TH91935A - พอลิเมอร์ชนิดระเหยได้ต่ำสำหรับกระบวนการตกสะสมแบบสองขั้นตอน - Google Patents

พอลิเมอร์ชนิดระเหยได้ต่ำสำหรับกระบวนการตกสะสมแบบสองขั้นตอน

Info

Publication number
TH91935A
TH91935A TH701002159A TH0701002159A TH91935A TH 91935 A TH91935 A TH 91935A TH 701002159 A TH701002159 A TH 701002159A TH 0701002159 A TH0701002159 A TH 0701002159A TH 91935 A TH91935 A TH 91935A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
low volatile
volatile polymer
deposition process
coating
materials
Prior art date
Application number
TH701002159A
Other languages
English (en)
Other versions
TH91935B (th
Inventor
บรูซ ชาร์เตอร์ส นายโรเบิร์ต
คูคัลจ์ นายแด็กซ์
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายบุญมา เตชะวณิช
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายบุญมา เตชะวณิช, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH91935A publication Critical patent/TH91935A/th
Publication of TH91935B publication Critical patent/TH91935B/th

Links

Abstract

DC60 (20/07/50) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวัสดุและกระบวนการสำหรับการเตรียมชั้นที่มีคุณภาพสูง ตัวอย่างเช่น สำหรับการประดิษฐ์อุปกรณ์เชิงแสง ดังเช่น ท่อนำคลื่น โดยเฉพาะการประดิษฐ์นี้ เกี่ยวข้องกับการใช้วัสดุพอลิเมอร์ที่ระเหยได้ต่ำสำหรับการตกสะสมของชั้นที่มีคุณภาพสูงบน ซับสเทรทพื้นที่ขนาดใหญ่โดยกระบวนการแบบสองขั้นตอน ตัวอย่างเช่น แบบอัดรีด-และ-ปั่น การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวัสดุและกระบวนการสำหรับการเตรียมชั้นที่มีคุณภาพสูง ตัวอย่างเช่น สำหรับการประดิษฐ์อุปกรณ์เชิงเส้น ดังเช่น ท่อนำคลื่น โดยเฉพาะการประดิษฐ์นี้ เกี่ยวข้องกับการใช้วัสดุพอลิเมอร์ที่ระเหยได้ต่ำสำหรับการตกสะสมของชั้นที่มีคุณภาพสูงบน ซับสเทรทพื้นที่ขนาดใหญ่โดยกระบวนการแบบสองขั้นตอน ตัวอย่างเช่น แบบอัดรีด-และ-ปั่น

Claims (2)

1. วิธีการของการเคลือบซับสเทรทด้วยชั้นของวัสดุเคลือบที่มีความหนาสม่ำเสมออย่างเป็น สำคัญ วิธีการดังกล่าวประกอบรวมด้วย การประยุกต์ฟิล์มเหลวของวัสดุเคลือบดังกล่าวไปยังซับสเทรทดังกล่าว วัสดุเคลือบดังกล่าว เป็นชนิดที่ไม่ระเหยง่ายอย่างเป็นสำคัญ และ การปั่นซับสเทรทดังกล่าวเพื่อจัดเตรียมชั้นที่มีความหนาสม่ำเสมออย่างเป็นสำคัญ
2. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งการประยุกต์ฟิล์มเหลวของวัสดุเคลือบดังกล่าวไปยัง ซับสเทรทดังกล่าวกระทำโดยกระบวนการที่คัดเลือกจากการเคลือบแบบอัดรีด การเคลือบแบบแท็ก :
TH701002159A 2007-04-30 พอลิเมอร์ชนิดระเหยได้ต่ำสำหรับกระบวนการตกสะสมแบบสองขั้นตอน TH91935B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH91935A true TH91935A (th) 2008-10-20
TH91935B TH91935B (th) 2008-10-20

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9982333B2 (en) Mask frame assembly and method of manufacturing the same
WO2007064597A3 (en) Uniform surfaces for hybrid material substrates and methods for making and using same
TWI265606B (en) Method of fabricating flexible thin film transistor array substrate
MX2009010197A (es) Metodo para aplicar multiples recubrimientos sobre un tejido fibroso.
WO2008132045A3 (en) Substrates with biocidal coating
JP2008501147A5 (th)
ATE469364T1 (de) Prozess zum beschichten eines optischen artikels mit einer anti-fouling-oberflächenbeschichtung durch unterdruckverdampfung
JP2018520218A5 (th)
WO2020089180A9 (de) Beschichtungsvorrichtung, prozesskammer, sowie verfahren zum beschichten eines substrats und substrat beschichtet mit zumindest einer materialschicht
WO2009028572A1 (ja) 液晶ポリマー積層体の製造方法
AR067606A1 (es) Laminado y capa de material compuesto que comprenden un sustrato y un recubrimiento; proceso y aparato para su preparacion
WO2010059896A3 (en) Electrostatically depositing conductive films during glass draw
BRPI0812694A2 (pt) "aparelho e método para revestir uma superfície de um artigo com uma camada de polímero de película fina por meio de deposição de plasma,e,artigo"
Meng et al. Surface wrinkling on polydopamine film
CN110673247A (zh) 具有复合结构的柔性光栅、其制备方法及应用
JP2019028109A (ja) 複層フィルム及びその製造方法
BR0014823A (pt) Processo de revestimento de um substrato termoplástico, substrato plástico e substrato revestido
EP1357585A2 (en) A method for coating a semiconductor substrate
WO2009022494A1 (ja) 積層体の製造方法、及び積層体
TH91935A (th) พอลิเมอร์ชนิดระเหยได้ต่ำสำหรับกระบวนการตกสะสมแบบสองขั้นตอน
WO2009038061A1 (ja) 複層フィルム及びその製造方法
TH91935B (th) พอลิเมอร์ชนิดระเหยได้ต่ำสำหรับกระบวนการตกสะสมแบบสองขั้นตอน
JP2008212921A5 (th)
WO2008132037A3 (en) Substrates with biopassive coating
FI20070131A0 (fi) Uusi menetelmä valmistaa optisia tuotteita