TR202020998A2 - İDEAL CİLT pH DEĞERİ İLE UYUMLU pH DEĞERİNE SAHİP BİR KOMPOZİSYON VE BU KOMPOZİSYONUN UYGULANDIĞI BİR CİLT ÜRÜNÜ - Google Patents

Abstract

Buluşun konusu, cildin doğal dengesini koruyarak ve cilt bariyerine zarar vermeden temizlenmesini sağlayan, ideal cilt pH değeri ile uyumlu pH değerine sahip, mikroorganizma üreme potansiyelinin düşürülmesi nedeni ile mevcut durumdaki ürünlerde kullanılan koruyucu ajan sayısının ve konsantrasyonunun da azaltıldığı bir kompozisyon ve kompozisyonun uygulandığı bir cilt ürünü ile ilgilidir. Buluş kapsamında geliştirilen kompozisyon ağırlıkça % 85-91 oranında su, ağırlıkça % 2-4 oranında en az bir pH ayarlayıcı ajan ve ağırlıkça % 1-5 oranında en az bir koruyucu ajan içermektedir.

Description

TARIFNAME IDEAL CILT pH DEGERI ILE UYUMLU pH DEGERINE SAHIP BIR KOMPOZISYON VE BU KOMPOZISYONUN UYGULANDIGI BIR CILT ÜRÜNÜ Bulusun Konusu Bulusun konusu, cildin dogal dengesini koruyarak ve cilt bariyerine zarar vermeden temizlenmesini saglayan, ideal cilt pH degeri ile uyumlu pH degerine sahip, mikroorganizma üreme potansiyelinin düsürülmesi nedeni ile mevcut durumdaki ürünlerde kullanilan koruyucu ajan sayisinin ve konsantrasyonunun da azaltildigi bir kompozisyon ve kompozisyonun uygulandigi bir cilt Ürünü ile ilgilidir. Teknigin Bilinen Durumu Cilt yüzeyi vücudun dis ortam ile sürekli olarak temas halinde bulunan, pek çok çevresel faktör ile etkilesim içinde olan ve bu nedenle temas edilen ortamlardaki pek çok mikrobiyal ajana maruz kalan bölümüdür. Diger taraftan cilt vücudun, iç organlari dis çevreden ayirarak, mekanik, kimyasal ve biyolojik dis etkilere karsi koruyan, vücut isisinin ve su dengesinin düzenlenmesine yardimci olan, kolajen ve protein üretimi yaparak kendini onarabilen önemli bir bölümüdür. Bu nedenle cildin, cilt yüzeyinin pH degeri ile uyumlu cilt ürünlerinin kullanimi ile ve cilt bariyeri bozulmadan temizlenmesi önem arz etmektedir. Su kullaniminin hemen mümkün olmadigi örnegin seyahat ortaminda veya toplu tasima gibi hijyenik kosullarin uygun olmadigi ortamlarda el veya yüzümüzü temizleme ihtiyaci günümüzde de yaygin olarak islak mendil kullanimi ile giderilmektedir. Kullanimi oldukça yayginlasan islak mendillerin temas ettirdigimiz cilt yüzeyimize zarar vermeden ve dogal bariyerini koruyarak cildi temizlemesi ve uygun hijyen kosullarini saglamasi gerekmektedir. Islak mendiller kullaniminin pratik olmasi nedeniyle günümüzde restoran, okul ve hatta hastanelerde dahi temizlik ve hijyen amaçli hem yüzeylerde hem de el, yüz vb. vücudun çesitli bölgelerinde siklikla kullanilmaktadir. Pratik kullanimindan dolayi anneler de bebeklerinin cilt temizligi için islak mendillerden yararlanmaktadir. Kullanilan islak mendillerin cilt yüzeyini temizleyip hijyenik kosullari saglamasi beklenirken ayni zamanda cilt bariyerini ve cildin nem dengesini korumasi, cilt sagligini korumaya uygun pH degerine sahip olmasi gerekmektedir. Yüksek pH (6-6,5) ortaminda cilt üzerinde maya mantari vb. diger mikroorganizmalarin üreme potansiyelinin yüksek oldugu bilinmektedir. Düsük pH ortami ise cildin yapi taslarindan olan seramid üretimini destekleyerek cildin dogal bariyer tabakasinin desteklenmesine yardimci olmaktadir. Bu yüzden cilt pH'inin (4-4,5) araliginda olmasi istenmektedir. Ayni dogrultuda kullanimi özellikle hastalik ve salgin ortaminin olustugu dönemlerde daha da yayginlasan ve bir ihtiyaç haline gelen, cilt yüzeyinin temizligi için kullanilacak olan islak mendillerin pH degerinin de cilt pH degeri ile uyumlu olmasi önemli bir gereklilik haline gelmistir. Bu sayede cildin pH degerini yükseltmeden candida albicans gibi maya mantarlari ve diger mikroorganizmalarin üremesi önlenerek ciltte enfeksiyon, irritasyon, pisik vb. cilt problemleri olusmadan cildin temizlenmesi saglanacaktir. Ancak mevcut durumda kullanilan islak mendillerin pH araligi 5,5-6 araliginda olup bahsedilen ihtiyaci karsilamadigi gibi özellikle salgin veya hastalik ortaminda sik kullanimlari cilt problemlerine yol açmaktadir. solüsyonun emdirilmesi ile elde edilmektedir. Yüksek oranda su ihtiva eden solüsyon ile dokunmamis kumas muamele edildiginde mikrobiyolojik üremenin olmamasi için islak mendil formülasyonlarinin içerisine genellikle yüksek oranda ve farkli mikroorganizmalara (bakteri, küf, maya) etkili olabilecek birden fazla koruyucu (heksamidin diisetiyonat, metilizotiyazolinon, benzizotiyazolinon, imidazolidinil üre, diazolidinil üre, poliaminopropil biguanid, DMDMH vb.) ilave edilmektedir. Ancak içlerindeki koruyucularin konsantrasyonuna ve türlerine bagli olarak mevcut durumdaki ürünlerin kullaniminda özellikle yetiskin cildine göre daha ince ve hassas bir cilde sahip olan bebeklerde cilt tahris olmakta ve cilt yüzeyinde pisik vb. cilt problemleri ortaya çikmaktadir. Mevcut durumda karsilasilan bir diger problem yüksek pH (5,5-6) degerine sahip ürünlerde bu ürünleri mikrobiyolojik açidan korumak için yine daha fazla sayida ve daha yüksek konsantrasyonda koruyucu ajan kullanilmasi gerekmektedir. Ayrica dokunmamis kumas (nonwoven) solüsyon/kompozisyon ile muamele edildiginde kumastan solüsyona transfer olan bilesenlerden dolayi nihai ürünlerin pH degerlerinde farkliliklar gözlenmektedir. Dolayisiyla kullanilan solüsyon/kompozisyonlarin pH degerlerinin stabil hale getirilmesi de yine mevcut durumda karsilasilan ve çözülmesi gereken bir problemdir. Bulus kapsaminda bahsedilen problemlerin çözümüne yönelik olarak mevcut ürünlere oranla daha düsük ve stabil pH degerine sahip olmasi ile daha düsük mikroorganizma üreme potansiyeline sahip bir cilt bakim ürünü gelistirilmesi amaçlanmistir. Bu sayede hem düsük pH degeri ile üründe mikroorganizma üreme potansiyeli azaltilacak, hem cilt kendi pH degerine uygun bir cilt ürünü ile temizlenebilecek hem de düsük pH degerine bagli olarak daha az sayi ve konsantrasyonda koruyucu kullanimi mümkün olacaktir. Bilinen durumda yukarida bahsedilen problemlerin çözümüne yönelik olarak belirtilen ihtiyacin giderilmesi amaciyla bulus kapsaminda daha düsük konsantrasyonda ve daha az sayida koruyucu ajan ihtiva eden ve cilt pH degeri ile uyumlu pH degerine sahip bir kompozisyon ve bu kompozisyonun uygulandigi bir cilt ürünü gelistirilmistir. Tablolarin Açiklamasi Tablo 1. Bulus kapsaminda gelistirilen kompozisyonun sahip oldugu pH ortaminda pentilen glikolün minimum inhibisyon konsantrasyon degeri ve literatürde belirtilen pentilen glikolün minimum inhibisyon konsantrasyon degeri Bulusun Amaci Bulusun amaci, cilt pH degeri ile uyumlu pH degerine sahip bir kompozisyon gelistirilmesidir. Bulusun baska bir amaci, cilt yüzeyinin temizlenmesi için kullanilacak, cilt bariyerini koruyarak ve cilt pH'i ile uyumlu pH degeri ile cilt için ideal hijyenik kosullarinin olusmasini saglayacak bir cilt ürünü gelistirmektir. Bulusun baska bir amaci, yaklasik 3-4,5 pH degeri ile mikroorganizma üreme potansiyelinin düsürüldügü ve hijyenik açidan uygun kosullarin saglandigi cilt bakim ürünü gelistirmektir. Bulusun baska bir amaci, cilt bakim ürünü olarak bir islak mendil gelistirilmesidir. Bulusun Açiklamasi Bulusun konusu, cildin dogal dengesini koruyarak ve cilt bariyerine zarar vermeden temizlenmesini saglayan, ideal cilt pH degeri ile uyumlu pH degerine sahip, mikroorganizma üreme potansiyelinin düsürülmesi nedeni ile mevcut durumdaki ürünlerde kullanilan koruyucu ajan sayisinin ve konsantrasyonunun da azaltildigi bir kompozisyon ve kompozisyonun uygulandigi bir cilt ürünü ile ilgilidir. Kullanilan cilt ürünleri genellikle mikrobiyolojik açidan korunabilmeleri için birden fazla koruyucuyu ajani yüksek konsantrasyonlarda ihtiva etmektedir. Cilt ürünleri içerisinde kullanilan bu koruyucular cildin tahris olmasina ve cilt bariyerinin bozularak ciltteri su kaybinin artmasina neden olmaktadir. Cildin nem dengesinin ve cildi koruyan bariyer tabakasinin bozulmasi cildi tahris edecek bilesenlerin ve cilt yüzeyinden uzaklastirilmasi istenen patojenik mikroorganizmalarin barinmasi için uygun ortami olusturmaktadir. Bu durum ciltte alerjik reaksiyonlarin olusmasina yol açmaktadir. Düsük pH ortami cildin yapi taslarindan olan seramid üretimini destekleyerek cildin dogal bariyer tabakasinin desteklenmesine yardimci olmaktadir. Mevcut durumda kullanilan ürünlerin pH degerleri bu kadar düsük asiditede tutulamamaktadir. Nihai ürünlerin pH degeri düsük asiditede olmadigi zaman mikrobiyolojik açidan etkin korumanin saglanmasi için daha yüksek oranda koruyucu ajan kullanilmasi gerekmektedir. Bu durumda cildin dogal dengesini bozarak hijyenik olarak uygun kosullarin saglanmasi yerine cildi mikroorganizmalarin barinmasi için uygun hale getirmektedir. Ilave olarak cilt ürünlerinin elde edilmesi için dokunmamis kumas (nonwoven) solüsyon/kompozisyon ile muamele edildiginde kumastan solüsyona transfer olan bilesenlerden dolayi nihai ürünlerin pH degerlerinde farkliliklar gözlenmektedir. Bu yüzden kompozisyon içerisinde pH degisimini minimize etmek gerekmektedir. Bulus kapsaminda belirtilen problemlerin çözümüne yönelik olarak pH degisikliginin minimize edildigi, cilt pH' I ile uyumlu olan bir pH degerine sahip kompozisyon ve bu kompozisyonun uygulandigi bir cilt ürünü gelistirilmistir. Bulus kapsaminda gelistirilen kompozisyon su, cilt pH'i ile uyumlu olan düsük pH araliginda tercihen 3-4,5 araliginda mikroorganizmalara karsi etkinligi artan en az bir koruyucu ajani ve ortam pH'inin stabil olmasini saglayan en az bir pH ayarlayici ajani içermektedir. Bulus konusu kompozisyon pH ayarlayici ajan olarak tercihen en az bir asit ve asidin konjuge bazini içeren bir tampon çiftini içermektedir. Bulus kapsaminda koruyucu ajan olarak tercihen pentilen glikol kullanilmistir. Pentilen glikolün ortam pH degeri (3-4,5) düstükçe etkinliginin arttigi bulunmustur. Bu pH degerlerinde farkli mikroorganizmalara karsi etkili oldugu minimum inhibisyon konsantrasyonu degerleri MIK testi yapilarak tespit edilmistir. Pentilen glikolün literatürde belirtilen mikroorganizmalara karsi etkili oldugu minimum inhibisyon konsantrasyonu (MIK) bulus kapsaminda kullanilan orandan daha yüksek belirtilmektedir. Literatürde belirtilen minimum inhibisyon konsantrasyonlari ve bulus kapsaminda gelistirilen düsük pH degerine sahip ortamda kullanilmasi gereken pentilen glikol konsantrasyonu asagida tablo 1'de gösterilmektedir. Tablo 1. Bulus kapsaminda gelistirilen kompozisyonun sahip oldugu pH ortaminda pentilen glikolün minimum inhibisyon konsantrasyon degeri ve literatürde belirtilen pentilen glikolün minimum inhibisyon konsantrasyon degeri Mikroorganizmalar Ortamin düsük pH Literatür MIK degerleri degerinde bulus kapsaminda tespit edilen Pentilen GlikoI-NIIK degerleri Aspergillus niger %3 %5 Candida albi'cans %0,15 %5 Sta phylococcus aureus %03 %5 Escherichia coli' %0,15 %5 Pseudomonas aeruginosa %0,075 %5 Bulus kapsaminda gelistirilen kompozisyon agirlikça % 85-91 oraninda su, agirlikça % 2- 4 oraninda en az bir pH ayarlayici ajan ve agirlikça % 1-5 oraninda en az bir koruyucu ajan içermektedir. Bulus kapsaminda pH ayarlayici ajan olarak sitrik asit-sodyum sitrat konjuge asit baz çifti, laktik asit-sodyum laktat konjuge asit baz çifti, asetik asit-sodyum asetat konjuge asit baz çiftlerinden en az birisinin kullanimi tercih edilmistir. Bulusun tercih edilen uygulamasinda pH ayarlayici ajan olarak agirlikça % 1-2 oraninda en az bir asit ve agirlikça % 1-2 oraninda kullanilan asidin konjuge bazini içeren en az bir konjuge asit baz çifti kullanilmaktadir. Bulusun tercih edilen bir uygulamasi koruyucu ajan olarak pentilen glikol ve pH ayarlayici ajan olarak sitrik asit ve sodyum sitrat konjuge asit-baz çiftini içermektedir. Bulusun tercih edilen bir diger uygulamasi koruyucu ajan olarak pentilen glikol ve pH ayarlayici ajan ola rak ise la ktik asit ve sodyum laktat konjuge asit-baz çiftini içermektedir. Bulusun tercih edilen bir diger uygulamasi koruyucu ajan olarak pentilen glikol ve pH ayarlayici ajan olarak ise asetik asit ve sodyum asetat konjuge asit-baz çiftini içermektedir. Bulus kapsaminda gelistirilen kompozisyonun tercih edilen bir uygulamasinda koruyucu ajan olarak kullanilan pentilen glikol agirlikça % 1-1,5 oraninda kullanilmistir. Bulus kapsaminda gelistirilen kompozisyonun tercih edilen bir uygulamasinda koruyucu ajan olarak kullanilan pentilen glikol agirlikça % 1,5-2 oraninda kullanilmistir. Bulus kapsaminda gelistirilen kompozisyonun tercih edilen bir uygulamasinda koruyucu ajan olarak kullanilan pentilen glikol agirlikça % 2-2,5 oraninda kullanilmistir. Bulus kapsaminda gelistirilen kompozisyonun tercih edilen bir uygulamasinda koruyucu ajan olarak kullanilan pentilen glikol agirlikça % 2,5-3 oraninda kullanilmistir. Bulus konusu ayni zamanda bulusa konu kompozisyonun uygulandigi bir cilt ürünü ile ilgilidir. Bulus kapsaminda gelistirilen cilt ürünü tercihen islak mendildir. Bulusa konu cilt ürünü dokunmamis (non-woven) kumasa bulus konusu kompozisyonun uygulanmasi ile elde edilmektedir. Islak mendil kompozisyonlari hazirlandiktan sonra cilt ürününü elde etmek için dokunmamis kumaslar kompozisyon ile muamele edilmektedir. Boyutlari (en, boy) ve agirligi (g/m2) bilinen dokunmamis kumas üzerinden hesaplamalar yapilarak bir adet kuru mendilin agirligi tespit edilmektedir. Islatma faktörüne göre bir adet kuru mendile ne kadar kompozisyon transfer edilecegi belirlenmekte ve kuru ürünler uygun sartlarda bulus konusu kompozisyon ile islatilarak cilt ürünü elde edilmektedir. Bulus kapsaminda gelistirilen kompozisyon ve kompozisyonun uygulandigi cilt ürünü sayesinde cildin nem dengesi ve cilt bariyeri korunarak ve ayni zamanda pH degerinin stabil ve cilt pH'i ile uyumlu olmasi sayesinde cildin pH degerini yükseltmeden temizlenebilmesi saglanmis bununla birlikte düsük pH degerinde (3-4,5) mikroorganizmalara karsi etkinligi artan içerdigi koruyucu ajan sayesinde ilave bir koruyucu ajan ihtiva etmemesi nedeni ile mevcut ürünlerin cilt sagligi üzerindeki olumsuz etkileri de ortadan kaldirilmistir. TR TR TR