TW201126095A - Method for improving unifrom distribution of illuminant and its structure - Google Patents

Description

201126095 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關於-種改良光源均勻分佈的方法及其結構。 【先别技術】

由於居家保全或前需求’紅外線攝影監視魏或辨識 被廣泛的制，-般纽錄顆高裤發光二極體作為其照明㈣ 馨於環境紐與愛魏球賴氣盛行，節能減碳的技術不斷被研= 開發出更多替代的產品，雷射光源雜應驗紅外線監視系統供 -叙使用於紅外線攝影監視系赋_純照日⑽高 二極體的辨約需要3GG瓦，然而若選擇使用雷射光_ 嶋的晴，可她電續^ ,月，圖1A與圖1B，以往雷射光源的使用多將複數個雷射晶 片100設置於-平板110上。然而當使肖高功率面射型雷射晶片或邊 射型雷射晶片時’由於其輸出的光形關導致雷射輸出統呈現中央 ΐ暗的:圈型，如圖lc所示，由於光源明暗不均而造成影像會有 識人影或車職碼時，此詩辆恐會影響系統辨識 的精輕。心此辆獨勻的_可使_散贼其他光學轉 換來克2問題此方式需要額外的成本並且會降低光源的出光 效率° f此^何_兼顧成本與出光效率來改善統不均勾的現 象，貫為一重要的課題。 【發明内容】 [S1 3 201126095 為了解决上述問题，本發明目的之一係提供一種改良光源均勻 分佈的方法及其結構，藉_複數個光源；設置於至少—曲面上， 由光源晶片所射出的每一光束會部分重疊進而互相補償其光形獲得 一均勻明免的光源。 本毛明目的之一係提供一種改良光源均勻分佈的方法及其結 構’並不需要額外的光學構件，因此可有效控制成本並維持良好的出 光效率。 為了達到上述目的’本發明一實施例之一種改良光源均勻分佈的

方法，係包括τ列步驟：提供具有至少一曲面的一底座；以及設置 複數個光源晶片於曲面上。 …本發明另-實施例之-種改良光源均勻分佈的方法，係將複數個 光，晶片設置於-曲面上，其中曲面係由至少—凸曲面或至少一凹曲 面單獨或組合所構成且光源晶片所射出的光束可相互補償避免光暈 的產生而提供均勻絲，亦可_凸曲面細“㈣光源均勾分佈 的面積。 本發明又一實施例之—種改良光源均勻分佈的結構，係包括： 具有至少-曲面的一底座；以及複數個光源晶片設置於底座之曲面 上0 以下藉由具體實施例配合所附的圖式詳加說明，當更容 易瞭解本發明之目的、技術内容、特點及其所達成之^效。 【實施方式】 其詳細說明如下，所述較佳實施例僅做—說明非用以限 疋本發明。 圖2為本發明一實施例之一種改良光源均句分佈的方法之 /瓜王不意圖。如圖2所示，係包括下列步驟：提供具有至，卜一 201126095 曲面的一底座（步驟Sl〇n . 面二(步驟_。其中，光源晶:可選 ;雷射晶片，射晶片則可為一面射型細或；== 只々e例之一種改良光源均勻分佈的方半夕 流程示意圖，其步驟Si〇3仫收 的方法之 豆中㈣1 複數個光源晶片設置於—曲面上， =先源4所射出的光束可相互補償避免光暈的產生叫供均勾 於前·述兩貫施例中

田於光源晶片並非設置於—平扭裘 面而是「曲面上。於本發明中，曲面係由至少—凸曲面或至;一 凹曲面單獨雜合所構成，凸曲面或㈣面係分別具有―。且 曲率的曲面可使得其上絲W衫同位頭射出的光^且 有不同的射出角度與光形，可修補並相互補償光形 甜 甜圈的光形，進而得到一均勻光源。 。於-實施射’光《片可呈不規.設置或是錢則狀陣 設置。於一實施例中，光源晶片係呈多邊型陣列設置。 圖4A14B與圖4C4本發明一種改良光源均勾分 結構之不同實施例的示意圖。此結構包括具有至少—曲面的 底座=0，·以及複數個光源晶片1〇設置於底座2〇的曲面上: 於-實施例中，光源晶片10可選自一發光二極體晶片或—雷射晶 片，而雷射晶片可為-面射型雷射晶片或一邊射型雷射晶片。日曰 依據上述，如圖4A、圖4B與圖4C所示，於不同實施例 中，設置光源晶片10之曲面係由至少一凸曲面或至少一凹曲面單 獨或組合所構成，凸曲面或凹曲面係分別具有一曲率。 請參照圖5，於-實施例甲，光源晶片1〇係呈規則狀陣列設置。 於-實施例中，光源晶片10亦可呈多邊型陣列設置，如^ 邊形或其他。 / 201126095 根據上述，本發明的特徵在於利用一曲面改變光源晶片 的光束的射出角度，藉此讓光源晶片本身的光形缺陷，例如 甜甜圈光形，經由光束彼此間的部分疊置，修補其光形缺陷 並獲得均勻的光源。光源晶片分布與曲率大小及位置互相匹 配以得到所需最佳照明效果。提供曲面的底座可為板狀物或 是任意造型物。曲面的形成可為設置光源晶片之前、設置光 源晶片之後利用外力形成或是預先成型於底座。底座並不限 於使用金屬或其他材質，但金屬材質本身有助於散熱，因此 無須額外風扇或散熱設計。可了解的，本發明的設計可應用 於各式的照明器材中或是需要均勻光源的光學儀器或設備 零 中。 綜合上述，本發明藉由將複數個光源晶片設置於至少一 曲面上，由光源晶片所射出的每一光束會部分重疊進而互相 補償其光形獲得一均勻明亮的光源，亦可利用凸曲面或凹曲面控 制光源均勻分佈的面積，因此本發明並不需要額外的光學構件 即可獲得均勻光源，可有效控制成本並維持良好的出光效率。 以上所述之實施例僅係為說明本發明之技術思想及特 點，其目的在使熟習此項技藝之人士能夠瞭解本發明之内容 • 並據以實施，當不能以之限定本發明之專利範圍，即大凡依 本發明所揭示之精神所作之均等變化或修飾，仍應涵蓋在本 發明之專利範圍内。 201126095 【圖式簡單說明】 圖1A、圖1B與圖1C為習知應用雷射光源之示意圖。 圖2為本發明一實施例之流程示意圖。 圖3為本發明一實施例之流程示意圖。 圖4A、圖4B與圖4C為本發明不同實施例之示意圖。 【主要元件符號說明】 10 光源晶片 20 底座 100 雷射晶片 110 平板 5101 提供具有至少一曲面的一底座 5102 設置複數個光源晶片於曲面上 5103 將複數個光源晶片設置於一曲面上

Claims (1)

1. 201126095 七、申請專利範圍： 1， 一種改良光源均句分佈的方法，係包含下列步驟： 提供具有至少-曲面的—底座；以及 設置複數個光源晶片於該曲面上。 2.如請求項1所述之改良光源均勻分佈的方法，其中該曲面係由至少 一凸曲面或至少一凹曲面單獨或組合所構成。 3·如清求項2所述之改良光源均勻分佈的方法，其中該凸曲面或該凹 曲面係分別具有一曲率。

   4. 如请求項1所述之改良光源均勻分佈的方法，其中該些光源晶片係 選自發光一極體晶片或一雷射晶片。 5. 如晴求項4所述之改良光源均勻分佈的方法其巾該雷射晶片係為 一面射型雷射晶片或一邊射型雷射晶片。 6. 如睛求項1所述之改良光源均勻分佈的方法，其中該些光源晶片係 呈不規則設置或規則狀設置。 7. 如請求項1所述之改良光源均勻分佈的方法，其中該些光源晶片係 呈多邊型陣列設置。 8· 一種改良光源均勻分佈的方法，係將複數個光源晶片設置於一曲面 f’其中㈣面係由至少—凸曲面或至少—凹曲面單獨或組合所構 亥些光源晶片所射出的光束可相互補償避免光暈的產生以提供 均勻来.汲。 月长項8所述之改良光源均勻分佈的方法，其中該凸曲面或該扭 曲面係分別具有一曲率。 二求項8所叙改良辆均句分佈的方法，該些光源晶片係呈 規則設置或規則狀設置。 呈二1所述之改良光源均句分佈的方法，其巾該些光源晶片有 里多邊型陣列設置。 選！求=所述之改良光源均勻分佈的方法，其巾該些光源晶片仓 選自一發光二極體晶片或一雷射晶片。 口月求項I2所述之改良光源均勻分佈的方法，其中該雷射晶片係一 201126095 面射型雷射晶片或一邊射型雷射晶片。 14. 一種改良光源均勻分佈的結構，係包含： 具有至少一曲面的一底座；以及 複數個光源晶片設置於該底座之該曲面上。 15. 如請求項14所述之改良光源均勻分佈的結構，其中該曲面係由至少 一凸曲面或至少—凹曲面單獨或組合所構成。 16. :請求項15所述之改良光源均勻分佈的結構，其中該凸曲面或該凹 曲面係分別具有一曲率。 =求項14所述之改良光源均勻分佈的結構，其中該些光源晶片係 選自一發光二極體晶片或一雷射晶片。 18. 如請求項Π所述之改良光源均勻分佈的結構，其中該雷射晶片係為 一面射型雷射晶片或一邊射型雷射晶片。 19. 如請求項Η所述之改良光源均勻分佈的結構，其中該些光源晶片係 呈不規則設置或規則狀陣列設置。 20. 如請求項14所述之改良光源均勻分佈的結構，其中些光源晶片係呈 多邊型陣列設置。