TW200405314A - Objective lens driving apparatus for optical pickup - Google Patents

Description

200405314 五、發明說明（1) 本申請案主張在2 0 0 2年8月24日向韓國智慧財產局 (Intellectual Property Office)提出申請之K〇rea Patent Application No· 2002-50305 的優先權，且該些 具體内容全部併入供作參考。 一 發明所屬之技術領域 本發明是有關於一種驅動裝置，且特別是有關於， 一種光學讀取頭之物鏡（objective lens)驅動裝置。 先前技術 一般而言，光碟機藉由照射光在一記錄媒體 (recording medium)上以記錄資料到一光碟或從一光碟 複製（reproduce)資料。該光碟機包括一轉盤 (turntable)位於一光碟放置之處；一主軸馬達（spindle m 〇 t 〇 r )用以旋轉邊轉盤；以及一光學讀取頭用以照射光 在該光碟之一記錄表面以執行記錄或複製。 然而’從光學讀取頭發出之光必須垂直地入射 (incident)到光碟之記錄表面以形成一精確之光點 (1 ight spot)。若該光之入射方向為傾斜，則在光碟表 面無法形成一精確之光點。然後，在資料之記錄或複製 時會發生錯誤。因此，為了在一光碟之預求的軌（track) 上形成一精確之光點，該光必須被垂直地入射到光碟之 記錄表面上。調整該光以被垂直地入射到光碟之記錄表 面上，疋與傾斜（tilt)調校（adjustment)或偏斜（skew)

11359pif.ptd 第9頁 200405314 五、發明說明（2) 調校有關。典型地，一物鏡驅動裝置控制一物鏡之位置 在一聚焦（focusing)與一循執（tracking)方向，如此光 之焦距可以在光碟之記錄表面之預求的軌上精確地形 成。然而，物鏡驅動裝置，藉由維持物鏡與光碟之記錄 表面間在一固定距離，以維持光點之焦距，並且控制該 光點以跟隨預求的軌，但是該物鏡驅動裝置，並不直接 控制光與光碟之記錄表面之一入射角。因此，為了更精 確地記錄與複製，動態調整傾斜之一功能是必須的。 為了符合上述之需求，如第1圖與第2圖所示，一光 學讀取頭之傳統物鏡驅動裝置，具有一動態傾斜調校機 構已被提出。該圖中所示之光學讀取頭，為一物鏡驅動 機構，其包括一焦距與一循執調校機構，驅動一平板 (blade)2，其中一物鏡1被裝置在一聚焦方向A與一循執 方向B，以及在一傾斜方向C驅動平板2之一傾斜調校機 構。 該焦距與循軌調校機構，具有一典型結構，包括一 聚焦線圈（focus coil)3、一循軌線圈（tracking coil)4、以及一磁鐵（magnet)8。因此，該焦距與循執調 校機構，產生一電磁力（electromagnetic force)，藉由 控制流經聚焦線圈3與循執線圈4之電流，用以驅動平板 2。參考號碼5代表一纟覽線，用以支撑平板2相對於支樓座 (holder)6 之移動。 該傾斜調校機構，包括置於一底座1 0上之凸起1 6 a、 16b以及凸起中之鋼纜線（steel wire)17a、17b ;纏繞在

11359pi f.ptd 第10頁 200405314 五、發明說明（3) 凸起16a、16b之傾斜線圈（tilt coil)15a與15b ;以及裝 置在平板2上面對鋼纜線1 7a、1 7b之傾斜磁鐵1 4a、1 4b。 因此，鋼纜線1 7 a、1 7 b根據傾斜線圈1 5 a與1 5 b中之電流 方向被磁化。平板2在傾斜方向C，藉由介於鋼纜線1 7 a、 1 7 b與傾斜磁鐵1 4 a、1 4 b之磁性運作所驅動。 在上述結構中，因為傾斜調校機構之組成元件，例 如說傾斜線圈1 5 a與1 5 b，是被安置在底座1 0之一外加的 空間，係與該焦距與循執調校機構之空間分離，故不易 製造一簡易的物鏡驅動裝置。還有，因為裝置於一驅動 配件，即平板2之傾斜磁鐵1 4a、1 4b相對上是較重的物 體，一反應速度因為該驅動配件之重量而被降低了。因 此，介於光碟與光學讀取頭中，可以執行精確的物鏡驅 動控制與傾斜控制之一結構是有必要的。 發明内容 為了解決上述的與更多的問題，本發明提出一種光 學讀取頭之物鏡驅動裝置，其可以平穩地控制一物鏡之 驅動，而不需增加該裝置之大小或一驅動配件之重量。 根據本發明之一目的，用於光學讀取頭之一物鏡驅 動裝置，包括一底座；一支#座，裝配於該底座上；一 平板，其上裝置有一物鏡；一彈性支撐物，彈性地支撐 該平板，該平板係可以相對於該支撐座移動；一對磁性 構件，裝設在該底座上並互相面對；以及一線圈組件， 包括一聚焦線圈、一循軌線圈、以及一傾斜線圈，並裝

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於該些磁性構件之間。 和其他目的、特徵、和優點能 較佳實施例，並配合所附圖式 更 設在該平板上以便配置 為讓本發明之上述 明顯易懂，下文特舉一 作詳細說明如下： 實施方式： 石月參知第3圖與第4圖，—支樓座）i 〇裝配於一底座 1〇()上/ 一平板（blade)120，其上裝置有一物鏡130，該 物鏡係由相對於支撐座丨丨〇可彈性地移動之複數條纜線 14〇所支撐。一對外偏轉線圈y〇ke)i8〇，裝設於 底座1 0 0上，以及一對磁鐵丨5 〇，裝設在該對外偏轉線圈 18〇處並互相面對。一線圈組件（coil assembly)160被裝 設於在平板120之重心（center of gravity)上，而且被 裝設在該對磁鐵1 5 0之間。 每個磁鐵1 5 0皆具有兩個磁極。兩個磁鐵1 5 0之相同 的磁極，被裝設成互相地面對。裝設在該對磁鐵1 5 0之間 之線圈組件1 6 0，包括一傾斜線圈（t i 11 c 0 1 1 ) 1 6 2、垂直 裝設之一聚焦線圈（f ocus coi 1 ) 1 61、以及附著於傾斜線 圈1 6 2與聚焦線圈1 6 1之側面以面對兩個磁鐵1 5 〇之一循執 線圈（tracking coil)163。因此，與^知不同的疋’習 知的該些線圈是分散地設置的，而本發明的該些線圈皆 合併在一線圈組件1 60中並裝設在該對磁鐵1 50之間，因 此裝設的空間可以縮小。 還有，一上表面170，包括一上偏轉線圈171 ’藉由

H359pif.Ptd 第12頁 200405314 五、發明說明（5) 從線圈組件1 6 0之上端連結到外偏轉線圈1 8 0之上末端 (t 〇 p e n d )，以磁性地連接到外偏轉線圈1 8 0 ;以及一内 偏轉線圈1 7 2，從上偏轉線圈1 7 1延伸以穿透聚焦線圈1 6 1 與傾斜線圈162之中心並固定在底座100上。上表面170具 有聚集介於磁鐵1 5 0到線圈組件1 6 0中所產生的磁力線之 一功能。 在上述之結構中，假定平板1 2 0被驅動於聚焦之方向 上。例如，當電流如第5圖所示之方向流經聚焦線圈 161 ，藉由磁鐵150所產生磁力線之交互作用，一電磁力 被產生在一向上之方向。當然，若電流方向相反時，電 磁力會被產生在相反之方向。然而，在本發明中，聚焦 線圈161之一有效長度（effective length)，對產生電磁 力之貢獻，是習知技術中有效長度之兩倍。也就是說， 在第1圖所示之傳統結構中，因為聚焦線圈3只有一面裝 設於磁鐵8之間，所以另一面之電流無法用於控制。相對 地，在本發明之結構中，如第5圖所示，因為整個線圈組 件1 6 0，被裝設在具有兩磁極之該對磁鐵1 5 0之間，聚焦 線圈1 6 1分別面對該對磁鐵1 5 0之前方與後方，皆可作為 有效之線圈。因此’當施加與習知結構相同之電流’本 發明之結構可獲得相當高之控制靈敏度（c ο n t r ο 1 sensitivity)。此外，因為上表面170之内偏轉線圈 1 7 2，將磁力線沿著線圈組件1 6 0之方向聚集，更提高了 控制靈敏度。也就是說，若沒有内偏轉線圈1 7 2，個別從 兩磁鐵1 5 0之N極發出到S極之磁力線，以及通過聚焦線圈

1 1359pi f.ptd 第13頁 200405314 五、發明說明（6) 1 6 1之非有效線圈之部分之磁力線，皆會被加強，以致於 減弱了控制效率。然而，當内偏轉線圈1 7 2像在本發明中 一樣被設置，磁力線會被聚集在一方向以通過有效線 圈，並且其他非有效的元件作用會減弱，因此更提高了 控制靈敏度。因此，雖然不同的線圈被合併在同一線圈 組件1 6 0中，並被安排在一狹小空間内，其用於控制之有 效長度會比依據習知技術之結構效果還大。 其次，當平板1 2 0被驅動在傾斜方向，電流會如第6 圖所示之方向施加到傾斜線圈1 6 2。然後，藉由與磁鐵 150之作用，在第6圖之左側之電磁力被產生在一向上之 方向，而其右側之電磁力則被產生在一向下之方向，因 此平板1 2 0被旋轉於該傾斜方向。若要旋轉平板1 2 0於相 反方向，電流必須被施加在相反之方向。在本例中，可 以見到該線圈之有效長度被延伸了。也就是說，在習知 技術中，如第2圖所示，每一傾斜線圈1 5 a與1 5 b之一側 面，被設置於磁性構件，即磁鐵1 4a與1 4b，以及鋼纜線 1 7 a與1 7 b之間。然而，在本發明中，因為傾斜線圈1 6 2之 前面與後面皆面對磁鐵1 5 0並作為有效線圈，控制靈敏度 可以被提高。 還有，循轨控制使用之電磁力是由介於流經循執線 圈1 6 3之電流與磁鐵1 5 0所產生。因此，當循軌線圈1 6 3内 之電流方向如第7圖所示，藉由與磁鐵150之交互作用， 一電磁力產生在圖示上向左之方向。若電流方向反過來 時，該電磁力會形成於相反之方向。因此，當平板1 2 0被

11359pif.ptd 第14頁 200405314 五、發明說明（7) 該電磁力所驅動，可完成一循執控制。在本例中，因為 附著於設置之聚焦線圈1 6 1與傾斜線圈1 6 2之兩側，之循 執線圈1 6 3的個別的垂直面，是被用作為與磁鐵1 5 0反應 之一有效線圈，因此與第1圖所示之裝設在聚焦線圈3之 一側之循執線圈4比較起來，本發明之循執線圈的有效長 度是延長了 。因此，在循執控制中，控制靈敏度可以被 改善。 在本發明中，因為聚焦線圈1 6 1 、傾斜線圈1 6 2與循 軌線圈1 6 3皆被合併成線圈組件1 6 0，並被設置在介於磁 鐵1 5 0之間之一有限的空間中，因此設置用的空間減少了 許多。還有，雖然設置用的空間被限制了 ，用於控制個 別線圈之一線圈之一有效長度是被延展了 ，因此控制靈 敏度可以被改善。 在上述的較佳實施例中，線圈組件1 6 0之結構是，聚 焦線圈1 6 1是設置於傾斜線圈1 6 2之上方與下方，並且循 執線圈1 6 3是附著於該些線圈之兩側面。在第8圖中，與 上述結構不同的是，聚焦線圈1 6 1可以只被設置於傾斜線 圈162之上方與下方其中之一，並且循執線圈163是附著 於該些線圈之兩側面。 還有，上表面170之結構可以如第9A圖與第10A圖所 示，被修改成各種不同的形狀。也就是說，在如第3圖所 示之一較佳實施例中，即使上表面1 7 0包括上偏轉線圈 171與内偏轉線圈172 ，其更可包括如第9A圖與第9B圖所 示之一部分外偏轉線圈（partial outer yoke)173a。在

11359pif.ptd 第15頁 200405314 五、發明說明（8) 本例中，裝設於一底座1 0 0 a上之一第一部分外偏轉線圈 180a支撐一磁鐵150a，並且當一上表面170a之一内偏轉 線圈1 7 2 a被連結到底座1 0 0 a，由上表面1 7 0 a之上偏轉線 圈1 7 1 a，所延伸之一第二部分外偏轉線圈1 7 3 a，被連結 到底座1 0 0 a上之第一部分外偏轉線圈1 8 0 a，因此以支撐 磁鐵1 5 0 a。 還有，如第10A圖與第10B圖所示，一上表面170b 上，提供裝設於底座100b之一内偏轉線圈180b、一上偏 轉線圈1 7 1 b、以及固一定磁鐵1 5 0 b之一外偏轉線圈 1 7 2 b，因此上表面1 7 0 b被連結到底座1 0 0 b。在任一例 中，所採用之磁鐵1 5 0、1 5 0 a、以及1 5 0 b皆被極化成兩磁 極，故與設置於介於一對所極化的磁鐵中之有限的小空 間中之線圈組件1 6 0 ，可以一起產生一非常有效率的控制 靈敏度。 如上所述，本發明之一光學讀取頭之物鏡驅動裝 置，至少具有以下的優點。 首先，因為用以改變一物鏡之位置之線圈，例如一 聚焦線圈、一傾斜線圈與一循軌線圈等皆被合併於一線 圈組件内，並被設置於一對磁鐵之間，因此設置用的空 間很小，故此裝置可以被製造的更精簡。 其次，藉由適當地比較極化成兩磁極的磁鐵與線圈 組件，延長一線圈的一有效長度，控制靈敏度可以被改 善。 第三，因為在線圈組件中之個別的線圈，皆被設置

11359pif.ptd 第16頁 200405314 五、發明說明（9) 成與極化成兩磁極的磁鐵互動，像習知技術中用於傾斜 線圈之一額外的磁鐵是不必要的，因此該驅動配件被製 造的更輕巧。 雖然本發明已以一較佳實施例揭露如上，然其並非 用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明 之精神和範圍内，當可作些許之更動與潤飾，因此本發 明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

11359pi f.ptd 第17頁 200405314 圖式簡單說明 圖式簡單說明 第1圖為- -透 視 圖 j 繪示 一傳統之物鏡驅動裝置； 第2圖為- -爆 炸 透 視 圖， 繪示第1圖之物 鏡 驅 動 裝 置 第3圖為- -透 視 圖 繪示 一物鏡驅動裝置， 係依據本 發 明 之一較佳 實施例 第4圖為- -爆 炸 透 視 圖， 繪示第3圖之物 鏡 驅 動 裝 置 ， 第5圖為- -用 以 解 釋 第3圖之物鏡驅動裝 置 在 一 聚 焦 方 向驅動之 圖； 第6圖為- -用 以 解 釋 第3圖之物鏡驅動裝 置 ， 在 一 傾 斜 方 向驅動之 圖， 第7圖為- -用 以 解 釋 第3圖之物鏡驅動裝 置 在 _ 一 循 軌 方 向驅動之 圖； 第8圖為- -透 視 圖 繪示 第3圖之物鏡驅 動 裝 置 之 一 線 圈 組件之一 例； 以及 第9 A圖到 第1 0B 圖 為 ，繪 示第3圖之物鏡 驅 動 裝 置 之 上 表面之圖 例。 圖 式 標記說明 1 1 3 0 :物鏡 2 1 2 0 :平板 3161:3 策焦 線 圈 4 1 6 3 :循執 線 圈

11359pif.ptd 第18頁 200405314 圖式簡單說明 5 1 7 a 1 7 b 1 4 0 :纜線 6 1 1 0 :支撐座 8 150 150a 150b:磁鐵 1 0 1 0 0 1 0 0 a 1 00b :底座 1 4 a 1 4 b :傾斜磁鐵 1 5 a 1 5 b 1 6 2 :傾斜線圈 1 6 0 :線圈組件 上表面 上偏轉線圈 内偏轉線圈 1 8 0 a :外偏轉線圈 170 170a 170b 171 171a 171b 172 172a 180b 172b 173a 180

A B C 聚焦方向 循軌方向 傾斜方向 16a 16b :凸起

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Claims (1)

1. 200405314 六、申請專利範圍 1. 一種光學讀取頭之物鏡驅動裝置，包括： 一底座； 一支撐座，裝配於該底座上； 一平板，其上裝置有一物鏡； 一彈性支撐物，彈性地支撐該平板，該平板係可以 相對於該支撐座移動； 一對磁性構件，裝設在該底座上並互相面對；以及 一線圈組件，包括一聚焦線圈、一循執線圈、以及 一傾斜線圈，並裝設在該平板上以便配置於該些磁性構 件之間。 2. 如申請專利範圍第1項所述之光學讀取頭之物鏡 驅動裝置，其中在該線圈組件中，該傾斜線圈與該聚焦 線圈，被配置於該線圈組件之一上方與一下方，以及該 循執線圈是附著於該傾斜線圈與該聚焦線圈之一側面。 3. 如申請專利範圍第1項所述之光學讀取頭之物鏡 驅動裝置，更包括： 一對外偏轉線圈（outer yoke)，裝設於該底座上， 以固定地支撐該些磁性構件；以及 一上表面，包括一内偏轉線圈，係藉由穿透該線圈 組件之中心固定在該底座上，以及一上偏轉線圈，從該 線圈組件連結到該些外偏轉線圈之上末端。 4. 如申請專利範圍第1項所述之光學讀取頭之物鏡 驅動裝置，更包括： 一上表面，連結到該底座，並包括配置在該線圈組

   1 1359pi f.ptd 第20頁 200405314 六、申請專利範圍 件上之一上偏轉線圈，以及一對外偏轉線圈，如此該些 磁性構件被固定到該上偏轉線圈之兩末端；以及 一内偏轉線圈，係藉由穿透該線圈組件之中心固定 在該底座上。 5. 如申請專利範圍第1項所述之光學讀取頭之物鏡 驅動裝置，更包括： 一第一部分外偏轉線圈，裝設於該底座上，並藉此 固定地支樓部分的該些磁性構件， 一上表面，連結到該底座，並包括一内偏轉線圈， 係藉由穿透該線圈組件之中心固定在該底座上；配置在 該線圈組件上之一上偏轉線圈；以及一第二部分外偏轉 線圈，從該上偏轉線圈延伸，並連結到該第一部分外偏 轉線圈，形成一完整外偏轉線圈，並藉此固定地支撐該 些磁性構件。 6. 如申請專利範圍第1項所述之光學讀取頭之物鏡 驅動裝置，其中該線圈組件，被裝設於在該平板之重心 (center of gravity)上 。

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