TR201808396T4 - Formülasyonlar, bunların üretimi ve kullanımı, ve uygun bileşenler. - Google Patents

Formülasyonlar, bunların üretimi ve kullanımı, ve uygun bileşenler. Download PDF

Info

Publication number
TR201808396T4
TR201808396T4 TR2018/08396T TR201808396T TR201808396T4 TR 201808396 T4 TR201808396 T4 TR 201808396T4 TR 2018/08396 T TR2018/08396 T TR 2018/08396T TR 201808396 T TR201808396 T TR 201808396T TR 201808396 T4 TR201808396 T4 TR 201808396T4
Authority
TR
Turkey
Prior art keywords
acid
present
weight
sodium
methyl
Prior art date
Application number
TR2018/08396T
Other languages
English (en)
Inventor
Türk Holger
Weber Heike
Tuerkoglu Gazi
Original Assignee
Basf Se
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Basf Se filed Critical Basf Se
Publication of TR201808396T4 publication Critical patent/TR201808396T4/tr

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/04—Acids; Metal salts or ammonium salts thereof
    • C08F220/06—Acrylic acid; Methacrylic acid; Metal salts or ammonium salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C227/00—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C227/14—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton from compounds containing already amino and carboxyl groups or derivatives thereof
    • C07C227/18—Preparation of compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton from compounds containing already amino and carboxyl groups or derivatives thereof by reactions involving amino or carboxyl groups, e.g. hydrolysis of esters or amides, by formation of halides, salts or esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C229/00—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton
    • C07C229/02—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton
    • C07C229/04—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
    • C07C229/06—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having only one amino and one carboxyl group bound to the carbon skeleton
    • C07C229/10—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having only one amino and one carboxyl group bound to the carbon skeleton the nitrogen atom of the amino group being further bound to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
    • C07C229/16—Compounds containing amino and carboxyl groups bound to the same carbon skeleton having amino and carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms of the same carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated having only one amino and one carboxyl group bound to the carbon skeleton the nitrogen atom of the amino group being further bound to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by amino or carboxyl groups, e.g. ethylenediamine-tetra-acetic acid, iminodiacetic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/42—Nitriles
    • C08F220/44—Acrylonitrile
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F251/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polysaccharides or derivatives thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/0005—Other compounding ingredients characterised by their effect
    • C11D3/0036—Soil deposition preventing compositions; Antiredeposition agents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/26—Organic compounds containing nitrogen
    • C11D3/33—Amino carboxylic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/37—Polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/16—Organic compounds
    • C11D3/37—Polymers
    • C11D3/3788—Graft polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
    • C11D3/39—Organic or inorganic per-compounds
    • C11D3/3942—Inorganic per-compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
    • C11D2111/10—Objects to be cleaned
    • C11D2111/14—Hard surfaces
    • C11D2111/18—Glass; Plastics

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Detergent Compositions (AREA)
  • Medicinal Preparation (AREA)
  • Cosmetics (AREA)
  • Polyamides (AREA)
  • Medicines Containing Antibodies Or Antigens For Use As Internal Diagnostic Agents (AREA)

Abstract

Mevcut buluş formülasyonlar ile ilgilidir, bunlar; (A) metil glisin di- asetat (MGDA), glutamik asit di- asetat (GLDA) ve de bunların tuzlarından seçilen en azından bir bileşik, (B) aşağıdakilerden oluşturulan en azından bir aşı- ko- polimeri içermesidir.

Description

TARFNAME FORMULASYONLAR, BUNLARIN URETIMI VE KULLANIMI, VE UYGUN BILESENLER Mevcut bulus formülasyonlar ile ilgilidir, bunlar asagidakileri içerir (A) metil glisin di- asetat (MGDA), glutamik asit di- asetat (GLDA) ve de bunlarin tuzlarindan seçilen en azindan bir bilesik, (B) asagidakilerden olusturulan en azindan bir asi- ko- polimeri, (a) iyonik olmayan mono- sakkarit'ler, di- sakkarit'ler, oligo- sakkarit'ler ve poli- sakkaritrler arasindan seçilen, ve bunlarin 'üzerine asagidakilerin asilanmasiyla elde edilebilen yan zincirlerden seçilen en azindan bir asi- bazi (b) en azindan bir etilenik doymamis mono- veya di- karbon asidi ve (c) genel formül (I)'in en azindan bir bilesigi, burada degiskenler asagidaki gibi tanimlanmistir: R1, metil ve hidrojen arasindan seçilmistir, A1, C2-C4- alkilen'den seçilmistir, R2, ayni veya farklidir ve C1-C4- alkil'den seçilmistir, X-, halojen'ur, mono- C1-C4- alkil sülfat ve sülfat arasindan seçilmistir. Ilaveten mevcut basvuru bulusa uygun form'ulasyonlarinin kullanimlari ve bunlarin üretimi için bir yöntem ile ilgilidir. Ilaveten mevcut bulus asi- ko- polimerleri ile ilgilidir, bunlar asagidakilerden olusturulmustur: (a) iyonik olmayan mono- sakkarit'ler, di- sakkarit'ler, oligo- sakkarit'ler ve poli- sakkaritrler ve asagidakilerin asilanmasi ile elde edilebilen yan zincirlerden seçilen en azindan asi- (b) en azindan bir etilenik doymamis mono- veya di- karbon asidi ve (c) genel form'ul (I)'in en azindan bir bilesigi, burada degiskenler asagidaki gibi tanimlanmistir R1, metil ve hidrojen arasindan seçilmistir, A1, C2- C4- alkilen'den seçilmistir, R2, ayni veya farklidir ve C1- C4- alkil'den seçilmistir, X" halojen'ur, mono- C1- C4- alkil sülfat ve sülfat arasindan seçilmistir. Bulasik yikama maddesi çok sayida talebi yerine getirmelidir. Bunlar bulasigi iyice temizlemelidirler, atik su içinde hiçbir zararli veya olasi zararli madde bulundurmamalidirlar, suyun bulasigin `üzerinden akmasini ve kurumasini yerine getirmelidirler, çözülmüs olan kir bilesenleri, yikanacak malzemenin 'üst yüzeyinin getirilmelidir. Bulasik yikama maddeleri bulasik makinesinin isletilmesinden hiçbir soruna neden olmamalidir. Son olarak bunlar yikanacak malzeme 'üzerinde estetik olarak arzu edilmeyen sonuçlar dogurmamalidirlar. Ozellikle kireç veya diger inorganik ve organik tuzlarin mevcudiyetinden dolayi su damlalarinin kurutulmasi sirasinda meydana gelen veya kir bilesenlerinin veya inorganik tuzlarin tortu olusturmasiyla daha yikama süreci sirasinda yikanacak malzemenin 'üzerine çöken beyazimsi lekeler veya kaplamalar ortaya çikmamalidir. Ozellikle makine ile modern bulasik temizleyicilerinde, çok islevsel temizleyicilerde (örnek olarak 3'i] 1 arada temizleyiciler veya genel olarak xri 1 arada temizleyiciler), temizleme, son durulama ve su yumusatma islevleri bir tek temizleyici formülasyonu içinde birlestirilmistir, boylece kullanici için hem tuzun doldurulmasi (O°ila 21°dHrlik su sertliklerinde) hem de son durulama maddelerinin doldurulmasi gereksiz olur. xli 1 arada temizleyicilerde, kaplama olusmasini önlemek için çogunlukla polimerler kullanilir. Bunlar fosfat içeren temizleyicilerde örnek olarak sülfon içeren polimerler olabilir, bunlar özellikle kalsiyum fosfat çökeltilerinin önlenmesi için etki gösterirler. Kullanilan yüzey aktif maddeler, bunlarin son durulma sürecinde sürüklenecekleri sekilde ve orada en uygun sekilde islanacak ve iyi bir son durulama sonucunu saglayacak sekilde seçilirler. Baska uygun polimerler, poli- akrilik asitler gibi poli- karboksilattlardir. Ilaveten son durulama maddesi olmadan ve iyon degistirici madde de kullanilmak zorunda olmadan fosfat bulunmayan temizleme maddelerine dogru egilim, ancak bir çözelti gerektirir. Fosfat bulunmayan bulasik yikama maddelerinde ortaya çikan tuzlarin bilesimi fosfat içeren temizleyicilerde oldugundan baskadir, böylece simdiye kadar kullanilan polimerler çogu durumda yeterli derecede etkin degildirler. Ozellikle kaplama olusmasinin önlenmesi konu oldugunda, fosfat içeren bulasik temizleme maddeleri daha gelistirilmeye gereksinim duyarlar. EP 2 138 560 A1 sayili belgede asi- ko- polimerlerinin ve bunlarin, daha sert üst yüzeylerin temizlenmesi için, digerlerinin yaninda bulasik temizleyici maddesi olarak kullanimi açiklanmistir. EP 2 138 560 A1 sayili belgede tasarlanan temizleme maddelerinin ancak bazi durumlarda, örnek olarak biçak gibi çatal biçak takimlarinda ve özellikle camda bulasik temizleme maddesi olarak yeterli kaplama önleyici etkisi bulunmaz. Bu nedenle amaç,- özellikle fosfat olmayan maddelerde - özellikle cam üzerinde çok iyi kaplama önleme etkisi olan formülasyonlarin hazirlanmasidir. Ilaveten, - özellikle fosfat olamayan maddelerde çok iyi bir kaplama önleyici etkisi bulunan formülasyonlarin üretilebilecegi bir yöntemin hazirlanmasi amaçtir. Son olarak amaç, bu türformülasyonlar için uygun bilesenlerin hazirlanmasidir. Buna tekabül ederek giriste tanimlanan formülasyonlar bulunmustur, bunlar mevcut bulusun çerçevesi dahilinde bulusa uygun formülasyonlar olarak da adlandirilirlar. Bulusa uygun formülasyonlar oda sicakliginda, yani 20 °C'de, sivi, kati, macun halinde veya jel seklinde bulunabilirler. Tercih edilen sekliyle bulusa uygun formülasyonlar oda sicakliginda katidirlar. Oda sicakliginda kati olan bulusa uygun formülasyonlar içinde su bulunmayabilir veya bunlar su içerebilirler, örnek olarak agirlik yüzdesi olarak % *ye kadar, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 0,1 ila % 10 su içerebilirler, bu Karl- Fischer- titrasyonu araciligiyla veya kuru tortunun belirlenmesi 80 °Cide indirgenmis basinç altinda incelenerek belirlenebilir. Oda sicakliginda kati form'ulasyonlar, örnek olarak toz, gran'ul veya tablet seklinde mevcut olabilirler. Bir baska uygulama seklinde bulusa uygun formülasyonlar 20 cCrde sividirlar. 20 "Cd e sivi olan bulusa uygun formülasyonlar agirlik yüzdesi olarak % 30 ila % 80, tercih edilen sekliyle % 40 ila % 80 su içerebilirler. Bu tür uygulama sekillerinde de su içerigi kuru tortu bakiyesinin 80 cC'de ve indirgenmis basinç altinda belirlenmesiyle belirlenebilir. Oda sicakliginda sivi olan bulusa uygun formülasyonlar, örnek olarak jel seklinde mevcut olabilirler. Bulusa uygun formülasyonlar (A) metil glisin di- asetat (MGDA) ve glutamik asit di- asetat (GLDA) ve de bunlarin tuzlarindan seçilen en azindan bir bilesik, kisaca bilesik (A) olarak da adlandirilir, içerebilirler. Tercih edilen sekliyle bilesik (A), MGDArdan ve bunun tuzlarindan, özellikle sodyum tuzlarindan seçilir. MGDA ve GLDA, rasemat olarak veya saf enantiyomer bilesik olarak mevcut olabilir. GLDA, tercih edilen sekliyle L- GLDAidan veya içinde 80 mol-% olarak en azindan L- GLDA, tercih edilen sekliyle 90 m0l-% olarak en azindan L-GLDA mevcut olan L- GLDArnin enantiomerler ile zenginlestirilmis karisimlarindan seçilir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde birlesik (A), rasemik MGDA'dan seçilir. Mevcut bulusun bir baska uygulama seklinde bilesik (A) L-MGDA'dan veya L- ve D- MGDA'nin enantiomerlerinin karisimindan seçilir, bunlarin içinde L- MGDA agirliklidir ve bunlarin araligindadir. Mol orantisi (U D) Örnek olarak polarimetre araciligiyla belirlenebilir veya kromatografik olarak, tercih edilen sekliyle HPLC araciligiyla bir siral sütun ile, Örnek olarak sabit faz olarak siklo dekstrin ile veya sütun `üzerinde hareketsiz hale getirilen optik aktif amonyum tuz ile belirlenebilir. Ornek olarak hareketsiz hale getirilen bir D- penisil amin tuzu kullanilabilir. MGDA veya GLDA tercih edilen sekliyle tuz olarak kullanilir. Tercih edilen tuzlar amonyum tuzlari ve alkali metal tuzlaridir, ozellikle tercih edilen potasyum ve özellikle sodyum tuzlaridir. Bunlar genel formül (ll)'ye veya (lll)* sahip olabilirler x, 0,0 ila 0,5 araliginda, tercih edilen sekliyle 0,25'e kadar, y, 0,0 ila 0,5 araliginda, tercih edilen sekliyle 0,25'e kadar. x, 0,0 ila 0,5 araliginda, tercih edilen sekliyle 0,25te kadar, y, 0,0 ila 0,5 araliginda, tercih edilen sekliyle 0,25*e kadar. Çok 'özel olarak, MGDA'nin tri- sodyum tuzu ve GLDAinin tetra- sodyum tuzu tercih Bilesik (A) düsük miktarda katyon içerebilir, bunlar alkali metal iyonlarindan farklidirlar, örnek olarak Mgzî Caz* veya örnek olarak Fe2+ veya Fe3+ gibi demir iyonlarindan farklidirlar. Bu tür iyonlar, çok sayida durumda üretim sarti olarak bilesik (A) içerirler. AIkaIi metal iyonlarindan farkli katyonlar mevcut bulusun bir uygulama seklinde, toplam MGDA veya toplam GLDA ile ilgili olarak 0,01 ila 5 moI-% araliginda içerilirler. Mevcut bulusun bir baska uygulama seklinde, bilesik (A) içinde alkali metal iyonlarindan farkli olan 'Ölçülebilir hiçbir katyon içerilmez. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, bilesik (A), üretime bagli olarak ortaya çikabilecek bir veya çok sayida pislikten düsük miktarda içerirler. MGDA durumunda, pislik olarak örnek olarak propiyon asidi, alanin veya laktik asit içerilmis olabilir. Düsük miktarlar burada bilesik (A)'ya göre agrilik yüzdesi olarak % 0,01 ila °/o 1 araligindadir. Bu tür pislikler mevcut bulusun çerçevesi dahilinde, ayrintili olarak aksi takdirde ifade edilmemisse, göz ardi edilebilir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde bulusa uygun formülasyon, bir bilesik (A), örnek olarak sadece MGDA'nin tri- sodyum tuzu veya sadece GLDA'nin tetra- sodyum tuzu içerir. Burada x veya y sifira esit olmayan genel formül (II)'nin veya (III)rün bilesiklerinin her biri de bir bilesik olarak belirtilirler. Mevcut bulusun bir baska uygulama seklinde bulusa uygun formülasyon, iki bilesik (A) içerir, örnek olarak MGDA'nin tri- sodyum tuzunun ve GLDA'nin tetra- sodyum tuzunun, 1: 1 ila 1: 10 araliginda bir mol orantisi içinde bir karisimini içerir. Bulusa uygun formülasyonlar ilaveten sunlari içerirler: (B) mevcut bulusun çerçevesi dahilinde asi- ko- polimeri veya bulusa uygun asi- ko- polimeri olarak da adlandirilan ve asagidakilerden olusturulan en azindan bir asi- kopolimeri, (a) iyonik olmayan mono- sakkarit'ler, di- sakkaritler, oligo- sakkarit'ler ve poli- sakkaritiler ve asagidakilerin asilanmasi araciligiyla elde edilebilir yan zincirlerden seçilen, kisaca asi- bazi (a) olarak adlandirilan en azindan bir asi- bazi (b) en azindan bir etilenik doymamis mono- veya di- karbon asidi, kisaca mono- karbon asidi (b) veya di- karbon asidi (b) olarak adlandirilir, ve (c) genel formül (I),in en azindan bir bilesigi, kisaca monomer (c) veya bilesik (l) olarak adlandirilir, N R2 * x' burada degiskenler asagidaki gibi tanimlanmistir: R1, metil ve hidrojen arasindan seçilmistir, A1, C2- C4- alkileniden seçilmistir, R2, ayni veya farklidir ve 01- C4- alkil'den seçilmistir, X', halojen'ur, mono- 01- C4- alkil sülfat ve sülfat arasindan seçilmistir. Asi- bazi (a) olarak uygun iyonik olmayan mono- sakkaritler, örnek olarak aldopentozlar, pentülozlar (keto- pentoz*lar), aldoheksozlar ve heks'ülozlar (ketoheksozlar) arasindan seçilebilirler. Uygun aldopentoz'lar, örnek olarak ribozlar, D-ksiloz'lar ve L- arabinoz'lardir. aldoheksonlar olarak D- glükOZ'Iar, D- manoz'lar ve D- galaktozilar sayilir, heks'ulozlarin (ketoheksozilar) örnekleri olarak her seyden önce F- früktoz'lar ve D- sorboz'lar sayilir. Mevcut bulusun çerçevesi dahilinde, örnek olarak L- früktoz ve L- ramnozrlar gibi desoksi sekeri de sayilmalidir. Iyonik olmayan di- sakkarit'ler için örnek olarak, örnegin selobiyozlar, laktoz'lar, maltozrlar ve sakkarozilar sayilir. Iyonik olmayan oligo sakkarit'ler olarak mevcut bulusun çerçevesi dahilinde her molek'ül için 'üç ila on iyonik olmayan mono sakkarit birimi bulunan iyonik olmayan karbon hidratlar, örnek olarak glisan'lar belirlenir. Iyonik olmayan poli- sakkarit'ler olarak mevcut bulusun çerçevesi dahilinde her molekül için ondan fazla iyonik olmayan mono sakkarit birimi bulunan iyonik olmayan karbon hidratlar belirlenir. Iyonik olmayan oligo- ve poli- sakkarit7ler örnek olarak dogrusal, siklik veya dallanmis olabilirler. Iyonik olmayan poli- sakkarit'ler olarak Örnek olarak, nisasta ve glikojen ve de selüloz ve dekstran gibi biyo- polimerler sayilir. ilaveten D- fruktoziun (fruktan) poli- kondenzati olarak inülin ve kitin sayilmalidir. Iyonik olmayan poli- sakkarit'lerin baska örnekleri, iyonik olmayan nisasta ayristirma 'ürünleri, örnek olarak nisastanin enzimatik veya kimyasal sekilde ayristirilmasiyla elde edilebilen ürünlerdir. Nisastanin bu tur kimyasal ayristirilmasi için bir örnek, asit ile katalize edilen hidrolizdir. Iyonik olmayan nisasta ayristirma 'ürünleri için tercih edilen örnekler. maltodekstrinilerdir. Maltodekstrin olarak, mevcut bulusun çerçevesi dahilinde gl'ükoz monomer'lerinin, dimer'lerinin, oligomer'lerinin ve polimerilerinin karisimlari ele alinir. Hidroliz derecesine göre yüzde bilesim farklilasir. Bu dekstroz - esdegeri araciligiyla açiklanir, bu maltodekstrintde 3 ve 40 arasinda bulunur. Tercih edilen sekliyle asi bazi (a) iyonik olmayan poli- sakkarit'lerden, özellikle kimyasal olarak degistirilmemis olan, örnek olarak bunlarin hidroksil gruplarinin tercih edilen sekliyle ne esterlestirilmis ne de eterlestirilmis oldugu nisastadan seçilir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, nisasta agirlik yüzdesi olarak % 20 ila % 30 araliginda amiloz ve % 70 ile % 80 araliginda amilopektin bulunan bu tur iyonik olmayan poli- sakkaritrlerden seçilir. Ornekler misir nisastasi, pirinç nisastasi, patates nisastasi ve bugday nisastasidir. Asi bazinin (a) 'üzerine yan zincirler asilanir. Asi- ko- polimerinin (B) her bir molek'ul'u için tercih edilen sekliyle ortalama bir ila on yan zincir asilanmis olabilir. Tercih edilen sekliyle bu sirada bir yan zincir, bir mono- sakkaritin bir anomer C- atomu ile veya bir oligo- veya poli sakkarit'in bir zincir ucunun bir anomer C- atomu ile birlestirilir. Yari zincirlerin sayisi, ilgili asi bazinin (a) hidroksil gruplari olan C- atomlarinin sayisi araciligiyla yukariya dogru sinirlanir. Mono karbon asitleri (b) için örnekler, etilenik doymamis C3- C10- mono karbon asitleri ve bunlarin alkali metal- veya amonyum tuzlari, özellikle potasyum ve sodyum tuzlaridir. Tercih edilen mono karbon asitleri (b) akrilik asitler ve met- akrilik asitler ve de sodyum (met) akrilat'tir. Etilenik doymamis C3- C10 mono karbon asitlerinin karisimlari ve özellikle akrilik ve met akrilik asit karisimlari tercih edilen bilesenlerdir Di- karbon asitleri (b) için örnekler etilenik doymamis C4- C10- di- karbon asitleri ve bunlarin mono- ve özellikle di- alkali metal veya amonyum tuzlari, 'özellikle di- potasyum ve di- sodyum tuzlari, ve de etilenik doymamis C4- Cio- di- karbon asitlerinin anhidrittleridir. Tercih edilen di- karbon asitleri (b), maleik asit, fumarik asit, itakon asidi ve de maleik asit anhidriti ve itakon asit anhidriti' dir. Bir uygulama seklinde asi- ko- polimeri (B) en azindan bir yan zincir içinde monomerrin (c) yaninda en azindan bir mono- karbon asidi (b) ve en azindan bir di- karbon asidi (b) içerir. Mevcut bulusun birtercih edilen uygulama seklinde, asi- ko- polimeri (B) yan zincir içinde, monomerrin (c) yaninda sadece mono- karbon asidi (b) polimerize edilmistir, ama hiçbir di- karbon asidi (b) polimerize edilmemistir. Monomer'ler (o), sürekli katyonik yükü olan etilenik doymamis N- içeren bilesiklerdir, burada degiskenler asagidaki gibi tanimlanmistir: R1, metil ve hidrojen arasindan seçilmistir, arasindan seçilir, tercih edilen -CH2-CH2- ve -(CH2)3-, R2, farklidir veya tercih edilen sekliyle esittir, ve 01- C4- alkil, örnek olarak metil, etil, n- propil, n-bütil, izo- propil, izo- bütil, sek.-bütil, tersiyer- bütil arasindan seçilir, tercih edilen en azindan iki R2 esittir ve her biri metil'dir, ve ikinci grup R2 etil, n- propil veya n- bütil veya iki R2 esittir ve her biri etil'dir, ve üçüncü grup R2 metil, n- propil veya n- bütil*dir. Ozellikle tercih edilen her üç R2rnin her biri esittir ve metil'den seçilmistir. X', halojenür'den, 'Örnek olarak iyodür, bromür ve özellikle klorür*den, ilaveten mono- Ci- C4- alkil sülfat ve sülfatrtan seçilir. Mono- 01- C4- alkil sülfat için örnekler, metil sülfat, etil sülfat, izo- propil sülfat ve n- bütil sülfat'tir, tercih edilenler metil sülfat ve etil sülfat*tir. X- sülfat olarak seçilirse, o zaman X- bir yarim esdegerli sülfat demektir. Mevcut bulusun tercih edilen bir uygulama seklinde, monomer (c) içinde degiskenler R1, hidrojen veya metildir, R2, esittir ve her bir metildir, A1, CH2CH2'dIl' ve X-, klor'ur'dür. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde monomer (C) asagidakilerin arasindan seçilmistir M %NmHw ci* ýgr V\N(CH3)3+ ci- /k/OWNwst Cl- Asi- ko- polimeri (B) bir veya çok sayida yari zincir içinde en azindan bir baska komonomer (d) polimerize edilmis olarak içerilir, örnekler 2- hidroksi etil-(met) akrilat veya 3- hidroksi propil(met) akrilat gibi hidroksi alkil ester veya 'örnek olarak 2- akrilamid gibi alkoksillenmis yag alkolleri, veya sülfon asit gruplari içeren komonomeriler ve bunlarin alkali metal tuzlaridir. Tercih edilen sekliyle asi- ko- polimeri (B) monomer (c) ve mono- karbon asidi (b) veya di- karbon asidi (b) disinda bir veya çok sayida yan zincir içinde baska hiçbir komonomer (d) içermez. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde asi- ko- polimeri (B) içinde asi bazinin (a) payi, bütün asi ko- polimerine (B) g'ore agirlik yüzdesi olarak % 40 ila % 95 araliginda, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 50 ila % 90 araligindadir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde mono- karbon asidinin (b) veya di-karbon asidinin (b) payi, her birinde bütün asi ko- polimerine (B) göre agirlik yüzdesi olarak % 2 ila % 40 araliginda, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 5 ila % 30 araliginda ve Özellikle agirlik yüzdesi olarak % 5 ila % 25 araligindadir. Tip (c)lnin monomer veya monomerler, her biri bütün asi- ko- polimerine (B) göre agirlik yüzdesi olarak % 5 ila % 50 miktarinda, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % ila % 40 ve özellikle tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 5 ila % 30 miktarinda polimerize edilmistir. Asi- ko- polimerinin (B) bilesik (c)*den daha fazla mono karbon asidi (b) içermesi, ve de bu molar paya göre 'örnek olarak 1,1: 1 ila 5: 1, tercih edilen sekliyle 2: 1 ila 4: 1 araliginda olmasi tercih edilir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, asi- ko- polimerinin (B) ortalama moleküler agirligi (Mw), tercih edilen sekliyle jel filtrasyon kromatografi araciligiyla sulu KCI/ formik asit- çözeltisi içinde ölçülür. Asi- ko- polimeri (B) tercih edilen sekliyle, Örnek olarak sprey kurutma, sprey granülasyon veya dondurarak kurutma araciligiyla içinden izole edilebilecek sulu çözelti olarak elde edilebilir. Bulusa uygun formülasyonlarin üretimi için, seçime bagli olarak asi- ko- polimerinin (B) çözeltisi veya kurutulmus asi- ko- polimeri (B) kullanilabilir. Asi- ko- polimerinin (B) en azindan bir biyosit araciligiyla saglamlastirmasi tercih edilir. Uygun biyositler için örnekler, izo tiazolinon, örnek olarak 1,2- benz izo tiazolin-3-on ("BIT"), oktil izo tiazolinon ("CIT"), di- klor oktil izo tiazolinon ("DCOIT"), 2- metil-2H- izo tiazolin -3-on ("MIT") ve 5- klor-2- metil- 2H- izo tiazolin -3-one ("CIT"), fenoksi etanol, metil paraben, etil paraben, propil paraben, benzoik asit gibi aIkiI parabewler ve örnek olarak sodyum benzoat gibi bunlarin tuzlari, benzil alkol, örnek olarak sodyum sorbat gibi alkali metal sorbat'lar ve gerektigi durumda örnek olarak 1,3- bis (hidroksi metil)- gibi sübstitüe edilmis hidantoin'ler. Baska örnekler, 1,2- dibrom-2, 4-di- siyano butan, iyodo-2- propinil- bütil- karbamat, iyod ve iyodoforidur. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, bulusa uygun formülasyonda fosfatilar ve poli- fosfat'lar bulunmaz, burada hidrojen fosfattlar, örnek olarak tri- sodyum fosfat, penta- sodyum tri- poli- fosfat ve heksa- sodyum- meta- fosfat dâhil edilir. Fosfat*lar ve poli- fosfat'lar ile baglantili olarak " bulunmamasi" kavramindan, mevcut bulusun çerçevesi dahilinde, fosfat ve poli- fosfat içeriginin, gravimetre araciligiyla belirlenerek, 10 ppm ila agirlik yüzdesi olarak % 0,2 araliginda olmasi anlasilmalidir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, bulusa uygun formülasyonda, kursun katalizörleri olarak etki yapmayan bu tür agir metal bilesikleri, 'özellikle demir bilesikleri bulunmaz. Mevcut bulusun çerçevesi dahilinde agir metal bilesikleri baglaminda içeriginin, liç- metoduna göre belirlenerek, toplam olarak 0 ila 100 ppm araliginda, tercih edilen sekliyle 1 ila 30 ppm araliginda olmasi anlasilir. özgül yogunlugu olan bütün metaller, çinko ve bizmut hariç olarak geçerlidir. Ozellikle agir metaller olarak asil metaller ve de demir, bakir, kursun, kalay, nikel, kadmiyum ve krom geçerlidir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde bulusa uygun formülasyon, her biri ilgili bulusa uygun formülasyonun kati madde içerigine göre, toplam olarak agirlik yüzdesi olarak % 1 ila % 50 araliginda, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 5 ila % 45, özellikle tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 10 ila % 35 araliginda bilesik (A), toplam olarak agirlik yüzdesi olarak % 0,1 ile % 4 araliginda, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 0,3 ila % 2, 'özellikle tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 0,5 ila % 1,5 araliginda asi- ko- polimeri (B) Bulusa uygun formülasyonlarda agartici maddeler, örnek olarak inorganik peroksit bilesikleri veya sodyum hipoklorit gibi klorlu agartici maddeleri bulunmayabilir. Inorganik peroksit bilesiklerinin veya klorlu agartici maddelerin bulunmamasindan, burada bu tür formülasyonlarin, her birinde ilgili bulusa uygun formülasyonun kati madde içerigine göre toplam olarak agirlik yüzdesi olarak % 0,01 veya daha az inorganik peroksit bilesigi ve klorlu agartici madde içermesi anlasilmalidir. Mevcut bulusun bir baska uygulama seklinde, bulusa uygun formülasyon (C) en azindan bir inorganik peroksit bilesik içerir, mevcut bulusun çerçevesi dahilinde kisaca peroksit (C) olarak da belirtilir. Peroksit (C), sodyum peroksit di- sülfat, sodyum perborat ve sodyum perkarbonat arasindan seçilir, sodyum perkarbonat tercih edilir. Peroksit (C), susuz veya tercih edilen sekliyle su içerir olabilir. Su içeren sodyum perborat için örnekler, Na2[B(OH)2(O2)]2)?dir, bazen de NaBOz-Oz-3H20 olarak yazilabilir. Su içeren sodyum perkarbonat için örnek, 2 Na2003-3 H202*dur. Ozellikle tercih edilen sekliyle peroksit (C), su içeren perkarbonat'larin arasindan seçilir. Tercih edilen sekliyle bulusa uygun formülasyon, ilgili formülasyonun kati madde içerigine göre agirlik yüzdesi olarak % 2 ila % 12, özellikle tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 3 ila % 12 araliginda peroksit (C) içerir. En azindan bir peroksit (C) içeren bulusa uygun formülasyonlar, oda sicakliginda tercih edilen sekliyle katidirlar. Mevcut bulusun bir baska uygulama seklinde, bulusa uygun formülasyon (C), en azindan bir klor içeren agartici madde içerir, bu mevcut bulusun çerçevesi dahilinde kisaca klorlu agartici madde (C) olarak da belirtilir. Klorlu agartici madde (C) olarak tercih edilen sekliyle sodyum hipoklorit söz konusudur. Klorlu agartici madde - (C)- içeren bulusa uygun formülasyonlar oda sicakliginda tercih edilen sekliyle sividirlar. Tercih edilen sekliyle bulusa uygun formülasyon, ilgili sivi formülasyonun kati madde içerigine göre, agirlik yüzdesi olarak % 0,1 ila % 20 araliginda, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 0,5 ila % 12 araliginda, ozellikle tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 1 ila % 12 araliginda klorlu agartici madde içerir. Bulusa uygun formülasyonlar, bir veya çok sayida baska içerik maddesi (D) içerebilir. Içerik maddeleri (D) bilesik (A)'dan, asi- ko- polimeri (B)iden veya peroksit (C)iden veya klorlu agartici madde (C)'den farklidir. Bulusa uygun formülasyonlarin, bir veya çok sayida içerik maddesi (D) bulunabilir, örnek olarak bir veya çok sayida yüzey aktif madde, bir veya çok sayida enzim, bir veya çok sayida enzim stabilizatör'ü, bir veya çok sayida gelistirici, özellikle fosfat- bulunmayan gelistiriciler, bir veya çok sayida es gelistirici, bir veya çok sayida alkali tasiyicisi, bir veya çok sayida asit, bir veya çok sayida agartici kataliz'or'u, bir veya çok sayida agartici etkinlestirici madde, bir veya çok sayida agartici madde stabilizatörü, bir veya çok sayida köpük giderici, bir veya çok sayida asinma Önleyicisi, bir veya çok sayida yapi maddesi, tampon, boya maddeleri, bir veya çok sayida koku maddesi, bir veya çok sayida kivamlastirici madde, bir veya çok sayida organik çözelti maddesi, bir veya çok sayida tablet olusturma yardimci maddesi, bir veya çok sayida parçalanma maddesi, tablet parçalatici madde olarak da adlandirilir, veya bir veya çok sayida çözündi'iruc'u madde bulunabilir. Yüzey aktif maddeler için Örnekler, iyonik olmayan y'uzey aktif maddeler ve de anyonik veya iki iyonlu yüzey aktif maddelerin iyonik olmayan y'üzey aktif maddeler ile karisimlaridir. Tercih edilen iyonik olmayan y'uzey aktif maddeler, alkoksillenmis yag alkoller, etilen oksit ve propilen oksitlin di- ve çoklu blok ko- polimerizatlari ve sorbitamn etilen oksit veya propil oksit, alkil glikosit veya amino oksit olarak adlandirilanlarin reaksiyon ürünleridir. Alkoksillenmis alkoller ve alkoksillenmis yag alkolleri için tercih edilen örnekler, genel formül (IV) 'ün bilesikleridir, R4/ OM @MW (IV) burada degiskenler asagidaki gibi tanimlanmistir: R3, ayni veya farkli olarak dogrusal 01- 010- alkil arasindan seçilir, tercih edilen sekliyle etil ve özellikle tercih edilen sekliyle metildir, n-C16H33 veya n-C18H37'dir, R5, hidrojen ve 01- C10- alkil, metil, etil, n- propil, izo- propil, n- bütil, izo- bütil, sek-bütil, tersiyer- bütil, n- pentil, izo- pentil, sek- pentil, neo- pentil, 1,2- di- metil propil, izo- amil, n- heksil, izo- heksil, sek- heksil, n- heptil, n- oktil, 2- etil heksil, n- noniI, n- desil veya izo- desil arasindan seçilmistir. m ve n, sifir ile 300 araliginda bulunur, burada n ve m'nin toplami en azindan bire esittir. Tercih edilen sekliyle m, 1 ila 100 araliginda ve n, 0 ila 30 araligindadir. Bu sirada genel formül (IV)"ün bilesiklerinde blok ko-polimerleri ve istatiksel ko- polimerler söz konusu olabilir, tercih edilenler blok ko- polimerlerdir. Alkoksillenmis alkoller ve alkoksillenmis yag alkolleri için baska tercih edilen örnekler, genel formül (V),in bilesikleridir, burada degiskenler asagidaki gibi tanimlanmistir: arasindan seçilmistir, C18H37 arasindan seçilmistir, tercih edilen sekliyle her biri esittir ve etilrdir ve 'özellikle tercih edilen sekliyle metil'dir, a, 1 ila 6 araliginda bir sayidir, b, 4 ila 20 araliginda bir sayidir, d, 4 ila 25 araliginda bir sayidir. Bu sirada genel formül (V)'in bilesiklerinde blok ko- polimerleri veya istatiksel ko- polimerler söz konusu olabilir, tercih edilenler blok ko- polimerleridir. Alkoksillenmis alkoller ve alkoksillenmis yag alkolleri için baska tercih edilen örnekler, genel form'ul (VI),in hidroksi karisik eter'idir, RB-CH(OH)-CH2-O-(A0)k'R9 (VI) burada degiskenler asagidaki gibi seçilir: R8, C4- C30- alkil, dallanmis veya dallanmamis, veya 04- C30- alkenil, dallanmis veya dallanmamis, en azindan bir C- C- çift bagi ile. Tercih edilen sekliyle R8, C4- C30- alkil, dallanmis veya dallanmamis arasindan seçilir, sekliyle n-Cio- C12- alkil*den seçilir. R9, C1- C30- alkil, dallanmis veya dallanmamis veya C2- Cso- alkenil, dallanmis veya dallanmamis, en azindan bir C- C- çift bagi ile seçilmistir. Tercih edilen sekliyle R9, C4- Cso- alkil, dallanmis veya dallanmamis, özellikle tercih edilen sekliyle dallanmamis Cö- C20- alkil ve çok özel olarak tercih edilen sekliyle n-Cs- Cii- alkil arasindan seçilir, k, 1 ila 100 araliginda, tercih edilen sekliyle 5 ila 60 araliginda, 'özellikle tercih edilen sekliyle 10 ila 50 ve çok özel olarak tercih edilen sekliyle 20 ila 40 araliginda bir sayidir, AO, alkilen oksit, dallanmis veya esit olarak seçilir ve CH2-CH2-O, (CH2)3-O, (CH2)4-O, CH20H(CH3)-O, CH(CH3)-CH2-O- ve CH20H(n-C3H7)-O arasindan seçilir. AO için tercih edilen 'örnek, CH2-CH2-O (EO)'dur. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde (AO)k, (CHZCH20)k1 arasindan seçilir, burada M 1 ila 50 araligindaki sayilardan seçilir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde (AO)k, -(CH2CH20)k2-(CH2CH(CH3)-O)k3 ve -(CH2CH20)k2-(CH(CH3)CH2-O)x3 arasindan seçilir, burada k2 ve k3 ayni veya farkli olabilirler ve 1 ila 30 araligindaki sayilardan seçilirler. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde (AO)k, CH2CH20)k4 arasindan seçilir, burada k4 1 ila 50 araligindadir, AO EOtdur, ve R8 ve R9 birbirinden bagimsiz olarak C8-C14- alkil arasindan seçilir. Mevcut bulus ile baglantili olarak k veya k1, k2, k3 ve k4 olarak her seferinde ortalama degerler anlasilir, burada sayi ortalamasi tercih edilir. Bu nedenle degiskenler, k veya k1, k2, k3 ve k4 - mevcut olduklari gibi - bir kesir demektir. Belirli bir molekül dogal olarak daima sadece bir tam sayi AO- birimi tasiyabilir. Uygun iyonik olmayan yüzey aktif maddeler için baska `örnekler, genel formül (Vll)'nin ve Özellikle formül (Vlla)*nin bilesikleridir RIILO/ \R8 (vii) (AOL-i (A om R4JL0/ \(E6i.i2\R8 (Vlla) R4 ve AO, yukaridaki gibi tanimlanmistir ve EO etilen oksit, yani CH2CH20 demektir, burada AO formül (Vll) ve (Vlla) içinde her seferinde ayni veya farkli olabilir, R8, 08- 018- alkil arasindan, dogrusal veya dallanmis olarak seçilir, A3O, propilen oksit ve bütil oksit arasindan seçilir, w, 15 ila 70, tercih edilen sekliyle 30 ila 50 araliginda bir sayidir, w1 ve w3, 1 ila 5 araliginda bir sayidir ve w2, 13 ila 35 araliginda bir sayidir. Uygun baska iyonik olmayan yüzey aktif maddeler, etilen oksit ve propilen oksit tarafindan olusturulan di- ve çoklu blok ko- polimerler arasindan seçilir. Baska iyonik olmayan yüzey aktif maddeler, etoksillenmis veya propoksillenmis sorbitan esterlerinin arasindan seçilir. Ayni sekilde amino oksitler veya alkil glikosit'ler uygundur. Uygun olan baska iyonik olmayan yüzey aktif maddelerin bir özeti, EP-A O 851 023 sayili belgede ve DE-A 198 19 187 sayili belgede bulunur. Çok sayida farkli iyonik olmayan yüzey aktif maddelerin karisimlari da içerilebilir. Anyonik yüzey aktif maddeler için örnekler, her molekül için bir ila 6 etilen oksit birimi olan C8- C20- alkil sülfatilar, Cs- C20- alkil sülfonat*lar ve 08- C20- alkil eter sülfatrlardir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, bulusa uygun formülasyonun agirlik yüzdesi olarak % 3 ila % 20 araliginda yüzey aktif madde içerirler. Bulusa uygun formülasyonlar, bir veya çok sayida enzim içerebilirler. Enzimler için Örnekler, lipaZ'Iar, hidrolaz*lar, amiIaZ'Iar, proteaZ'lar, seIüIaZ'Iar, esterazrlar, pektinaZ'lar, IaktaZ'lar ve peroksidazlardir. Bulusa uygun formülasyonlar, her birinde bulusa uygun formülasyonun bütün kati madde içerigine göre örnek olarak agirlik yüzdesi olarak % 5 enzim, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 0,1 ila % 4 enzim içerebilirler. Bulusa uygun formülasyonlar, bir veya çok sayida enzim stabilizatörü içerebilir. Enzim stabilizatörleri enzimin- özellikle depolama sirasinda- olasi fiziksel etkileri oksidasyon veya proteolitik yarilma araciligiyla örnek olarak etkinsizlesme, denatürize olma veya parçalanma gibi hasarlardan korunmasi için kullanilir. Enzim stabilizatörlerinin örnekleri sunlardir, tersinir proteaz inhibitörleri, örnek olarak benzamidin- hidroklorür, boraks, bor asitleri, boron asitleri veya bunlarin tuzlari veya ester, bunlarin yaninda her seyden önce aromatik gruplar ile türevleri, olasi 0rt0-, meta- veya para- sübstit'üe edilmis fenil boron asitleri, özellikle 4- formil fenil- boron asidi, veya yukarida bahsedilen bilesiklerin tuzlari veya esterleri. Peptit aldehit*leri de, yani indirgenmis C- terminali olan oligo peptitiler, özellikle 2 ila 50 monomerden olanlar bu amaç için kullanilirlar. Peptidik tersinir proteaz inhibitörlerine digerlerinin yaninda ovomukoid ve leupeptin aittir. Proteaz sübtilisin için spesifik, tersinir peptit inhibitörleri de ve de proteaz'lardan füzyon proteinleri ve spesifik peptit- inhibitörleri burasi için uygundur Enzim stabilizatörleri için baska örnekler, mono-, di-, tri- etanol ve propanol amin gibi amino alkoller ve bunlarin karisimlari, örnek olarak sükkinik asit gibi 012- karbon asitlerine kadar alifatik mono- ve di- karbon asitleridir. Uç gruplari kapatilmis yag asidi amid alkoksilat'lar da uygun enzim stabilizatörleridir. Enzim stabilizatörleri için baska örnekler, sodyum- sülfat, indirgenmis seker ve potasyum sülfat*tir. Bir uygun enzim stabilizatör'un'un bir baska örnegi, sorbitol'dur. Bulusa uygun formülasyonlar bir veya çok sayida gelistirici (D), özellikle fosfat bulunmayan gelistiriciler (D) içerebilirler. Mevcut bulusun çerçevesi dahilinde, bilesik (A) gelistirici (D) olarak sayilmaz. Uygun gelistiriciler (D) için örnekler, silikat'lar, özellikle sodyum di- silikat ve sodyum meta- silikat, zeolittler, tabaka silikat'lari, özellikle sodyum tuzlari, sükkinik asit ve bunun alkali metal tuzlari, yag asidi sülfonat'lari oi- hidroksi propiyon asidi, alkali malonattlari, yag asidi sülfonat'lari, alkil- ve alkenil di- sükkinatlari, nitrilo tri- asetik asit, etilen di- amin tetra asetik asit, di- etilen tri- amin penta asetik asit, hidroksi etil etilen di- amin tri- asetik asit, imino di- sükkinik asit, hidroksi- imino di- s'ükkinik asit, etilen di- amin sükkinik asit, asparagin asidi asetik asit ve de bunlarin tuzlari, ilaveten karboksi metil inülin, tartarik asit asetati, tartarik asit mono asetat, okside nisasta, ve polimer gelistirici (D), örnek olarak poli karboksilatrlar ve poli- asparagin asididir. Çok özel olarak tercih edilen sekliyle bulusa uygun formülasyonlar sitrik asidin bir tuzunu, özellikle sodyum sitrat, sodyum sitrat (D) olarak da adlandirilir, içerirler. Bundan mevcut bulus ile baglantili olarak tercih edilen sekliyle sitrik asidin tri- sodyum Tercih edilen sekliyle bilesik (A) sodyum sitrat'a 10: 1 ila 1: 10 araliginda bir agirlik orantisi içinde katilir, özel olarak tercih edilen sekliyle oranti 3: 1 ila 1: 8 kadardir. Bulusa uygun formülasyonlar örnek olarak, ilgili bulusa uygun formülasyonun toplam kati madde içerigine göre, toplam olarak agirlik yüzdesi olarak % 5 ila % 40 araliginda, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 35'e kadar baska gelistiriciler, 'özellikle sodyum sitrat içerebilir. Çok özel olarak tercih edilen sekliyle bulusa uygun formülasyonlar bir veya çok sayida gelistirici (D) içerirler. Polimer gelistiriciler (D) olarak burada organik polimerleri özellikle poli- karboksilat'lar ve poli- asparagin asidi anlasilir. Polimer gelistiricilerin (D), yüzey aktif madde olarak hiçbir etkisi bulunmaz veya sadece göz ardi edilebilir bir etkisi Mevcut bulusun bir uygulama seklinde polimer gelistiriciler (D) poli- karboksilatlaridan, tuzlarindan seçilir. Komonomeriler olarak, maleik asit, fumarik asit, maleik asit anhidriti, itakon asidi ve sitrakon asidi gibi mono etilenik doymamis di- karbon asitleri uygundur. Bir uygun moleküler agirligi (Mw) bulunan poli- akrilik asididir. Ilaveten ko- polimer poli- karboksilat'lar, özellikle met akrilik asidi olan akrilik asitlerininkiler ve akrilik asidinkiler veya maleik asidi ve/ veya fumarik asidi olan met akrilik asidinkiler uygundur. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, polimer gelistiriciler (D) bir veya çok sayida ko- polimerden seçilir, bunlar mono etilenik doymamis C3- C10- mono veya di- karbon asitleri veya maleik asit, maleik asit anhidriti, akrilik asit, met akrilik asit, fumarik asit, itakon asit ve sitrakon asidi gibi bunlarin anhidritlerinden meydana gelen grubundan meydana gelen en azindan bir monomerden ve de asagida listelenecek olan en azindan bir hidrofil veya hidrofob komonomerden üretilmistir. Uygun hidrofob monomerler, örnek olarak izo büten, di- izo büten, büten, penten, heksen ve stirol, 10 veya daha çok karbon atomu olarak olefinler veya 'örnek olarak 1- desen, 1- dodesen, 1- tetradesen, 1- heksadesen, 1- oktadesen, 1- eikosen, 1- dokosen, 1- tetrakosen ve 1- heksakosen, C22-0i- olefin gibi bunlarin karisimlari, C20- C24-0i- olefin*lerden bir karisim ve ortalama 12 ila 100 C- atomu olan poli izo büten'dir. Uygun hidrofil monomerler, sülfonat veya fosfonat gruplari olan monomerler ve de hidroksi islevi olan iyonik olmayan monomerler veya alkilen oksit gruplaridir. Ornek olarak sunlar sayilabilir: alil alkol, izo prenol, met oksi polietilen glikol(met) akrilat, met oksi poli propilen glikol(met) akrilat, met oksi poli bütilen glikol(met) akrilat, met oksi poli (propilen oksit- ko- etilen oksit) (met) akrilat, etoksi poli etilen glikol(met) akrilat, etoksi poli propilen glikol(met) akrilat, etoksi poli bütilen glikol(met) akrilat ve etoksi poli (propilen oksit- ko etilen 0ksit)(met) akrilat. Poli alkilen glikol'ler burada 3 ila 50, Ozellikle tercih edilen sülfon asidi içeren monomerler sunlardir: 1- akrilamido-1- propan sülfon asidi, 2- akrilamido -2- propan sülfon asidi, 2- akrilamido-2- metil propan sülfon asidi, 2- met akrilamido -2-metil propan sülfon asidi, 3- met- akrilamido -2- hidroksi propan sülfon asidi, aIiI sülfon asidi, met alil sülfon asidi, alil oksi benzol sülfon asidi, met alil oksi benzol sülfon asidi, 2- hidroksi-S-(Z-propenil oksi) propan sülfon asidi, 2- metiI-2- propen-1- sülfon asidi, stirol sülfon asidi, vinil sülfon asidi, 3- sülfo propil akrilat, 2- sülfo etil met akrilat, 3-sülf0 propil met akrilat, sülfo met akrilamid, sülfo metil met akrilamid ve de yukarida bahsedilen asitlerin tuzlari, 'örnek olarak onlarin sodyum- potasyum veya amonyum tuzlar. Ozellikle tercih edilen fosfonat gruplari içeren monomerler, vinil fosfon asidi ve bunlarin tuzlaridir. Bunun disinda bir veya çok sayida asi- ko- polimeri (B) polimer gelistirici (D) olarak farkli amfoterik polimerler kullanabilir. Amfoterik polimerler için örnekler, akrilik asit ve met akrilik asit arasindan seçilen en azindan bir etilenik doymamis karbon asidinin, N-C1-Cio- alkil(met) akrilamid, akrilamid ve met akrilamid arasindan seçilen en azindan bir amidiin ko- polimerleri ve DADMAC, MAP-TAC ve APTAC arasindan seçilen en azindan bir komonomer*dir. Bulusa uygun formülasyonlar, ilgili bulusa uygun formülasyonun kati madde içerigine göre 'örnek olarak agirlik yüzdesi olarak % 10 ila % 75 araliginda, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 50 gelistirici içerebilir. Bulusa uygun formülasyonlar, ilgili bulusa uygun formülasyonun kati madde içerigine göre örnek olarak agirlik yüzdesi olarak toplam olarak % 2 ila % 15 araliginda, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 10'a kadar polimer gelistirici (D) içerebilirler. Özel olarak tercih edilen bir uygulama seklinde, bulusa uygun form'ulasyon asi- polimeri (B) yaninda bir polimer gelistirici (D) içerir. Polimer gelistiricinin (D) asi- ko- polimerine (B) agirlik orantisi o zaman tercih edilen sekliyle 30: 1 ila 3: 1 kadardir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, bulusa uygun form'ülasyonlar bir veya çok sayida es gelistiriciler içerebilirler. Es gelistiriciler için örnekler, fosfonatllar, örnek olarak hidroksi alkan fosfonatilar ve amino alkan fosfonattlardir. Hidroksi alkan fosfonat'lar arasinda es gelistirici olarak 1- hidroksi etan- özel bir anlama sahiptir. Tercih edilen sekliyle sodyum tuzu kullanilir, burada di- sodyum tuzu nötr ve tetra- sodyum tuzu alkalik (pH- degeri 9) reaksiyon verir. Amino alkan fosfonat'lar olarak, tercih edilen sekliyle etilen di- amin tetra- metilen fosfonat (EDTMP), di- etilen tri amin penta metilen fosfonat (DTPMP) ve de bunlarin daha yuksek homologrlari söz konusudur. Bunlar tercih edilen sekliyle nötr reaksiyona giren sodyum tuzlari, örnek olarak EDTMPrnin heksa sodyum tuzu veya DTMPinin hepta- ve okta- sodyum tuzu olarak kullanilir. Bulusa uygun formulasyonlar bir veya çok sayida alkali tasiyici içerebilir. Alkali tasiyicilar bir alkalik pH- degeri arzu edildiginde, örnek olarak en azindan 9 degerinde pH- degerini saglarlar. Ornek olarak alkali metal karbonattlar, alkali metal hidrojen karbonatrlar, alkali metal hidroksit'ler ve alkali metal meta silikat'lar uygundur. Tercih edilen alkali metali, her seferinde potasyum, özellikle tercih edilen sodyum'dur. Bulusa uygun formülasyonlar bir veya çok sayida agartici katalizörler içerebilirler. Agartici katalizörler, örnek olarak mangan-, demir-, kobalt -, rutenyum - veya molibden- salen kompleksleri veya mangan-, demir -, kobalt -, rutenyum - veya molibden karbonil kompleksleri gibi agartmayi güçlendirici geçis metal tuzlari veya geçis metal kompleksleri arasindan seçilir. Azot içeren tripod- ligand'lari olan mangan-, demir-, rutenyum-, molibden-, titan-, vanadyum-, ve bakir- kompleksleri ve de kobalt-, demir-, bakir- ve rutenyum- amin kompleksleri agartici katalizörleri olarak kullanilabilir. Bulusa uygun formülasyonlar bir veya çok sayida agartici etkinlestirici madde, örnek olarak N-metil morfolinyum- aseto nitril- tuzlari ("MMA- tuzlari"), tri- metil amonyum aseto nitril tuzlari, örnek olarak N- nonanoil sükkinimid, 1,5- di- asetiI-2,2-di- okso heksa hidro- veya nitril kuatrlar (tri- metil amonyum aseto nitril tuzlari) gibi N- asilimid*ler içerebilirler. Uygun agartici etkinlestirici maddeler için baska örnekler, tetra- asetil etilen di- amin (TAED) ve tetra- asetil heksilen di- amin'dir. Bulusa uygun formülasyonlar bir veya çok sayida asinma inhibitörler içerebilirler. Bunlarin arasinda mevcut durumda, metalin asinmasini önleyen türdeki bilesikler anlasilir. Uygun asinma inhibitörleri için 'örnekler, triazol'ler, özellikle benzo triazol'ler, bis benzo triazolileri, amino triazolileri, alkilamino triazolileri, ilaveten örnek olarak hidro kinon, Brenz katesin, hidroksi hidro kinon, Gallus asidi, floroglusin veya pirogallol gibi fenol türevleri, ilaveten poli- etilen imin ve bizmut ve çinko tuzlaridir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, bulusa uygun formülasyonlar ilgili bulusa uygun formülasyonun kati madde içerigine göre toplam olarak agirlik yüzdesi olarak % 0,1 ila Bulusa uygun formülasyonlar bir veya çok sayida yapi maddeleri, örnek olarak sodyum sulfat içerirler. Bulusa uygun formülasyonlar bir veya çok sayida köpük gidericiler içerilebilirler, bunlar örnek olarak silikon yaglarindan ve parafin yaglarindan seçilirler. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, bulusa uygun formülasyonlar, ilgili bulusa uygun formülasyonun kati madde içerigine göre agirlik yüzdesi olarak % 0,05 ila % 0,5 araliginda köpük giderici içerirler. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, bulusa uygun formülasyonlar bir veya çok sayida asit, örnek olarak metan sülfon asidi içerirler. Bir uygulama seklinde, bulusa uygun formülasyonlar bir veya çok sayida parçalanma maddesi içerirler, bunlar tablet patlatici madde olarak da adlandirilirlar. Ornekler, nisasta, poli sakkarit'ler, örnek olarak dekstran*lardir, ilaveten çapraz bagli poli- vinil pirrolidon ve poli- etilen glikol sorbitan yag asit esteri'dir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, bu tür bulusa uygun formülasyonlar oda sicakliginda sivi olan bir veya çok sayida kivamlastirici madde içerirler. Ilgili bulusa uygun formülasyonun arzu edilen viskoziteye ulasmasi için, jel seklinde bulusa uygun formülasyonlara bir veya çok sayida kivamlastirici madde ilave edilir, burada ilgili bulusa uygun formülasyonun, ilgili bulusa uygun formülasyonun kati madde içerigine göre agirlik yüzdesi olarak % 0, 1 ila % 8 araliginda, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % O, 1 ila % 6 ve Özellikle tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 0, 2 ila % 4 araliginda kivamlastirici madde içermesinin özellikle Kivamlastirici madde olarak, dogada bulunan polimerler veya degistirilmis dogal maddeler veya sentetik kivamlastirici maddeler seçilebilir. Mevcut bulusun çerçevesi dahilinde, dogada bulunan polimerler için örnekler olarak bahsedilecekler sunlardir: agar- agar, karajenan, tragant, arap zamki, aljinat'lar, pektintler, polioztlar, guar- unu, keçiboynuzu agaci çekirdek unu, nisasta, dektrin'ler, ksantan, jelatinler ve kazein'ler. Degistirilmis dogal maddelerin grubundan kivamlastirici maddeler için örnekler, örnek olarak modifiye nisastalar ve selülozlar grubundan seçilirler. Örnek olarak karboksi metil selülozlar ve diger selüloz eter'ler, hidroksi metil selüloz- ve hidroksi propil- sel'ülozlar ve de çekirdek unu eteri sayilabilir. Sentetik kivamlastirici maddeler, kismen çapraz bagli poli (met) aksilik asitler, hidrofob olarak modifiye edilmis poli- 'üretanrla (HUER kivamlastirici) ve yag alkol etoksilatrlar ile esterlestirilmis poli (met) akrilik asit- ko- polimerleri (HASE- kivamlastirici) arasindan seçilir. Ozellikle tercih edilen sekliyle kullanilan bir kivamlastirici madde, ksantanrdir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, bulusa uygun formülasyonlar bir veya çok sayida organik çözelti maddesi içerebilir. Ornek olarak organik çözelti maddeleri, mono- alkol*ler, diol'ler, triol7ler veya poliol'ler, eter, ester ve/ veya amid'ler gruplarindan seçilebilirler. Ozellikle, burada suda çözülebilir organik çözelti maddeleri tercih edilir, burada "suda çözülür" çözelti maddeleri mevcut basvurunun anlayisi dahilinde oda sicakliginda su ile tamamiyla, yani hiç karisabilirlik araligi olmadan karisabilirler. Bulusa uygun form'ülasyonlar için uygun olan organik çözelti maddeleri tercih edilen sekliyle bir veya çok degerlikli alkoller, alkanol amin'ler veya glikol eteriler grubundan seçilirler, bunlar belirlenen konsantrasyon araliginda su ile karistirilabilirler. Organik çözelti maddeleri tercih edilen sekliyle, etanol, n- veya i- propanol, b'utanolen, glikol, 1,2- propan diol, veya bütan diol, gliserin, di- glikol, propil- veya ri- butil di- glikol, heksilen glikol, etilen glikol metil eter, etilen glikol etil eter, etilen glikol propil eter, etilen glikol mono-n- bütil eter, di- etilen glikol metil eter, di-etilen glikol etil eter, propilen glikol metiI-, - etil- veya -propil eter, di- propilen glikol metiI-, veya -etil eter, metoksi-, etoksi veya b'utoksi tri-glikol, 1-b'utoksi etoksi-2- propanol, 3-metiI-3- metoksi bütanol, propilen glikoI-t- bütil eter ve de yukarida bahsedilen organik çözelti maddelerinin iki veya daha çogunun karisimlari arasindan seçilir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, bulusa uygun formülasyonlarin 6 bis 14 araliginda, tercih edilen sekliyle 8 bis 13 araliginda bir pH- degeri bulunur. Burada oda sicakliginda kati olan bulusa uygun formülasyonlarin durumunda, agirlik yüzdesi olarak % 11Iik sulu çözeltinin pH- degeri veya agirlik yüzdesi olarak % 17Iik sulu süspansiyonun sivi fazi belirlenir. Bulusa uygun formülasyonlar, Özellikle makine ile bulasik yikama (Ingilizce: "Automatic Dishwashing" veya kisaca ADW) için olan bulasik yikama maddeleri olarak veya bunlarin üretimi için çok iyi derecede uygundurlar. Bulusa uygun formülasyonlarin kendilerinin ve bulusa uygun form'L'ilasyonIardan 'üretilen bulasik yikama maddelerinin - Özellikle bulusa uygun formülasyonlardan üretilen fosfat bulunmayan bulasik yikama maddelerinin bulasik yikama sirasinda, özellikle camdan yikanacak malzeme üzerinde çok iyi bir kaplama Önleme Özelligi bulunur. Ozellikle bulusa uygun formülasyonlar inatçi Iekelere karsi, 'özellikle çay Iekelerini ve çay atiklarina karsi etkilidir. Yikanacak malzeme ornekleri, çatal biçaklar, tencereler, tavalar ve sarimsak presleridir, 'Özellikle biçaklar, tarti kasiklari ve sunum çatal biçaklari gibi çatal biçak parçalaridir. Camdan yikanacak malzeme için örnek olarak bu sirada sunlardan bahsedilir, camlar, cam kâseler, örnek olarak cam tabaklar gibi cam bulasiklar, ama süslü olabilen veya süslenmemis olabilen en azindan bir üst yüzeyi camdan olan cisimler de, 'örnek olarak cam vazolar, seffaf tencere kapaklari ve pisirmek için olan cam kaplar da sayilabilir. Plastikten olusan yikanacak malzeme olarak `Örnekler olarak burada, melamin'den, poli stirolfden ve poli- etilenrden tabaklar, kaseler, kaplar ve çanaklar sayilabilir. Porselenden olusan yikanacak malzeme olarak örnekler burada, porselenden, beyaz veya renkli, süslü veya süss'uz olarak, tabaklar, kaseler, kaplar ve çanaklardir. Mevcut bulusun bir baska konusu, bu nedenle bulusa uygun formülasyonlarin bulasiklarin ve mutfak aletlerinin yikanmasi için, ve de özellikle makine ile yikanmasi için, yani bir yikama makinesi ile yikamak için kullanimidir. Mevcut bulusun bir baska konusu, makine ile bulasik temizlenmesinin en azindan bir bulusa uygun formülasyonun kullanilmasiyla olan bir yöntemdir, mevcut bulusun çerçevesi dahilinde bulusa uygun bulasik yikama yöntemi olarak adlandirilir. Bulusa uygun bulasik yikama yönteminin uygulanmasi için, bulasigin ve mutfak aletlerinin en azindan bir bulusa uygun formülasyon içeren bir sulu çözelti ile veya süspansiyon ile temas içine getirilmesiyle ilerlenir. Temas içine getirilmesinden sonra, etki yapmasi saglanir. Ardindan bu sekilde elde edilen filo çikarilir, bir defa veya çok kere tercih edilen sekliyle temiz su ile durulanir ve ardindan kurutulmaya birakilir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, temizlemek için 1 ila 30 "HH araliginda, tercih edilen sekliyle 2 ila 25 °dH araliginda bir sertligi olan su kullanilir, burada alman sertliginden özellikle magnezyum sertliginin ve kalsiyum sertliginin toplami anlasilmalidir. Bulusa uygun bulasik yikama yönteminin bir özel varyantinda, ne rejeneratif tuz, ne de parlatici kullanilir. Mevcut bulusun bir baska konusu bulusa uygun formülasyonlarin üretilmesi için bir yöntemdir, mevcut bulusun çerçevesi dahilinde bulusa uygun üretim yöntemi olarak da adlandirilir. Bulusa uygun üretim yönteminin özelligi, en azindan bir bilesigin (A), en azindan bir asi- ko- polimerinin (B) ve gerektigi durumda bir veya çok sayida diger içerik maddelerinin (D) ve gerektigi durumda peroksit (C) veya klorlu agartici maddelerin (C) bir veya çok sayida asamada birbirine karistirilmasi ve ardindan gerektigi durumda suyun tam olarak veya kismen çikarilmasidir. Bilesik (A), asi- ko- polimeri (B), peroksit (C) be diger içerik maddeleri (D) yukarida açiklanmistir. Mevcut bulusun bir baska uygulama seklinde, bilesik (A), bir veya çok sayida diger içerik maddeleri (D) ve gerektigi durumda peroksit (C) kuru sekilde karistirilir ve daha sonra asi- ko- polimerlerinden bir sulu çözelti, ya bulasik makinesinin disinda veya iç kisminda ilave edilir. Mevcut bulusun bir baska uygulama seklinde bilesik (A), asi- ko- polimeri (B) ve bir veya çok sayida diger içerik maddeleri (D) ve gerektigi durumda peroksit (C) veya klorlu agartici madde (C) kuru sekilde karistirilir ve, bu sekilde elde edilen karisim ana cisimler olarak, özellikle tabletler olarak sikistirilir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, su hiç olmazsa kismen çikarilmadan önce, bulusa uygun formülasyon için bir veya çok sayida baska içerik maddesi (D) ile, örnek olarak bir veya çok sayida yüzey aktif madde ile, bir veya çok sayida enzim ile, bir veya çok sayida enzim stabilizatör ile, bir veya çok sayida gelistirici madde (D), tercih edilen sekliyle bir veya çok sayida fosfat- bulunmayan gelistirici madde (D) ile, özellikle bir veya çok sayida polimer gelistirici madde (D), bir veya çok sayida es gelistirici madde ile, bir veya çok sayida alkali tasiyici, bir veya çok sayida agartici katalizörü, bir veya çok sayida agartici etkinlestirici madde ile, bir veya çok sayida agartici madde stabilizat'or'u, bir veya çok sayida köpük giderici, bir veya çok sayida asinma önleyici madde ile, bir veya çok sayida yapi maddesi, tampon veya boya maddesi ile karistirilabilir. Bir uygulama seklinde, suyun tamamiyla veya kismen, örnek olarak agirlik yüzdesi olarak % 15, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 0,1 ila % 10 araliginda bir atik neme kadar bulusa uygun formülasyondan, buharlastirarak, özellikle sprey kurutma, sprey granülasyon veya sikistirma araciligiyla çikarilacak sekilde ilerlenir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, su, tam olarak veya kismen, 0,3 ila 2 bar araliginda bir basinç altinda çikarilir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, su, tam olarak veya kismen, 60 ila 220 "C araliginda bir sicaklikta çikarilir. Bir baska uygulama seklinde, su çikarilmaz. Bunun yerine daha su ilave edilir. Ozellikle tercih edilen sekliyle bunun disinda bir kivamlastirici madde ilave edilir. Bu sekilde bulusa uygun sivi formulasyonlar elde edilebilir. Oda sicakliginda sivi bulusa uygun formülasyonlar, örnek olarak jel seklinde mevcut olabilirler. Bulusa uygun üretim yönteminin araciligiyla, bulusa uygun formülasyonlar kolaylikla elde edilebilirler. Bulusa uygun formülasyonlar sivi veya kati, bir veya çok fazli, tablet olarak veya baska doz birimi seklinde, 'örnek olarak poset seklinde, paketlenmis veya paketlenmemis olarak hazirlanmis olabilirler. Mevcut bulusun bir baska konusu, asi- ko- polimerleridir, mevcut bulusun çerçevesi dahilinde kisaca asi- ko- polimeri (B) veya bulusa uygun asi- ko- polimeri olarak adlandirilir. Bulusa uygun asi- ko- polimerleri, asagidakilerden olusturulmustur (a) iyonik olmayan mono- sakkarit*lerin, di- sakkarit'lerin, oligo- sakkaritlerin ve poli- sakkaritrlerin arasindan, ve asagidakilerin asilanmasiyla elde edilen yan zincirlerden seçilen en azindan bir asi- bazi, (b) en azindan bir etilenik doymamis mono- veya di- karbon asidi ve (c) genel formül (I)*in en azindan bir bilesigi, burada degiskenler asagidaki gibi tanimlanmistir, R1, metil ve hidrojen arasindan seçilmistir, A1, C2- C4- alkilen'den seçilmistir, R2, ayni veya farklidir ve C1- C4- alkil'den seçilmistir, X', halojenür, mono- 01- C4- alkil sülfat ve sülfat arasindan seçilmistir. Mono- C1- C4- alkil sülfat için örnekler, metil sülfat, etil sülfat, izo- propil sülfat ve ri- bütil sülfat'tir, tercih edilen metil sülfat ve etil sülfatitir. X- sülfat olarak seçilirse, o zaman X' bir yarim sülfat esdegeridir. Burada degiskenler asagidaki gibi tanimlanmistir: R1, metil ve hidrojen arasindan seçilmistir, arasindan seçilmistir, -CH2-CH2- ve -(CH2)3- tercih edilenlerdir R2, farklidir veya tercih edilen sekliyle esittir ve 01-04- alkil, 'örnek olarak metil, etil, n- propil, n-bütil, izo- propil, izo- bütil, sek-bütil, tersiyer bütil arasindan seçilmistir, en azindan iki R2rnin esit olmasi ve her birinin metil olmasi tercih edilir, ve üçüncü grup R2 etil, n- propil veya n- bütil, veya iki R2 esittir ve her biri etil'dir. Her üç Rz'nin esit olmasi ve metilrden seçilmesi özellikle tercih edilir, X', halojenür, özellikle iyodür, bromür ve özellikle klorür, özellikle mono- Ci-C4-alkil sülfat ve sülfat arasindan seçilir. Mevcut bulusun bir tercih edilen uygulama seklinde, monomerler (c) içindeki degiskenler asagidaki gibi seçilirler; R1, bir hidrojen veya metil'dir, R2, esittir ve her biri metil*dir, A1, CH20H2,dir, X-, klor'L'ir'd'ur. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, monomer (C) asagidakilerden seçilir W V\N(CH3)3+ Cl- ýkf \/\N(CH3)3+ Cl- OWN(CH3)3+ Cl- ýk/OWNmHQy ci- Bulusa uygun asi- ko- polimeri (B) bir veya çok sayida yan zincir içine en azindan bir baska komonomer (d) polimerize edilmis olarak, 'örnek olarak 2- hidroksi etil-(met) akrilat veya 3- hidroksi propil(met) akrilat gibi hidroksi alkil ester veya sülfon asidi gruplari içeren komonomer'ler, 'örnek olarak 2- akrilamid0-2-metil propan sülfon asidi (AMPS) ve bunlarin alkali metal tuzlari içerilebilir. Tercih edilen sekliyle bulusa uygun asi ko- polimeri (B) monomer (c) ve mono- karbon asidi (b) veya di- karbon asidi (b) disinda, bir veya çok sayida yan zincir içinde hiçbir baska komonomer (d) içermez. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, bulusa uygun asi- ko- polimerinin (B) içinde asi- bazinin (a) payi, her seferinde toplam bulusa uygun asi- ko- polimerine (B) göre, agirlik yüzdesi olarak % 40 ila % 95, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 5 ila % 90 araligindadir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, mono- karbon asidinin (b) veya di- karbon asidinin (b) payi, her seferinde bütün bulusa uygun asi- ko- polimerine (B) göre, agirlik yüzdesi olarak % 2 ila % 40, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 5 ila % 30 ve özellikle agirlik yüzdesi olarak % 5 ila % 25 araligindadir. Tip (0) monomer'leri, her seferinde toplam bulusa uygun asi- ko- polimerine (B) göre agirlik yüzdesi olarak % 5 ila % 50 miktarinda, tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 5 ila % 40 ve özellikle tercih edilen sekliyle agirlik yüzdesi olarak % 5 ila % miktarinda polimerize edilir. Bulusa uygun asi- ko- polimerinin çok sayida mono- karbon asidini (b) bilesik (0) olarak polimerize edilmis olarak, ve de molar paylara göre, örnek olarak 1,1: 1 ila 5: 1, tercih edilen sekliyle 2: 1 ila 4: 1 araliginda içermesi tercih edilir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, asi- ko- polimerinin (B) ortalama moleküler tercih edilen sekliyle jel geçirgenlik kromatografisinin araciligiyla sulu KCl/ formik asit içinde ölçülür. Mevcut bulusun bir baska konusu, bulusa uygun asi- ko- polimerlerinin üretimi Için bir yöntemdir, mevcut bulusun çerçevesi dahilinde kisaca bulusa uygun yöntem olarak da adlandirilir. Bulusa uygun yöntemin uygulanmasi için, (b) en azindan bir etilenik doymamis mono- veya di- karbon asidinin ve (0) en azindan genel formül (l)'in bir bilesiginin en azindan bir asi- bazi (a) mevcudiyetinde serbest radikal olarak ko- polimerize edilecegi sekilde ilerlenir. Mono- karbon asidi (b), di- karbon asidi (b), asi- bazi (a) ve monomer (c) yukarida açiklanmistir. Bulusa uygun yöntem, tercih edilen sekliyle çözelti maddesi olarak su içinde uygulanir. Gerektigi durumda su yerine, suyun ve örnek olarak alkoller ve ketonlar gibi bir veya çok sayida organik çözelti maddelerinin bir karisimi kullanilabilir, ancak örnek olarak DMSO, DMF veya NMP gibi di- polar- aprotik su ile karistirilabilir olan çözelti maddeleri de kullanilabilir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, bulusa uygun yöntem 60 ila 120 °C arali ginda, tercih edilen sekliyle 65 ila 100 °C, çok özel olarak tercih edile n sekliyle 70 ila 90 cC araliginda bir sicaklikta uygulanir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, bulusa uygun yöntem normal basinç altinda uygulanir. Bir baska uygulama seklinde, bulusa uygun yöntem 1,2 ila 20 bar araliginda bir basinç altinda uygulanir. Tercih edilen bir varyantta, asi- bazi (a) sulu çözelti içine konur ve daha sonra buna radikal baslaticilar mevcudiyetinde monomer (c) ve mono- karbon asidi (b) ve di- Bulusa uygu yöntem tercih edilen sekliyle, monomer (c) ve mono- karbon asidi (b) veya di- karbon asidi (b) asi- bazi (a) ile tamamiyla reaksiyona girmeyecek sekilde, ancak örnek olarak porsiyonlar halinde veya kesintisiz olarak ilave edilmesiyle asi- bazi (a) ile reaksiyona girecek sekilde uygulanir. Bir varyantta, ilk 'önce monomerlin (c) ve mono- karbon asidinin (b) veya di- karbon asidinin (b) sadece bir kismini ve de radikal baslatici asi- bazina (a) eklenecek sekilde, bakiyesini monomer (c) mono- karbon asidi (b) veya di- karbon asidi (b) ile karisimin içine yan yana eklenecek sekilde ilerlenir, burada monomer'in (c) ve mono- karbon asidinin (b) veya di- karbon asidinin (b) her ilavesinde, radikal baslatici da ilave edilir. Ozellikle tercih edilen bir varyantta, ilk once asi- bazinin (a) bir sulu çözeltisi ele alinir ve bu 60 ila 120 "C sicakliga isitilir. Ardindan, tercih edilen sekliyle kesintisiz olarak, monomertlerin (0) bir kismi miktari radikal baslatici ile birlikte ilave edilir. Reaksiyonun asi- bazi (a) ile azalmasindan sonra, tercih edilen sekliyle kesintisiz olarak, mono- karbon asidi (b) veya di- karbon asidi (b) ve monomer'lerin (c) kalan miktari diger radikal baslaticilar ile ilave edilir. Radikal baslatici olarak, örnek olarak sunlar uygundur: azo- di- izo- butironitril (AIBN), örnek olarak benzoil peroksit, ilaveten hidro peroksitler ve per- ester gibi peroksitler. Sodyum peroksit di- sülfat ve tersiyer b'ütil hidro peroksit veya hidrojen peroksit'lerin kullanimi Özellikle tercih edilir, bunlar ticari konsantrasyonlar ve preparatlarin içinde, seklinde H202ile demir (II) tuzlarinin bir karisimi kullanilabilir. Hidrojen peroksit burada tercih edilen sekliyle sulu Çözelti olarak kullanilir. Radikal baslaticilar, her seferinde monomertin (c) ve mono- karbon asidinin (b) veya di- karbon asidinin (b) molar miktarlarinin toplamina göre tercih edilen sekliyle 0,001 ila 30 mol- % , tercih edilen sekliyle 0,1 bis 25 mol- % , ve özellikle 1 bis 20 mol- % miktarlarinda ilave edilir. Monomer (0) oldugu gibi asi- ko- polimeri (B) içinde polimerize edilebilir veya bir kuaternize edilmemis bir esdegeri, örnek olarak tri- metil amonyum etil(met) akrilat'in bir halojenür durumunda veya sülfat'lar veya Ci- C4- alkil sülfat'lar durumunda yedek polimerizasyonu araciligiyla ve tri- metil amonyum propil(met) akrilat'in halojenürrü veya sülfat'i veya C1-C4- alkil sülfat'i yedek polimerizasyonu araciligiyla polimerize edilebilir. K0- polimerizasyonun akabinde, örnek olarak 01- C4- alkil halojenür veya 01- C4- di- alkil sülfat ile, örnek olarak etil klorür, etil bromür, metil klorür, metil bromür, di- metil sülfat veya di- etil sulfat ile alkillenir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde mono- karbon asidi (b) veya di- karbon asidi (b), monomer (c) ve radikal baslatici ilave edilmesinin sona erdirilmesinden sonra, baska radikal baslaticilar, özellikle tercih edilen sekliyle kesintisiz besleme yöntemiyle ilave edilebilir. Bu sekilde mono- karbon asidi (b) veya di- karbon asidi (b) ve monomer (c) içerigi, bulusa uygun asi- ko- polimeri içinde azalabilir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, sona erdirilen polimerizasyondan sonra, örnek olarak H202 gibi peroksit ile agartilabilir. Mevcut bulusun bir uygulama seklinde, polimerizasyonun sona erdirilmesinden sonra, bakiye monomer çikarilabilir, 'özellikle mono- karbon asidi (b) veya di- karbon asidi b) su buhari destilasyonu araciligiyla hiç olmazsa genis ölçüde çikarilabilir. Bulusa uygun asi- ko- polimeri (B), tercih edilen sekliyle sulu çözelti olarak elde edebilir, bunun içinden su örnek olarak sprey kurutma, sprey granülasyon veya dondurarak kurutma araciligiyla ayrilabilir. Bulusa uygun asi- ko- polimerlerinin (B) bir sulu çözelti seklinde islenmesi ve depolanmasi arzu edilirse, o zaman tercih edilen sekliyle en azindan bir biyosit ilave edilmelidir. Seçime bagli olarak bulusa uygun asi- ko- polimerinin çözeltisi veya kurutulmus bulusa uygun asi- ko- polimeri bulusa uygun formülasyonun üretimi için kullanilir. Bulus, çalisma ornekleri araciligiyla açiklanacaktir, Ornekler Kaplama Önlenmesi için olan deneylere genel yorumlar. Bütün yikama deneyleri, Miele Firmasinin, Tip G1222 SCL bulasik makinesinde uygulanir. Burada, yikama süreci için 65 cC'Iik bir program, parlatma süreci için 65 cC'lik bir program seçilir. Kontroller, 21 °dH (Ca/ Mg): HCOs (3: 1): 1.35 su sertligi olan bir sertlestirilmis su ile uygulanir. Ayri bir parlatici madde ilave edilmez ve ayarlanmis olan su yumusatmasi (iyon degistirici) rejeneratif tuz ile rejenere edilmez. Her bir yikama geçisi için her seferinde bulusa uygun formülasyondan 18 g dozlanir. Her bir yikama sürecinin en basinda, yag, protein ve nisastadan meydana gelen 50 g safra kiri ilave edilir. Kaplama önlemesinin degerlendirilmesi için, ayni yikanacak test malzemesi ile toplam olarak birbirini takip eden 30 yikama deneyi uygulanir. Bütün yikanacak test malzemesi olarak, her bir yikama deneyinde üç asil çelik biçak, üç mavi melamin tabak, üç içme bardagi ve üç porselen tabak kullanilir. Iki yikama deneyi arasinda her seferinde bir saat beklenir, bunun 10 dakikasinda bulasik makinesinin kapisi kapali olarak ve 50 dakikasinda kapisi açik olarak beklenir. . yikama deneyinin bitirilmesinden sonra, yikanacak malzeme kurutulduktan sonra makineden çikarilir. Bardaklarin, bir aletin üzerinde kavisli üst yüzeylerin 'üzerinde dijital görüntü analizi için bir satir tarama kamerasi ile fotografi çekilir. Görüntü analizi için bir yazilim araciligiyla, görüntüler için farkli degerler hesaplanir (Weiss lmaging and Solutions GmbH, bakiniz olarak gri degerlerin bütün degerlendirilen yüzey üzerindeki ortalama degeridir. Bu, kullanilan bardaklarda (13,5 cmtlik bütün yükseklik) zeminden 2 cm yukariya ve 2,5 cm üst kenardan asagi olan bölgeyi kapsar. l. Bulusa uygun form'ülasyonlardan ve karsilastirma form'ülasyonlarindan, bulusa uygun asi- ko- polimerlerinin (B) 'üretilmesi Kullanilan komonomerler: (a.1): maltodekstrin, Cargill C*Dry MD01955 olarak ticari olarak elde edilebilir, (b.1): akrilik asit, Mevcut basvurunun çerçevesi dahilinde, ayrintili olarak baska türlü bildirilmediginde veriler °/o agrilik yüzdesidir. Biyosit olarak daima agirlik yüzdesi olarak % 9 su- propilen glikol karisimi için 1,2- benz- izo tiazolin-3-on kullanilir, bu ticari olarak ProxelTM XL2 Anti mikrobiyal olarak elde edilebilir. Miktar verileri oldugu gibidir. l.1 Bulusa uygun asi- ko- polimerinin (B.1) 'üretimi sicakliga isitilir. 80 °Cfde eszamanli olarak ve ayri beslemeler vasitasiyla asagidaki çözeltiler asagidaki sekilde dozlanir: b) 68,0 9 su içinde 7,88 9 sodyum per- okso di- sülfat çözeltisi 5 saat zarfinda, a)*nin dozlamasi ile baslayacak sekilde, inceltilmistir, 2 saat zarfinda, a) dozlama baslangicindan 2 saat sonra baslayacak sekilde. a) ila 0) çözeltilerinin tamamiyla beslenmesinden sonra, reaksiyon karisimi 1 saat 80 °C*de kari stirilir. Ardindan 0,58 9 sodyum per okso di- sülfat çözeltisi 10,0 9 su içinde ilave edilir ve 2 saat daha 80 "Cide kari stirilir. Son olarak oda sicakligina sogutulur ve 8 g biyosit ilave edilir. Bulusa uygun asi- ko- polimerinden (B.1) agirlik yüzdesi olarak 1.2 Bulusa uygu asi- ko- polimerinin (B.2) 'üretimi sicakliga isitilir. 80 cOde eszamanli olarak ve ayri beslemeler vasitasiyla asagidaki çözeltiler asagidaki sekilde dozlanir: b) 68,0 9 su içinde 7,88 9 sodyum per- okso di- sülfat çözeltisi 5 saat zarfinda, a),nin dozlamasi ile baslayacak sekilde. inceltilmistir, 2 saat zarfinda, a) dozlama baslangicindan 2 saat sonra baslayacak sekilde. a) ila 0) çözeltilerinin tamamiyla beslenmesinden sonra, reaksiyon karisimi 1 saat 80 cC'de kari stirilir. Ardindan 0,59 9 sodyum per okso di- sülfat çözeltisi 10,0 9 su içinde ilave edilir ve 2 saat daha 80 "C'de kari stirilir. Son olarak oda sicakligina sogutulur ve 8 g biyosit ilave edilir. Bulusa uygun asi- ko- polimerinden (B2) agirlik yüzdesi olarak 1.3 Bulusa uygu asi- ko- polimerinin (B.3) üretimi sicakliga isitilir. 80 "Ctde eszamanli olarak ve ayri beslemeler vasitasiyla asagidaki çözeltiler asagidaki sekilde dozlanir: b) 68,0 9 su içinde 7,88 9 sodyum per- okso di- sülfat çözeltisi 5 saat zarfinda, a)*nin dozlamasi ile baslayacak sekilde. inceltilmistir, 2 saat zarfinda, a) dozlama baslangicindan 2 saat sonra baslayacak sekilde. a) ila 0) çözeltilerinin tamamiyla beslenmesinden sonra, reaksiyon karisimi 1 saat 80 °C'de kari stirilir. Ardindan 0,59 9 sodyum per okso di- sülfat çözeltisi 10,0 9 su içinde ilave edilir ve 2 saat daha 80 "Ctde kari stirilir. Son olarak oda sicakligina sogutulur ve 8 g biyosit ilave edilir. Bulusa uygun asi- ko- polimerinden (B.3) agirlik yüzdesi olarak l.4 Bulusa uygu asi- ko- polimerinin (B.4) üretimi sicakliga isitilir. 80 @de eszamanli olarak ve ayri beslemeler vasitasiyla asagidaki çözeltiler asagidaki sekilde dozlanir: b) 68,0 9 su içinde 9,85 9 sodyum per- okso di- sülfat çözeltisi 5 saat zarfinda, a),nin dozlamasi ile baslayacak sekilde. inceltilmistir, 2 saat zarfinda, a) dozlama baslangicindan 2 saat sonra baslayacak sekilde. a) ila 0) çözeltilerinin tamamiyla beslenmesinden sonra, reaksiyon karisimi 1 saat 80 cC'de kari stirilir. Ardindan 0,73 9 sodyum per okso di- sülfat çözeltisi 10,0 9 su içinde ilave edilir ve 2 saat daha 80 "C'de kari stirilir. Son olarak oda sicakligina sogutulur ve 8 g biyosit ilave edilir. Bulusa uygun asi- ko- polimerinden (B.4) agirlik yüzdesi olarak 1.5 Bulusa uygu asi- ko- polimerinin (B.5) üretimi sicakliga isitilir. 80 "Ctde eszamanli olarak ve ayri beslemeler vasitasiyla asagidaki çözeltiler asagidaki sekilde dozlanir: b) 68,0 9 su içinde 15,8 9 sodyum per- okso di- sülfat çözeltisi 5 saat zarfinda, a)*nin dozlamasi ile baslayacak sekilde. inceltilmistir, 2 saat zarfinda, a) dozlama baslangicindan 2 saat sonra baslayacak sekilde. a) ila 0) çözeltilerinin tamamiyla beslenmesinden sonra, reaksiyon karisimi 1 saat 80 °C'de kari stirilir. Ardindan 1,16 9 sodyum per okso di- sülfat çözeltisi 10,0 9 su içinde ilave edilir ve 2 saat daha 80 "Ctde kari stirilir. Son olarak oda sicakligina sogutulur ve 8 g biyosit ilave edilir. Bulusa uygun asi- ko- polimerinden (B.5) agirlik yüzdesi olarak 1.6 Bulusa uygu asi- ko- polimerinin (3.6) üretimi sicakliga isitilir. 80 @de eszamanli olarak ve ayri beslemeler vasitasiyla asagidaki çözeltiler asagidaki sekilde dozlanir: b) 68,0 9 su içinde 19,5 9 sodyum per- okso di- sülfat çözeltisi 5 saat zarfinda, a),nin dozlamasi ile baslayacak sekilde. inceltilmistir, 2 saat zarfinda, a) dozlama baslangicindan 2 saat sonra baslayacak sekilde. a) ila 0) çözeltilerinin tamamiyla beslenmesinden sonra, reaksiyon karisimi 1 saat 80 cC'de kari stirilir. Ardindan 1,45 9 sodyum per okso di- sülfat çözeltisi 10,0 9 su içinde ilave edilir ve 2 saat daha 80 "C'de kari stirilir. Son olarak oda sicakligina sogutulur ve 8 g biyosit ilave edilir. Bulusa uygun asi- ko- polimerinden (B6) agirlik yüzdesi olarak 1.7 Bulusa uygu asi- ko- polimerinin (B.7) üretimi sicakliga isitilir. 80 "Ctde eszamanli olarak ve ayri beslemeler vasitasiyla asagidaki çözeltiler asagidaki sekilde dozlanir: b) 68,0 9 su içinde 19,?' g sodyum per- okso di- sülfat çözeltisi 5 saat zarfinda, a)*nin dozlamasi ile baslayacak sekilde. inceltilmistir, 2 saat zarfinda, a) dozlama baslangicindan 2 saat sonra baslayacak sekilde. a) ila 0) çözeltilerinin tamamiyla beslenmesinden sonra, reaksiyon karisimi 1 saat 80 °C'de kari stirilir. Ardindan 1,46 9 sodyum per okso di- sülfat çözeltisi 10,0 9 su içinde ilave edilir ve 2 saat daha 80 "Oda kari stirilir. Son olarak oda sicakligina sogutulur ve 8 g biyosit ilave edilir. Bulusa uygun asi- ko- polimerinden (B.7) agirlik yüzdesi olarak 1.8 Bulusa uygu asi- ko- polimerinin (B.8) üretimi sicakliga isitilir. 80 (Cide eszamanli olarak ve ayri beslemeler vasitasiyla asagidaki çözeltiler asagidaki sekilde dozlanir: b) 68,0 9 su içinde 19,7 9 sodyum per- okso di- sülfat çözeltisi 5 saat zarfinda, a),nin dozlamasi ile baslayacak sekilde. inceltilmistir, 2 saat zarfinda, a) dozlama baslangicindan 2 saat sonra baslayacak sekilde. a) ila 0) çözeltilerinin tamamiyla beslenmesinden sonra, reaksiyon karisimi 1 saat 80 cC'de kari stirilir. Ardindan 1,46 9 sodyum per okso di- sülfat çözeltisi 10,0 9 su içinde ilave edilir ve 2 saat daha 80 "C'de kari stirilir. Son olarak oda sicakligina sogutulur ve 8 g biyosit ilave edilir. Bulusa uygun asi- ko- polimerinden (B.7) agirlik yüzdesi olarak 1.9 Karsilastirma örnegi Bir karsilastirma asi- ko- polimerinin (V-9) üretimi üretilir. Bulusa uygun formülasyonlarin (F.1 ila F.8) ve karsilastirma formülasyonun (V- F.9) üretimi Bulusa uygun formülasyonlar (F.1 ila F.8) ve karsilastirma formülasyonlari (V- F.9), bilesenlerin tablo 1'e göre - yüzey aktif madde 1 hariç olarak - kuru olarak karistirilarak üretilir. Iyonik olmayan yüzey aktif madde (1) eritilir ve kuru karisimin içine karistirilir ve bu sekilde mümkün oldugunca homojen olarak dagitilir. Asi- ko- polimeri (B.1) sulu çözelti olarak mevcut ise, o zaman asi- ko- polimeri ilk önce kurutularak izole edilir ve kati olarak diger kati bilesenlere eklenir veya ayri çözelti olarak bulasik makinesinin içine eklenir. Bulusa uygun formülasyonlarinin (F.1 ila F.8) ve karsilastirma formülasyonun (V- F.9) bilesenleri tablo 1'de görülmektedir. Tablo 1: Bulusa uygun formülasyonlarin (F.1 ila F.4) ve karsilastirma formülasyonun (V- F.9) özeti Polimer gelistirici (D.1) 9 9 9 9 9 Iyonik olmayan yüzey aktif madde 1 4 4 4 4 4 Iyonik olmayan yüzey aktif madde 2 1 1 1 1 1 Amilaz 1 1 1 1 1 Na2Si205 2 2 2 2 2 Açiklama: (A.1): agirlik yüzdesi olarak % 78 MGDA-Naa, bakiyesi sudur (C.1): Sodyum perkarbonat, 2 Na2C03'3 H202 Iyonik olmayan yüzey aktif madde 2: n-C10H21-CH(OH)-CH2-O-(EO)4o-n-CioH21 Na28i205: ticari Britesil® H 265 LC olarak HEDP: 1- hidroksi etan-1,1-di fosfonat di- sodyum tuzu Polimer gelistirici (D.1): poli- akrilik asit MW 4.000 9/ mol sodyum tuzu olarak, tamamiyla nötralize edilmistir Bulusa uygun formülasyonda (F5) bulusa uygun asi- ko- polimeri (B1) (B5) gibi ayni miktarda, yani 1 9 olarak katilir. Bulusa uygun formülasyonlar (F.6 ila f.8) için aynisi geçerlidir. ll. Kaplama 'Önlenmesi için deneyler Her deney için üç camin gri degerleri, her bir formülasyon için elde edilir. Gri degeri ne kadar yüksek ise, cam üzerindeki film olusumu 0 kadar kuvvetlidir. Formülasyonun (V- F.9) gri degerlerinin, ilgili bulusa uygun formülasyona göre farki tablo 2'de gösterilmistir. Deger ne kadar negatif ise, kaplama önlenmesindeki yarar o kadar daha büyüktür. Tablo 2: Gri degerlerin fark ölçümü olarak kaplama önlenmesi Formülasyon Gri degeri (bulusa uygun formülasyon) - Gri degeri (V-F.9) F.1 _0,3 F.2 -1,3 F.3 -0,6 F.4 -1,6 F.5 -3,5 F.6 _2,7 F.7 _2,0 F.8 -3,5 TR
TR2018/08396T 2014-06-23 2015-06-12 Formülasyonlar, bunların üretimi ve kullanımı, ve uygun bileşenler. TR201808396T4 (tr)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP14173388 2014-06-23

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TR201808396T4 true TR201808396T4 (tr) 2018-07-23

Family

ID=50976529

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TR2018/08396T TR201808396T4 (tr) 2014-06-23 2015-06-12 Formülasyonlar, bunların üretimi ve kullanımı, ve uygun bileşenler.

Country Status (13)

Country Link
US (1) US10072235B2 (tr)
EP (1) EP3157901B1 (tr)
JP (1) JP6628749B2 (tr)
KR (1) KR20170020509A (tr)
CN (1) CN106459840B (tr)
BR (1) BR112016030224B1 (tr)
CA (1) CA2951074A1 (tr)
ES (1) ES2672370T3 (tr)
MX (1) MX2016017276A (tr)
PL (1) PL3157901T3 (tr)
RU (1) RU2676769C2 (tr)
TR (1) TR201808396T4 (tr)
WO (1) WO2015197379A1 (tr)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2670687T3 (es) 2014-06-23 2018-05-31 Basf Se Formulaciones, su uso como o para la preparación de agentes lavavajillas y su preparación
EP3174919B1 (en) 2014-07-30 2019-12-11 Basf Se Amphiphilic star-like polyether
EP3448975B1 (de) * 2016-04-27 2020-04-01 Basf Se Formulierungen, ihre herstellung und verwendung, und geeignete komponenten
PL3541911T3 (pl) 2016-11-17 2021-03-22 Basf Se Preparaty, ich wytwarzanie i zastosowanie
WO2019211231A1 (en) 2018-05-02 2019-11-07 Basf Se Dishwashing detergent formulations comprising polyaspartic acid and graft polymers based on oligo- and polysaccharides as film inhibiting additives
US20210230515A1 (en) 2018-06-06 2021-07-29 Basf Se Formulations, the production and use thereof, and suitable components
EP4386071A1 (en) 2022-12-15 2024-06-19 Henkel AG & Co. KGaA Liquid dishwashing detergent

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4125752A1 (de) 1991-08-03 1993-02-04 Basf Ag Polymerisate aus ethylenisch ungesaettigten, n-haltigen verbindungen, polymerisiert in gegenwart von monosacchariden, oligosacchariden, polysacchariden oder deren derivaten
DE4221381C1 (de) * 1992-07-02 1994-02-10 Stockhausen Chem Fab Gmbh Pfropf-Copolymerisate von ungesättigten Monomeren und Zuckern, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
JPH05272993A (ja) * 1992-03-24 1993-10-22 Shimadzu Corp 測定データのベースライン決定方法
US5837663A (en) 1996-12-23 1998-11-17 Lever Brothers Company, Division Of Conopco, Inc. Machine dishwashing tablets containing a peracid
DE19819187A1 (de) 1998-04-30 1999-11-11 Henkel Kgaa Festes maschinelles Geschirrspülmittel mit Phosphat und kristallinen schichtförmigen Silikaten
DE102007006627A1 (de) 2007-02-06 2008-08-07 Henkel Ag & Co. Kgaa Reinigungsmittel
ES2360016T5 (es) * 2008-06-24 2015-05-05 Cognis Ip Management Gmbh Detergentes que contienen copolímeros de injerto
EP2768937B1 (de) * 2011-10-19 2016-01-13 Basf Se Formulierungen, ihre verwendung als oder zur herstellung von geschirrspülmitteln und ihre herstellung
WO2013095562A1 (en) * 2011-12-22 2013-06-27 Intel Corporation Method, device and system for aggregation of shared address devices
ES2670687T3 (es) 2014-06-23 2018-05-31 Basf Se Formulaciones, su uso como o para la preparación de agentes lavavajillas y su preparación

Also Published As

Publication number Publication date
CN106459840A (zh) 2017-02-22
CN106459840B (zh) 2019-10-22
ES2672370T3 (es) 2018-06-14
JP6628749B2 (ja) 2020-01-15
US20170130168A1 (en) 2017-05-11
EP3157901B1 (de) 2018-03-21
JP2017520653A (ja) 2017-07-27
MX2016017276A (es) 2017-04-25
RU2017101857A (ru) 2018-07-23
EP3157901A1 (de) 2017-04-26
CA2951074A1 (en) 2015-12-30
PL3157901T3 (pl) 2018-08-31
BR112016030224B1 (pt) 2021-05-25
RU2017101857A3 (tr) 2018-08-09
KR20170020509A (ko) 2017-02-22
US10072235B2 (en) 2018-09-11
WO2015197379A1 (de) 2015-12-30
RU2676769C2 (ru) 2019-01-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TR201808396T4 (tr) Formülasyonlar, bunların üretimi ve kullanımı, ve uygun bileşenler.
RU2687255C2 (ru) Композиции, их применение в качестве или для получения средств для мытья посуды и их получение
AU2001293757B2 (en) Polycarboxylic acid containing three-in-one dishwashing composition
US9938489B2 (en) Process for cleaning dishware
JP2013542280A (ja) スポット形成防止効果及び／又は皮膜形成防止効果を有する洗剤組成物
US10844323B2 (en) Formulations, the production and use thereof, and suitable components
WO2018206812A1 (en) Phosphate-free automatic dishwashing detergent composition
EP3622048A1 (en) Automatic dishwashing detergent composition
US9157050B2 (en) Detergent composition with improved drying performance
WO2019233864A1 (de) Formulierungen, ihre herstellung und verwendung, und geeignete komponenten