TH8539B - วัสดุที่ใช้ขัดเงา - Google Patents
วัสดุที่ใช้ขัดเงาInfo
- Publication number
- TH8539B TH8539B TH9301002418A TH9301002418A TH8539B TH 8539 B TH8539 B TH 8539B TH 9301002418 A TH9301002418 A TH 9301002418A TH 9301002418 A TH9301002418 A TH 9301002418A TH 8539 B TH8539 B TH 8539B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- suspension
- approximately
- particle size
- polishing
- mixtures
- Prior art date
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract 9
- 239000000463 material Substances 0.000 title abstract 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract 18
- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims abstract 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 14
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims abstract 9
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims abstract 8
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 7
- 229920001285 xanthan gum Polymers 0.000 claims 3
- 229940082509 xanthan gum Drugs 0.000 claims 3
- 235000010493 xanthan gum Nutrition 0.000 claims 3
- 239000000230 xanthan gum Substances 0.000 claims 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 1
- 239000000375 suspending agent Substances 0.000 claims 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 abstract 1
Abstract
สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงาแบบใหม่ สำหรับการขัดเงาโดยเฉพาะวัสดุที่แข็งดังเช่น ซิลิคอน คาร์ไบด์ ซึ่งสารผสมแขวนลอยดังกล่าว จะประกอบด้วย อนุภาคเพชร ที่มีอนุภาคเฉลี่ยเป็นประมาณหนึ่งไมครอน และอนุภาคอัลฟา อะลูมิน่าที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ยจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 200 นาโนเมตร
Claims (9)
1. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ที่ประกอบด้วย อนุภาคเพชรที่มีขนาดอนุภาคที่น้อยกว่า 5 ไมครอน อนุภาคของอัลฟา อะลูมิน่า ที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ยจาก 20 ถึง 200 นาโนเมตร และปริมาณของสารที่ช่วยให้เกิดการแขวนลอยที่เพียงพอต่อการที่จะทำให้อนุภาคเพชรอยู่ในสภาพแขวนลอยได้ สารผสมแขวนลอยดังกล่าวจะมีอัตราส่วนโดยน้ำหนักของเพชรต่ออะลูมิน่า เป็นประมาณ 1:30 ถึงประมาณ 1:90
2. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคเพชรจะมีขนาดอนุภาคเฉลี่ยจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 1.5 ไมครอน
3. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคอัลฟาอะลูมิน่าจะมีขนาดอนุภาคเฉลี่ยจากประมาณ 40 ถึงประมาณ 100 นาโนเมตร
4. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอัตราส่วนโดยน้ำหนักของเพชรต่ออะลูมิน่า จะเป็นประมาณ 1:50 ถึงประมาณ 1:80
5. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งส่วนที่เป็นของแข็ง จะมีอยู่จากประมาณ 40 ถึงประมาณ 80 กรัมต่อลิตร
6. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งสารที่ช่วยให้เกิดการแขวนลอยดังกล่าว จะเป็นพวกแซนเธน กัม
7. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ชัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 6 ที่ซึ่งจำนวนของสารพวกแซนแธน กัม จะมีอยู่จากประมาณ 1 ถึงประมาณ 5 กรัม/ลิตร
8. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงาที่ประกอบด้วยอนุภาคเพชร จากประมาณ 1 ถึง 10 กะรัต/ลิตร โดยมีขนาดอนุภาคเฉลี่ยอยู่ประมาณ 0.2 ถึงประมาณ 1.0 ไมครอน อนุภาคอัลฟา อะลูมิน่าจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 90 กรัม/ลิตร โดยมีขนาดอนุภาคเฉลี่ยจากประมาณ 40 ถึงประมาณ 100 นาโนเมตร และปริมาณของสารที่ช่วยทำให้เกิดการแขวนลอยในจำนวนที่เพียงพอ ที่จะทำให้อนุภาคเพชรอยู่ในสภาพแขวนลอยได้ สารผสมแขวนลอยดังกล่าวจะมีอัตราส่วนโดยน้ำหนักของเพชรต่ออะลูมิน่า จากประมาณ 1:40 ถึงประมาณ 1:80
9. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ที่ซึ่งสารที่ช่วยให้เกิดการแขวนลอยดังกล่าวจะเป็นพวกแซนแธนกัม 1
0. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 9 ที่ซึ่งประกอบด้วยสารพวกแซนเธนกัมจากประมาณ 1 ถึงประมาณ 5 กรัม/ลิตร เป็นสารที่ช่วยให้เกิดการแขวนลอย
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH16473A TH16473A (th) | 1995-08-29 |
| TH8539B true TH8539B (th) | 1998-11-02 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR950002926A (ko) | 연마용 물질 | |
| AU584873B2 (en) | Abrasive grits or ceramic bodies and preparation thereof | |
| DE69010646D1 (de) | Keramische Mikrokugeln. | |
| CA2124394A1 (en) | Method of making an abrasive compact | |
| KR960703050A (ko) | 초연삭성 숫돌차(Superabrasive grinding wheels) | |
| KR910009870A (ko) | 피복된 연마재중 졸-겔 프로세스 알루미나 연마 입자 혼합물 | |
| MX9708434A (es) | Composiciones dentifricas. | |
| TW365563B (en) | Polishing agent for semiconductor and method for its production | |
| DE60027292D1 (de) | Erniedrigung von mineralsalzabsetzung | |
| EP0367403A3 (en) | Method for grinding an oxygen sensitive ceramic material and powder obtained by this method. | |
| EP0071771A1 (en) | Improved metal bonded diamond aggregate abrasive | |
| AU642424B2 (en) | Process for removing coatings from sensitive substrates, and blasting media useful therein | |
| IE34734L (en) | Abrasive grinding element. | |
| DE69412293D1 (de) | Durch Siliciumcarbid und Partikel verstärktes keramisches Schneidwerkzeug | |
| TH8539B (th) | วัสดุที่ใช้ขัดเงา | |
| TH16473A (th) | วัสดุที่ใช้ขัดเงา | |
| US5380356A (en) | Quartz-free powdered magmatic nepheline rock material for the surface treatment of dental parts, especially grinding, polishing and/or blasting material | |
| KR890701284A (ko) | 결합된 연마제 | |
| KR100253528B1 (ko) | 세라믹 코런덤 연마재 | |
| ATE59008T1 (de) | Vibrationsmahlung von siliciumkarbid. | |
| JP2000345143A5 (th) | ||
| EP0896016A3 (en) | Fine particle dispersion and method of manufacturing the same | |
| ATE495229T1 (de) | Cerbasierendes poliermittel und cerbasierende poliersuspension | |
| RU2034889C1 (ru) | Композиция для суперфинишной доводки поверхности материала | |
| AU630095B2 (en) | Abrasives based on rare earths |