TR201808604T4 - Atık su arıtma sistemi ve yöntemi. - Google Patents
Atık su arıtma sistemi ve yöntemi. Download PDFInfo
- Publication number
- TR201808604T4 TR201808604T4 TR2018/08604T TR201808604T TR201808604T4 TR 201808604 T4 TR201808604 T4 TR 201808604T4 TR 2018/08604 T TR2018/08604 T TR 2018/08604T TR 201808604 T TR201808604 T TR 201808604T TR 201808604 T4 TR201808604 T4 TR 201808604T4
- Authority
- TR
- Turkey
- Prior art keywords
- metal
- tank
- acid
- resin
- tanks
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 136
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 title claims abstract 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 222
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 222
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 156
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 155
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 120
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims abstract description 50
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims abstract description 24
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 125
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 claims description 49
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 claims description 45
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 claims description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 14
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 14
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 10
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 9
- 239000004575 stone Substances 0.000 claims description 6
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 5
- 238000007670 refining Methods 0.000 claims description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 3
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 claims description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims 3
- 239000002699 waste material Substances 0.000 claims 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 100
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 80
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 80
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 48
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 48
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 44
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 43
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 29
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 25
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 22
- 239000000047 product Substances 0.000 description 21
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 21
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 20
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 19
- 239000012492 regenerant Substances 0.000 description 18
- 241000196324 Embryophyta Species 0.000 description 16
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 16
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 14
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 14
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 13
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 13
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 11
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 11
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 9
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 9
- 239000008237 rinsing water Substances 0.000 description 9
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 8
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 7
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 7
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 7
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 6
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 6
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 6
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 6
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 4
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 4
- 210000001072 colon Anatomy 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005115 demineralization Methods 0.000 description 4
- 230000002328 demineralizing effect Effects 0.000 description 4
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000021374 legumes Nutrition 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 4
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 4
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- -1 zinc metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 238000005056 compaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 3
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 3
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 3
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 2
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 2
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 2
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 239000013505 freshwater Substances 0.000 description 2
- 239000003517 fume Substances 0.000 description 2
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003340 mental effect Effects 0.000 description 2
- 231100000252 nontoxic Toxicity 0.000 description 2
- 230000003000 nontoxic effect Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 2
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 2
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 2
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 2
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000193830 Bacillus <bacterium> Species 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010014970 Ephelides Diseases 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000003351 Melanosis Diseases 0.000 description 1
- 235000010627 Phaseolus vulgaris Nutrition 0.000 description 1
- 244000046052 Phaseolus vulgaris Species 0.000 description 1
- 241000286209 Phasianidae Species 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010053615 Thermal burn Diseases 0.000 description 1
- 239000011282 acid tar Substances 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002730 additional effect Effects 0.000 description 1
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000386 athletic effect Effects 0.000 description 1
- 238000009411 base construction Methods 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 208000029215 central polydactyly of fingers Diseases 0.000 description 1
- 235000013339 cereals Nutrition 0.000 description 1
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 210000004081 cilia Anatomy 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000366 copper(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 210000001061 forehead Anatomy 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000030279 gene silencing Effects 0.000 description 1
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000012432 intermediate storage Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000012804 iterative process Methods 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000008267 milk Substances 0.000 description 1
- 210000004080 milk Anatomy 0.000 description 1
- 235000013336 milk Nutrition 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 210000004498 neuroglial cell Anatomy 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 238000013386 optimize process Methods 0.000 description 1
- 210000000056 organ Anatomy 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000546 pharmaceutical excipient Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000004321 preservation Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012265 solid product Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000008685 targeting Effects 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/02—Apparatus therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B3/00—Extraction of metal compounds from ores or concentrates by wet processes
- C22B3/20—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching
- C22B3/42—Treatment or purification of solutions, e.g. obtained by leaching by ion-exchange extraction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B7/00—Working up raw materials other than ores, e.g. scrap, to produce non-ferrous metals and compounds thereof; Methods of a general interest or applied to the winning of more than two metals
- C22B7/006—Wet processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/20—Treatment of water, waste water, or sewage by degassing, i.e. liberation of dissolved gases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/28—Treatment of water, waste water, or sewage by sorption
- C02F1/283—Treatment of water, waste water, or sewage by sorption using coal, charred products, or inorganic mixtures containing them
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/76—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with halogens or compounds of halogens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
- C02F2001/425—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange using cation exchangers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/10—Inorganic compounds
- C02F2101/20—Heavy metals or heavy metal compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
- C02F2103/16—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from metallurgical processes, i.e. from the production, refining or treatment of metals, e.g. galvanic wastes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/003—Downstream control, i.e. outlet monitoring, e.g. to check the treating agents, such as halogens or ozone, leaving the process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/005—Processes using a programmable logic controller [PLC]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/005—Processes using a programmable logic controller [PLC]
- C02F2209/008—Processes using a programmable logic controller [PLC] comprising telecommunication features, e.g. modems or antennas
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/03—Pressure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/06—Controlling or monitoring parameters in water treatment pH
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2209/00—Controlling or monitoring parameters in water treatment
- C02F2209/40—Liquid flow rate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2301/00—General aspects of water treatment
- C02F2301/06—Pressure conditions
- C02F2301/063—Underpressure, vacuum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/16—Regeneration of sorbents, filters
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Geology (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
Abstract
Mevcut buluş, atık su arıtma sistemlerine ve yöntemlerine yönlendirilmektedir. Belirli bir yapılandırma ile uyumlu bir sistem, doymuş bir reçine tankını, bir ön uç sistemden alacak şekilde yapılandırılan bir vakum filtresi bant sistemini, doymuş reçine tankından bir bulamacı üretecek ve bulamacı durulamak için bir basamaklı reçineyi sağlayacak şekilde yapılandırılmış vakum filtresi bant sistemini içerebilmektedir. Sistem aynı zamanda, bir metal ile doldurulmuş saflaştırma ünitesini, bir metale özgü saflaştırma sisteminden alacak şekilde yapılandırılmış bir tekrarlı sıyırma sistemini içerebilmektedir. Tekrarlı sıyırma sistemi aynı zamanda, birden çok asit tankının içeriklerini, bir metal tuzu üretmek üzere metal ile doldurulmuş saflaştırma ünitesine sıralı olarak uygulayacak şekilde yapılandırılabilmektedir. Çeşitli diğer yapılandırmalar, mevcut buluşun kapsamı içerisindedir.
Description
Tarifnamenin K& AçlF/amasÜ
Bu tarifnamenin bir birinci uygulamasIa, belirli bir yapilândlîilna ile uyumlu bir sistem,
doymus bir reçine tankIÇibir ön uç sistemden alacak sekilde yapilândiîllân bir vakum filtresi
bant sistemini, doymus reçine tankIan bir bulamacEüretecek ve bulamacEtlurulamak için
bir basamakIEIreçineyi saglayacak sekilde yapilândlîilîhlgl vakum filtresi bant sistemini
içerebilmektedir. Sistem aynüamanda, bir metal ile doldurulmus saflastlElna ünitesini, bir
metale özgü saflastüna sisteminden alacak sekilde yapilândlîiimlgl bir tekrarlüslîlüina
sistemini içermektedir. Tekrarlüsüîiina sistemi aynEizamanda, birden çok asit tankII
içerigini, bir metal tuzu Üretmek üzere metal ile doldurulmus saflastiîrlna ünitesine slBaIEI
olarak uygulayacak sekilde yapllând lEIIlBiaktadlEl
Bir veya birden çok asaglîlhki özellik dahil edilebilmektedir. Birden çok asit tankÇl üç asit
tankIEliçerebilmektedir. En az bir asit, bir oksidan maddesi ve her bir birden çok asit
tankIan bir indirgeyici madde, bir önceden seçilmis bir slüida metal ile doldurulmus
saflastlîiina ünitesi üzerinden pompalanabilmektedir. Her bir birden çok asit tanküdegisken,
birikimli hedef metal tuz seviyeleriyle farkIElbir asit konsantrasyonunu Içerebilmektedir.
Metalle doldurulmus saflastlElna ünitesi, en az bir baklü nikel, çinko ve bir iyon degisim
reçinesini içerebilmektedir. Iyon degisimi reçinesi, en az bir iminodiyasetik iyon degisim
reçinesi, silika jel, kimyasal olarak modifiye edilmis silika jeller ve diger inorganik destekler
olabilmektedir.
BazÜ/apllândlünalarda, tekrarlElslýlîilna sistemi, bir ürün taslEtEtank- bir çllîlgjsaglayacak
sekilde yapilândlEllâbilmektedir. En silZI kullanllân asit, birden çok asit tankIan en az birisi
içerisinde dahil edilebilmektedir, en lel kullanilân asit, ilk olarak metalle doldurulmus
saflastlElna ünitesine uygulanmaktadlB Bir birinci asit tank[,`_l asidi metalle doldurulmus
saflastlîilna ünitesine dagißcak sekilde yapllândßllâbilmektedir, bir ikinci asit tankÇl asidi
birinci asit tarik- dagißcak sekilde yapilândülâbilmektedir ve bir üçüncü asit tanküasidi
ikinci asit tank. daglßcak sekilde yapllândlülâbilmektedir. Bir ürün taslEtEtankÇl metalle
doldurulmus saflastüna ünitesine bosalan birinci asit tanklEtlan elde edilen bir atllZl maddeyi
tasiyacak sekilde yapilândlîllâbilmektedir.
Mevcut tarifnamenin bir diger uygulamasliîtla, belirli bir yapllândlüna ile uyumlu olan bir
yöntem, bir vakum filtresi bant sisteminde bir ön uç sisteminden bir doymus reçine tankII
aIIEiTiasIÜ/e doymus reçine tankIdan bir bulamacI üretilmesini içermektedir. Yöntem aynü
zamanda, bulamaca durulama yapan bir basamaklüleçinenin saglanmasIÜ'e tekrarlayan bir
sls-LlElna sisteminde bir metale özgü saflastlElna sisteminden metalle doldurulmus bir
saflastlElna ünitesinin allEinasIEliçermektedir. Yöntem aynEIzamanda, tekrarllîlslýlülna
sisteminde, bir metal tuzu üretmek üzere metalle doldurulmus saflastlElna ünitesine, birden
çok asit tankII içeriklerinin slßllîilarak uygulanmaslüçermektedir.
Bir veya birden çok asagidaki özellik dahil edilebilmektedir. Birden çok asit tankÇl üç asit
tankIElçerebiImektedir. Yöntem aynlîtamanda, asidin, bir önceden seçilmis sßda metalle
doldurulmus saflastlElna ünitesi üzerinden her bir birden çok asit tankian pompalanmasIEl
içerebilmektedir. Her bir birden çok asit tankIÇI farkIEI bir asit konsantrasyonunu
Içerebilmektedir. Metalle doldurulmus saflastlEna ünitesi, en az bir baklEl nikel, çinko ve bir
iyon degisim reçinesini içerebilmektedir. Iyon degisimi reçinesi, bir iminodiasetik iyon degisim
reçinesi olabilmektedir.
BazEyapHândlEnalarda, yöntem aynEkamanda, tekrarIBSIQEilna sistemi vasüsüa bir ürün
taslEtEtank. bir çlElglEl saglanmasIElçerebilmektedir. Yöntem aynEkamanda, birden çok
asit tankian en az birisi Içerisinde en sllîlkullanllân bir asidin içerilmesini ve en sElg kullanllân
asidin, ilk olarak metalle doldurulmus saflastlüna ünitesine uyguIanmasIElçerebilmektedir.
Yöntem ek olarak, bir birinci asit tankIan, metalle doldurulmus saflastlElna ünitesine asidin
daglEllBiasIüasidin, bir ikinci asit tankIan birinci asit tank. dagüîlßîasIEl/e asidin, bir
üçüncü asit tanklîidan Ikinci asit tanklEla daglElIBiasIEliçerebilmektedir. Yöntem aynEl
zamanda, bir ürün taslEtEllankIa metalle doldurulmus saflastüna ünitesine bosaltüân birinci
asit tankIian ortaya çllZlan bir atllZl maddenin allEtnalelEFçerebilmektedir.
Bir veya birden çok uygulamanI kapsam Dekteki çizimlerde ve asaglHla bulunan tarifnamede
belirlenmektedir. Özellikler ve avantajlar, açlKlamadan, sekillerden ve istemlerden anlasllîl
hale gelecektir.
Sekil/erin K& AçlF/amasÜ
Sekil 1, mevcut tarifnameyle uyumlu bir at[lZl su sisteminin örnek teskil eden bir
yapllândlîrlnaslü
Sekil 2, mevcut tarifnameyle uyumlu bir atüd su sisteminin örnek teskil eden bir
yapHândlElnasIlÜ
Sekil 3, mevcut tarifnameyle uyumlu bir at[lZJ su sisteminin örnek teskil eden bir
yapllândlîilnasllü
Sekil 4, mevcut tarifnameyle uyumlu bir atllZI su sisteminin örnek teskil eden bir
yapllândlElnasIB
Sekil 5, mevcut tarifnameyle uyumlu bir at[lZJ su sisteminin örnek teskil eden bir
yapllândlîilnasllü
Sekil 6, mevcut tarifnameyle uyumlu bir atllîl su sisteminin örnek teskil eden bir
yapilândlElnasIB
Sekil 7, mevcut tarifnameyle uyumlu bir at[IZJ su sisteminin örnek teskil eden bir
yapllândlünasllü
Sekil 8, mevcut tarifnameyle uyumlu bir atlEl su sisteminin örnek teskil eden bir
yapllândlElnasIB
Sekil 9, mevcut tarifnameyle uyumlu bir at[lZ] su sisteminin örnek teskil eden bir
yapllândünaslü
Sekil 10, mevcut tarifnameyle uyumlu bir athl su sisteminin örnek teskil eden bir
yapüândlîmasllü
Sekil 11, mevcut tarifnameyle uyumlu bir atEIZl su sisteminin örnek teskil eden bir
yapllândünaslü
Sekil 12, mevcut tarifnameyle uyumlu bir athl su sisteminin örnek teskil eden bir
yapüândlünasllü
Sekil 13, mevcut tarifnameyle uyumlu bir at& su sisteminin örnek teskil eden bir
yapllândlîrlnasIIÜ
Sekil 14, mevcut tarifnameyle uyumlu bir atEIZl su sisteminin örnek teskil eden bir
yapllând lülnasllü ve
Sekil 15, mevcut bulusla uyumlu bir attigi su sisteminin örnek teskil eden bir
yapllândlîrlnasIIÜ
Çesitli sekillerde bulunan benzer referans sembolleri, benzer elemanIarlîcjiösterebilmektedir.
A yrlEtllDçlF/ama
Mevcut tarifname, arifllân suyun geri dönüstürülebildigi veya düzenleyici standartlarla uyumlu
bir sekilde tahliye edilebildigi sekilde metal taslýlan atlEJ sularEi isleyebildigi bir
otomatiklestirilmis, modüler, iyon degisim reçine bazlEbir sisteme yönlendirilmektedir. Mevcut
tarifnamenin yapHândlEmalarÇl atlE su içerisindeki metalleri yakalayabilmekte, daha
sonrasIda her bir bireysel metali, metal sülfatlar gibi ticari olarak atIbilir son ürünlere
ayrllâbilmekte, saflastlBabilmekte ve konsantre edebilmektedir.
Sistem, atilZJ su olusum alanlEb konumlandlîilüilgl bir ön uç üniteden ve saylglîl ön uç
ünitelerden metal taslýan iyon degisim kolonlarII topland[giü/e islendigi bir merkezi islem
tesisinden olusmaktadlü Alternatif olarak, islem hacimlerinin, ekonomik ve/veya düzenleyici
hususlar. çok faydaIEIoldugu yerde, merkezi islem tesisinin, ön uç sistemle birlikte
konumlandlîlâbilmektedir.
Mevcut tarifnamenin yapilândlîilnalarükaplama banyolarII durulama suyu aklslarldan ve
benzer islemlerden düzenlenmis metallerin çevresel olarak toplanmaslîkullanHâbilmektedir.
Durulama suyu, çesitli is parçalarljhihai, yüzeyi ylEhnmlglürünü alacak sekilde temizlendiginde
üretilebilmektedir. AsIEEkaplama s-lEl, islem parçalarII kurutulmasIan, paketlenmesi
ve nakliyesinden önce çlElarllBiasEgerekebilmektedir. Durulama suyu kalitesi veya durulama
suyuna tasIEbn metallerin bollugu, durulama sürecinin kendisine (örn. püskürtme, daldlElna,
karlgtlüna ve benzeri) ve ayn lâamanda genel yüzey özelliklerinin ve kaplanmlgis parçasII
yap_ baglEblabilmektedir. Bu sebepten ötürü, bakla nikel, çinko ve krom gibi toksik
metallerin konsantrasyonu, belirli bir magazada degisebilmektedir.
Genellikle, mevcut tarifname, çesitli kaplama tesislerinde, yerinde çevresel olarak
düzenlenmis metal kontaminasyonlarII güvenli ve etkili bir sekilde çilZlarüßîasII sagland [giEl
sekilde kullanüâbilmektedir. Mevcut tarifnamenin yapllândlElnalarDyeniden kosullandlîllüilgl
tam kapasite tanklarlsîla tükenmis reçine tanklarI degistirilmesini ve kaplama tesisi ve bölge
dlgj merkez islem tesisi arasIdaki tasnayEl içerebilmektedir. Mevcut tarifnamenin
yapliândlünalarüklîlfliaylîüilmayacak sekilde slîÜ/eya katEformda metal tuz ürünleri olarak
Cu, Zn, Ni ve Cr'yi içeren degisken metallerin endüstriyel olarak geri kazanUB1asEliçin
kullanllâbilmektedir. Bu metaller basarHIlJJir sekilde geri kazanIlgllEUa, yüksek kaliteli, geri
dönüstürülmüs metal tuzlarl:l kaplama endüstrisine veya diger tüketicilere geri
dagüîllâbilmektedir. Burada açlKlanan sistemler ve yöntemler, kalan toksik metallerin güvenli
ve etkili bir sekilde arlüßiasll ve genel athl hacminin %80'den fazlaslýla azaltllüiaslîiçin
kullanilâbilmektedir.
BazEyapllândlîilnalarda, mevcut tarifname, bir yüzey isleminden metallerin, durulama sulari
ve su aklSlarlEb taslEUlgiElgenis sayida sürece uygulanabilmektedir. Mevcut tarifnamenin
ögretileri, athl su arEEiII ilk günlerinden beri kullanHân, geleneksel tortulama ve depolama
teknolojisini bütünüyle veya kElnen degistirmek için kullanEbilmektedir. Mevcut tarifname,
baklü nikel, çinko ve krom gibi endüstriyel metalleri açlKJarken, mevcut bulusun ögretileri,
herhangi bir saylîEltürde metalleri islemek üzere kullanüâbildigi için bu metallere herhangi
bir sekilde klîlilhnmasljmaçlanmamaktadß
Iyon degisim teknolojisi, belirli organik islevsel gruplarla suda çözülen iyonlarI elektro statik
etkilesimine dayalEloImaktadlB Bu gruplar, pozitif olarak veya negatif olarak yüklenmis
iyonlarlîçekebilmektedir ve islevsel gruplarI önceden kosullandlEIlIhasEiçin kullanllân proton
veya hidroksit iyonu degistirmektedir. Pozitif olarak yüklenmis iyonlar, katyonlar olarak ifade
edilirken, negatif olarak yüklenmis iyonlar, anyonlar olarak ifade edilmektedir. Organik
islevsel gruplar, klglüaylîlllmayacak sekilde sülfonik asit, karboksilik asitler, üçlü aminler ve
dörtlü aminleri içerebilmektedir. Organik gruplar genellikle stiren ve akrilik kopolimerlere
kimyasal olarak baglanmaktadlü Polimerler, etkili ve kontrollü bir sekilde pompalanan bir su
akSlEtlan iyonlarElfiItrelemek için, bir suda çözülemez yapEIÇI bir yüksek yüzey alani
saglayabilmektedir.
Mevcut tarifnamenin bazüyapüândlîilnalaria, iyon degisim polimerleri veya reçineleri,
örnegin tanklara veya kolonlara doldurulabilmektedir (öm. 80 ila 100L) Bu, bir doymus iyon
degisim reçinesinin kolay bir sekilde degistirilmesine olanak saglayabilmektedir. Bir doymus
iyon degisimi reçine, mevcut tüm islevsel grubun veya büyük çogunlugunun, hedef iyonlarla
degistirildigi bir polimerdir. Bu noktada reçine, “yüklenmis” iyonlarI çÜZlarllßias- olanak
saglayabilen yeniden kosullandlElnaylîgierektirebilmektedir.
BazEyapllândlîilnalarda, iyon degistiricileri veya reçine tanklarEimmobiIize olabilmektedir ve
bir iyon seçici filtre benzeri olarak hareket edebilmektedir. Bu, su aklglarIa çok seyreltilmis
metal iyonlarlEl adsorbe edilmesi ve iyon degisim reçinesinde konsantre edilmesine anlam-
gelmektedir. Oldukça büyük hacimli su, nispeten küçük iyon degisim tanklarÜ/eya kartuslarEl
ile arlfllâbilmektedir. Su akElEkzla bulunan diger kontaminantlar, iyon degisim reçinelerine
çekilmemektedir. Atllîi su arlEIEiEbu sekilde oldukça ve iyon degisim teknolojisini kullanlîlken
oldukça etkili ve faydalIE AynElzamanda, çok daha seçici bir organik islevsel grubu
destekleyen iyon degisim reçineleridir. Bu iyon degisim reçineleri, seçici ve adsorpsiyon
kapasitelerinin bir ek seviyesine izin verebilmektedir.
Mevcut tarifnamenin yapllândlîilnalarl: hem seçici hem de metal seçici iyon degisim
reçinelerini kullanabilmektedir. Seçici iyon degisim reçinelerinin kullanIIBiasIaki zorluklardan
birisi, diger metallerden daha güçlü spesifik metal iyonlarEçekebilme kabiliyetidir. Örnegin,
baklü imminodiasetik asit türünde iyon degisim reçinelerine neredeyse seçici bir sekilde
çekilmektedir. Geçis metaller (örn. Cu, Zn, Ni), bu organik islevsel gruba iyi belirlenmis bir
çekim hiyerarsisini olusturmaktadlü
Buna karslEl, bir seçici olmayan degisim reçinesi, büyük saylala iyonlarßdsorbe edebilmekte
ve bu sekilde, potansiyel kontaminasyonlarülamamen çllZlarabiImektedir. Mevcut tarifnamenin
bazÜ/aplßndlülnalaria, bu reçineler, geri dönüsümden önce veya cilalaylEllâr olarak suyun
demineralizasyonu için kullanllâbilmektedir.
Sekil 1'e referansla, mevcut tarifname ile uyumlu bir atlEl su sürecinin bir yapllândlElnasIIZI
gösteren bir sematik (100) saglanmaktadlîl Bazlîlyapllândlîrlnalarda, atllZJ su süreci, bir
kaplama tesisi gibi bir müsteri sitesinde yer alabilen bir ön uç sistemi (102) ve bir merkezi
tesiste olusabilen bir temel süreci (104) içerebilmektedir.
BazEýapllândlElnalarda, ön uç sistemi (102), sensörlere, pompalara, valflere ve sistemle (102)
iliskili diger donanma baglanan programlanabilir bir manthl denetleyicisi tarafIan kontrol
edilebilen bir kusursuz arltîlna sistemine lineer olarak düzenlenen çesitli bireysel süreçlerden
olusabilmektedir. Her bir süreç, düzenleyici tahliye kriterlerini karsüâmak veya asmak için
ve/veya iyon degisim tanklarII uygun isleminin, metalin çiElarIlIhasIEliemin etmesi için atllZl
suda belirli bir kontaminantlZI çilZlarabilmekte veya kontaminantEI arlßibilmektedir.
Düzenlenmemis maddeler, bölgeden bertaraf edilebilmektedir, düzenlenmis malzemeler
(birincil geçis metalleri), bir merkezi islem tesisine taslElnas- yönelik kolonlarda ve
kartuslarda toplanabilmektedir.
BazEl/apllândlülnalarda, ön uç sistemi (102), kaplama tesisinde üretilen durulama sularIa
metal kontaminasyonunun pasif bir sekilde çlEbrIJBiasIEI uygulayacak sekilde
yapllândlîllâbilmektedir. Ön uç sisteminden (102) çiElarllân atiKl madde, az veya
düzenlenmemis veya toksik metalleri içermek üzere filtrelenebilmektedir ve organik
kontaminasyon için (örn. kimyasal oksijen talebi (COD) veya toplam organik karbonun (TOC)
çilZlarilBiasiIltahliye edilebilmekte ve/veya ariîllâbilmektedir.
Ön uç sisteminde (102) iyon degisim reçinelerinin yükleme kapasitesine ulasIlglIda, iyon
degisim reçinesi tanklarü yeniden kosullandlEllBilS reçine tanklarElle degistirilebilmektedir.
Tüketilen ve metal yüklü tanklar, merkezi islem tesisinde temek sürece (104) geri
taslbilmektedir. Merkez tesis, hedef metalleri yüklü reçinelerden çilZlarabilmektedir ve
kaplama bölgelerinde yeniden kullanma yönelik malzemeyi yeniden kosulland Elnaktadlü
BazEyapllândlElnalarda, çllZarllIhlgl metaller, bir karlglla metal konsantratlEb sahip olan bir slîEl
olarak toplanabilmektedir. Bu çözelti daha sonrasIa, bireysel hedef metallerin, bakla&
nikelin ve çinkonun izole edilmesi ve saflastlEllüiasülçin kullanllâbilmektedir. Metaller, oldukça
yüksek derece konsantre bir metal sülfat çözeltisi olarak toplanabilmektedir.
Bazlîyapllândlîilnalarda, temel sürecin (104) ürünü, metal sülfat tuzlarIEil'iretmek üzere metal
çözeltilerin bir kristalizasyonunu olusturacak sekilde yapllândßâbilen üretim asamasi (106)
Sülfatlar, kaplama tesislerine (102) yönelik kaynak olarak piyasaya veya iliskili endüstrilere
geri beslenebilmektedir.
BazÜ/apüândßnalarda, ekonomik olarak canlüblmayan veya arlElBiadan tahliye edilmesi için
çok toksik olan belirli veya tüm metaller, bir geleneksel hidroksit çökelmesine tabi
olabilmektedir. AI-n tortular ar[t]lâbilmekte ve mevcut atlEJ yönetim tesisleri ve ûrmalarEl
vasiliasüla bertaraf edilebilmektedir. Merkez tesiste temel süreç (104) ile üretilen tortu hacmi,
mevcut teknolojiler kullanilarak üretilen, orijinal olarak üretilmis miktarda bir ufak fraksiyon
olabilmektedir. Temel süreç (104) ve üretim asamaslIl(106) aynElzamanda gelismis
detoksifikasyonun, kamuya ve çevreye bir güvenli ve güvenilir bir servis saglamasi olanak
saglayabilmektedir.
ON uç SISTEMI
Sekil 2'ye referansla, ön uç sistemin (200) bir örnek teskil eden yapllândlîilnasü
saglanmaktadlE Sistem (200), bir iyon degisim reçinesi içerecek sekilde yapllândlEllâbilen bir
veya birden çok reçine tankIEl(202A-D) içerebilmektedir. Saylgîl iyon degisim reçinesi,
mevcut tarifname ile uyumlu bir sekilde kullanllâbilmektedir. Örnegin, bazüyon degisimi
reçineleri, güçlü bir sekilde asidik, güçlü bir sekilde bazik, zayltlbir sekilde asidik veya zayEtJbir
sekilde bazik olabilmektedir. Iyon degisimi reçinesi, chelex (100) gibi bir selatlama reçinesi
veya herhangi bir diger uygun iyon degisim reçinesi olabilmektedir. Fakat, iyonlar. veya
metal komplekslerin adsorpsiyonu, silika jelleri gibi inorganik destek malzemeleri veya
kimyasal olarak modifiye edilmis silika jelleri ile mümkündür. Adsorpsiyon mekanizmalarü
hidrofobik etkilesim veya hidrofilik etkilesim mekanizmalehlan veya baska bir yapldhn
olabilmektedir.
BazEl/apllândlîmalarda, filtreleme ve metali çilZlarma verimliligi, Sekil 9'da bir diger detay
olarak gösterildigi üzere iminodiasetik asit türünde bir ön seçim iyon degisim reçinesi
kullanilârak önemli ölçüde gelistirilebilmektedir. Bu sekilde, degerli iyon degisim kapasitesi,
yüksek miktarda dogal bollukta olan, toksik olmayan karakterden (örn. sodyum, kalsiyum,
magnezyum, potasyum ve benzeri) dolayümakamlarla düzenlenmeyen metal iyonlarla
kullanllîhayabilmektedir. Bu sekilde, birinci ekonomik ön seçim mekanizma, kaynaklarülre iyon
degisim kapasitesini korumak üzere uygulanabilmektedir. Bu sebepten ötürü, mevcut
tarifnamenin yapllândlElnalarümonovalent baz metaller (Na, K ve benzeri) veya divalent baz
metaller (örn. Ca ve Mg) üzerinden bir tercihle bakB nikel ve çinko gibi geçis metallerini
çilZlarmak için kullanllâbilmektedir. Bu ön seçim, sadece degerli hedef metaller olan metallerin
ve/veya çevresel makamlarla düzenlenen metallerin zenginlestirilmesine olanak
saglayabilmektedir.
Bazüapllândlülnalarda, sistem (200) aynüamanda, bir veya birden çok sistem (200) islemini
kontrol edecek sekilde yapllândßlâbilen bir kontrol panelini (204) içerebilmektedir. Kontrol
(200) çalisma parametrelerini takip edecek ve/veya kontrol edecek sekilde yapllândlîllâbilen
benzer cihazülçerebilmektedir. Sensörler, klgflhylajnmayacak sekilde çesitli tanklarda hacim,
sistem girdi çlthElglaklg oranlarÇl her bir süreç adIiIa atlEl su pH'Çl mevcut kimyasal
reaktiflerin hacmi, oksidasyon/indirgeme potansiyeli, baslüb ve benzeri dahil islemsel sistem
verisini saglamak üzere sistem (, bu gelen
verileri gerçek zamanlEl temelde isleyecek ve daha sonrasIa kendi özel yazlDlîhI
algoritmalar- göre pompalara, valflere ve diger sistem donann- sorun komutlarIEl
verecek sekilde yapllândlîllâbilmektedir. Bir aklgl ölçer veya benzer cihaz, sistemin toplam
girdi çlEtElhacmini ölçebilirken, çesitli daha küçük aklgl ölçerler, sistemin (200) bireysel
bilesenleri vasltâslgla aklgloranIthiakip edebilmektedir. Bazüyapllândlünalarda, PLC (205), bir
iletisim sistemine islevsel olarak baglanabilmektedir, bu vesileyle veri, kablosuz olarak veya
internet vasltâslýla bir merkezilestirilmis kontrol merkezine iletilebilmektedir. Bu, sistem (200)
islemlerinin uzaktan kontrol edilmesine olanak saglayabilmektedir. Bu, aynüamanda azalan
kisisel maliyetleri ve aynEI zamanda, reçine tanklIl degisimlerinin ve/veya Ikamesinin
programII optimize edilmesini saglayabilmektedir.
BazElyaplIândlElnalarda, kontrol paneli (, bir operatörün, giris
pompaslü (206) kullanarak giren atlEI suyun aklgEEl kontrol etmesine olanak
saglayabilmektedir. Giris pompaslîii206), giren atllZl suyu, örnegin oksidasyon tanklîa208) gibi
sistem (200) içerisindeki bir veya birden çok depolama tank. saglanacak sekilde
yapllândIEllâbilmektedir. Asaglöh daha kapsamlEllJIr sekilde açllZlanacak olan oksidasyon tanklIl
(208), bir çllZlgLeröle tanklEh (210) saglayabilmektedir. Röle tankE(210), kartus filtresine
(212) ve aktif halde karbon (AC) filtresine (214) islevsel olarak baglanabilmektedir. Bir veya
birden çok filtre pompasE(216) aynEtamanda, atllZl suyu, sistemin (200) çesitli bölümleri
üzerinden pompalamak için kullanllâbilmektedir. Sistem (200) aynEIzamanda, pompalar,
valfler ve benzeri vasltEasEla sistemin (200) bölümlerine islevsel olarak baglanabilen
hidroklorik asit (HLC) tankEI( gibi asit
tanklarIEIiçerebilmektedir. Sistemin (200) ek kapsamlarÇl asag. Sekil 3'e referansla
açIanmaktadIE Geri kazanllân bilesenlere ve kullanllân adsorpsiyon mekanizmalarlEb bagllîl
olarak, diger kimyasallar kullanllâbilmektedir.
Sekil 3'e istinaden, bir dizi düzenekte düzenlenen reçine tanklarIEi(302A-G) gösteren,
sistemin (300) örnek teskil eden bir yapllândlElnasElsaglanmaktadlEl Ilk olarak, müsteriden
alin athl su, atllZl suyun, sisteme (300) aklglElEldüzenleyecek sekilde yapllândlülâbilen
tampon tankIa (301) depolanabilmektedir. Ek olarak, çesitli kontaminantlarI
konsantrasyonlarlîagerekli olmasElhalinde) modüle edilebilmekte ve normallestirilebilmektedir.
Tampon tankEl (301), klgflhylîlîl olmayacak sekilde mevcut metalleri ve ilgili
konsantrasyonlarIÇlasklýla allElnlgkatllârÇlkimyasal oksijen talebini ve oksidasyon/indirgeme
potansiyelini içeren atElZl su özelliklerinin degerlendirilmesine olanak saglayabilmektedir.
BazEl/apllândlünalarda, ilk reçine kolonlarüörn. 302A ve 3028), ilk olarak doyurulmus hale
gelebilmektedir. Bu tasarIi, bir klglnen veya tamamen mobile sisteme olanak
saglayabilmektedir, bu da reçine tanklarII merkez tesise ve merkez tesisten kolay bir
sekilde aktarIiIBaglayabilmektedir. Reçine tanklarl:(302A-G), herhangi bir uygun boyutta
olabilmektedir, örnegin belirli bir yapEIândLElnada, her bir tank (302A-G), yaklas[lZJ olarak 80-
100 litre iyon degisim reçinesini içerecek sekilde yapllândßlâbilmektedir. Tanklarla (302A-G)
birlesik her bir reçine tankEbynElzamanda, asaglflla daha kapsamllîbir sekilde açilîlanan,
kabiliyetlerin takibine saglayacak sekilde yapllândlîllâbilen bir veya birden çok RFID izleme
etiketlerini veya benzer cihazlarEilçerebilmektedir.
BazEyapllândlîilnalarda, her bir reçine tankÇl bak. (Cu), çinkonun (Zn) ve nikelin (Ni),
kaplama süreci ile üretilen durulama suyundan aralHlelîl olarak çlKlarHâcak sekilde
yapllândlüllâbilmektedir. Buna, röle tankIa (310) ara depolama sonrasIa iyon degisim
reçinesi tanklarEGBOZA-G) üzerinden durulama suyunu pompalayarak ulasllâbilmektedir. Geçis
metallerinin (Cu, Ni ve Zn) fiili hapsi, pasif bir sekilde olusabilmektedir. Bir veya birden çok
pompa, yükleme veya filtreleme süreci için gerekli enerjiyi tedarik edebilmektedir. Durulama
suyu, reçine tanklarIZl(302A-G) üzerinden geçirildikten sonra, bakB nikel ve çinko gibi
metaller, örnegin yerel tahliye sIlEIiarII (örn. metale baglljblarak 1 ila 3mg/L) altlEUa bir
seviyeye çllZlarllâbilmektedir. Daha sonrasia su, organik kontaminasyonu için daha fazla
arlfllâbilmektedir veya hali haziEla yerel yönetmeliklerle uyum saglamaslîhalinde, belediye
kanalizasyonlar- tahliye edilebilmektedir. Iyon degisimi reçinesinin yükleme kapasitesi
bilindigi (örn. reçine hacmi) için, filtre kapasitesi, metal kontaminasyonun gözlemlenmis
seviyelerine (örn. her bir seminer için bireysel olarak) kolay bir sekilde ayarlanabilmektedir.
Örnegin,, bir reçine tankIIIZyeni bir kümesi ile degisimine kadar olan bir standart kullanl
süresi, yaklaslK] olarak on gün sonra (örn. günlük 4Om3 durulama suyunu kullanarak 2
çalisma haftasDJmeydana gelebilmektedir.
Bazü yapllândlünalarda, her bir reçine tankü (302A-G), tamamen veya kßnen
kapsanabilmektedir ve ariülâcak olan su aklglîliçin uygun giris ve çlKIS açllZlllZlarElile
baglanabilmektedir. Reçine tanklarEi302A-G), belirlenmis yükseklikte ve derinlikte bir reçine
yatag Elusturdugu sekilde reçineyi içerecek ve destekleyecek sekilde yapllândlîllâbilmektedir.
Bu konfigürasyon aynElzamanda, atllZl su, her bir reçine tankEI(302A-G) üzerinden
geçirilebildikçe ve reçine yataglîlboyunca esit bir sekilde daglEllâbildikçe iyon degisim
reaksiyonunun olusmasi yönelik ortami] saglayabilmektedir. Çözeltilerin, klîlflbylEEl
olmayacak sekilde üstte içeri/altta dlgarüaltta içeri/üstte dlglarüle üstte içeri/üstte dlglarüliahil
her bir reçine tankEl(302A-G) üzerinden geçirilmesi için kullanllâbilen çesitli olaslZlaklSl
tasarIilarElmevcuttur. Reçine tanklarEl(302A-G), atllZl suyun, yeniden üretime yönelik
reaktifleri ve geri yikama çözeltilerinin girisini/ç[Klsîlüllîljüzenleyebilen pompalar, valfler, boru
sistem ve benzeri gibi ek ekipmana baglanabilmektedir. Iyon degisim reçineleri,
organiklerden ve katllârdan kirlenmeye ve yllZanmaya tabi olabildigi için, sadece belirli türde
atlE sularü iyon degisim islemi için uygun olabilmektedir. Uygun kontaminantlarI
seviyelerinin, uygun islemi temin etmesi için reçine tanklari (302A-G) atllZJ suyun
girmesinden önce yönetilebilir bir arallKl içerisinde oldugu diger durumlarda, filtreleme ve
oksidasyon gibi ön islem adli-larlâlbilmektedir.
Islem esnaletla, yükleme asamasüasnaslda, bir veya birden çok reçine tanklarEBOZA-G),
yeni reçineyi içerebilmektedir ve atlEl su, atllZl su ve iyon degisim reaksiyonunun meydana
geldigi reçine arasEtla yeterli miktarda temas süresini saglamak üzere tasarlanan bir oranda
reçine tanklarEL'izerinden pompalanabilmektedir. AtllZl su, reçine yataglIüzerinden akarken,
iyon degisim reaksiyonu meydana gelebilmektedir ve metaller ve diger iyonik kontaminantlar,
athl sudan çllZlarllâbilmekte ve reçinede hapsedilebilmektedir. Reçinesinin degisim kapasitesi
kademeli bir sekilde tükenmis hale gelirken, bazljlnetaller, reçine ile tutulmayabilmektedir ve
bir veya birden çok reçine tankIan (302A-G) sEmaya veya “ilerlemeye” baslayabilmektedir.
Sonuç olarak, reçine tanklarlZl (302A-G), Sekil 3'te gösterildigi gibi seri halde
yapliândlüllâbilmektedir, böylelikle her bir reçine tanklÇIbundan önce tanktan çllZlan herhangi
bir metali veya iyonu yakalayabilmektedir; bu sekilde atllîi suyun basariIJIbir islemini temin
etmektedir. Bir reçine tankülloygun hale getirildiginde, çevrim dEHörn. kontrol paneli (204)
kullanilârak) veya servis isleminde seri halde tanklardan (302A-G) aIIbilmekte ve yeniden
üretilebilmektedir. Fiziksel tasIia ve kimyasallara maruziyet, reçine yap-[El
degradasyonuna ve zamanla degisim kapasitesine nenden olabilmektedir. Bu sekilde, bu
yükleme/yeniden üretim döngüsü, reçinenin çallSlTia ömrüne ulasllâna kadar tekrar eden bir
sekilde uygulanabilmektedir ve artilZl ekonomik degildir veya reçinenin kullanIia devam
edilmesi mümkün degildir. Bu noktada, tükenmis reçine atllâbilmektedir ve reçine tanklarEI
(302A-G), yeni reçine ile doldurulabilmektedir.
Sistem (300), Sekil 2'de gösterilen kontrol paneli (204) gibi olan, sistem boyunca çesitli
bilesenleri kontrol edecek sekilde yapllândlîllâbilen bir kontrol paneli içerebilmektedir. Kontrol
paneli (204), sistemin (300) valflerine, pompalarlEb, sensörlerine ve kontrol hatlar. islevsel
olarak baglanabilen programlanabilir bir mantllg denetleyicisini veya benzer cihazEl
içerebilmektedir. Kontrol paneli (204), sistemin (300) bilesenleri ile iletisim halinde olabilen
saylîthürde devreyi içerebilmektedir.
Burada açlk`lanan herhangi bir yapllândlîilnada kullanIlglEüzere, “devre” terimi, tek bas-
veya herhangi bir kombinasyon halinde, örnegin programlanabilir devre ile uygulanan
talimatlarESaklayan donanIlEljevreyi, programlanabilir devreyi, teknigin makine deviresini
ve/veya yazlEüîliIEiçerebilmektedir. Baslanglgta, herhangi bir yapüândHnada veya burada
bulunan bir yapllândünada aç[lZlanan herhangi bir islemin ve/veya islevsel bilesenlin,
yazUJIIJlda, donanIida, donanilEUevrede ve/veya bunlarI herhangi bir kombinasyonunda
uygulanabilmektedir.
Yukari açlEland[glEüzere, ön uç sistemi (300), toksik olmayan baz metallerinden bir çok
düzenlenmis metalleri önceden aylîilnak üzere bir ön seçim iyon degisim mekanizmasIEl
kullanabilmektedir. Sensörler, islemsel parametreleri takip etmek için sistem (300) boyunca
yerlestirilebilmektedir ve kontrol panelle (204) birlesik programlanabilir mantllZl denetleyicisine
(205) veriyi besleyebilmektedir. Sistem (300) içerisindeki her bir süreç, belirli bir atllZJ su
kontaminantlüminimum geri dönüsüm veya düzenleyici tahliye standartlarlülerine getiren
belirli konsantrasyonlar- çllZlarabilmekte veya arlßbilmektedir.
BazEl yapllândlîilnalarda, röle tankü (310) gibi röle tanklarÇl giris aklgl oranIIZI
düzenleyebilmektedir ve (gerekmesi halinde) atllZl suyun degerlendirilmesine ve ayri üamanda
pH ayarlamaslüla Izin verebilmektedir. Röle tankE(310), oksidasyon tankIZ(308) gibi saylîlîl
kaynaktan bir çllîlgljlacak sekilde yapllândlEllâbilmektedir. Oksidasyon tankEG308), takip eden
iyon degisim reçinesi tanklarII (302A-G) verimliligini potansiyel olarak negatif bir sekilde
bozabilen organik maddeleri yok edecek ve/veya azaltacak sekilde yapllândülâbilmektedir.
Röle tanklEUan (310) çllîlgüklîlflhylîlîblmayacak sekilde kartus filtresi (312) ve aktif halde
karbon filtresi (314) dahil bir veya birden çok filtreye gönderilebilmektedir.
BazEyapilândÜnalarda, kartus filtresi (312) veya bir file torba veya kum filtresi gibi diger
mekanik filtreler, askMa aIlElan katHârD/e diger partikülleri çilZlarabiImektedir. Kartus filtresi
(312), ek filtreleme islemleri için aktif halde karbon filtresine bir çlEISZSaglayabilmektedir.
Örnegin aktif halde karbon filtresi (314), herhangi bir kalan kalan müdahaleci organigi
ve/veya asklýla alin katmmarmak üzere athlsuyu cilalayabilmektedir.
Filtreleme tamamlandlgllia, atllZl su, çesitli türde iyon degisim reçinelerini içerebilen reçine
tanklari (302A-G) gönderilebilmektedir. Reçine tanklarE(302A-G), gerekli oldugu sekilde
aI-bilen veya üzerine konulabilen mobil tanklarda muhafaza edilebilmektedir. Reçine
tanklarEl(302A-G), hedef metalleri ve aynElzamanda diger katyonik veya anyonik türleri
yakalayacak sekilde yapllândlülâbilmektedir. Bireysel reçine tanklarE(302A-G), bir merkezi
veri tabanünadenciligi ve lojistik yazilim sistemi ile isaretlenmis ve baglanmlgl radyo frekans
tanIilamasEüRFID) olabilmektedir.
BazElyapllândlBlnalarda, sistem (300) aynüzamanda, bir asit çözeltisini sistemin (300)
bölümlerine saglayacak sekilde yapilândlîllâbilen bir veya birden çok asit tankIEl
içerebilmektedir. Örnegi, HZSO4 asit tanklîa bir
veya birden çok hattüta veya tanklEb baglanabilmektedir. Bu belirli asitler, çesitli diger türde
asitler ve çözeltiler de kullanllâbildigi için örnek teskil eden amaçlara yönelik olarak
saglanabilmektedir.
Sekil 4'e referansla, ön uç sisteminin (400) bir ek yapllândlünaslîgösterilmektedir. Sistem
(400), aklgl oranIElsisteme (400) düzenlemesi için atllZJ suyu depolayacak sekilde
yapllândlüllâbilen tampon tankIE{401) içerebilmektedir. Ek olarak, çesitli kontaminantlarI
konsantrasyonlarlîûgerekli olmasEllialinde) modüle edilebilmekte ve normallestirilebilmektedir.
Tampon tankEI (401), klgflhylîlîl olmayacak sekilde mevcut metalleri ve ilgili
konsantrasyonlarlü pH, asklýb allEinlgl katilârlZl kimyasal oksijen talebini ve
oksidasyon/indirgeme potansiyelini içeren atllZl su özelliklerinin degerlendirilmesine olanak
saglayabilmektedir.
BazlZyapllândHnalarda, atlEJ su, tampon tankIian (401), hizalljbksidasyon reaktörüne (408)
belirlenmis bir aklgl oranIa pompalanabilmektedir. Oksidasyon reaktörü (408), siyanür ve
sürfaktantlar gibi müdahaleci organik maddeleri yok edecek sekilde yapilândlîllâbilmektedir
ve Sekil 5-6'ya referansla daha kapsamllîbir sekilde açilZlanmaktadlEl Oksidasyon reaktör
( HCL'yi alabilmektedir. Sodyum
hipoklorür, hidrojen peroksit, sodyum hidroksit veya elektrokimyasal teknikler gibi oksidasyon
kimyasallar kullanüârak, atlEl su, hedef metallerin çökelmesini önlemek ve/veya azaltmak
üzere düsük (örn. 4 ila 6) pH'da ve aktif oksidasyon maddesini çözeltide tutmak üzere pozitif
baslüç aItIda oksitlenebilmektedir. Oksidasyon reaktörünün (408) çift tanklEtasarIiÇlbir iki
asamaIIZI organik oksidasyonu, aynEl zamanda inorganik müdahaleci kontaminantlarü
olusturabilmektedir. Oksidasyon reaktörü, çesitli gazlarlEl, temizleyiciye (427) ve/veya gaz
giderme tank. (428) geçisine olanak saglayacak sekilde yapllândlîllâbilen bir veya birden
çok çiElgyuvasIüçerebilmektedir.
BazElyapllândlElnalarda, atllZJ su, oksidasyon reaktöründen (408) mekanik filtreye (412)
pompalanabilmektedir. Mekanik filtre (412), klgfliaylîljkum filtreleri, torbalElfiltreleri ve
benzerini içeren herhangi bir uygun filtre olabilmektedir. Mekanik filtre (412), iyon degisim
(örn. reçine) tanklarIEl(402) sistemde (400) asagEldogru y[lZhnmasIElveya kirlenmesini
önlemek üzere askiya aIlEbn katüârlîl ve diger partikülleri çlKlaracak sekilde
yapliândlîllâbilmektedir.
BazEyapilândlEnalarda, atilg su, mekanik filtreden (412) çlKlabilmekte ve aktif halde karbon
filtre (414) üzerinden pompalanabilmektedir. Aktif halde karbon filtresi (414), hala çözülmüs
halde kalabilen herhangi bir müdahaleci organigi ve aynüamanda, herhangi bir kalan asküa
aIlEmlglkatEBdsorbe edecek sekilde yapilândlîllâbilmektedir. Bu noktada, atiEI su, takip eden
iyon degisim sürecinin etkinligini negatif anlamda bozabilen herhangi bir katlEIEin,
partiküllerden, müdahaleci organikten, selatlama maddelerinden veya diger
kontaminantlardan büyük ölçüde arlümlglolabilmektedir.
Bazß'apllândlülnalarda, aktif halde karbon filtresinden (414) çlElnasIan sonra, atilZJ su pH'I,-_l
Sekil 3'te gösterilen röle tankE(310) gibi bir röle tankIa (gerekli olmasEhalinde, mevcut
metallere bagllZblarak) ayarlanabilmekte ve kontrol edilebilmektedir. Daha sonrasIda, atiIZl
su, seri halde yerlestirilebilen ve seçici iyon degisim reçinelerini içerebilen iyon degisim
tanklarIEla (402A-B) belirlenmis bir aklSl oranlEtla pompalanabilmektedir. Sekil 4'te sadece iki
ön seçici iyon degisim tankElgösterilirken, herhangi bir sayüb degisim tankÇl mevcut
tarifnamenin kapsamlEtlan kopmaks- kullanilâbildigi öngörülmektedir. YumusatlElZl baz
katyonu ve anyon demineralizasyonu, tankta (402C) meydana gelebilmektedir.
BazEyapHândlîilnalarda, iyon degisim tanklarE( gibi
aslEIIIbH'a (örn. asit ve alkalin) dirençli baslik; tasEIEJBhn ve reaktif olmayan malzemeden
olusturulabilmektedir. Iyon degisim tanklarE(402A-B), sistemin (400) aklgl oran. yönelik
uygun reçine tankmerinligini olusturmak üzere uygun bir yükseklikte ve çapta olabilmektedir.
Tanklar aynElzamanda, reçine yataglEllEl slîllâstlîlliiasüve genisletilmesi için yeterli alana
olanak saglamak üzere boyutlandlEIBiasEIgerekebilmektedir. Kullanilân iyon degisim tankEi
sayIgÇl arzu edilen günlük hacim kapasitesine ve tanklarI degisimi arasIa dahil edilen
süreye bagIEblabilmektedir. Her bir iyon degisim tankl,`_l bir bireysel tankI veya tanklarI
anIda servisine, tüm ön uç sisteminin (400) kapatllßîasl ihtiyaç duyulmadan olanak
saglayarak bir baypas valfi ile baglanabilmektedir.
BazEýapilândlElnalarda, her bir bireysel iyon degisim tankümobil olabilmektedir ve ek koruma
ve aynElzamanda basitlestirilmis tasIia ve nakliyede saglayabilen bir çerçevede veya
muhafazada ayarlanabilmektedir. Her bir iyon degisim tankElaynEizamanda, bir lojistik
yönetim sistemine baglanan bir benzersiz radyo frekans tanIiIama (RFID) isareti ile
baglanabilmektedir. Elde tas-n, kamyona monte ve merkezi islem tesisine monte sensörler,
tüm iyon degisim tanklarII (örn. 402A-B) gerçek zamanlEitakip ve yöntemine ve aynü
zamanda, veri tabanEiyaziIJEhüilet yönetilebilen bir islem geçmisinin olusmasi olanak
saglayabilmektedir. Bu sekilde, örnegin klglflhylaîlolmayacak sekilde hizmet yeri, hizmet
süresi, yakalanan metaller, degisim verimliligi/kapasitesi, yeniden üretim sonuçlarÜ/e isletim
ömrü gibi parametreler dahil her bir iyon degisim tankII geçmisi, veri tabanIa
toplanabilmektedir. Sistem (400) aynEizamanda, islem egilimlerini ve verimliliklerini
tanIiIamak için veriyi analiz etmek üzere kullanliâbilen, daha sonralehla islem prosedürlerini
ve düsük maliyetleri optimize etmek üzere kullanllâbilen veri tabanünadencilik yazHJEiIEl
içerebilmektedir.
BazEyapllândIElnalarda, örnegin büyük atllZJ su hacimlerinin ariElBiasEgerektigi yerde, iyon
degisim tanklarII çesitli kümeleri veya dizileri paralel olarak yerlestirilebilmektedir. Her bir
bireysel küme veya dizi, bir bagislîi baypas valfini içerebilmektedir. Bu taslakta, iyon
degisim tanklarII bir bireysel kümesi, hizmet için çevrimdlSlllarak allEbbilirken, diger tank
kümeleri, isleme devam edebilmektedir. Bu, ön uç sistemin (400) minimum aksama süresi ile
aralllZblîl olarak çaIlSh'ialeb olanak saglayabilmektedir. Alternatif olarak, daha genis iyon
degisim tanklarÇlyüksek hacimli uygulamalarüçlemek üzere bir düz yatakllîiiömorklar gibi bir
mobil platforma dogrudan monte edilebilmektedir.
BazElyapllândlElnalarda, iyon degisim tankII (örn. 402A-B) her bir kümesi, atllZl suda
metallerin mevcudiyetini tespit etmek üzere tasarlanabilen seri halde ucun yakIIa bulunan
iki iyon degisim tankßrasia konumlandEilân bir sensörü içerebilmektedir. Bu sensörden bir
pozitif sinyal, sensörden önce gelen iyon degisim tankian bir arlîlayElveya ilerlemeyi
gösterebilmektedir. Bu sensör, iyon degisim tanklarII bir degisiminin gerekli olabilecegine
dair operatöre sinyal gönderen bir alarmElietikleyebilmektedir. Dahasüiyon degisim reçinesini
içeren boru hatti. açilZi bir kEinIan olusan bir görsel gösterge, sensörün yakII ve aynEl
zamanda iki iyon degisim tankII araleb yerlestirilebilmektedir. Genellikle iyon degisim
reçinesi, metalleri adsorbe ettikçe renk degistirebilmektedir. Sonuç olarak, göstergenin
renginde olan bir degisim, islemin gerçeklestigine ve iyon degisim tanklarIIBl bir degisiminin
gerekli olduguna dair operatöre bir görsel yardm alarmüsaglayabilmektedir. Bu renk
degisimi, ek algHâma ekipmanElkullanllârak veya operatör tarafIan görsel inceleme
vaslßslýla belirlenebilmektedir. Bu tasarIi, metal taslýian atik] suyunun, bir bütün olarak
sisteminden (400) çEEi'nadlgiIüve ariEilüiEi atilZi su bükma sisteminin (400), düzenleyici
tahliye klîlflhmalarEi/e/veya geri dönüsüm su kalitesi standartlarlîile uyumlu haldedir. Ek
sensörler ve göstergeler, islem parametrelerini takip etmesi için iyon degisim tanklarII
serileri boyunca yerlestirilebilmektedir.
BazEl/apilândlîiinalarda, metaller ve diger iyonik türler, iyon degisim tanklarE(402A-B) ile
yakalandlgllEUa, bu tanklardan gelen atllZl madde, cilalaylalâra (422 ve 424) gönderilmeden
önce bir tankta (402C) saklanabilmektedir. CilalaylîJEr (422 ve 424), öncesinde çilZlarilBiamE
vaziyette kalan, asklîia aIiEl'niglpartikülleri çilZlarmak için kullanüâbilmektedir. CilalaylEilârdan
(422 ve 424) ayrHIhaleUan sonra atEZJ su, sonraki depolama için geri dönüstürülmüs su
depolama tank. (426) gönderilebilmektedir. Su depolama tankIa (426) elde edilen su,
tesisten tahliyesi için veya alternatif olarak, geri dönüsüm ve alanda tekrar kullanIiEiçin
uygun olabilmektedir. Ek asit tanklarEQ430 ve 432), geri dönüstürülmüs su depolama tank.
(426) islevsel olarak baglanabilmektedir ve bir veya birden çok iletim hattlîüzerinden tanka
(426) çesitli asitleri ve/veya çözeltileri saglayacak sekilde yapllândlîllâbilmektedir. Geri
dönüsümün, daha yüksek saflitha suya ihtiyaç duyabildigi durumlarda, ariEIlB'iEi su, bir ters
ozmoz sistemi vasIBisEIa pompalanabilmekte veya yeniden kullan! öncesinde bir geleneksel
demineralizasyon sistemi ile aritilüîlglîl
BazlZi yapilândiEinalarda, iyon degisim tanklarEi (402A-B), gerekli metalleri ve diger
kontaminantlarüyakalad[gllda, iyon degisim tanklarEl(402A-B) daha sonrasIda, yeniden
üretim ve geri dönüsüm için merkezi islem tesisine taslElabilmektedir. Aglülgüzaltmak için ve
tasIia ve nakliyeye olanak saglamak için her bir tankta bulunan aslElEbuyun armaslüb
yönelik bir pozitif hava baslik; cihazükullanilâbilmektedir. Bir kum filtresinden geri akanlar gibi
düzenlenmis malzemelerden (örn. metaller) arlîllîhlgl olan bazütllZlar, bölgeden bertaraf
edilebilmektedir ve taslEtnasIJJerekmeyebilmektedir. Alternatif olarak, ekonomik, düzenleyici
veya diger hususlar. (örn. düzenlenmis malzemelerin taslErnasIa büyük günlük atHZl su
hacimleri veya kEIfllamalarDü önemli oldugu uygulamalarda, merkezi islem tesisi, ön uç
sistemle (400) aynEböIgede konumlandmlâbilmektedir. Bu taslak, sistem kabiliyetleri veya
etkililigine yönelik herhangi bir kademeli etki olmadan tasIia ve nakliye maliyetlerini ortadan
kaldlßbilmektedir.
Sekil 5-6'ya referansla, yukarlElla açlElandlgEilizere, sistemler (300 ve 400), giren atllîl su akEEI
içerebilmektedir. Arada süda, kaplama süreci esnasIda, bazElmetaller kaplanabilirken,
genellikle siyanür gibi bir kimyasal madde ile stabilize edilmektedirler. Fakat siyanür, güçlü bir
selatlama maddesidir ve iyon degisim kimyalela müdahale edebilmektedir. Bu sekilde,
siyanür, metal iyonun, reçine tanklarü(302A-G) içerisinde bulunan islevsel gruplarla
tutulmasIü/eya adsorbe edilmesini önleyebilmektedir. Bu sebepten ötürü, süreç, verimli ve
toksik metalleri gevsetebilmektedir ve siyanürler, uygun islemde kaçIbilmektedir. Siyanür,
sodyum hipoklorür veya beyazlatIEZKNaOH çözeltisinde NaOCI, pH ca. 12) gibi bir güçlü
oksidasyon maddesi ile yok edilebilmektedir. Reaksiyon, hidroksit çökeltisinden önce veya bu
çökeltiye paralel olan karlgtlîlliigbir reaktörde meydana gelebilmektedir.
Bu sorunu ele almak için, bazEýapllând Enalarda, sistem (300), durulama suyunda siyanür ve
diger organik kontaminasyonun y-i- olanak saglayacak sekilde bir reaktör boyunca aklg
olarak yapllândlîllâbilen oksidasyon reaktörünü (500) içerebilmektedir. Oksidasyon reaktörü
ve reaksiyon eleman. (512) sahip olan oksidasyon tankIlII(502) içerebilmektedir.
Oksidasyon reaktörü (500), bir düsük pH'da (örn. 4-6) siyanürü okside etmek için
kullanllâbilirken, reaksiyon çözeltisi, Sekil 5'te gösterilen sariEüZlkonfigürasyonu alabilen
reaksiyon elemanIa (512) baleçlandlElâbilmektedir. Düsük pH, degerli hedef metallerin
hidroksit çökeltisini önleyebilirken, baleç, aktif klorini fiziksel çözeltide sürdürmektedir. Bu
sekilde, sodyum hipoklorürün veya diger güçlü oksidasyon maddelerinin azaltllîhlgloksidasyon
potansiyeli telafi edilebilmekte ve hatta gelistirilebilmektedir.
BazEyapllândlElnalarda, giris yuvasE(504), oksidasyon tanklEla (502) saylgiîl s-I girisine
olanak saglayacak sekilde yapllândlîllâbilmektedir. Örnegin, çesitli kaplama islemlerinden
durulama suyu, giris yuvaslZ(504) üzerinden oksidasyon tank. (502) girebilmektedir. Giris
yuvaslZI(504) aynElzamanda, su peroksidin ve beyazlatEElgibi çesitli diger maddelerin
eklentisine olanak saglayabilmektedir. Hava giris yuvaslI(506), oksidasyon tank. (502)
havanlEI veya diger gazlarI eklentisine olanak saglayacak sekilde yapüândlülâbilmektedir, bu
da klorin galeEI, egzoz yuvasE(510) üzerinden çllZlarüBiasElle sonuçlanabilmektedir. ÇlElgI
yuvasE(508), klorini ve/veya dekompoze organikleri çüîlaracak sekilde yapllândlîllâbilen bir
karbon filtre veya benzer cihazla birlestirilebilmektedir. Egzoz yuvasüSlO), ç[lZlarma islemine
yönelik olarak siyanürü ve klorin gazIÜilmak üzere bir kanal olarak hareket edebilmektedir.
Bir düsük pH, oksidasyon tankE(502) içerisinde gazI bosaltllßîaslîile sonuçlanabilmektedir,
fakat bir yüksek pH, metal hidroksitlerin formasyonu ile sonuçlanabilmektedir, bu sekilde
balele reaksiyon bobini (512), bir yüksek pH'a karsEl hareket edecek sekilde
kullanllâbilmektedir.
BazEýapllândlElnalarda, reaksiyon bobini (512), atllZJ suyun, oksidasyon tankia (502) kaldlglj
süreyi arttlElHken, bir kapatlßilg ve yükseltilmis baslik; ortamIEblusturmak için istifli bir
bobinde boru sistemi kullanilârak düzenlenebilmektedir. Reaksiyon bobini (512), herhangi bir
uygun uzunlukta olabilmektedir, bir yapilândlîilnada, reaksiyon bobini (512), uzunluk olarak
bir kaç metre olabilmektedir. Dozlama pompalarÇlpH'lIayarlamak için ve oksitleyici maddenin
atEIZI suya dahil edilmesi için boru vasllîasüla oksidasyon tankEb (502) islevsel olarak
baglanabilmektedir. Oksidasyon tankE(502) aynüzamanda atllZJ suyun pH'IEöIçecek sekilde
yapüândlüllâbilen en az bir monitörü içerebilmektedir. Monitör, tankta atilîl suyun pH'IEl
dinamik olarak degistirebilen bir kontrol sistemine islevsel olarak baglanabilmektedir.
BazlZyapilândEnalarda, giris yuvasIl]504) takip eden reaktörde bir statik karISt-I dahil
edilmesi ile karlgtlElna islemine ulasllâbilmektedir. Ek olarak veya alternatif olarak, karlStHna
islemi, reaksiyon bobinine (512) dahil edilmeden önce geleneksel karlgtlElna teknikleri ile
yürütülebilmektedir. Bu birinci adnda pozitif baslik,` uygulamasÇlslýEliazda uçucu oksidasyon
maddeleri zenginlestirebilmektedir ve gazlarII giderilmesini önleyebilmektedir. Bu, atiIZJ su
ile oksitleyici maddenin temas süresini uzatElken, hatta kimyasal olarak elverissiz, hafifçe
asidik pH ortamlEda oldugunda bile oksidasyon verimliligini arttüabilmektedir.
BazlZlyapilândlEnalarda, bir ek oksidasyon ad“a, atiEl su, reaksiyon bobininden (512)
çlKlabilmekte ve oksidasyon reaktörü (500) içerisinde bir ikinci tanka akabilmektedir. Tankü
duman çHZISJEIIZl/eya diger oksidasyon yan ürünlerini önlemek üzere mühürlenebilmektedir.
AtllZl suyun kapsamllîblarak havalandlEIlBiasÇlhavanlEl, hava giris yuvasE(504) üzerinden bir
pompa vasitâslsîla oksidasyon tank. (502) girmesi ile saglanabilmektedir. Potansiyel olarak
çatlamE kontaminantlar oksijen ile daha da oksitlenebilirken, egzoz yuvasE(510) vasitâslýla
oksidasyon tanklEb (502) islevsel olarak baglanan bir temizleyici sistem, gazI giderilmesini
kontrol etmek ve toksik dumanlarEl/e/veya uçucu oksidasyon yan ürünlerini çlKlarmak üzere
kullanilIhaktadE Bu adli, aynüamanda fazla oksidanÜ/eni oksitlenmis atiKl sudan etkili bir
sekilde slýlßbilmektedir, atila suyun temizlemekte ve herhangi bir kiri veya sistemde daha
sonrasia iyon degisim reçinelerinin diger kontaminasyonunu minimize etmektedir.
BazElyaplIândüinalarda, bir fazla klorini çiElarma tankEile oksidasyon tankEKSOZ) entegre
edilebilmektedir. Hava slîlülna yaklasIilZlile, fazla klorin, iyon degisim reçinesine hasar
gelmesinin önlenmesi için durulama suyu çözeltisini içermeyen siyanürden çlKlarilâbilmektedir.
Klorin, egzoz yuvasEK510) üzerinden güvenli bir sekilde aktarllâbilmekte ve bir asIlElED
temizleyicide tutulabilmektedir. Doymus temizleyici çözelti, potansiyel olarak oksidasyon
tanklEUa (502) bir oksidasyon maddesi olarak yeniden enjekte edilebilmektedir.
BazEl/apllândlülnalarda, reaksiyon bobini (512) baleIçlandlEllâbilmektedir ve aynlîzamanda,
reaksiyon slîlîlüllül gazII erkenden giderilmesini de önleyebilmektedir. Reaksiyon bobini
(512), reaksiyon süresinin 8'in altIa bir pH'da uzatilfnas- olanak saglayabilmektedir, bu
da siyanürü ve organik katkllârlîlyok ederken çözeltilerde hedef metallerin önlenmesine
yardIi edebilmektedir.
Sekil 6'ya referansla, oksidasyon reaktörünü (600) gösteren bir ek yapllândlülna
saglanmaktadlü Oksidasyon reaktörü (600) aynüamanda, fazla klorin çllîbrma tankIlJ614)
içerebilmektedir. Bu yapilândlülnada, iki ayrljrlülna tankübir baska ifadeyle oksidasyon tankEl
(602) ve fazla klorin çiKlarma tankEG614) birbirlerine bitisik olarak saglanmaktadlü Reaksiyon
bobini (612), kaplama islemlerinden ve/veya asit ve hipoklorürden durulama suyunu
saglayacak sekilde yapllândlîllâbilen giris yuvalela (604) birlestirilebilen oksidasyon tankEl
(602) içerisinde saglanmaktadlü Oksidasyon tanklZ(602), yaklasiEl olarak 4 ila 6.5 bir pH'da
aktif klorininin bir uzatllüilgl reaksiyona saglanacagEbekilde yapllândlîlâbilmektedir. Fazla
klorin tankIZI(614), fazla klorini, havalandlElna veya benzer teknikleri kullanarak arlEllBilSl
çözeltiden temizleyecek sekilde yapllândlîllâbilmektedir. BazEUurumlarda, düsük pH, hedef
metal tuzlarII çözünürlügünü sürdürmesi için gerekli olabilmektedir.
Sekil 7'ye referansla, mevcut tarifnamenin bir oksidasyon reaktörü ile Iliskili islemleri gösteren
bir akIi semasEl(700) saglanmaktadlEl Islemler, bir tampon tankIa (702) kaplama
sürecinden durulama suyunun depolanmasIlZl/e/veya allEinasIlZiçerebilmektedir. Islemler
aynüamanda, bir pozitif baslüçlüleaksiyon bobininin ve oksidasyon reaktörü (704) ile birlesik
statik karlSt-I kullanllfnasllîl içerebilmektedir. Burada, bir oksidasyon maddesi
eklenebilmektedir ve bir pH ayarEgerçeklestirilebilmektedir. Örnegin bir hava üfleyici veya
diger uygun teknikler (706) kullanilarak gazI giderilmesi ve havalandIElna
uygulanabilmektedir. AtllZl su, iyon degisim tanklarIa (708) aI-bilmektedir ve oksidasyon
reaktöründen herhangi bir egzoz dumanüdetoksifikasyon (710) içeren bir temizleyiciye
gönderilebilmektedir. Bu, sayElZl diger islemin mevcut tarifnamenin kapsamlîliçerisinde
kalmaslöblan dolayl:lsadece örnek teskil eden bir islem kümesidir.
Sekil 8'e referansla, mevcut tarifnamenin sistemleri ve yöntemleri ile iliskili islemleri gösteren
bir akli semasEl(800) saglanmaktadlEl Islemler, kaplama banyolarIan (802) durulama
suyunun allEi'nalelEl ve daha sonrasIa saklanmasIEliçerebilmektedir. Islemler aynlZl
zamanda, Sekil 7'ye referansla (804) yukarlöla açlElananlar gibi oksidasyon islemlerini
içerebilmektedir. Islemler aynüamanda, atl]Z] suyun reçine tanklarlEh (808) saglanmaleUan
önce bir aktif halde karbon filtre vaslßsûla süzgeci (806) içerebilmektedir. Kalan su, suyun
geri kazanIilZgeri dönüsümü (812) için ters ozmoza tabi olmadan önce veya ek olarak veya
alternatif olarak, is parçasII ön arlülna (814) için geri dönüstürülmesinden önce bir pH
ayarlEb (810) tabi tutulabilmektedir. Ön uç sistemden çEIZtlthan sonra, arlülînß su, geri
dönüsüm bölgesi için hazlElolabilmektedir veya uygulanabilir düzenleyici tahliye kllâvuzlarliile
uyumlu bir sekilde tahliye edilebilmektedir. Düzenlenmemis maddeler, bölgeden bertaraf
edilirken, metal taslýlan iyon degisim tanklarÇlreçinenin yeniden üretimi ve aynEzamanda
metallerin islenmesi ve geri dönüstürülmesi için bir merkezi islem tesisine
gönderilebilmektedir. Bu, saylîlîl diger islemin mevcut tarifnamenin kapsamEliçerisinde
kalmasIan dolayÇlsadece örnek teskil eden bir islem kümesidir.
MERKEZI ISLEM
Merkezi islem tesisi, ön uç sisteminden doymus veya klglnen doymus iyon degisim (reçine)
tanklarljlçin toplama ve islem noktaslîiblarak hareket edebilmektedir. Merkezi Islem tesisinde,
ön uç sisteminden iyon degisim tanklarüyeniden kullanIi için yeniden üretilebilmektedir ve
metaller, klglflbylîlîlolmayacak sekilde iyon degisimi tanküslîlülna ve reçinenin yeniden
üretimi, metallerin ayrllBiasEl/e saflastlElEhaSEl/e nihai olarak geri kazanllân metallerin son
ürünlere islenmesi dahil çok saylâb asamadan olusan bir süreçte geri kazan Hâbilmektedir.
Bazlîyapüândünalarda, tükenmis ve yüklenmis reçine tanklarÇlörnegin reçine tanklarlîa302A-
G), merkezi islem tesisine ulasabilmektedir ve bosaltllâbilmektedir. Reçine, tanklardan ve bir
toplu süreçte arlülân asitten çllZlarllâbilmektedir. Asit, reçinede toplanan ve durulama suyu ile
birlestirilen metalleri çilZlarabiImekte, asagi açllZJanan izolasyon ve saflastlüna için yükleme
çözeltisini saglayabilmektedir. Asit aynüamanda, iyon degisim reçinesini proton formuna geri
döndürebilmektedir.
BazEl yapilândlîilnalarda, iminodiasetik iyon degisim reçinelerinin proton formlarIda
kullanilâbildigi belirtilmelidir. Bu, kimyasallar. kullanIiIüie durulama suyu gereksinimlerini
minimize edebilmektedir. Bu yaklasIi kullanüârak, kimyasal maliyetteri yaklasllîi olarak %20
ve durulama suyundan yaklasliZl olarak %50 bir tasarruf elde edilebilmektedir. Bir proton
formunda olan selatlaylîljlyon degisim reçinesinin kullannümuazzam say. kostik, tuzlu su
ve özellikle durulama suyundan tasarruf edilmesine yardIi edebilmektedir. Dahasükostik ile
(örn. yaklaslKl olarak 10 ila 14 yüksek pH degerleri) yiEianIElken ve yeniden üretilirken
reçinenin sismesinin önlenmesinde önemli bir fayda bulunmaktadE Çapraz bagliîpoli stiren
yap-I bir volümetrik genislemesinin bir sonucu olarak sisme meydana gelebilmektedir. Bir
düsük pH'da bu sisme ve sonraki büzülme, reçine yiöranmasII basliEh sebeplerinden
birisidir. Bu sekilde, reçinenin çallgt[glEyüksek pH degerlerinin önlenmesi, malzemenin yasam
süresini arttßbilmektedir.
BazEyapllândBnalarda, ön uç sisteminin kuruldugu bölgede, örnegin 302A-G gibi doymus
iyon degisim tanklarÇlyeniden kosullandElIIhlSiyon degisim tanklarEiçin degistirilebilmekte ve
daha sonrasIa merkezi islem tesisine geri tas-bilmektedir. Ekonomik, düzenleyici veya
diger hususlar. çok faydaliZbIdugu durumda, merkezi islem tesisi, ön uç sisteminden iyon
degisim tanklarIn taslErnasEl/e nakliyesi ihtiyacIEibrtadan kaldübilen ön uç sistemle aynEl
bölgeye yerlestirilebilmektedir. Ek olarak veya alternatif olarak, merkezi islem tesisi aynEI
zamanda, maliyetler ve kimyasal tüketim azaltllârak, çesitli asamalarda kullanlßn süreç
sularII da arlülâbildigi ve sürece geri dönüstürülebildigi sekilde kurulan bir ön uç sistemine
sahip olabilmektedir.
BazEyapllândlElnalarda ve Sekil 3'e referansla yukarlöh açlEIandlglEüzere, ön uç sisteminin
bölümleri, RFID takibini içerebilmektedir. Örnegin, merkezi islem tesisine geldikten sonra,
iyon degisim tanklarüilgili RFID etiketlerinden aI-n verilere dayanarak sIlflhndiEillâbilmekte
ve gruplandlîllâbilmektedir. GruplandlEina, örnegin benzer özellikleri sergileyen tanklar gibi
iyon degisim tanklarII en verimli sekilde islenmesine olanak saglayabilmektedir. Daha
belirgin olarak, ilgili metalleri ve ilgili konsantrasyonIarElçermektedirler. Veri tabanü'azllilîliü
gelen iyon degisim tanklarII (RFID tanular dayanarak) islevsel geçmislerini analiz
edecek ve operatörlere optimum islem parametrelerini önerecek sekilde
yapllândlülâbilmektedir. Bu kategorizasyon ve sIlühndHna süreci, farklElön uç toplama
bölgelerinden çesitli giris degiskenlerini dengeleyerek tesisin verimliligini gelistirebilmektedir.
Bu, geri kazanllân metallerin, homojen hacim ylgiIarI aIIEtnasEile baglantilmalarak, islem
ve azaltma maliyetlerini basitlestirerek her bir ylEjJII degisken arallEjlIDve say-El
azaltmaktadlü
Sekil 10'a referansla, bir tasIia kaylSElvakumlu filtre bandElslîLIElna ve yeniden üretim
sisteminin (1000) bir örnek teskil eden yapllândlEna saglanmaktadlEl Sistem (1000), ön uç
sisteminde konumlandlElllâbilen veya ön uç sisteminin dlgütla bölgede konumlandlEIlâbilen
merkezi islem tesisinde konumlandlEllâbilmektedir. Sistem (1000), genel durulama suyu
tüketiminin minimize edilmesine ve rejenerantlEl bilesimi ve özellikleri üzerinden yüksek bir
kontrol derecesi saglanmaslüb yarIi edilmesi için tekrar eden bir sekilde daha az kontamine
durulama suyunu yeniden kullanabilen basamakIEliJir düzenlemeyi kullanabilmektedir. Bu aynEl
zamanda, islem maliyetlerinin azaltIigiISekilde kimyasal girdilerinin daha etkili bir kullanIiIEl
saglayabilmektedir.
BazEyapilândlîilnalarda, sistem (1000), ön uç sistemden bir veya birden çok doymus iyon
degisim tanklarIE(1002) alacak sekilde yapllândlîllâbilmektedir. Sistem (1000), yakalanan
metallerin geri kazanllBiasElie reçinelerin orijinal konumuna yeniden kosullandlEllIhaslIiçin bir
slsîlüna ve rejenerasyon sürecini uygulayabilmektedir.
BazEl yapilând Elnalarda, bir doymus iyon degisim tankEl (1002), sistemde (1000)
allElabilmektedir. Iyon degisim reçinesi, iyon degisim tankian (1002) çilZlarllâbilmektedir ve
reçine tutma tank-a (1004) yerlestirilebilmektedir. Reçine, herhangi bir uygun teknigi
kullanarak, örnegin yüksek hEda su jetlerini kullanarak her bir iyon degisim tankIan (1002)
çllaarilâbilmektedir. Bu prosedür, herhangi bir hapsolmus partikülü veya katmilîlarmak için
reçineyi etkili bir sekilde durulayabilmektedir ve aynEIzamanda ön uç sürecin yükleme
asamasEtlEsIa olusabilen geçine yataklarIlEi herhangi bir kompaksiyonunu karslîgelmek
için reçineyi aklgkan hale getirebilmektedir.
BazEl/apilândlElnalarda, reçine aklgkan hale getirildiginde, reçine bulamaç pompasE(1005),
reçineyi, tutma tanklEUan (1004) vakumlu filtre bandlEh (1006) aktarmasEl için
kullanilâbilmektedir. Bulamaç pompasII (1005) islem parametreleri, Sekil 2'de gösterilene
benzer olabilen bir kontrol paneli ile birlesik bir PLC vasßsüla kontrol edilebilmektedir.
Sistemin (1000) bazElveya tüm bilesenlerinin, Sekil Z'ye referansla yukarlöh açllZJanana
benzer bir PLC vaslfâslîla kontrol edilebildigi belirtilmelidir. Aklgkan reçine, daha sonrasIa
bir bulamaç formda, vakumlu filtre band. (1006) daglEllâbilmektedir.
Bazlîlyapllândlünalarda, vakumlu filtre bandlZl(1006), herhangi bir uygun malzemeden
olusturulabilmektedir. Örnegin filtre bandEQ1006), bantta reçinenin suyunun giderilmesi veya
kEfnen giderilmesi için bir negatif baslütüleya vakumu alacak sekilde yapllândlîllâbilen bir ag
gibi bir gözenekli malzeme olabilmektedir. Vakumlu filtre bandl:(1006), bir kontrol edilebilir
(örn. manuel olarak veya otomatik olarak teknikte bilinen kontrol sistemleri kullanüârak)
tasIia kaylgjtürünün veya filtre bandII (1006) ayrEbüreç bölgelerinden geçisine izin
verebilen, kElfliaylîEblmayacak sekilde yikama, durulama ve slîlElna bölgelerini içerebilen
alternatif sistemin bir bölümü olarak konumlandlElIlâbilmektedir. Vakumlu filtre bandlî(1006),
süreç bölgeleri üzerinden geçebilen bir veya birden çok bandEilçerebilmektedir. Örnegin bazü
yapliândlîilnalarda, bir vakumlu filtre bandÇIher bir bireysel bölge üzerinden geçebilmektedir.
Reçine bulamacIlEl, vakumlu filtre band. (1006) pompalandlglüoran ve aynlZlzamanda
vakumlu filtre bandII (1006) hareket oranEgerektigi kadar otomatik olarak veya manuel
olarak degistirilebilmektedir.
BazEýapllândlîrlnalarda, püskürtme nozülleri (1008A-C), vakumlu filtre band. (1006) bitisik
olarak konumlandlElIâbilmektedir ve suyu, asitleri ve diger arlflna maddelerini dagücak
sekilde yapllândülâbilmektedir. Örnegin püskürtme nozülü (1008A), vakumlu filtre bandII
( asit depolama
tank. (1012) baglanabilmektedir. Püskürtme nozülü (1008A), HCL'yi vakumlu filtre band-
(1006) daglûicak sekilde yapllândlEllâbilmektedir. Benzer bir sekilde, püskürtme nozülü
(1008B), islevsel olarak NaOH depolama tanklEb (1014) baglanabilmektedir ve NaOH'yi
vakumlu filtre band. (1006) daglßcak sekilde yapllândlîllâbilmektedir. Püskürtme nozülü
(1008C), durulama suyu depolama tank. (1016) islevsel olarak baglanabilmektedir ve
durulama suyunu, vakumlu filtre bandlEla (1006) daglliicak sekilde yapllândlîllâbilmektedir.
Her bir püskürtme nozülü, püskürtme nozüllerinden (1008A-C) aklgl oranlElEkontrol edebilen
bir veya birden çok pompaya baglanabilmektedir.
Sekil 10'da gösterilen yapllândlEfna, aslîllîlderecede yüksek islem esnekligi seviyesini
saglayabilmektedir ve her bir bireysel arlElna parametresi üzerinde kontrol
saglayabilmektedir. Örnegin, reçine kekinin derinligi, reçine bulamacIlEl, hareketli vakumlu
filtre band. (1006) yükleme hlîElile belirlenebilmektedir. Belirli bir süreç bölgesinde
reçinenin arülna ve/veya maruziyet süresi, belirli bir vakumlu filtre bandII hlZDile
belirlenebilmektedir. Dahasüçlklarma hacmi, nozüllerle (1008A-C), vakumlu filtre bandIa
çesitlendirerek ortalama bir sekilde kontrol edilebilmektedir. Reçinenin kurutulmaslîve 5-.
geri kazanlEnasÇl uygulanan vakum (veya negatif hava akISD] seviyesi ile
düzenlenebilmektedir. Ek olarak, reçinenin kurutulmasEive her bir süreç bölgesinin ayrlEl
kalmasü her bir arlülna adIiII kontrolsüz bir sekilde üst üste gelmesini önlemektedir.
Vakumlu filtre bandEl (1006), bir dizi toplama tank. (1014A-D) islevsel olarak
baglanabilmektedir.
BainyapllândlÜnalarda, toplama tanklarIEl(1014A-D), vakumlu filtre bandIan (1006)
slîllârl ve/veya katünalzemenin allEiacagElsekilde yapllândlîllâbilmektedir. Örnegin, her bir
toplama tanküreçine bulamacII suyunun giderilmesine yardnchlmasEiçin banda (1006)
bir negatif baleç uygulayabilmektedir. BazEIyapiIândlîilnalarda, sistem (1000), reçine
bulamaclEUan çüîarilân suyu taslýlacak sekilde ve bu suyu, durulama suyu depolama tarik.
(1016) saglayacagüsekilde yapllândiîllân toplama tankIEl(1014A) içerebilmektedir. Bazü
yapllândlîiinalarda, durulama suyu depolama tanklII(1016), cilalama asamasII kalitesini
idare etmek üzere kullanilâbilen bir ters ozmoz ünitesini içerebilmektedir.
BazIZl/apllândlüinalarda, püskürtme nozülleri (1008A-B), seyreltilmis asidi veya diger metal
çlEhrma kimyasallarIÇlreçinede tutulan geçis metallerini mobilize etmesi ve çiElarmasDçin
reçine kekine püskürtecek sekilde yapilândlîllâbilmektedir, elde edilen asit, bir karlgllîi metal
rejenerantEIolarak toplama tanklarIa (1014B-C) toplanabilmektedir. Toplama tanklarEl
(1014B-C), Sekil 14'te gösterilen sisteme bir çilZlSElsaglayabilen tuzlu su toplama tanklEla
(1018) herhangi bir kalan slîlýlîisaglayabilmektedir. Püskürtme nozülü (1008C), toplama
tankIan (1014A) geri kazaniiân suyu yeniden kullanacak sekilde yapilândlîllâbilmektedir,
reçine, önceki bölgelerden herhangi bir kalan asidi çllZlarmasEliçin durulanabilmektedir.
Reçine, tatllîsu kullanilârak nihai bir durulamayla sunulabilmektedir. Bu bölgede toplanan su
daha sonrasIa, bir veya birden çok ilk asamaya (örn. iyon degisim tankE(1002), tutma
tankE(1004), vakumlu filtre bandl]1006)) geri dönüstürülebilmektedir ve reçineyi çiElarmasü
durulamasüle akEkan hale getirmesi için kullanllâbilmektedir.
Reçine, son durulamayEbldlthan sonra, reçine, geçis metallerinden slýl'llâbilmektedir, asit
(proton) formunda yeniden kosullandlülâbilmektedir ve bir kalite kontrol denetimine tabi
tutulduktan sonra, ön uç bölgede yeniden kullanma yönelik ön uç iyon degisim tarik-
yeniden yüklenmesi için hazlü olabilmektedir. Burada açIElanan yapllândlûnalarl çesitli
varyasyonlarüislenecek olan reçine özelliklerine dayall]›larak kullan Hâbilmektedir.
Bazüyapilândünalarda, belirli say. yeniden kullan! sonrasIa, durulamaya ve geri
ylKamaya yönelik ilk asamalarda kullanllân süreç sularü aritinaya ve devamlElyeniden
kullanla yönelik bir alan için ön uç sisteme, örnegin sisteme (102, 200 ve/veya 300)
gönderilebilmektedir. Herhangi bir iz metalinin ve/veya diger kontaminantlarl çiElariliiasü
süreç suyunun geri dönüstürülmesine ve tekrarIIZl sekilde yeniden kullanIi- izin
verebilmektedir. Su tüketimindeki bu siddetli düsüs, önemli bir gelismedir ve süreç maliyetini
önemli ölçüde azaltabilmektedir.
Alternatif olarak, ön uç iyon degisim tanklarÇlbirden çok geleneksel süreçte slýrllâbilmekte ve
yeniden üretilebilmektedir. Bu tarz bir süreçte, reçineler, iyon degisim tanklarII içerisine
bükilâbilmektedir ve herhangi bir tutulan partikülleri ve katllârElçDZlarmak üzere suyla
yiiaanabilmektedir. Bu aynüamanda, reçine yataglElÜkEkan hale getirebilmektedir ve ön uç
sisteminin yükleme asamasEésnasIa meydana gelebilen herhangi bir kompaksiyona karsEl
gelebilmektedir. Reçineler aynüamanda, baleçlElsu kullanüârak her bir bireysel ön uç iyon
degisim tankIan çilgbrilâbilmektedir ve toplu olarak islenmesine yönelik daha büyük bir
kolonda toplanabilmektedir. Birinci asamada, islemin ve yeniden kosullandlElnanI
tamamlanmasütlan sonra, toplu islenen reçineler, ön uç bölgesinde kullanma yönelik
bireysel ön uç iyon degisim tanklari yüklenebilmektedir.
Bazlîlyapllândlîilnalarda, durulama sonrasia, asitler daha sonrasIa, iyon degisim
reçinelerinden yakalanan metalleri slîdîûnaslîlçin ve reçineleri, ilgili orijinal proton formuna
yeniden kosullandlElnaslZlçin kullanllâbilmektedir. Bu yeniden üretme prosedürü, bir asidik,
karlglKl metal çözelti ile sonuçlanabilirken, slsîlîllüilgl ve yeniden kosullandlEllBiE kolonlarI
kalitesi, uygun yeniden kosullandlElna için denetlenmektedir ve daha sonrasIa, ön uç
sisteminde yeniden kullanIi için geri gönderilmektedir.
Tekrardan Sekil 10'a istinaden, islem süleUa reçine, reçineden yüksek hlîda su aklgarüle
çlElarllâbilmekte ve durulanabilmektedir ve daha sonrasIda, geri dönüstürülen durulama
suyuna ve yeniden kosullandlüna asitlerine maruz blßkilâbilmektedir. Kontaminasyon veya
metal yükleme seviyeleri, reçine aklglEb karsiZlbir gradyan durumunda çallglacak sekilde
yapllândlEllâbilmektedir. Bu, tanklardan vakumlu bant filtresine (1006) çilZiarilEiasIan sonra
reçinenin yüklenmesi vasitâsMa elde edilebilmektedir. Vakumlu filtre bandE(1006), reçineyi
farklünaddeleirn ve durulama sularII uygulandlgllîlçesitli püskürtme bölgeleri üzerinden
iletebilmektedir. Bu sekilde, kaynaklar, tesisin islemine büyük ekonomik faydalarla mümkün
oldugunca verimli olarak kullan [Iâbilmektedir,
Hedef metaller ve kontaminantlar, bir konsantre taslEtlZllankIe toplandEglIa, iminodiasetik
iyon degisim reçinesine en yüksek affinite metali, çok say. (örn. 4 veya 6) kolon kurulunda
çilZiarllâbilmektedir. Tekrardan, mevcut tarifname, spesifik olarak degerli geçis metallerini
toplamak üzere bir islevsel grubun seçiciligini kullanabilmektedir. Örnegin, bale bu örnekte
en yüksek affiniteye sahip oldugu için, çllZlarlIâcak ve saflastlBlâcak olan birinci metal, bakIE
sülfat olabilmektedir. Buna, kurulumda birinci reçine tankII kontrollü bir sekilde aslülj
yüklenmesi ile ulasilâbilmektedir. Birinci reçine tankII asIElEl/üklenmesi, bu tankta bir saf
veya büyük ölçüde saf baklElyükü ile sonuçlanabilmektedir. Asagübki reçine tanklarÇlbir seri
modelde baglanabilmektedir, böylelikle sözde birincil kolon, serilerden hareket edebilmekte
ve seyreltilmis sülfürik asitle aI-n baklElsülfata tabi tutulabilmektedir. Önceki ikincil kolon,
bir saf veya büyük ölçüde saf baklEl yüküne ulasana kadar aynüyükleme sürecine tabi
tutulabilmektedir. Yükleme süresi, baklEkonsantrasyonunun ve reçine üzerinden pompalanan
hacmin bir basit islevi oldugu için, bu sürecin kontrol edilmesi nispeten kolaydlEI
Sekil 11'e referansla, slîlElna ile tutarlEislemleri gösteren bir akli semaslZ(1100) ve mevcut
tarifnamenin yeniden üretme sistemi (1000) saglanmaktadlE AkIi semasE(1100), ön uç
sisteminden (1102) iyon degisim (reçine) tanklarlîallElallEtnasIEilçerebilmektedir. Islemler aynEl
zamanda, iyon degisim tanklarIan reçinenin çlKlarilîhasIElve bir reçine/su bulamacII
(1104) üretilmesini içerebilmektedir. Islemler aynüamanda, reçine/su bulamacIlEl, üç ayrEl
içerebilmektedir. Reçine, 1. bölgeden 2. bölgeye, 3. bölgeye hareket edebilmektedir ve geri
kazanIi asidi, örnegin 3. bölgeden 2. bölgeye, 1. bölgeye gibi reçine akElEb ters bir yönde
hareket edebilmektedir. Islemler aynüamanda, ön uç sistemine reçinenin geri saglanmasIEl
ve asaglöia daha kapsamIEliJir sekilde açiiîlanan, zenginlestirmeye yönelik olarak (1112) metal
çözeltinin saglanmasIEilçerebilmektedir.
Sekil 12'ye referansla, bir metale özgü saflastlüna sisteminin (1200) bir yapllândlElnasD
saglanmaktadlB Burada, Sekil 10'unun sisteminden karISÜZI metal slîLIEIna çözeltisi veya
rejenerantÇlgerekli pH seviyelerine (gerekli olmasEhalinde) düzenlenebilmekte ve kontrol
edilebilmektedir ve daha sonrasIa, Sekil 12'de gösterildigi üzere bir dizi selatlaylEDyon
degisim reçinesi saflastüna ünitesine pompalanabilmektedir.
BazEýaplIândlIilnalarda, sistem (1200), seçici, selatlaylaîiyon degisim reçinesini veya silikal
jelleri kullanabilen birden çok (örn. 4 veya daha fazla) saflastlüna ünitesini (örn. reçine
tanklarD] içerebilmektedir. Düzenleme, sistem (1200) üzerinden yeniden kosullandüna
çözeltisinin arallElsEl olarak aklgEElsaglayacak sekilde tasarlanabilmektedir. Her bir hedef
metale yönelik olarak, bir veya biden fazla ekstraktör ünitesi kullanüâbilmektedir. Sekil 12'de
gösterilen belirli bir yapilândülnada, üç veya üçten fazla saflastülna ünitesi, yeniden
kosullandlElna çözeltisi ile seri halde yüklenmektedir. Bu, birincil saflastlüna ünitesi (1202),
ikincil saflastüna ünitesi (1204) ve üçüncül saflastüna ünitesi (1206) ile sonuçlanmaktadlE
Diger konfigürasyonlar ve tank sayllârüüa mevcut tarifnamenin kapsamlîilçerisindedir. Tercih
edilen bir metalin her bir saflastlElna ünitesinde veya reçine tankIia hapsedilmesine ve
tutulmas. ek olarak, sistem (1200) aynüamanda belirli bir hedef metali basariIJIlbir sekilde
saflastübilmekte ve izole edebilmektedir. Zenginlestirilmis ve saflastlEllBilS hedef metal,
saflastlîilna ünitelerinde reçinede absorbe edildigi gibi, Sekiller 13 ila 14'e referansla asagi
açlEIand lgiügiibi çllîlarilâbilmektedir.
Islem süslütla, bir saflastlEna ünitesi çevrim dlglîloldugunda, önceki ikincil saflastülna
ünitesi, birincil saflastlîilna ünitesi olarak akE düzlemine degistirilebilmektedir. Zaten klgmen
zenginlestirilerek, asIElEldoygunlugu tecrübe edebilmekte ve bu sekilde hapsedilen metali
saflastübilmektedir. Bu, saflastlElna ünitelerinin, yukarlllogru akgldüzlemine degistirildigi bir
devam eden süreç olabilmektedir. Bu, aral[lZl;lZ olarak kEHJElsay- saflastlîma ünitesinin
Asaglîzlh verilen Tablol, Sekil 12'nin metal saflastlElna sisteminin (1200) isleminin belirli bir
yapllândlîrlnaslü göstermektedir. Birincil saflastlElna tankEl(1202) süper doygun hale
getirildiginde, tank durulanabilmektedir veya bos üflenebilmektedir ve yeniden üretim
moduna degistirilebilmektedir. Önceki ikincil saflastlülna tankEl(1204), birincil konuma
degistirilebilmektedir ve önceki üçlü tank (1206), ikincil konuma geçebilmektedir ve yeniden
üretilmis tank (1208), üçlü konuma degisebilmektedir. Süper doygunluk, en yüksek affinite
metali vasßslsîla düsük affiniteli metallerin (karlgllîl metal bilesimine ve iyon degisim IigandlEla
dayallîrblarak) degisimini temin edebilmektedir. Bu sekilde, hedef metalin yaklasIKl olarak %99
saflilZIarIElde edilebilmektedir (örn. .
Birincil Ikincil Üçüncül Yeniden üretim
1 A B c D
2 D A B c
3 C D A B
4 B c D A
A B c D
reçinelerini içerebilmektedir ve üniteler, Tablo 1'de açllZlanan döner konfigürasyonda
düzenlenebilmektedir. Bu sistem, reçinenin dogal nispi affinitesini farklEl metallere
güçlendirilmesi için süper doygunluk kullanilârak bir bireysel metali seçici olarak hedef alacak
ve yakalayacak sekilde yapllândßllâbilmektedir.
Bazlîylapllândlîilnalarda, süper doyma islemi esnasIa, rejenerant, reçinenin etkili kapasitesi
tükendikten sonra bile birinci saflastlElna ünitesine (1202) aralllîslîl olarak dahil
edilebilmektedir. Belirli bir saflastlûna ünitesinin hedef metali, çözeltide diger metallere göre
reçineye daha yüksek bir affiniteye sahip olabildigi için, reçinenin rejeneranta aral[ElslZl olarak
maruziyeti, daha yüksek affiniteli hedef metal iyonlarlEJ, reçineden yakalanmlglolabilen diger
hedef olmayan metallerin yerinin degismesine ve bir digeri ile degismesine neden
olabilmektedir. Süper doygunlugun bir hacminin belirlenmesinden sonra, belirli bir saflastlElna
ünitesinin reçinesi, sadece bu modüle ile hedeflenen metali içerebilmektedir. Bu saflastlElna
ünitesi ile hedef allümayan bazEl veya tüm diger metaller, rejenerant çözeltisinde
kalabilmektedir ve sonraki saflastlîilna ünitesine devam edebilmektedir, burada aynlîlsüreç,
daha sonrasIa bir diger metali hedef almakta ve yakalamaktadlB Rejenerantta ön uç reçine
tanklarIan metal say_ baglEblarak, her birisinin bir spesifik metali hedef alan ilgili
saflastlîilna ünitesi sayiîÇltüm metallerin ayrllâbildigi sekilde seri halde düzenlenebilmektedir.
Bu sekilde, bir karlgKl metal rejenerantII bireysel metalleri tanIilanabilmekte,
hedeflenebilmekte, reçinede yakalanarak ayrlßbilmekte ve saflastlElâbilmektedir.
Bir çok metalli rejeneranttan bireysel metal fraksiyonlarIEl ayübilme kabiliyetinin,
saflastlEllBwlg metallerin, son ürünlere dogrudan üretilebilmesinden dolaylîlmevcut iyon
degisim süreçleri üzerinden siddetli bir gelismeyi temsil ettigi belirtilmelidir. Mevcut olarak,
karlgllîl metal çözeltilerini içeren süreçler, kullanlgllîilirünler geri kazanllâbilmeden önce ek ve
maliyetli islemi gerektirmektedir.
Bazü'apilândlünalarda, Sekil 12'den görülen rejenerant, metallerden temizlenebilmektedir ve
düsük güçte ve konsantrasyonda olmas. ve iz kontaminantlar- sahip olmasi ragmen
tekrardan etkili bir sekilde bir asit olabilmektedir. Rejenerantta metallerin reçinede bulunan
protonlar için degistirildigi Sekil 12'nin iyon degisim süreci aynüamanda serbest H+ iyonlarI
(reçine degisim reçinesinden) eklentisi ile rejenerantI (asit) kendisinin yeniden üretimine
yönelik ek etkiye sahiptir. Sistemden (1200) çIKtithan sonra, rejenerant, orijinal seviyelere
yaklastlEinak üzere gücünü ve konsantrasyonunu restore etmesi için yeni, küçük hacimli
yüksek derecede konsantre edilmis asitle asliânabilmektedir. Bu sekilde, rejenerant daha
sonrasIa diger sistemlere (örn. sistem (1000)) bir kaç defa geri dönüstürülebilmektedir ve
gelen ön uç kolonlarElslýlEinak ve yeniden kosullandlÜnak için kullanllâbilmektedir. Bu
modelde asidi tekrarIEibir sekilde yeniden kullanabilme kabiliyeti, mevcut iyon degisim
süreçleri üzerinden önemli bir gelismedir; burada asit tüketimi, büyük bir islem maliyeti
yüzdesini olusturmaktadlEve büyük atlE asit miktarlarII çllîbrllîhaslîihtiyacübir sorumluluk
olusturmaktadE
BazEyapllândlEilnalarda, bir birincil saflastlülna ünitesi (örn. Sekil 12'de birincil saflastlîiina
ünitesi (1202), süper doygunluga ulastgßtla ve bir hedef metalle tamamen yüklendiginde,
çevrim dEEiaIIbilmekte ve slýlîilna ve yeniden üretim için hazIEl hale getirilebilmektedir.
Saflastlîiina ünitesi, herhangi bir interstisyel slîIîÇI kalan yükleme çözeltisini, katilârIDve
katlgdlârlgllîhrmak ve aynlâamanda reçine yatagIÜKISKan hale getirmek ve herhangi bir
kompaksiyona karslZgeImek üzere suyla geri yllZlanabilmektedir. Bu asamadan gelen süreç
sularlîaynüamanda, ariElnaya ve geri dönüsüme yönelik bir bölge içi veya bölge dlgübn uç
sisteme geri gönderilebilmektedir. Bu süreç suyunun tekrar edilen yeniden kullaniümevcut
iyon degisim süreçleri ile klýaslandgia su tüketiminde ve islem maliyetlerinde önemli bir
azalma olusturabilmektedir.
Sekiller 13 ila 14'e referansla, bir tekrar eden sis-dana sistemini (1300) gösteren
yapllândIElnaIar saglanmaktadE YukarElEi açilîlandiglîüzere, ön uç sisteminden iyon degisim
tanklarÇl sistemle (1000) birlesik vakumlu filtre bandEl(1006) ile slýl'ilâbilmektedir. Buna
karsiEi, Sekil 12'den metalle doldurulmus saflastüna üniteleri, tekrar eden slîlîrlna sistemini
(1300) kullanarak sürüâbilmektedir. Sistem (1300), bir programlanabilir mantlEI
denetleyicisine dayaIEliJir otomatiklestirilmis konsantrat yönetim sistemi ile düzenlenen, tekrar
eden bir slILIElna protokolünü kullanabilmektedir.
BazÜapliândlîinalarda, sistem ( ve asit
tankElC (1306) gibi asit tanklarII serilerini içerebilmektedir. Bir tamamen yüklenmis
saglanabilmektedir. Tamamen yüklenmis kolon (1310), tertip slýlÜna asit tankIan (1312)
ek asidi alabilmektedir ve bir çilZlSLIIürün tasiEltankI (1308) saglayabilmektedir. OIasEbir
dizide, asit tankDÄ (1302), tanka (1308) beslenerek (son ürün, ürün tasltîltankDîl(1. adli)
tamamen yüklenmis kolon (1310) üzerinden pompalanabilmektedir. Asit tankElB (1304) daha
sonrasIEbla, kolon (1310) vaslBisEla pompalanabilmektedir (2. adli), bunu kolon (1310)
vasEislýla pompalanan asit tankEllZ (1306) takip etmektedir (3. adli). Yeni seyreltilmis asit
daha sonrasIa, kolon (1310) vasitâsüa pompalanabilmektedir (4. adli). Asit arltîlna
isleminden sonra, yüklenmis kolon (1310), tam yeniden üretim için suyla durulamaya tabi
tutulabilmektedir. 1. adli, ürün taslEtEitankiEia (1308) bosaltllâbilmesidir, 2. adli, asit tankEi
ait tankECE'ye (1306) bosaltllâbilmesidir.
Bain/apllândlEinalarda, her bir asit y[giI|:t;esitli farklElsaflastlEina ünitesini slýlûnak üzere
kullanilâbilmektedir ve her bir saflastlîilna ünitesi, metalin azaltllBias- ve serbest proton
konsantrasyonunun arttlEllhîaleb dair bir dizi asit yiglEEiIe sls-Ltliâbilmektedir. Sonuç olarak,
bir doymus saflastlEina ünitesinin (örn. kolon (1310)) bir doymus saflastlEina ünitesine dahil
edilecek olan asidin birinci ylgIElÇlbir asit yigiIEikümesi içerisinde diger yigilara göre bir çok
defa kullanilâbilen bir ünite alabilmektedir. SaflastIElna ünitesinden çlKlnalehan sonra, bu
asit ygßlüslûslsîa maksimum metale ve minimum serbest proton konsantrasyonlar. sahip
olabilmektedir. Bu noktada, asit y[giIl,`_IsIîLlElna sisteminden (1300) çilZlarllâbilmekte ve son
ürünlere son islem için gönderilebilmektedir.
BazElyapllândlElnalarda, slýlîilna süreci, takip eden asit yigJIIlEI, ondan önceki her bir
y[glIan daha az süreyle kullanIIgiEbu modele devam edebilmektedir. Son islem için son
ürünlere gönderilebilen birinci yEgllEUan baska tüm diger y[g]E|ar, sonraki doymus kolonla
kullanIi için depolanabilmektedir. Asidin nihai yigilÇI reçinenin, metallerden yeterince
slýtlmiasIEive yeniden kullan! için uygun bir sekilde yeniden üretilmesini ve yeniden
kosullandiîllîhasIEtemin etmesi için taze asit olabilmektedir. Örnegin, tekrardan Sekil 13'e
istinaden, asit tankIa (1302) bir üç sWna ylglIan, asit tankIda (1304) bir iki slîLIEma
yigiIlEUan, asit tankiEda (1306) bir sis-Llîiina y[g]IlEUan ve tankta (1312) bir yeni asit
ylgiIIan olusan asitlerin dört y[glEl kümesinde, üç slýlEina yigillîilk olarak kullanilâbilmekte
ve daha sonrasIa Sekil 15'te gösterildigi üzere, son süreç için son ürünlere
gönderilebilmektedir. Daha sonrasia, sonraki kolon için üç slilElna ylglIlZliialine gelebilen iki
süûlna ygllüullanüâbilmektedir. Bir sülüna y[g]IEdaha sonrasIa kullanllâbilmektedir ve
daha sonrasIa, sonraki kolon için iki leErlna y[g]IElhaline gelebilmektedir. Son olarak, taze
asit kullanllâbilmektedir ve sonraki kolon için bir slîLIÜna ylglüllîliialine gelebilmektedir.
BazÜ/apüândlünalarda, bu sis-dana protokolü, serbest asit kullanIlIElü'naksimuma çlElararak
kimyasal tüketimi önemli ölçüde azaltabilmektedir. Bu, ek arllîna ve bertaraf islemini
gerektiren büyük atilZl asit hacimlerini üretebilen mevcut iyon degisim süreçleri üzerinden
Önemli bir avantaj saglayabilmektedir. Sonuç olarak, önemli bir Islem maliyetini olusturabilen
daha az asit tüketilebilmektedir.
Bazü'apllândlülnalarda, metalik yüksek safllglüle konsantrasyonu, rejenerantIlEl, daha az yan
ürünle veya atiEIa veya herhangi bir yan ürün veya atiEJ olmadan bir metal tuzu kimyasal son
ürününe dogrudan ve ekonomik olarak islenmesine izin verebilmektedir. Bu sekilde, kolonlar
veya reçine tanklarÇlyeniden kullan! için sütllâbilmekte ve yeniden üretilebilmektedir ve
hedef metal, bir yüksek safllEla, yüksek konsantre metal tuzu çözeltisi olarak
olusturulabilmektedir. Bu süreç, asidin, tüketilmeyebilmesi ve bir atllîl olarak atllBrasÇlfakat
bundan ziyade ticari olarak satllâbilir bir son ürün içerigi haline gelmesi aç-an mevcut
iyon degisim süreçleri üzerinden önemli bir gelisme olabilmektedir. Bu, büyük ölçüde daha
düsük islem maliyetleri ve aynüamanda maliyetli atilZl asitlerin taslülnasül'e bertaraf edilmesi
gereksiniminin sonland Ellüîasüle sonuçlanabilmektedir.
örnek teskil eden bir yapüândlElnasEbaglanmaktadlEl Sistem (1400), Sekil 12'ye referansla
yukar. aç[lZlananIara benzer bir sekilde yapilândlElâbilen saflastlElna ünitelerini (1402, 1404,
içerebilmektedir. SaflastlElna ünitelerinin ve asit tanklarII alternatif düzenlemeleri de
mevcut tarifnamenin kapsam Eberisindedir.
BazlZlyapilândlîrlnalarda, sistem (1400), Sekil 13'e referansla yukari açmandlglügibi bir
tekrar eden slsîlElna sisteminden faydalanarak iminodiasetik iyon degisim reçinelerinden metal
sülfatlarlZIgeri kazanmak üzere kullanllâbilmektedir. Sis-dana asidinde bir konsantrasyon
gradyanII uygulanmasÇlsagIanan protonlarI etkili bir sekilde kullanil- ve aynüamanda
durulama suyu gereksinimlerinin minimize edilmesine ve kompleks sürecinin kontrol
edilmesine izin verebilmektedir.
Bazüyapüândlülnalarda, sistem (1400), çoklu ve tekrar eden bir modelde iyon degisimi
reçinesinden saf metal iyonlarII geri kazanllîhasüçin kullanilan asidi uygulamak üzere
kullanllâbilmektedir. DahasÇldaha az kullanllân asit maruziyetini her zaman takip etmektedir,
bu da yeniden kosullandlElnanI ve temizlemenin, devam eden süreçte daha etkili hale
gelebildigi anlam. gelmektedir. Ek olarak, kalan serbest protonlar, nihai, yüksek konsantre
metal sülfat çözeltisinde minimize edilebilmektedir. Bu, çözünürlük, artan pH ortamükja
önemli ölçüde azaltHJBken metal sülfat geri kazanIiIEtakIp eden kristalizasyon sürecine
(Sekil 15'te açlKlanmaktadlE) mükemmel bir sekilde beslenmektedir.
de asit arltîlna isleminden sonra reçinenin durulanmasIlîlbasitlestirmektedir. Bu sekilde,
reçinede daha az baklE (veya diger metaller) kalabilmektedir. Sonuç olarak, geri kazanIi
fraksiyonuna kesildiginde ve durulamaya degistirildiginde ortaya çllZlan sorunlar
sonlandlEllâbilmektedir. Geleneksel kolon yeniden kosullandlElna yaklasIilarIa, atllZl suda
bulunan metal konsantrasyonu, bir maksimum (arzu edilen) konsantrasyona yavas bir sekilde
arttlEIâbilmekte ve daha sonraleUa, devam ederken azaltllâbilmektedir. Tüm bu çözelti
genellikle bir tanka toplanabilmektedir. Bu, en yüksek metal geri kazanIi
konsantrasyonlarII (örn. litre baslEb 100 ila 1509 metal tuz) allErnasII arzu edilmesine
zarar veren bir genisleme etkisini tanltînaktadlü Aynlîdioymus kolonun, önceden belirlenmis,
ön konsantre geri kazani çözeltilerine açlElanan tekrar eden maruziyetinde, kolon
ylElamasII bu düsük konsantrasyon ön ekleri ve arka ekleri önlenmekte ve üstesinden
gelinmektedir. Taze seyreltilmis aside son kolon maruziyeti, zenginlestirme dizinine geri
degismeden önce taze veya geri dönüstürülmüs serbest durulama suyu ile durulanmasEiçin
mükemmel bir senaryo saglamaktadlEl Bu basitlestirme, geri kazanIi süreci slßsIEtlaha
etkin kllBiaktadlB
Bazü'apllândlülnalarda, temel süreçte bulunan kolonlar, seri halde baglanabilirken, hizallîblan
(veya birincil kolonlar) birinci kolon (örn saflastlElna ünitesi (1402), baklEIiyonlarla süper
doymus hale getirilebilmektedir. Bu belirgin örnekte, baklEliyonlar, tüm daha düsük affinteli
metal iyonlarElElarabilmektedir.
Islem esnasIa, tüm iyon degisim bölgeleri, örnegin yukarüh açlKlanan baklEiyonlar gibi
hedef metal ile tutuldugunda, birincil kolon, sistemden al-bilmektedir. Birincil kolon,
bölümüne hareket edebilmektedir. Burada, hali hazlûa iki birincil kolona maruz blHakHân asit
çözeltisi, asit tanklîal416), örnegin slilüna D ile gösterilen yüksek derecede zenginlestirilmis,
düsük kalan serbest proton çözeltiyi almak üzere ilk olarak kolon üzerinden
pompalanabilmektedir. Kolon daha sonrasIa, taze asit çözeltisi, kolon üzerinden
pompalanana kadar asit tankEll (örn. slîdEma
A) diger asit durulamalarEile arlElâbilmektedir. Tüm bakEçllZlarllâbilmektedir ve birincil kolon,
bir klîla su durulamas. tabi tutulabilmektedir. Kolon daha sonrasütla, yükleme döngüsüne
geri döndürülmesi için hazlElolabilmektedir.
BazEyapllândlîilnalarda, sistem (1400), mümkün oldugunca etkili bir sekilde asit vasltâslýla
iletilen protonlarEkullanacak sekilde yapllândülâbilmektedir. Sistem (1400) aynEtamanda,
metal geri kazanl sürecinde kolondan yüksek konsantrasyon zirvesinin ayrlgtlEllBiasIEl
yönetme gerekliligini atabilmektedir. Genel geri kazanIi süreci bu sekilde, metal tuzu
kristalizasyonu için çok daha iyi, daha yüksek konsantre ve daha az asidik beslenmis çözelti
saglayan daha dayanlKIEle basitlestirilmis bir yaklasIi saglamaktadE
Sekil 15'e referansla, ticari metal tuzlarEIsIeyecek sekilde yapllândlEllân bir sistem (1500)
saglanmaktadlEI Sistemde (1500), sistemden (1400) gelen metal tuz konsantratlarükElfllaylîEl
olmayacak sekilde vakumla buharlastüna, kristalizasyon ve püskürterek kurutmayEilçerebilen
süreçler kullanüârak ticari kalite metal tuzlar. islenebilmektedir. Kullanllân teknikler, ürüne
yönelik olarak arzu edilen özelliklere ve tarifnamelere bagllilolabilmektedir. KonsantratI
yüksek safl[g]|3lie konsantrasyonu, müsteri talebine bagllîcblarak çok çesitli özelliklerin oldukça
ekonomik bir sekilde üretimine olanak saglayabilmektedir. Kalite denetimlerine tabi olduktan
sonra, son ürün paketlenebilmekte ve müsterilere veya diger dagm aglarEla
taslElabilmektedir.
Bazlîyapllândlünalarda, sistem (1500), sistemden (1400) çUZtEEalacak ve/veya depolayacak
sekilde yaplßndlîllâbilen tasIia tankIIZI(1502) içerebilmektedir. Metal çözelti, tasIia
tank'an (1502) buharlastlElna tanklEb (1504) aktarllâbilmektedir. BuharlastlElna tankIan
(1504) atilan su, mevcut tarifnamenin herhangi bir diger sistemine yeniden
daglEllâbilmektedir. BuharlastlElna tankIan (1504) gelen çlElg sogutma makinesine (1508)
islevsel olarak baglanabilen kristallendiriciye (1506) saglanabilmektedir.
BazEýapllândlîrlnalarda, metal sülfatlar, yüksek konsantrasyonlu metal sülfat çözeltileri olarak
merkezi islem ünitelerinde geri kazanllmaktadß Kristallendirici (1506), katEürünler olarak
metal sülfatlarlgeri kazanmak için çesitli kristalizasyon tekniklerini kullanabilmektedir. Bunu,
yüksek derecede konsantre metal sülfatlarElsogutarak, bu da çözünürlügü, katElmetaI
sülfatlarI kristallesmeye basladlgllîlbir seviyeye azaltabilmektedir. Elde edilen kristallestirilmis
metal sülfatlar, nihai kristalizasyon tankIa (1510) biriktirilebilmektedir. Kristallestirilmis
metal sülfatlar, elektrolitik tanka (1510) gönderilebilmektedir. Elektrolitik çlElarma tankIZI
(1510), hedef metalleri çlKlarmak üzere kullanllân çesitli süreçleri içerebilmektedir. Mevcut
tarifnamenin sistemlerinin, metalik veya temel ürünlerden çok daha kazançlElolabIlen
metalleri üretmesi için kullanüâbildigi belirtilmelidir. Örnegin, baklEIpenta hidro sülfat benzeri
metal sülfatlar, bask[l]]:devre kartümalatü kaplama, yonga üretimi ve diger birçok sürece
dogrudan geri beslenebilmektedir. Baklîl sülfat için, sülfat olarak geri kazanllân kütle, saf
metalin yaklasEEl olarak dört katIdan fazla olabilmektedir. Sekil 15 ilk olarak baklElErnetal
olarak göstermesine ragmen, mevcut tarifnamenin sistemleri, herhangi bir sayma metalle
çallSbbildigi belirtilmelidir. BazEdiger metaller, klgühylîlîblmayacak sekilde nikeli, çinko ve
benzerini içermektedir.
Bazlîlyapllândlîilnalarda, merkezi islem tesisinin süreçleri, tüm islem parametrelerini,
kriterlerini, performansIElve gerçek zamanlElsonuçIarIElarallllelîl olarak kaydedebilen bir
merkezi veri tabanüyazm sistemine baglanan sensörlerle ve bilgisayarlarla takip
edilebilmektedir. Ön uç kolon RFID etiketlerinden verilerle birlikte, bu veri, merkezi islem
tesisine varan ön uç kolonlarII çesitli kategorilerine yönelik egilimleri ve optimum çalisma
parametrelerini tanilamasüçin veri tabanünadencilik yazHJEiEile degerlendirilebilmektedir.
Aynü veya benzer yazm aynü zamanda, merkezi islem tesisinin süreçlerinin islem
parametrelerini analiz edebilmektedir. Veri tabanlîtamanla bilgi kazandlgiüçin, ön uç kolon
sIEfllandlElna ve yeniden üretimine yönelik optimize islem parametrelerini, hedef metal modül
yükleme ve slýlElna parametrelerini ve genel süreç verimliligini tavsiye edebilmektedir, bu da
maliyetleri ve kimyasal tüketimi daha da azaltmaktadlEl
Yukarldh açlKlandEgllîüzere, mevcut tarifnamenin yapliândlîilnalarübir RFID takip ve yönetim
sistemini kullanabilmektedir. Örnegin ve Sekil 3'e referansla, bireysel iyon degisim tanklarEl
( sitemi kullanliârak takip
edilebilmekte ve yönetilebilmektedir. Her bir iyon degisim tankütank ile iliskili en az bir
özelligi kaydedebilen ve depolayabilen bir benzersiz RFID etiketi ile baglanabilmektedir.
Mevcut tarifnamenin amaçlar. yönelik olarak, "özellik” terimi, belirli bir iyon degisim
tankII fiziksel, kimyasal ve geçmis özellikleri ifade edebilmektedir. Elle idare edilen,
kamyona monte edilen ve fabrika tabanIIZRFID okuyucularII bir agümerkezi tesiste veya
herhangi bir yerde konumlandülâbilen ve sirket merkezlerinde yanlellâbilen bir varlllZl
yönetim yazHIliiElsistemine kablosuz olarak baglanabilmektedir. Bu sistem, servis sürecinin
her bir asamasülaslßslýla binlerce iyon degisim tankII gerçek zamanlÇles zamanIEtiakibine
olanak saglayabilmektedir. Bu, iyon degisim nakli, degisim programlamasü reçine
degradasyon yönetimi ve ylglII slýHJEnasElve yeniden üretilmesine yönelik iyon degisim
tanklari benzeri kategorizasyon gibi görevlere yönelik maksimum verimlilikle
sonuçlanabilmektedir. Maliyet tasarruflarEIaynElzamanda, dogru olmayan kolon/reçine
tanIilamaslZile Iliskili Islem hatalarII önlenmesinden gerçeklestirilebilmektedir. Bu geçmis
veri tabanl,`_l gerçek zamanlEblarak güncellenebilmektedir ve islem verimliliklerini arallllelZl
olarak gelistirmek için bir belirsiz mantik] tabanlDsÜreç optimizasyon yazlIlIîli sistemi ile
baglantiEilblarak çallgbilmektedir.
BazEl/apllândlülnalarda, örnegin temel süreç merkezi tesisinde, reaktif seçimi ve dozlama,
reçine ylglI bilesimi, slîlElna verimlilikleri ve ürün kalitesi gibi islem parametreleri, bir belirsiz
manthl tabanlDyazlDEi sistemi ile doldurulabilmekte ve yönetilebilmektedir. RFID Yönetim
Sisteminden toplanan verilerle birlikte bu bilgi, servis sürecinin her bir islem parametresini
hesaba katan kapsamlEgeçmisi içeren birlestirilmis bir veri tabanlEla dahil edilebilmektedir.
Belirsiz mantllZJ sistemi, optimum olarak etkili parametreleri tanIiIamak ve teknisyenlere
önerilen süreç parametrelerini sunmak için bu veri tabanIü arallElslîl olarak
kullanabilmektedir. Sistem, veri tabanElzamanlEbüyüdükçe, herhangi bir elde edilen iyon
degisim tankIElveya tank kümesini islemeye yönelik en verimli parametre kümesini
tanIiIayabiIdigi sekilde islenen her ir iyon degisim tankIan “ögrenebilmektedir”. Sonuç
olarak, doymus iyon degisim tanklarIEtaslýlan bir kamyon, merkezi tesise girdiginde ve
sürücü, motoru kapatmadan önce, sistem, hangi iyon degisim tankII hangi kaynaktan
geldigini, servisi isleminde iyon degisim tankII ne kadar kaldlglIü/e nasiElsIlfllandlEllBialarEl
gerektigini bilecektir. Sistem veri tabanIian, ilgili metal konsantrasyonlarlîlve slýlîrlna
reaktifleri gibi degiskenler dahil olmak üzere her bir iyon degisim tank. yönelik geçmis
verilerini inceleyebilmektedir. Parametrelerin her bir önceki kümesinden gelen sonuçlarEl
klýhslayarak, yazlElEli daha sonrasIa, iyon degisim tankII en verimli ve maliyetsiz islemi
için optimum kümeyi belirleyebilmektedir. Sistem aynüamanda, temel süreç ve ürün üretme
islemi parametrelerinin tanIi-lanmas aynD süreçleri uygulayabilmektedir. Veriler ve
optimize süreç parametreleri, yeni tesisler ve uluslar araslîgenisleme için ögrenme egrisini
minimize edebilmektedir.
BazEyapilândlEnalarda, mevcut tarifnamenin ögretileri, elektrolit çlElarma ve yüzey cilalama
endüstrilerine ait durulama sularIEilslemek için çok uygun olabilmektedir. Elektro kaplamanI
ana amacü estetik görünüm, sertlik, elektriksel iletkenlik veya korozyon direnci gibi arzu
edilen bir özellige sahip bir metalin bir katman Elbu tarz özelliklerden yoksun olan malzeme
yüzeyine biriktirmek olabilmektedir. Genellikle, kaplanan malzeme, çelik veya çinko gibi bir
diger metal olabilmektedir; buna ragmen, plastik gibi diger malzemeler de
kaplanabilmektedir. Kaplanan parçalar, clîlatalar, çiviler, dügmeler ve fermuarlar gibi yayI
maddeler ve motor bilesenleri, türbin kanatlarühidrolik pistonlar ve havac- bilesenleri gibi
endüstriyel madde ila baskllIEUevre kartlarIa kullanllân entegre devreler, veri diskleri ve
baklElkapthminatlar gibi yüksek teknolojik maddelerin aral[g]Elda olabilmektedir.
Teknik olarak, elektro biriktirme olarak bilinen bir süreç olan elektro kaplama, kaplanacak
olan parçanlEl, bunun vaslßslsîla negatif bir yükü çallgtlürak bir katoda döndürülmesi ve bu
parçanlEl, CuSO4 gibi çözülmüs metal tuzlardan olusan bir elektrolitte (veya kaplama
banyosunda) daldlEllBwasEile elde edilebilmektedir; kaplanacak olan metal etkili bir sekilde
anot haline gelmektedir. Çözeltide, çözülmüs metaller, bir pozitif yükle iyonik formda mevcut
olabilmektedir ve bu sekilde, negatif olarak yüklenmis parçalara çekilmektedir. Genellikle bir
redresör ile tedarik edilen bir dogrudan akli, devre üzerinden akE yaptlglIEUa, metalik
iyonlar, katotta (parça) azaltilîhaktadlîlve kaplanmaktadlEl Süreç devam ederken, kaplama
banyosunun bilesimi, metaller çözeltiden çiElarlilZça degisebilmektedir. Sonuç olarak,
banyolar, ilave içeriklerin eklentisi ile sürdürülmelidir. BazEl banyolar süresiz olarak
sürdürülebilirken, digerleri (özellikle hassasiyetin gerekli oldugu yerde), periyodik olarak
atllB1allZl/e bir yeni banyo ile degistirilmelidir; harcanan kaplama banyolarII tahliyesi, atilZl
suyun bir ana kaynagIE Bu, islemden önce kapsamlEbanyo seyreltisi olmadan bu sürece
erisilememektedir.
Kaplama, arzu edilen kalIigla ulastlglIa, parçalar, kaplama banyosundan çilîarilâbilmektedir
ve bir karsiElaklSl düzenlemesinde bir dizi durulama tanklîlizerinden ilerleyebilmektedir. Taze
su, son tanktan tedarik edilebilmektedir ve birinci tanktan kirli atilZl su aralilîlslîlolarak tahliye
edilebilmektedir. Herhangi bir kalan kaplama çözeltisi, bulanlElasmaya, Iekelere veya diger
yüzey düzensizliklerine yol açabildigi için kapsamllîbir durulama gerekli olabilmektedir; bu da
genellikle genis hacimli suyun kullanilü'e tahliyesi ile sonuçlanmaktadE Parçalar kaplama
banyosundan çilîlarllîlflken, yüzeylerine hala yaplSlKl olan kaplama çözeltisini
kontamine oldugunun birincil sebeplerinden birisidir.
Bazüyapilândlîilnalarda, bu elektro kaplama durulama sularIüve harcanan kaplama
banyolarIEisIemek için, bir ön uç sistem, durulama sularII günlük hacmine ve metallerin
konsantrasyonuna göre iyon degisim reçinesinin (kolonlarda veya tanklarda muhafaza
edilmektedir) bir uygun hacmini içeren bölgede kurulabilmektedir. Her bir süreç adim
kolonlarda yakalanan metallerle atilö su içerisinde bulunan kontaminantlarßritâbilmekte veya
çllîlarabilmektedir.
BazEyapilândülnalarda, ön uç sisteminden çithithan sonra, armg su, durulama sürecine
dogrudan geri dönüstürülebilmektedir. Elektro kaplama sürecinin su kalite gereksiniminin bu
kadar gerekli olmasEhaIinde, ari'iiliilg su, bir ters ozmozla veya durulama sürecine yeniden
dahil edilmeden önce geleneksel demineralizasyon sistemi ile islenebilmektedir. Doymus ön
uç kolonlarlÇl taze olarak yeniden kosullandüßigl kolonlarla degistirilebilmektedir ve daha
sonrasIa, slsîlîilnaya ve yeniden kosullandlElnaya yönelik bir merkezi islem tesisine geri
gönderilebilmektedir. ÇlKlarliân metaller, aylElna ve saflastlîilna sürecine (yukarida açilZland[g]l:I
üzere) tabi tutulabilmektedir ve daha sonrasIa, ticari olarak satilâbilir nihai ürünlere
islenebilmektedir. Mevcut tarifnamenin yapilândlülnalarü bölge içinde atilZl suyun geri
dönüsüm faydalarIElve aynElzamanda mevcut alternatiflerden daha düsük bir maliyette
metallerin iadesini saglayabilmektedir.
Mevcut tarifnamenin yapllândlîilnalarüçesitli metallere sahip olan atiKIsuyu toplamak, tasIiak
ve arlEdHnak üzere çok asamalElbir süreci kullanabilmektedir. Daha belirgin olarak,
tarifname, metal taslýlan atilg suyun arlEllßwas- yönelik olan, atIIZl suyun olusum bölgesinde
konumlandlîlân bir bagnslZIön uç üniteden olusan bir iyon degisim tabanlljtllîl su aritîlna ve
geri dönüsüm sistemini ve ön uç modülünün bilesenlerinin toplandlgiü/e islendigi bir merkezi
islem tesisini ifade etmektedir. Aritîlna sonrasIa, bulustan çilZlan atEIZJ su, geri dönüsüm veya
yasal tahliye için uygun olabilirken, metaller toplanmakta, ayrliüiakta, saflastlîllfnakta ve son
ürünlere islenmektedir. Ekonomik, düzenleyici veya diger hususlar bu kadar gerekli oldugu
için, merkezi islem tesisi de ön uç sistemle aynEliJölgede konumlandlülâbilmektedir.
Birinci asamada, metaller, reçinelerden ve bir inovatif tasma kaylgEl/akumlu filtre bandEl
ünitesine (Sekil 10'da gösterildigi üzere) yeniden üretilen slýrliâbilmektedir; bu da atllZJ su
tüketimini minimize etmek ve islem parametreleri üzerinden kontrol gelistirmek için bir
basamaklEI kurulumu kullanabilmektedir. Bireysel kolonlarütlan veya iyon degisim
tanklarIan çlEbrlIh'iasIan sonra, reçine, her birisinin bir ayrElsüreç adIilEb (örn.
durulama, slsîlîrlna ve yeniden kosullandlElna sahip oldugu) bir dizi bölge Üzerinden geçis
yapan bir filtre band. yayllâbilmektedir. Birinci asama isleme tabi tutulduktan sonra,
reçineler, orijinal proton formuna yeniden kosullandlElIâbilirken ve ön uç ünitelerinde yeniden
kullanIi için hazlü olabilirken, metaller, ikinci asamada bir diger islem için bir çözeltiye
slýtüâbilmektedir.
Ikinci asamada, karlglîl metal sMElna çözeltisi veya birinci asamadan rejenerant, bir dizi
selatlaylEEilyon degisim reçine saflastlElna ünitelerine pompalanabilmektedir; her birisi, bir atlEl
karlEta konfigürasyonunda düzenlenen ve seçici iyon degisim reçineleri ile yüklenen bir dizi
kolondan veya tanktan olusmaktadlEl Her bir saflastlElna, reçinenin dogal nispi affinitesini
farkllîlnetallere güçlendirilmesi için süper doygunluk kullanlßrak bir bireysel metali seçici
olarak hedef alabilmekte ve yakalayabilmektedir. Bir dizi saflastlûna ünitesini seri halde
düzenleyerek, bireysel metal fraksiyonlar, karlSIKl metal rejeneranttan çlKlarliâbilmektedir.
Belirli bir saflastlîilna ünitesi, süper doygunluga ulast[glIa, çevrim dm allEbbilmekte,
metalden slýrliâbilmekte ve Sekiller 12 ila 14'te gösterildigi gibi bir otomatiklestirilmis
konsantrat yöneticisi ile kontrol edilen bir inovatif tekrarlßlîlîilna süreci kullanllârak yeniden
üretilebilmektedir. Bu süreçte, her bir asit ylglIÇl bir kaç farkllîlkolonu sWnak üzere
kullanllâbilmektedir ve her bir kolon, metalin azaltllBialela ve serbest proton
konsantrasyonunun arttlEllIhas- yönelik bir dizi asit y[giIl:ile slîtllâbilmektedir. Bu, önemli
ölçüde azaltllîhlsl kimyasal tüketimle ve yüksek konsantrasyon ve safllEta bir slîdûna çözeltisi
ile sonuçlanabilmektedir. Metalin yüksek safl[g]l:lve konsantrasyonu, rejenerantlEl, ikinci
asamadan rejenerantlEl, bir metal tuzu kimyasal son Ürüne dogrudan ve ekonomik olarak
islenmesine izin verebilmektedir. Üçüncü asamada, ikinci asamanI tek metal rejenerant,
Sekil 15'te gösterildigi üzere vakum buharlastlElna, kristalizasyon ve püskürterek kurutma gibi
islemleri kullanarak ticari olarak satüâbilir son ürünlere dogrudan islenebilmektedir.
Yukari açilîlanan bazElapllândlîilnalar (örn. RFID takip ve yönetim sistemi ile iliskili olanlar),
bir islemci ile uygulandiglia, burada açlElanan ileti sürecini uygulayan talimatlara sahip olan
bir depolama ortam lEUa depolanabilen bir bilgisayar program ürününde uygulanabilmektedir.
Depolama ortamÇlklgltlhylEEblmayacak sekilde flopi diskler, optik diskler, kompakt disk salt
okunabilir haflîia (CD-ROM'lar), yeniden yazilâbilir yogun teker (CD-RW'Ier) ve manyeto-optik
diskler dahil herhangi bir türde diski, salt okunur haflîlalar (ROM'Iar) gibi yarEiletken cihazlarü
dinamik ve statik RAM'ler gibi rastgele erisim haflîialarIEQRAM'ler), silinebilir programlanabilir
salt okunur haflîalarüEPROM'lar), elektriksel olarak silinebilir programlanabilir salt okunur
haflîialarmEEPROM'lar), flas bellekleri, manyetik veya optik kartlarüleya elektronik talimatlarEl
için uygun herhangi bir türde ortamEliçerebilmektedir. Diger yapllândlîilnalar, bir
programlanabilir kontrol cihazEîle uygulanan yazlIllîli modülleri olarak uygulanabilmektedir.
Burada kullanllân terminoloji, sadece belirli yapllândlEInalarI açlKlanmasEl amacIEl
tasaktadEl ve bulusu klglfliaylîlîlamaçllîtlegildir. Burada kullan.[gll:[izere, “bir" gibi tekil
formlarla, aksi içerikte belirtilmedikçe çogul formlarthla içermesi amaçlanmaktadIEl Burada
tarifnamede “içermektedir” ve/veya “içeren" terimlerinin, belirtilen özelliklerin, tamsayllârlîal,
adIilarlEl, islemlerin, elemanlar. ve/veya bilesenlerin mevcudiyetini belirttigi anlasllâcaktß
fakat bunlar. bir veya birden çok diger özelliginin, tamsay-lEl, adIiIlarlEl, islemlerinin,
elemanlarIlEJ, bilesenlerinin ve/veya gruplarII mevcudiyetini veya eklentisini imkanslîl
kllîhaktadE
Herhangi bir boyutun, ebadlEl, uzunlugun, dozlama miktarlEllEl, yogunlugun, aklSloranlarIlEl,
dozlama maddelerinin ve benzerinin sadece örnek teskil eden amaçlar için saglandlglEl/e
mevcut tarifnamenin kapsamlüklglflbylîljamaçta olmadlglübelirtilmelidir. Örnegin, bu
boyutlar, teknikte orta derecede uzman kisiler tarafIan çesitlendirildigi için, herhangi bir
Sekilde listelenen herhangi bir boyut veya ebat sadece bir örnek olarak saglanmaktadß
Bir dizi uygulama açllZIanmlgtE Bununla beraber, çesitli modifikasyonlarl getirilebildigi de
anlasllâcaktlü
Claims (6)
1. Bir atllZl su arltilna sistemi olup, asag-kileri içermektedir: bir ön uç sistemindeki bir doymus reçine tankIan reçinenin allElnasEliçin yapllândlüllân bir vakumlu ültre bandlZbistemi olup, vakumlu filtre bandlIlsistemi, doymus reçine tank-an bir bulamacI meydana getirilmesi ve bulamaca bir basamaklüeçine durulamasüliygulayarak bir metal çözeltinin meydana getirilmesi için yapüândlEllIhaktadlB asaglöhkilerin saglanmaslîile karakterize edilmektedir bir metale özgü saflastlîilna sistemi, burada metale özgü saflastlElna sistemi, seri halinde düzenlenen, birden çok saflastlülna ünitesi araclIIgllýla metal çözelti pompalanarak bir hedef metal ile süper doygun hale getirilmis bir saflastlülna ünitesinin meydana getirilmesi için yapliândlîllân birden çok saflastlElna ünitesi içermektedir; metale özgü saflastülna sisteminden hedef metal ile yüklenmis saflastlîrlna ünitesinin allEinasElçin yapilândlEllân bir tekrarlElslîlEina sistemi olup, tekrarllîlslýlîilna sistemi ayrlîla, bir metal tuzun meydana getirilmesi için hedef metal ile yüklenmis saflastlîilna ünitesine, birden çok asit tankII içeriklerinin sßlüolarak uygulanmaslîliçin yapllândlülliiaktadlrîl
2. Birden çok tanklEl, üç asit tankEiçerdigi, istem 1'ye göre atüg su arllîlna sistemi.
3. Birden çok tankI her birinden bir asit, bir oksidan maddesi ve bir indirgeyici maddeden en az birinin, önceden seçilmis bir sßda bir hedef metal ile yüklenmis olan saflastlElna ünitesi vaslüslýla pompalandlg'lüistem 1'e göre atllZl su arlElna sistemi.
4. Birden çok tanktan her birinin, degisken, birikimli hedef metal tuzu seviyelerine sahip farklEI bir asit konsantrasyonunu içerdigi, istem 2'ye göre atllleu ar[t]na sistemi.
5. Bir hedef metal ile yüklenmis olan saflastlElna ünitesinin, bir baklEl nikel, çinko ve bir iyon degisim reçinesinden en az birini içerdigi, istem 1'e göre atlElsu ar[t]na sistemi.
6. Iyon degisim reçinesinin, bir iminodiasetik iyon degisim reçinesi, silika jel, kimyasal olarak modifiye edilmis silika jel ve bir inorganik destekten olusan bir gruptan seçildigi, istem 5'e göre atÜZJsu arlEna sistemi. .Tekrarlüslýlîilna sisteminin, bir ürün taslEtDtank- bir çlKISEI saglanmaslîl için yapüând-@Çistem 1'e göre atiElsu ar[tIIna sistemi. . En siKlkuIlanüân asidin, birden çok tanktan en az birinin içerisinde bulunduruldugu, en s[IZJ kullanilân asidin, ilk olarak bir hedef metal ile yüklenmis olan saflastüna ünitesine uygulandig'lüistem 1'e göre atlklsu arltîina sistemi. . Bir birinci tankßl, bir hedef metal ile yüklenmis olan saflastlEna ünitesine asidin dagllîllBiasü için yapilând-[giübir ikinci tanklEl, birinci tankI içerisine dagEllüîasEiçin yapilând-[gllîl ve bir üçüncü tanklîil, ikinci tanklE] içerisine daglfllhîasülçin yapüând-lglÇlistem Z'ye göre athl su arlEina sistemi. Ayrlîla, bir hedef metal ile yüklenmis olan saflastlElna ünitesine bosaItIi yapan birinci tanktan kaynaklanan bir atigil allErnasElçin yapUândlBlân bir ürün taslEtEtankEiçeren, istem 9'a göre atllZl su arltîina sistemi. Atilasuyun ariEIlüias- yönelik bir yöntem olup, asaglöhkileri içermektedir: bir vakumlu filtre bandElsistemindeki bir ön uç sisteminde bulunan bir doymus reçine tankIian reçinenin allüinasü doymus reçine tanklEijan bir bulamaclEl meydana getirilmesi; bulamaca bir basamaklüreçine durulamaslZluygulanarak bir metal çözeltinin meydana getirilmesi olup; yöntemin asag-ki adIilarElçermesi ile karakterize edilmektedir: bir metale özgü saflastlülna sisteminde bir hedef metal ile süper doygun hale getirilmis olan bir saflastlîilna ünitesinin meydana getirilmesi olup, burada metal özgü saflastlEina sistemi, seri halinde düzenlenen birden çok saflastlEina ünitesi içermektedir ve hedef metal ile süper doygun hale getirilmis olan saflastlElna ünitesi, birden çok saflastlîilna ünitesi araciliglýla metal çözeltinin pompalanmaslîlaslîgislîla meydana getirilmektedir; bir tekrarlüslîlüna sisteminde metale özgü saflastlüina sisteminden hedef metal ile yüklenmis olan saflastlElna ünitesinin aIlEmaslîJ ve bir metal tuzun meydana getirilmesi için tekrarlßülîrlna sisteminde, birden çok asit tankII içeriklerinin, hedef metal ile yüklenmis olan saflastlüna ünitesine sßllîblarak uygulanmasEl Birden çok tanklEl, üç asit tanklîçerdigi, istem 11'e göre yöntem. AyrlEb, önceden seçilen bir sßda, bir hedef metal ile yüklenmis olan saflastlîilna ünitesi vaslfâsMa birden çok tanktan her birinden bir asit, bir oksidan maddesi ve bir indirgeyici maddeden en az birinin pompalanmalellZiçeren, istem 11'e göre yöntem. Birden çok tanktan her birinin, degisken, birikimli hedef metal tuzu seviyelerine sahip farklEl bir asit konsantrasyonu içerdigi, istem 12'ye göre yöntem. Bir hedef metal ile yüklenmis olan saflastüna ünitesinin, bir bakü nikel, çinko ve bir iyon degisim reçinesinden en az birini içerdigi, istem 11'e göre yöntem. Istem 15'e göre yöntem olup, iyon degisim reçinesi, sunlardan olusan gruptan seçilmektedir: bir iminodiasetik iyon degisim reçinesi, silika jeli, kimyasal olarak modifiye edilmis silika jel ve bir inorganik destek. TekrarlESlýlElna sistemi vaslüisüla bir ürün taslEtEtank- bir çlKIgl saglayan, istem 11'e göre yöntem. AyrIEla, birden çok tanktan en az birisi içerisinde en slklkullanllân asidin bulundurulmasüle ilk olarak bir hedef metal ile yüklenmis olan saflastlElna ünitesine en s[IZJ kullanüân asidin uygulanmaslüçeren, istem 11'e göre yöntem. Ayrlîla, asidin bir birinci tanktan, bir hedef metal ile yüklenmis olan saflastülna ünitesine dagmasüasidin bir ikinci asitten birinci tanka dagmasIÜ/e asidin bir üçüncü tanktan ikinci tanka daglfllîhaslügeren, istem 12'ye göre yöntem. AyriEla, bir ürün taslEtEtankIa, bir hedef metal ile yüklenmis olan saflastlîilna ünitesine bosaltIi yapan birinci tanktan kaynaklanan bir atigil allEmasIElçeren, istem 19'a göre yöntem.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US11956708P | 2008-12-03 | 2008-12-03 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TR201808604T4 true TR201808604T4 (tr) | 2018-07-23 |
Family
ID=42233608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TR2018/08604T TR201808604T4 (tr) | 2008-12-03 | 2009-12-03 | Atık su arıtma sistemi ve yöntemi. |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (6) | US8761942B2 (tr) |
| EP (4) | EP2373586B1 (tr) |
| CN (4) | CN102245515B (tr) |
| CA (4) | CA2744907C (tr) |
| ES (1) | ES2674387T3 (tr) |
| HU (1) | HUE038780T2 (tr) |
| MX (4) | MX2011005765A (tr) |
| PL (1) | PL2379452T3 (tr) |
| TR (1) | TR201808604T4 (tr) |
| TW (6) | TWI430964B (tr) |
| WO (4) | WO2010064149A2 (tr) |
Families Citing this family (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI430964B (zh) * | 2008-12-03 | 2014-03-21 | Rainer Bauder | 廢水處理系統以及方法（五） |
| DE102009011132A1 (de) * | 2009-03-03 | 2010-09-30 | Judo Wasseraufbereitung Gmbh | Verfahren zum Betrieb einer Wasserenthärtungsanlage mit Sollwertsteuerung durch eine Wasserentnahmestation |
| WO2011147019A1 (en) * | 2010-05-26 | 2011-12-01 | Al-Samadi Riad A | Multi-use high water recovery process |
| US20120325469A1 (en) * | 2011-06-27 | 2012-12-27 | Olson Stephen W | Process and system for treating produced water and flowback water from oil and gas operations |
| US9031700B2 (en) * | 2011-10-11 | 2015-05-12 | Intermolecular, Inc. | Facilities manifold with proximity sensor |
| JP2015502849A (ja) * | 2011-11-29 | 2015-01-29 | クリーン テク ホールディングス リミテッド | 水を処理するための工程及びプラント |
| ITVE20120035A1 (it) * | 2012-09-24 | 2014-03-25 | Bernardinello Engineering S P A | Metodo ed impianto di trattamento di reflui di processo in raffinerie di petrolio. |
| GB201302467D0 (en) * | 2013-02-12 | 2013-03-27 | Bofa Internat Ltd | Filter assemblies |
| US20140291246A1 (en) | 2013-03-16 | 2014-10-02 | Chemica Technologies, Inc. | Selective Adsorbent Fabric for Water Purification |
| CN103243348B (zh) * | 2013-05-03 | 2014-09-17 | 广东新大禹环境工程有限公司 | 回收电镀废水中重金属的方法和设备 |
| CN104370387A (zh) * | 2013-08-15 | 2015-02-25 | 上海凯鑫分离技术有限公司 | 从pta精制母液中回用催化剂及工艺用水的工艺及装置 |
| CN103572319B (zh) * | 2013-11-25 | 2016-08-17 | 南安市旭繁金属回收有限公司 | 电镀集控废水回收镍的方法 |
| JP5512032B1 (ja) * | 2013-12-05 | 2014-06-04 | 三菱重工業株式会社 | 循環水利用システムの課金装置、循環水利用システム |
| JP5518245B1 (ja) | 2013-12-05 | 2014-06-11 | 三菱重工業株式会社 | 循環水利用システム群の遠隔監視方法及び遠隔監視システム |
| US9665852B2 (en) * | 2014-05-13 | 2017-05-30 | Vws (Uk) Ltd. | Water purification unit |
| CN104163450A (zh) * | 2014-07-23 | 2014-11-26 | 云南锡业股份有限公司 | 一种铜电解液生产硫酸铜的脱水方法 |
| US10029249B1 (en) | 2014-07-25 | 2018-07-24 | Baker Hughes, A Ge Company, Llc | System and method for ion exchange regeneration |
| US10683223B1 (en) * | 2016-04-01 | 2020-06-16 | Paul C. Wegner | Process to remove transition metals from waste water |
| BE1023848B1 (nl) * | 2016-06-20 | 2017-08-10 | Desotec Naamloze Vennootschap | Mobiele filter voor corrosieve stoffen |
| US11066317B1 (en) * | 2018-10-26 | 2021-07-20 | Paul Charles Wegner | System for removal of nitrate and chrome from water |
| CN110183018A (zh) * | 2019-06-03 | 2019-08-30 | 东莞新溢眼镜制造有限公司 | 一种分流式电镀污水零排放处理方法 |
| CN110183019A (zh) * | 2019-06-03 | 2019-08-30 | 东莞新溢眼镜制造有限公司 | 一种高浓废水零排放处理方法 |
| CN110526504B (zh) * | 2019-09-04 | 2024-01-19 | 湖北君集水处理有限公司 | 一种靶向脱氮除磷树脂再生废液处理的系统及方法 |
| CN110604966B (zh) * | 2019-09-11 | 2021-09-14 | 上海傲云工贸有限公司 | 一种工业化学废液铜回收设备 |
| CN115812010A (zh) * | 2020-05-07 | 2023-03-17 | 百菲萨锌金属有限责任公司 | 用于制备硫酸锰的方法、系统和设备 |
| US11021384B1 (en) * | 2020-12-12 | 2021-06-01 | GreenSource Fabrication LLC | Zero liquid discharge recycling system for PCB FAB, general metal finishing, and chemical milling |
| CN113546446A (zh) * | 2021-07-28 | 2021-10-26 | 江西东江环保技术有限公司 | 一种利用阳离子树脂回收bcc合成母液中铜的方法 |
| CN113908622A (zh) * | 2021-11-26 | 2022-01-11 | 溆浦江龙锰业有限责任公司 | 一种电解锰生产用压滤装置 |
| FI20225613A1 (fi) * | 2022-06-30 | 2023-12-31 | Neste Oyj | Uusi prosessi raaka-aineen jalostamiseksi |
| CN115196718A (zh) * | 2022-07-13 | 2022-10-18 | 北京师范大学 | 一种循环冷却水处理方法 |
Family Cites Families (42)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2698293A (en) * | 1950-10-04 | 1954-12-28 | Culligan Inc | Regeneration system and method of regenerating and treating ion exchange materials |
| BE510506A (tr) * | 1951-04-12 | |||
| US3207577A (en) * | 1961-02-11 | 1965-09-21 | Asahi Chemical Ind | Method for the recovery of copper from a slurry containing the same |
| US3215624A (en) | 1961-06-30 | 1965-11-02 | Fuller Co | Continuous ion exchange apparatus and process |
| US3943233A (en) * | 1974-02-20 | 1976-03-09 | Engelhard Minerals & Chemicals Corporation | Processing finely divided solids on a continuous vacuum belt filter |
| US4048284A (en) * | 1976-03-08 | 1977-09-13 | Engelhard Minerals & Chemicals Corporation | Method and system for ion-exchanging particles |
| US4176060A (en) * | 1978-01-03 | 1979-11-27 | Ciba-Geigy Corporation | Process for soluble cyanide removal from wastewater streams |
| JPS54118990A (en) * | 1978-03-08 | 1979-09-14 | Hitachi Ltd | Regeneration method of desalting type filter for atomic reactor condensate clarification system |
| US4207397A (en) | 1978-09-15 | 1980-06-10 | Water Refining Company, Inc. | Method for recovering and treating brine from water softener regeneration |
| US4210530A (en) * | 1979-02-22 | 1980-07-01 | Purdue Research Foundation | Treatment of metal plating wastes with an unexpanded vermiculite cation exchange column |
| US4350597A (en) | 1980-10-31 | 1982-09-21 | Wilson & Company | Apparatus and process for treatment of sludge |
| AU600673B2 (en) * | 1985-09-16 | 1990-08-23 | Dow Chemical Company, The | Method of removing metal contaminants from solutions |
| US4908136A (en) * | 1987-12-30 | 1990-03-13 | Mobil Oil Corp. | Method and apparatus for forming and ion-exchanging a filter cake |
| CH676334A5 (tr) | 1988-09-28 | 1991-01-15 | Sulzer Ag | |
| GB8922503D0 (en) | 1989-10-05 | 1989-11-22 | Crossflow Microfiltration Ltd | Causing phases to interact |
| US5366634A (en) * | 1992-08-26 | 1994-11-22 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Waste treatment process for removal of contaminants from aqueous, mixed-waste solutions using sequential chemical treatment and crossflow microfiltration, followed by dewatering |
| EP0634364B1 (en) * | 1993-02-03 | 1999-01-07 | Kurita Water Industries Ltd. | Pure water manufacturing method |
| US5310486A (en) | 1993-05-25 | 1994-05-10 | Harrison Western Environmental Services, Inc. | Multi-stage water treatment system and method for operating the same |
| US5376265A (en) * | 1994-02-01 | 1994-12-27 | Szabo; Louis | Ozone/water contactor |
| TW259720B (en) * | 1994-06-29 | 1995-10-11 | Kimberly Clark Co | Reactor for high temperature, elevated pressure, corrosive reactions |
| AUPM959994A0 (en) * | 1994-11-22 | 1994-12-15 | Ici Australia Operations Proprietary Limited | Water treatment process |
| US5624881A (en) | 1994-09-27 | 1997-04-29 | Syracuse University | Chemically active ceramic compositions with a pyrogallol moiety |
| US5858119A (en) * | 1995-05-17 | 1999-01-12 | Mayne; Michael D. | Ion exchange resin cleaning method |
| DE19545303C1 (de) * | 1995-12-05 | 1997-04-24 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren zur Herstellung einer organischen Säure |
| US5804606A (en) * | 1997-04-21 | 1998-09-08 | Rohm & Haas Company | Chelating resins |
| US5785863A (en) * | 1997-10-28 | 1998-07-28 | Basf Corporation | Removing metals from aqueous waste streams |
| US6635232B1 (en) * | 1999-05-13 | 2003-10-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of chemically decontaminating components of radioactive material handling facility and system for carrying out the same |
| JP2004502036A (ja) * | 2000-06-30 | 2004-01-22 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | 金属を加工処理するための方法及び装置、並びに加工処理して製造された金属 |
| EP1385790A2 (en) * | 2000-10-25 | 2004-02-04 | Basin Water, Inc | High efficiency ion exchange system for removing contaminants from water |
| WO2003082748A1 (en) | 2002-04-03 | 2003-10-09 | Orica Australia Pty Ltd | Process for regenerating ion-exchange resins |
| US8071055B2 (en) * | 2002-12-04 | 2011-12-06 | Blue Water Technologies, Inc. | Water treatment techniques |
| US7838454B2 (en) | 2003-05-09 | 2010-11-23 | Clean Teq Pty Ltd. | Method and apparatus for desorbing material |
| US7119689B2 (en) | 2003-09-19 | 2006-10-10 | Vesta Medical, Llc | System and method for sorting medical waste for disposal |
| US20050194319A1 (en) | 2004-03-08 | 2005-09-08 | Paul Wegner | Ion exchange process |
| US20050218077A1 (en) * | 2004-04-03 | 2005-10-06 | Brunsell Dennis A | Method for processing hydrolasing wastewater and for recycling water |
| US7329358B2 (en) | 2004-05-27 | 2008-02-12 | Siemens Water Technologies Holding Corp. | Water treatment process |
| CA2621853A1 (en) | 2004-09-13 | 2006-03-23 | Futuremet (Pty) Ltd | Apparatus and process for recovery of metal values from leach or waste slurries |
| AP2007004030A0 (en) * | 2004-12-30 | 2007-06-30 | Bhp Billiton Ssm Tech Pty Ltd | Extraction of nickel and cobalt from a resin eluate stream |
| US20070297960A1 (en) | 2004-12-30 | 2007-12-27 | Krebs Damien G I | Extraction of Nickel and Cobalt from a Resin Eluate Stream |
| TW200630156A (en) | 2005-02-03 | 2006-09-01 | Shell Int Research | Treatment of an aqueous mixture containing an alkylene oxide with an ion exchange resin |
| US7488423B2 (en) * | 2005-08-02 | 2009-02-10 | Siemens Water Technologies Holding Corp. | System and method of slurry treatment |
| TWI430964B (zh) * | 2008-12-03 | 2014-03-21 | Rainer Bauder | 廢水處理系統以及方法（五） |
-
2009
- 2009-12-02 TW TW98141171A patent/TWI430964B/zh active
- 2009-12-02 TW TW98141172A patent/TW201034976A/zh unknown
- 2009-12-02 TW TW98141170A patent/TW201034975A/zh unknown
- 2009-12-02 TW TW098141169A patent/TWI476161B/zh active
- 2009-12-02 TW TW98141167A patent/TWI428290B/zh active
- 2009-12-02 TW TW98141168A patent/TWI428291B/zh active
- 2009-12-03 MX MX2011005765A patent/MX2011005765A/es active IP Right Grant
- 2009-12-03 US US12/630,237 patent/US8761942B2/en active Active - Reinstated
- 2009-12-03 US US12/630,203 patent/US20100163497A1/en not_active Abandoned
- 2009-12-03 HU HUE09831103A patent/HUE038780T2/hu unknown
- 2009-12-03 PL PL09831103T patent/PL2379452T3/pl unknown
- 2009-12-03 MX MX2011005764A patent/MX2011005764A/es not_active Application Discontinuation
- 2009-12-03 CN CN2009801484466A patent/CN102245515B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-12-03 TR TR2018/08604T patent/TR201808604T4/tr unknown
- 2009-12-03 EP EP09831119.4A patent/EP2373586B1/en not_active Not-in-force
- 2009-12-03 MX MX2011005766A patent/MX2011005766A/es active IP Right Grant
- 2009-12-03 EP EP09831103.8A patent/EP2379452B1/en active Active
- 2009-12-03 EP EP09830078.3A patent/EP2373821B1/en active Active
- 2009-12-03 CA CA2744907A patent/CA2744907C/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-12-03 WO PCT/IB2009/008065 patent/WO2010064149A2/en active Application Filing
- 2009-12-03 WO PCT/US2009/066581 patent/WO2010065738A1/en active Application Filing
- 2009-12-03 US US12/630,273 patent/US8425768B2/en active Active - Reinstated
- 2009-12-03 CN CN2009801484470A patent/CN102256903B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-12-03 WO PCT/US2009/066543 patent/WO2010065714A1/en active Application Filing
- 2009-12-03 EP EP09830080.9A patent/EP2373822A4/en not_active Withdrawn
- 2009-12-03 WO PCT/IB2009/007755 patent/WO2010064143A2/en active Application Filing
- 2009-12-03 CN CN2009801484485A patent/CN102256705A/zh active Pending
- 2009-12-03 CA CA2745092A patent/CA2745092C/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-12-03 CA CA2745089A patent/CA2745089C/en not_active Expired - Fee Related
- 2009-12-03 MX MX2011005763A patent/MX2011005763A/es active IP Right Grant
- 2009-12-03 CA CA2744994A patent/CA2744994A1/en not_active Abandoned
- 2009-12-03 US US12/630,189 patent/US20100163489A1/en not_active Abandoned
- 2009-12-03 US US12/630,349 patent/US8323505B2/en active Active - Reinstated
- 2009-12-03 US US12/630,182 patent/US8366926B2/en active Active - Reinstated
- 2009-12-03 CN CN200980148252.6A patent/CN102355933B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-12-03 ES ES09831103.8T patent/ES2674387T3/es active Active
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TR201808604T4 (tr) | Atık su arıtma sistemi ve yöntemi. | |
| US20160289086A1 (en) | System for automatic water discharge management |