TW201009123A - Method for blocking micro-holes of micro-arc oxidation film - Google Patents
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201009123 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種對微弧氧化膜進行封孔之方法。 【先前技術】 微弧氧化技術(又稱等離子體氧化、陽極火花沉積、火 花放電陽極沉積和表面陶瓷化等)係一種可直接在金屬表面 原,生長具陶竟質感之氧化膜之技術。採用該技術生成之陶 籲竟氧化膜具有良好之外觀及較高之硬度,因而在產品表面裝 御領域應斜分廣泛。採用該技術在金屬卫件表面生成陶究 氧化膜過財,由於高溫燒結仙使得讀排$大量氣體, 該氣體在排出時穿過工件表面形成之氧化膜,從而使該氧化 膜形成諸多微孔。該諸多微孔之存在致使髒物非常容易滲入 到氧化膜中且不容易擦拭乾淨,因此,需對該氧化膜進行封 孔處理。 習知對微弧氧化臈之封孔方法多仿效於陽極氧化膜之 ❶封孔方法,如採用陽極氧化膜之封孔劑、封孔方式等。然而 由於陽極氧化膜與微弧氧化膜性質之不同,孔徑不一(陽極 氧化膜孔徑為納米級,微弧氧化膜之孔徑為微米級),仿效 於陽極氧化膜之封孔方法難以達到對微弧氧化膜良好之封 孔效果,甚至還會破壞微弧氧化膜特有之陶瓷質感。 【發明内容】 鑒於此,有必要提供一種效果好之對微弧氧化膜進行封 孔之方法。 種對微弧氧化膜進行封孔之方法,採用含有機矽樹脂 201009123 與稀釋劑之混合物作為封孔劑,對所述微弧氧化膜進行封 t 孔。 < 本發明採用含有機矽樹脂與稀釋劑之混合物作為封孔 劑對微弧氧化膜進行封孔,封孔過程中封孔劑滲透吸附到微 弧氧化膜之微孔中,封孔後並可在所述氧化膜上形成一封孔 劑膜層,其封孔效果好,且不會影響微弧氧化膜之硬度及其 特有之陶瓷質感。 【實施方式】 画 本發明較佳實施方式對微弧氧化膜進行封孔之方法採 用含有機矽樹脂與稀釋劑之混合物作為封孔劑,採用塗抹之 方式對所述氧化膜進行封孔,封孔過程中封孔劑滲透吸附到 氧化膜之微孔中,封孔後封孔劑在氧化膜表面形成一薄膜 層。所述有機矽樹脂優選為高含氫矽油,所述稀釋劑可為有 機溶劑,如異丙醇、曱苯、二曱苯和丙酮中之一種或多種之 混合物。所述有機矽樹脂與稀釋劑之質量比可為1〜2 : 0.5 鲁〜1.5。所述封孔劑在氧化膜表面形成之膜層厚度在1〜2μιη 之間。 具體實施方式如下: 實施例1 :選取一鋁合金工件,該工件表面形成有微弧 氧化膜,該氧化膜之表面粗糙度為1.35μπι。將高含氫矽油、 二甲苯以1 : 1之質量比混合均勻後作為封孔劑。採用該封 孔劑對所述氧化膜進行均勻塗抹,塗抹後將該工件在室溫 (約20°C )下靜置5〜10分鐘,待封孔劑滲透吸附到氧化膜 之微孔中飽和後,用幹無塵布將氧化膜表面上多餘之封孔劑
I 201009123 除去,再將所述氧化膜於l〇〇°C下烘烤60分鐘即可。封孔後 所述封孔劑在氧化膜上形成之膜層厚度約為1.2μιη,封孔後 氧化膜之表面粗糙度為1.35μιη,硬度為1100HV。封孔後之 氧化膜可達到耐髒污測試標準。 實施例2 :選取一鋁合金工件,該工件表面形成有微弧 氧化膜,該氧化膜之表面粗縫度為1.3 5 μιη。將高含氫石夕油、 二曱苯以2 : 1之質量比混合均勻後作為封孔劑。採用該封 孔劑對所述氧化膜進行均勻塗抹,塗抹後將該工件在室溫 翁 胃(約20°C )下靜置5〜10分鐘,待封孔劑滲透吸附到氧化膜 之微孔中飽和後,用幹無塵布將工件表面之氧化膜上多餘之 封孔劑除去,再將所述氧化膜於100°C下烘烤60分鐘即可。 封孔後所述封孔劑在氧化膜上形成之膜層厚度約為1.5μιη, 封孔後氧化膜之表面粗糙度為1.35μιη,硬度為1050HV。封 孔後之氧化膜可達到耐髒污測試標準。 本發明對微弧氧化膜進行封孔之方法適用於鋁合金、鎂 鲁合金或鈦合金等輕金屬表面形成之微弧氧化膜。 本發明採用含有機矽樹脂與稀釋劑之混合物作為封孔 劑對微弧氧化膜進行塗抹吸附封孔,封孔過程中封孔劑滲透 吸附到氧化膜之微孔中,封孔後在所述氧化膜上形成封孔劑 膜層,其封孔效果好,且不會影響微弧氧化膜之硬度及其特 有之陶瓷質感。 【圖式簡單說明】 無 9 钃 201009123 【主要元件符號說明】 無
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Claims (1)
- 201009123 十、申請專利範圍 1. 一種對微弧氧化膜進行封孔之方法,採用含有機矽樹脂 r 與稀釋劑之混合物作為封孔劑,對所述微弧氧化膜進行 封孔。 2. 如申請專利範圍第1項所述之對微弧氧化膜進行封孔 之方法,其中所述有機矽樹脂為高含氫矽油。 3. 如申請專利範圍第2項所述之對微弧氧化膜進行封孔 之方法,其中所述稀釋劑為異丙醇、曱苯、二甲苯、丙 酮中之一種或多種之混合物。 4. 如申請專利範圍第3項所述之對微弧氧化膜進行封孔 之方法,其中所述高含氫矽油、稀釋劑之質量比為1〜 2 : 0.5〜1.5。 5. 如申請專利範圍第1項所述之對微弧氧化膜進行封孔 之方法,其中所述對微弧氧化膜進行封孔採用塗抹吸附 之方式。 φ 6. 如申請專利範圍第1項所述之對微弧氧化膜進行封孔 之方法,其中封孔後所述封孔劑在微弧氧化膜表面形成 一膜層,該膜層之厚度為1〜2μιη。 11
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TW97132111A TW201009123A (en) | 2008-08-22 | 2008-08-22 | Method for blocking micro-holes of micro-arc oxidation film |
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