TH7668C3 - กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใสและผลิตภัณฑ์ดังกล่าว สำหรับการป้องกันไฟฟ้าสถิต - Google Patents

กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใสและผลิตภัณฑ์ดังกล่าว สำหรับการป้องกันไฟฟ้าสถิต

Info

Publication number
TH7668C3
TH7668C3 TH1003000365U TH1003000365U TH7668C3 TH 7668 C3 TH7668 C3 TH 7668C3 TH 1003000365 U TH1003000365 U TH 1003000365U TH 1003000365 U TH1003000365 U TH 1003000365U TH 7668 C3 TH7668 C3 TH 7668C3
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
electrostatic protection
glass
producing thin
products
clear films
Prior art date
Application number
TH1003000365U
Other languages
English (en)
Other versions
TH7668A3 (th
Inventor
อัศวเสถียร นางสาวดรุณี
ตีระวัฒนานนท์ นางสาวจันทร์เพ็ญ
Original Assignee
นางสาวอรุณศรี ศรีธนะอิทธิพล
นายชาญชัย นีรพัฒนกุล
นางสาวอรกนก พรรณรักษา
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวอรุณศรี ศรีธนะอิทธิพล, นายชาญชัย นีรพัฒนกุล, นางสาวอรกนก พรรณรักษา filed Critical นางสาวอรุณศรี ศรีธนะอิทธิพล
Publication of TH7668A3 publication Critical patent/TH7668A3/th
Publication of TH7668C3 publication Critical patent/TH7668C3/th

Links

Abstract

DC60 กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใสและผลิตภัณฑ์ดังกล่าวตามการประดิษฐ์นี้ ที่ซึ่งแผ่นฟิล์ม ดังกล่าวที่มีโครงสร้างเป็นแผ่นฟิล์มชั้นเดียวเคลือบอยู่บนแผ่นแก้ว โดยการใช้โลหะออกไซด์หรือโลหะ ออกไซด์ที่มีการเจือสารตัวนำไฟฟ้าอีกหนึ่งชนิดเคลือบอยู่บนแผ่นแก้ว สำหรับการใช้งานเป็นแผ่นรอง เพื่อการป้องกันไฟฟ้าสถิตในอุตสาหกรรมฮาร์ดดิสก์ไดรฟ์ และอิเล็กทรอนิกส์ กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใสและผลิตภัณฑ์ดังกล่าวตามการประดิษฐ์นี้ ที่ซึ่งแผ่นฟิล์มดังกล่าวที่มีโครงสร้างเป็นแผ่นฟิล์มชั้นเดียวเคลือบอยู่บนแผ่นแก้ว โดยการใช้โลหะออกไซด์หรือโลหะออกไซด์ที่มีการเจือสารตัวนำไฟฟ้าอีกชั้นหนึ่งชนิดเคลือบอยู่บนแผ่นแก้ว สำหรับการใช้งานเป็นแผ่นรอง เพื่อการป้องกันไฟฟ้าสถิตในอุตสาหกรรมฮาร์ดดิสก์ไดรฟ์ และอิเล็กทรอนิกส์

Claims (1)

1.กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใส ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอน คือ - การนำซับสเตรทเข้าเครื่องเคลือบฟิล์มที่มีแท่งโลหะออกไซด์เป็นเป้า - การเคลือบฟิล์มบางของโลหะออกไซด์บนซับสเตรททั้งสองด้านที่มีอัตราการไหลของก๊าซอาร์กอนเท่ากับ 5-8 ลูกบาศก์เซนติเมตร, กำลังไฟ 100-250 วัตต์ อุณหภูมิ 200-250 องศาเซลเซียส เวลา3-6 นาที
TH1003000365U 2010-04-29 กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใสและผลิตภัณฑ์ดังกล่าว สำหรับการป้องกันไฟฟ้าสถิต TH7668C3 (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH7668A3 TH7668A3 (th) 2012-12-13
TH7668C3 true TH7668C3 (th) 2012-12-13

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Pawar et al. Recent status of chemical bath deposited metal chalcogenide and metal oxide thin films
WO2011119007A3 (ko) 방열 테이프 및 그 제조 방법
JP2011205089A5 (ja) 半導体膜の作製方法
WO2010126336A3 (ko) 금속산화물 나노입자를 이용한 가스센서 및 그 제조방법
JP2012054303A5 (th)
JP2017076768A5 (ja) 酸化物の作製方法
JP2013539502A5 (th)
WO2011056570A3 (en) Conductive metal oxide films and photovoltaic devices
JP2017125837A5 (th)
WO2011109114A3 (en) Transparent conductive films, articles, and methods
JP2014503783A5 (th)
WO2014085315A3 (en) Method for forming a barrier layer
JP2014074160A5 (th)
MY200383A (en) Substrate having a stack with thermal properties
WO2011092017A8 (de) Verfahren zur herstellung eines beschichteten gegenstands mit texturätzen
JP2016095504A5 (th)
JP2016523788A5 (th)
MX2016003657A (es) Elemento de seguridad, particularmente una etiqueta de seguridad.
MY177552A (en) A method of fabricating a resistive gas sensor device
JP2011153373A5 (ja) 薄膜形成装置
JP2011119246A5 (ja) 発光装置の作製方法、および発光装置
MX2017004159A (es) Sustrato provisto con una pila que tiene propiedades termicas y una capa intermedia superestequiometrica.
JP2012049364A5 (th)
TH7668C3 (th) กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใสและผลิตภัณฑ์ดังกล่าว สำหรับการป้องกันไฟฟ้าสถิต
TH7668A3 (th) กระบวนการผลิตแผ่นฟิล์มบางและใสและผลิตภัณฑ์ดังกล่าว สำหรับการป้องกันไฟฟ้าสถิต