TH91935B - พอลิเมอร์ชนิดระเหยได้ต่ำสำหรับกระบวนการตกสะสมแบบสองขั้นตอน - Google Patents
พอลิเมอร์ชนิดระเหยได้ต่ำสำหรับกระบวนการตกสะสมแบบสองขั้นตอนInfo
- Publication number
- TH91935B TH91935B TH701002159A TH0701002159A TH91935B TH 91935 B TH91935 B TH 91935B TH 701002159 A TH701002159 A TH 701002159A TH 0701002159 A TH0701002159 A TH 0701002159A TH 91935 B TH91935 B TH 91935B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- low volatile
- coating
- deposition process
- volatile polymer
- stage deposition
- Prior art date
Links
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 title 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 5
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 claims 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 abstract 1
Abstract
การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวัสดุและกระบวนการสำหรับการเตรียมชั้นที่มีคุณภาพสูง ตัวอย่างเช่น สำหรับการประดิษฐ์อุปกรณ์เชิงเส้น ดังเช่น ท่อนำคลื่น โดยเฉพาะการประดิษฐ์นี้ เกี่ยวข้องกับการใช้วัสดุพอลิเมอร์ที่ระเหยได้ต่ำสำหรับการตกสะสมของชั้นที่มีคุณภาพสูงบน ซับสเทรทพื้นที่ขนาดใหญ่โดยกระบวนการแบบสองขั้นตอน ตัวอย่างเช่น แบบอัดรีด-และ-ปั่น
Claims (2)
1. วิธีการของการเคลือบซับสเทรทด้วยชั้นของวัสดุเคลือบที่มีความหนาสม่ำเสมออย่างเป็น สำคัญ วิธีการดังกล่าวประกอบรวมด้วย การประยุกต์ฟิล์มเหลวของวัสดุเคลือบดังกล่าวไปยังซับสเทรทดังกล่าว วัสดุเคลือบดังกล่าว เป็นชนิดที่ไม่ระเหยง่ายอย่างเป็นสำคัญ และ การปั่นซับสเทรทดังกล่าวเพื่อจัดเตรียมชั้นที่มีความหนาสม่ำเสมออย่างเป็นสำคัญ
2. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งการประยุกต์ฟิล์มเหลวของวัสดุเคลือบดังกล่าวไปยัง ซับสเทรทดังกล่าวกระทำโดยกระบวนการที่คัดเลือกจากการเคลือบแบบอัดรีด การเคลือบแบบ
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH91935A TH91935A (th) | 2008-10-20 |
| TH91935B true TH91935B (th) | 2008-10-20 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102527233B1 (ko) | 마스크 프레임 어셈블리 | |
| WO2007064597A3 (en) | Uniform surfaces for hybrid material substrates and methods for making and using same | |
| WO2009042054A3 (en) | Organosiloxane materials for selective area deposition of inorganic materials | |
| TW200746441A (en) | Manufacturing method of thin film transistor and thin film transistor, and display | |
| WO2005108108A3 (de) | Sicherheitselement und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| WO2008072187A9 (en) | Method for improving the bonding properties of microstructured substrates, and devices prepared with this method | |
| MX2009010197A (es) | Metodo para aplicar multiples recubrimientos sobre un tejido fibroso. | |
| WO2020089180A9 (de) | Beschichtungsvorrichtung, prozesskammer, sowie verfahren zum beschichten eines substrats und substrat beschichtet mit zumindest einer materialschicht | |
| JP2018520218A5 (th) | ||
| WO2009001935A1 (ja) | 薄膜形成方法、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、半導体素子の製造方法及び光学素子の製造方法 | |
| IL308391A (en) | Formulations and printing methods | |
| WO2009077349A9 (en) | Process for the preparation of semiconducting layers | |
| AR067606A1 (es) | Laminado y capa de material compuesto que comprenden un sustrato y un recubrimiento; proceso y aparato para su preparacion | |
| EA200601255A1 (ru) | Способ образования трехмерной микроструктуры на поверхности, его применение, и полученные таким образом микроструктурированные продукты | |
| WO2008152295A3 (fr) | Couches minces de polymères conjugués contenant des nanoparticules inorganiques et leur procédé de fabrication | |
| BRPI0812694A2 (pt) | "aparelho e método para revestir uma superfície de um artigo com uma camada de polímero de película fina por meio de deposição de plasma,e,artigo" | |
| WO2011053622A3 (en) | Soil and stain resistant coating composition for finished leather substrates | |
| TW200631670A (en) | Blade coating method and apparatus | |
| CN110673247A (zh) | 具有复合结构的柔性光栅、其制备方法及应用 | |
| JP2008212921A5 (th) | ||
| TH91935B (th) | พอลิเมอร์ชนิดระเหยได้ต่ำสำหรับกระบวนการตกสะสมแบบสองขั้นตอน | |
| WO2009038061A1 (ja) | 複層フィルム及びその製造方法 | |
| WO2008132037A3 (en) | Substrates with biopassive coating | |
| TH91935A (th) | พอลิเมอร์ชนิดระเหยได้ต่ำสำหรับกระบวนการตกสะสมแบบสองขั้นตอน | |
| ATE480581T1 (de) | Polymerschicht mit verbesserten antiblockeigenschaften und herstellungsverfahren dafür |