TH8539B - Polishing material - Google Patents

Polishing material

Info

Publication number
TH8539B
TH8539B TH9301002418A TH9301002418A TH8539B TH 8539 B TH8539 B TH 8539B TH 9301002418 A TH9301002418 A TH 9301002418A TH 9301002418 A TH9301002418 A TH 9301002418A TH 8539 B TH8539 B TH 8539B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
approximately
polishing
per
suspension
particle size
Prior art date
Application number
TH9301002418A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH16473A (en
Inventor
โรสโตเกอร์ ดรเดวิด
Original Assignee
เซนต์ โกเบน/นอร์ตัน อินดัสเตรียล เซรามิคส์ คอร์ปอเรเตอร์
นายธเนศ เปเรร่า
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า
Filing date
Publication date
Application filed by เซนต์ โกเบน/นอร์ตัน อินดัสเตรียล เซรามิคส์ คอร์ปอเรเตอร์, นายธเนศ เปเรร่า, นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า นายธเนศ เปเรร่า filed Critical เซนต์ โกเบน/นอร์ตัน อินดัสเตรียล เซรามิคส์ คอร์ปอเรเตอร์
Publication of TH16473A publication Critical patent/TH16473A/en
Publication of TH8539B publication Critical patent/TH8539B/en

Links

Abstract

สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงาแบบใหม่ สำหรับการขัดเงาโดยเฉพาะวัสดุที่แข็งดังเช่น ซิลิคอน คาร์ไบด์ ซึ่งสารผสมแขวนลอยดังกล่าว จะประกอบด้วย อนุภาคเพชร ที่มีอนุภาคเฉลี่ยเป็นประมาณหนึ่งไมครอน และอนุภาคอัลฟา อะลูมิน่าที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ยจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 200 นาโนเมตร A new polishing suspension mixture. For the polishing of particularly hard materials such as silicon carbide, the suspension mixture consists of diamond particles with an average particle size of approximately one micron. and alpha particles alumina with an average particle size from about 20 to about 200 nm.

Claims (10)

1. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ที่ประกอบด้วย อนุภาคเพชรที่มีขนาดอนุภาคที่น้อยกว่า 5 ไมครอน อนุภาคของอัลฟา อะลูมิน่า ที่มีขนาดอนุภาคเฉลี่ยจาก 20 ถึง 200 นาโนเมตร และปริมาณของสารที่ช่วยให้เกิดการแขวนลอยที่เพียงพอต่อการที่จะทำให้อนุภาคเพชรอยู่ในสภาพแขวนลอยได้ สารผสมแขวนลอยดังกล่าวจะมีอัตราส่วนโดยน้ำหนักของเพชรต่ออะลูมิน่า เป็นประมาณ 1:30 ถึงประมาณ 1:901. A polishing suspension composed of diamond particles smaller than 5 microns, alpha alumina particles with an average particle size of 20 to 200 nanometers, and a sufficient amount of suspending agent to keep the diamond particles in a suspended state. This suspension typically has a diamond-to-alumina weight ratio of approximately 1:30 to 1:90. 2. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคเพชรจะมีขนาดอนุภาคเฉลี่ยจากประมาณ 0.5 ถึงประมาณ 1.5 ไมครอน2. A polishing suspension mixture as per claim 1, in which diamond particles have an average particle size of approximately 0.5 to approximately 1.5 microns. 3. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคอัลฟาอะลูมิน่าจะมีขนาดอนุภาคเฉลี่ยจากประมาณ 40 ถึงประมาณ 100 นาโนเมตร3. A polishing suspension mixture as per claim 1, in which alpha-alumina particles have an average particle size of approximately 40 to approximately 100 nanometers. 4. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอัตราส่วนโดยน้ำหนักของเพชรต่ออะลูมิน่า จะเป็นประมาณ 1:50 ถึงประมาณ 1:804. Polishing suspensions as per claim 1, where the weight ratio of diamond to alumina is approximately 1:50 to approximately 1:80. 5. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งส่วนที่เป็นของแข็ง จะมีอยู่จากประมาณ 40 ถึงประมาณ 80 กรัมต่อลิตร5. Polishing suspensions as per claim 1, where the solids content ranges from approximately 40 to approximately 80 grams per liter. 6. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งสารที่ช่วยให้เกิดการแขวนลอยดังกล่าว จะเป็นพวกแซนเธน กัม6. Suspensions used for polishing under claim 1, whereby the suspending agent shall be xanthen gum. 7. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ชัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 6 ที่ซึ่งจำนวนของสารพวกแซนแธน กัม จะมีอยู่จากประมาณ 1 ถึงประมาณ 5 กรัม/ลิตร7. Suspensions used for shaping, as per claim clause 6, where the amount of xanthan gum is approximately 1 to approximately 5 g/L. 8. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงาที่ประกอบด้วยอนุภาคเพชร จากประมาณ 1 ถึง 10 กะรัต/ลิตร โดยมีขนาดอนุภาคเฉลี่ยอยู่ประมาณ 0.2 ถึงประมาณ 1.0 ไมครอน อนุภาคอัลฟา อะลูมิน่าจากประมาณ 20 ถึงประมาณ 90 กรัม/ลิตร โดยมีขนาดอนุภาคเฉลี่ยจากประมาณ 40 ถึงประมาณ 100 นาโนเมตร และปริมาณของสารที่ช่วยทำให้เกิดการแขวนลอยในจำนวนที่เพียงพอ ที่จะทำให้อนุภาคเพชรอยู่ในสภาพแขวนลอยได้ สารผสมแขวนลอยดังกล่าวจะมีอัตราส่วนโดยน้ำหนักของเพชรต่ออะลูมิน่า จากประมาณ 1:40 ถึงประมาณ 1:808. Polishing suspensions containing diamond particles ranging from approximately 1 to 10 carats/liter, with an average particle size of approximately 0.2 to 1.0 microns; alpha alumina particles ranging from approximately 20 to 90 grams/liter, with an average particle size of approximately 40 to 100 nanometers; and a sufficient amount of suspending agent to maintain the diamond particles in suspension. The suspension has a weight ratio of diamond to alumina ranging from approximately 1:40 to 1:80. 9. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ที่ซึ่งสารที่ช่วยให้เกิดการแขวนลอยดังกล่าวจะเป็นพวกแซนแธนกัม9. Suspensions used for polishing, as per claim 8, where the suspending agent is xanthan gum. 10. สารผสมแขวนลอยที่ใช้ขัดเงา ตามข้อถือสิทธิข้อ 9 ที่ซึ่งประกอบด้วยสารพวกแซนเธนกัมจากประมาณ 1 ถึงประมาณ 5 กรัม/ลิตร เป็นสารที่ช่วยให้เกิดการแขวนลอย10. A suspension mixture used for polishing, as per claim 9, containing xanthenum from approximately 1 to approximately 5 g/L as a suspension agent.
TH9301002418A 1993-12-28 Polishing material TH8539B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH16473A TH16473A (en) 1995-08-29
TH8539B true TH8539B (en) 1998-11-02

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR950002926A (en) Abrasive material
ATE108425T1 (en) CERAMIC MICROBALLS.
AU584873B2 (en) Abrasive grits or ceramic bodies and preparation thereof
DE69304546D1 (en) SILICA
EP0318168A3 (en) Abrasive grains in the shape of platelets
KR960703050A (en) Superabrasive grinding wheels
ES301250A1 (en) Dentifrice composition
KR900006022A (en) Inert autogenous attrition grinding method
IE34734L (en) Abrasive grinding element.
IL108323A0 (en) Ceramic matrix cutting tool material containing silicon carbide
TH16473A (en) Polishing material
KR890701284A (en) Combined abrasive
AU578400B2 (en) Vibratory grinding of silicon carbide
ES2039347T3 (en) XENOTLITE SYNTHETIC CRYSTAL ADDES AND PROCEDURE FOR PREPARING THEM.
JP2000345143A5 (en)
ATE495229T1 (en) CERAMIC-BASED POLISHING AGENT AND CERAMIC-BASED POLISHING SUSPENSION
JPS6479063A (en) Aluminum oxide-based sintered body having superior wear resistance
Fromlowitz High-Performance Tape Grinding of Heat-Treatable Steel
Zbik et al. Morphology of the Outer Shells of the Tunguska Spherules
KR920014565A (en) Abrasive and manufacturing method thereof
RU2002104772A (en) Electrostatically deposited powder and method for manufacturing an abrasive flexible tool