201133594 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種用於處理太陽能電池製造的裝置及 方法，且具體而言，有關清潔安排於一堆疊中的多層薄 的晶圓。 【先前技術】 用於光電面板的石夕的薄晶圓係藉由將一石夕塊切割成多 層的晶圓而產生。此等晶圓的厚度可介於50 pm及3 οομα 之間。薄的晶圓係為理想的以減少材料需求及製造花 費，但此等晶圓係為脆弱的。在切割之前，一黏著層係 分散於塊體的一個表面上，以在切割期間夾持晶圓在適 當位置中。切割的動作係以快速移動的線的一陣列實 現。在切割期間’塊體被冷卻且來自切割的碎屑材料以 一液體或泥槳移除。在切割之後，泥t及碎屬殘留在晶 圓的表面上’所以晶圓的清潔係、為重要的。在晶圓上存 在水及泥料致某些毛細管作用，其趨向將鄰近晶圓夹 持在-起。清潔係為必須的，以移除泥毁、黏著層的任 何殘留、及相關的化學物質。 已知可個別地清嚟a 冰日日圓。晶圓被安排於—水 且裝備必須具有顯菩的 清潔處理。單獨…t ，5…500以執行 干询日日圓清潔的主要缺 晶圓通過清潔處理的 為在承載 的，衰輪或移動栓上會損壞晶圓。W〇 201133594 2009129989 A1及EP 2060659 A2中說明此等清潔系统。 支持且移動晶圓通過裝備的滚輪或栓的任何未對齊可導 致在晶圓中建立缺陷而作廢。 為了避免與單獨晶圓清潔相關聯的問題，提曰 Θ0 圓 之間具有4mm至1 〇mm的間隙的—籃筐或卡匣中承載曰 圓通過清潔處理。WO 2009098042 A1中顯示此—解決 案的一實施例。US 6001 191顯示一類似的籃筐清潔方 法。然而，此方法需要不只一個槽用於洗滌及清洗，且 再一次導致如上述單獨晶圓概念的顯著長度的裝備。 晶圓已被固定於固定的梳型安排用於喷灑。卯 20040262245顯示此一清潔方法的一範例。 【發明内容】 本發明提供一種用於清潔一堆疊中的晶圓的裝置，其 包含多層晶圓包含—大致平行的溝槽，其中放置晶 圓的堆疊’溝槽的軸垂直於個別晶圓的平面，在溝槽： 的支架夾持晶圓離開溝槽的較低部份、於堆疊的一端的 -固定支架、及遠離堆疊的此端的一方向的足夠空間， 而允許晶圓以―距離分開，使得介於晶圓之間的毛細管 仙被破壞，其中存在供給以引導液體從溝槽的較低部 份向上喷射’從而使得此等液體的喷射維持晶圓不與支 架直接接觸，以央持晶圓離開溝槽的較低部份，且以平 订於溝槽的軸的—方向橫向地分開晶圓，因而以遠離固 201133594 疋支架的方向移動晶圓，且此等液體的喷射亦清潔b曰 圓。 '、Ba 較佳地係為存在一可移動支架用於堆疊的另—端，可 移動支架係垂直於個別晶圓的平面的—方向自由地移 動-經限制的距離’以允許晶圓分開，使得介於晶圓之 間的毛細管作用被破壞。 在此形式中，更佳地係為存在供給以向後移動可移動 支架朝向固定支架，使得當來自液體的喷射的壓力減 少，但在晶圓安頓回等支架以夾持晶圓離開溝槽的較低 部份之前時，晶圓可被推回其在溝槽的軸上的原始位置。 有益地係為存在一調節閥，其可控制饋送至液體饋送 供應器的量’因而調節液體的喷射的壓力’以夾持晶圓 離開支架，其中支架夾持晶圓離開溝槽的較低部份。 便利地，引導液體的喷射的供給係以具有一液體饋送 供應态的閉合腔室及小孔形A ’以形成導向;冓槽的内部 的喷射。 較佳地為在溝槽中夾持晶圓離開溝槽的較低部份的支 架係為足夠堅硬的桿，以夾持晶圓在適當位置中。 較佳地亦為端支架及夾持晶圓離開溝槽的較低部份的 支架係以一匣盒（magazine)形成，其與用於液體喷射 的供給分開。 本發明包括一種清潔包含多層晶圓的一堆疊中的晶圓 的方法，包括以下步驟：以垂直平面支持晶圓，從晶圓 的下面供應液體的喷射，喷射具有足夠的力量以抬起晶 201133594 圓離開支架， 清潔晶圓的面 一起以從支架移開。 允許晶圓水平地分散，使得液體的喷射可 且接著當晶圓已被清潔時，推動晶圓在 由 本發月亦已括以上述本發明的裝置清潔的晶圓，或藉 上述本發明的方法清潔的晶圓。 【實施方式】 第1圖顯示晶圓10的一堆疊，其支持於以"表明的 -匣盒中。如此特定實施例所顯示，晶圓係為方形的， 且經安排使其對角線水平地且直立地運行。然而，晶圓 可/、有/、他开/狀，且用於此等晶圓的匣盒將具有適當的 配置。E盒包含支架桿12，其固定地連接至一端支架 14。一可移動端支架15係於支架桿12的端而遠離固定 的端支架14之處。可移動端支架經安排以垂直於堆疊 ίο中的晶圓的平面的一方向移動遠離固定的端支架14。 最初在此範例中，堆疊10中的個別晶圓由先前處理中 所使用的切割線的厚度隔開H晶圓之間的間隙可 為更小的。在線鋸處理期間（清潔之前）晶圓藉由塗布 於塊體的一個表面上的一黏著劑夾持在適當位置中，該 黏著劑從晶圓上被鋸開。晶圓之間的間隙以泥漿及水填 充，其導致趨向將鄰近的晶圓夾持在一起的毛細管力量。 在第2圖所顯示的端視圖中，存在噴嘴腔室16，而堆 疊10的較下兩側可置放於其上（當匿盒位於用於帶清潔 201133594 的堆疊的適當位置φ、 , ^ 中）。此等喷嘴腔室經安排以形成大致 為橫臥「V」字型的溝播., J禪槽17的側，其中在溝槽i 7的每一 側的一對桿1 2支持a圓、π.从1 t曰曰圓1 0的堆疊剛好不觸及該溝槽的 喷灑表面。喷嘴腔室不以、沾—a向 ^ +必均在晶圓的較下側。 在第2圖中’存在液t 甘夜體饋迗官18的概略表現，以饋送 清潔液體至喷嘴腔室、 至16。一收集通道（未顯示）被安排 於喷嘴腔室16的下方 _ ± 万以在進仃喷灑以清潔晶圓之後收 集液體。£盒、溝槽及此隹π + — 阳久收集通道可容納於具有總體積為 1立方公尺的一槽中。 此第2圖顯示匣各T T k 比皿11的初始配置，其在由喷嘴腔室 16所形成的「V」字型溝槽之中。 第3圖顯示匣盒η及曰圓 ^ θ , 1久日日圓1ϋ的堆疊’其具有桿12夾 持晶圓的堆疊離開噴嘴腔室16。此係為當匣盒已被放置 於溝槽17 t中，但在清潔液體的供應被打開之前㈣ 況。 在第4及5圖中，加壓的清潔液體的供應已被打開， 且清潔液體通過喷嘴腔室16 *向上且向㈣麗。來自喷 嘴的同壓的液體造成晶圓在槽中漂浮。第4圖顯示清潔 液體的通路（灰色箭頭21)及接續將晶圓的堆曼抬起離 開桿12 (黑色箭頭2 2 )。 如可見於第5圖中，來自喷嘴腔室16的經加壓的噴灑 亦將晶圓向右移動（小的黑色箭頭23 A )，因而破壞晶圓 之間的毛細管吸引力且將晶圓分散開。此係將晶圓從堆 疊的外部端移向可移動支架15。當晶圓分散開時，可移 201133594 動支架1 5慢慢地向右移動（小的黑色箭頭23b )。晶圓 的分散允許晶圓之間具有空間，使得清潔液體具有輕易 的入口以實現一透徹的清潔作用。 第6及7圖顯示晶圓的最終位置，其均勻地沿著匣盒 的整體長度佈置。清潔液體現在可於堆疊1〇及喷嘴腔室 1 6之間脫離。可移動支架丨5現在已達到其動作的極限。 晶圓已無法再以水平方向分散開。在此情況中，直立方 向的力量在壓力、浮力、重力及拉力的均衡上達到平衡。 清潔液體的壓力接著被減少，但其仍足以支持晶圓不 觸及桿12。在此狀態中，堆疊由可移動端支架15的向 左動作而被壓縮。 主要清潔及接著分開清洗的處理可執行於被夹持於相 同的匣中的堆疊，且液體被供應於相同的槽中。所有 的晶圓同時被洗蘇。在清潔處理中，曰曰曰圓與桿12並無接 觸’因為晶圓「漂浮J於槽中。取決於污染的量、晶圓 厚度、尺寸及液體消耗量’漂浮的高度可由調節液體的 壓力而調整。
你躅工、尸/T • ,、π 円版主 i 分開。 此係為-個較佳的形式，但可取代地，噴嘴腔室可連結 至桿12’使得g盒及噴嘴腔室可從—個槽至另—個槽— 起㈣。圖式中所顯示的範例被認為是較佳的形式：此 使：清潔：理能夠僅具有一個清潔站而具有固定的喷嘴 使得裝載有晶圓堆疊的數個E盒可依序移動通過 201133594
可應用至—個特定處理的特定規模（且並非限制）係 說明如下U 喷嘴的尺寸應為小的（例如’< i mm )以避免對晶圓的 〇 嘴嘴之間的距離可為2-20mm。經鑽孔的盤的長度 (喷嘴係形成於其中）10-2000mm，且具有 2〇 2〇〇〇mm的一寬度。具有700片晶圓的一個堆疊的一 典聖安排（而各晶圓係為156x156x0.18mm )可具有 180mm的喷嘴腔室，具有〇 8_的孔直徑與鄰近的孔 刀開5mm。在此情況中，可移動支架可行進通過大約 40mm的一距離。 本發明的優點 因為在^潔期間晶圓及桿之間並無直接接觸，所以喷 嘴將在晶圓之間注人較窄的液體流。此等流無法足以將 ΒΒ圓的邊緣變形’且因此將具有減少的晶圓邊緣缺陷而 可透徹地清潔。 儘管評估來自上游處理的各種效應的影響係為困難 的彳疋彳之本發明的洗蘇處理衍生的缺陷的減少可被廣 泛地怦估。舉例而言，當晶圓的厚度為丨8〇^m時，已發 現以藍望及水平線清潔具有〇 8%的裂縫及破損的級別， 但以本發明清潔僅為〇. 2 %。 【圖式簡單說明】 10 201133594 說明本發明的一特 現將參考隨附圖式藉由範例的方式 定實施例，其中： 面 第1圖係為支持在―便各曰^ 匣a中的晶圓的—堆疊的一側 視圖； 第2圖係為該堆疊的一端視圖，顯示晶圓下面的喷嘴 腔室； 第3圖係為安排的_側面視圖，顯示喷嘴腔室的延伸； 第4圖係為-端視圖，顯示在開始喷麗之後的堆疊夹 持器及晶圓，使得晶圓已經被抬起離開^中的支架； 第5圖係—相對應的側面視圖，顯示晶圓向右分散開； 第6圖係一端視圖，顯示清潔液體在堆疊及喷嘴腔室 之間脫離；及 第7圖顯示晶圓沿著匣盒的整個長度均勻地散佈。 【主要元件符號說明】 10堆疊 u匣盒 12支架 14固定支架 15可移動支架 b供給 17溝槽 21灰色箭頭 22黑色箭頭 23A小的黑色箭頭 12B小的黑色箭頭 11