TR201809656T4 - 4,6bis(ariloksi)pirimidin türevlerini hazırlamaya yönelik proses. - Google Patents
4,6bis(ariloksi)pirimidin türevlerini hazırlamaya yönelik proses. Download PDFInfo
- Publication number
- TR201809656T4 TR201809656T4 TR2018/09656T TR201809656T TR201809656T4 TR 201809656 T4 TR201809656 T4 TR 201809656T4 TR 2018/09656 T TR2018/09656 T TR 2018/09656T TR 201809656 T TR201809656 T TR 201809656T TR 201809656 T4 TR201809656 T4 TR 201809656T4
- Authority
- TR
- Turkey
- Prior art keywords
- compound
- process according
- general formula
- alkyl
- feature
- Prior art date
Links
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 title abstract description 8
- 229940083082 pyrimidine derivative acting on arteriolar smooth muscle Drugs 0.000 title abstract 2
- 150000003230 pyrimidines Chemical class 0.000 title abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 61
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 56
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 45
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 33
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 33
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims abstract description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 98
- -1 cyano, nitro, acetyl Chemical group 0.000 claims description 59
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 35
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 29
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 27
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 24
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 23
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 22
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 19
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 16
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 14
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 14
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims description 13
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 12
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 11
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 11
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 11
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000004457 alkyl amino carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000004473 dialkylaminocarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 claims description 10
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000011987 methylation Effects 0.000 claims description 10
- 238000007069 methylation reaction Methods 0.000 claims description 10
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000004448 alkyl carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 1-methylpiperidine Chemical compound CN1CCCCC1 PAMIQIKDUOTOBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000004644 alkyl sulfinyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 8
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 8
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 7
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N [C]1=CC=CC=C1 Chemical compound [C]1=CC=CC=C1 CIUQDSCDWFSTQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 claims description 5
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 claims description 5
- AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrrolidine Chemical compound CN1CCCC1 AVFZOVWCLRSYKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N N-methyl-pyrrolidine Natural products CN1CC=CC1 AHVYPIQETPWLSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 230000022244 formylation Effects 0.000 claims description 4
- 238000006170 formylation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 125000004438 haloalkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- SBYHFKPVCBCYGV-UHFFFAOYSA-N quinuclidine Chemical compound C1CC2CCN1CC2 SBYHFKPVCBCYGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 claims description 4
- IVLICPVPXWEGCA-UHFFFAOYSA-N 3-quinuclidinol Chemical compound C1C[C@@H]2C(O)C[N@]1CC2 IVLICPVPXWEGCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 claims description 3
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 claims description 3
- 125000004458 methylaminocarbonyl group Chemical group [H]N(C(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylprop-2-en-1-one Chemical group C=CC(=O)C1=CC=CC=C1 KUIZKZHDMPERHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005090 alkenylcarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005196 alkyl carbonyloxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000006350 alkyl thio alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005087 alkynylcarbonyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005133 alkynyloxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005125 aryl alkyl amino carbonyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 claims description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 2
- 125000004983 dialkoxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005202 dialkylaminocarbonyloxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000006260 ethylaminocarbonyl group Chemical group [H]N(C(*)=O)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000006125 ethylsulfonyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 claims description 2
- 125000004043 oxo group Chemical group O=* 0.000 claims description 2
- 125000005429 oxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000004205 trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 claims description 2
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 claims description 2
- ZKMZPXWMMSBLNO-UHFFFAOYSA-N 1-azabicyclo[2.2.2]octan-3-one Chemical compound C1CC2C(=O)CN1CC2 ZKMZPXWMMSBLNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 claims 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 63
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 25
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 24
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 21
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- 239000005730 Azoxystrobin Substances 0.000 description 13
- WFDXOXNFNRHQEC-GHRIWEEISA-N azoxystrobin Chemical compound CO\C=C(\C(=O)OC)C1=CC=CC=C1OC1=CC(OC=2C(=CC=CC=2)C#N)=NC=N1 WFDXOXNFNRHQEC-GHRIWEEISA-N 0.000 description 13
- 239000000047 product Substances 0.000 description 12
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 12
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- CHZCERSEMVWNHL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybenzonitrile Chemical compound OC1=CC=CC=C1C#N CHZCERSEMVWNHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 8
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 7
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 7
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 6
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000019439 ethyl acetate Nutrition 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 6
- PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N trimethyl orthoformate Chemical compound COC(OC)OC PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 5
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 5
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 4
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 4
- VMWJCFLUSKZZDX-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylmethanamine Chemical group [CH2]N(C)C VMWJCFLUSKZZDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 229940052651 anticholinergic tertiary amines Drugs 0.000 description 3
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 3
- 239000012973 diazabicyclooctane Substances 0.000 description 3
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 3
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 2
- 125000005279 aryl sulfonyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzenecarbonitrile Natural products N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001891 dimethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M hydron;tetrabutylazanium;sulfate Chemical compound OS([O-])(=O)=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC SHFJWMWCIHQNCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012022 methylating agents Substances 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 2
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 2
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 2
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012970 tertiary amine catalyst Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical compound [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical compound C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006527 (C1-C5) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006772 (C1-C6) haloalkylsulfonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWUISCCBFHLWLY-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylpiperidine Chemical compound CC1CCCCN1C MWUISCCBFHLWLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOLVJRQJDZMNDG-UHFFFAOYSA-N 1,4-diazabicyclo[2.1.1]hexane Chemical compound C1N2CN1CC2 UOLVJRQJDZMNDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCOJPHPOVDIRJK-UHFFFAOYSA-N 1-Methylpyrrolidine-2-methanol Chemical compound CN1CCCC1CO VCOJPHPOVDIRJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- CNGZYLXFECNEJF-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-2-methyl-1,4-dioxane Chemical compound CC1(OCCOC1)C(C)(C)C CNGZYLXFECNEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYMBNRMIBWOQGH-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethoxypropanoic acid Chemical group COC(OC)CC(O)=O TYMBNRMIBWOQGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACZGCWSMSTYWDQ-UHFFFAOYSA-N 3h-1-benzofuran-2-one Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)CC2=C1 ACZGCWSMSTYWDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJPZKYIHCLDXST-UHFFFAOYSA-N 4,6-dichloropyrimidine Chemical compound ClC1=CC(Cl)=NC=N1 XJPZKYIHCLDXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 4-(4-chlorophenyl)-4,5,6,7-tetrahydrothieno[3,2-c]pyridine Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C1C(C=CS2)=C2CCN1 CSDQQAQKBAQLLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N Boron trifluoride etherate Chemical compound FB(F)F.CCOCC KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005947 C1-C6 alkylsulfonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical group CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical class NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical class OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930182692 Strobilurin Natural products 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N Triiodomethane Natural products IC(I)I OKJPEAGHQZHRQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTSYGKNNLGQEDI-UHFFFAOYSA-N [K].C(#N)C1=C(C=CC=C1)O Chemical compound [K].C(#N)C1=C(C=CC=C1)O MTSYGKNNLGQEDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001860 alkaline earth metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYOVOXDWRFGKEX-UHFFFAOYSA-N azepine Chemical compound N1C=CC=CC=C1 XYOVOXDWRFGKEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical class C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005574 benzylation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002051 biphasic effect Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N bromomethane Chemical compound BrC GZUXJHMPEANEGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940045348 brown mixture Drugs 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- NHWZQIYTQZEOSJ-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;phosphoric acid Chemical class OC(O)=O.OP(O)(O)=O NHWZQIYTQZEOSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 125000004786 difluoromethoxy group Chemical group [H]C(F)(F)O* 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000396 dipotassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019797 dipotassium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000855 fungicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000417 fungicide Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229940052308 general anesthetics halogenated hydrocarbons Drugs 0.000 description 1
- 150000002357 guanidines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004415 heterocyclylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N iodomethane Chemical compound IC INQOMBQAUSQDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M isovalerate Chemical compound CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- OVEHNNQXLPJPPL-UHFFFAOYSA-N lithium;n-propan-2-ylpropan-2-amine Chemical compound [Li].CC(C)NC(C)C OVEHNNQXLPJPPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N methanol;hydrate Chemical compound O.OC GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRYZZSRRDCTETP-DHZHZOJOSA-N methyl (e)-2-[2-(6-chloropyrimidin-4-yl)oxyphenyl]-3-methoxyprop-2-enoate Chemical compound CO\C=C(\C(=O)OC)C1=CC=CC=C1OC1=CC(Cl)=NC=N1 YRYZZSRRDCTETP-DHZHZOJOSA-N 0.000 description 1
- NGJACAHAGMHHQT-UHFFFAOYSA-N methyl 1-benzylpyrrolidine-2-carboxylate Chemical compound COC(=O)C1CCCN1CC1=CC=CC=C1 NGJACAHAGMHHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBXUFOSSZLFNPQ-UHFFFAOYSA-N methyl 1-methylpyrrolidine-2-carboxylate Chemical compound COC(=O)C1CCCN1C WBXUFOSSZLFNPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSDQITJYKQHXQR-UHFFFAOYSA-N methyl prop-2-eneperoxoate Chemical compound COOC(=O)C=C BSDQITJYKQHXQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSTQWZZQKCCBAY-UHFFFAOYSA-L methylaluminum(2+);dichloride Chemical compound C[Al](Cl)Cl YSTQWZZQKCCBAY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- VGIVLIHKENZQHQ-UHFFFAOYSA-N n,n,n',n'-tetramethylmethanediamine Chemical compound CN(C)CN(C)C VGIVLIHKENZQHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005580 one pot reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004707 phenolate Chemical class 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- MXXWOMGUGJBKIW-YPCIICBESA-N piperine Chemical compound C=1C=C2OCOC2=CC=1/C=C/C=C/C(=O)N1CCCCC1 MXXWOMGUGJBKIW-YPCIICBESA-N 0.000 description 1
- 229940075559 piperine Drugs 0.000 description 1
- WVWHRXVVAYXKDE-UHFFFAOYSA-N piperine Natural products O=C(C=CC=Cc1ccc2OCOc2c1)C3CCCCN3 WVWHRXVVAYXKDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019100 piperine Nutrition 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 235000015320 potassium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N sodium ethoxide Chemical compound [Na+].CC[O-] QDRKDTQENPPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012312 sodium hydride Substances 0.000 description 1
- 229910000104 sodium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011008 sodium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000006188 syrup Substances 0.000 description 1
- 235000020357 syrup Nutrition 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N trans-decahydronaphthalene Natural products C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N triethyl orthoformate Chemical compound CCOC(OCC)OCC GKASDNZWUGIAMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTVXIBRMWGUIMI-UHFFFAOYSA-N trifluoro($l^{1}-oxidanylsulfonyl)methane Chemical group [O]S(=O)(=O)C(F)(F)F WTVXIBRMWGUIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D239/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings
- C07D239/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings
- C07D239/24—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D239/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazine or hydrogenated 1,3-diazine rings not condensed with other rings having three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, directly attached to ring carbon atoms
- C07D239/46—Two or more oxygen, sulphur or nitrogen atoms
- C07D239/52—Two oxygen atoms
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Abstract
4,6-bis(ariloksi) pirimidin türevleri hazırlamaya yönelik bir proses sağlanmaktadır. Proses reaksiyon ortamı olarak suda gerçekleştirilmektedir ve bir veya daha fazla tersiyer-amin katalizör vasıtasıyla katalize edilmektedir. Organik solventlerden büyük ölçüde muaf su bazlı bir reaksiyonun reaksiyon ortamına bir veya daha fazla tersiyer-amin katalizörün eklenmesi vasıtasıyla mükemmel getiriler sağlayarak gerçekleştirilebildiği bulunmuştur. Bu temiz bir reaksiyon sağlamakta ve istenen ürünü yüksek getirilerde üretmektedir.
Description
TARIFNAME
4,GBIS(ARILOKSI)PIRIMIDIN TÜREVLERINI HAZIRLAMAYA YÖNELIK PROSES
Mevcut bulus 4,6-bis(ariloksi)pirimidin türevlerini üretmeye yönelik yeni bir prosesle
ilgilidir. Proses reaksiyon ortami olarak suda gerçeklestirilmektedir ve bir veya daha
fazla tersiyer-amin katalizörü vasitasiyla katalize edilmektedir. Reaksiyon ortami olarak
su ile kombinasyon halinde bir veya daha fazla tersiyer-amin katalizör kullanilmasi
daha çevre dostu oldugundan ve üretim maliyetlerini düsürdügünden dolayi prosesi
bilinen üretim yöntemlerinden daha istenir kilmaktadir.
Alt Yapi
Fungisidal aktif bilesik Azoksistrobinin hazirlanmasina yönelik bir yöntem WO 98/1876?
sayili Uluslararasi patent basvurusunda açiklanmakta olup, burada su sadece
reaksiyon ortami olarak kullanilmaktadir. Ancak proses nispeten düsük getiriler
saglamakta ve uzun reaksiyon süresi gerektirmektedir. Getiriyi arttirmak için potasyum
florür reaksiyon karisimina eklenmektedir ancak potasyum florür son derece toksiktir ve
metaller için asindiricidir ve dolayisiyla büyük ölçekli uygulama için istenmemektedir.
WO 98/18767”de saglanan sonuçlardan görüldügü gibi potasyum florür kullanmadan
yüksek azoksistrobin getirileri sadece reaksiyon ortami olarak suyun tolüen gibi bir
organik solventle sübstitüe edilmesi vasitasiyla elde edilebilir. Laboratuvar ölçeginde
yüksek azoksistrobin ayrica reaksiyon bir eriyik olarak, baska bir deyisle reaksiyon
ortami olmadan gerçeklestirildigi zaman saglanmistir. Ancak bu prosedür hem eriyigin
karistirilmasinin zor olmasindan hem de ayrica organik bilesiklerin, baska bir deyisle
baslangiç malzemelerinin ve ürünlerin düsük getirilerle sonuçlanan saflastirma
sirasinda çözülmesinin zor olmasindan dolayi büyük üretim ölçeginde avantajli degildir.
Asimetrik 4,6-bis(ariloksi)pirimidin türevlerinin hazirlanmasinda bir katalizör olarak 1,4-
diazobisiklo[ kullanimi WO 2001/72719
sayili Uluslararasi patent yayininda açiklanmaktadir. DABCO'nun bir katalizör olarak
kullanimi getiriyi arttirmakta ve reaksiyon süresini düsürmektedir. Prosesin bir organik
solventte gerçeklestirildigi belirtilmektedir. Ancak proses ayrica reaksiyon sirasinda
suyun yine uzaklastirilmasinin avantajli oldugu söylenen bir sulu iki fazli sistemde
gerçeklestirilebilmektedir. Bu tür bir iki fazli sistemde kullanima yönelik uygun ko-
solventlerin en azindan kismen suyla karismayan solventler oldugu söylenmektedir.
Asimetrik 4,6-bis(ariloksi)pirimidin türevleri üretildigi zaman DABCO'nun düsük bir
açiklanmaktadir. Proses tercihen bir organik solventte gerçeklestirilir. Yine prosesin
reaksiyon sirasinda suyun yine uzaklastirilmasinin avantajli oldugu bir sulu iki fazli
sistemde gerçeklestirilebildigi belirtilmektedir. Bu tür bir iki fazli sistemde kullanima
yönelik uygun ko-solventlerin en azindan kismen suyla karismayan solventlerdir.
Kiniklidin bazli veya 3-Sübstitüe edilmis N-metil pirolidin bazli bilesikler asimetrik 4,6-
sayili Uluslararasi patent yayininda açiklanmistir. Açiklanan proses bir organik
solventte gerçeklestirilmektedir ancak proses ayrica reaksiyon sirasinda suyu
uzaklastirmanin avantajli oldugu bir 5qu iki fazli sistemde gerçeklestirilebilmektedir. Bu
tür bir iki fazli sistemde kullanima yönelik uygun ko-solventlerin en azindan kismen
suyla karismayan solventlerdir.
Uluslararasi patent yayininda açiklanmaktadir. Proses birinci adimin birfenol türevinin
bir fenolat tuzu elde etmek için bir organik solvent içinde bir baz ile reaksiyona
sokulmasini içerdigi 4 adimli bir proses içermekte olup, burada su reaksiyon sirasinda
reaksiyon karisimindan uzaklastirilmaktadir. Ikinci ve üçüncü adim aromatik substratin
reaksiyon karisimina eklenmesini ve bu sayede karisima isi uygulanmasini
içermektedir. Nihai ve dördüncü adim solventin uzaklastirilmasini ve substratin izole
edilmesini ve saflastirilmasini içermektedir.
azoksisitrobin üretimi için yine baska alternatif bir proses açiklanmaktadir. Bu proses
bir Lewis asidinin mevcudiyetinde bir azoksisitrobin ara ürününe iliskin bir formilleme
adimini ardindan metilasyon adimini içermektedir.
Bulusun Açiklamasi
Mevcut bulus asimetrik 4,6-bis(ariloksi)pirimidin türevlerini hazirlamaya yönelik bir
prosesle ilgilidir.
Birçok önceki teknik belgesi suyun avantajli olmadigini ve yüksek getirilerde 4,6-
bis(aril0ksi)pirimidin üretmek için uzaklastirilmasi gerektigini açiklamaktadir. Nihai
ürünün örnegin azoksisitrobinin izolasyonu ve saflastirilmasi çesitli organik solventlerde
zorlayici bulunmustur. Ancak sasirtici sekilde organik solventlerden büyük ölçüde
muaf, baska bir deyisle reaksiyon ortami içerigiyle karsilastirildiginda %10'dan w/w az
su bazli bir reaksiyonun reaksiyon ortamina bir veya daha fazla tersiyer-amin
katalizörün eklenmesi vasitasiyla mükemmel getiriler saglayarak gerçeklestirilebildigi
bulunmustur. Bu temiz bir reaksiyon saglamakta ve istenen ürünü yüksek getirilerde
üretmektedir. Suyun ek olarak nihai ürüne (I), örnegin azoksisitrobine iliskin daha kolay
ve güvenli birtetkik sagladigi bulunmustur.
Bir reaksiyon ortami olarak suyu kullanmak organik bir solvent kullanmanin aksine
düsük maliyetten dolayi daha güvenilirdir ve çok daha fazla çevre dostudur.
Dolayisiyla mevcut bulus genel formül (l)`in
R7 R5
bir bilesigini hazirlamaya yönelik bir proses saglamakta olup,
a) genel formül (II)`nin
l (11›
R7 R5
bir bilesiginin R6-OH genel formülünün bir alkolüyle veya bunun bir tuzuyla,
i) %005 ve 40 mol arasinda bir veya daha fazla tersiyer-amin katalizör
mevcudiyetinde ve
ii) reaksiyon ortami olarak su kullanilarak reaksiyona sokulmasini ve
burada reaksiyon ortami %10'dan w/w az organik solvent içermektedir;
a) genel formül (III)'ün
bir bilesiginin genel formül (lV)'ün bir bilesigiyle veya bunun bir tuzuyla.
i) %0.05 ve 40 mol arasinda bir veya daha fazla tersiyer-amin katalizör
mevcudiyetinde ve
ii) reaksiyon ortami olarak su kullanilarak reaksiyona sokulmasini
içermektedir ve burada reaksiyon ortami %10'dan w/w az organik
solvent içermektedir;
LG teknikte bilinen herhangi bir uygun ayrilan grubu temsil etmektedir.
Uygun bir ayrilan grup seçmek siradan bir uygulayicinin yetenekleri
arasindadir. Tipik ayrilan gruplar LG halojen, tercihen klorin veya
bromin; Cl-Cö alkoksi, tercihen metoksi veya etoksi; metilsülfoniloksi
gibi C1-Cö-alkilsülfoniloksi; triflorometilsüIfoniloksi gibi C1-C6-
haloalkilsülfoniloksi; fenil- veya naftilsülfoniloksi gibi arilsülfoniloksi
içermekte olup, burada aril radikali eger uygunsa bir veya daha faza
halojenle veya fenilsülfoniloksi, p-toluensülfoniloksi ve p-CI-
fenilsülfoniloksi gibi C1.s-alkil grubuyla sübstitüe edilebilmektedir. LG
tercihen klorin, bromin, C1-C6-alkil veya feniI-sülfoniloksi olup, klorin en
çok tercih edilendir.
R1, R2, R3 ve R4 bir digerinden bagimsiz olarak hidrojeni, halojeni,
siyanoyu, nitroyu, akilkarbonili, formili, alkoksikarbonili, aminokarbonili,
alkilaminokarbonili, dialkilaminokarbonili veya opsiyonel olarak halojen
sübstitüe edilmis alkili, arili, alkoksiyi, alkiltiyoyu, alkilsülfinili veya
alkilsülfonili temsil etmektedir.
R5 hidrojen, halojen, siyano, nitro. akilkarbonil, formil, alkoksikarbonil,
aminokarbonil, alkilaminokarbonil, dialkilaminokarbonil veya opsiyonel
olarak halojen sübstitüe edilmis alkil, aril, alkoksi, alkiltiyo, alkilsülfinil
veya alkilsülfonil veya asagidaki radikallerin biridir:
4' hi. i'
l 1” 7 0
7 O . C I
. 4' `.`-. .
burada *formül (I)'in fenil radikaline takilma noktasini belirtmektedir.
R6 sübstitüe edilmis veya sübstitüe edilmemis aril veya sübstitüe edilmis
veya sübstitüe edilmemis heterosiklil veya bunlarin bir tuzudur;
R7, R6 ve radikalin:
birbirinden farkli olmasi kosuluyla: hidrojen, florin, klorin veya bromindir.
Bulusa göre kullanilan katalizör bir veya daha fazla tersiyer amindir. Bir tersiyer amin
ile hidrojende farkli üç sübstitüsyona sahip olan bir nitrojen atomu içeren bir bilesik,
baska bir deyisle, R', R" ve R""ün her birinin bagimsiz olarak Ci-C10 (özellikle C1-CB)
alkil, Cß-Cö sikloalkil, aril (özellikle fenil) veya ariI(Cl-C4)alkil (özellikle benzil) oldugu
veya R', R" ve R""ün ikisinin veya üçünün opsiyonel olarak kaynasmis ve opsiyonel
olarak bir ikinci veya üçüncü halka nitrojen atomu içeren biri iki veya üç 5-, 6- veya 7-
elemanli alisiklik halkalar olusturmak için takildiklari nitrojen atomuyla birlikte birlestigi
R'R"R"'N formülünün aminleri kastedilmektedir. Bu sübstitüentler bir digerinden
bagimsiz olarak bir veya daha fazla sübstitüent içerebilmektedir. Bulusun tercih edilen
bir düzenlemesinde tersiyer amin bir siklik amin, baska bir deyisle R', R" ve R""ün
ikisinin veya üçünün opsiyonel olarak kaynasmis ve opsiyonel olarak bir ikinci veya
üçüncü halka nitrojen atomu içeren bir, iki veya üç 5-, 6- veya 7-elemanli alisiklik
halkalar olusturmak için takildiklari nitrojen atomu ile birlikte birlestigi R'R"R"'N
formülünün bir aminidir. Yine bu siklik aminler örnegin burada tanimlanan sekliyle bir
veya daha fazla sübstitüent içerebilmektedir.
Bulusun tercih edilen bir düzenlemesinde katalizörün genel formül VI ila XlV'e göre
asagidaki bilesiklerin biri veya birkaçi arasindan seçildigi bir proses saglanmaktadir:
genel formül (VI)'in piperin bazli bir molekülü
genel formül (Vll)'in 1,4-diazabisiklo[2.1.1]hekzan bazli bir molekülü
genel formül (VIll)7in pirolidin bazli bir molekülü
gendfomüHOXYmteßWerwmnbaüimrmobkmü
R10\N/\Y (IX)
genel formül (X)`in azepin bazli bir molekülü
genel formül (XI)'in kinüklidin bazli bir molekülü
formül (XII)'in bir hekzametilentetramini
genel formül (Xlll)'in triazol bazli bir molekülü
(R12)w_ | \\N (Xln)
genel formül (XIV)'in 1,4-diazabisiklo[2.2.2]0ktan bazli bir molekülü
q 0, 1, 2, 3, 4 veya 5'tir;
v 0, 1, 2 veya 3'tür;
w 0,1, 2, 3 veya 4'tür;
X halojendir;
Y CH2N(CH3)2, H veya C1-C4 alkildir;
G C, 8, 0 veya N'dir;
R10 bagimsiz olarak düz veya dallanmis alkili, sübstitüe edilmis veya sübstitüe
edilmemis benzili, sübstitüe edilmis veya sübstitüe edilmemis fenili, halojeni,
siyonoyu, hidroksili, nitroyu, alkilkarbonili, allili, formil, alkoksikarbonili,
aminokarbonili, alkilaminokarbonili, dialkilaminokarbonili veya opsiyonel olarak
halojen sübstitüe edilmis alkili, arili, alkoksiyi, alkiltiyoyu, alkilsülfinili veya
alkilsülfonili temsil etmektedir.
R11 bagimsiz olarak 1-3 karbon atomunun sübstitüe edilmis veya sübstitüe
edilmemis bir karbon köprüsünü temsil etmektedir veya bagimsiz olarak düz
veya dallanmis alkili, sübstitüe edilmis veya sübstitüe edilmemis benzili,
alkoksiyi, alkolü, alkenili, karbonili veya karboksilati temsil etmektedir;
R12 bagimsiz olarak bagimsiz olarak N(CH3)2, 03-06 sübstitüe edilmis veya
sübstitüe edilmemis heterosiklili, sübstitüe edilmis veya sübstitüe edilmis
benzili, sübstitüe edilmis veya sübstitüe edilmemis fenili, düz veya dallanmis
alkili, halojeni, siyanoyu, nitroyu, alkilkarbonili, fomili, alkoksikarbonili,
aminokarbonili, alkilaminokarbonili, dialkilaminokarbonili temsil etmektedir veya
opsiyonel olarak halojen sübstitüe edilmis alkili, arili. alkoksiyi, alkiltiyoyu,
alkilsüfinili veya alkilsülfonili temsil etmektedir;
R13 bir düz veya dallanmis 01-08 alkili temsil etmektedir;
halojeni, metili, metoksiyi, metileni veya siyanoyu temsil etmektedir veya
=C(R30)(R31) olusturmaktadir, burada R3O ve R31 bagimsiz olarak hidrojen
veya R10'dur;
halojeni, alkenili, alkinili, alkilkarbonili, formili, alkoksikarbonili, aminokarbonili,
alkilaminokarbonili, dialkilaminokarbonili, alkili, arili, alkoksiyi, alkiltiyoyu,
alkilsülfinili veya alkilsülfonil aril gruplarini, heterosiklili, sikloalkili, alkoksiyi,
ariloksiyi, sikloalkiloksiyi, opsiyonel olarak sübstitüe edilmis sililoksiyi temsil
bagimsiz olarak hidrojen veya R10'dur;
R26 hidrojeni, halojeni, alkenili, alkinili, alkilkarbonili, formili, alkoksikarbonili,
aminokarbonili, alkilaminokarbonili, dialkilaminokarbonili, alkili. arili, alkoksiyi,
alkiltiyoyu, alkilsülfinili veya alkilsülfonil gruplarini, heterosiklili, sikloalkili,
alkoksiyi, ariloksiyi, sikloalkiloksiyi veya opsiyonel olarak sübstitüe edilmis
Bulusun tercih edilen baska bir düzenlemesinde katalizörün genel formül VI ila XIV'e
göre asagidaki bilesiklerin biri veya birkaçi arasindan seçildigi bir proses
saglanmaktadir:
genel formül (VI)'in bilesikleri burada w 0, 1 veya 2'dir; G ya C ya da O'dur; R1O
alkil, tercihen C1-C4, en çok tercihen metildir; R11 1-3 karbon atomlarinin
sübstitüe edilmis veya sübstitüe edilmemis bir karbon köprüsüdür veya
bagimsiz olarak düz veya dallanmis C1-C4-alkil, tercihen 1 köprü karbon
atomudur; veya
genel formül (VII)'in bilesikleri burada w 0 veya 1'dir; R11 bir düz veya
dallanmis alkil, tercihen C1-C4 düz veya dallanmis alkil ve en çok tercihen
metildir; veya
genel formül (VIII)'in bilesikleri burada w 0 veya 1'dir; R10 düz veya dallanmis
C1-C6 alkil, aIIiI veya sübstitüe edilmis veya sübstitüe edilmemis benzil,
tercihen düz C1-C3 alkil, aIIiI, sübstitüe edilmemis benzil, en çok tercihen metil,
aIIiI veya sübstitüe edilmemis benzildir; R11 bir düz veya dallanmis alkil,
karbonil veya alkenil, tercihen C1-C4 düz veya dallanmis alkil ve en çok
tercihen metildir; veya
genel formül (IX)*in bilesikleri burada R10 01-08 düz veya dallanmis alkil,
tercihen C1-C4 düz veya dallanmis alkil ve en çok tercihen metil veya etildir; Y
CH2N(CH3)2, H veya C1-C4 alkil, tercihen CH2N(CH3)2, H veya metil ve en çok
tercihen CH2N(CH3)2 veya H'dir; veya
genel formül (X)'in bilesikleri burada q 0 veya 1`dir; R11 C1-C4 alkil, tercihen
metil veya etil ve en çok tercihen metildir;
genel formül (Xl)'in bilesikleri burada bilesik kinüklidin, 3-kinüklidinol veya 3-
kinüklidion veya bunlarin bir asit tuzudur; veya
formül (Xll)'in bilesikleri hekzametilentetramindir veya
genel formül (XIII)'in bilesikleri burada w 0 veya 1'dir; R10 hidroksil, alkoksi
veya C1-C4 alkil, tercihen hidroksil, metoksi veya metil ve en çok tercihen
hidroksildir; R12 halojen, siyono, nitro, alkoksi, 01-04 alkil, tercihen halojen,
siyano, nitro veya metildir; veya
genel formül (XIV)'in bilesikleri burada w 0 , 1 veya 2”dir; R11 bir düz veya
dallanmis alkil, tercihen C1-C4 düz veya dallanmis alkil ve daha da tercihen
metildir;
Bulusun daha çok tercih edilen bir düzenlemesinde katalizör asagidaki bilesiklerin biri
veya daha fazlasi arasindan seçilmektedir:
N-metilpiperidin veya N-metilmorfolin olan genel formül (VI)'in bir bilesigi.
(1-metilpirolidin-2-il)metanol, 1-allilpir0lidin. metil metilprolinat, N-metilpirolidin veya
metil benzilprolinat olan genel formül (VIII)'in bir bilesigi.
N,N,N',N'-tetrametilmetan-diamin veya trietilamin olan genel formül (IX)'e dayali bir
bilesik.
Hekzametilentetramin olan genel formül (XII)'in bir bilesigi.
1H-benzo[d][1.2.3]triazoI-1-0I olan genel formül (Xlll)'in bir bilesigi.
Bulusun en çok tercih edilen bir düzenlemesinde katalizörün asagidaki bilesiklerin biri
veya birkaçi arasindan seçildigi bir proses saglanmaktadir: 1,4-diazabisikl0[2.2.2]oktan
(DABCO), N-metilpirolidin, N-metilpiperidin, N-metilmorfolin, hekzametilentetramin, 14-
diazabisiklo[2.1.1]hekzan, kinüklidin, 3-kinüklidinol veya 3-kinüklidin0n.
Bulusun daha da tercih edilen bir düzenlemesinde genel formül (I)'in bir bilesigini
hazirlamak için bir islem saglanmakta olup
genel formül (II)'nin bir bilesiginin (II)
genel formül R6-OH,nin bir alkolü veya bunun birtuzu ile
i) %0.05 ve 40 mol arasinda bir veya daha fazla tersiyer-amin katalizör
mevcudiyetinde ve
ii) organik solventlerden büyük ölçüde muaf olan reaksiyon ortami olarak su
kullanilarak reaksiyona sokulmasini Içermektedir.
Bulusun tercih edilen bir düzenlemesinde bir proses saglanmakta olup, burada:
LG teknikte bilinen herhangi bir uygun ayrilan grubu temsil etmektedir. Uygun
bir ayrilan grup seçmek siradan bir uygulayicinin yetenekleri arasindadir. Tipik
ayrilan gruplar LG halojen, tercihen klorin veya bromin; Ct-Cö alkoksi, tercihen
metoksi veya etoksi; metilsülfoniloksi gibi C1-C6-alkilsülfonil0ksi;
triflorometilsülfoniloksi gibi C1-C6-haloalkilsülfoniloksi; fenil- veya
naftilsülfoniloksi gibi arilsülfoniloksi içermekte olup, burada aril radikali eger
uygunsa bir veya daha faza halojenle veya fenilsülfoniloksi, p-toluensülfoniloksi
ve p-CI-fenilsülfoniloksi gibi C1-s-alkil grubuyla sübstitüe edilebilmektedir. LG
tercihen klorin, bromin, C1-Cö-alkil veya fenil-sülfoniloksi olup, klorin en çok
tercih edilendir.
R1, R2, R3 ve R4 bagimsiz olarak hidrojen, florin, klorin, bromin, siyano, nitro, asetil,
propionil, metoksikarbonil, etoksikarbonil, aminokarbonil, metilaminokarbonil,
etilaminokarbonil, dimetilaminokarbonil, dietilaminokarbonil, metil, etil, ri- veya i-propil,
n-, i-, 5- veya t-bütil, metoksi, etoksi, n- veya i-propoksi, metiltiyo, etiltiyo, metilsülfinil,
etilsülfinil, metilsülfonil, etilsülfonil, triflorometil, trifloroetil, diflorometoksi, triflorometoksi,
difloroklorometoksi, trifloroetoksi, diflorometiltiyo, difloroklorometiltiyo, triflorometiltiyo,
triflorometilsülfinil veya triflorometilsülfonildir. Daha da tercih edilen R1, R2, R3 ve
R4'ün bagimsiz olarak hidrojen veya metil oldugu bir proses saglanmasidir. En çok
tercihen R1, R2, R3 ve R4'ün her biri hidrojendir.
Bulusun tercih edilen bir düzenlemesinde bir proses saglanmakta olup, burada R5
cem “C/OIMCÄYOCHS Hac/OWNWOCM
O / VHCH; Haco OCHg
Hac / 1% "i/W( \î
o OCH o oci-i
FzHC/ MAN/S( 3 FzHC/ ha& 3
veya bunlarin bir karisimini temsil etmektedir,
noktasini belirtmektedir.
Daha da tercihen R5 asagidaki radikallerden birini:
veya bunlarin bir karisimini temsil etmektedir,
noktasini belirtmektedir.
burada * fenil radikaline takilma
burada * fenil radikaline takilma
Bulusun tercih edilen bir düzenlemesinde bir proses saglanmakta olup. burada R6
asagidakilerden birini temsil etmektedir:
opsiyonel olarak halojenle veya C1-C5 alkille, C1-6 alkoksiyle, 01-6
halojenalkille veya Cl-G halojenalkoksiyle sübstitüe edilmis, 3 ila 7 halka
elemanina sahip olan bir heterosiklil; veya
her biri opsiyonel olarak asagidakileri içeren gruptan seçilen ayni veya farkli
sübstitüentler vasitasiyla mono- ila pentasübstitüe edilmis olan fenil veya naftil:
a. halojen, siyano, formil veya asetal korumali formil (örnegin dimetil veya dietil
asetal, 1,3-dioksolan-2-il, 1,3-dioksan-2-il)karb0ksil, karbomil, tiyokarbomil,
aminokarbonil;
b. her durumda 1 ila 8 karbon atomuna sahip olan C1-8, düz-zincirli veya
dallanmis, alkil, oksialkil, alkoksi, alkoksialkil, alkil-tiyoalkil, dialkoksialkil,
alkiltiyo, alkilsülfinil veya alkilsülfonil;
0. 02-63, düz-zincirli veya dallanmis, alkenil veya alkeniloksi;
d. 1 ve 13 arasinda ayni veya farkli halojen atomlarina sahip olan C1-6, düz-
zincirli veya dallanmis, halojenoalkil, halojenoalkoksi, halojeno-alkiltiyo,
halojenoalkilsülfinil veya halojenoalkilsülfonil
e. 1 ve 11 arasinda ayni veya farkli halojen atomlarina sahip olan C2-6, düz
zincirli veya dallanmis, halojenoalkenil veya halojenoalkeniloksi;
f. C1-6, düz-zincirli veya dallanmis, dialkilamino, alkilkarbonil, alkilkarbonil-oksi,
alkoksikarbonil, alkilaminokarbonil, dialkilaminokarbonil, arilalkil-aminokarbonil,
dialkilaminokarboniloksi, alkenilkarbonil veya alkinil-karbonil;
h. her biri opsiyonel olarak florin, klorin, okso, metil, triflorometil ve etilden
olusan gruptan seçilen sübstitüentler vasitasiyla mono- ila tetrasübstitüe edilmis
olan, ikiserli takilmis C3-4 alkilen, C2-3 oksialkilen veya 01-2 dioksialkilen; veya
i. radikal
R8 hidrojen, hidroksil, C1-4 alkil veya C1-5 sikloalkildir ve R9 hidroksili,
metoksiyi, etoksiyi, aminoyu, metilaminoyu, fenili veya benzili temsil
etmektedir veya opsiyonel olarak siyano-, alkoksi-, alkiltiy0-, alkilamino-,
dialkilamino- veya fenille sübstitüe edilmis 01-4 alkil veya alkoksiyi
temsil etmektedir veya 02-4 alkeniloksi veya alkiniloksiyi temsil
etmektedir veya benzoili, benzoiletileni, sinnamoili, heterosiklili temsil
etmektedir veya her durumda alkil kisimlarinda 1 ila 3 karbon atomuna
sahip olan ve her durumda halka kisminda opsiyonel olarak halojenle
mono- ila trisübstitüe edilmis olan fenilalkili, fenilalkiloksiyi veya
heterosiklilalkili ve/veya düz-zincirli veya dallanmis C1-4 alkili veya
alkoksiyi temsil etmektedir.
Daha da tercihen R6 opsiyonel olarak mono- ila petasübstitüe edilmis fenildir, burada
sübstitüentler halojen, siyano, formil veya asetal korumali formil, metoksikarbonil,
etoksi-karbonil, aminokarbonil, metilaminokarbonil, etailaminokarbonil, dimetilamino-
karbonil, dietilaminokarbonilden seçilmektedir, her durumda düz-Zincirli veya dallanmis
C1-4 alkil veya halojenoalkildir veya asagidaki radikali temsil etmektedir:
burada R8 hidrojendir ve R9 hidroksil, metoksi veya etoksidir.
En çok tercihen R6 2-siyan0fenildir (baska bir deyisle, genel formül R6-OH5nin alkolü 2-
siyanofenoldür).
Bulusun tercih edilen bir düzenlemesinde bir proses saglanmakta olup, burada R7
hidrojen, florin, klorin, en çok tercihen hidrojendir. Tercih edilen bir düzenlemede R1,
R2, R3 ve R4 hidrojendir, R5
veya bunlarin bir karisimidir, R6 2-siyanofenildir ve R7 hidrojendir.
Yukaridaki açiklamalarda ve aksi belirtilmedigi müddetçe:
(a) Alkil, alkenidil, alkenil veya alkinil gibi doymus veya doymamis hidrokarbon
zincirleri düz-Zincirli veya dallanmis olabilmektedir. Uygun sekilde ve aksi
belirtilmedigi müddetçe alkil ve alkil-türevi zincirler 1 ila 10 karbon atomuna
sahiptir ve alkenil ve alkenil-türevi zincirlerin yani sira alkinil ve alkinil-türevi
zincirler 2 ila 20 karbon atomuna sahiptir. Hidrokarbon zincirleri heteroatomlar
içerebilmektedir (örnegin bunlar alkoksi, alkiltiyo veya alkilamino gruplari
olabilmektedir) ve ayrica örnegin halojen atomlariyla ve/veya hidroksil
gruplariyla (örnegin halojenalkil, halojeno-alkoksi, hidroksilalkil) mono- veya
polisübstitüe edilmis olabilmektedir.
(b) Halojen veya halojeno florin, klorin, bromin veya iyodin anlamina
gelmektedir. Uygun sekilde halojen veya halojeno florin, klorin veya bromin
anlamina gelmektedir. En uygun sekilde halojen veya halojeno florin veya klorin
anlamina gelmektedir.
(c) Aril gruplari örnegin fenil, naftil. antranil, fenantril gibi aromatik, mono veya
polisiklik hidrokarbon halkalaridir. Uygun sekilde aril gruplari fenil veya naftildir
ve en uygun sekilde fenildir.
(d) Heterosiklil gruplari doymus veya doymamis (ve aromatik olabilmektedir)
siklik bilesikleri olup, burada en az bir halka elemani bir heteroatomdur, baska
bir deyisle karbondan farkli bir atomdur. Eger halka birden çok heteroatom
içeriyorsa bunlar ayni veya farkli olabilmektedir. Uygun heteroatomlar oksijen,
nitrojen veya sülfürdür. Siklik bilesenler diger karbosiklik veya heterosiklik,
üzerine kaynasmis veya köprülü halkalarla birlikte bir polisiklik halka
olusturabilmektedir. Uygun sekilde heterosiklil gruplar mono- veya bisiklik halka
sistemleri ve daha uygun sekilde mono- veya bisiklik aromatik halka sistemleri
olabilmektedir. Heterosiklil gruplar ayrica uygun sekilde metil, etil veya halojenle
mono- veya polisübstitüe edilebilmektedir.
(e) Sikloalkil gruplari diger karbosiklik üzerinde kaynasmis veya köprülü
halkalarla birlikte polisiklik halka sistemleri olusturabilen doymus karbosiklik
bilesiklerdir. Polisiklik halka sistemleri de ayrica heterosiklik gruplara veya halka
sistemlerine takilabilmektedir.
Yukarida bahsedilen veya tercih edilen radikal tanimlari hem formül (l)“in nihai ürününe
hem de formül (I)'in hazirlanmasi için gerekli baslangiç malzemelerine
uygulanmaktadir.
Baska birtercih edilen düzenlemede bulusun prosesi genel formül (Ila)'nin:
LG ve R7 önceden tanimlandigi gibidir ve R5a radikallerin biridir:
2 s /Oh / OCH; 390\ H OCH:
2-siyanofenol veya bunun bir tuzu (uygun sekilde sodyum veya potasyum 2-
siyanofenoksit), %0.05 ve 40 mol arasinda yukarida tanimlandigi sekilde bir veya daha
fazla tersiyer-amin katalizörün mevcudiyetinde reaksiyona sokulmasini içermektedir.
Özellikle mevcut bulus formül (Ia)'ya göre
metil (E)-2-{2-[6-(2-siyanofenoksi)-pirimidin-4-il0ksi]feniI}-3-
metoksiakrilat(azoksistrobin) veya formül (Ib)'ye göre
002Me
metil 2-{2-[6-(2-siyan0fen0ksi)pirimidin-4-il0ksi]eniI}asetat (DMA) gibi bunun ara
ürünleri gibi strobilurin fungisitleri hazirlamak için bir proses saglamaktadir.
Mevcut bulusun çok tercih edilen bir düzenlemesinde formül (Ia)'nin bilesiginin
hazirlanmasi için bir proses saglanmakta olup, gerek:
a) 2-siyan0fenol ile formül (II)'nin bir bilesiginin
i) %005 ve 40 mol arasinda bir veya daha fazla tersiyer-amin katalizör
mevcudiyetinde ve
ii) organik solventlerden büyük ölçüde muaf olan reaksiyon ortami olarak su
kullanilarak reaksiyona sokulmasini;
b) formül (III)'ün bir bilesiginin bir formül (IV)'in bir bilesigiyle veya bunun bir
tuzuyla,
i) %0.05 ve 40 mol arasinda bir veya daha fazla tersiyer-amin katalizör
mevcudiyetinde ve
ii) reaksiyon ortami olarak su kullanilarak reaksiyona sokulmasini içermektedir
ve burada reaksiyon ortami %10'dan w/w az organik solvent içermektedir;
burada LG önceden tanimlandigi gibidir.Ve yine mevcut bulusun çok tercih edilen baska bir düzenlemesinde formül (Ib)'nin
bilesiginin hazirlanmasi için bir proses saglanmakta olup, gerek:
a) 2-siyan0fen0l ile formül (ll)`nin bir bilesiginin
.1. .7
/ f . ""Lumi ' 'tü-4.
i) %0.05 ve 40 mol arasinda bir veya daha fazla tersiyer-amin katalizör
mevcudiyetinde ve
ii) reaksiyon ortami olarak su kullanilarak reaksiyona sokulmasini
içermektedir ve burada reaksiyon ortami %10'dan w/w az organik
solvent içermektedir;
o) formül (III)'ün bir bilesiginin bir formül (IV)'in bir bilesigiyle veya bunun bir
tuzuyla,
i) %0.05 ve 40 mol arasinda bir veya daha fazla tersiyer-amin katalizör
mevcudiyetinde ve
ii) reaksiyon ortami olarak su kullanilarak reaksiyona sokulmasini
içermektedir ve burada reaksiyon ortami %10'dan w/w az organik
solvent içermektedir;
burada LG önceden tanimlandigi gibidir.
Eger bulusun ürünü genel formül (Id)'nin bir bilesigi ise (baska bir deyisle R5'in metil-
propiyonat oldugu bilesik (l)) o zaman bu bilesik (Id) genel formül (lf)'nin bilesigine
(baska bir deyisle R5,in metil 2-(3-metoksi)akrilat oldugu bilesik (I)) çevrilebilmektedir;
proses saglamakta olup,
R7 MeO /
gerek:
a) genel formül (lld)'nin bir bilesiginin
007Me
RG-OH genel formülünün bir alkolüyle veya bunun bir tuzuyla,
i) %0.05 ve 40 mol arasinda bir veya daha fazla tersiyer-amin katalizör
mevcudiyetinde ve
ii) reaksiyon ortami olarak su kullanilarak reaksiyona sokulmasini
içermektedir ve burada reaksiyon ortami %10'dan w/w az organik
solvent içermektedir;
gerekse
b) genel formül (Id)'nin bir bilesigini hazirlamak için
002Me
ve genel formül (ld)'nin bir bilesiginin bir formilleme adimi araciligiyla genel
formül (le)'nin bir bilesigine çevrilmesini ve genel formül (Ie)'nin bu
bilesiginin bir metilasyon adimi ve opsiyonel olarak bilesik (If)'nin izolasyonu
ve saflastirilmasi araciligiyla buna çevrilmesini içermektedir; genel formül
(lIl)'ün bir bilesiginin
genel formül (IVd)'nin bir bilesigiyle veya bunun bir tuzuyla,
i) %005 ve 40 mol arasinda bir veya daha fazla tersiyer-amin katalizör
mevcudiyetinde ve
ii) reaksiyon ortami olarak su kullanilarak reaksiyona sokulmasini
içermektedir ve burada reaksiyon ortami %10'dan w/w az organik
solvent içermektedir;
LG, R1, R2, R3, R4, R6 ve R7 önceden tanimlandigi gibidir.
Genel formül (If)'nin bir bilesiginin hazirlanmasinda: Genel formül (ld)'nin bilesigi ilk
önce bir solventte (örnegin aprotik organik solvent) bir formilleme ajani, bir Lewis asidi
ve bir baz (tercihen bir organik baz) mevcudiyetinde -20 ila 200°C arasinda degisen bir
sicaklikta bir formilleme adimi araciligiyla çevrilmesini içermektedir böylece genel
formül (Ie)'nin bilesigi elde edilmektedir. Genel formül (Ie)`nin bilesiginin izolasyonu ve
saflastirmasi gerekli olmayabilmektedir ancak bu hem formilleme hem de metilasyon
adimlarinda kullanilan spesifik reaksiyon kosullarina baglidir. Metilasyon adimi genel
formül (If)'nin bilesigini elde etmek için bir metilleme ajani ve bir alkali mevcudiyetinde -
ila 100°C arasinda degisen bir sicaklikta gerçeklestirilmektedir.
Lewis asidine iliskin örnekler titanyum tetraklorür, alüminyum triklorür, metilalüminyum
klorür, kalay klorür, ferrik klorür, çinko klorür ve boron triflorür etil eter, tercihen
titanyum tetraklorürdür. Kullanilan Lewis asidinin miktari formilleme adiminin
düzgünlügünü, örnegin kullanilan genel formül (Id)'nin bilesiginin 1.00 molar esdegeri
basina 0.1 ila 6.0 molar esdeger, tercihen 1.0 ila 3.0 molar esdeger saglamaktadir.
Formilleme ajanlarina iliskin örnekler metil format, etil format, trimetil ortoformat ve
trietil ortoformat, tercihen trimetil ortoformattir. Kullanilan formilleme ajaninin miktari
formilleme adiminin düzgünlügünü, örnegin kullanilan genel formül (Id)'nin bilesiginin
esdeger saglamaktadir.
Organik bazlara iliskin örnekler aminler ve metal alkoksitler, tercihen trimetil amin, trietil
amin, tribütil amin, diizopropiletil amin, piridin gibi tersiyer amindir. Kullanilan organik
bazin miktari reaksiyonun düzgünlügünü, örnegin kullanilan genel formül (Id),nin
molar esdeger saglamaktadir.
Alkali örnekleri sodyum hidroksit, potasyum hidroksit, sodyum karbonat, potasyum
karbonat, sodyum bikarbonat, potasyum bikarbonat, sodyum metoksit, sodyum etoksit
ve sodyum tersiyer bütoksit, tercihen sodyum hidroksit ve potasyum hidroksittir.
Kullanilan alkali miktari metilasyon adiminin düzgünlügünü, örnegin kullanilan genel
formül (Id)'nin bilesiginin 1.00 molar esdegeri basina 0.8 ila 6.0 molar esdeger, tercihen
1.0 ila 2.0 molar esdeger saglamaktadir. Metilasyon ajanina iliskin örnekler dimetil
sülfat, trimetil ortoformat, klorometan, bromometan ve iyodometan, tercihen dimetil
sülfattir. Kullanilan metilasyon ajaninin miktari metilasyon adiminin düzgünlügünü,
örnegin kullanilan genel formül (Id)'nin bilesiginin 1.00 molar esdegeri basina 0.8 ile 6.0
molar esdeger, tercihen 1.0 ila 3.0 molar esdeger saglamaktadir.
Formilleme adimini proton veremeyen veya alamayan bir aprotik solventte
gerçeklestirmek tercih edilmektedir. Aproptik solventlere iliskin örnekler halojenli
hidrokarbon, benzen, doymus hidrokarbon, dimetil sülfoksit, tercihen dikloroetan,
diklorometan, triklorometan ve klorobenzen gibi halojenli hidrokarbondur.
Metilasyon adimini gerçeklestirmek için uygun ortam benzeri, toluen, klorobenzen,
diklorometan, dikloroetan, metanol, etanol, bütanol, etil eter, 1,2-dimetoksietan,
tetrahidrofuran, aseton, metil etil keton, metil izobütil keton, etil asetat, izopropil asetat,
propil asetat ve bütil asetat gibi bir polar veya bir polar olmayan solvent olabilmektedir.
Tercih edilen bir düzenlemede genel formül (Id)'nin bilesigi formül (Ib)'nin bilesigidir ve
genel formül (If)'nin bilesigi formül (Ia)'nin bilesigidir, baska bir deyisle asagida
gösterildigi sekliyle asagidaki diziyi içeren bir prosestir:
Baslangiç malzemeleri RG-OH ve formüller (II), (III), (IV)'nin bilesikleri ve formül (I)'in
nihai ürünü farkli muhtemel izomerik formlarin saf izomerleri, örnegin E veya 2
izomerleri olarak veya uygun sekilde farkli muhtemel izomerik formlarin, özellikle
örnegin E/Z karisimlari gibi hetero-izomerlerin karisimlari olarak bulunabilmektedir.
Bulusun prosesi reaksiyon ortami içerigiyle karsilastirildiginda reaksiyon ortami organik
solventten %10'dan w/w az içeren olarak su kullanilarak gerçeklestirilmektedir.
Tercih edilen bir düzenlemede reaksiyon ortami organik solventin %9'dan w/w azini,
tercihen organik solventlerin yaklasik %8iinden w/w azini, daha da tercihen organik
solventlerin %7”sinden w/w azini, daha da tercihen organik solventlerin %ö'sindan w/w
azini ve en çok tercihen organik solventin %5linden w/w azini içermektedir.
Daha da tercih edilen bir düzenlemede reaksiyon ortami organik solventin %4,5'inden
w/w azini, tercihen organik solventlerin yaklasik %4'ünden w/w azini, daha da tercihen
organik solventlerin %S'ünden w/w azini, daha da tercihen organik solventlerin
içermektedir.
Yine daha da tercih edilen bir düzenlemede reaksiyon ortami organik solventin
daha da tercihen organik solventlerin %0,6'sindan w/w azini, daha da tercihen organik
solventlerin %0,57inden w/w azini ve en çok tercihen organik solventin %0,4'inden w/w
azini içermektedir.
En çok tercih edilen bir düzenlemede reaksiyon ortami organik solventin %O,3”ünden
w/w azini, tercihen organik solventlerin yaklasik %0,2'sinden w/w azini, daha da
tercihen organik solventlerin %O,1'inden w/w azini, daha da tercihen organik
solventlerin %0,05'inden w/w azini içermektedir ve en çok tercihen tamamen organik
solventlerden muaftir.
Eger herhangi bir organik solvent mevcut ise bunlar örnegin baslangiç malzemelerini
hazirlamak için gereken önceki proses adimlarindan baslangiç malzemelerinde,
ve/veya önceki kullanimdan üretim ekipmaninda (reaktörler, borular, vs.) mevcut
olabilmektedir. Dolayisiyla bulusun prosesi reaksiyon ortaminda isteyerek veya
istemeden hazirlanan/eklenen %10'dan w/w az organik solventle, muhtemelen organik
solvent olmadan ve tercihen kullanilan baslangiç malzemelerinin ve reaksiyon
ekipmaninin pratik olarak muhtemel oldugu sekilde organik solvent izlerinden muaf
oldugu kosullar altinda gerçeklestirilmektedir.
Bu organik solventlere iliskin örnekler petrolyum eter, hekzan, heptan, siklohekzan,
metilsiklohekzan, benzen, toluen, ksilen ve dekalin gibi alifatik alisiklik ve aromatik
hidrokarbonlar; klorobenzen, diklorobenzen, diklorometan, kloroform, karbon
tetraklorür, dikloroetan ve trikloroetan gibi halojenli hidrokarbonlar; piridin veya bir
sübstitüe edilmis piridin örnegin 2,6-dimetilpiridin gibi heteroaromatik solventler; dietil
eter, diziopropileter, metiI-tert-bütil dioksan, tetrahidrofuran, 1,2-dimetoksietan, 1,2-
dietoksietan ve anisol gibi eterler; asetonitri, propionitril, n- ve i-bütironitril ve benzonitril
gibi nitriller; N,N-dimetilformamid, N,N-dimetilasetamid, N-metilformamid, N-metil-
pirolidon ve hekzametilfosforik triamid gibi amidler; metil asetat, etil asetat ve izopropil
asetat gibi esterler; dimetilsülfoksit gibi sülfoksitler; dimetilsülfon ve sülfolan gibi
sülfonlar; etanol, metanol, bütanol veya izo-propanol gibi alkollerdir.
Bu bulusun anlami içerisinde reaksiyonu katalize edebilen herhangi bir tersiyer-amin
bilesik bir katalizör olarak kabul edilmektedir. Tersiyer-amin reaksiyon kosullari altinda
kendi katalitik etkisinin disinda inert kalacak sekilde seçilir, baska bir deyisle baslangiç
malzemelerinin veya nihai ürünlerin herhangi biriyle reaksiyona girmez. Bu sekilde
katalizör veya katalizörü içeren reaksiyon ortami birden fazla kez yeniden kullanilabilir.
Organik solvent ile ortam sicakliginda sivi ve burada açiklanan reaksiyon kosulu
altinda inert olan, sudan farkli herhangi bir solvent kastedilmektedir. Bu bulusun anlami
içinde baslangiç malzemelerinin, ara ürünlerin, ürünlerin veya katalizörlerin herhangi
biri reaksiyon ortaminin parçasi olarak degerlendirilmemektedir.
Ek olarak bulusun prosesi tercihen bir asit alici mevcudiyetinde gerçeklestirilmektedir.
Uygun asit alicilarin hepsi alisilmis inorganik ve organik bazlardir. Bunlar örnegin
alkalin toprak metal hidroksitleri ve alkali metal hidroksitleri, asetatlari, karbonatlari,
bikarbonat fosfatlari, hidrojen fosfatlari ve hidritleri örnegin sodyum hidroksiti, potasyum
hidroksiti, sodyum karbonati, potasyum karbonati, sodyum bikarbonati, potasyum
bikarbonati, potasyum fosfati, sodyum fosfati, potasyum hidrojen fosfati, kalsiyum
hidriti, sodyum hidriti ve potasyum hidriti, guanidinleri, fosfazinleri (bakiniz, örnegin
9422), Iityum di-izo-propilamin gibi metal dialkilamidleri ve solventler veya muhtemel
seyrelticiler olarak yukarida açiklananlar gibi tersiyer aminleri içermektedir. Özellikle
uygun asit alicilar alkalin toprak metal, alkali metal hidroksitler ve alkali metal
karbonatlar, özellikle potasyum hidroksit, potasyum karbonat ve sodyum karbonattir.
Daha uygun sekilde asit alici potasyum karbonat veya potasyum hidroksittir. Kullanilan
asit alicinin miktari genel formül R6-OH'nin alkolüyle veya genel formül (IV)'in
bilesigiyle karsilastirildiginda 0.2 ila 5 esdeger arasindadir, tercihen kullanilan asit
alicinin miktari 0.5 ve 4 arasinda ve en çok tercihen 1 ila 3 arasindadir.
Uygun sekilde bulusun prosesi %005 ve 40 mol arasinda katalizör mevcudiyetinde
gerçeklestirilmekte olup, katalizör genel formüller (VI) ila (XIV)`nin bir veya daha fazla
bilesigi arasindan seçilmektedir. Tercihen herhangi bir miktar katalizör, %0.1 ve 30 mol
arasinda katalizör veya %0.1 ve 20 mol arasinda katalizör veya %0.1 ve 10 mol
arasinda katalizör mevcut bulusta kullanim için uygundur ancak en uygun sekilde %02
ve 7 mol arasinda katalizör kullanilmaktadir. Reaksiyon sirasinda mevcut katalizörün
mol yüzdesi en düsük miktarda mevcut baslangiç malzemesine baglidir.
Örnekler asagida saglanmaktadir:
Katalizör Katalizör Tercih edilen En çok tercih edilen
yükleme katalizör yükleme katalizör yükleme
hidroklorür mol
hekzan mol
Reaksiyon çesitli sicakliklarda, örnegin 50 ila 130°C arasinda degisen sicakliklarda,
80'den 110°C'ye kadar bir sicaklikta gerçeklestirilebilmektedir.
Bulusun prosesi katalizöre, baza ve reaksiyon sicakligina bagli olarak herhangi bir
sicaklikta, ancak uygun sekilde 1-10 Bar arasinda gerçeklestirilebilmektedir. Düsük bir
kaynama sicakligi olan katalizörler için daha yüksek sicakliklara atmosferik basinçtan
daha yüksek basinçtaki reaksiyon vasitasiyla erisilebilmektedir ve reaksiyonlar eger
istenirse atmosferik basinçta gerçeklestirilebiImektedir. Genelde reaksiyon 1 ila 8 Bar
arasindaki bir basinçta, uygun sekilde 1 ila 5 Bar arasindaki basinçta, tipik olarak 1 ila
2 var arasinda, örnegin ortam basincinda gerçeklestirilebilmektedir.
Bulusun prosesini gerçeklestirmek için genel formül R6-OH'nin alkolleri genel formül
(II)'nin bilesiginin molü basina 0.8`den 5 mole kadar, genellikle 0.9'dan 3 mole kadar ve
tercihen 'ün bilesiginin
molü basina genel formül (IV)'in bir bilesiginin benzer miktarlari (0.8 ila 5 mol, genel
olarak 0.9 ila 3 mol) kullanilmaktadir.
Bulusun prosesini gerçeklestirmek için reaksiyon ortami olarak kullanilan suyum miktari
tercihen en yüksek agirlik miktarinda bulunan baslangiç malzemesi bilesiklerinin
(baska bir deyisle, kenetleme bilesenleri) herhangi biriyle karsilastirildiginda 0.2:1'den
daha fazla su:kenetleme bileseni oraninda (w/w) mevcuttur yani en yüksek agirlik
miktarinda bulunan iki kenetleme bileseninin herhangi birinin agirlikça 1 parçasi basina
tercihen agirlikça 0.2 parçadan daha fazla su vardir. Bu sekilde reaksiyon ortami olarak
bulunan suyun toplam agirligi/hacmi üzerinde herhangi bir üst limit yoktur ancak
prosesin gerçeklestirilmesini kolaylastirmak için tercihen en yüksek miktarinda bulunan
iki kenetleme bileseninin herhangi birinin 1 parçasi basina agirlikça 10 parçadan az su,
tercihen 6'dan az ve daha da tercihen 4'ten az su vardir. En yüksek agirlik miktarinda
bulunan kenetleme bileseni ve su arasinda tercih edilen bir oran (su:kenetleme
Kenetleme bilesenleri reaksiyon ortaminda çift seklinde bulunur ve reaksiyon dizisine
bagli olarak gerek
a) R6-OH ve genel formül (ll)'nin bilesigi gerekse
b) genel formül (III)'ün bilesigi ve genel formül (IV)'In bilesigidir.
Bulusun prosesi reaksiyon için kullanilan her iki kenetleme bileseninin opsiyonel olarak
asit alici ile birlikte ortam sicakliginda karistirilmasi vasitasiyla gerçeklestirilmektedir.
Su ve katalizör (tamamen veya kismen) daha sonra reaksiyon karisimina
eklenmektedir ve reaksiyon karisimi normalde yüksek bir sicaklikta karistirilmaktadir.
Ancak katalizör reaksiyonu baslatmak için herhangi bir asamada (tamamen veya
kismen) eklenebilmektedir. Reaksiyonun tamamlandigina örnegin görsel veya analitik
araçlar vasitasiyla hükmedildikten sonra reaksiyon karisimi düzenlenmekte ve ürün
teknikte iyi bilinen geleneksel teknikler kullanilarak izole edilmektedir. Yukarida
belirtildigi gibi katalizör herhangi bir asamada eklenebilmektedir (tamamen veya
kismen) ancak katalizörün genel formül (II)'nin bilesigiyle veya genel formül (III)'ün
bilesigiyle sirasiyla genel formül R6-OH'nin alkolünün yoklugunda veya genel formül
(IV)'in bilesiginin yoklugunda karistirilmamasi tercih edilmektedir. En çok tercih edilen
ekleme sirasi genel formül R6-OH'nin alkolünün veya genel formül (lV)'in bilesiginin su
ve baz içeren reaksiyon karisimina eklenmesi, ardindan ya katalizörün ve/ya da genel
formül (ll)'nin bilesiginin veya genel formül (lll)'ün bilesiginin eklenmesidir. Bu ekleme
sirasinin takip edilmesi daha yüksek ürün getirilerini destekleme egilimindedir.
Bulusa göre prosesi gerçeklestirmek için baslangiç malzemeleri olarak gereken genel
formül R6-OH'nin alkolleri ticari olarak bulunabilmektedir veya literatür prosesleri
kullanilarak mevcut ticari olarak bulunabilen baslangiç malzemelerinden
yapilabilmektedir.
Formül (II) ve (III)'ün bilesikleri örnegin (içerikleri buraya referans olarak dahil edilen)
ABD US 6,734,304 patentinde tartisildigi gibi hazirlanabilmektedir. Özellikle R5'in metil
(E)-2-(3-metoksi)akrilat grubu C(COzCH3)=CHOCH3 oldugu formül (II)'nin bilesigi ve
R5'in metil 2 oldugu formül
(II)'nin bilesigi 3-(0i-metoksi)metilenbenzofuran-2(3H)-0nun (benzofuran-2(3H)-ondan
patent yayininda açiklandigi gibi hazirlanabilmektedir. R5'in metil (E)-2-(3-
metoksi)akrilat grubu oldugu formül (II)'nin bilesigi ayrica WO 92/08703 veya WO
dimetoksi)propanoat grubu oldugu formül (II)'nin bilesiginden metanolün elimine
edilmesi vasitasiyla (yani demetanoliz vasitasiyla) hazirlanabilmektedir. R5”in metil 2-
(3,3-dimetoksi)propanoat grubu oldugu formül (II)'nin bilesigi GB-A-2291874 sayili
Ingiliz patent yayininda açiklandigi gibi R5'in metil 2-(3,3-dimetoksi)propanoat grubu
oldugu formül (IV)lin bir bilesiginin 4,6-dikloropirimidin ile reaksiyona sokulmasi
vasitasiyla hazirlanabilmektedir. Bilinen teknikler vasitasiyla kullanimdan önce
saflastirilabilmektedir veya bir önceki reaksiyondan örnegin bir “tek-pot”
reaksiyonundan saflastirilmamis bir durumda kullanilabilmektedir.
Genel formül (IV)'in bilesikleri ayrica bilinmektedir ve referanslari US 6,734,304sayili
ABD patentinde verilen bilinen yöntemler vasitasiyla hazirlanabilmektedir. Özellikle
R5'in metil 2-(3,3-dimetoksi)-propan0at grubu oldugu formül (lV)'in bilesigi 3-(0-
metoksi)-metilenbenzofuran-2(3H)-ondan GB-A-2291874'da açiklandigi gibi
hazirlanabilmektedir. R5'in metil (E)-2-(3-metoksi)akrilat oldugu formül (lV)'nin bilesigi
dimetoksi)propanoat grubu oldugu formül (IV)'in bir bilesiginin demetanolizi vasitasiyla
hazirlanabilmektedir. Bu durumda fenolik grubun örnegin demetanolizden önce
benzilasyon vasitasiyla korunmaya ve daha sonra korumanin kaldirilmasina ihtiyaci
olmaktadir.
Eger alkol baslangiç malzemesinin bir tuzu istenirse (RG-OH veya bilesik (IV)), bu n-
situ veya reaksiyon gerçeklesmeden önce örnegin alkolle bir asit alicinin reaksiyona
sokulmasi vasitasiyla gerçeklestirilebilmektedir.
Asagidaki örnekler bulusu açiklamaktadir. Örneklerin gerçeklestirilen tüm testlerin
temsili olarak amaçlanmamasi gereklidir ve bulusu herhangi bir sekilde kisitlamayi
amaçlamamaktadir.
ÖRNEKLER:
Bu örneklerde:
DABCO : 1,4-diazabisiklo [2.2.2]0ktan
DMF : dimetilformamid
DMSO : dimetil sülfoksit
Manyetik bir karistirici ile donatilan -metil 2-(2-((6-
eklenmistir. Su (50 mL) ve N-metiI-piperidin (286 9, 28.8 mmol) ambiyant sicaklikta
eklenmistir, akabinde karisim, ambiyant sicaklikta yag banyosu üzerine yerlestirilmistir
ve isitma baslatilmistir. Karisim 20 dakika 120°C'ye isitilmistir ve dis sicaklik yaklasik
80°C oldugunda karistirma baslar. Biraz gaz yayilmasi gözlenmistir. Karisim, 5 saat
100°C`de hafif reflüks altinda karistirilmistir. Karisim akabinde 80°C'ye sogutulmustur
ve etil asetat ( ile seyreltilmistir. Iki faz karistirilmistir
ve ayrilmistir. Üst organik parça, 40°C'de vakum altinda kuruyana kadar
buharlastirilmistir. Ham kalinti, reflükste metanol ( içinde çözünmüstür,
akabinde su (30 mL) bu sicaklikta yavasça eklenmistir. Solüsyon, 1 saat içinde
ambiyant sicakliga çalkalanarak serbest bir sekilde sogumaya birakilmistir ve
solüsyon, 40°C'de 0.4 9 saf azoksistrobin ile tohumlanmistir. Ortaya çikan sulu karisim
dakika içinde tekrar O°Clye sogutulmustur ve burada 20 dakika daha tutulmustur,
akabinde katilar, emis filtresi ile geri kazanilmistir ve 50 mL soguk metanolzsu 4:1 ile
yikanmistir. Filtre keki, bir gece ambiyant sicaklikta vakum altinda kurutulmustur,
verim) ürününü vermistir.
Manyetik bir karistirici ile donatilan 250 mL'Iik bir balonda, 2-hidr0ksibenzonitril (20.5 9,
170 mmol), su (20.59) içinde süspanse edilmistir, akabinde su ( içindeki
karisim homojen olmaya baslamistir. (E)-Metil 2-(2-((6-klor0pirimidin-4-iI)0ksi)feniI)-3-
akabinde ortaya çikan 3qu karisim, 41/2 saat reflüks yogusturucu altinda 100°C'ye
isitilmistir. Karisim 30 dakika 89°C'ye sogutulmustur ve akabinde toluen ( ve
su (50 mL) eklenmistir. Iki faz 10 dakika karistirilmistir ve akabinde üst organik parça,
60°C`de döner buharlastirma ile kuruyana kadar buharlastirilmistir. Kalinti, 55°C”de
metanol (100 g) içinde çözünmüstür ve akabinde su (20 g) ve sonrasinda 0.2 9 saf kati
azoksistrobin eklenmistir. Karisim, çalkalanarak serbest bir sekilde oda sicakligina
(RT) sogutulmustur ve bir gece bu sekilde birakilmistir. Ortaya çikan sulu karisim
0°Ciye sogutulmustur ve 30 dakika çalkalanmistir. Katilar, emis filtresi ile geri
kazanilmistir, 15 mL soguk metanol:su 5:1 ile yikanmistir ve azoksistrobin ürününü
ambiyant sicaklikta vakum altinda kurutulmustur.
Manyetik bir karistirici ile donatilan 500 mL'Iik bir balona 2-hidroksibenzonitril (41 g,
Karisim 70°Ciye isitilmistir ve 10 dakika bu sicaklikta karistirilmistir. (E)-metil 2-(2-((6-
kloropirimidin-4-il)oksi)feniI)-3-metoksiakrilat (100 g, 302 mmol) eklenmistir (dikkat, hizli
CO2 yayilmasi görülebilir) ve son olarak 1-metilpirrolidin (0.629 ml. 6.05 mmol)
eklenmistir. Karisim, 120°C'de (iç sicaklik 115-117°C) bir yag banyosunda isitilmistir,
böylece hafif bir reflüks gözlenmistir. Karisim 120°C`de 5 saat tutulmustur, akabinde
80°C'ye sogutulmustur ve toluen ( ile seyreltilmistir. Iki faz bu
sicaklikta ayrilmistir ve üst organik faz, 60°C'de vakum ile kuruyana kadar
buharlastirilmistir. Toluen yigini uzaklastirildiginda kivamli kalinti, metanol (
içinde çözünmüstür, akabinde çalkalanarak ambiyant sicakliga sogutulmustur. Ortaya
çikan sulu karisim akabinde 15 dakika içinde 0°Clye sogutulmustur, akabinde
filtrelenmistir. Katilar, soguk metanol (20 mL) ile yikanmistir ve bej rengi bir kati olarak
kurutulmustur.
süspanse edilmistir ve akabinde süspansiyon, 70°C'ye bir yag banyosu üzerinde
eklenmistir ve karisim homojen hale gelmistir. (E)-metil 2-(2-((6-kl0ropirimidin-4-
il)0ksi)fenil)-3-metoksiakrilat (10 g, 97 %,
eklenmistir, akabinde ortaya çikan sulu karisim, 3 saat reflüks yogusturucu altinda
120°C“ye isitilmistir. Karisim 30 dakika içinde 80°C'ye sogumaya birakilmistir,
akabinde etil asetat (20 mL) ve su (15 mL) eklenmistir ve iki faz karisimi karistirilmistir
ve bir emülsiyon olusmustur. Bu, ambiyant sicakliga sogutulmustur, akabinde 0.5 9
potasyum karbonat eklenmistir ve faz ayirma hizli olmustur. Organik parça,
mmol, 96.5 % ham verim) elde etmek üzere vakum ile kuruyana kadar
buharlastirilmistir.
(15 g) içinde süspanse edilmistir. Su ( içinde %85 potasyum hidroksit (11.25 9,
170 mmol) solüsyonu 2 dakika içinde eklenmistir ve karisim homojen hale gelmistir. N-
il)oksi)fenil)-3-metoksiakrilat (50 g, 97%, 151 mmol) eklenmistir, bu sirada karistirmaya
devam edilmistir, ortaya çikan sulu karisim, 41/2 saat reflüks yogusturucu altinda
120°C'ye ayarlanan bir yag banyosunda isitilmistir. Karisim, 30 dakika içinde 89°C”ye
sogutulmustur ve akabinde n-bütilasetat ( eklenmistir. Iki faz 10
dakika karistirilmistir, akabinde karistirma durdurulmustur ve faz ayirma hizli olmustur.
Alt aköz faz uzaklastirilmistir, akabinde üst organik faz, döner buharlastiriciya transfer
edilmistir ve 10 mL, eser miktarda su içerigini uzaklastirmak üzere yaklasik 60°C'de
damitma ile uzaklastirilmistir. 50 mL n-bütil asetat daha eklenmistir, akabinde materyal,
saf azoksistrobin (200 mg) ile tohumlanmistir, akabinde çalkalanarak ambiyant
sicakliga sogutulmustur. akabinde tekrar 10 dakika boyunca 0°C`ye sogutulmustur.
Katilar, emis filtresi ile geri kazanilmistir ve soguk n-bütil asetat (20 mL) ile yikanmistir,
saglayarak iki gün ambiyant sicaklikta vakum altinda kurutulmustur.
2-hidroksibenzonitril (98% saflik, 5.2 9, 42.8 mmol), su ( içinde sulu karisim
olarak süspanse edilmistir ve akabinde su (2.79) içindeki potasyum hidroksit (85%
saflik, 2.70 9, 40.9 mmol) solüsyonu, ambiyant sicaklikta damlatilarak eklenmistir. Metil
isitilmistir, akabinde 60°C'ye sogutulmustur. EtOAc (25 mL) ve akabinde 5% aköz
K eklenmistir, akabinde iki faz iyice karistirilmistir ve oda sicakligina
sogutulmustur. 15 dakika sonra iki faz ayrilmistir ve organik parça, yari kati kahverengi
bir kalinti saglayarak vakum ile kuruyana kadar buharlastirilmistir. Kalinti, metanol (17
g) içinde süspanse edilmistir ve 60°C'ye isitilmistir, böylelikle tüm materyal
çözünmüstür. Solüsyon, çalkalanarak serbest bir sekilde oda sicakligina sogutulmustur
ve ortaya çikan sulu karisim O°C`ye sogutulmustur. Katilar, filtrasyon ile geri
kazanilmistir ve soguk metanol (5 mL) ile yikanmistir ve akabinde 10.109 DMA, (91.1
kurutulmustur.
2-hidroksibenzonitril (98% saflik, 5.2 9, 42.8 mmol), su ( içinde bir sulu karisim
olarak süspanse edilmistir, ve akabinde su (2.7g) içindeki potasyum hidroksit (85%
saflik, 2.70 9, 40.9 mmol) solüsyonu, ambiyant sicaklikta damlatilarak eklenmistir. Metil
olarak 1-Metilpiperidin (1.5 ml, 12.34 mmol) eklenmistir, akabinde karisim 4 saat
100°C`ye isitilmistir, akabinde 60°Ciye sogutulmustur. EtOAc (25 mL) ve akabinde 5%
aköz K2C03 (20 mL) eklenmistir, akabinde iki faz iyice karistirilmistir ve oda sicakligina
sogutulmustur. 15 dakika sonra iki faz ayrilmistir ve organik parça, yari kati kahverengi
bir kalinti saglayarak vakum ile kuruyana kadar buharlastirilmistir. Kalinti, metanol (17
g) içinde süspanse edilmistir ve 60°C'ye isitilmistir, böylelikle tüm materyal
çözünmüstür. Solüsyon çalkalanarak serbest bir sekilde oda sicakligina sogutulmustur
ve ortaya çikan 3qu karisim 0°C”ye sogutulmustur. Katilar, filtrasyon ile geri
kazanilmistir ve soguk metanol (4 mL) ile yikanmistir ve akabinde 9.589 DMA, (23.8
mmol, 89% verim) saglayarak ambiyant sicaklikta vakum altinda kurutulmustur.
Sicaklik kontrolü, yogusturucu ve mekanik karistiricisi olan ceketli bir 500 mL
reaksiyon haznesine 1739 CH20I2 eklenmistir ve 0°C`ye sogutulmustur. Akabinde
kahverengi bir karisim ile sonuçlanarak eklenmistir. Bu karisimin 30 dakika 0-5°C`de
karistirilmasi üzerine, bir siringa pompasi kullanilarak 0-5°C2de 2 saat içinde 50.69
(2,5 es.) trietilamin eklenmistir. Solüsyon koyu bir renge dönmüstür ve 0-5°C'de 60
dakika karistirilmistir. Reaksiyon karisimi, 5-15°C'de 400 mL su eklenerek dikkatli bir
sekilde söndürülmüstür. Sicaklik, karistirma altinda 30 dakika 20-25°C“ye durulanmistir
(1,5 es.) dimetilsülfat ve 6.219 (0.1 es.) tetrabütilammonyum hidrojensülfat eklenmistir.
Bu karisim 25-30°C`de 1 saat iyice karistirilmistir ve fazlar ayrilmistir. Organik faz,
uzaklastirmak üzere 25°C'de 21/2 saat karistirilmistir. Fazlar ayrilmistir ve organik faz,
200mL 1N HCI ile yikanmistir vakum ile konsantre edilmistir ve kalinti, 11 9 MeOH”den
rekristalize edilmistir. Ortaya çikan soluk sari kristaller, %97 safligi olan 66.5 9
Azoksistrobin vermek üzere kurutulmustur.
Karsilastirmali örnek 1:
Manyetik bir karistirici ile donatilan -metil 2-(2-((6-
ambiyant sicaklikta eklenmistir, akabinde karisim yag banyosu üzerine yerlestirilmistir,
sicaklik 120°C'ye yükseltilmistir ve 22 saat bu sicaklikta karistirilmistir. Yag banyosu
sicakligi, 90°C'ye düsürülmüstür, akabinde yavasça toluen (
eklenmistir ve iyi bir karistirmanin muhafaza edildiginden emin olunmustur. Alt aköz faz
uzaklastirilmistir ve ayrilmistir. Üst organik faz, 60°C'de döner bir buharlastirici
üzerinde kuruyana kadar buharlastirilmistir. Materyal, 50°C'de metanol (85 mL) içinde
çözünmüstür, akabinde çalkalanarak sogumaya birakilmistir. Karisim, 0.1 9
azoksistrobin ile 30°C`de tohumlanmistir, akabinde O°C`ye sogutulmustur ve burada 30
dakika tutulmustur. Kristaller, filtrasyon ile geri kazanilmistir ve soguk metanol (15 mL)
ile yikanmistir ve akabinde soluk sari bir kati olarak 45.90 9 azoksistrobin (97 % saf,
110 mmol, 73 % verim) saglayarak vakum ile kurutulmustur.
Karsilastirmali örnek 2:
Manyetik bir karistirici ile donatilan -metil 2-(2-((6-
(106 ml) içinde çözünmüstür ve akabinde dimetilformamid (39.25 g) içindeki 2-
hidroksibenzonitril (39.25 9, 329 mmol) solüsyonu eklenmistir. Potasyum karbonat
( sirasiyla eklenmistir. Karisim 75
dakika 80°Cyye isitilmistir, akabinde tüm dimetilformamid, vakum damitma ile
uzaklastirilmistir. Kati kati kalinti, 80°C'ye sogutulmustur, akabinde toluen (168 g) ve
akabinde su ( eklenmistir. Karisim, 30 dakika boyunca 80°C'de karistirilmistir,
akabinde emülsiyon, 160 mL sicak su içeren 1 L ayirma hunisi içine bosaltilmistir. Alt
aköz faz ve orta faz ayrilmistir ve toluen fazi, 500 mL'lik balona transfer edilmistir. Aköz
ve orta fazlar, 20 mL toluen ile 80°C`de karistirilmistir ve akabinde iki faz ayrilmistir.
Kombine toluen fazlari, koyu bir surup (130.45 9) kalana kadar vakum ile 65°C'de
buharlastirilmistir. Bu, bir reflüks yogusturucu altinda 60°C'de metanol (88 g,
içinde süspanse edilmistir ve homojen olana kadar karistirilmistir, akabinde
çalkalanarak bir gece ambiyant sicakliga yavasça sogutulmustur. Sulu karisim 30
dakika içinde 2°C`ye sogutulmustur, akabinde sulu karisim filtrelenmistir ve soguk
verim) saglayarak vakum ile kurutulmustur.
Karsilastirmali örnek 3:
Manyetik bir karistirici ile donatilan -metil 2-(2-((6-
sicaklikta dimetilformamid ( içinde süspanse edilmistir ve akabinde 2-
eklenmistir. Karisim 120°C`de yag banyosu üzerine yerlestirilmistir. Karisim 3 saat
120°C`de karistirilmistir, akabinde 80°C'ye sogutulmustur ve toluen ( ile
seyreltilmistir ve bu sicaklikta su ( ile yikanmistir. Üst organik parça, 60°C'de
vakum altinda kuruyana kadar buharlastirilmistir. Bu, 55°C'de metanol ( içinde
çözünmüstür, çalkalanarak ambiyant sicakliga serbest bir sekilde sogutulmustur.
Ortaya çikan sulu karisim 20 dakika 0°C`ye sogutulmustur, akabinde katilar emis
filtrasyonu ile geri kazanilmistir, soguk metanol (30 mL) ile yikanmistir ve akabinde
serbest akisli soluk kahverengi bir toz olarak azoksistrobin ürününü (103.2 9, 97.7 %
saf, 82.6 % verim) saglayarak ambiyant sicaklikta vakum altinda kurutulmustur.
Karsilastirmali örnek 4:
Manyetik bir karistirici ile donatilan -metil 2-(2-((6-
dimetilsülfoksit ( içinde süspanse edilmistir ve akabinde 2-hidr0ksibenzonitril
100°C'de yag banyosu üzerine yerlestirilmistir. Karisim, 3 saat 100°C'de, damitma ile
elde edilen suyu uzaklastirmak üzere orta siddetli bir vakum altinda karistirilmistir.
Karisim akabinde 80°C'ye sogutulmustur ve toluen ( ile seyreltilmistir ve bu
sicaklikta su (2 x ile yikanmistir. Üst organik parça, 60°C'de vakum altinda
kuruyana kadar buharlastirilmistir. Bu, 55°C'de metanol ( içinde çözünmüstür,
çalkalanarak ambiyant sicakliga serbestçe sogutulmustur ve uygun bir sekilde saf
azoksistrobin (0.2 9) ile tohumlanmistir. Ortaya çikan sulu karisim 20 dakika 0°C'ye
sogutulmustur, akabinde katilar emis filtrasyonu ile geri kazanilmistir, soguk metanol
(30 mL) ile yikanmistir ve akabinde serbest akisli soluk kahverengi bir toz olarak
sicaklikta vakum altinda kurutulmustur.
Claims (1)
- ISTEMLER . Genel formül (l)'in bir bilesigini hazirlamaya yönelik bir proses olup, R6\O \ o \ Rt özelligi; gerek: a) genel formül (II)'nin bir bilesiginin veya bunun bir tuzunun R6-OH genel formülünün bir alkolüyle, i) %0.05 ve 40 mol arasinda bir veya daha fazla tersiyer-amin katalizör mevcudiyetinde; ve ii) reaksiyon ortami olarak su kullanilarak reaksiyona sokulmasini içermesi ve burada reaksiyon ortaminin %10'dan w/w az organik solvent içermesi; a) genel formül (III)'ün bir bilesiginin genel formül (lV)'ün bir bilesigiyle veya bunun birtuzuyla, i) %0.05 ve 40 mol arasinda bir veya daha fazla tersiyer-amin katalizör mevcudiyetinde; ve ii) reaksiyon ortami olarak su kullanilarak reaksiyona sokulmasini içermesi ve burada reaksiyon ortaminin %10”dan w/w az organik solvent içermesi; LG'nin bir ayrilma grubunu temsil etmesi; R1, R2, R3 ve R4'ün bir digerinden bagimsiz olarak hidrojeni, halojeni, siyanoyu, nitroyu, akilkarbonili, formili, alkoksikarbonili, aminokarbonili, alkilaminokarbonili, dialkilaminokarbonili veya opsiyonel olarak halojen sübstitüe edilmis alkili, arili, alkoksiyi, alkiltiyoyu, alkilsülfinili veya alkilsülfonili temsil R5yin hidrojen, halojen, siyano, nitro, akilkarbonil, formil, alkoksikarbonil, aminokarbonil, alkilaminokarbonil, dialkilaminokarbonil veya opsiyonel olarak halojen sübstitüe edilmis alkil, aril, alkoksi, alkiltiyo, alkilsülfinil veya alkilsülfonil veya asagidaki radikallerin biri olmasi: burada *formül (I)'in fenil radikaline takilma noktasini belirtmektedir. Rö'nin sübstitüe edilmis veya sübstitüe edilmemis aril veya sübstitüe edilmis veya sübstitüe edilmemis heterosiklil veya bunlarin bir tuzu olmasi; R7lnin R6 ve radikalin: birbirinden farkli olmasi kosuluyla hidrojen, florin, klorin veya bromin olmasidir. . Istem 1'e göre bir proses olup, özelligi; katalizörün asagidaki bilesiklerin biri veya daha fazlasi arasindan seçilmesidir: 1,4-diazabisiklo[2.2.2]oktan (DABCO), N-metil-pirolidin, N-metilpiperidin, N-metilmorfolin, hekzametilentetramin, 14-diazabisiklo[2.1.1]hekzan, kinüklidin, 3-kinüklidinol veya 3-kinüklidinon. . Istemler 1 veya 2'den herhangi birine göre bir proses olup, özelligi; R1, R2, R3 ve R4'ün bagimsiz olarak hidrojen, florin, klorin, bromin, siyano, nitro, asetil, propionil, metoksikarbonil, etoksikarbonil, aminokarbonil, metilaminokarbonil, etilaminokarbonil, dimetilaminokarbonil, dietilaminokarbonil, metil, etil, n- veya i- propil, n-, i-, 3- veya t-bütil, metoksi, etoksi, ri- veya i-propoksi, metiltiyo, etiltiyo, metilsülfinil, etilsülfinil, metilsülfonil, etilsülfonil, triflorometil, trifloroetil, diflorometoksi, triflorometoksi, difloroklorometoksi, trifloroetoksi, diflorometiltiyo, difloroklorometiltiyo, triflorometiltiyo, triflorometilsülfinil veya triflorometilsülfonil olmasidir. . Istem 3'e göre bir proses olup, özelligi; R1, R2, R3 ve R4'ün bagimsiz olarak . Istem 3 ve 4'e göre bir proses olup, özelligi; R1, R2, R3 ve R4'ün her birinin hidrojen olmasidir. . Istem 1'e göre bir proses olup, özelligi; R5'in asagidaki radikallerin birini: veya bunlarin bir karisimini temsil etmesidir, burada * fenil radikaline takilma noktasini belirtmektedir. . istem 6'ya göre bir proses olup, özelligi; R5'in asagidaki radikallerin birini: veya bunlarin bir karisimini temsil etmesidir, burada * fenil radikaline takilma noktasini belirtmektedir. . Istem 1'e göre bir proses olup, özelligi; Röinin asagidakilerin birini: opsiyonel olarak halojenle veya 01-05 alkille, 01-6 alkoksiyle, C'l-ö halojenalkille veya 01-63 halojenalkoksiyle sübstitüe edilmis, 3 ila 7 halka elemanina sahip olan bir heterosiklil; veya her biri opsiyonel olarak asagidakileri içeren gruptan seçilen ayni veya farkli sübstitüentler vasitasiyla mono- ila pentasübstitüe edilmis olan fenil veya naftil: a. halojen, siyano, formil veya asetal korumali formil (örnegin dimetil veya dietil asetal, 1,3-di0ksolan-2-il, 1,3-dioksan-2-il)karb0ksil, karbomil, tiyokarbomil, aminokarbonil; b. her durumda 1 ila 8 karbon atomuna sahip olan CI-8, düz-zincirli veya dallanmis, alkil, oksialkil, alkoksi, alkoksialkil, alkil-tiyoalkil, dialkoksialkil, alkiltiyo, alkilsülfinil veya alkilsülfonil; 0. 02-63, düz-zincirli veya dallanmis, alkenil veya alkeniloksi; d. 1 ve 13 arasinda ayni veya farkli halojen atomlarina sahip olan C1-6, düz- zincirli veya dallanmis, halojenoalkil, halojenoalkoksi, halojeno-alkiltiyo, halojenoalkilsülfinil veya halojenoalkilsülfonil; e. 1 ve 11 arasinda ayni veya farkli halojen atomlarina sahip olan C2-6, düz zincirli veya dallanmis, halojenoalkenil veya halojenoalkeniloksi; f. C1-6, düz-zincirli veya dallanmis, dialkilamino, alkilkarbonil, alkilkarbonil-oksi, alkoksikarbonil, alkilaminokarbonil, dialkilaminokarbonil, arilalkil-aminokarbonil, dialkilaminokarboniloksi, alkenilkarbonil veya alkinil-karbonil; h. her biri opsiyonel olarak florin, klorin, okso, metil, triflorometil ve etilden olusan gruptan seçilen sübstitüentler vasitasiyla mono- ila tetrasübstitüe edilmis olan, ikiserli takilmis C3-4 alkilen, C2-3 oksialkilen veya C1-2 dioksialkilen; veya i. radikal R8'in hidrojen, hidroksil, C1-4 alkil veya C1-6 sikloalkil olmasi; ve R9,un hidroksili, metoksiyi, etoksiyi, aminoyu, metilaminoyu, fenili veya benzili temsil etmektedir veya opsiyonel olarak siyan0-, alkoksi-, alkiltiy0-, alkilamin0-, dialkilamino- veya fenille sübstitüe edilmis C1-4 alkil veya alkoksiyi temsil etmesidir veya C2-4 alkeniloksi veya alkiniloksiyi temsil etmesidir veya benzoili, benzoiletileni, sinnamoili, heterosiklili temsil etmesidir veya her durumda alkil kisimlarinda 1 ila 3 karbon atomuna sahip olan ve her durumda halka kisminda opsiyonel olarak halojenle mono- ila trisübstitüe edilmis olan fenilalkili, fenilalkiloksiyi veya heterosiklilalkili ve/veya düz-zincirli veya dallanmis -4 alkili veya alkoksiyi temsil etmesidir. . Istem 8'e göre bir proses olup, özelligi; R6'nin 2-siyanofenil olmasidir. istem 1'e göre bir proses olup, özelligi; RTnin hidrojen, florin veya klorin olmasidir. istem 1,e göre bir proses olup, özelligi formül (Ia)'nin bilesigini hazirlamaya yönelik olmasidir. istem 1'e göre bir proses olup, özelligi formül (Ib)'nin bilesigini hazirlamaya yönelik olmasidir. istem 1'e göre bir proses olup, özelligi formül (Id)'nin bilesigini hazirlamaya yönelik olmasidir. Istem 13'e göre bir proses olup, özelligi; formül (Id)'nin bilesiginin ayrica genel formül (If),nin bilesigini elde etmek için bir formilleme adimina ardindan bir metilasyon adimina tabi tutulmasidir. 15. istem 14'e göre bir proses olup, özelligi; prosesin asagidaki reaksiyon dizisini içermesidir:
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP13169497 | 2013-05-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TR201809656T4 true TR201809656T4 (tr) | 2018-07-23 |
Family
ID=48482979
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TR2018/09656T TR201809656T4 (tr) | 2013-05-28 | 2014-05-27 | 4,6bis(ariloksi)pirimidin türevlerini hazırlamaya yönelik proses. |
Country Status (19)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9643935B2 (tr) |
| EP (1) | EP3004066B1 (tr) |
| CN (1) | CN105246878B (tr) |
| BR (1) | BR112015029714B1 (tr) |
| CY (1) | CY1120380T1 (tr) |
| DK (1) | DK3004066T3 (tr) |
| ES (1) | ES2675892T3 (tr) |
| HR (1) | HRP20181037T1 (tr) |
| HU (1) | HUE038326T2 (tr) |
| IL (1) | IL242460A (tr) |
| LT (1) | LT3004066T (tr) |
| MX (1) | MX2015016287A (tr) |
| PL (1) | PL3004066T3 (tr) |
| PT (1) | PT3004066T (tr) |
| RS (1) | RS57374B1 (tr) |
| SI (1) | SI3004066T1 (tr) |
| TR (1) | TR201809656T4 (tr) |
| TW (1) | TWI621614B (tr) |
| WO (1) | WO2014190997A1 (tr) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106008367A (zh) * | 2015-11-20 | 2016-10-12 | 江苏长青农化股份有限公司 | 嘧菌酯合成方法 |
| CN109721548B (zh) * | 2017-10-31 | 2020-11-13 | 南通泰禾化工股份有限公司 | 一种嘧菌酯的制备方法 |
| CN109529928B (zh) * | 2018-11-16 | 2021-06-29 | 河北威远生物化工有限公司 | 一种催化剂体系及利用其制备嘧菌酯或其中间体的方法 |
| TWI705961B (zh) * | 2018-11-28 | 2020-10-01 | 興農股份有限公司 | 亞托敏的製備方法 |
| EP3956317A4 (en) * | 2019-04-18 | 2023-03-29 | UPL Limited | PROCESS FOR THE PREPARATION OF AZOXYSTROBINE AND INTERMEDIATE THEREOF |
| CN114957134A (zh) * | 2022-05-26 | 2022-08-30 | 安徽广信农化股份有限公司 | 一种制备嘧菌酯及其中间体的方法 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0391451A1 (en) | 1986-04-17 | 1990-10-10 | Imperial Chemical Industries Plc | Fungicides |
| GB9122430D0 (en) | 1990-11-16 | 1991-12-04 | Ici Plc | Chemical process |
| GB9415291D0 (en) | 1994-07-28 | 1994-09-21 | Zeneca Ltd | Chemical process |
| US5977363A (en) * | 1996-03-07 | 1999-11-02 | American Cyanamid Company | Process for the preparation of unsymmetrical 4,6-bis(aryloxy) pyrimidine compounds |
| GB9617351D0 (en) | 1996-08-19 | 1996-10-02 | Zeneca Ltd | Chemical process |
| GB9622345D0 (en) | 1996-10-28 | 1997-01-08 | Zeneca Ltd | Chemical process |
| US5849910A (en) * | 1997-09-05 | 1998-12-15 | American Cyanamid Company | Process for the preparation of unsymmetrical 4,6-bis aryloxy-pyrimidine compounds |
| US6087498A (en) * | 1998-05-12 | 2000-07-11 | American Cyanamid Company | Process for the preparation of unsymmetrical 4,6-bis(aryloxy) pyrimidine compounds |
| DE10014607A1 (de) | 2000-03-24 | 2001-09-27 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von unsymmetrischen 4,6-Bis(aryloxy pyrimidin-Derivaten |
| GB0508422D0 (en) | 2005-04-26 | 2005-06-01 | Syngenta Ltd | Chemical process |
| GB0619941D0 (en) * | 2006-10-09 | 2006-11-15 | Syngenta Ltd | Chemical process |
| GB0619942D0 (en) * | 2006-10-09 | 2006-11-15 | Syngenta Ltd | Chemical process |
| IL180134A0 (en) | 2006-12-17 | 2007-07-04 | David Ovadia | Process for the preparation of substituted cyanophenoxy-pyrimidinyloxy -phenyl acrylate derivatives |
| CN100564362C (zh) | 2007-10-24 | 2009-12-02 | 北京颖泰嘉和科技股份有限公司 | 嘧菌酯及其类似物的制备方法 |
| CN102399195A (zh) * | 2011-12-08 | 2012-04-04 | 北京颖新泰康国际贸易有限公司 | 一种嘧菌酯中间体的合成方法 |
-
2014
- 2014-05-07 TW TW103116247A patent/TWI621614B/zh active
- 2014-05-27 HU HUE14729204A patent/HUE038326T2/hu unknown
- 2014-05-27 ES ES14729204.9T patent/ES2675892T3/es active Active
- 2014-05-27 MX MX2015016287A patent/MX2015016287A/es active IP Right Grant
- 2014-05-27 BR BR112015029714-5A patent/BR112015029714B1/pt active IP Right Grant
- 2014-05-27 PL PL14729204T patent/PL3004066T3/pl unknown
- 2014-05-27 CN CN201480029478.5A patent/CN105246878B/zh active Active
- 2014-05-27 SI SI201430760T patent/SI3004066T1/en unknown
- 2014-05-27 RS RS20180733A patent/RS57374B1/sr unknown
- 2014-05-27 EP EP14729204.9A patent/EP3004066B1/en active Active
- 2014-05-27 DK DK14729204.9T patent/DK3004066T3/en active
- 2014-05-27 TR TR2018/09656T patent/TR201809656T4/tr unknown
- 2014-05-27 LT LTEP14729204.9T patent/LT3004066T/lt unknown
- 2014-05-27 PT PT147292049T patent/PT3004066T/pt unknown
- 2014-05-27 WO PCT/DK2014/050145 patent/WO2014190997A1/en active Application Filing
- 2014-05-27 US US14/893,666 patent/US9643935B2/en active Active
-
2015
- 2015-11-04 IL IL242460A patent/IL242460A/en active IP Right Grant
-
2018
- 2018-07-02 CY CY20181100685T patent/CY1120380T1/el unknown
- 2018-07-05 HR HRP20181037TT patent/HRP20181037T1/hr unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| HUE038326T2 (hu) | 2018-10-29 |
| US9643935B2 (en) | 2017-05-09 |
| TW201444802A (zh) | 2014-12-01 |
| ES2675892T3 (es) | 2018-07-13 |
| EP3004066B1 (en) | 2018-04-11 |
| LT3004066T (lt) | 2018-07-10 |
| RS57374B1 (sr) | 2018-08-31 |
| TWI621614B (zh) | 2018-04-21 |
| BR112015029714B1 (pt) | 2020-12-15 |
| HRP20181037T1 (hr) | 2018-08-24 |
| MX2015016287A (es) | 2016-03-11 |
| CN105246878A (zh) | 2016-01-13 |
| US20160137612A1 (en) | 2016-05-19 |
| SI3004066T1 (en) | 2018-08-31 |
| CN105246878B (zh) | 2017-12-15 |
| DK3004066T3 (en) | 2018-06-14 |
| EP3004066A1 (en) | 2016-04-13 |
| WO2014190997A1 (en) | 2014-12-04 |
| IL242460A (en) | 2017-10-31 |
| PL3004066T3 (pl) | 2018-09-28 |
| PT3004066T (pt) | 2018-07-16 |
| BR112015029714A2 (pt) | 2017-07-25 |
| CY1120380T1 (el) | 2019-07-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TR201809656T4 (tr) | 4,6bis(ariloksi)pirimidin türevlerini hazırlamaya yönelik proses. | |
| KR101410801B1 (ko) | 아족시스트로빈의 제조 | |
| JP5275996B2 (ja) | キヌクリジン又はｎ−メチルピロリジン誘導体の存在下における６−フェノキシピリミジン−４−オール誘導体の製造方法 | |
| JP5107901B2 (ja) | 化学的プロセス | |
| KR101379967B1 (ko) | 임의로 2-치환된1,6-디히드로-6-옥소-4-피리미딘카르복시산의 제조 방법 | |
| KR100758615B1 (ko) | 비대칭 4,6-비스(아릴옥시)피리미딘 유도체의 제조방법 | |
| JP2017518977A (ja) | １，１，１−トリフルオロアセトンからの４−アルコキシ−１，１，１−トリフルオロブタ−３−エン−２−オンの調製方法 |