TW201119361A - Imaging element and imaging apparatus using the same - Google Patents

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TW201119361A
TW201119361A TW099102143A TW99102143A TW201119361A TW 201119361 A TW201119361 A TW 201119361A TW 099102143 A TW099102143 A TW 099102143A TW 99102143 A TW99102143 A TW 99102143A TW 201119361 A TW201119361 A TW 201119361A
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TW
Taiwan
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image
light
pixels
imaging element
pixel
Prior art date
Application number
TW099102143A
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English (en)
Inventor
Ryosuke Kasahara
Hideaki Hirai
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Description

201119361 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明有關使用於諸如數位相機或其類似物之成像設 備中的成像元件,及具有該元件的成像設備。 【先前技術】 習知地,用於車後監測器,已知存在能獲得彩色影像 之高靈敏的成像設備。最近,正需要例如能高靈敏度地成 像偏極化影像以供偵測道路表面的潮濕狀態之用的多功能 成像設備。 在習知技術中,當獲得彩色影像或偏極化影像時,大 致地已使用藉由提供彩色濾光器於成像元件的各個像素之 上(例如,請參閱日本專利申請案公告第2 0 0 0 - 2 7 8 5 0 3號 ),或設置微偏光器(例如,請參閱日本專利申請案公告 第2007-86720號)以色彩插補所獲得之影像的方法。 然而,例如當使用RGB原色濾光器時,由各個像素 所接收之光量會單純地降低至其中未使用濾光器於該處的 情況中之光量的三分之一;再者,在其中使用偏光器於該 處的情況中,因爲僅P偏極化光或S偏極化光之光量,亦 即,二分之一的總光量係由各個像素所接收,所以由各個 像素所接收之光量會降低至其中未使用偏光器於該處的情 況中由各個像素所接收之光量的二分之一。因此,原則上 ,存在有其中使靈敏度劣化的問題;而且,相較於其中未 使用濾光器於該處的情況,亮度資訊的解析度會劣化,以 -5- 201119361 致使肉眼見到所獲得影像之低解析度影像。 爲了要解決上述問題,例如關於獲得彩色影像之濾光 器陣列,由於肉眼對亮度信號的靈敏度係比對彩色信號的 靈敏度更高之事實,所以已提出將不具有濾光器之像素添 加至彩色濾光器陣列以便獲得亮度資訊(請參閱日本專利 第 4144630 號)。 然而,在上述習知技術中,存在有問題,例如當結合 亮度資訊與彩色資訊時,若彩色資訊之取樣週期相對於亮 度資訊之取樣週期係小時,則產生於彩色資訊中之重疊雜 訊會使影像品質劣化,以致使不具有濾光器之像素的比例 無法增加。 再者,存在有其中由於具有濾光器之像素的接收光量 與不具有濾光器之像素的接收光量間之大的差異,所以僅 不具有濾光器之像素的光量會飽和,以致使正常的彩色再 生無法達成》 【發明內容】 本發明在於提供能達成正常的彩色再生以及可獲得高 解析度及靈敏度且可增加不具有濾光器之像素的比例之成 像元件,以及使用該成像元件的成像設備。 爲了要達成上述目的,依據本發明實施例之成像元件 包含具有像素之光接收表面以及低通濾光器裝置,該低通 濾光器裝置係組構以聚焦預定的光於光接收表面之像素的 預定像素之上》 -6- 201119361 【實施方式】 在下文中’將根據圖式來詳細敘述此發明之較佳實施 例。 如第1圖中所描繪地,依據本發明實施例之成像元件 包含具有像素之光接收表面15b,以及諸如低通濾光器、 具有低通濾光器(LPF )功能之濾光器陣列、或其類似物 之低通濾光器裝置1 4,低通濾光器裝置1 4係組構以聚焦 預定的光於光接收表面1 5 b之像素的預定像素或諸預定像 素之上。依據本發明實施例之成像元件可使用於成像設備 之中,成像設備可包含:透鏡系統1 3 ( 1 1 ):成像元件, 係組構以經由透鏡系統使標的成像,而形成標的影像;以 及控制裝置(未顯示),係組構以處理標的影像做爲影像 資料。 〔第一實施例〕 第1圖係組態圖,描繪依據本發明實施例之包含成像 元件的成像光學系統。第1圖之左側指示標的側以及第1 圖之右側指示成像面側,參考符號1 1指示由一或更多個 透鏡所形成的透鏡系統1 1,參考符號1 2指示孔徑闌而設 定光圈數於大約1至3之內,參考符號13指示由一或更 多個透鏡所形成的透鏡系統,及參考符號1 5指示成像元 件體。透鏡系統1 1係設置於孔徑闌1 2之標的側,以及透 鏡系統1 3係設置於孔徑闌1 2之成像面側。透鏡系統1 1, 201119361 孔徑闌1 2,及透鏡系統1 3係設置於光軸L ; 在光軸L之上,低通濾光器14及成像j 靠近透鏡系統1 3之側起依序地設置。在此 像元件體1 5可個別地設置,或與低通濾光§ 設置。 接著,將詳細地解說成像元件體1 5及' 的結構。 〔成像元件體1 5〕 做爲成像元件體1 5,可使用諸如CCD、 類似物之已知的單色感測器。成像元件體1 算的用途而由封裝15c所保護且封裝15c之 由覆蓋物玻璃1 5 a所密封,做爲光接收表面 1 5b係設置於由覆蓋物玻璃1 5 a所密封之封 部分處。光接收部件1 5 b可具有像素,各個 約1至9微米之預定微米的尺寸,且如最近 接收部件可具有百萬個像素或大約一千萬個 裝15c’可選擇高熱阻之封裝以供使用做爲 外監測相機之用,且可選擇小尺寸封裝以供 式裝置之用。 〔低通濾光器1 4〕 低通濾光器1 4可組構以當聚焦預定的 面15b之預定像素或諸預定像素之上時,提 匕上。 t件體1 5係自 實施例中,成 ί 1 4成一體地 S通濾光器1 4 CMOS、或其 5係根據所打 透鏡側表面係 之光接收部件 裝1 5 c的中心 像素具有例如 所使用地,光 像素。做爲封 車用相機或戶 使用做爲提攜 光於光接收表 取預定的光之 -8- 201119361 波長分量。 低通濾光器14係由具有彼此相對之表面而各個表面 係設置有繞射結構的扁平玻璃板或樹脂基板所形成。 第2 A圖係透視圖,描繪由透鏡系統側所觀視之低通 濾光器的端末部分。設置於靠近透鏡系統1 3之側的低通 濾光器14之一端末表面係畫分成爲複數個區域21a、21b 、…,各個區域2 1 a、2 1 b、…係組構以聚焦透射低通濾光 器1 4的光於成像元件體1 5的光接收部件1 5b之例如4像 素x4像素=16像素的複數個像素之上。 在各個區域2 1 a、2 1 b、…中,係形成同心圓之繞射區 22a、22b、…,繞射區22a係由圍繞著成爲中心之光軸 23a的複數個同心圓之帶所形成,以及繞射區22b係由圍 繞著成爲中心之光軸23b的複數個同心圓之帶所形成。中 心部分的圓形帶之間的節距(間距)係與週邊部分的圓形 帶之間的節距不同,而調變圓形帶之間的節距;依據此調 變,繞射區22a、22b可具有透鏡功能,光聚焦功能會隨 著圓形帶之間的節距或間距的減少而變得更高。 第2B圖係透視圖,描繪由成像元件體1 5之側所觀視 之低通濾光器1 4的端末部分。設置於靠近成像元件體1 5 之側的低通濾光器1 4之另一端末表面係畫分成爲複數個 區域24a、24b、…,各個區域24a、24b、…具有相同的 面積,且係組構以聚焦透射低通濾光器1 4的光於成像元 件體的光接收部件1 5b之例如4像素X4像素=1 6像素的複 數個像素之上。區域24a、24b、…係實質地分別設置於區 201119361 域2 1 a、2 1 b、…的相對位置處。 在各個區域24a、24b、…中’係形成同心圓之繞射區 25a、2 5b、…,繞射區25a係設置有圍繞著成爲中心之光 軸26a的複數個同心圓之帶,以及繞射區25b係設置有圍 繞著成爲中心之光軸26b的複數個同心圓之帶。 第2C圖係剖面視圖,描繪以第2A圖之箭頭A所示 之方向所觀視之低通濾光器1 4的剖面。繞射結構的剖面 形狀係矩形,且繞射區的光軸23a、26a係設置以便彼此 相互些微地向上或向下偏離。繞射區22a及25a的有效直 徑係相互不同,且繞射區22a及25a之節距及刻槽深度的 調變程度亦係相互不同。藉由使用彼此相互不同之低通濾 光器14的一端末表面及另一端末表面,透射該等區域21a 、2 lb '…及區域24a、24b、…的光束係根據光束的波長 而聚焦於成像元件體15的光接收表面15b上之不同的兩 點之上。 做爲低通濾光器的生產方法,可使用施加光微影術技 術的方法,或利用具有例如鑽石咬合之精確切割處理的方 法。低通濾光器可藉由形成圖案於具有形狀的晶粒中,且 以透明材料來執行射出成形技術或所謂2P法,以拷貝複 數個繞射光學元件而生產。 〔設置於靠近透鏡系統側之低通濾光器的一端末表面 設置於靠近透鏡系統1 3之側的低通濾光器1 4之相對 -10- 201119361 表面的一端末表面之繞射區22a、22b、…具有做爲用於具 有650奈米波長的光束之空間低通濾光器的功能。在此, 將解說區域2 1 a做爲代表性之實例。如第3 A圖中所示地 ,形成於區域21a中之繞射區22a係組構以當具有450奈 米或5 5 0奈米波長的光進入低通濾光器之繞射區22a時, 發射出〇階繞射光;亦即,繞射區22a係組構以如死帶透 射一樣地透射該光,且聚焦透射的光於成爲成像元件體1 5 的光接收部件1 5b之一部分的光接收區3 1 a之上,光接收 區3 1a對應於具有16像素之區域。另一方面,當具有650 奈米波長的光進入低通濾光器時,如第3B圖中所示地, 光係發射出以成爲第一繞射光,且聚焦於光接收部件1 5b 上的一像素32a之上。因而,低通濾光器14的一端末表 面係組構以作用成爲用於450奈米及5 50奈米波長的光之 僅透射元件,及作用成爲用於650奈米波長的光之繞射元 件。 〔繞射區22a的刻槽深度或其類似者〕 上述之波長選擇性可藉由選擇繞射結構的刻槽深度而 達成。藉由將繞射光柵的剖面中之凹凸形狀的週期性相差 設定成爲其中欲成爲由低通濾光器所選擇性透射之預定的 光之預定波長(例如,45 0奈米,5 5 0奈米)的2η倍(2 的倍數),則可獲得高的0階光之透射率用於具有45 0奈 米及5 5 0奈米波長的光。第4圖係描繪具有剖面凹凸形狀 之繞射光柵的〇階光之透射率或第一階光之繞射效率與用· -11 - 201119361 於450奈米,550奈米,及650奈米波長的 槽深度間的關係視圖,用於所使用之繞射光 有1.45之折射率的石英。 如第4圖中所示地,在大約5.88微米 於450奈米及550奈米波長的0階光之透射 大,且用於650奈米波長的第一階光之繞 6%。例如,藉由設定繞射區22a的刻槽深度 件之中,透射區域21a之具有650奈米波長 於1 6像素之每像素6%的光透射率,亦即, 率)之光係聚焦於3B圖中所示的像素32a 面,45 0奈米,55〇奈米,及6 5 0奈米之光 3 2 a外之光接收區3 1 a的像素所實質均勻地g 〔設置於靠近成像元件體側之低通濾光 表面〕 設置於靠近成像元件體之側的低通濾光 端末表面具有繞射區25a、25b、…,各個 2 5b、…主要作用成爲用於具有5.50奈米波 低通濾光器。在此,將解說區域24a做爲代 如第5 A圖中所示地,形成於區域2 4 a中之 組構以當具有450奈米及65 0奈米波長的 25a時,實質地發射出第〇階繞射光;亦即 如死帶透射一樣地透射具有450奈米及650 ,且聚焦透射的光於成像元件體1 5的光接i 凹凸形狀之刻 柵的材料係具 的深度時,用 率係90%或更 討效率係大約 成爲在上述條 的平均値(用 9 6 %的光透射 之上;另一方 係由除了像素 Μ夂。 器的另一端末 器14之另一 繞射區 2 5 a、 長的光之空間 表性之實例。 繞射區2 5 a係 光進入繞射區 ,繞射區25a 奈米波長的光 文部件1 5 b之 -12- 201119361 一部分的光接收區3 1 a之上,光接收區3 1 a對應於具有1 6 像素之區域。另一方面,當具有550奈米波長的光進入低 通濾光器1 4時,如第5B圖中所示地,第一階繞射光係聚 焦於成像元件體之光接收部件15b上的一像素32b之上。 因而,低通濾光器1 4的另一端末表面係組構以作用成爲 用於具有450奈米及650奈米波長的光之僅透射元件,及 作用成爲用於5 5 0奈米波長的光之繞射元件。在此實施例 中,繞射區2 5 a的光軸2 6 a係定位以便在聚焦位置中自繞 射區2 2 a的光軸2 3 a傾斜地偏離一像素。 〔繞射區25a的刻槽深度或其類似者〕 上述之波長選擇性可藉由選擇繞射結構的刻槽深度而 達成。藉由將繞射光柵的剖面中之凹凸形狀的週期性相差 設定成爲其中欲成爲由低通濾光器所選擇性透射之預定的 光之預定波長(例如,45〇奈米,65 0奈米)的2η倍(2 的倍數),則可獲得高的〇階光之透射率用於具有450奈 米及650奈米波長的光。第6圖係描繪具有剖面凹凸形狀 之繞射光柵的〇階光之透射率或第一階光之繞射效率與用 於450奈米,5 50奈米,及650奈米波長的凹凸形狀之刻 槽深度間的關係視圖,用於所使用之繞射光柵的材料係具 有1.45之折射率的石英。 如第6圖中所示地,在大約5.8 1微米的深度時,用 於450奈米及650奈米波長的0階光之透射率係90 %或更 大,且用於5 5 0奈米波長的第一階光之繞射效率係大約 -13- 201119361 7%。例如,藉由設定繞射區25a的刻槽深度成爲在上述條 件之中,透射區域24a之具有5 5 0奈米波長的平均値(用 於16像素之每像素7%的光透射率,亦即,100%的光透射 率)之光係聚焦於第5B圖中所示的像素32b之上;另一 方面,450奈米,550奈米,及650奈米之光係由除了像 素3 2 b外之光接收區3 1 a的像素所實質均勻地接收。 藉由使用具有例如透射低通濾光器的正面及背面表面 之區域21a及24a的光之波長選擇性的上述低通濾光器14 於光學系統內,具有650奈米波長的光係聚焦於成像元件 體15之光接收區31a上的像素32a之上,以及具有550 奈米波長的光係聚焦於像素32b之上;具有波長450奈米 ,550奈米,及650奈米的光束進入除了像素32a及32b 之外的像素之內。在此接收狀態之下,彩色影像可藉由例 如下文參照第8至1 1圖所述之再現處理而由單色影像所 形成。 在此實施例中,係使用45〇奈米’ 55〇奈米’及65〇 奈米之三個波長,但波長並未受限於此;例如’可使用 47〇奈米,520奈米,及600奈米之波長的組合。再者, 其中各個波長並非具有一値於該處的情況可具有例如約2〇 奈米的帶寬;波長的組合可進一步具有除了該三個波長外 之例如約8 5 0奈米的近紅外區波帶。 各個區域21a、21b、24a、24b以及各個繞射區22a、 22b、25a、25b可具有根據其位置之尺寸變化(對應於像 素的數目);亦即,區域21a、21b、24a、及24b的尺寸 -14- 201119361 可根據自成像透鏡或孔徑闌的光軸之中心至週邊區域(光 軸之外的區域)的位置而變化。 雖然在此實施例中係敘述矩形形狀於剖面中以做爲繞 射光柵的剖面形狀,但繞射光柵的剖面形狀可具有步階的 結構。再者,繞射階次並未受限於〇階光及第一繞射光, 且第二階光或更高階光可予以使用》此外,低通濾光器的 正面及背面側表面之繞射區的光軸23a、26a、23b、及 26b可係同軸的;在此情況中,繞射區22a、25a及繞射區 2 2b、2 5b的聚焦位置係設定成爲以相差函數而相互偏離。 再者,雖然在此實施例中係敘述其中低通濾光器1 4具有 各具備繞射結構之二端末表面於該處的情況,但可將繞射 結構形成於僅一端末表面之上;在此情況中,波長選擇性 可藉由使用繞射階中之差異而獲得,例如,其可獲得於當 具有65〇奈米之波長的光係聚焦於像素之上而成爲+第一 階光,以及具有550奈米之波長的光係聚焦於與其中聚焦 +第一階光於該處的像素不同的像素之上而成爲-第一階光 時。 繞射區的結構並未受限於同心圓圖案,且線性圖案可 予以使用;在此情況中,繞射光係成爲線而非成爲點地聚 焦於成像元件體之上,且因此’影像重現可依據線性圖案 而達成。 此外,雖然敘述其中低通濾光器1 4在該處係與成像 元件體1 5分離而設置,且設置在透鏡系統丨3與成像元件 體1 5之間的情況,但並未受限於此。例如,可將低通濾 -15- 201119361 光器使用做爲成像元件體15之覆蓋物玻璃15a的替代物 :藉此,可減少若干部件。選擇性地,可將低通濾光器形 成於透鏡系統1 3的透鏡表面之上。此外,低通濾光器可 與光接收部件1 5 b成一體地形成;在此情況中,可減少成 像元件體或其類似物之位置的失準直,而達成穩定的性質 〇 在下文中,將解說成像元件之濾光器陣列的結構。如 第7圖中所示地,6x6之每個陣列週期具有設置於陣列週 期的中心之具有提取紅色光的波長分量之功能的像素,及 具有提取藍色光的波長分量之功能的像素。在此,具有提 取紅色光的波長分量之功能的像素稱爲紅色濾光器,以及 具有提取藍色光的波長分量之功能的像素稱爲藍色濾光器 ;然而,此不僅受限於其中具有僅透射波長分量的實際濾 光器於該處的情況,而且受限於其中使用上述繞射元件於 該處以做爲濾光器的情況。在第7圖的濾光器陣列中,彩 色濾光器係以6x6像素週期而連續地設置。 成像兀件的像素可畫分成爲各具有反常像素之複數個 週期。濾光器陣列可具有LPF特徵,使得聚焦於組構以提 取預定波長分量的反常像素上之光束的光量係比聚焦於進 入成像元件之像素一週期內之鄰接該反常像素的像素上之 該預定波長分量的光束之平均光量更大。 除了紅色及藍色濾光器的像素之外的像素並不具有濾 光器功能,但係組構以獲得亮度資訊,且因此,在下文中 係稱爲Y像素。重點在於紅色濾光器的R (紅色)像素及 -16- 201119361 藍色濾光器的B (藍色)像素具有空間LPF功效;因此, 進入6x6陣列之紅色光之強度的平均値及進入6x6陣列之 藍色光之強度的平均値可分別由紅色像素及藍色像素所獲 得。在其中並不具有LPF (低通濾光器)功效於該處的情 況中,即使當執行以下之處理時,極大的重疊雜訊亦會產 生於彩色信號之中,且因此,影像品質會大大地劣化。 具有濾光器功能的像素係提供有空間LP F功效,且合 成處理係在空間LPF功效的考慮之下執行,以致可解決上 述問題。在此情況中之處理係顯示於第8圖之中。 上述控制裝置可組構以執行分離處理,而分離由成像 元件所形成之標的影像成爲由預定像素所形成的第一影像 以及由其他像素所形成的第二影像。第一影像可爲關於彩 色資訊的影像,以及第二影像可爲關於亮度資訊的影像。 除了分離處理之外,控制裝置可組構以執行:影像擴 展處理,而藉由擴展第一影像以產生第四影像;以及影像 合成處理,而合成第二及第四影像以形成第三影像。 除了影像擴展處理及影像合成處理之外,控制裝置可 組構以執行影像轉換處理,而轉換第二及第三影像的彩色 資訊成爲亮度資訊,且形成具有RGB之亮度値的第五影 像。 除了分離處理之外,控制裝置可組構以執行:影像擴 展處理’而擴展第一影像以形成第四影像;L P F處理,而 施加LPF處理至第一影像以藉由自第一影像去除高頻分量 來形成第六影像;以及影像合成處理,而合成第四及第六 -17- 201119361 影像以形成第三影像。 除了影像擴展處理、LPF處理、及影像合成處理之外 ’控制裝置可組構以執行影像轉換處理,而轉換第二及第 三影像的彩色資訊成爲亮度資訊,以形成具有RGB之亮 度値的第五影像。LPF處理可係使小範圍內之像素的亮度 値平均與其中配置預定像素的週期關連之處理。LPF處理 可包含影像減縮處理及影像擴展處理。第三影像可爲關於 彩色資訊之影像。 首先’執行分離處理。在分離處理中,來自成像元件 的信號係分離成爲由Y像素所形成的第二影像以及由R像 素及B像素所形成的第一影像。此時,在由γ像素所形成 的第二影像中之失效部件係在隨後的影像合成處理之前由 週邊的Y像素所插補,且第二影像具有與成像元件相同的 尺寸(像素數目):然後,執行影像擴展處理以擴展由 R 像素及B像素所形成之第一影像,使得第一影像具有與第 二影像相同的尺寸,且隨後,執行影像合成處理以產生 Cb、Cr (色差)信號,而形成第三影像。 其次,執行影像轉換處理以結合第二及第三影像,且 然後,產生第五影像。在影像轉換處理中,例如,係使用 以下的轉換方程式:
Cb 〇ut = 0.564x ( B i η- Y in)
Cr_out = 〇.71 3χ ( R_in-Y_in) 其中Y_in係第二影像的輸入資料,B_in及R_in係第 四影像之B像素及R像素的輸入信號,以及Cb_out及 -18- 201119361
Cr_out係第三影像之輸出的亮度信號及彩色信號。 在影像轉換處理中,結合第二影像的Y (亮度)信號 ,且藉由使用由上述彩色濾光器陣列所獲得之成像元件的 信號,可取得由第五影像之YCbCr信號所獲得的彩色影像 〇 在此,可執行第9圖中所示之處理,使得可獲得具有 降低之重疊雜訊的高品質影像。 也就是說,在第9圖之中,可增加施加LPF處理至第 二影像以獲得第六影像的LPF處理。因爲在此實施例中, 係使用6 X 6之濾光器陣列,所以較佳地使用使6 X 6像素平 滑化的濾光器於LPF處理。 做爲LP F處理,如第1 0圖中所示地,可使用影像擴 展處理及影像減縮處理,使得可獲得高品質的影像。在此 ,較佳的是,所縮減的影像之影像尺寸係與第一影像的尺 寸(亦即,成像元件之反常像素的像素數目)相同的尺寸 ,以及所擴展的影像之影像尺寸係第四影像的相同尺寸。 第U圖係顯示做爲第1 0圖中所示之處理的特定實例。 其次,將解說其中標的影像係藉由使用設置有具備空 間LP F功能之彩色濾光器的成像元件以成像於該處的情況 ,與其中標的影像係藉由使用設置有不具備空間LP F功能 之彩色濾光器的成像元件以成像於該處的情況之間所成像 的影像品質中之不同點。 第1表(在下文中稱爲“相片1”)顯示在其中彩色濾 光器具有空間LPF功能於該處的情況中所成像之影像’以 -19- 201119361 及第2表(在下文屮稱爲、‘相片厂’)顯示在其中彩色濾光 器不具存空間L P F功能於該處的情況屮所成像之影像。 第1表
01234rj67890ABC:DEFGHI JKLMN -20 - 201119361 第2表
01234567890ABCDEFGH]JKLI#I 。收《 娜 在相片1的情況中,俺U灯小的滲色’闪爲大部分的 像素不爲有彩色濾光器,所以π丨達成高的靈敏度’以及4 獲得高解析的影像。相反地’在相丨V 2的情況屮’具有火 的滲色,fi影像的解析度低- 用於比較,在其中使用B苻η知所使用的Bayer配置 彩色濾光器之成像元件於該處的情況中之所成像的影像係 顯示於第3表(在下文中稱爲“扪片3”)之屮。在相片3 之中,特別地,例如可從字符的部分看到的适’相片3的 解析度係小於祀片1的解析度。 -21 - 201119361 第3表
〇]234^ό?09ϋΑ6〇!)ΕΡύΗΐ JKLHH unui'iwxwwi 例如可山與相片2與3之比較卷到的诘,相片1具冇 更高的铖敏度以及較丨ί丨的解析度。 在上述實例中,係使m R及Β的彩色濾光器;惟,亦 可使用例如G及B,R,G ’及B ’ IR (紅外光)及B ’以 及其類似者之彩濾光器的K他組合。 在此,將藉山使川第4表(在下文中稱爲“相片4”) ,第5表(在下文屮稱爲“丨丨丨斤V ),及第6衷(在下文 中稱爲“相片-6”)以解說與Κ中使丨I] _形區板(CZP )於 該處之情況的比較,以供參&之「Π。 -22 - 201119361 第4表
-23- 201119361 第6表
相片4係輸入的CZP影像;相片5係藉由使用依據此 茛施例之成像儿件,亦即,ft有具備空間L P F功能的彩色 濾光器之成像兀件所成像的影像;以及相片6係藉由使用 具有B ayer配置彩色濾光之成像元件所成像的影像。與相 片6相較地,在相片5之屮,可抑制假色的產生,且可獲 得高的解析度。 在此實施例中,雖然使川6 X 6之濾光器陣列的週期以 聚焦像素之1 / 3 6的R分至光學L P F中的R像素之內, 但白色光單純地兑冇1 /3總光筑的R分Μ ;也就是說,R 像尜的亮度係Ι_Ί色標的之Υ像素亮度的1 / 3,W而’存在 有其中R像素的S / Ν #劣化的問題。爲了要解決此問題’ 在光學L P F中,濾光器陣列係較作地組構使彳!} R分Μ係設 -24- 201119361 定爲具有3/36,亦即,1/12,而聚焦芊R像素之内。較佳 地,用於B像素的組態亦係相同。 可使用大於6 X 6之濾光器陣列的週期於其中需要更大 靈敏度於該處的情況中。例如,/1:其屮使用具存1 6 X 1 6之 週期的濾光器陣列於該處的情況屮,闪爲彩色资訊的解析 度會劣化,所以在輸出影像屮容易產屯滲色。 在此情況中,Yli L P F處理中,可較佳地執行1 / 8的減 縮處理及8倍的擴Μ處理之小於濾光器陣列的週期之因π ,而非1 / 1 6的減縮處理及丨6倍的擴展處理。 其中執行1 /1 6的減縮處埋及1 6倍的擴展處理於該處 之LP F處理的結果係顯不於第7表(作下义屮稱爲“相片 7 ”)之中。 第7表
01234567890ABCDEFGH i JKLIvIN -25 - 201119361 其中執行1 /8的減縮處埋及8倍的擴展處理於該處之 LPF處理的結果係顯不於第8表(在下文中稱爲“相片8” )之屮。 第8表
01234;567890ABCDEFGHI JKLMN 與相片7的情況相較地,在相片8的情況中,可達成 縮減之滲色且可獲得高品質的影像;也就是說,藉由使/Π 小於濾光器陣列之W子以執行LP F處理’"丨獲得高品質的 影像。
[第二贳施例J 低通瀘光器"ί A冇根據ffi定的光之偏極化方向而改變 -26 - 201119361 的偏極化相依之特徵。 低通濾光器的偏極化相依之特徵係僅透射預定偏極化 之光分量的特徵。 接著,將解說本發明之第二實施例,雖然在第一實施 例中係使用波長選擇性低通濾光器,但在此實施例中係使 用偏極化選擇性低通濾光器。 在此實施例中’係形成具有光偏極化選擇性的繞射光 柵做爲低通濾光器14。首先,請參閱第13圖,將敘述與 雙折射媒體關連所偏極化之光束的透射特徵。第1 3圖係 描繪在其中光束進入及透射一般雙折射媒體的情況中之光 束路徑的視圖’當光束進入雙折射媒體時,光束的方向係 根據光束的偏極化而改變;亦即,如第1 3圖中所示地, 以與雙折射媒體關連之第1 3圖的平面平行之方向所偏極 化的光束可無需改變方向地通過雙折射媒體,此光束係稱 爲尋常光束或正常光束。另一方面,以與雙折射媒體關連 之第13圖的平面垂直之方向所偏極化的光束會改變方向 地通過雙折射媒體’此光束係稱爲非尋常光束或反常光。 〔偏極化選擇性繞射光柵〕 將解說使用雙折射媒體之此偏極化選擇性繞射光柵。 第1 4 A圖係描繪其中光束進入之側的繞射光栅表面之視圖 ’以及第1 4 B圖係沿著第1 4 A圖之B - B線的剖面視圖。 第14B圖中所示之繞射光栅包含各向同性媒體81, 雙折射媒體82’及玻璃83;該等玻璃83係設置以便使各 -27- 201119361 向同性媒體8 1及雙折射媒體8 2插入其間。雙折射媒體8 2 具有複數個同心圓之帶(請參閱第14A圖),且各個同心 圓之帶具有矩形形狀於剖面中;在沿著第1 4A圖之B-B線 的剖面視圖之中,雙折射媒體具有凹凸的形狀。各向同性 媒體8 1具有與雙折射媒體82之形狀的互補形狀,且係在 與雙折射媒體8 2之凹凸形狀表面接觸的狀態中。 將參照第14A及14B圖來解說藉由使用偏極化選擇性 繞射光柵之光聚焦功能。第14C及14D圖係各描繪依據偏 極化光束的偏極化方向之光束的透射狀態。如第14B圖中 所示地,雙折射媒體8 2具有根據進入雙折射媒體之光束 的偏極化方向之“no”及“ne”的折射率。在此,no係用於尋 常光束的折射率(尋常折射率),以及ne係用於非尋常 光束的折射率(非尋常折射率)。 將解說其中偏極化選擇性繞射光柵係藉由選擇各向同 性媒體8 1及雙折射媒體8 2而生產,以便將各向同性媒體 之折射率η 1設定成爲等於ne的情況。當光束進入繞射光 柵使得光束的偏極化方向等於非尋常光束的偏極化方向時 ,各向同性媒體8 1的折射率係與雙折射媒體的折射率相 同,以至光束可無任何影響地透射;相反地,當光束進入 繞射光柵使得光束的偏極化方向垂直於非尋常光束的偏極 化方向,亦即,光束的偏極化方向係等於尋常光束的偏極 化方向時,則各向同性媒體81與雙折射媒體的折射率彼 此相互不同。因而,繞射會由於繞射光柵之各向同性媒體 及雙折射媒體82之邊界表面的形狀而發生,且光束的方 -28- 201119361 向會改變。如第14C及14D圖中所示地,死區透射或光聚 焦係根據進入光束的偏極化而選擇。 〔低通濾光器1 4〕 依據此實施例之低通濾光器14具有偏極化選擇性繞 射光柵之上述組態及功能;也就是說,低通濾光器1 4具 有第1 5圖中所示之剖面結構,其中繞射結構92係藉由使 用雙折射媒體而形成於玻璃板或樹脂基板9 1之上,各向 同性媒體93係互補地添加,以及繞射光柵係以玻璃板或 樹脂基板94來密封,而光束進入該密封玻璃板94。 第1 6圖係透視圖,描繪由透鏡系統側所觀視之低通 濾光器14的端末部分。在此圖式中,爲簡明之緣故,係 省略玻璃板94及各向同性媒體93。低通濾光器14係畫分 成爲各具有相同面積之複數個區域l〇la、l〇lb、…,各個 區域1 0 1 a、1 0 1 b、…係組構以聚焦透射低通濾光器1 4的 光於光接收部件之例如4像素X4像素=1 6像素的複數個像 素之上。 在各個區域l〇la、101b、…中,係形成同心圓之繞射 區102a、102b、…,繞射區102a係由圍繞著成爲中心之 光軸103a的複數個同心圓之帶所形成,以及繞射區102b 係由圍繞著成爲中心之光軸1 〇3b的複數個同心圓之帶所 形成。圓形帶之間的節距(間距)係自中心部分變化至週 邊部分,而調變圓形帶之間的節距;依據此調變,該等繞 射區可具有透鏡功能,光聚焦功能會隨著圓形帶之間的節 -29- 201119361 距或間距的減少而變得更高。 做爲低通濾光器14的生產方法,可使用施加光微影 術技術的方法’或利用具有例如鑽石咬合之精確切割處理 的方法。低通濾、光器可藉由形成圖案於晶粒中,且以透明 材料來執行射出成形技術或所謂2P法,以拷貝複數個繞 射光學元件而生產。 〔低通濾光器的繞射區〕 低通濾光器14的繞射區102a、102b、…主要具有做 爲用於具有尋常光之偏極化方向的光束之空間低通濾光器 的功能。在此,將解說區域1 〇 1 a做爲代表性之實例。如 第17A圖中所示地,形成於區域101a中之繞射區l〇2a係 組構以當具有非尋常光束之偏極化方向的光進入低通濾光 器之繞射區1 02 a時,實質地發射出0階繞射區;亦即, 繞射區1 02a係組構以如死帶透射一樣地透射該光,且聚 焦透射的光於成爲成像元件體15的光接收部件15b之一 部分(請參閱第1圖)的光接收區1 1 1 a之上,光接收區 Ilia對應於具有16像素之區域。另一方面,當尋常光束 進入低通濾光器時,如第1 7B圖中所示地,光係發射出以 成爲第一繞射光,且聚焦於光接收部件1 5b上的一像素 1 1 2a之上。因而,低通濾光器1 4係組構以作用成爲用於 非尋常光束之僅透射元件,及作用成爲用於尋常光束之繞 射元件。 -30- 201119361 〔繞射區2 5 a的刻槽深度〕 上述之偏極化選擇性可藉由選擇繞射結構的刻槽深度 ,尋常光束的折射率no,非尋常光束的折射率ne,及各 向同性媒體的折射率η 1而達成。藉由選擇折射率ne及n 1 以便成爲ne = nl,則可達成用於非尋常光束的死帶透射。 第1 8圖係描繪用於具有剖面凹凸形狀之繞射光柵的 光束之〇階光透射率或第一階光繞射效率與凹凸形狀之刻 槽深度間的關係視圖,折射率係η 〇 = 1 . 7 5及n e = 1.4 5。 在大約1.86微米的深度時,〇階光透射率係90%或更 大,且第一階光繞射效率係大約7 %。例如,藉由設定繞 射區的刻槽深度成爲在上述條件之中,尋常光束係僅聚焦 於第17B圖的像素112a之上,且具有尋常光之平均値的 光通過區域111a;另一方面,尋常光束及非尋常光束係由 除了像素112a外之光接收部件121a的像素所實質均勻地 接收。 藉由使用具有偏極化選擇性之上述低通濾光器1 4 ,通 過低通濾光器1 4之區域1 〇 I a的光聚焦於成像元件體j 5 的光接收區1 1 1 a的像素1 1 2a之上作爲一般光束。非尋常 光束的光則均勻地聚焦於其他像素之上。藉由此一光接收 或聚焦狀態’偏極化影像可藉由使用在參照第8至1 1圖 之上述重建處理的單色成像而形成。 在此實施例中’雖然係敘述其中繞射結構係形成於一 側的結構’但可將繞射結構形成於兩側;亦即,如第19 圖中所示地,除了其中在該處形成雙折射媒體之繞射結構 -31 - 201119361 92的板91之外,低通濾光器可具有一板91’,其中繞射 結構9 2 ’形成於板9 1的相對側’及各向同性媒體9 3係添 加於其間。再者,如第一實施例中所述地,可將各個繞射 表面設定使得各個繞射表面的聚焦位置彼此相互偏離,且 尋常光束和非尋常光束係分別地聚焦。 各個區域可具有根據其位置之尺寸變化(對應於像素 的數目):亦即,區域l〇la的尺寸可根據自成像透鏡或 孔徑闌的光軸之中心至週邊區域(光軸之外的區域)的位 置而變化。 雖然在此實施例中係敘述矩形形狀於剖面中以做爲繞 射光柵的剖面形狀,但繞射光柵的剖面形狀可具有步階的 結構。再者,繞射階次並未受限於0階光及第一繞射光, 且第二階光或更高階光可予以使用。 繞射區的結構並未受限於同心圓圖案,且線性圖案可 予以使用;在此情況中,繞射光係成爲線而非成爲點地聚 焦於成像元件體之上,且因此,影像重現可依據線性圖案 而達成。 雖然在此實施例中,低通濾光器1 4係與成像元件體 1 5分離地設置於透鏡系統丨3與成像元件體1 5之間,但並 未受限於此;例如,可將低通濾光器使用做爲成像元件體 15之覆蓋物玻璃15a的替代物。 再者’偏極化選擇性繞射光柵並未受限於上述各向同 性材料及雙折射材料的結合,且利用子波長結構的材料可 予以使用;亦即,如第2 0圖中所示地,偏極化選擇性可 -32- 201119361 藉由重疊具有大於形成在板91上之結構的波長之節 繞射結構92與具有短於該波長之週期(λ )的週期 構而達成。藉由此方法,可獲得偏極化選擇性繞射光 簡單結構,以致可達成低成本及薄的低通濾光器。 第一影像可係關於偏極化資訊的影像,以及第二 可係關於亮度資訊的影像。 在下文中,將解說成像元件之濾光器陣列的結構 第2 1圖中所示地,6x6之每個陣列週期具有具備組構 射Ρ偏極化光之濾光器的像素及具備組構以透射S偏 光之濾光器的像素於陣列週期的中心;其他的像素( Υ像素)並不具有濾光器功能。重要的是,s偏極化 器及Ρ偏極化濾光器亦具有空間LP F功效,且因此, 得進入6x6陣列之S偏極化光之強度的平均値以及進 X 6陣列之ρ偏極化光之強度的平均値。在其中並不 LPF功效於該處的情況中,即使當執行以下之處理時 大的重疊雜訊亦會產生於偏極化資訊之中,且因此, 數量會大大地減少。此並不受限於其中具有組構以透 極光之實際濾光器於該處的情況,且上述繞射元件、 、或其類似物亦可具有濾光器功能。 做爲此實施例中之處理,如第2 2圖中所示地, 行反常像素的分離處理。在分離處理中,來自成像元 信號係分離成爲由Υ像素所形成的第二影像,以及由 極化像素及Ρ偏極化像素所形成的第一影像。此時, γ像素所形成的第二影像中之失效部件係在隨後的影 距的 性結 柵的 影像 。如 以透 極化 稱爲 濾光 可獲 入6 具有 ,極 資訊 射偏 S WS 係執 件的 S偏 在由 像合 -33- 201119361 成處理之前由週邊的Y像素所插補,且第二影像具有與成 像元件的尺寸(例如,6 4 0 X 4 8 0,如上述實例中所示)相 同的尺寸(像素的數目)。 然後’執行影像擴展處理以擴展由S偏極化像素及Ρ 偏極化像素所形成之第一影像,使得第一影像具有與第二 影像相同的尺寸;及隨後,執行影像合成處理以形成第三 影像’且因此,可獲得建構第三影像之亮度資訊和對應的 偏極化資訊。 一般而言,在其中使用偏極化資訊來偵測潮濕路面以 防止車輛打滑的情況中,偏極化資訊無需具有與亮度資訊 相同的解析度,但亮度資訊需具有高的解析度,因爲亮度 資訊係使用以顯示影像或執行路面偵測處理之用。在此情 況中,以實施例中的方法係較佳的,因爲可藉由一成像設 備以獲得高解析度的亮度資訊和具有低解析度的偏極化資 訊,但無重疊雜訊的產生。 影像合成處理可包含簡單地封包彼此具有相同像素數 目的亮度資訊和偏極化資訊,且然後,傳遞該資訊至隨後 的裝置。影像合成處理亦可包含指定或提供偏極化資訊爲 色差資訊,以顯示彩色偏極化資訊。 第23圖顯示其中將第一至第三影像指定或提供爲實 際資料的實例;其中使用上述濾光器陣列之情況係更特定 地顯示於第24圖的處理流程之中。 除了分離處理之外,控制裝置可組構以執行:影像減 縮處理而縮減第二影像以形成第四影像;及影像合成處理 -34- 201119361 而合成第一及第四影像以形成第三影像。 在其中亮度資訊無需具有高解析度的情況中,第2 5 圖中所示的方法亦係較佳的;也就是說,首先,執行反常 像素的分離處理。在分離處理中,來自成像元件的信號係 分離成爲由S偏極化像素所形成的第二影像及由p像素所 形成的第一影像;此時,在由γ像素所形成的第二影像中 之失效部件係在隨後的影像合成處理之前由週邊的γ像素 所插補’且第二影像具有與成像元件相同的尺寸(像素數 目)’例如640x480像素。然後,執行影像減縮處理以縮 減亮度資訊之第二影像,使得第二影像具有與由S像素及 P像素所形成之第一影像相同的尺寸,以形成第四影像; 隨後’執行影像合成處理以產生由來自第四影像及第一影 像之亮度資訊和對應的偏極化資訊所建構之第三影像。 其次,例如針對車用相機或其類似物。如第26A圖中 所示地’偵測交通號誌燈之顏色的彩色偵測功能需在螢幕 的上方側,以及藉由使用偏極化資訊之潮濕路面的偵測功 能需在螢幕的下方側。 在此情況中,如第2 6 B圖中所示地,較佳的是,例如 ’成像元件的上方側係設置有第一實施例的濾光器陣列以 獲得彩色影像,以及成像元件的下方側係由其中低通濾光 器係組構以當聚焦預定光時提取該預定光的波長分量之組 態,或將被使用於各個區域中之不同的濾光器陣列之其他 組合所形成。 依據本發明之實施例,因爲係設置組構以聚焦預定的 -35- 201119361 光於成像元件之光接收部件上的預定像素之上,所以可達 成成像元件之高的解析度和靈敏度。此外,可增加無需濾 光器之像素的比例,以及可提供能達成正常彩色重現的成 像元件。 【圖式簡單說明】 第1圖係依據本發明實施例之具有成像元件的成像光 學系統之示意組態圖; 第2A圖係描繪由透鏡側所觀視之低通濾光器的透視 圖; 第2B圖係描繪由成像元件體之側所觀視之低通濾光 器的透視圖; 第2 C圖係描繪低通濾光器之剖面視圖; 第3A圖係解說視圖,描繪其中具有450奈米及550 奈米之波長的光在該處進入透鏡側之低通濾光器的繞射表 面上之低通濾光器的情況; 第3B圖係解說視圖,描繪其中具有65 0奈米之波長 的光在該處進入透鏡側之低通濾光器的繞射表面上之低通 濾光器的情況; 第4圖係描繪0階光之透射率或第一階光之繞射效率 與透鏡側的低通濾光器之繞射表面上的凹凸形狀之刻槽深 度間的關係視圖: 第5A圖係解說視圖,描繪其中具有450奈米及550 奈米之波長的光在該處進入成像元件體側之低通濾光器的 -36- 201119361 繞射表面上之低通濾光器的情況; 第5B圖係解說視圖,描繪其中具有650奈米之波長 的光在該處進入成像元件體側之低通濾光器的繞射表面上 之低通濾光器的情況; 第6圖係描繪0階光之透射率或第一階光之繞射效率 與成像元件體側的低通濾光器之繞射表面上的凹凸形狀之 刻槽ί朵度間的關係視圖; 第7圖係解說具有6x6之週期的濾光器陣列之結構的 解說視圖; 第8圖係描繪由成像元件所成像之影像的處理流程之 視圖; 第9圖係描繪由成像元件所成像之影像的處理流程之 視圖; 第1 〇圖係描繪由成像元件所成像之影像的處理流程 之視圖, 第1 1圖係描繪由成像元件所成像之影像的處理流程 之視圖: 第12圖係解說第二實施例中之具有16x16之週期的 濾光器陣列之結構的解說視圖; 第1 3圖係描繪當透視雙折射媒體時之光束路徑的視 圖; 第1 4 Α圖係描繪光束進入之繞射光柵的視圖; 第1 4B圖係沿著第1 4A圖之B-B線的剖面視圖; 第1 4C圖係描繪依據光束之偏極化方向的透射狀態之 -37- 201119361 視圖; 第1 圖係描繪依據光束之偏極化方向的透射狀態之 視圖, 第1 5圖係描繪第二實施例之低通濾光器的剖面視圖 > 第1 6圖係低通濾光器的透視圖; 第17A圖係解說其中非尋常光束在該處進入低通濾光 器之狀態的解說視圖; 第17B圖係解說其中尋常光束在該處進入低通瀘光器 之狀態的解說視圖; 第1 8圖係描繪尋常光束的〇階光之透視率或第一階 光之繞射效率與成像元件體側之低通濾光器的繞射表面上 之凹凸形狀的刻槽深度間之關係視圖; 第1 9圖係描繪其中繞射結構相對地設置於該處之低 通濾光器的剖面視圖; 第20圖係描繪具有具備小於波長之週期的週期性結 構之低通濾光器的透視圖; 第21圖係解說第二實施例中之具有6x6之週期的濾 光器陣列之結構的解說視圖; 第22圖係描繪由成像元件所成像之影像的處理流程 之視圖; 第2 3圖係描繪由成像元件所成像之影像的處理流程 之視圖: 第24圖係描繪由成像元件所成像之影像的處理流程 -38- 201119361 之視圖; 第2 5圖係描繪由成像元件所成像之影像的處理流程 之視圖; 第26A圖係描繪由車用相機所成像之影像的實例之視 圖;以及 第2 6B圖係解說用以處理成像結果之方法的解說視圖 【主要元件符號說明】 1 1 ' 1 3 :透鏡系統 1 2 :孔徑闌 1 4 :低通濾光器 1 5 :成像元件體 1 5 a :覆蓋物玻璃 15b、121a :光接收部件 1 5c :封裝 21a、 21b、 24a、 24b、 101a、 101b :區域 22a ' 22b、 25a、 25b、 102a、 102b :繞射區 23a、 23b、 26a、 26b、 103a、 103b :光軸 31a、111a:光接收區 32a、 32b、 112a:像素 81、9 3 :各向同性媒體 82 :雙折射媒體 8 3 :玻璃 -39- 201119361 9 1、9 1 ’ :玻璃板或樹脂基板 9 2、9 2 ’ :繞射結構 94 :密封玻璃板 -40-

Claims (1)

  1. 201119361 七、申請專利範圍: 1. 一種成像元件,包含: 光接收表面,其具有像素;以及 低通濾光器裝置’係組構以聚焦預定的光於該光接收 表面之該等像素的預定像素之上。 2. 如申請專利範圍第1項之成像元件,其中該低通 濾光器裝置係組構以當聚焦該預定的光時,提取該預定的 光之波長分量。 3. 如申請專利範圍第1項之成像元件,其中該低通 濾光器裝置具有根據該預定的光之偏極化方向而改變的偏 極化相依之特徵。 4. 如申請專利範圍第3項之成像元件,其中該低通 濾光器裝置的該偏極化相依之特徵係僅透射預定偏極化之 光分量的特徵。 5. 如申請專利範圍第1項之成像元件, 其中該成像元件之該等像素係畫分成爲各具有反常像 素之複數個週期;以及 其中光選擇性濾光器具有低通濾光器(LPF )特徵, 使得聚焦在組構以提取預定的波長分量之該反常像素上的 光束之光量係比聚焦在進入該成像元件的該等像素的一週 期內之鄰接該反常像素的像素上之該預定的波長分量之光 束的平均光量更大。 6. —種成像設備,包含: 透鏡系統; -41 - 201119361 成像元件,係組構以經由該透鏡系統使標的成像,而 形成標的影像:以及 控制裝置,係組構以處理該標的影像做爲影像資料, 其中該成像元件包含具有像素之光接收表面及低通濾 光器裝置,該低通濾光器裝置係組構以聚焦預定的光於該 光接收表面之該等像素的預定像素之上;以及 其中該控制裝置係組構以執行分離處理,而分離由該 成像元件所形成之該標的影像成爲第一影像及第二影像, 該第一影像係由該等預定像素所形成,以及該第二影像係 由除了該等預定像素之外的像素所形成。 7. 如申請專利範圍第6項之成像設備,其中該第一 影像係關於彩色資訊的影像,以及該第二影像係關於亮度 資訊的影像。 8. 如申請專利範圍第6項之成像設備,其中該第一 影像係關於偏極化資訊的影像,以及該第二影像係關於亮 度資訊的影像。 9. 如申請專利範圍第6項之成像設備,其中除了該 分離處理之外,該控制裝置係組構以執行:影像擴展處理 ,而藉由擴展該第一影像以產生第四影像;以及影像合成 處理,而合成該第二及第四影像以形成第三影像。 10. 如申請專利範圍第9項之成像設備,其中除了該 影像擴展處理及該影像合成處理之外,該控制裝置係組構 以執行影像轉換處理,而轉換該第二及第三影像的彩色資 訊成爲亮度資訊且形成具有RGB之亮度値的第五影像。 •42 - 201119361 1 1 .如申請專利範圍第6項之成像設備,其中 分離處理之外,該控制裝置係組構以執行:影像減 ,而縮減該第二影像以形成第四影像;以及影像合 ,而合成該第一及第四影像以形成第三影像。 12. —種成像設備,包含: 透鏡系統; 成像元件,係組構以經由該透鏡系統使標的成 形成標的影像;以及 控制裝置,係組構以處理該標的影像做爲影像i 其中該成像元件包含具有像素之光接收表面及 光器裝置,該低通濾光器裝置係組構以聚焦預定的 光接收表面之該等像素的預定像素之上; 其中該控制裝置係組構以執行分離處理,而分 成像元件所形成之該標的影像成爲第一影像及第二 該第一影像係由該等預定像素所形成,以及該第二 由除了該等預定像素之外的像素所形成;以及 其中該控制裝置係組構以執行:影像擴展處理 展該第一影像以形成第四影像;LP F處理,而施加 理至該第一影像以藉由自該第一影像去除高頻分量 第六影像;及影像合成處理,而合成該第四及第六 形成第三影像。 13. 如申請專利範圍第1 2項之成像設備,其 該影像擴展處理、該LPF處理、及該影像合成處理 該控制裝置係組構以執行影像轉換處理,而轉換該 除了該 縮處理 成處理 像,而 蒙料, 低通濾 光於該 離由該 影像, 影像係 ,而擴 LPF處 來形成 影像以 中除了 之外, 第二及 -43- 201119361 第三影像的彩色資訊成爲亮度資訊,以形成具有RGB之 亮度値的第五影像。 14. 如申請專利範圍第12項之成像設備,其中該 LPF處理係使小範圍內之像素的亮度値平均與配置該等預 定像素的週期關連之處理。 15. 如申請專利範圍第1 2項之成像設備,其中該 LPF處理包含影像減縮處理及影像擴展處理。 -44-
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