TH9846A - วิธีการสำหรับเตรียมสารเข้าทำปฏิกิริยาในรูปไอที่ใช้ ในการเคลือบ ด้วยไอสารเคมี - Google Patents
วิธีการสำหรับเตรียมสารเข้าทำปฏิกิริยาในรูปไอที่ใช้ ในการเคลือบ ด้วยไอสารเคมีInfo
- Publication number
- TH9846A TH9846A TH9001001521A TH9001001521A TH9846A TH 9846 A TH9846 A TH 9846A TH 9001001521 A TH9001001521 A TH 9001001521A TH 9001001521 A TH9001001521 A TH 9001001521A TH 9846 A TH9846 A TH 9846A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- coating
- substance
- source
- liquid
- vapor
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract 64
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract 53
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract 60
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract 54
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract 47
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 30
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 claims abstract 19
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims abstract 19
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims abstract 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 claims abstract 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims 19
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 19
- PKKGKUDPKRTKLJ-UHFFFAOYSA-L dichloro(dimethyl)stannane Chemical compound C[Sn](C)(Cl)Cl PKKGKUDPKRTKLJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- -1 ethyl aluminum Diethyl aluminum chloride trimethyl aluminum Aluminum Chemical compound 0.000 claims 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 6
- ZYZDQFOOEMOIOP-UHFFFAOYSA-I dichloro(dimethyl)stannane;trichloro(methyl)stannane Chemical compound C[Sn](C)(Cl)Cl.C[Sn](Cl)(Cl)Cl ZYZDQFOOEMOIOP-UHFFFAOYSA-I 0.000 claims 5
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims 4
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- UDWPONKAYSRBTJ-UHFFFAOYSA-N [He].[N] Chemical compound [He].[N] UDWPONKAYSRBTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- PWEVMPIIOJUPRI-UHFFFAOYSA-N dimethyltin Chemical compound C[Sn]C PWEVMPIIOJUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 3
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims 3
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N dichloro(diethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)CC BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 claims 2
- VXKWYPOMXBVZSJ-UHFFFAOYSA-N tetramethyltin Chemical compound C[Sn](C)(C)C VXKWYPOMXBVZSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- YFRLQYJXUZRYDN-UHFFFAOYSA-K trichloro(methyl)stannane Chemical compound C[Sn](Cl)(Cl)Cl YFRLQYJXUZRYDN-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims 2
- XDWXRAYGALQIFG-UHFFFAOYSA-L zinc;propanoate Chemical compound [Zn+2].CCC([O-])=O.CCC([O-])=O XDWXRAYGALQIFG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- WIHIUTUAHOZVLE-UHFFFAOYSA-N 1,3-diethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(O)COCC WIHIUTUAHOZVLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 206010011224 Cough Diseases 0.000 claims 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 claims 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N aluminium triethoxide Chemical compound CCO[Al](OCC)OCC JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 1
- KWTSZCJMWHGPOS-UHFFFAOYSA-M chloro(trimethyl)stannane Chemical compound C[Sn](C)(C)Cl KWTSZCJMWHGPOS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L dibutyl(dichloro)stannane Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(Cl)CCCC RJGHQTVXGKYATR-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- YFAXVVMIXZAKSR-UHFFFAOYSA-L dichloro(diethyl)stannane Chemical compound CC[Sn](Cl)(Cl)CC YFAXVVMIXZAKSR-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 239000005329 float glass Substances 0.000 claims 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims 1
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 claims 1
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride (anhydrous) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 claims 1
- PTCSYKMYHDPUDF-UHFFFAOYSA-N zinc acetyl acetate Chemical compound [Zn+2].C(C)(=O)OC(C)=O PTCSYKMYHDPUDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 abstract 1
Abstract
ในการประดิษฐ์นี้มีการเตรียมสารเข้าทำปฏิกิริยาที่กลายเป็นไอซึ่งมีประโยชน์ในการเคลือบด้วยไอสารเคมีลงบนผิววัสดุรองรับที่กำลังร้อนโดยเริ่มต้นด้วยการให้ความร้อนแก่สารต้นกำเนิดของสารเคลือบที่เป็นของเหลว, การฉีดสารต้นกำเนิดของสารเคลือบที่เป็นของเหลวเข้าไปในช่องทำให้สาร กลายเป็นไอ,การปล่อยก๊าซผสมเข้าสู่ช่องทำให้สารกลายเป็นไอพร้อมกัน, การให้ความร้อนแก่ของเหลว และก๊าซผสมจนทำให้ของเหลวกลายเป็นไอ ที่อุณหภูมิต่ำกว่าอุณหภูมิกลายเป็นไอมาตรฐานของสารนั้น และการผสมไอสารต้นกำเนิดของสารเคลือบและก๊าซผสมให้ทั่วถึง เพื่อผลิตกระแสสารเข้าทำปฏิกิริยาที่กลายเป็นไอสำหรับทำให้เกิดการสลายด้วยความร้อนที่ผิวของวัสดุรองรับที่กำลังร้อนเครื่องระเหยแบบแผ่นบางในแนวนอน เป็นช่องทำให้สารกลายเป็นไอชนิดที่เหมาะสมเป็นพิเศษสำหรับกระบวนการของการประดิษฐ์นี้
Claims (1)
1. กระบวนการเคลือบสารเคลือบทินออกไซด์บนแก้ว ตามข้อถือสิทธิ 29 โดยที่มีการใช้กระแสก๊าซของสารเข้าทำปฏิกิริยาที่กลายเป็นไอ เพื่อก่อรูปสารเคลือบทินออกไซด์เคลือบลงบนแถบแก้ว ด้วยอัตราการเติบโตถึงประมาณ 2,200 อังสตรอมต่อวินาที
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH9846A true TH9846A (th) | 1991-11-01 |
| TH8527B TH8527B (th) | 1998-10-30 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR0147042B1 (ko) | 화학적 증착용 증기상 반응물의 제조 방법 | |
| US6521295B1 (en) | Chemical vapor deposition of antimony-doped metal oxide and the coated article made thereby | |
| KR950000690B1 (ko) | 플로우트 유리(float glass)상에 산화 금속 코우팅 부착을 위한 장치 및 방법 | |
| EP0839218B1 (en) | Method for forming tin oxide coating on glass | |
| EP1034146B1 (en) | Improvements in coating glass | |
| US5393563A (en) | Formation of tin oxide films on glass substrates | |
| KR20000029951A (ko) | 판글래스상에산화주석및산화티타늄코팅을증착시키는방법과그에따라코팅된글래스 | |
| JP2001502381A (ja) | 酸化アルミニウムの化学蒸着法 | |
| KR19990064217A (ko) | 유리의 코팅 방법 | |
| TH9846A (th) | วิธีการสำหรับเตรียมสารเข้าทำปฏิกิริยาในรูปไอที่ใช้ ในการเคลือบ ด้วยไอสารเคมี | |
| TH8527B (th) | วิธีการสำหรับเตรียมสารเข้าทำปฏิกิริยาในรูปไอที่ใช้ ในการเคลือบ ด้วยไอสารเคมี | |
| Gordon et al. | Chemical vapor deposition and properties of amorphous aluminum oxide films | |
| JPH01123074A (ja) | 気相化学反応原料の供給方法 | |
| KR20010066533A (ko) | 안정한 코팅용 기화물 생성방법 및 장치 | |
| WO2026047348A1 (en) | Process for depositing a coating | |
| MXPA98000254A (en) | Method for forming a tin oxide coating on vid | |
| MXPA98002841A (en) | Coating of glass |