混合物而形成該基材，且該等可移除之顆粒係曝 置於該基材之該外表面。 9. 如申請專利範圍第8項之方法，其中，第二之多數個該 等顆粒係置於該基材内且包含非曝置之可移除顆粒，且 其中，該方法進一步包含自該基材移除該等非曝置之可 移除顆粒而於該基材内形成密閉式孔隙。 10. 如申請專利範圍第9項之方法，其中，與該基材混合以 形成該混合物之該等顆粒包含可溶於一溶劑之可溶性 顆粒，且其中，自該基材之該外表面移除該等可移除之 顆粒及自該基材移除該等非曝置之可移除顆粒係包含 將該溶劑施加至該基材。 31 201206527 11. 如申請專利範圍第1項之方法，其中，於該基材上形成 該層係包含以液體型式將該層材料模製於該基材上。 12. 如申請專利範圍第1項之方法，其中，該層包含該高爾 夫球之一覆蓋物，且該基材包含該高爾夫球之一中間層 及一球心之一者。 13. 如申請專利範圍第1項之方法，其中，該層包含一第一 層， 其中，將該第一層形成於該基材上係包含： 將第二可移除之顆粒置於該第一層之一外表面；以 及 自該第一層之該外表面移除該等第二可移除之顆 粒，而於該第一層之該外表面形成孔隙，且 其中，該方法進一步包含於該第一層上形成一第二層， 使得該第二層之材料佔據該第一層之該外表面之該等 孔隙。 14. 如申請專利範圍第13項之方法，其中，將該等第二可移 除之顆粒置於該第一層之該外表面係包含： 將該等第二可移除之顆粒施加至一第二模具之一表面； 將該基材置於該第二模具内側； 將呈液體型式之一第一層材料注射至該第二模具内，於 該基材及該第二模具之間，及於該等第二可移除之顆粒 上； 固化該液體第一層材料，且該等第二可移除之顆粒係嵌 入該第一層材料。 32 ⑧ 201206527 15. 如申請專利範圍第1項之方法，其中，移除該等可移除 之顆粒係包含使該等可移除之顆粒與力量物理性接觸 及使該等可移除之顆粒與空氣氣動式接觸之一者。 16. 如申請專利範圍第1項之方法，其中，該等可移除之顆 粒包含以流體填充之微膠囊、以氣體填充之微膠囊以及 凝膠微珠中之一者，且其中，移除該等可移除之顆粒係 包含加熱該等可移除之顆粒。 17. 如申請專利範圍第1項之方法，其中，移除該等可移除 之顆粒係包含選擇性加熱該等可移除之顆粒而未明顯 加熱該基材。 18_如申請專利範圍第1項之方法，其中，形成該基材及將 該等可移除之顆粒置於該基材之該外表面係包含： 將該等可移除之顆粒施加至一預形成之高爾夫球之部 份的一外表面； 於該預形成之高爾夫球的部份之該外表面上及該等可 移除顆粒周圍形成一基材，以及 限制該基材之一厚度，使得該等可移除顆粒之每一者之 至少一部份係曝置於該基材之一外表面。 19. 一種多層高爾夫球，包含： 一基材，其具有一外表面，其中，該基材界定多數個離 散孔隙，其於該外表面具有開口，且其中，該等多數個 離散孔隙之每一孔隙具有比該每一孔隙之一内部尺寸 '更窄之一開口；以及 一外層，其係置於該基材之該外表面上，其中，該外層 33 201206527 包含凸部，其佔據該等多數個離散孔隙，且其中，每一 凸部具有比該每一凸部佔據之該孔隙之該開口更寬之 一尺寸，使得該每一凸部不能通過該開口。 20. 如申請專利範圍第19項之高爾夫球，其中，該等離散孔 隙係均勻分佈於該基材之該外表面。 21. 如申請專利範圍第19項之高爾夫球，進一步包含多數個 分散及包覆於整個該基材之顆粒，其中，該等顆粒之尺 寸及形狀係實質上相似於該等孔隙。 22. 如申請專利範圍第19項之高爾夫球，進一步包含多數個 分散及包覆於整個該基材之密閉式孔隙，其中，該等密 閉式孔隙之尺寸及形狀係相似於該等離散孔隙。 23. 如申請專利範圍第19項之高爾夫球，進一步包含一高爾 夫球之部份，其係於該基材下，其中，該基材係於一内 表面接觸該高爾夫球之部份，且其中，該等多數個離散 孔隙之每一孔隙係自該内表面延伸至該基材之該外表 面。 24. 如申請專利範圍第19項之高爾夫球，其中，該等多數個 離散孔隙之每一孔隙係球形。 25. 如申請專利範圍第19項之高爾夫球，其中，該外層具有 與該基材相對之一外表面， 其中，該外層界定第二多數個離散孔隙，其具有於該外 層之該外表面之開口，且其中，該等第二多數個離散孔 隙之每一孔隙具有比該等第二多數個離散孔隙之每一 孔隙之一内部尺寸更窄之一開口， 34 201206527 其中，該高爾夫球進一步包含一第二外層，其係置於該 外層之該外表面上，其中，該第二外層包含凸部，其等 係佔據該等第二多數個離散孔隙，且其中，該第二外層 之每一凸部具有比該第二外層之每一凸部佔據之該孔 隙之該開口更寬之一尺寸，使得該第二外層之該每一凸 部不能通過該開口。 26. —種高爾夫球，其係藉由一方法製造，該方法包含： 形成該高爾夫球之一基材，該基材具有一外表面； 將可移除之顆粒置於該基材之該外表面，使得該等可移 除顆粒之每一者之至少一部份係曝置於該基材之該外 表面； 自該基材之該外表面移除該等可移除之顆粒，而於該外 表面形成孔隙；以及 於該基材上形成一層，使得該層之材料佔據該等孔隙。 27. 如申請專利範圍第26項之高爾夫球，其中，每一孔隙具 有於該基材之該外表面之一開口，其係比該每一孔隙之 一内部尺寸更窄。 35