TW200834653A - Proximity head with configurable delivery - Google Patents

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TW200834653A
TW200834653A TW096149353A TW96149353A TW200834653A TW 200834653 A TW200834653 A TW 200834653A TW 096149353 A TW096149353 A TW 096149353A TW 96149353 A TW96149353 A TW 96149353A TW 200834653 A TW200834653 A TW 200834653A
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TW
Taiwan
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substrate
channel
head
processing
mixture
Prior art date
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TW096149353A
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English (en)
Inventor
Mark H Wilcoxson
Christopher J Radin
Original Assignee
Lam Res Corp
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Description

200834653 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 概括而言本發明係關於基板的處理以及設備，尤其係關於可 進行彈性配置⑽纽越輸送及施加至基絲面的系統。 【優先權】 y ί申清案主張基於美國臨時申請案第60/871753號之優先 柘’申請於2006年12月22日，其藉由參考文獻方式合併於此。 【先前技術】 在半導體晶片的製造過程中，吾人熟知在製造操作後於晶圓 ，面上㈤下不必要的殘留物時有清潔及乾燥晶圓的需要。此種製 1作的範例包含電漿侧以及化學機械研磨（GMp，冰⑽― me=anical pohshing)。在進行CMp時，晶圓被放置在載台上， ，載口將晶圓表面推㈣磨面。由化學品與研磨材料所組成的漿 tTUi研ϊ。不幸地，此種處理會在晶圓表面留下襞液顆粒以 及殘雜的累積物。若殘留在晶圓上時，除了別的缺陷以外，不 =的殘留物質與馳會導致例如以下的缺陷··在晶圓表面上的 ^痕以及在金屬化特徵部之間的不適當交互作用。在某些情況 中，此種缺陷會導致晶圓上的裝置無法運作。為了 有無法運作裝置之晶圓所產生的不當成本，因此必須在會留ϋ ^要，留物的製造操作之後，充分而有效地清潔晶圓。除了殘留 物之外，可能亦需移除存在於晶圓上之不必要的薄膜。 在晶圓經過澄式清潔之後，此晶®必财效地進行乾燥以防 ΐίίίίΐϊΐ餘物留在晶圓上。若位於晶圓表面上的清潔液 …^守（此生在微滴形式），先前溶在清潔液中的殘留物 科物將在蒸發之後留在晶圓表面上（例如以及;^ 5 200834653 在試圖達成上述乾燥過程中，利用數種不同的 二枯乾燥、ίΡΑ、或Marang〇ni乾燥法等等:所:焱此 在晶圓表面上利用某種移動液體/氣體介面的形式，若ϊ 有形成微滴的情況下乾燥晶圓^ ，動介面崩潰時（此通f伴隨上述所 雜胸⑴$可對特定應用或設備構造進行流 =方法可在基板表面上方以控制方式處理流體的設 【發明内容】 實施辦’滅—種肋處理基板的設備。 一近接頭，此近接頭具有一表面，此表面可作 = =及^^頭具有複數分配通道，這些通道可將第二處^混合 ==二處理混合物分配至基㈣表面。此近接稱具有複數 Ϊ除2ίί ’③些通道可從基板的表面移除第—以及第二處理混合 人物亦ΐ有分佈歧管，此分佈歧管與用以分配第—處理混 理混合物的複數分配通道連接。此分佈歧管與複 、、曰連接，亚且被建構以定義為了輸送以及移除第—處理 此δ物與弟二處理混合物所選擇之近接頭的區域。 ，另一實施例中’揭露一觀以處理基板的近接系統。此近 具有一頭，此頭具有一頭表面，此頭表面被設置在位於接 的表面。此頭具錢度及長度，並且具有沿著此頭之長度 酉〃己置成列的複數通道。複數列在此頭之寬度上擴展，並且每一個 ，數^道用以將流體輸送至基板的表面或從基板的表面移除流 肢。^流體被輸送以及移除時，彎液面被限制在基板表面與頭表 =之間。此近接系統亦具有與設施連接的可程式分佈歧管。這些 :靶提供以及接受來自可程式分佈歧管的流體。此可程式分佈歧 官與此頭連接，俾能使通道導管作為可程式分佈歧管與複數通道 200834653 之間的界面。此近接系統亦具有控制 斗、八说」、丹有控制器，此控制哭用共播叮加 此方法起始於設置一具有位於 我 頭具有寬度與長度，並且此頭$面之-頭表面的頭。此 數通道。複數列在此頭之寬声^^者4頭之長度設置成列的複 將流體輸送至麻二J展’以及每—個複數通道用 之核建域彎液面 數道谨Hi .if且!"頭具有沿著此頭之長度設. 以 以使彎液 此 此 送至基板的表面，或從其如沾主^ 可形ί‘表= 明，而使本發明圖式的詳細說 【實施方式】 本鲞明之貫施例揭露一種使用蠻 Β 面的設備。於此所使用之「f液自輸送流體至基板表 力所束缚以及控制的液體體積。此i液;:=_體表面張 在特定實施：的此= 液面維持可控·;輪;;：彎===流體，俾能使此彎· 移除系統加《控制，這麵流體輪送與 被限制输面與基板表面此'彎液面因此 及不觀的近接距離可以係介於㈣.25mm 可=二 200834653 -貫施例中此距離係介於約〇· 5mm與約L 5腿之間。在 中，近接頭可容納多重流體的輸人，並且又設置有真空通道，此 真空通道用以移除所提供的流體。 、 且徒^液面的輸送與移除，吾人可控·液面並 且使其在基板表面上方進行義。在—些實關巾，基板 係?及在其他實施例中，於處理_的期間此 ，處理可I生在任何方向，因此f液面可被施加至並非水平的 表面（例如垂直的基板或以一角度所支撐的基板）。 在一實施例中，對近接頭的流體輪送為動態 ==㈤的分配與移除可根據期望的應=預= 構了私式刀佈歧官可部份地輔助近接頭的建構。此可 至位於近麵上物處。其絲域體 :二並且以期望的順序進行。例如，不同的 處i皁能使不同類型的流體能夠在頭或基板移動 ϋ 範财，域由可程式分佈歧管峨構，可產生多重不 =尺寸及配置㈣液面。近接頭亦設置有複數通道，俾能使流㉒ 分:歧管ί向近接頭時，可促進控制的輸送以及ΐ 出^下^明中’為了提供本發明的整體瞭解而提 =忿在此技術領域中具有通常知識者可瞭 外，有24些特定細節的情況下可實現本發明。此 加說^使杨贿生不必要的混淆，熟知的處理步驟已不詳 動能ίΐι在將處理混合物之曝糾間的變化降至最低的同時， 接頭可允許調整基板速度。同樣地，在改變處理混合 的同時，可將基板速度的變化降至最低。可程式分 布支吕的使用能夠使近接頭進行動態建構。可程式分佈歧管可接 8 200834653 文多重處理混合物的輸入，並且將個別處理混合物導引 分配通道以施加至基板。可程式分佈歧管亦可將真空吸力^= 可用以從基板表面移除處理混合物的移除通道。位於可程 歧管内的通_練置可對分輯如及移除通道二者進行ς 與關閉γ通_動裝置亦可被使用絲源輪人與可程式分佈歧管 之間，以促進處理混合物分配至適當的分配通道。 1圖照ί發明之—實施例之基板處理組件的高階示 思圖。無塵至1G8可容納單-或多重處理站搬。在處理站ι〇2 ^内可存在多重處理模組·這些處理模組雨 基J運运衣置亦可建立在處理站搬與處理模組⑽之内，此運 运衣置可絲板在處理模組與處㈣之間進行軸 控制處理，組1GG以及處理站逝。電職4可與網路⑽麵人， 亚且1 對處理模組⑽與處理站1Q2進行遠端及近端控制。口 接站们了ίΐί理操作，近接站可建立在處理模組1⑽之内。近 合物。近接頭可透過無塵室⑽的設 === 至處理模組ίο。或處理站魔内。盖塵室f 供應 ^空可被近接頭所使用以從基板移除處L i。 定範例，但這些範例並非係限制性，並 範圍的限制。 …被項解為申❺專利 & 19m示如參考圖1a所述之近接站120的示範構造。近接 具124的表面）之間可形成彎液面126。^、^(以及載 :祕彎液面，此流體弯液面係 接 的形狀。齡流體的㈣輸駐適當且受控制 制，如流體所限制，此可使彎液12 液面⑽受到控 弓履面126叉到控制限定。彎液面126 9 200834653 可用以清潔、處理、飪抑 ,. 真“除此心====而同時以 126在基板208 ^面^3=的氣體張力降低劑可使彎液面 率）。$雕復士 H夂γ 方以牦加的速度進行移動（因此增加生產 氣體^力t 的㈣可㈣與氮混合的^ _ ( IPA/N2)。 低劑的另一範例可以係二氧化 。i他) =:被使用，只要這些氣體不干擾期望用於基板2Q8 五人ΐΓ:::圖斤iB所示之實施例顯示與單-流體供錢連接。 頭的其他實施例可包含多重流體供應源以及 移除多種所使 ^對於彎液面之形成以及施加至基板表面的更多資訊，吾人可 參考下列文獻：（1)美國專利第6616772號，公告於2003年9月9
日，以及其標題為「METHODS FOR WAFER PROXIMITY CLEANING AND DRYING」；（2)美國專利申請案第i〇/33〇843號，申請於2〇〇2年12 月 24 日，以及其標題為「腿NISCUS，VACUUM，IPA VAPOR，DRYING MANIFOLD」；（3)美國專利第6998327號，公告於2005年1月24 日，以及其標題為「METHODS AND SYSTEMS FOR PROCESSING A SUBSTRATE USING A DYNAMIC LIQUID」；（4)美國專利第 6998326
號，公告於2005年1月24日，以及其標題為「PHOBIC BARRIER
MENISCUS SEPARATION AND CONTAINMENT」；（5)美國專利第 6488040 號，公告於2002年12月3日，以及其標題為「CAPILLARY PROXIMITY
HEADS FOR SINGLE WAFER CLEANING AND DRYING」；（6)美國專利 申請案第10/261839號，申請於2002年9月30日，以及其標題 為「METHOD AND APPARATUS FOR DRYING SEMICONDUCTOR WAFER SURFACES USING A PLURALITY OF INLETS AND OUTLETS HELD IN 200834653
CLOSE PROXIMITY TO THE WAFER」；以及（7)美國專利申請案第 10/957092號，申請於2004年9月30日，以及其標題為「SYSTEM AND METHOD FOR MODULATING FLOW THROUGH MULTIPLE PORTS IN A PROXIMITY HEAD」；上述每一專利讓渡予Lam Research
Corporation(本申請案之受讓人），並且上述每一專利藉由參考文 獻合併於此。 圖2係顯示依照本發明之一實施例之用以對基板2〇8之表面 施加與移除流體之近接頭206的高階示意圖。近接頭206可包含 多重通道210，這些通道能夠與可程式分佈歧管2〇〇連接。可程式 分佈歧管200可耦合至多重來源（顯示如來源i至來源3)，並且亦 可包含真空。可程式分佈歧管2〇〇亦可與控制器204連接。 。所示之三，來源供應可程式分佈歧管2〇〇，然而，並非意指 可程式分佈歧官只限制於三個來源。能供應可程式分佈歧 Ϊ並，ί最，h或最A的數量。可程式料歧管㈣聽呈現各種 =的;;處理=例如，可程式分佈歧管能夠輸入流 接頭體或其混合物，並且將處理混合物輸出至近 ^他離子水、異丙醇、以及例如二氧化碳 =體。真工亦月匕夠用於可程式分佈歧管2〇〇以從基板2 ;:斗。吾人可注意到軸已列自特定範例 | 可程式分佈歧管連接之可能細㈣非限制與 可程式分佈歧管可接受來源處理混合 物分佈至近接頭2G6。在-實施例巾，體^處理^合 道210，其係以實質上垂直具有多列互連通 程式分佈歧管與_㈣連“，在f 。當可 接頭206的每-個別通道能夠直 施例中，近 在另-實施射，可程式分佈歧管2时2GQ連接。 雖然已詳祕定實_，但雜實射限接制 11 200834653 2申。?iS 的 ί;卜。 透過近接;二通二=::=3代i二 中，可透過其他通道或相同iS、蓄^f相同或替代貝_ 除液體、^ . ^ 引入真工。真空可從基板208移 =古乳體或其組合。在-實施例中，如圖2所示，基 Ϊ 通道210之列的方向進行移動。如上所述，在 ^08之表面輯道可互連而使通道列可分配相同流體遍佈於基 M ί^ΐ^Λ，控制器2Q4能夠對位在可程式分佈歧管内的 ΪίίΪ 制。控㈣仰合至電腦網路以進行遠 二至二面^控監視。在另—實施例中’此控制器可輕 八放fi f 近接頭206以及可程式 米Λ二二的概略橫剖面圖° ®3所示的視圖係當基板208通 =郴k之通道列時俯視此互連通道列的視圖。為簡化之便， =306將處理混合物供應至可程式分佈歧管綱，然而吾人應瞭 解:種類型的處理混合物可被分佈至可程式分佈歧管200。吾又可 注意到·連接至真空3〇4的通道驅動裝置3〇〇係與連 的通道驅動裝置交錯排列。此種構造係為了示範目^原不 被視為限制。替代實_包含連接至來源的連貫通 = 真空的連貫通道列。 、此外，圖3至圖7所示之實施例顯示來自供應源的通道導管 直接連接至位於可程式分佈歧管2〇〇内的通道驅動裝置3〇〇。本實 施例為一種將處理混合物導引至通道驅動裝置300的方法，並】 不應被視為限制。其他實施例包含位於不同供應源及真空内的通 道驅動裝置，這些通道驅動裝置可將處理混合物或真空吸力導引 12 200834653 至位於可程式分佈歧管内的對應通道驅動裝置。此外，控制器2〇4 可對位於供應源、真空、以及可程式分佈歧管内的通道驅動裝置 進行控制。此種構造可允許控制器將任何種類的處理混合物以及 真空吸力導向位於近接頭2〇6内的任何通道。 ， 在貝細例中，來源306與真空304係連接至可程式分佈歧 •管200。可程式分佈歧管200可包含用以調節處理混合物之流率或 • 對基板208之真空施加的通道驅動裝置300。在圖3中，通道驅動 裝置300顯示為關閉，所以既無來源材料或處理混合物，亦無真 空被施加於基板208。控制器204可根據回饋而用以對通道驅動裝 ζχ 置進行動悲控制，以增加或減少處理混合物的流量或真空吸力。 在另一實施例中，控制器204可根據特定基板20δ的處理需求而 用以動態改變處理混合物的分配。 ^圖4係顯示依照本發明之一實施例，使用具有可程式分佈歧 管之近接頭而使基板具有長化學品曝露時間的圖。當基板2〇8通 過近接頭206的下方時，基板208會最先通過移除通道4〇〇。如圖 4所示，移除通道400連接至與真空連接的通道驅動裝置4〇〇a。 透過通道400所引入的真空可用以從基板2〇8的表面移除微粒物 質，並且用以容納從位於近接頭206内之分配通道402所分配的 流體。 當基板208通過分配通道402的下方時，吾人將處理混合物 施加於基板208。此處理混合物係上述可從來源供應並且透過可程 式分佈歧管200所導引的許多處理混合物其中之一。在一實施例 中，為了降低處理混合物的消耗量，控制器2〇4不開啟^ : 裝置4〇2a，直到基板208接近分配通道402為止。在另一實施例 : 中，控制器204將通道驅動裝置402a開啟以使處理混合物的連續 流可流過分配通道402。透過分配通道402所分配的處^混合物會 留在基板208上，直到基板208遭遇移除通道404為止。在一實 施例中，分配通道402與移除通道404之間的距離可用以限制】 理混合物的彎液面寬度。在其他實施例中，用以施加第二處理混 13 200834653 ° 404 紅9⑽/Λ * ”運接的通迢驅動I置4〇4a。移除通道4〇4可從基 ΐ、^，面移除處理混合物。與通道驅動裝置術連接的分配 m可供應的祕子水加以分配以沖洗。 • n可吸衫料水並域進縣料水控制在 •杯？^ ^主/、通道驅動裝置40如連接的栘除通道408亦可從基 之内。^除去離子水並且可協助將去離子水容納在近接頭 八 貝施例中，與通道驅動裝置410a連接的分配通道41〇 混合物，以進行乾燥並且從基板208移 Γ 貫施例中，吾人可藉由從分配通道410將 H t乳化碳氣體分配至基板肅的表面上，而實施污毕物的 移除與基板208的乾燥。 、 物的 “ ϋ㈣1照本剌之—實關之使料有可財分佈歧 ί之^處理曝露時間的圖。由於處理混合物的曝露時間 50(Γ以及:ίί，被曝露於分配通道502，此通道被移除通道 =物，亚且防止處理混合物散佈遍及紐施絲面 ^ 504可措由從基板208移除處理混合物，而中止處理混人物與 =208之間的反應。移除通道5G4亦可移除去離子水，此=離 f水係經由分配通道506利進而肋沖洗基板 去 ^移，亦可用以從基板2〇8的表面抽離沖洗=去: 子水。s讀異丙醇之混合物的域氣雜幕可從分配通⑺ 基板208 ’，基板2〇8進行乾燥。在替 通道510可分配加壓的二氧化碳氣體流。 〗Y刀配 吾人應注意到：與可程式分佈歧管2〇〇連接的單 到圖5所示之短化學品曝露時間以及圖4所示之長化學、口曝 路時間。用以啟動與停止通道驅動裝置並且透 二二 咖導引處理混合物與真空的能力，可提供使用 之曝露時間的彈性。用以調整處理混合物之曝露時間ς能二$ 14 200834653 調整基板通過近接頭的速度。舉例而言，此可程式分佈歧管能夠 ，由從早先的分配通道分配處理混合物而補償基板速度的， 藉以提供基板等量的處理混合物曝露時間。同樣地，由於^夠經 由可程式分佈歧管而使用不同的分配以及移除通道，所以吾人| 在沒有改變基板速度的情況下修改處理混合物的曝露時間。σ 一 圖6人係顯示依照本發明之一實施例，使用具有可程式分佈歧 官200之近接頭206施加具有不同處理混合物曝露時間的多重處 理混合物。基板208進入近接頭206並且曝露於移除通道6⑽。分 配通道602係位於移除通道600之後，此分配通道用以將第一處 理混合物分配至基板208的表面。移除通道6〇〇可防止第一處理 混合物離開近接頭206而遍佈基板208的表面。在基板 於第-處理混合物經過由基板2Q8之速度所決定的 後’移除通道604將第一處理混合物從基板2〇8抽離。基板2〇8 可被來自分配通道606的去離子水加以沖洗。移除通道6〇4與6〇8 可用以容納去離子水通道606的輸出。 _ ^過移除通道608之後，基板208可曝露於來自分配通道 弟一處理合物。此第二處理混合物可同時被移除通道608 /、612從基板208加以抽離。在通過移除通道612之後，基板2〇8 =以來自分配通道614的去離子水加財洗。移除通道612鱼 可用以容納分配通道614的去離子水。树行沖洗之後，基板 时配通道618的輪出加以乾燥。在—實施例巾，分配通 輸出氮與異丙義混合物。於另—實施射，在進行沖洗 後^配通道618一使賴縮的二氧化碳清潔以及乾燥基板2〇8。 6B躺讀照本發明之—實關之與紐移除處理混合 私巧道結合ΚΧ供應相同處理混合物的多重分配通道示 二==上與，第一處理混合物施加至基板2〇8。 =2, 1將第一處理混合物以及空氣移除，而移除通道6〇3 所—處Ϊ混合物。在—些實施例中，透過移除通道603 所私除的處理混合物可被再彳轉。_於圖6Α所示之實施例，吾 15 200834653 人可使用分配通道606將去離子水施加至基板208。移除通道604 可移除去離子水與第一處理混合物的混合物，而移除通道6〇8可 移除去離子水與空氣。分配通道618可分配用以促進基板2〇8 行乾燥的混合物。 ^ 圖6C係顯示依照本發明之一實施例，使用單一移除通道控制 、 處理混合物的示意圖。在本實施例中，基板208的移動可協^防 止來自分配通道602的處理混合物超出近接頭206。 斤圖7A係顯示依照本發明之一實施例，使用具有可程式分佈歧 f 200之近接頭206施加與再循環多種處理混合物的示意圖。基 板208進入近接頭206並且曝露於來自分配通道7〇2的第一處= 混合物。移除通道700將第一處理混合物容納在近接頭2〇6内。 為了降低被近接頭206所消耗之第一處理混合物的量，移除通道 700可將自基板208之表面所移除的第一處理混合物送回供應 源。移除通道704可藉由將第一處理混合物抽離基板2〇8的表面， 而中止基板208與第一處理混合物之間的反應。在移除通道 之後，基板208可使用來自分配通道706之例如氮或二氧化碳的 壓縮氣體加以乾燥。由於自分配通道706施加惰性氣體，故被移 除通道704所抽離之第一處理混合物亦可被再循環至來源。 移除通道708與移除通道712可用以容納透過分配通道71〇 施加至基板208的第二處理混合物。當移除通道yog僅移除第二 處理混合物以及來自分配通道7〇6的惰性氣體時，被移除通道7Q8 所抽離的第二處理混合物可被再循環。在曝露於第二處理混合物 之後，此基板可使用來自分配通道714的去離子水加以沖洗。移 : 除通道712與移除通道716可容納去離子水。在本實施例中，由 於移除通道712同時抽離去離子水與第二處理混合物，所以透過 移除通道712所抽離的内容物不進行再循環。然而，在替代實施 例中，處理去離子水與第二處理混合物的混合物以使其可再利用 係可行的。於一實施例中，在進行沖洗之後，基板2〇8'可使用來 自分配通道718的壓縮二氧化碳加以乾燥。在另一實施例中，分 16 200834653 配通道718施加氮與異丙醇的混合物以 、 燥。吾人可注意到在圖4至圖7C中存在有^署沾v行清潔及乾 空通道：在-實關中，則、真 以防止處理混合物產生毛細管作上通過閒置通道， 物產生毛細管作用而進入閒置通道，可在一^之=處理混合 第二製程狀近接頭所需的的施加可降低預備 f 200 細被控 貝以中刀配通道706可施加例如氕痞-笱於石山 704 二#Για來自》配通道7Q4的處理混合物可為去離子水。在苴 =用:過丄可施加讎處理混合物，這些混合物 ^77配通道706所施加之氣體而加以控制。吾人可、、咅 至706亦可用以將液體處理混合物施加 只g 道704與706的處理混合物在咖上可忒 :月^效果即可。由於移除通道可同時吸取空氣與 通C 704的處理混合物，故此處理混合 ? 二八 配以及移除通道？ΐ™可如㈣所轉持^ 繼的刀 管2〇ΐ 本發明之—實關，使用具有可程式分佈歧 ^在本實施例中，分配通道與爾係用以_位於== 以理混合物的彎液面。吾人可注意到移除通道702係用 八:、I、*7刀配通道700以及分配通道7〇4所分配的處理混合物。 二欠it 可將額外的處理混合物施加至基板208,例如二氧化 3斜離子水或其混合物。吾人可注意到去離子水的施加會 ^曰^由移除通道7G8所移除之處理混合物進行再循環的能 力。剩餘的分配以及移除通道71〇_718可如圖以所示維持不變。 17
200834653 、圖8 ^示依照本發明之—實施例之使用位於來雜入與 式分佈歧％* 2GG間之通道购裝置的示範配置。顯示可程式 歧管200具有四個通道驅動裝置802、8〇4、8〇6以及8〇8。在 式分佈歧管中的每-個通道驅動裝置可使用通道導管^ 至位於來源1、來源2以及真空内的通道驅動裝置。吾人可注音 為了簡化目的而在來源、真空以及可程式分佈歧示限g數 量的通道_裝置，並且圖8不應被視為限制。通道驅 802、804、806以及808可使用通道導管而連接至近接頭，以^ 種處理混合物施加至基板。 為簡化之便’在圖8中並沒有顯示控制器。然而，此控制哭 可指揮位於來源、1、來源2、真空以及可程式分佈歧管中之通道ς 動1置的操作。舉例而言，控制器可指揮通道驅動裝置81Q以及 通道驅動裝置802的開啟。此可使來源1的處理混合物進入近接 頭。同樣地，此控制器可指揮通道驅動裝置812以及通道驅動裝 置806的開啟，以使來自來源2的處理混合物進入近接頭。吾人 可注思到開啟通道驅動裝置81β以及通道驅動裝置8Q4可使來自 來源1之處理混合物透過兩此鄰的通道而進入近接頭。開啟通道 驅動裝置814以及通道驅動裝置_可使真空透過對應的通道而 被引入近接頭中。 由於多種來源材料可連接至可程式分佈歧管的其中一通道驅 動裝置，所以在連接可程式分佈歧管與近接頭之通道導管内混合 來源材料係可行的。由於控制！I可透過通道驅動裝置崎來源材 料的流率進行控制，所以不同的來源材料比率可用於混合物。此 外，通道導官可具有自動混合擾流產生結構以確保徹底混合來源 材料。 ^圖9Α至9D顯示依照本發明之實施例之使用不同處理混合物 之、寫液面的不同構造。從侧面及底部顯示基板2〇8、近接頭2〇6 以及彎液面胃126a-126e。為簡化之便，在侧視圖中，彎液面 126a- 126e顯示猶如其形成在基板與近接頭之間，而不論基板2〇8 18 200834653 3進=接頭2()6。吾人可使用連接至控制器與可 接頭’以產生不同的彎液面腿-1脱。控制 i近===處;混合物供一 -可決定、彎液ί 處理混合物之通道間的寬度w 板208對Λ或降低基板2〇8 #速度可改變基 .定時，辦加式、ΓΓ,ί路1。或者’假使基板208的速度保持固 二罔或:咸〉、穹液面的寬度可改板208的曝露時間。 内之通道乂m圖9β，由於用以容納彎液面之可程式分佈歧管 杏於如由0的離較小，故彎液面126a較窄於彎液面126b。在一 ϋ巾、或開啟移除通道可控制彎液面的寬度。在每— 寬度内可存在有多重供應源與返回處。因此， 速度移動時，圖9β之基板2G8對彎液面1· 人t9A之基板對'彎液面126a的曝露。然而，吾 使個:美:Ξ Γ上基板I08的移動速度快於圖9A之基板208 ’而 速产r 曝路日守間相等。同樣地，使圖9A之基板208的移動 間:不面If寬2内產生相等的曝露時 、φ痒十ϋ、面的見度差異。在另一貫施例中，並不改變基板 驅動裝 ΐί以:f ί，鄰近彎液面既之未利用的通道能辦 歧官f空制器結合使用，以改變彎液面126a與126c的 *基板2Q8對於_液面i26a需要額外的曝露時 程式分佈歧管可變動彎液面126c而使彎液面 =的見度，加。若基板208對於彎液面版需要額外的曝露時 可程土式分佈歧管能夠將額外的處理混合物分配至鄰近彎液 面126c之未使用的通道，藉以變寬彎液面12化。 19 200834653 圖9 D係依ft?、本發明之一實施例之進一步說明如何將三種處 理混合物分配至基板208的圖。每一彎液面126a、126d以及126e 的寬度可使用上述技術加以調整。吾人可注意到在圖9A至圖9D 中，相同的近接頭通道可用以引入真空而取代彎液面。 - 雖然為了流體輸送之目的而定義近接頭，但此流體可以係不 同的類型。例如，此流體可用以電鍍金屬材料。用以進行電鍍操 • 作的示範系統與處理詳加說明於下列文獻：（1)美國專利第
6864181號，公告於2005年3月8日；（2)美國專利申請案第 11/014527號，申請於2004年12月15日，以及其標題為「WAFER f SUPPORT APPARATUS FOR ELECTROPLATING PROCESS AND METHOD FOR 、 USING THE SAME」；（3)美國專利申請案第10/879263號，申請於 2004 年 6 月 28 日，以及其標題為「METHOD AND APPARATUS FOR PLATING SEMICONDUCTOR WAFERS」；（4)美國專利申請案第 10/879396號，申請於2004年6月28日，以及其標題為 「ELECTROPLATING HEAD AND 腿THOD FOR OPERATING THE SAME」； (5)美國專利申請案第10/882712號，申請於2004年6月30曰， 以及其標題為「APPARATUS AND METHOD FOR PLATING SEMICONDUCTOR WAFERS」；（6)美國專利申請案第11/205532號，申請於2005年8 月 16 日，以及其標題為「REDUCING MECHANICAL RESONANCE AND l IMPROVED DISTRIBUTION OF FLUIDS IN SMALL VOLUME PROCESSING OF SEMICONDUCTOR MATERIALS」；以及（7)美國專利申請案第 11/398254號，申請於2006年4月4日，以及其標題為「METHODS AND APPARATUS FOR FABRICATING CONDUCTIVE FEATURES ON GLASS : SUBSTRATES USED IN LIQUID CRYSTAL DISPLAYS」；上述每一專利 . 藉由文獻方式合併於此。
其他類型的流體可以係非牛頓流體。對於額外關於牛頓與非 牛頓流體之功能與成分的資訊，吾人可參考下列文獻··（1)美國專 利申請案第11/174080號，申請於2005年6月30日，以及其標 題為「METHOD FOR REMOVING MATERIAL FROM SEMICONDUCTOR WAFER 20 200834653 AND APPARATUS FOR PERFORMING THE SAME」；（2)美國專利申請案 第11/153957號，申請於2005年6月15日，以及其標題為「METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING A SUBSTRATE USING NON-NEWTONIAN FLUIDS」；以及（3)美國專利申請案第11Λ54129號，申請於2005 年&月15日，以及其標題為「METHOD AND APPARATUS FOR TRANSPORTING A SUBSTRATE USING NON-NEWTONIAN FLUID」；上述 每一專利藉由參考文獻方式合併於此。 另一種材料可以係三態體流體。三態體係包含一部份氣體、 一部份固體、以及一部份液體。對於額外關於三態化合物的資訊， 吾人可參考美國專利申請案第60/755377號，申請於2005年12 月 30 日，以及其標題為「METHODS，COMPOSITIONS OF MATTER，AND SYSTEMS FOR PREPARING SUBSTRATE SURFACESj 〇 由參考文獻方式合併於此。 '曰 m吾人可使用電腦控制以自動化的方式控制可程式分佈歧管、 以，制器。因此，本發明之實施樣態可以其他電腦系统 4加以：r現’這些電腦系統結構哭备 統、微處理器式或可程式化之家用雷二處理杰系 腦等等。本發明亦可在分佈式^ P電腦、大型電 藉由透過_連接的遠料施，此處的作業 實際操控。通常，雖然未二這係二要物理量的 比較、以刀用盆从十二里係為月匕夠被储存、傳送、結 所進 儲存之=侧妓t «統所 實際握始。β執彳㈡呆作。這些操作係需要物理I从 二t匕季乂、以及用其他方式操控 ：： 識別、判i= 本發明亦關於用===，作係有用的機械操作。 需之目的而建造，例如上;载。S設備可以係 知所儲存之電難錢行 轉，或射為藉由 尤其’各種不同的泛用以 的電 200834653 腦程式-併使用，或更簡便的，可 操作的設備。 &更專Η用於撕所需之 本發明亦可被具體化為電腦可讀 記錄碼。此電腦可讀取記錄媒體係任何可^存^ 可讀取 、置，這些資料隨後可被電腦系統讀取 存裝
St⑽ge)、唯讀記憶體、隨機存;J ^ ’ =〇rk Attached Ms、DVDs、快閃記憶體、磁帶/以;^他、CI)-Rs、 隨附的但吾人可明白在 應被認為其係說明而非限制性某改。因此，本實施例 的細節，而可在隨附之申請專利範圍及艮提出 【圖式簡單說明】 說明「步的優點可藉由參考結合隨附 意圖圖1Α顯不依照本發明之—實施例之基板處理組件的高階示 ^所叙近接軸示範構造； 盘移“ 明之一實施例之用以對基板之表面施加 兴矛夕除飢體之近接頭的高階示咅、圖； 歧管的圖概本剌之:實_之近接—程式分佈 管之發明之一實施例，使用具有可程式分佈歧 吕之近接碩基板而使基板具有長化學品曝露時間的圖； 4、L5-fM示f照本發明之一實施例之使用具有可程式分佈歧 吕之近接頭之短處理曝露時間的圖； 22 200834653 *圖6Α係巧示^^本發明之一實施例，使用具有可程式分佈歧 g之近接頭施U不同處理混合物#料_乡 之示意圖； 处王此口奶 圖6B係顯示依照本發明之一實施例之與能僅移除處理混合 =移除通道結合之用賴應相同處理混合物的多重分配通道^ 思圖， 圖6C係頦不依照本發明之一實施例之使用 制處理混合物的示意圖； 砂丨示遇逗ί工 Γ 其圖7Α係顯示依照本發明之一實施例之使用具有可程式分佈 歧官之近接頭施加與再循環録處理混合物的示意圖； 佑^ Ιΐ 7G軸祕縣㈣之實關讀料村程式分 再循環t種處理混合物的替代實施例； 々八二上、r、^本务明之—實施例之使用位於來源輪入盘可程 式分佈騎間之通道驅練置的示範配置；及 ㉟、了知 之彎3面9=Ur依照本發明之實關之使料_理混合物 【主要元件符號說明】 100 處理模組 102處理站 104電腦 106網路 108無塵室 120近接站 122a 近接頭 124载具 126彎液面 126a彎液面 126b彎液面 23 200834653 126c 彎液面 126d 彎液面 126e 彎液面 200可程式分佈歧管 204控制器 206近接頭 208基板 210 通道 300 通道驅動裝置 304 真空 306 來源 400 移除通道 400a通道驅動裝置 402 分配通道 402a通道驅動裝置 404移除通道 404a通道驅動裝置 406 分配通道 406a通道驅動裝置 408移除通道 408a通道驅動裝置 410 分配通道 410a通道驅動裝置 500 移除通道 502 分配通道 504 移除通道 506 分配通道 508移除通道 510 分配通道 24 200834653 600 移除通道 602 分配通道 602’ 分配通道 603 移除通道 604移除通道 606 分配通道 608 移除通道 610 分配通道 612 移除通道 614 分配通道 616 移除通道 618 分配通道 700 移除通道 702 分配通道 704移除通道 706 分配通道 708 移除通道 710 分配通道 712移除通道 714 分配通道 716 移除通道 718 分配通道 802 通道驅動裝置 804 通道驅動裝置 806 通道驅動裝置 808 通道驅動裝置 810 通道驅動裝置 812通道驅動裝置 814通道驅動裝置 200834653 816 通道驅動裝置

Claims (1)

  1. 200834653 十、申請專利範圍： 1· 一種用以處理基板的設備，包含： 面的界 一近接頭’具有—表面，該表面可作為接近該基板表 面，該近接頭包含： 複數分配通道，可將一第一處理混合物以及_ 混合物分配至該基板的表面； 乐一處理 複數移除通道，可從該基板的表面移除該第一 處理混合物；及 /、邊昂二 一分佈歧管，與用以分配該第一處理混合物以及該 混合物的練數分配通道麵，並且與鋪歸除通 構該分佈歧管以定義為了輸紗及移除該第—處理混合物邀γ 二處理混合物所選擇之該近接頭的區域。 /、巧弟 2·如申請專利範圍第1項之用以處理基板的設備，更包含·· 一控制器，耦合至該分佈歧管；及 該分佈歧管亦包含輕合至該分配通道與該移除通道 道驅動裝置，該控制器可指揮該通道驅動裝置的操作。 3.如申請專繼圍第1項之用以處理基板的^備，其巾該分配通 道被設置成列，以及在所選擇之列中的每—個通道分配相同的處 理混合物。 4·如申請專利範圍第1項之用以處理基板的設備，其中該移除通 道透過該分佈歧管而與真空連接。 5·如申請專織圍第1項之用以處理基板的設備，其巾該移除通 道被設置成列，以及在所選擇之列中的每一個通道移除該第一處 理混合物。 27 200834653 t如I請專利範鮮1項之用以處理基板的設備，其中該移除通 成列’以及在所選擇之列中的每-個通道移除該第二處 處 的每™ 8·—種用以處理基板的近接系統，包含· 的二:崎二於接近該基板 頭之寬度 ，該複數列在該 二表面或從該基板的表面用： 輸送^移，時可被限制在該基板表面與該頭表面之間 脰被 來自佈歧f ’與絲輕，鮮絲提供並且接受 俾能使通，該可程式分佈歧管與該頭連接， 式分佈歧管與該複數通道的界面； 建立_液面之區域，以及該 彎液^的尺寸 用接系統，其中該控 該頭的寬度增加，或沿著該_寬度^的尺寸可被設成沿著 10.如申請專利範圍第8項 多列的該複數列被該可程式二歧= 時近 28 200834653 尺寸 其中當較 會減少該彎液面的 ΐι·如申請專利範圍第8項之用以處 少列的該複數列㈣可料分佈歧管_時近接糸統， 尺寸。 - Ύ 12·如申δ月專利耗圍乐8項之用以 個以上的彎液面體 程式分佈歧管啟動列群m近接糸統，其中该可 加，、，…1、一: u以在雜板表面與該頭表面之間限制兩 13. 如申請專利範圍第10項之用以處理基板接 面的尺寸亦會增加當該基板掃掠通過該頭時對該流體白曰勺 14. 如申請專娜圍第u項之㈣處理基 面的尺寸亦會減少當該基板掃掠通職頭時ί該流2 15:，申請專利範圍第10項之用以處理基板的近接系統，盆 過遥擇的通道；|人真空以從該基板的表面移除該流體。八 16.如申請專利範圍第1G項之用以處理基板的近接系統，歹 可程式分佈歧管啟動與真空連接的列群組，穩制兩個^ = 空區域以從該基板的表面移除流體。 〃 17· —種使用近接頭處理基板的方法，包含·· 設置一具有一頭表面的頭，該頭表面被設置為位於接近該基 板之表面，該頭具有寬度與長度，並且該頭具有沿著該頭之 設置成列的複數通道，該複數列在該頭之寬度上擴展，以及 29 200834653 個該複數通道用以將一流體輸送至該基板的表面，或從該基板的 表面移除該流體，以使一彎液面在該流體被輸送以及移除時形成 在該基板表面與該頭表面之間；及 …y 才工制違〃lL體僅輸入所選擇之該複數通道其中數個，該輸入押 制可用以限制位於該基板表面與該頭表面之間的該彎液^度。工 如申請專利範圍f 17項之使用近接頭處理基板的方法，更包 3 · 限定該
    姓、對於一給定之該基板表面與該頭間的相對移動速度 寫、液面於該基板表面上之期望的曝露時間；及 根據該期望的曝露時間，將該寬度設成較大或較小 如申請補翻第17項之使用近接喊理基㈣方法，更包 可用 控制真空僅輸入所選擇之該複數通道其中 以限制從該基板表面移除流體的區域。 數個，該輸入控制
    2-〇ί申圍第Γ項之使用近接頭處理基板的方法，其中 道二1被以限制—第-彎液面之至少-第-列通 列通Ϊ。 L體輸运至用以限制—第二彎液面之至少一第二
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