TH8539B - Polishing material - Google Patents

Polishing material

Info

Publication number
TH8539B
TH8539B TH9301002418A TH9301002418A TH8539B TH 8539 B TH8539 B TH 8539B TH 9301002418 A TH9301002418 A TH 9301002418A TH 9301002418 A TH9301002418 A TH 9301002418A TH 8539 B TH8539 B TH 8539B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
suspension
approximately
particle size
polishing
mixtures
Prior art date
Application number
TH9301002418A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH16473A (en
Inventor
โรสโตเกอร์ ดรเดวิด
Original Assignee
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า
Filing date
Publication date
Application filed by นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า filed Critical นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Publication of TH16473A publication Critical patent/TH16473A/en
Publication of TH8539B publication Critical patent/TH8539B/en

Links

Abstract

สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงาแบบใหม่ สำหรับการขัดเงาโดยเฉพาะวัสดุที่แข็งดังเช่น ซิลิคอน คาร์ไบด์ ซึ่งสารผสมแขวนลอยดังกล่าว จะประกอบด้วย อนุภาคเพชร ที่มีอนุภาคเฉลี่ยเป็นประมาณหนึ่งไมครอน และอนุภาคอัลฟา อะลูมิน่าที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ยจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 200 นาโนเมตร A new polishing suspension mixture. For the polishing of particularly hard materials such as silicon carbide, the suspension mixture consists of diamond particles with an average particle size of approximately one micron. and alpha particles alumina with an average particle size from about 20 to about 200 nm.

Claims (9)

1. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ที่ประกอบด้วย อนุภาคเพชรที่มีขนาดอนุภาคที่น้อยกว่า 5 ไมครอน อนุภาคของอัลฟา อะลูมิน่า ที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ยจาก 20 ถึง 200 นาโนเมตร และปริมาณของสารที่ช่วยให้เกิดการแขวนลอยที่เพียงพอต่อการที่จะทำให้อนุภาคเพชรอยู่ในสภาพแขวนลอยได้ สารผสมแขวนลอยดังกล่าวจะมีอัตราส่วนโดยน้ำหนักของเพชรต่ออะลูมิน่า เป็นประมาณ 1:30 ถึงประมาณ 1:901. Polished suspension mixtures Containing Diamond particles with particle size less than 5 microns, alpha alumina particles with an average particle size of 20 to 200nm, and the amount of suspensions sufficient to allow the diamond particles to remain. In suspension can The suspension mixtures have a weight ratio of the diamond to alumina from 1:30 to approximately 1:90. 2. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคเพชรจะมีขนาดอนุภาคเฉลี่ยจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 1.5 ไมครอน2. Polished suspension mixtures According to claim 1, where diamond particles have an average particle size from approximately 0.5 to approximately 1.5 microns. 3. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคอัลฟาอะลูมิน่าจะมีขนาดอนุภาคเฉลี่ยจากประมาณ 40 ถึงประมาณ 100 นาโนเมตร3. Polished suspension mixtures According to claim 1, where the alpha alumina particle would have an average particle size from about 40 to about 100 nm. 4. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอัตราส่วนโดยน้ำหนักของเพชรต่ออะลูมิน่า จะเป็นประมาณ 1:50 ถึงประมาณ 1:804. Polishing Suspension Mixture According to claim 1, where the weighted ratio of diamonds to alumina is approximately 1:50 to approximately 1:80. 5. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งส่วนที่เป็นของแข็ง จะมีอยู่จากประมาณ 40 ถึงประมาณ 80 กรัมต่อลิตร5. Polishing suspension mixtures According to claim No. 1, where the solid part There will be from about 40 to about 80 grams per liter. 6. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งสารที่ช่วยให้เกิดการแขวนลอยดังกล่าว จะเป็นพวกแซนเธน กัม6. Polishing suspension mixtures According to claim 1, where the substance that contributes to the suspension Will be the Xanthen Gums 7. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ชัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 6 ที่ซึ่งจำนวนของสารพวกแซนแธน กัม จะมีอยู่จากประมาณ 1 ถึงประมาณ 5 กรัม/ลิตร7. Suspended mixtures used in clear shadows According to claim 6, where the amount of xanthan gum is available from approximately 1 to approximately 5 g / l. 8. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงาที่ประกอบด้วยอนุภาคเพชร จากประมาณ 1 ถึง 10 กะรัต/ลิตร โดยมีขนาดอนุภาคเฉลี่ยอยู่ประมาณ 0.2 ถึงประมาณ 1.0 ไมครอน อนุภาคอัลฟา อะลูมิน่าจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 90 กรัม/ลิตร โดยมีขนาดอนุภาคเฉลี่ยจากประมาณ 40 ถึงประมาณ 100 นาโนเมตร และปริมาณของสารที่ช่วยทำให้เกิดการแขวนลอยในจำนวนที่เพียงพอ ที่จะทำให้อนุภาคเพชรอยู่ในสภาพแขวนลอยได้ สารผสมแขวนลอยดังกล่าวจะมีอัตราส่วนโดยน้ำหนักของเพชรต่ออะลูมิน่า จากประมาณ 1:40 ถึงประมาณ 1:808. Polishing suspension mixture containing diamond particles from approx. 1 to 10 karat / l, with an average particle size of approximately 0.2 to approx 1.0 μm, alpha alumina particles from approx. 20 to approx. 90 g / l by The average particle size is from approximately 40 to approximately 100 nm, and the amount of the suspension is sufficient. To keep the diamond particles in suspension state The suspension mixtures have a weight ratio of diamond to alumina from approximately 1:40 to approximately 1:80. 9. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ที่ซึ่งสารที่ช่วยให้เกิดการแขวนลอยดังกล่าวจะเป็นพวกแซนแธนกัม 19.Suspended mixtures used for polishing According to claim 8, where the substance that contributes to the suspension is Xanthan Gum 1. 0. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 9 ที่ซึ่งประกอบด้วยสารพวกแซนเธนกัมจากประมาณ 1 ถึงประมาณ 5 กรัม/ลิตร เป็นสารที่ช่วยให้เกิดการแขวนลอย0. Polishing suspension mixtures According to claim 9, which contains approximately 1 to approx. 5 g / l of xanthan gum, it is a suspension agent.
TH9301002418A 1993-12-28 Polishing material TH8539B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH16473A TH16473A (en) 1995-08-29
TH8539B true TH8539B (en) 1998-11-02

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR950002926A (en) Abrasive material
AU584873B2 (en) Abrasive grits or ceramic bodies and preparation thereof
DE69010646D1 (en) Ceramic microspheres.
CA2124394A1 (en) Method of making an abrasive compact
KR960703050A (en) Superabrasive grinding wheels
KR910009870A (en) Sol-gel process alumina abrasive particle mixture in coated abrasive
MX9708434A (en) Dentifrice compositions.
RU2006104117A (en) ABRASIVE PARTICLES FOR MECHANICAL POLISHING
PL186840B1 (en) Optical polishing composition
TW365563B (en) Polishing agent for semiconductor and method for its production
DE60027292D1 (en) REDUCTION OF MINERAL SALT SEPARATION
WO2002028979A1 (en) Cerium based abrasive material and method for producing cerium based abrasive material
EP0071771A1 (en) Improved metal bonded diamond aggregate abrasive
IE34734L (en) Abrasive grinding element.
DE69412293D1 (en) Ceramic cutting tool reinforced with silicon carbide and particles
TH8539B (en) Polishing material
TH16473A (en) Polishing material
KR890701284A (en) Combined abrasive
KR100253528B1 (en) Ceramic corundum abrasive
DE3676105D1 (en) VIBRATION GRINDING OF SILICON CARBIDE.
EP0896016A3 (en) Fine particle dispersion and method of manufacturing the same
ATE495229T1 (en) CERAMIC-BASED POLISHING AGENT AND CERAMIC-BASED POLISHING SUSPENSION
AU630095B2 (en) Abrasives based on rare earths
EP3642295A1 (en) Abrasive articles and methods of forming the same
AU604192B2 (en) Diamond tool