TR201820068T4 - Gümüş nanopartiküllerin dispersiyonları. - Google Patents

Gümüş nanopartiküllerin dispersiyonları. Download PDF

Info

Publication number
TR201820068T4
TR201820068T4 TR2018/20068T TR201820068T TR201820068T4 TR 201820068 T4 TR201820068 T4 TR 201820068T4 TR 2018/20068 T TR2018/20068 T TR 2018/20068T TR 201820068 T TR201820068 T TR 201820068T TR 201820068 T4 TR201820068 T4 TR 201820068T4
Authority
TR
Turkey
Prior art keywords
compound
weight
ethylene glycol
ether
dispersion
Prior art date
Application number
TR2018/20068T
Other languages
English (en)
Inventor
Dominique Kauffmann Louis
Delpont Nicolas
El Qacemi Virginie
Staelens Gregoire
Original Assignee
Genesink Sa
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Genesink Sa filed Critical Genesink Sa
Publication of TR201820068T4 publication Critical patent/TR201820068T4/tr

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/52—Electrically conductive inks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/03—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/03—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder
    • C09D11/033—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder characterised by the solvent
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/03—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder
    • C09D11/037—Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder characterised by the pigment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/02—Printing inks
    • C09D11/08—Printing inks based on natural resins
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/30—Inkjet printing inks
    • C09D11/36—Inkjet printing inks based on non-aqueous solvents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00—Inks
    • C09D11/30—Inkjet printing inks
    • C09D11/38—Inkjet printing inks characterised by non-macromolecular additives other than solvents, pigments or dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K23/00—Use of substances as emulsifying, wetting, dispersing, or foam-producing agents
    • C09K23/002—Inorganic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K23/00—Use of substances as emulsifying, wetting, dispersing, or foam-producing agents
    • C09K23/16—Amines or polyamines

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)

Abstract

Mevcut buluşun amacı gümüş nanopartiküllerin dispersiyonlarının ve söz konusu dispersiyonlar bazlı mürekkeplerin formülasyonlarıdır. Özellikle, mevcut buluş stabil olan ve yüksek gümüş nanopartikül konsantrasyonuna sahip dispersiyonlar ile ilgilidir.

Description

Tarifnamede daha önce gösterildigi üzere, bu karakteristik büyük ölçüde gümüs nanopartiküllerin bazi özelliklerinin (monodispersiyon, homojenlik, stabilite ve daha düsük sicaklikta temperleme) iyilestirilmesine olanak saglar. Bu yaklasim, nanopartiküllerin izolasyon adiminin kaldirilmasina olanak saglar, bu durum, üretim ve hijyen maliyetleri ve kisi emniyeti bakimindan pozitif bir etkiye sahiptir.
Mevcut bulusa göre bir « b» bilesigi dolayisiyla, bir siklooktan solventi ve/veya yag asidi metil ester türü bir solvent ve/veya hidrokarbonlar ve bunlarin aldehit türevleri, ketonlar ve/veya terpenik asitler arasindan seçilen bir terpenik solvent ve/veya söz konusu solventlerin ikisi veya daha fazlasinin bir karisimindan olusur.
Yag asidi metil ester türü bir solvent tercih edildigi üzere kisa hidrokarbonlanmis zincire sahiptir; örnegin bir zincir 4 ile 8 arasinda karbon atom içerir. Örnek olarak metil bütanoat, metil hekzanoat ve/veya metil oktanoat belirtilecektir.
Terpenik solvent tercih edildigi üzere monoterpen türündedir. Örnek olarak, hidrokarbürlerin yani sira bunlarin terpenik türevleri (aldehitler, ketonlar ve asitler), tercih edildigi üzere terpenik hidrokarbürler belirtilecektir. Örnek olarak limonen, menton, kamfor. mirsen, alfa-pinen ve/veya beta-pinen belirtilecektir.
Mevcut bulusa göre « c» (dagitici sentez ajani) ve « d » (dagitici ajan) bilesikleri dolayisiyla dagitici ajanlardan olusur, « d » dagitici ajanin kullanilan « c » ajanindan farkli olmasi ile karakterize edilir. Bu farklilik, farkli bir kimya ile gösterilir; tanimlayici olarak farkli bir karbonlanmis uzun zincir (örnegin zincir içinde en az iki karbon atoma yönelik bir fark) ve/veya karbonlanmis lineer zincire sahip olan ve digerinin olmadigi bir bilesik ve/veya karbonlanmis siklik zincire sahip olan ve digerinin olmadigi bir bilesik ve/veya karbonlanmis aromatik zincire sahip olan ve digerinin olmadigi bir bilesik belirtilecektir. Mevcut bulusun tercih edilen bir düzenlemesine göre, « c » bilesigi, « d » bilesiginin sahip oldugundan en az %20 fazla olan, örnegin en az %40 fazla olan bir moleküler kütleye ve/veya bir karbonlanmis zincir uzunluguna sahiptir.
Bu dagitici ajanlar avantajli olarak en az bir karbon atomu içeren organik dagitici ajanlarin ailesi arasindan seçilebilir. Bu organik dagitici ajanlar ayni zamanda halojenlenmis bir bilesik, nitrojen, oksijen, sülfür, silisyum gibi metalik olmayan bir veya daha fazla heteroatomu içerebilir.
Tanimlayici olarak, tiyoller ve bunlarin türevleri, aminler ve bunlarin türevleri (örnegin, amino alkoller ve amino alkol eterler), karboksilik asitler ve bunlarin karboksilat türevleri, polietilen glikoller ve/veya bunlarin karisimlari belirtilecektir.
Mevcut bulusun tercih edilen bir düzenlemesinde, «c» ve «d » organik dagitici ajanlar, örnegin, propilamin, bütilamin, pentilamin, hekzilamin, heptilamin, oktilamin, nonilamin, desilamin, undesilamin, dodesilamin, tridesilamin, tetradesilamin, hekzadesilamin, diaminopentan, diaminohekzan, diaminoheptan, diaminooktan, diaminononan, diaminodekan, dipropilamin, dibütilamin, dipentilamin, dihekzilamin, diheptilamin, dioktilamin, dinonilamin, didesilamin, metilpropilamin, etilpropilamin, propilbütilamin, entilbütilamin, etilpentilamin, propilpentilamin, bütilpentilamin, tribütilamin, trihekzilamin veya bunlarin karisimlari yoluyla olusturulan gruptan seçilecektir.
Mevcut bulusun tercih edilen bir düzenlemesine göre, « b» ve «d » bilesikleri, « c » bilesiginin varliginda halihazirda sentezlenmis gümüs nanopartiküllere yeniden eklenir.
Bu yeniden ekleme genel olarak mevcut tarifnamede açiklandigi üzere nanopartiküllerin yikanmasi/saflastirilmasina yönelik adimlardan sonra olur.
Mevcut bulusa göre nanopartiküllerin sentezine ve dispersiyonun hazirlanmasina yönelik özel bir örnek, asagidaki tanimlayici olarak açiklanir: Tolüen içinde gümüs asetati içeren bir reaktör içinde, dagitici sentez ajani (« c» bilesigi, örnegin dodesilamin) eklenir ve karisim, 65°C'de 30 dakikadan az karistirilir.
Hidrazin indirgen ajan akabinde hizli sekilde karisima eklenir ve tümü yaklasik 60 dakikalik karistirmaya birakilir. Karisim, metanolun (veya uygun olan herhangi bir diger solvent, örnegin 2 ila 3 karbon atoma sahip bir diger monohidrik alkol, örnegin etanol) eklenmesi ile muamele edilir ve üst faz, ardisik üç defa yikama sirasinda elimine edilir (böylelikle olusan gümüs nanopartiküller dolayisiyla, dispersiyon halinde ve likit ile temas halinde, bu durumda metanol ile temas halinde kalir). Siklooktan solventi (« b » bilesigi) eklenir ve kalinti metanol buharlastirilir. « d » bilesigi (kullanilan « b» bilesiginden farkli bir dagitici ajan; örnegin bir oktilamin) akabinde eklenir ve karisim 15 dakika boyunca ortam sicakliginda karistirilir. Böylelikle elde edilen gümüs nanopartiküllerin dispersiyonlari iletken mürekkeplerin formülasyonuna yönelik dogrudan kullanilir.
Mevcut bulusun tercih edilen bir düzenlemesine göre, kullanilan nanopartikülle, tercih edildigi üzere 2 ile 12 nm arasinda bulunan D50 degerleri (örnegin asagida açiklanan yöntem araciligiyla ölçülebilir) ile karakterize edilir.
Solvent varliginda sentezlenen nanopartiküllere yönelik, tercih edilen D5O araligi, 2 ile 8 nm arasinda olacaktir; solvent yoklugunda sentezlenen nanopartiküllere yönelik, tercih edilen D50 araligi 5 ile 12 nm arasinda olacaktir.
Böylelikle elde edilen dispersiyon dogrudan kullanilabilecektir veya örnegin bir mürekkebin içine dahil edilmesinden önce istenilen özellikleri elde etmek amaciyla seyreltilebilecektir. Bununla birlikte ve bu durum, mevcut bulusa göre dispersiyonlara yönelik önemli bir avantaji temsil eder, söz konusu dispersiyonlar, örneklerde gösterildigi üzere bir üst stabilite (seyreltmeden önce) ile karakterize edilir.
Mevcut bulusun bir düzenlemesine göre, gümüs nanopartiküllerin dispersiyonu asagidaki unsurlari içerir . agirlikça %30'dan fazla, tercih edildigi üzere agirlikça %35'ten fazla, örnegin agirlikça %40'tan fazla bir içerikte bir « a » bilesigi, . agirlikça %20 ile 65 arasinda, tercih edildigi üzere agirlikça %40 ile 60 arasinda bulunan bir içerikte bir « b » bilesigi, . agirlikça %3 ile 15 arasinda, tercih edildigi üzere agirlikça %3 ile 10 arasinda bulunan bir içerikte bir « c » bilesigi ve - agirlikça %0,1 ile 15 arasinda, tercih edildigi üzere agirlikça %0,4 ile 5 arasinda bulunan bir içerikte bir « d » bilesigidir.
Mevcut bulusun bir düzenlemesine göre, gümüs nanopartiküllerin dispersiyonu ayni zamanda aralarindan örnek olarak solventlerin (örnegin eterler, alkoller, esterler) ve/veya katki maddelerinin (örnegin polimerler) belirtilecegi ilave bilesikler, bunun bilesimi içine entegre edilebilir, bunun amaci örnegin, nanopartiküllerin dispersiyonunun iyilestirilmesi olabilir. Bununla birlikte, « a », « b », « c » ve « d » bilesikleri (yukarida belirtilen oran araliklarindadir) tercih edildigi üzere nihai dispersiyonun agirlikça en az %55'ini, tercih edildigi üzere agirlikça en az %75'ini, örnegin agirlikça en az %90'ini, agirlikça en az %95'ini, agirlikça en az %99'unu veya hatta nihai dispersiyonun agirlikça %100'ünü olusturacaktir.
Mevcut bulusun bir düzenlemesine göre, gümüs nanopartiküllerin dispersiyonu bilesimi içine su entegre etmez. Bununla birlikte, dispersiyon bilesenlerinin saflik derecelerine göre su izlerini tolere edebilmesinden dolayi, karsilik gelen bu su izlerinin toplaminin, mevcut bulusa göre gümüs nanopartiküllerin dispersiyonlari içinde kabul edilebilir olacagi dogaldir. Böylelikle, nihai dispersiyon içindeki su içerigi, genel olarak temelde bunun hazirlanmasina yönelik kullanilan solventlerin su içerigine baglidir; monohidrik alkol (yukarida bulusun düzenleme örnegindeki dispersiyonun yikama metanolü) bu amaçla dispersiyonun nihai su içerigi üzerinde daha büyük - dispersiyonun hazirlanmasi sirasinda kullanilan diger solventler ile kiyaslama ile - bir etkiye sahip olacaktir. Mevcut bulusun özel bir düzenlemesine göre, gümüs nanopartikül dispersiyonlari, agirlikça %2'den az, tercih edildigi üzere agirlikça %1'den az, örnegin agirlikça %0,5'ten az veya hatta agirlikça %O,2'den az su konsantrasyonlarini içerir.
Mevcut bulusun tercih edilen bir düzenlemesine göre, dispersiyonun formülasyon/hazirlama bilesikleri içinde muhtemelen mevcut su izleri hariç olmak üzere, gümüs nanopartiküllerinin dispersiyonlarinin formülasyonu sirasinda su eklenmez.
Mevcut bulusa göre mürekkep içinde mevcut olan «e » bilesigi, dolayisiyla kullanilan farkli bir solventten olusur.
Bu « e » solvent bilesigi tercih edildigi üzere, kullanilan dispersiyon solventinden daha yüksek bir kutupluluk ve/veya 260°C`den az bir kaynama noktasi ile karakterize edilir.
Bu tercih edildigi üzere alkollerin ve/veya alkol türevlerinin (örnegin glikol eterlerin) kategorisine aittir. Örnek olarak monohidrik alkoller (örnegin, izopropanol, bütanol, pentanol, hekzanol,...) ve/veya glikoller (örnegin etilen glikol, propilen glikol, dietilen glikol...) ve/veya glikol eterler (örnegin, aralarindan örnek olarak etilen glikol propil eter, etilen glikol bütil eter, etilen glikol fenil eter, di etilen glikol metil eter. di etilen glikol etil eter, di etilen glikol propil eter, di etilen glikol bütil eter, propilen glikol metil eter, propilen glikol bütil eter, propilen glikol propil eter, etilen glikol di-metil eter, etilen glikol di-etil eter, etilen glikol di-bütil eter, glimler, di etilen-glikol di etil eter, di bütilen-glikol di etil eter, diglimler, etil diglim, bütil diglimin belirtilecegi glikol mono- veya dieterler) ve/veya glikol eter asetatlari (örnegin 2-Büt0ksietil asetat, di etilen glikol monoetil eter asetat, di etilen glikol bütileter asetat, propilen glikol metil eter asetat) ve/veya önceden belirtilen söz konusu solventlerin iki veya daha fazlasinin bir karisimi belirtilecektir.
Mevcut bulusa göre istege bagli «f» bilesigi dolayisiyla bir reoloji modifikatör ajanindan olusturulur. Örnek olarak, alkiI-selüloz, tercih edildigi üzere etilselüloz, nitro- selülozlar, alkit ve akrilik reçineler ve modifiye edilmis üreler, tercih edildigi üzere poliüreler ve/veya bunlarin karisimlari belirtilecektir.
Mevcut bulusun özel bir düzenlemesine göre, mürekkep bilesimleri ayni zamanda « X » solventi olarak adlandirilan ve avantajli olarak nanopartikül sentez solventlerinin ve/veya önceden belirtilen «b» dispersiyon solventlerinin biri veya daha fazlasi ve/veya söz konusu solventlerin Ikisi veya daha fazlasinin bir karisimi arasindan seçilebilecek olan ilave bir solventi içerebilir. Bu ilave solventin (solventlerin) kullanimi özellikle, «f » bilesiginin uygulanmasina yönelik, ikincisi mevcut bulusa göre mürekkep bilesimi içinde kullanildiginda avantajlidir. Mevcut bulusa göre özel bir düzenlemeye göre, « X » solventi, kullanilan « b » solventine özdestir.
Mevcut bulusa göre mürekkebin hazirlanmasina yönelik özel bir düzenleme, burada tanimlayici olarak açiklanir: «e» ve «X» (bütanol ve siklooktan) solventinin bir karisimini içeren bir reaktör içine, poliüre türü bir reoloji modifikatör ajani (« f» bilesigi) karistirma altinda ve ortam sicakliginda eklenir. Dispersiyondaki gümüs nanopartiküllerin solüsyonu (« a », « b », « c » ve « d » bilesiklerinin karisimi) eklenir ve tümü 15 dakika boyunca ortam sicakliginda karistirilir.
Mevcut bulusun özel bir düzenlemesine göre, mevcut bulusa göre formüle edilen mürekkepler, agirlikça %Goitan az olan, tercih edildigi üzere %5 ile 45 arasinda ve daha özel olarak agirlikça %10 ile 40 arasinda bir nanopartikül içerigini (« a » bilesigi) Mevcut bulusun bir düzenlemesine göre, gümüs mürekkep asagidaki unsurlari içerir Agirlikça %60`tan az veya buna esit ve tercih edildigi üzere agirlikça %5'ten fazla, tercih edildigi üzere agirlikça %10'dan fazla, örnegin agirlikça %20'den fazla ve hatta agirlikça %40'tan fazla bir içerikte, mevcut bulus ile uyumlu bir dispersiyon (« 3 »l « b », « C» ve « d » bilesikler ile), . agirlikça %1 ile 40 arasinda, tercih edildigi üzere agirlikça %15 ile 30 arasinda bulunan bir içerikte bir « e » bilesigi, o agirlikça %20'den az, tercih edildigi üzere agirlikça %0,1 ile 2 arasinda bulunan bir içerikte istege bagli bir « f» bilesigi ve . agirlikça %60'dan az, tercih edildigi üzere agirlikça %40'tan az ve tercih edildigi sekilde agirlikça %'ten fazla, örnegin agirlikça %15'ten fazla bir Içerikte istege bagli bir « X» bilesigidir.
Mevcut bulusun bir düzenlemesine göre, mürekkep ayni zamanda aralarindan örnek olarak katki maddelerinin (örnegin, silan ailesinden bir katki maddesi) belirtilecegi diger bilesikleri, bunun bilesimi içine entegre edebilir, bunun amaci, örnegin farkli türde mekanik gerilime dayaniminin, örnegin çok sayida substrat üzerine yapismanin iyilestirebilmektir; örnek olarak bu substratlar belirtilebilecektir: polimit, polikarbonat, polietertetftalat (PET), polietilen naftalat (PEN), poliarileterketon, polyester, termostabilize edilmis polyester, cam, ITO cam, AZI cam, SiN cam.
Bununla birlikte, « a », « b », « c », « d », « e », « f » ve « X » bilesikleri (yukarida belirtilen oran araliklarindadir) tercih edildigi üzere nihai mürekkebin agirlikça en az agirlikça en az %95'ini, agirlikça en az %99'unu veya hatta nihai mürekkebin agirlikça Mevcut bulusun bir düzenlemesine göre, mürekkep bilesimi içine su entegre etmez.
Bununla birlikte, mürekkep bilesenlerinin saflik derecelerine göre su izlerini tolere edebilmesinden dolayi, karsilik gelen bu su izlerinin toplaminin, mevcut bulusa göre mürekkep içinde kabul edilebilir olacagi dogaldir. Böylelikle, nihai mürekkep içindeki su içerigi, genel olarak temelde bunun hazirlanmasina yönelik kullanilan solventlerin su içerigine baglidir; monohidrik alkol (yukarida bulusun düzenleme örnegindeki dispersiyonun yikama metanolü) bu amaçla mürekkebin nihai su içerigi üzerinde daha büyük - mürekkebin hazirlanmasi sirasinda kullanilan diger solventler ile kiyaslama ile - bir etkiye sahip olacaktir. Mevcut bulusun özel bir düzenlemesine göre, mürekkepler, agirlikça %2'den az, tercih edildigi üzere agirlikça %1'den az, örnegin agirlikça Mevcut bulusun tercih edilen bir düzenlemesine göre, mürekkebin formülasyon/hazirlama bilesikleri içinde muhtemelen mevcut su izleri hariç olmak üzere, mürekkeplerin formülasyonu sirasinda su eklenmez.
Mevcut bulusun bir düzenlemesine göre, mevcut bulusa göre nanopartiküllerin dispersiyonunun hazirlanmasi, asagidaki adimlar ile karakterize edilir: a. bir gümüs öncül maddenin bir indirgen ajani araciligiyla indirgeme yoluyla dagitici ajanin (« c » bilesigi) varliginda gümüs nanopartiküllerin sentezi; b. adimda (« a ») elde edilen nanopartiküllerin yikanmasi/saflastirilmasi, c. « b » bilesiginin ve « d » bilesiginin eklenmesidir.
Mevcut bulusun tercih edilen bir düzenlemesine göre, bir likit faz, bu hazirlama adimlarinin tümü sirasinda daima mevcuttur. Diger bir deyisle, mevcut bulusa göre tercih edilen bir karakteristik, gümüs nanopartiküllerin asla izole edilmemesi ve kurutulmamasindan olusur; bunlar, dolayisiyla tercih edildigi üzere daima bir likit faz (Örnegin bir solvent) ile temas halinde kalir, burada bunlar dagitilir.
Mevcut bulusun tercih edilen bir düzenlemesine göre, adim (« a ») sirasinda, indirgen ajanin eklenmesi, örnegin bunun reaksiyonel ortam içine dogrudan uygulanan bir piston araciligiyla alt düzeyde gerçeklesmesi karakteristigi ile adapte edilen herhangi bir kap (örnegin bir reaktör) içinde gerçeklesir.
Mevcut bulusa göre dispersiyonun ilave bir avantaji, bunun hazirlanmasinin Sinirlayici olmayan basinç ve/veya sicaklik kosullarinda, örnegin normal veya ortam kosullarina yakin olan basinç ve/veya sicaklik kosullarinda gerçeklestirilebilmesidir. Normal veya ortam basinç kosullarinin %40`indan azinda kalinmasi tercih edilir ve sicaklik ile ilgili olarak, ikincisi genel olarak 80°C'den az, tercih edildigi üzere 70°C'den azdir. Örnegin, Basvuru sahibi, dispersiyonun hazirlanmasi boyunca basinç kosullarinin, normal veya ortam basinç kosullarinin degerlerinin, tercih edildigi üzere atmosfer basincinin yakininda maksimum %30, tercih edildigi üzere %15 arasinda degilen degerlerde muhafaza edilmesinin tercih edildigini bulmustur. Bu basinç ve/veya sicaklik kosullarina yönelik bir kontrol dolayisiyla avantajli olarak bu kosullari karsilayacak sekilde dispersiyonun hazirlanmasina yönelik cihaz içine dahil edilebilir.
Sinirlayici olmayan kosullarda dispersiyonun hazirlanmasina bagli olan bu avantaj ayni zamanda söz konusu dispersiyonlara yönelik kolaylastirilmis bir kullanim ile ifade edilebilir.
Mevcut bulusun bir düzenlemesine göre, mevcut bulusa göre nanopartiküller bazli mürekkebin hazirlanmasi, asagidaki ardisik adimlar ile karakterize edilir: a. bir kap içine « e » bilesiginin uygulanmasi ve b. mevcut bulusa göre dispersiyonun söz konusu kap içine eklenmesidir.
Böylelikle elde edilen mürekkep dogrudan kullanilabilecektir veya istenen özellikleri elde etmek amaciyla seyreltilebilecektir.
Mevcut bulusun özel bir düzenlemesine göre, bir reoloji modifikatör ajani (« f » bilesigi) mürekkep bilesiminin içinde kullanildiginda, söz konusu mürekkep formülasyonlari tercih edildigi üzere bir ilave solventi («X » solventi) içerir. Bu özel düzenlemede, mevcut bulusa göre nanopartiküller bazli mürekkebin hazirlanmasi, asagidaki ardisik adimlar ile karakterize edilir: a. « f» bilesiginin, «e » ve « X» bilesiklerinin bir karisimi içine uygulanmasi ve b. mevcut bulusa göre dispersiyonun eklenmesidir.
Mevcut bulusa göre mürekkebin ilave bir avantaji, bunun hazirlanmasinin sinirlayici olmayan basinç ve/veya sicaklik kosullarinda, örnegin normal veya ortam kosullarina yakin veya özdes olan basinç ve/veya sicaklik kosullarinda gerçeklestirilebilmesidir.
Normal veya ortam basinç ve/veya sicaklik kosullarinin %40'indan azinda kalinmasi tercih edilir. Örnegin, Basvuru sahibi mürekkebin hazirlanmasi boyunca basinç ve/veya sicaklik kosullarinin, normal veya ortam kosullarinin degerlerinin yakininda maksimum edildigini bulmustur. Bu basinç ve/veya sicaklik kosullarina yönelik bir kontrol dolayisiyla avantajli olarak bu kosullari karsilayacak sekilde mürekkebin hazirlanmasina yönelik cihaz içine dahil edilebilir. Sinirlayici olmayan kosullarda mürekkebin hazirlanmasina bagli olan bu avantaj ayni zamanda söz konusu mürekkeplere yönelik kolaylastirilmis bir kullanim ile ifade edilebilir.
Mevcut bulusun bir düzenlemesine göre, mürekkep avantajli olarak herhangi bir baski yöntemde, özellikle mürekkep püskürtme, sprey, serigrafi, fleksografi, siyirmali, döndürmeli kaplama ve yarikli kalip kaplamada kullanilabilir.
Teknikte uzman kisiye yönelik dolayisiyla, mevcut bulusun, istemlerde belirtildigi üzere uygulama sahasindan uzaklasmaksizin çok sayidaki diger spesifik formda düzenlemelere olanak sagladigi anlasilirdir. Sonuç olarak, mevcut düzenlemeler, tanimlayici olarak göz önünde bulundurulmalidir ancak ekli istemlerin kapsami ile tanimlanan sahada modifiye edilebilir.
Mevcut bulus ve bunun avantajlari bu noktada, asagidaki tabloda verilen formülasyonlar araciligiyla gösterilecektir. Dispersiyon sentezi (sentez solventi - tolüenin varliginda) ve mürekkep formülasyonlari, tarifnamede yukarida açiklanan tercih edilen düzenlemeler ile uyumlu olarak hazirlanmistir. Kullanilan kimyasal bilesikler, tablonun ikinci kolonunda belirtilir.
Mevcut bulusta belirtildigi üzere mürekkebin karesi basina direnç, uygun olan herhangi bir yönteme göre ölçülebilecektir. Tabloda verilen ölçümlere karsilik gelen örnek yoluyla, bu avantajli olarak asagidaki yönteme göre ölçülebilir: Bir substrat üzerine döndürmeli kaplama cihazi yoluyla biriktirilen bir mürekkep (600 tur dakika / 3 dakika - örnegin cam) bir isitma plakasi veya bir firin araciligiyla temperlemeye tabi tutulur. Kare basina dirence yönelik bir analiz, asagidaki kosullarda gerçeklestirilir: Aparatin referansi: 8302 Resistivity Stand 4 noktali tepe referansi: SP4-40045TFY Akim kaynagi referansi: Agilent U8001A Multimetre referansi: Agilent U3400 Ölçüm sicakligi: ortam sicakligi Gerilim/direnç çevirme katsayisi: 4,5324 . Örnek 1 (asagidaki tablonun formülasyon 1'i): Poliimid veya polyester üzerine 1,3 um olan bir kalinliga yönelik 50 mohms/kare - 150°C/30 dakika.
Mevcut bulusn bir düzenlemesine göre, Basvuru sahibi mevcut bulus ile uyumlu olarak elde edilen mürekkeplerin karesi basina direnç degerlerinin (yukarida açiklandigi üzere ölçülmüstür) tercih edildigi üzere 1 umtden fazla veya buna esit kalinliklara yönelik 100 mohms/kareden az oldugunu bulmustur (temperleme sicakligi 150°C'dir). Kare busa dirence yönelik bu özel özellikle mevcut bulusun mürekkeplerine, 200°C'den az olan temperleme sicakliklarina yönelik ve daha özel olarak 150°C'den az veya buna esit olan temperleme sicakliklarina (örnekte ve ölçümde gösterildigi üzere) yönelik iyilestirilmis ibr iletkenlik saglar.
Mevcut bulusta belirtildigi üzere gümüs nanopartiküller içerigi, uygun olan herhangi bir ölçüme göre ölçülebilecektir. Tabloda verilen ölçümlere karsilik gelen örnek yoluyla, bu avantajli olarak asagidaki yönteme göre ölçülebilir: Termogravimetrik analiz Aparat: TA lnstrument tarafindan TGA Q50 Kröze: Alümin Yöntem: rampa Ölçüm araligi: 600°C'de ortam sicakligi Sicaklik artisi: 10°C/dakika Mevcut bulusta belirtildigi üzere gümüs nanopartiküllerin boyunun dagilimi (DSO dispersiyonda), uygun olan herhangi bir yönteme göre ölçülebilecektir. Örnek yoluyla, bu avantajli olarak bu yönteme göre ölçülebilir: asagidaki karakteristikler ile Malvern tarafindan Nanosizer S türü bir aparatin kullanilmasi: DLS (Dynamic light scattering) ölçüm yöntemi: - Tank türü: optik cam - Materyal: Ag - Nanopartiküllerin kirilma indeksi: 0,54 - Absorpsiyon: 0,001 - Dagitici: Siklooktan - Sicaklik: 20 °C - Viskozite: 2.133 - Dagitici kirilma indeksi: 1,458 - Analiz Modeli: Genel amaçli - Dengeleme: 120 saniye - Ölçüm sayisi: 4 Sekiller 1 ve 2 sirasiyla sentez solventi ile (sekil 1) ve sentez solventi olmaksizin (sekil 2) mevcut bulusa göre nanopartiküllerin sentezi sirasinda elde edilen DLS (Dynamic light scattering) spektrumuna yönelik genel örnegin temsili niteligindedir. Burada gümüs nanopartiküllerin boyunun (nm bakimindan) sayisi bakimindan granülometrik spektrumlar görülebilir.
Sekil 1 - D50: 5,6 nm Sekil 2 - D50: 8,0 nm Dso buna yönelik gümüs nanopartiküllerin sayisinin %50'sinin daha küçük oldugu çaptir. Bu deger tanelerin ortalama boyunun temsili niteliginde olarak göz önünde bulundurulur.
Mevcut bulusta belirtildigi üzere mürekkebin viskozitesi, uygun olan herhangi bir yönteme göre ölçülebilecektir. Örnek yoluyla, bu avantajli olarak asagidaki yönteme göre ölçülebilir: Aparat: TA lnstrument tarafindan AR-G2 Reometre Kosullandirma süresi: Formülasyonlar 1, 2 ve 3'e yönelik 1 dakika ve formülasyon 4'e yönelik 30 dakika Test türü: Sürekli rampa Rampa: Kesme hizi (1/saniye) 0,001 ila 40 (1/saniye) Süre: 5 dakika Mod: lineer Ölçüm: her 10 saniye Sicaklik: 20°C Egri yeniden isleme yöntemi: Newton Yeniden islenen bölge: tüm egri Bilesen ürün adi Dispersiyon F1 F2 F3 F4 dibutil eler .Analiz i Sayiya göre partiküllerin boyunun dagilimi (9-23) Partiküllerin boyu (çap` nm) Sayiya göre partikülleri'n boyunun dagilimi (%) Paniküllerin boyu (çap` nm)

Claims (1)

  1. ISTEMLER . Gümüs nanopartiküller bazli dispersiyon olup, özelligi bunun bilesiminin en az asagidaki unsurlari içermesidir: a. gümüs nanopartiküllerden olusan bir « a » bilesigi, b. bir siklooktan solventi ve/veya yag asidi metil ester türü bir solvent ve/veya hidrokarbonlar ve bunlarin aldehit türevleri, ketonlar ve/veya terpenik asitler arasindan seçilen bir terpenik solvent ve/veya söz konusu solventlerin ikisi veya daha fazlasinin bir karisimindan olusan bir bir dagitici ajandan olusan bir « c » bilesigi ve d. kullanilan « c» bilesiginden farkli olan bir dagitici ajandan olusan bir 2. Önceki isteme göre dispersiyon olup, özelligi «c» ve «d » organik dagitici ajanlarin aminler, tercih edildigi üzere, propilamin, bütilamin, pentilamin, hekzilamin, heptilamin, oktilamin, nonilamin, desilamin, undesilamin, dodesilamin, tridesilamin, tetradesilamin, hekzadesilamin, diaminopentan, diaminohekzan, diaminoheptan, diaminooktan, diaminononan, diaminodekan, dipropilamin, dibütilamin, dipentilamin, dihekzilamin, diheptilamin, dioktilamin, dinonilamin, didesilamin, metilpropilamin, etilpropilamin, propilbütilamin, entilbütilamin, etilpentilamin, propilpentilamin, bütilpentilamin, tribütilamin, trihekzilamin veya bu bilesiklerin ikisi veya daha fazlasinin bir karisimi yoluyla olusturulan gruptan seçilen aminler olmasi ile karakterize edilmesidir. . Önceki istemlerden herhangi birine göre dispersiyon olup, özelligi bunun asagidaki unsurlari içermesi ile karakterize edilmesidir: . agirlikça %30'dan fazla, tercih edildigi üzere agirlikça %35'ten fazla, örnegin agirlikça %40'tan fazla bir içerikte « a » bilesigi, o agirlikça %20 ile 65 arasinda, tercih edildigi üzere agirlikça %40 ile 60 arasinda bulunan bir içerikte « b » bilesigi, o agirlikça %3 ile 15 arasinda, tercih edildigi üzere agirlikça %3 ile 10 arasinda bulunan bir içerikte « c » bilesigi ve o agirlikça %0,1 ile 15 arasinda, tercih edildigi üzere agirlikça %0,4 ile 5 arasinda bulunan bir içerikte « d » bilesigidir. . Önceki istemlerden herhangi birine göre dispersiyon olup, özelligi gümüs nanopartiküllerin, bir sentez solventi varliginda bir gümüs öncül maddenin indirgenmesi yoluyla kimyasal yol ile sentezlenmesi ile ve kullanilan sentez solventinin, kullanilan « b» bilesiginden farkli olmasi ile karakterize edilmesidir. . Önceki istemlerden herhangi birine göre dispersiyon olup, özelligi « 3 »l « b », « c » ve « d » bilesiklerinin, nihai dispersiyonun agirlikça en az %55'ini, tercih edildigi üzere agirlikça en az %75'ini, örnegin agirlikça en az %90`ini, agirlikça en az %95'ini, agirlikça en az %99'unu veya hatta nihai dispersiyonun agirlikça . Önceki istemlerden herhangi birine göre dispersiyon olup, özelligi bunun agirlikça %Z'den az, tercih edildigi üzere agirlikça %1'den az, örnegin agirlikça karakterize edilmesidir. . Gümüs nanopartiküller bazli mürekkep olup, özelligi bunun bilesiminin en az asagidaki unsurlari içermesidir a. istemler 1 ila 6'dan herhangi birine göre bir dispersiyon, b. kullanilan « b» bilesiginden farkli bir solventten olusan bir « e » bilesigi 0. bir reoloji modifikatör ajanindan olusan istege bagli bir « f» bilesigidir. . Önceki isteme göre mürekkep olup, özelligi bunun 2 ile 20 mPa.s arasinda bulunan bir viskozite ile karakterize edilmesidir. . Istemler 7 ve 8'den herhangi birine göre mürekkep olup, özelligi «e» bilesiginin, bir alkol, tercih edildigi üzere monohidrik alkoller (örnegin, izopropanol, bütanol, pentanol, hekzanol,...) ve/veya glikoller (örnegin etilen glikol, propilen glikol, dietilen glikol...) ve/veya glikol eterler (örnegin, aralarindan örnek olarak etilen glikol propil eter, etilen glikol bütil eter, etilen glikol fenil eter, di etilen glikol metil eter, di etilen glikol etil eter, di etilen glikol propil eter, di etilen glikol bütil eter, propilen glikol metil eter, propilen glikol bütil eter. propilen glikol propil eter, etilen glikol di-metil eter, etilen glikol di-etil eter, etilen glikol di- bütil eter, glimler, di etilen-glikol di etil eter, di bütilen-glikol di etil eter, diglimler, etil diglim, bütil diglimin belirtilecegi glikol mono- veya dieterler) ve/veya glikol eter asetatlari (örnegin 2-Büt0ksietil asetat, di etilen glikol monoetil eter asetat, di etilen glikol bütileter asetat, propilen glikol metil eter asetat) ve/veya söz konusu solventlerin iki veya daha fazlasinin bir karisimindan olusturulan gruptan seçilen bir alkol olmasi ile karakterize edilmesidir. 10. Istemler 7 ila 9'dan herhangi birine göre mürekkep olup, özelligi « f» bilesiginin (reoloji modifikatör ajani) mevcut olmasi ve alkiI-selüloz, tercih edildigi üzere etil selüloz, nitro-selülozlar, alkit ve akrilik reçineler ve modifiye üreler, tercih edildigi üzere poliüreler ve/veya bunlarin karisimlari arasindan seçilmesi ile karakterize edilmesidir. 11. Istemler 7 ila 10'dan herhangi birine göre mürekkep olup, özelligi bunun bir ilave solventi, « b » bilesigine tercih edildigi üzere özdes olan « X » bilesigini içermesi ile karakterize edilmesidir. 12. Istemler 7 ila 11'den herhangi birine göre mürekkep olup, özelligi bunun asagidaki unsurlari içermesi ile karakterize edilmesidir o agirlikça %60`tan az veya buna esit ve tercih edildigi üzere agirlikça agirlikça %20`den fazla bir içerikte, istemler 1 ila 6'dan herhangi birine göre dispersiyon o agirlikça %1 ile 40 arasinda, tercih edildigi üzere agirlikça %15 ile 30 arasinda bulunan bir içerikte « e » bilesigi, o agirlikça %20'den az, tercih edildigi üzere agirlikça %0,1 ile 2 arasinda bulunan bir içerikte istege bagli « f» bilesigi ve o agirlikça %60'dan az, tercih edildigi üzere agirlikça %40ltan az ve tercih edildigi sekilde agirlikça %5'ten fazla, örnegin agirlikça %15'ten fazla bir içerikte istege bagli « X » bilesigidir. 13. Istemler 7 ila 12'den herhangi birine göre mürekkep olup, özelligi « a », « b », « c », « d », « e », « f» ve « X » bilesiklerinin, nihai mürekkebin agirlikça en az mürekkebin agirlikça en az %100'ünü olusturmasi ile karakterize edilmesidir. Istemler 7 ila 13'ten herhangi birine göre mürekkep olup, özelligi bunun agirlikça az veya hatta agirlikça %O,2'den az bir su içerigini içermesi ile karakterize edilmesidir. Istemler 1 ila 6'dan herhangi birine göre nanopartiküllerin dispersiyonunun hazirlanmasina yönelik proses olup, özelligi asagidaki adimlar ile: a. bir gümüs öncül maddenin bir indirgen ajani araciligiyla indirgeme yoluyla dagitici ajanin (« c » bilesigi) varliginda gümüs nanopartiküllerin sentezi; b. adimda (« a ») elde edilen nanopartiküllerin yikanmasi/saflastiriImasi, c. « b » bilesiginin ve « d » bilesiginin eklenmesidir ve bir likit fazin, bu hazirlama adimlari boyunca daima mevcut olmasi ile karakterize edilmesidir. Istemler 7 ila 14”ten herhangi birine göre mürekkebin hazirlanmasina yönelik proses olup, özelligi dispersiyonun istem 15'e göre hazirlanmis olmasi ile karakterize edilmesidir.
TR2018/20068T 2013-11-27 2014-11-24 Gümüş nanopartiküllerin dispersiyonları. TR201820068T4 (tr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1302744A FR3013607B1 (fr) 2013-11-27 2013-11-27 Composition d'encre a base de nanoparticules

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TR201820068T4 true TR201820068T4 (tr) 2019-01-21

Family

ID=50424312

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TR2018/20068T TR201820068T4 (tr) 2013-11-27 2014-11-24 Gümüş nanopartiküllerin dispersiyonları.

Country Status (13)

Country Link
US (1) US20160289478A1 (tr)
EP (1) EP3074472B1 (tr)
JP (1) JP2017505510A (tr)
KR (1) KR20160090861A (tr)
CN (1) CN105793366A (tr)
CA (1) CA2929484A1 (tr)
DK (1) DK3074472T3 (tr)
ES (1) ES2699786T3 (tr)
FR (1) FR3013607B1 (tr)
IL (1) IL245830A0 (tr)
TR (1) TR201820068T4 (tr)
TW (1) TW201529759A (tr)
WO (1) WO2015078819A1 (tr)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108884346A (zh) * 2016-04-04 2018-11-23 株式会社大赛璐 网版印刷用油墨
US10982107B2 (en) * 2018-07-24 2021-04-20 Xerox Corporation Metal nanoparticle ink composition
FR3090002B1 (fr) 2018-12-13 2021-02-12 Genesink Encre à base de nanoparticules d’argent

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008527169A (ja) * 2005-01-10 2008-07-24 イシウム リサーチ デベロップメント カンパニー オブ ザ ヘブリュー ユニバーシティー オブ イエルサレム 金属ナノ粒子の水系分散物
US8383014B2 (en) * 2010-06-15 2013-02-26 Cabot Corporation Metal nanoparticle compositions
US7715970B2 (en) * 2005-12-27 2010-05-11 Mack Trucks, Inc. Fifth wheel slide interlock
JP4938851B2 (ja) * 2006-09-01 2012-05-23 テレフオンアクチーボラゲット エル エム エリクソン（パブル） 電子装置の湿度を制御する装置および方法
JP2009127056A (ja) * 2007-11-19 2009-06-11 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 錫微粒子分散液及びその製造方法
US8506849B2 (en) * 2008-03-05 2013-08-13 Applied Nanotech Holdings, Inc. Additives and modifiers for solvent- and water-based metallic conductive inks
JP2009238625A (ja) * 2008-03-27 2009-10-15 Mitsuboshi Belting Ltd 金属ナノ粒子ペースト及びパターン形成方法
DE102008023882A1 (de) * 2008-05-16 2009-11-19 Bayer Materialscience Ag Druckbare Zusammensetzung auf Basis von Silberpartikeln zur Erzeugung elektrisch leitfähiger Beschichtungen
US8361350B2 (en) * 2008-12-10 2013-01-29 Xerox Corporation Silver nanoparticle ink composition
KR101207363B1 (ko) * 2009-03-04 2012-12-04 엘에스전선 주식회사 나노미터 두께의 금속 마이크로판을 함유하는 전도성 페이스트용 조성물
US9005484B2 (en) * 2009-03-31 2015-04-14 Xerox Corporation Low polarity nano silver gels
US8558117B2 (en) * 2010-02-13 2013-10-15 Aculon, Inc. Electroconductive inks made with metallic nanoparticles
US20120023220A1 (en) * 2010-07-21 2012-01-26 Chih-Ming Ma Automatic testing system of dynamic host configuration protocol server
GB2486190A (en) * 2010-12-06 2012-06-13 P V Nano Cell Ltd Concentrated dispersion of nanometric silver particles
JP5693253B2 (ja) * 2011-01-17 2015-04-01 ナミックス株式会社 導電性組成物及び導電膜
US8324294B2 (en) * 2011-03-07 2012-12-04 Xerox Corporation Solvent-based inks comprising silver nanoparticles
JP2012207049A (ja) * 2011-03-11 2012-10-25 Bando Chemical Industries Ltd コロイド分散液
SG186506A1 (en) * 2011-06-17 2013-01-30 Bayer South East Asia Pte Ltd Electrically conductive printable composition
JP6001861B2 (ja) * 2012-01-11 2016-10-05 株式会社ダイセル 銀ナノ粒子の製造方法及び銀ナノ粒子、並びに銀塗料組成物
JP6099472B2 (ja) * 2013-04-26 2017-03-22 Ｄｏｗａエレクトロニクス株式会社 金属ナノ粒子分散体、金属ナノ粒子分散体の製造方法および接合方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160090861A (ko) 2016-08-01
CA2929484A1 (en) 2015-06-04
EP3074472B1 (fr) 2018-10-03
WO2015078819A1 (fr) 2015-06-04
FR3013607B1 (fr) 2016-04-29
CN105793366A (zh) 2016-07-20
ES2699786T3 (es) 2019-02-12
JP2017505510A (ja) 2017-02-16
IL245830A0 (en) 2016-07-31
TW201529759A (zh) 2015-08-01
FR3013607A1 (fr) 2015-05-29
DK3074472T3 (en) 2019-01-21
EP3074472A1 (fr) 2016-10-05
US20160289478A1 (en) 2016-10-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Golru et al. Studying the influence of nano-Al2O3 particles on the corrosion performance and hydrolytic degradation resistance of an epoxy/polyamide coating on AA-1050
JP2010242118A (ja) 銅薄膜形成用組成物および該組成物を用いた銅薄膜の製造方法
JPWO2017175661A1 (ja) スクリーン印刷用インク
TR201820068T4 (tr) Gümüş nanopartiküllerin dispersiyonları.
DE102004037045A1 (de) Wässrige Silan-Nanokomposite
JP2008280405A (ja) アルミニウム顔料およびその製造方法ならびに該アルミニウム顔料を含む水性メタリック塗料組成物
US10329446B2 (en) Ink comprising silver nanoparticles
EP2684917B1 (en) Zinc oxide film-forming composition, zinc oxide film production method, and zinc compound
Kralova et al. Preparation and characterization of doped titanium dioxide printed layers
CN103333602B (zh) 一种双重固化的抗刮耐磨水性黑色亮光面漆
JP6863715B2 (ja) 積層体及び積層体の製造方法
KR20150036372A (ko) 은 함유 조성물 및 은 요소 형성 기재
US20160289477A1 (en) Ink Comprising Silver Nanoparticles
JP2005015628A (ja) 酸化第一銅コロイド分散液
JP2007137695A (ja) 酸化マグネシウム微粒子分散液及びその製造方法
WO2023093806A1 (en) Waterborne aluminum formulation and method of preparing the same
TW201834769A (zh) 銅粉之製造方法、樹脂組成物、形成硬化物的方法及硬化物
CN103497607A (zh) 用于塑料基材abs的环保水性汽车金属效果涂料及制备
JP6476639B2 (ja) 銅含有粒子
EP3298088A1 (fr) Encre a base de nanoparticules d'argent
JP6803723B2 (ja) 積層体
JP6970378B2 (ja) ニッケル粉末分散剤およびニッケル粉末スラリー
WO2017110787A1 (ja) 積層体及び積層体の製造方法
KR20240105457A (ko) 수계 알루미늄 제형 및 이의 제조 방법
JP4952300B2 (ja) 水性顔料分散体