TW200950914A - Air-floating-type laser repairing device - Google Patents

Description

200950914 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係與雷射修補機有關，特別是有關於一種氣浮 式雷射修補裝置。 5【先前技術】 習知雷射修補機主要包含有二長形之氣浮承台、二夾 ❹ 爪、一檢測裝置以及一雷射裝置；該二氣浮承台用以承載 一基板，該二夾爪夾持該基板兩側且沿一 χ轴方向同步位 移， 10 移， 該檢測裝置位於該二氣浮承台之間且沿一 γ軸方向位 移，該雷射裝置與該檢測裝置同步位移；當該基板通過該 雷射裝置時’該雷射裝置會往餘移並發㈣射以消除該 基板表面的贼點：藉以達聰補該基板之目的。

種基板尺寸而需要準備多 加基板在製造過財的成本。 進而增 進而衍生不同尺寸的基板需 ，·如此一來，廒商為因應各 同尺寸之氣浮承台，進而揀 综上所陳，習知雷 具有上述之缺 失而有待改進。 習知雷射修補機在檢測作業 4 200950914 【發明内容】 5

15 置，目的在於提供-種氣浮式雷射修補裝 置其月，夠在乳洋式雷射修補裝置及基板之間利用環 流形成洋力’以使檢測裝置相對基板持續保持適當之隹 距，具有縮短對焦時間之特色。 … 署，if:之ΐ一目的在於提供一種氣浮式雷射修補裝 ’其相較於習用承載基板—側整體表面者，本發明能夠 藉由承載基板局部面積即達到承載基板之目的，進 適用於不同尺寸的基板。 為達成上述目的，本發明所提供一種氣浮式雷射修補 裝置’包含有··-位移裝置係可沿—χ軸以及—γ轴所定 義之-作業面位移；該位移裝置具有—氣浮板，該氣浮板 具有一鏤空區以及多數佈設該氣浮板頂部之出氣口；一檢 測裝置係設於該位移裝置且位於該位移裝置之鏤空區；一 氣壓源(airs。麗)係連通該氣浮板之出氣口，使氣=由該 等出氣口輸出而形成一環狀氣流。 藉此，本發明所提供氣浮式雷射修補裝置透過上述結 構，其能夠在該氣浮式雷射修補裝置之氣浮板以及一基板 20之間利用該環狀氣流形成浮力，使該位移裝置相對該基板 保持固定間距而持續保持適當之焦距，具有縮短對焦時間 之特色。再者，習用者係為承载基板之一側整體表面，本 發明能夠藉由承載該基板局部面積即達到承載該基板之目 的，進而能夠適用於不同尺寸的基板。 5 200950914 【實施方式】 、為了詳細說明本發明之結構、特徵及功效所在，茲舉 以下較佳實施例並配合圖式說明如後，其中： 5 第一圖為本發明一較佳實施例之立體圖。 第二圖為本發明一較佳實施例之頂侧視圖。 〇 _第二圖為本發明一較佳實施例之結構示意圖，主要揭 不氣浮板、檢測裝置及基板之間的結構。 第四圖為本發明一較佳實施例之結構示意圖，主要以 10另一角度揭示氣浮板、檢測裝置及基板之間的結構。 請參閱第一圖至第四圖，本發明一較佳實施例所提供 氣浮式雷射修補裝置10,其係可對一基板丨進行檢測作 業；其中，一框架2係承載該基板1外緣部份，該基板1 中央部份係直接暴露於外界；該修補裝置1〇包含有一位移 ❹I5裝置30、一檢測裝置40以及一氣壓源（圖中未示）。 該位移裝置30係位於該基板丨底侧，該位移裝置3〇 可沿一 X軸32以及一 γ軸34所定義之一作業面36往復 位移，該作業面36平行該基板1該位移裝置30具有一氣 浮板38以及一微調裝置39;該氣浮板38具有一鏤空區381 20以及多數佈設該氣浮板38頂部之出氣口 382，該等出氣口 382係環繞該鏤空區；該氣浮板38分別於各該出氣口 382 周圍形成一缓衝槽383 ’各該緩衝槽383係概呈長形。該微 調裝置39係選自以帶狀齒條以及導螺桿其中一種方式達成 位移功能者；本實施例中，該微調裝置39係以帶狀齒條方 6 200950914 式達成位移功能者為例，在此僅為舉例說明，並非作為限 制要件。 該檢測裝置40係設於該位移裝置30之微調裝置39 ; 當該位移裝置30沿該作業面36位移，該檢測裝置40可隨 該位移裝置30同步位移，用以掃瞄偵測該基板1上之瑕疵 點（圖中未示）；當該微調裝置39沿垂直方向位移，該檢測 裝置40受該微調裝置39帶動而調節相對於該基板1之距 離。其中，該檢測裝置4〇係選自雷射發射器、CCD攝影機 10 15 (charged coupled device camera)以及 CMOS 攝影機 (complementary metal oxide silicon camera)其中-種；本實 施例中，該檢測裝置4〇係、以CCD攝影機為例，在此僅為 舉例說明，並非作為限制要件。 =軋壓源係竟由一氣體連結管路50連通該氣浮板38 之出氣口 382’使氣體經由該等出氣口如輸出而形成一往 該基板20方向喷出之環狀氣流(圖中未示）；該環狀氣流圍 α環繞該檢測I置4G頂部且形成介於該氣壓源與該基板i 之間的浮力；該環狀氣流之目的在於承托該基板20，使該 Z裝置30不會相對該基板丨過度靠近，進—步確保該檢 須1置40與該基板！之間形成足夠間隙而不相互接觸。 經由上述結構’當該位移裝置3〇帶動該檢測裝置4〇 =步=移’·此時，該㈣源會持續往該基板喷出該環狀氣 =其主要目的在於經由使該檢測裝置4G與該基板i之間 間距，進而使該檢測裝置40相對該基板1持績保 、“之焦距，換言之，即使該檢測裝置4()處於正在位移 7 20 200950914 的狀態下，其仍然能夠連續擷取清晰的影像而不需要持續 性調整焦距，具有減少對焦時間而縮短檢測作業時間之特 色。同時，該環狀氣流圍合環繞該檢測裝置4〇能夠確保該 位移裝置30在位移時，該環狀氣流所提供的相對浮力是呈 5平均分布的，藉以形成近似氣體靜壓軸承(aer〇staticbearing) 的效果，用以防止該檢測裝置4〇因偏移該作業面36而損 ❹ 壞該基板1。再者，習用者係為承載基板之一側整體表面， 本發明能夠藉由承載該基板丨局部面積即達到承載該基板 1之目的，進而能夠適用於不同尺寸的基板，具有較佳之適 1〇用性。 _本發明於前揭實施例中所揭露的構成元件，僅為舉例 說明，並非用來限制本案之範圍，其他等效元件的替代或 變化，亦應為本案之申請專利範圍所涵蓋。 8 200950914 【圖式簡單說明】 第一圖為本發明一較佳實施例之立體圖。 第二圖為本發明一較佳實施例之頂侧視圖。 第三圖為本發明一較佳實施例之結構示意圖，主要揭 5 示氣浮板、檢測裝置及基板之間的結構。 第四圖為本發明一較佳實施例之結構示意圖，主要以 另一角度揭示氣浮板、檢測裝置及基板之間的結構。 2 框架 30位移裝置 34 Y軸 38氣浮板 382出氣口 39微調裝置 50 氣體連結管路 【主要元件符號說明】 ίο 1 基板 10修補裝置 32 X軸 36作業面 381 鏤空區 15 383 緩衝槽 40檢測裝置 9

Claims (1)

1. 200950914 十、申請專利範圍： L 一種氣浮式雷射修補裝置，包含有； 一位移裝置，係可沿一 X軸以及一 Y軸所定義之一作 業面位移；該位移裝置具有—氣浮板’該氣浮板具有一鏤 空區以及多數佈設該氣浮板頂部之出氣口； 5 一檢測裝置，係設於該位移裝置且位於該位移裝置之 鏤空區；以及 ❹ 一氣壓源(airS〇UrCe)，係連通該氣浮板之出氣口，使氣 體經由該等出氣口輸出而形成一環狀氣流。 2. 依據申請專利範圍第丨項所述之氣浮式雷射修補裝 ίο置，其中該等出氣口係環繞該鏤空區。 3. 依據申請專利範圍第i項所述之氣浮式雷射修補裝 置，其中該氣浮板分別於各該出氣口周圍形成一緩衝槽。 4. 依據申請專利範圍第3項所述之氣浮式雷射修補裝 置’其中各該緩衝槽係概呈長形。 15 5.依據申請專利範圍第1項所述之氣浮式雷射修補裝 © 置，其中該位移裝置更包含有一微調裝置，該檢測裝置設 於該微調裝置而可沿垂直方向位移，以調節該檢測裝置之 位置。 6·依據申請專利範圍第5項所述之氣浮式雷射修補裝 20置，其中該Z軸微調裝置係選自以帶狀齒條以及導螺桿其 中一種方式達成位移功能者。 7.依據申請專利範圍第1項所述之氣浮式雷射修補裝 置，其中該檢測裝置係選自雷射發射器、CCD攝影機 (charged coupled device camera)以及 CMOS 攝影機 200950914 (complementary metal oxide silicon camera)其中一種。

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